JP2001281676A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶層厚を表示領域全体にわたり均一化する。 【解決手段】順次下記（ａ）〜（ｃ）の各工程を経て作
製した一方部材と、マザーガラス上に電極と配向層とを
順次積層してなる他方部材とを表示領域ではシール部に
て、さらに非表示領域ではダミー部材でもって貼り合わ
せ、ついで双方のマザーガラスを非表示領域にて切断す
る液晶表示装置の製造方法。 （ａ）マザーガラス上の各表示領域に着色層を、さらに
各表示領域間の非表示領域にダミー層を形成する。
（ｂ）上記各表示領域の着色層上に電極を被覆する。
（ｃ）上記電極上に配向膜を積層する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はたとえばカイラルネ
マチック液晶を用いたメモリー性双安定型液晶表示装置
など液晶層の厚みが小さく、面内にて均一化が求められ
る液晶表示装置の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶層の厚みが小さく、面内にて
均一化が求められる液晶表示装置が市場のニーズとして
ある。このような液晶表示装置として、たとえばカイラ
ルネマチック液晶を用いたメモリー性双安定型液晶表示
装置の技術が提案されている（特開平７−２４８４８５
号公報参照）。

【０００３】このメモリー性双安定型液晶表示装置は、
リセットパルスと選択パルスとの間に遅延時間を導入し
た信号波形を設け、これによって遅延時間を短縮させる
というものである。

【０００４】すなわち、フレデリクス転移後の準安定状
態（０°あるいは３６０°）への移行にはバックフロー
現象が関係していると言われるが、この現象を最大限に
生かすために、リセットパルスと選択パルスとの間にイ
ンターバルを設けるというものであって、これによって
準安定状態へ移行しやすくなり、その結果、マトリック
ス駆動の１ラインあたりの書き込み時間（選択時間）が
短縮され、フリッカーレスのハイデューティな単純マト
リックス駆動を実現しようとするものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このようなメモリー性
双安定型液晶表示装置は、液晶層厚を狭くするほどに、
選択時間が短縮できるので、液晶層厚を相当に小さくす
るとともに、その液晶層厚を液晶表示領域にわたって均
一にそろえる必要がある。

【０００６】しかしながら、信号電極部材と走査電極部
材とを貼り合わせるに際し、表示領域および非表示領域
の双方の基板全面に同一径の球形スペーサを配している
にもかかわらず、基板に歪みが生じ、シール部が均一に
押しつぶされずに硬化してしまい、これにより、表示領
域のシール部近傍は層厚が大きくなる傾向にあり、その
結果、表示領域内を所望とおりの薄さの厚みでもって、
液晶層厚を均一に設定することがむずかしかった。

【０００７】この課題を図４〜図６に示す液晶表示装置
Ｐ，Ｐ‘より説明する。信号電極部材と走査電極部材の
双方はマザーガラスより分断作成するが、このマザーガ
ラスより６個の液晶表示装置Ｐ，Ｐ‘が得られる場合を
説明する。

【０００８】図４は分断前の液晶表示装置Ｐの平面図で
あり、図５は図４に示す切断面線ｂ−ｂ‘による概略断
面図である。また、図６についても図４に示す切断面線
ｂ−ｂ‘による液晶表示装置Ｐ‘の概略断面図である。

【０００９】この液晶表示装置Ｐによれば、透明基板１
の上に信号電極２と配向膜３とを順次積層形成し、これ
により、信号電極部材４をなす。また、透明基板５の上
にカラーフィルタ用の着色層６と遮光層７とを形成し、
これらの上にオーバーコート層８、走査電極９、配向膜
１０とを順次積層し、これによって走査電極部材１１と
なす。そして、信号電極部材４と走査電極部材１１とを
液晶層１２を介して、シール部１３およびダミーシール
部１４により貼り合わせる。１５はスペーサ、１６は表
示領域である。

【００１０】しかしながら、上記のようにマザーガラス
を切断する前であれば、信号電極部材４と走査電極部材
１１とを貼り合わせるに際し、シール部１３を押しつぶ
すことで、基板に歪みが生じ、これにより、表示領域１
６のシール部１３近傍は層厚が大きくなっていた。

【００１１】上記構成においては、スペーサ１５を用い
たが、これに代えて図６に示す液晶表示装置Ｐ‘のよう
に柱状スペーサ１７を形成しても同様な課題がある。な
お、同図において図４と同一箇所には同一符号を記す。

【００１２】かかる課題を解消するために、透明基板の
シール部が当る部分に深さ１．５μｍ程度の溝をフッ化
水素等を用いてエッチング処理でもって形成する技術が
提案されている（特開平８−２１１３９５号参照）。

【００１３】しかしながら、このような溝を形成するこ
とで生産コストが上がり、しかも、高い精度にて溝を形
成することがむずかしく、溝全体を均一な深さにできな
いという課題がある。

【００１４】したがって本発明の目的は、液晶層厚の小
さい液晶表示装置において、その層厚を表示領域全体に
わたり均一化するとともに、生産コストを低減せしめた
液晶表示装置の製造方法を提供することにある。

【００１５】本発明の他の目的は液晶層厚を一様に小さ
くして、フリッカーレスのハイデューティな単純マトリ
ックス駆動を実現したメモリー性双安定型の液晶表示装
置の製造方法を提供することにある。

【００１６】また、本発明の他の目的はセルギャップを
均一にして色ムラのない高品質な液晶表示装置の製造方
法を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、順次下記（ａ）〜（ｃ）の各工程を経て作
製した一方部材と、マザーガラス上に電極と配向層とを
順次積層してなる他方部材とを表示領域の外周部ではシ
ール部にて、さらに非表示領域ではダミー部材でもって
貼り合わせ、ついで双方のマザーガラスを非表示領域に
て切断する液晶表示装置の製造方法。 （ａ）マザーガラス上の各表示領域に着色層を、さらに
各表示領域間の非表示領域にダミー層を形成する。 （ｂ）上記各表示領域の着色層上に電極を形成する。 （ｃ）上記電極上に配向膜を形成する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図３および図７〜図
９によって本発明の液晶表示装置Ａ、Ｂの製造方法を詳
述する。

【００１９】前記他方部材である信号電極部材と、前記
一方部材である走査電極部材の双方はマザーガラスから
なるが、１個のマザーガラスより分断作成することで６
個の液晶表示装置Ａ、Ｂを作製する場合を例示する。

【００２０】図１は分断前の基板平面図であり、図２と
図３はそれぞれ図１に示す切断面線ａ−ａ‘による概略
断面図である。また、図７〜図９はいずれも工程図であ
る。なお、図４および図５に示す液晶表示装置と同一箇
所には同一符号を付す。液晶表示装置Ａの製法 図１と図２と図７により本発明の液晶表示装置Ａの製法
を述べる。

【００２１】信号電極部材４については、マザーガラス
（たとえば３００×３６０ｍｍ）である透明基板１の上
にＩＴＯなどからなる膜をスパッタリング法や蒸着にて
成膜し、ついでフォトリソグラフィにより一方に配列し
た多数の信号電極２を形成する。そして、この信号電極
２の上にポリイミド樹脂からなる樹脂を塗布でもって被
覆形成し、ついで一方向にラビング処理し、これによっ
て配向膜３となす。

【００２２】そして、このような設けた６個の表示領域
１６に対し、それぞれ外周にそってシール部１３を形成
する。このシール部１３の形成と同時に、前記ダミー部
材であるダミーシール部１４ａも各表示領域１６の間の
非表示領域に形成する。このダミーシール部１４ａはシ
ール部１３と同じ材料にて設ければよい。たとえば、エ
ポキシ系樹脂やアクリル系樹脂等の熱硬化樹脂あるいは
紫外線硬化樹脂などがある。

【００２３】他方の走査電極部材１１については、下記
（ａ）〜（ｂ）の各工程を含む工程でもって作製する。（ａ）工程 マザーガラス（たとえば３００×３６０ｍｍ）である透
明基板５を用意する。そして、透明基板５の上にクロム
やアルミニウム、銀などの金属膜を形成し、その後にフ
ォトリソグラフィにて所定のパターンからなる遮光膜７
（層厚１０００Å〜３０００Å）を設ける。このような
金属膜の遮光膜７に代えて黒色樹脂からなる遮光膜７
（層厚１．３〜１．５μｍ）を塗布形成してもよい。

【００２４】そして、透明基板５の遮光膜７が形成され
ていない領域にカラーフィルタ用の着色層６（層厚１．
３〜１．５μｍ）を形成する。この着色層６は顔料分散
方式、すなわちあらかじめ顔料（赤、緑、青）により調
合された感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソ
グラフィにより形成する。

【００２５】そして、非表示領域の上にダミー層１８を
形成する。たとえば、アクリル系感光ポリマー、ポリイ
ミド系感光ポリマーなどからなるレジストを塗布し、フ
ォトマスクを用いて露光し、現像することで、非表示領
域の上に遮光膜７もしくは着色層６とほぼ同じ厚みにな
るようにダミー層１８を形成する。

【００２６】つぎに遮光膜７と着色層６とダミー層１８
との上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８を
スピンナー方式で塗布し形成する。（ｂ）工程 この工程においては、ＩＴＯなどからなる膜をスパッタ
リング法や蒸着にて成膜し、ついでフォトリソグラフィ
により一方に配列した多数の走査電極９を形成する。な
お、オーバーコート層８とＩＴＯなどからなる膜との間
に、密着性を向上させるために、ＳｉＯ₂やＳｉＮから
なる層を形成する方が望ましい。（ｃ）工程 そして、この走査電極９の上にポリイミド樹脂からなる
樹脂を塗布でもって被覆形成し、ついで一方向にラビン
グ処理し、これによって配向膜１０となす。なお、走査
電極９は非表示領域にも同時形成するが、表示領域１６
内の電極とは電気的に絶縁する。しかる後に樹脂からな
る球状のスペーサ１５を多数個散布する。

【００２７】以上の各工程（ａ）〜（ｃ）を経た後に、
信号電極部材４と走査電極部材１１とを層厚１．５μｍ
の液晶層１２（室温でネマチック相を呈する液晶組成物
「Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製ＺＬＩ−１５５７」に光学活性添
加物「Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製Ｓ−８１１」を加えてヘリカ
ルピッチＰを２．７μｍに調整したもの）を介して、シ
ール部１３およびダミーシール部１４ａにより貼り合わ
せる。

【００２８】ついで、このような貼り合わせマザーガラ
ス基板を圧着し、非表示領域にて分断し、個々の液晶表
示装置Ａに対しシール部１３の一部の開孔より液晶材を
注入し、しかる後に、その注入口を封止する。この分断
部位は、シール部１３とダミーシール部１４ａとの間に
する。

【００２９】かくして上記製法によれば、非表示領域に
遮光膜７もしくは着色層６とほぼ同じ厚みになるように
ダミー層１８を形成したことで、信号電極部材４と走査
電極部材１１とを貼り合わせるに際し、シール部１３や
ダミーシール部１４ａが均等に押しつぶされ硬化できる
ため、基板に歪みが生じなくなる。

【００３０】また、上記構成の液晶表示装置Ａによれ
ば、さらに信号電極部材４と走査電極部材１１のそれぞ
れの外側に偏光板を配設した構成であって、そして、カ
イラルネマチック液晶からなる液晶層１３は初期状態で
ねじれ構造を有し、その初期状態にフレデリクス転移を
生じさせる電圧を印加した後に印加される電圧差によっ
て初期状態とは異なる２つの準安定状態を有するように
なしたメモリー性双安定型となる。

【００３１】たとえば初期状態でのツイスト角φ₀
（＝１８０°）に対してφ₀＋π（＝３６０°）のねじ
れ状態が暗状態となるような両偏光板の位置関係（クロ
スニコル）にした場合に、明状態はツイスト角φ₀−π
（＝０°）である。

【００３２】つぎにこの双安定型を利用する液晶表示装
置Ａに対し、図１０に示すように不安定状態（不安定領
域）を挟んで０°と３６０°との間でスイッチングす
る。

【００３３】このようなスイッチングをおこなった場
合、初期状態にフレデリクス転移を生じさせる電圧を印
加した後の選択電圧をＶ１より低くすると３６０°状
態、Ｖ２にまで高くすると０°状態、そして、Ｖｌ〜Ｖ
２との間にすると０°と３６０°が混在した不安定状態
が生じる。

【００３４】たとえば、両偏光板クロスニコルにして、
初期状態でのツイスト角φ₀（１８０°）に対してφ₀＋
π（３６０°）のねじれ状態が暗状態、φ₀−π（０
°）の状態が明状態であるとすると、不安定状態は２つ
の状態（明状態と黒状態）が混在しており、白〜黒の間
の状態を示す。また、このように２つの準安定状態を利
用するスイッチングは、図１０に示すように選択電圧を
Ｖ３、Ｖ４にした関係を利用しても同様におこなわれ
る。

【００３５】さらにまた、液晶表示装置Ａのマトリクス
駆動を図１１により述べる。走査電位をＶＳ、信号電位
をＶｄとすると、０°状態を発現させるための選択パル
ス値（選択電圧）Ｖ１（＝±｜ＶＳ＋Ｖｄ｜）と、３６
０°状態を発現させるための選択パルス値（選択電圧）
Ｖ２（＝±｜ＶＳ−Ｖｄ｜）に対して、Ｖ２−Ｖ１＝２
Ｖｄとなる。そして、不安定領域の幅△１、△２の値に
おいて、２Ｖｄ＞△１、△２の条件が満たされると、３
６０°／０°状態が発現し、マトリクス駆動できる。液晶表示装置Ｂの製法 前記液晶表示装置Ａにおいては、信号電極部材４と走査
電極部材１１とを多数のスペーサ１５を介して貼り合わ
せたが、これに代えて柱状スペーサを設けている。そし
て、非表示領域上のダミーシール部１４ａが前記ダミー
部材である。なお、液晶表示装置Ａと同一箇所には同一
符号を付す。

【００３６】図３は液晶表示装置Ｂのマザーガラス分断
前の断面図であり、図８は製造工程を示す。

【００３７】信号電極部材４については、液晶表示装置
Ａと同じ製法であり、マザーガラス（たとえば３００×
３６０ｍｍ）である透明基板１の上に一方に配列した多
数の信号電極２を形成し、この信号電極２の上にポリイ
ミド樹脂からなる樹脂を塗布でもって被覆形成し、つい
で一方向にラビング処理し、これによって配向膜３とな
す。そして、６個の表示領域１６に対し、同時にシール
部１３とダミーシール部１４ａを形成する。

【００３８】他方の走査電極部材１１については、下記
（ａ）〜（ｂ）の各工程を含む工程でもって作製する。（ａ）工程 マザーガラス（たとえば３００×３６０ｍｍ）である透
明基板５の上にクロムやアルミニウム、銀などの金属膜
（層厚１０００〜３０００Å）、あるいは黒色樹脂（層
厚１．３〜１．５μｍ）などからなる遮光膜７を設け、
そして、遮光膜７が形成されていない領域にカラーフィ
ルタ用の着色層６（層厚１．３〜１．５μｍ）を形成す
る。さらに非表示領域の上にダミー層１８を形成する。
つぎに遮光膜７と着色層６とダミー層１８との上にアク
リル系樹脂からなるオーバーコート層８をスピンナー方
式で塗布し形成する。（ｂ）工程 この工程においては、ＩＴＯなどからなる膜をスパッタ
リング法や蒸着にて成膜し、ついでフォトリソグラフィ
により一方に配列した多数の走査電極９を形成する。な
お、オーバーコート層８とＩＴＯなどからなる膜との間
に、密着性を向上させるために、ＳｉＯ₂やＳｉＮから
なる層を形成する方が望ましい。（ｃ）工程 そして、この走査電極９の上にポリイミド樹脂からなる
樹脂を塗布でもって被覆形成し、ついで一方向にラビン
グ処理し、これによって配向膜１０となす。さらに走査
電極９の一部は非表示領域にも形成する。

【００３９】しかる後に柱状スペーサ１７を画素間の領
域（非画素領域）に、前記ダミー部材である柱状スペー
サ１９をダミー層１８の上に形成する。

【００４０】この柱状スペーサ１７、１９は、たとえば
アクリル系感光樹脂またはポリイミド系感光樹脂からな
るレジストを塗布し、フォトマスクを用いて露光し、現
像し、一様な厚みにそろえることで形成する。

【００４１】以上の各工程（ａ）〜（ｃ）を経た後に、
信号電極部材４と走査電極部材１１とを層厚１．５μｍ
の液晶層１２を介して、シール部１３およびダミーシー
ル部１４ａ、柱状スペーサ１７、１９により貼り合わせ
る。

【００４２】ついで、このような貼り合わせマザーガラ
ス基板を圧着し、非表示領域にて分断し、個々の液晶表
示装置Ｂに対しシール部１３の一部の開孔より液晶材を
注入し、しかる後に、その注入口を封止する。

【００４３】かくして上記製法によれば、非表示領域に
遮光膜７もしくは着色層６とほぼ同じ厚みになるように
ダミー層１８を、さらに柱状スペーサ１７、１９を形成
したことで、信号電極部材４と走査電極部材１１とを貼
り合わせるに際し、シール部１３やダミーシール部１４
ａが均等に押しつぶさ硬化されるため、基板に歪みが生
じなくなる。

【００４４】しかも、液晶表示装置Ｂでは液晶表示装置
Ａと比べても、柱状スペーサ１７、１９を形成したこと
で、散布にて配した球状のスペーサ１５よりも均等に液
晶層内に設けられ、これにより、液晶層厚のバラツキ度
合いがさらに改善され、均等な層厚になる。

【００４５】また、上記構成の液晶表示装置Ｂについて
も、信号電極部材４と走査電極部材１１のそれぞれの外
側に偏光板を配設した構成であって、そして、カイラル
ネマチック液晶からなる液晶層１３は初期状態でねじれ
構造を有し、その初期状態にフレデリクス転移を生じさ
せる電圧を印加した後に印加される電圧差によって初期
状態とは異なる２つの準安定状態を有するようになした
メモリー性双安定型となる。

【００４６】また、前記ダミー層１８は遮光膜７や着色
層６を形成した際に、そこにて使用したフォトマスクを
変更することで、それらと同一材でもって厚みを調整し
て成膜形成してもよい。この製造工程を図９に示す。

【００４７】なお、本発明は上記のような実施形態例に
限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範
囲内で種々の変更や改良等は何ら差し支えない。たとえ
ば、液晶層厚の小さいカイラルスメクティック液晶を用
いた強誘電性液晶表示装置や反強誘電性液晶表示装置に
おいても同じ作用効果がある。さらには液晶層厚が５μ
ｍ程度の通常のＳＴＮ型やＴＮ型の液晶表示装置であっ
ても同様の効果を奏する。しかも、実施例では、以下の
とおり、単純マトリックス駆動方式の構造にて説明した
が、その他の駆動方式、たとえばアクティブマトリック
ス駆動方式の構造でも同じ作用効果がある。

【００４８】

【実施例】本発明は非表示領域の上にダミー層１８を形
成し、さらにダミーシール部１４ａや柱状スペーサ１９
を設けたことで、表示領域１６上の遮光膜７もしくは着
色層６の高さとそろえている。

【００４９】そこで、本発明者は液晶表示装置Ｂに対
し、透明基板５上における表示領域１６の高さｄ１(走
査電極部材１１の表示領域１６における厚み)と、非表
示領域の高さｄ２(走査電極部材１１の非表示領域にお
ける厚み)とを、幾とおりにも変えて、それぞれ信号電
極部材４と走査電極部材１１とを層厚１．５μｍの液晶
層１２を介して、シール部１３およびダミーシール部１
４ａにより貼り合わせ、ついで、このような貼り合わせ
マザーガラス基板を圧着し、非表示領域にて分断し、さ
らに液晶材を注入し、液晶表示装置Ｂとなした。

【００５０】高さｄ１、ｄ２の測定については、触針を
測定対象物に接触させ、測定対象物を移動させること
で、触針の上下の触れを検出し、表面形状を測定すると
いうＤＥＫＴＡＫ装置を用いて、各膜の厚みを測定し、
そこから基板構造を考慮し算出するという方法を用い
た。

【００５１】そして、これら各種液晶表示装置を評価
し、「良好」と「不良」に２分した。「良好」はフリッ
カーレスのハイデューティな単純マトリックス駆動を実
現し、これによって色ムラのない高品質が達成された場
合であり、「不良」はそのようなハイデューティな単純
マトリックス駆動とならず、色ムラが発生した場合であ
る。 ・ｄ１−ｄ２＝２．１μｍ ⇒「不良」 ・ｄ１−ｄ２＝１．８μｍ ⇒「不良」 ・ｄ１−ｄ２＝１．６μｍ ⇒「不良」 ・ｄ１−ｄ２＝１．４μｍ ⇒「不良」 ・ｄ１−ｄ２＝１．２μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝１．１μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝１．０μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝０．９μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝―０．９μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝―１．０μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝―１．１μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝―１．２μｍ ⇒「良好」 ・ｄ１−ｄ２＝―１．４μｍ ⇒「不良」 かくして│ｄ１−ｄ２│≦１．２に、好適には│ｄ１−
ｄ２│≦１．０に設定することで、フリッカーレスのハ
イデューティな単純マトリックス駆動を実現し、これに
よって色ムラのない高品質が達成された。

【００５２】また、ｄ１−ｄ２＝１．４〜２．１μｍで
ある場合に、表示領域１６の外周を起点にして、そこで
のセルギャップ差を０．００とした場合に、起点から表
示領域内に向けて、測定位置を移動させることで、セル
ギャップ差の変化を追ったところ、図１２に示すような
結果が得られた。

【００５３】つぎにｄ１−ｄ２＝−１．２〜１．２μｍ
である場合に、同様に表示領域１６の外周を起点にして
表示領域内に向けて、測定位置を移動させることで、セ
ルギャップ差の変化を追ったところ、図１３に示すよう
な結果が得られた。

【００５４】さらにまた、ｄ１−ｄ２<―１．４μｍで
ある場合に、表示領域１６の外周を起点にして、同様に
セルギャップ差の変化を追ったところ、図１４に示すよ
うな結果が得られた。

【００５５】これらの結果から明らかなとおり、ｄ１−
ｄ２＝−１．２〜１．２μｍにまで小さくすることで、
表示領域内のギャップ差が顕著に小さくなっていること
がわかる。

【００５６】

【発明の効果】以上のとおり、本発明の液晶表示装置の
製造方法によれば、順次（ａ）マザーガラス上の各表示
領域に着色層を、さらに各表示領域間の非表示領域にダ
ミー層を形成する、（ｂ）上記各表示領域の着色層上に
電極を被覆する、（ｃ）上記電極上に配向膜を積層す
る、という各工程を経て作製した一方部材と、マザーガ
ラス上に電極と配向層とを順次積層してなる他方部材と
を表示領域外周部ではシール部にて、さらに非表示領域
ではダミー部材でもって貼り合わせ、ついで双方のマザ
ーガラスを非表示領域にて切断する工程を経ることで、
とくに液晶層厚の小さい液晶表示装置において、その層
厚を表示領域全体にわたり顕著に均一化するとともに、
生産コストが低減でき、これによって、高品質かつ高信
頼性の液晶表示装置が提供できた。

【００５７】また、本発明によれば、液晶層厚を一様に
小さくして、フリッカーレスのハイデューティな単純マ
トリックス駆動を実現したメモリー性双安定型の液晶表
示装置が提供できた。

【００５８】さらにまた、本発明においては、カラー液
晶表示用に対し優れた特性が得られ、セルギャップを均
一にして色ムラのない高品質な液晶表示装置が提供でき
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示装置に係りマザーガラスの分
断前の平面図である。

【図２】図１に示す切断面線ａ−ａ‘による概略断面図
である。

【図３】図１に示す切断面線ａ−ａ‘による概略断面図
である。

【図４】従来の液晶表示装置に係りマザーガラスの分断
前の平面図である。

【図５】図４に示す切断面線ｂ−ｂ‘による概略断面図
である。

【図６】図４に示す切断面線ｂ−ｂ‘による概略断面図
である。

【図７】本発明の液晶表示装置の製法に関する工程図で
ある。

【図８】本発明の液晶表示装置の製法に関する工程図で
ある。

【図９】本発明の液晶表示装置の製法に関する工程図で
ある。

【図１０】双安定型の液晶表示装置における選択電圧と
不安定状態（不安定領域）との関係を示す説明図であ
る。

【図１１】双安定型の液晶表示装置におけるスイッチン
グ状態を示す説明図である。する。

【図１２】セルギャップ測定位置とギャップ差との関係
を示す線図である。

【図１３】セルギャップ測定位置とギャップ差との関係
を示す線図である。

【図１４】セルギャップ測定位置とギャップ差との関係
を示す線図である。

【符号の説明】

１，５ 透明基板 信号電極 ３，１０ 配向膜 ４ 信号電極部材 着色層 遮光層 １１ 順走査電極部材 １２ 液晶層 １３ シール部 １４、１４ａ ダミーシール部 １６ 表示領域 １７，１９ 柱状スペーサ １８ ダミー層

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA15 HA17 LA04 LA07 LA09 LA12 LA16 LA42 MA04X MA04Y NA14 NA24 NA48 QA14 RA13 RA14 SA01 TA01 TA04 TA05 TA12 2H090 HA05 JA03 JA05 JC03 KA14 KA15 LA02 LA03 LA15 2H091 FA02Y FB04 FB11 FD04 FD05 GA08 LA16 5G435 AA17 BB12 CC09 CC12 FF01 KK05

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】順次下記（ａ）〜（ｃ）の各工程を経て作
   製した一方部材と、マザーガラス上に電極と配向層とを
   順次積層してなる他方部材とを表示領域の外周部ではシ
   ール部にて、さらに非表示領域ではダミー部材でもって
   貼り合わせ、ついで双方のマザーガラスを非表示領域に
   て切断する液晶表示装置の製造方法。 （ａ）マザーガラス上の各表示領域に着色層を、さらに
   各表示領域間の非表示領域にダミー層を形成する。 （ｂ）上記各表示領域の着色層上に電極を形成する。 （ｃ）上記電極上に配向膜を形成する。