JP2001274012A - ２層被膜リッツ線及びその製造方法 - Google Patents
２層被膜リッツ線及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 凹凸のある集合撚りの外周にも、薄い被膜を
形成できる２層被膜リッツ線の製造方法を提供する。 【解決手段】 素線１が所要数撚り合わされてなる素線
束２を、該素線束２の外周に第１被覆層３を形成するた
めの第１ダイスと、該第１被覆層３の外周に第２被覆層
４を形成するための第２ダイスと、に通過させることに
より、上記素線束２に、上記第１被覆層３と第２被覆層
４とを同時に形成する。
形成できる２層被膜リッツ線の製造方法を提供する。 【解決手段】 素線１が所要数撚り合わされてなる素線
束２を、該素線束２の外周に第１被覆層３を形成するた
めの第１ダイスと、該第１被覆層３の外周に第２被覆層
４を形成するための第２ダイスと、に通過させることに
より、上記素線束２に、上記第１被覆層３と第２被覆層
４とを同時に形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２層被膜リッツ線
及びその製造方法に関する。
及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高周波用通信機器等のコイルの巻線に使
用するリッツ線Ｌは、従来、例えば、図４及び図５に示
すように、素線ａとしてのエナメル線を、所要数束ねて
撚り合わせただけのものであった。つまり、単なる撚線
ｂが、リッツ線Ｌとして用いられていた。
用するリッツ線Ｌは、従来、例えば、図４及び図５に示
すように、素線ａとしてのエナメル線を、所要数束ねて
撚り合わせただけのものであった。つまり、単なる撚線
ｂが、リッツ線Ｌとして用いられていた。
【０００３】このようなリッツ線Ｌは、絶縁性が悪い上
に、トランスやボビン等に巻き付け加工する時に、偏平
になったり、形崩れが生ずるので、撚線ｂの上に、シー
ス（外皮絶縁体）を被覆したものが求められるようにな
った。
に、トランスやボビン等に巻き付け加工する時に、偏平
になったり、形崩れが生ずるので、撚線ｂの上に、シー
ス（外皮絶縁体）を被覆したものが求められるようにな
った。
【０００４】しかし、シースの厚さは、0.03〜0.06mm程
度のごく薄いものが求められていたため、従来の電線押
出機では、被覆加工は困難であった。但し、図４に示す
ような素線が７本の場合には、その外形が同心状の円形
となるように撚ることができるので、辛うじて、シース
を形成することができた。
度のごく薄いものが求められていたため、従来の電線押
出機では、被覆加工は困難であった。但し、図４に示す
ような素線が７本の場合には、その外形が同心状の円形
となるように撚ることができるので、辛うじて、シース
を形成することができた。
【０００５】ところが、素線数が、10本、20本、30本等
のものは、同心撚りができないので、一括して束ねて捩
じる集合撚りとなる。しかし、集合撚りでは、例えば、
図５に示すように、外周に凹凸ができるため、薄い被膜
を形成することはできなかった。
のものは、同心撚りができないので、一括して束ねて捩
じる集合撚りとなる。しかし、集合撚りでは、例えば、
図５に示すように、外周に凹凸ができるため、薄い被膜
を形成することはできなかった。
【０００６】そこで、このような撚線ｂの（凹凸のあ
る）外周にワニス等の塗料を塗布したリッツ線（図示省
略）が出現した。しかし、ワニスを塗布したリッツ線
は、絶縁強化には役立つが、外周が円形にならないの
で、整列巻きが困難で、巻きむらが生じ、高周波電流の
効率を低下させる等の難点があった。
る）外周にワニス等の塗料を塗布したリッツ線（図示省
略）が出現した。しかし、ワニスを塗布したリッツ線
は、絶縁強化には役立つが、外周が円形にならないの
で、整列巻きが困難で、巻きむらが生じ、高周波電流の
効率を低下させる等の難点があった。
【０００７】従って、従来の技術では、薄いシースの形
成が可能なのは、図４に示すような、中心に１本の素線
ａを置いて、その周囲に複数本の素線ａ…層を同心形に
配する構造（同心撚り）では、７本撚りが限界となって
いた。つまり、素線の数が８本、９本、10本の場合には
外周が円形とならないので、シースを形成できなかっ
た。
成が可能なのは、図４に示すような、中心に１本の素線
ａを置いて、その周囲に複数本の素線ａ…層を同心形に
配する構造（同心撚り）では、７本撚りが限界となって
いた。つまり、素線の数が８本、９本、10本の場合には
外周が円形とならないので、シースを形成できなかっ
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】素線ａが７本以上で、
同心撚りが可能なのは、19本、37本等があるが、 0.08
〜0.3 mmφ程度の細いエナメル線の同心撚りは、やはり
７本が限界であった。それ以上の（多心撚りの）場合に
は、上述のように、集合撚りとなるため、シースを形成
することはできなかった。
同心撚りが可能なのは、19本、37本等があるが、 0.08
〜0.3 mmφ程度の細いエナメル線の同心撚りは、やはり
７本が限界であった。それ以上の（多心撚りの）場合に
は、上述のように、集合撚りとなるため、シースを形成
することはできなかった。
【０００９】しかるに、市場では、20本、30本、40本等
の多心撚りが要求されている。これらの多心撚りでは、
同心撚りができず、集合撚りとなるため、上述のよう
に、外周が凹凸状となり、シースを形成することはでき
なかった。以下に、この点について詳しく説明する。
の多心撚りが要求されている。これらの多心撚りでは、
同心撚りができず、集合撚りとなるため、上述のよう
に、外周が凹凸状となり、シースを形成することはでき
なかった。以下に、この点について詳しく説明する。
【００１０】図６は、従来の電線押出し被覆方法の説明
図である。この方法は、クロスヘッドｃ内を矢印Ｆ方向
に移送される素線ａ（または撚線ｂ）に対して、単一の
ノズルｄから押し出される被覆材ｅによって、素線ａの
外周に被覆層ｆを形成するものである。
図である。この方法は、クロスヘッドｃ内を矢印Ｆ方向
に移送される素線ａ（または撚線ｂ）に対して、単一の
ノズルｄから押し出される被覆材ｅによって、素線ａの
外周に被覆層ｆを形成するものである。
【００１１】この方法では、電線ｇの仕上がり径は、ク
ロスヘッドｃのノズルｄの径で、直接決定されるが、そ
の被覆層ｆの厚さは、素線ａの径とノズルｄの径との差
（間隙）に対応して決定される。従って、0.1mm 以上の
比較的厚い絶縁体またはシースを形成することは容易で
ある。
ロスヘッドｃのノズルｄの径で、直接決定されるが、そ
の被覆層ｆの厚さは、素線ａの径とノズルｄの径との差
（間隙）に対応して決定される。従って、0.1mm 以上の
比較的厚い絶縁体またはシースを形成することは容易で
ある。
【００１２】しかし、その間隙を狭くすると、被覆材ｅ
としての高分子材料を押し出すのが不可能になり、たと
え、押し出すことができたとしても、均一な厚さは得ら
れなくなる。従って、凹凸のある集合撚りの外周に、0.
03mmの薄いシースを形成することは困難であった。
としての高分子材料を押し出すのが不可能になり、たと
え、押し出すことができたとしても、均一な厚さは得ら
れなくなる。従って、凹凸のある集合撚りの外周に、0.
03mmの薄いシースを形成することは困難であった。
【００１３】このようなことから、素線ａの数が７本の
場合には、その外周が円形となるので、上述のように、
辛うじて被膜を形成することができても、素線ａの数
が、20本、30本等の集合撚りでは、外周が凹凸状となる
ので、薄いシースを形成することはできなかった。
場合には、その外周が円形となるので、上述のように、
辛うじて被膜を形成することができても、素線ａの数
が、20本、30本等の集合撚りでは、外周が凹凸状となる
ので、薄いシースを形成することはできなかった。
【００１４】そこで、本発明は、凹凸のある集合撚りの
外周にも、薄い被膜を形成できる２層被膜リッツ線及び
その製造方法を提供することを目的とする。
外周にも、薄い被膜を形成できる２層被膜リッツ線及び
その製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の２層被膜リッツ線は、素線が所要数撚り
合わされてなる素線束が、外形を円形状に調整された第
１被覆層によって覆われ、かつ、該第１被覆層が、第２
被覆層によって覆われたものである。
めに、本発明の２層被膜リッツ線は、素線が所要数撚り
合わされてなる素線束が、外形を円形状に調整された第
１被覆層によって覆われ、かつ、該第１被覆層が、第２
被覆層によって覆われたものである。
【００１６】その製造方法の発明は、素線が所要数撚り
合わされてなる素線束を、該素線束の外周に第１被覆層
を形成するための第１ダイスと、該第１被覆層の外周に
第２被覆層を形成するための第２ダイスと、に通過させ
ることにより、上記素線束に、上記第１被覆層と第２被
覆層とを同時に形成するものである。
合わされてなる素線束を、該素線束の外周に第１被覆層
を形成するための第１ダイスと、該第１被覆層の外周に
第２被覆層を形成するための第２ダイスと、に通過させ
ることにより、上記素線束に、上記第１被覆層と第２被
覆層とを同時に形成するものである。
【００１７】また、各素線間の隙間を、第１被覆層によ
って埋め、かつ、該第１被覆層の外形を、円形状に調整
し、該第１被覆層の上に、第２被覆層を形成するのが好
ましい。
って埋め、かつ、該第１被覆層の外形を、円形状に調整
し、該第１被覆層の上に、第２被覆層を形成するのが好
ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を示す
図面に基づき、本発明を詳説する。
図面に基づき、本発明を詳説する。
【００１９】図１は、実施の一形態を示す２層被膜リッ
ツ線（以下、リッツ線という）Ｌの断面図で、符号１で
示す素線として、JIS C 3202のエナメル線を用い、７本
の素線１…が同心撚りによって撚り合わされ、その素線
束（集合撚線）２の外周に、厚い第１被覆層３と、薄い
（0.03〜0.06mm）第２被覆層４と、が形成されている。
ツ線（以下、リッツ線という）Ｌの断面図で、符号１で
示す素線として、JIS C 3202のエナメル線を用い、７本
の素線１…が同心撚りによって撚り合わされ、その素線
束（集合撚線）２の外周に、厚い第１被覆層３と、薄い
（0.03〜0.06mm）第２被覆層４と、が形成されている。
【００２０】このようなリッツ線Ｌは、例えば、図３に
示すような２つのダイス７，８を具備したクロスヘッド
９で、製造される。すなわち、このクロスヘッド９は、
上流側に、第１被覆層３を形成するための第１ダイス７
を具備し、下流側に、第２被覆層４を形成するための第
２ダイス８を具備している。
示すような２つのダイス７，８を具備したクロスヘッド
９で、製造される。すなわち、このクロスヘッド９は、
上流側に、第１被覆層３を形成するための第１ダイス７
を具備し、下流側に、第２被覆層４を形成するための第
２ダイス８を具備している。
【００２１】このような装置により、まず、第１ダイス
７のノズル71から、矢印Ｆ方向に移送される素線束２に
対して、原料樹脂11が押し出され、素線束２の外周の凹
部や線心間の隙間が埋められつつ第１被覆層３が形成さ
れ、かつ、その第１ダイス７の成形孔72を通過する間
に、その外形が円形に調整される。
７のノズル71から、矢印Ｆ方向に移送される素線束２に
対して、原料樹脂11が押し出され、素線束２の外周の凹
部や線心間の隙間が埋められつつ第１被覆層３が形成さ
れ、かつ、その第１ダイス７の成形孔72を通過する間
に、その外形が円形に調整される。
【００２２】次いで、第２ダイス８の大きなノズル81か
ら、原料樹脂11が、チューブ状に押し出され、それが、
移送方向Ｆに引き伸ばされつつ、厚さが段々薄くなり、
その厚さが、0.03mm程度になった時点で、第１被覆層３
の外周に付着させ、第２被覆層４が形成されるようにす
る。
ら、原料樹脂11が、チューブ状に押し出され、それが、
移送方向Ｆに引き伸ばされつつ、厚さが段々薄くなり、
その厚さが、0.03mm程度になった時点で、第１被覆層３
の外周に付着させ、第２被覆層４が形成されるようにす
る。
【００２３】このような、２つのダイス７，８とを具備
したクロスヘッド９により、第１被覆層３と第２被覆層
４とを、同時に形成するリッツ線Ｌの製造方法を、２層
被膜同時押出法と称している。
したクロスヘッド９により、第１被覆層３と第２被覆層
４とを、同時に形成するリッツ線Ｌの製造方法を、２層
被膜同時押出法と称している。
【００２４】この製造方法では、第１被覆層３の外形を
円形に調整（成形）することにより、第２被覆層４を形
成しやすくすると共に、第２被覆層４を形成するための
第２ダイス８のノズル81（その径と隙間）を大きく設定
して、原料樹脂11の押し出しを容易とし、かつ、その押
し出された原料樹脂11を引き伸ばすことにより、薄くす
ることを要旨としている。
円形に調整（成形）することにより、第２被覆層４を形
成しやすくすると共に、第２被覆層４を形成するための
第２ダイス８のノズル81（その径と隙間）を大きく設定
して、原料樹脂11の押し出しを容易とし、かつ、その押
し出された原料樹脂11を引き伸ばすことにより、薄くす
ることを要旨としている。
【００２５】従って、従来、形成できなかった20本、30
本、40本等の多心撚りの素線束２にも、薄い第２被覆層
（シース）４を形成することができる。例えば、図２に
示す例では、22本の素線１…が撚り合わされた集合撚り
の素線束２の外周に、第１被覆層３と、薄い（0.03〜0.
06mm）第２被覆層４と、を形成している。
本、40本等の多心撚りの素線束２にも、薄い第２被覆層
（シース）４を形成することができる。例えば、図２に
示す例では、22本の素線１…が撚り合わされた集合撚り
の素線束２の外周に、第１被覆層３と、薄い（0.03〜0.
06mm）第２被覆層４と、を形成している。
【００２６】
【実施例】本発明のリッツ線Ｌの好ましい実施例の一例
として、その第１被覆層３及び第２被覆層４の原料樹脂
として、夫々、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）、ＴＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＡ
（ポリアミド）、ＰＥ（ポリエチレン）等を用いたもの
を挙げることができる。
として、その第１被覆層３及び第２被覆層４の原料樹脂
として、夫々、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）、ＴＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＡ
（ポリアミド）、ＰＥ（ポリエチレン）等を用いたもの
を挙げることができる。
【００２７】いずれも、押し出し作業性は良好であり、
第１被覆層３の外周に、薄い（0.03〜0.06mm）第２被覆
層４を形成できたことを確認している。なお、本発明の
クロスヘッド９を、従来の40mm電線押出機（背圧が高
く、押出量が大であるため、薄いシースの形成には、適
当ではないが）に装着して、実験をおこなった。その結
果、充分製造可能であることを確認することができた。
第１被覆層３の外周に、薄い（0.03〜0.06mm）第２被覆
層４を形成できたことを確認している。なお、本発明の
クロスヘッド９を、従来の40mm電線押出機（背圧が高
く、押出量が大であるため、薄いシースの形成には、適
当ではないが）に装着して、実験をおこなった。その結
果、充分製造可能であることを確認することができた。
【００２８】
【発明の効果】（請求項１によれば）第１被覆層３の外
形が円形状に調整されているので、素線１の数が多い場
合でも、薄い第２被覆層４を形成することができる。
形が円形状に調整されているので、素線１の数が多い場
合でも、薄い第２被覆層４を形成することができる。
【００２９】（請求項２によれば）素線束２を、第１被
覆層３を形成するための第１ダイス７と、第２被覆層４
を形成するための第２ダイス８と、に通過させることに
より、能率よく、２層構成の絶縁強化リッツ線Ｌを形成
することができる。
覆層３を形成するための第１ダイス７と、第２被覆層４
を形成するための第２ダイス８と、に通過させることに
より、能率よく、２層構成の絶縁強化リッツ線Ｌを形成
することができる。
【００３０】（請求項３によれば）第１被覆層３の外形
を円形状に調整して、その上に、第２被覆層４を形成す
るので、素線１の数が多くて、その外形が凹凸状に形成
されている場合でも、薄い第２被覆層４を能率よく形成
することができる。
を円形状に調整して、その上に、第２被覆層４を形成す
るので、素線１の数が多くて、その外形が凹凸状に形成
されている場合でも、薄い第２被覆層４を能率よく形成
することができる。
【図１】本発明の実施の一形態を示す断面図である。
【図２】他の実施の形態を示す断面図である。
【図３】本発明の製造方法に用いられるクロスヘッドの
断面図である。
断面図である。
【図４】従来の絶縁強化リッツ線の一例を示す断面図で
ある。
ある。
【図５】従来の絶縁強化リッツ線の他の例を示す断面図
である。
である。
【図６】従来の製造方法に用いられるクロスヘッドの一
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
１ 素線 ２ 素線束 ３ 第１被覆層 ４ 第２被覆層 ７ 第１ダイス ８ 第２ダイス
Claims (3)
- 【請求項１】 素線１が所要数撚り合わされてなる素線
束２が、外形を円形状に調整された第１被覆層３によっ
て覆われ、かつ、該第１被覆層３が、第２被覆層４によ
って覆われたことを特徴とする２層被膜リッツ線。 - 【請求項２】 素線１が所要数撚り合わされてなる素線
束２を、該素線束２の外周に第１被覆層３を形成するた
めの第１ダイス７と、該第１被覆層３の外周に第２被覆
層４を形成するための第２ダイス８と、に通過させるこ
とにより、上記素線束２に、上記第１被覆層３と第２被
覆層４とを同時に形成することを特徴とする２層被膜リ
ッツ線の製造方法。 - 【請求項３】 各素線１…間の隙間を、第１被覆層３に
よって埋め、かつ、該第１被覆層３の外形を、円形状に
調整し、該第１被覆層３の上に、第２被覆層４を形成す
る請求項２記載の２層被膜リッツ線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089161A JP3472741B2 (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | ２層被膜リッツ線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089161A JP3472741B2 (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | ２層被膜リッツ線の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001274012A true JP2001274012A (ja) | 2001-10-05 |
| JP3472741B2 JP3472741B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=18604948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000089161A Expired - Fee Related JP3472741B2 (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | ２層被膜リッツ線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3472741B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59104420U (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | 電気音響株式会社 | リツツ線 |
| JPH055433U (ja) * | 1991-07-03 | 1993-01-26 | 古河電気工業株式会社 | ケーブルの複数被覆層押出機クロスヘツド |
| JPH05298930A (ja) * | 1992-04-22 | 1993-11-12 | Fujikura Ltd | 集合絶縁電線 |
| JPH1040745A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-02-13 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | リッツ線を用いた同芯ケーブル |
| JPH11232936A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Totoku Electric Co Ltd | 高耐圧高周波コイル用リッツ線およびその製造方法 |
-
2000
- 2000-03-28 JP JP2000089161A patent/JP3472741B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3472741B2 (ja) | 2003-12-02 |
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