JP2001264978A

JP2001264978A - 感光性平版印刷版

Info

Publication number: JP2001264978A
Application number: JP2000075486A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Endo; 正遠藤
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-03-17
Filing date: 2000-03-17
Publication date: 2001-09-28

Abstract

(57)【要約】【課題】安価な短波半導体レーザーの発信波長に対し
高感度で、明るいセーフライトの下で扱うことができ、
かつ、感光層と支持体の密着力を損なうことがないため
耐刷性に優れ、また支持体起因の散乱光による網点の太
りを劣化させ難いため網点の再現性に優れる感光性平版
印刷版を提供する。【解決手段】少なくとも粗面化処理と陽極酸化処理を
行ったアルミニウム支持体上に感光層をし、該支持体上
の陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアがポア径５〜１
０ｎｍ、ポア密度８×１０¹⁵〜２×１０¹⁶個／ｍ²であ
り、該感光層が（ｉ）チタノセン化合物、（ii）エチレ
ン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物および
（iii）４００ｎｍにおける透過率よりも５００ｎｍの
透過率の方が相対的に小さい光学特性を有する顔料を含
有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関するものであり、特に、安価な短波半導体レーザーの
発信波長に対し高感度であり、且つ明るいセーフライト
の下で扱うことのできる感光性平版印刷版であり、さら
にレーザ露光適性が優れ、網点の再現性に優れる感光性
平版印刷版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、感光性平版印刷版としては親水性
支持体の上に親油性の感光性樹脂を設けた構成を有する
ＰＳ版が広く用いられ、そのＰＳ版からの平版印刷版の
製版方法としては、通常は、リスフィルムを介してマス
ク露光（面露光）後、非画像部を溶解除去することによ
り所望の印刷版を得ていた。近年、画像情報をコンピュ
ーターを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタ
ル化技術が広く普及しそれに対応した新しい画像出力方
式が種々実用化されるようになってきた。その結果レー
ザー光のような指向性の高い光をディジタル化された画
像情報に従って走査し、リスフィルムを介することなく
直接印刷版を製造するコンピュータトウプレート
（ＣＴＰ）技術が望まれこれに適応した平版印刷版用原
版が開発されてきている。

【０００３】このようなフォトポリマーＣＴＰシステム
では、Ａｒレーザー（４８８ｎｍ）、ＦＤ−ＹＡＧレー
ザー（５３２ｎｍ）に対応するために５００ｎｍ付近に
高感度な感材を使用していたため、プレートの取り扱い
作業は全て暗い赤灯セーフライト下で行うことが必要で
あり作業性が著しく悪く改善が望まれていた。このため
より短波長に感光する感材が研究されており、より明る
いセーフライト下での作業が可能に成りつつある。

【０００４】しかしながら、上記のような感光性平版印
刷版はレーザー光で描画するため支持体によって散乱す
る光の影響を受けやすく、網点一個一個の周囲にフリン
ジと呼ぶ厚さの薄い画像部分が発生してしまう。このた
め網点全体が太り気味になり網点面積率が高くなってし
まうという問題が従来から指摘されてきた。平版印刷版
の基板は感光層密着性や版面強度を高めるため、加えて
湿し水の保水性を上げ印刷適性を高める為に、通常、陽
極酸化処理が行われる。陽極酸化皮膜は通常のレーザー
露光に用いられる４８８〜５３２ｎｍの波長範囲では光
吸収がある程度有るためレーザー光散乱の影響はあるも
ののまだ許容できていた。

【０００５】しかしながら作業性を向上させるために、
最近新たに開発された特願平１１−２０９８２２号明細
書に記載の４５０ｎｍ以下の短波長に感光する感光性平
版印刷版においては、露光波長４５０ｎｍ以下での光吸
収が陽極酸化皮膜では従来の５００ｎｍ前後の波長に比
べて、いっそう小さくなるためレーザー光散乱による網
点変動の影響はより深刻である。この場合、陽極酸化皮
膜の光吸収をより増やせば良いのであるが、そのために
は陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアと呼ばれる微細
孔のポア径を小さくすること又は単位面積あたりのポア
数減らすことによって酸化皮膜そのものの体積分率を上
げることが必要である。しかしながら一方で、アルミニ
ウムの陽極酸化皮膜のマイクロポアは、感光層をアンカ
ー効果によって保持し密着力を得ているため、マイクロ
ポアを小さくし、また単位面積あたりのポアの数を減ら
すことは、即ち感光層の密着性を損ない実用上使用でき
なくなってしまう。従って支持体による密着性を得るた
めある程度のマイクロポアの存在が必要であり、今まで
は画像を形成し印刷版として使用する為には網点品質や
再現性を犠牲にせざるを得なかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、感光
層の密着力を損なうことなく、上記のような支持体起因
の散乱光による網点の太りを劣化させ難い感光性平版印
刷版を提供しようとするものである。

【０００７】

【発明を解決するための手段】まず、レーザー光の吸光
は、皮膜に入射した光が皮膜外に放出されずに皮膜内で
散乱を繰り返すうちに皮膜に吸収され熱エネルギー等に
変換される事を意味する。陽極酸化皮膜は皮膜自体があ
る程度の光吸収能を有しているが、同じ皮膜厚さでもマ
イクロポアが存在すると皮膜内に空気の部分ができてし
まう。従って、マイクロポアの数が増えたり、ポア径が
大きくなったりすれば皮膜に対する空気の割合が増加し
光吸収する部分の体積分率が減ることから反射吸光度は
減少するためレーザー散乱光による被りが増える傾向に
ある。しかしながらマイクロポアは感光層の密着性に寄
与するアンカー効果の基点となる部分であり、その径／
単位面積あたりの数はアンカー効果に大きく影響する。
マイクロポアの数が増えたり、ポア径が大きくなったり
すればアンカー効果も当然大きくなる。陽極酸化皮膜に
よるアンカー効果を損なわずに、体積分率を出来るだけ
大きくするために、マイクロポアのポア径を小さくし単
位面積あたりのポア数を大きくすればよいが、ポア径が
小さすぎると十分なアンカー効果が得られなくなってし
まう。これを打開するために鋭意努力検討した結果、次
の発明を得るに至った。

【０００８】即ち、本発明は、少なくとも粗面化処理と
陽極酸化処理を行ったアルミニウム支持体上に感光層を
有する感光性平版印刷版であって、該支持体上の陽極酸
化皮膜に存在するマイクロポアがポア径５〜１０ｎｍ、
ポア密度８×１０¹⁵〜２×１０¹⁶個／ｍ²であり、該感
光層が（ｉ）少なくとも１種のチタノセン化合物、（i
i）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性化合物および（iii）４００ｎｍにおける
透過率よりも５００ｎｍの透過率の方が相対的に小さい
光学特性を有する少なくとも１種の顔料を含有すること
を特徴とする感光性平版印刷版である。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。［アルミニウム支持体］本発明の感光性平版印刷版
に用いられるアルミニウム支持体とは、寸度的に安定な
アルミニウムを主成分とする金属であり、純アルミニウ
ム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を
含む合金板、又はアルミニウム（合金）がラミネートも
しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から
選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニ
ウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニウ
ム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含ま
れる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシ
ウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなど
があり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下であ
る。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全
に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるの
で、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように
本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定
されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、
例えばＪＩＳＡ１０５０、ＪＩＳＡ１１００、Ｊ
ＩＳＡ３１０３、ＪＩＳＡ３００５などを適宜
利用することが出来る。また、本発明に用いられるアル
ミニウム基板の厚みは、およそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ
程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大き
さ及びユーザーの希望により適宜変更することができ
る。アルミニウム基板には適宜必要に応じて後述の基板
表面処理が施されてもよい。もちろん施されなくてもよ
い。

【００１０】［粗面化処理］粗面化処理方法は、特開昭
５６−２８８９３号に開示されているような機械的粗面
化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さら
に塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電
気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイ
ヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研
磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン
法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシ
グレイン法のような機械的粗面化法を用いることがで
き、上記粗面化方法を単独あるいは組み合わせて用いる
こともできる。その中でも粗面化に有用に使用される方
法は塩酸または硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気
化学的方法であり、適する陽極時電気量は５０Ｃ／ｄｍ
²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さらに具体的には、
０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度
２０〜８０℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／
ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で交流及び／または直流
電解を行うことが好ましい。

【００１１】このように粗面化処理したアルミニウム基
板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされ
てもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソー
ダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソー
ダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等
であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０
％、２０〜１００℃である。エッチングのあと表面に残
留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行わ
れる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、
フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化
学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好
ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されてい
るような５０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸
と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に
記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられ
る。以上のように処理された後、処理面の中心線平均粗
さＲａが０．２〜０．５μｍであれば、特に方法条件は
限定しない。

【００１２】［陽極酸化処理］以上のようにして処理さ
れ酸化物層を形成したアルミニウム基板には、その後に
陽極酸化処理がなされる。陽極酸化処理は硫酸、燐酸、
シュウ酸もしくは硼酸／硼酸ナトリウムの水溶液が単独
もしくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用
いられる。この際、電解液中に少なくともＡｌ合金板、
電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん
含まれても構わない。さらには第２、第３成分が添加さ
れていても構わない。ここでいう第２、３成分とは、例
えばＮａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金属のイ
オンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオ
ン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イ
オン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、
硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては
０〜１００００ｐｐｍ程度含まれても良い。陽極酸化処
理の条件に特に限定はないが、好ましくは３０〜５００
ｇ／リットル、処理液温１０〜７０℃で、電流密度０．
１〜４０Ａ／ｍ²の範囲で直流または交流電解によって
処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは０．５〜
１．５μｍの範囲である。好ましくは０．５〜１．０μ
ｍの範囲である。以上の処理によって作製された支持体
が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が５
〜１０ｎｍ、ポア密度が８×１０¹⁵〜２×１０¹⁶個／ｍ
²の範囲に入るように処理条件は選択されなければなら
ない。

【００１３】［感光層］次に、本発明の感光性平版印刷
版に用いられる感光層について説明する。本発明の感光
性平版印刷版に用いられる感光層は、（ｉ）少なくとも
１種のチタノセン化合物、（ii）少なくとも１個のエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物および
（iii）４００ｎｍにおける透過率よりも５００ｎｍの
透過率の方が相対的に小さい光学特性を有する少なくと
も１種の顔料を含有するものである。

【００１４】〔（ｉ）チタノセン化合物〕本発明の感光
性平版印刷版の感光層に含有されるチタノセン化合物
は、必要に応じ後述の増感色素との共存下で光照射した
場合、活性種を発生し得るチタノセン化合物であればい
ずれであってもよい。そのようなチタノセン化合物とし
ては、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６
１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８３号、特開
昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２
−２９１号、特開平３−２７３９３号、特開平３−１２
４０３号、特開平６−４１１７０号公報に記載されてい
る公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。

【００１５】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，
６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフエニ−１
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
４−ジフルオロフエニ−１−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフエニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオ
ロフエニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフエニ−１−イル、
ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフル
オロ−３−（ピル−１−イル）フェニル）チタニウム等
を挙げることができる。

【００１６】さらに、これらのチタノセン化合物は、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、後述の増感色素や、付加重合性
不飽和化合物その他の活性剤パートとの結合、親水性部
位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導
入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方
法が利用できる。また、使用法に関しても、適用する感
光性平版印刷版の性能設計により適宜、任意に設定でき
る。例えば、２種以上併用することで、前記感光層等へ
の相溶性を高める事ができる。チタノセン化合物の使用
量は通常多い方が感光性の点で有利であり、前記感光層
等の全成分１００重量部に対し、０. ５〜８０重量部、
好ましくは１〜５０重量部、範囲で用いることで十分な
感光性が得られる。一方、黄色等、白色灯化での使用に
際しては、５００ｎｍ付近の光によるカブリ性の点から
使用量は少ない事が好ましいが、例えば、後述の増感色
素との組み合わせにより光開始系の感光性を高めること
で、その使用量は６重量部以下、さらに１．９重量部以
下、さらには１．４重量部以下にまで下げても十分な感
光性を得ることができる。

【００１７】〔（ii）少なくとも１個のエチレン性不飽
和二重結合を有する付加重合性化合物〕次に、本発明の
感光性平版印刷版の感光層に含有される、少なくとも１
個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合
物（以下単に、付加重合性化合物ともいう）について説
明する。本発明の感光性平版印刷版の感光層に含有され
る付加重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少
なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選
ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において広く
知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限
定無く用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、
プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマ
ー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体な
どの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の
例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が
挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。ま
た、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求
核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド
類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ
類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン
酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。

【００１８】また、イソシアナト基や、エポキシ基等の
親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、
アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミ
ン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシ
ルオキシ基等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン
酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコ
ール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適で
ある。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の
代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテ
ル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。

【００１９】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００２０】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００２１】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００２２】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。

【００２３】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。その他のエステルの例として、
例えば、特公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３
３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコー
ル系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９
−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨
格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ
基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、前述
のエステルモノマーは混合物としても使用することがで
きる。

【００２４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。

【００２５】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（Ｉ）で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【００２６】ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ式（Ｉ）（ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００２７】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。

【００２８】さらに、特開昭６３−２７７６５３、特開
昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができ
る。

【００２９】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００３０】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感光性平版印刷版の性能設計にあわせて、任意に設定で
きる。例えば次のような観点から選択される。感光スピ
ードの点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が
好ましく、多くの場合、２官能以上がこのましい。ま
た、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、
３官能以上のものが良く、さらに、異なる官能数・異な
る重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合
物）のものを併用することで、感光性と、強度を両方を
調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、
疎水性の高い化合物は感光スピードや、膜強度に優れる
反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好
ましく無い場合がある。また、感光層中の他の成分（例
えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶
性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法
は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、
２種以上の併用により相溶性を向上させうる事がある。
また、感光層と後述の支持体、オーバーコート層等の密
着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することも
あり得る。該感光層中の付加重合性化合物の配合比に関
しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合
には、好ましくない相分離が生じたり、感光層の粘着性
による製造工程上の問題（例えば、感材成分の転写、粘
着に由来する製造不良）や、現像液からの析出が生じる
等の問題を生じうる。これらの観点から、好ましい配合
比は、多くの場合、感光層全成分に対して５〜８０重量
％、好ましくは２５〜７５重量％である。また、これら
は単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、
付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の
大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の
観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、
さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・
塗布方法も実施しうる。

【００３１】〔（iii）４００ｎｍにおける透過率より
も５００ｎｍの透過率の方が相対的に小さい光学特性を
有する顔料〕次に、本発明の感光性平版印刷版の感光層
に含有される、４００ｎｍにおける透過率よりも５００
ｎｍの透過率の方が相対的に小さい光学特性を有する顔
料について説明する。本発明における該顔料は、４００
ｎｍにおける透過率よりも５００ｎｍの透過率の方が相
対的に小さい光学特性を有するものであれば特に制限無
く用いる事ができる。該顔料の光学特性は、顔料を構成
する着色物質の化学構造や、分散状態（粒径、希釈状態
等）を適宜選択することにより調節可能である。また、
その光学特性は例えば、光学的に透明な支持体上に顔料
分散膜を作製し、汎用の分光光度計を用いた透過率測定
法によって容易に調べる事ができ、また、不透明支持体
上の分散膜の場合でも、正反射測定法、拡散反射法測定
法によってもとめた反射率の逆数として実測する事がで
きる。

【００３２】本発明に用いられる好ましい顔料をColour
Index（Published by The Societyof Dyes and Colour
ists,Third Edition）記載されるC.I. Numberによって
以下に記載する。

【００３３】アゾ系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＯｒａｎｇｅ１３，１６，
２，２４，３１，ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１，２２，３，３８，４，４
８，４９，６０，６３，９，１６６，１４４ＰｉｇｍｅｎｔＢｒｏｗｎ２３等、

【００３４】ペリレン系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＯｒａｎｇｅ７，ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１２３，１７８，１７９，２
２４，１４９，１９０，ＰｉｇｍｅｎｔＶｉｏｌｅｔ２９、等、

【００３５】ピラゾロキナゾロン顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ２５１、２５２，ＰｉｇｍｅｎｔＯｒａｎｇｅ６７、等、アミノアントラキノン系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７、等

【００３６】キナクリドン系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＶｉｏｌｅｔ１９，ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１２２，２０２等、酸性染料レーキ系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ６１、５６，５７等、塩基性染料レーキ系顔料：例えば、ＰｉｇｍｅｎｔＶｉｏｌｅｔ１ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ８１等

【００３７】その他の顔料：例えば、ＦｒｅｎｃｈＵ
ｌｔｒａｍａｒｉｎｅ等を挙げることができる。、

【００３８】本発明においては顔料を構成する着色性化
合物は、感光層中において、固体分散でなく分子分散状
態（溶解）をとると、カブリの増加もしくは、減感とい
った悪影響が生じるので、そのような影響のできるだけ
少ない顔料を用いる事が好ましい。顔料成分の化学構造
に起因する吸収スペクトル特性と溶解性の観点から、本
発明に好適な顔料として、アゾ系顔料、ペリレン系顔
料、ピラゾロキナゾロン顔料、ピラゾロキナゾロン顔
料、アミノアントラキノン系顔料、キナクリドン系顔
料、酸性染料レーキ系顔料、塩基性染料レーキ系顔料が
挙げられ、さらに、アゾ系顔料、酸性染料レーキ系顔
料、ピラゾロキナゾロン顔料、キナクリドン系顔料がよ
り好ましい。以下に、好ましい顔料を構成する着色物質
の化学構造式を示す。

【００３９】

【化１】

【００４０】

【化２】

【００４１】

【化３】

【００４２】

【化４】

【００４３】次に、顔料の一般的な分散方法について説
明するが、本発明はこれらの記述により制限されるもの
ではない。一般に、これら顔料は合成後、種々の方法で
乾燥を経て供給される。通常は水媒体から乾燥させて粉
末体として供給されるが、水が乾燥するには大きな蒸発
潜熱を必要とするため、乾燥して粉末とさせるには大き
な熱エネルギーを与える。そのため、顔料は一次粒子が
集合した凝集体（二次粒子）を形成しているのが普通で
ある。

【００４４】この様な凝集体を形成している顔料を微粒
子に分散するのは容易ではない。そのため顔料をあらか
じめ種々の樹脂で処理しておくことが好ましい。これら
樹脂として、後述の結着樹脂を挙げることができる。処
理の方法としては、フラッシング処理やニーダー、エク
ストルーダー、ボールミル、２本又は３本ロールミル等
による混練方法がある。このうち、フラッシング処理や
２本又は３本ロールミルによる混練法が微粒子化に好適
である。

【００４５】フラッシング処理は通常、顔料の水分散液
と水と混和しない溶媒に溶解した樹脂溶液を混合し、水
媒体中から有機媒体中に顔料を抽出し、顔料を樹脂で処
理する方法である。この方法によれば、顔料の乾燥を経
ることがないので、顔料の凝集を防ぐことができ、分散
が容易となる。２本又は３本ロールミルによる混練で
は、顔料と樹脂又は樹脂の溶液を混合した後、高いシェ
ア（せん断力）をかけながら、顔料と樹脂を混練するこ
とによって、顔料表面に樹脂をコーティングすることに
よって、顔料を処理する方法である。この過程で凝集し
ていた顔料粒子はより低次の凝集体から一次粒子にまで
分散される。

【００４６】又、あらかじめアクリル樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹脂、エチルセルロース
樹脂、ニトロセルロース樹脂等で処理した加工顔料も都
合良く用いることができる。上記の種々の樹脂で処理さ
れた加工顔料の形態としては、樹脂と顔料が均一に分散
している粉末、ペースト状、ペレット状、ペースト状が
好ましい。一方、樹脂がゲル化した不均一な塊状のもの
は好ましくない。

【００４７】微細な粒子サイズ分布を有する顔料分散液
を得るには、先ず顔料をフラッシング処理したりや、ニ
ーダー、エクストルーダ、ボールミル、２本または３本
ロールミルで結着樹脂と混練する。好ましい混練法とし
ては、まず顔料と結着樹脂に溶剤を加え均一に混合した
後、２本又は３本ロールを用い必要によっては加熱しな
がら混練し、顔料と結着樹脂を十分になじませ、均一の
着色体を得る方法がある。次に、顔料と本発明の顔料分
散剤を含む他の構成成分と混合し湿式分散（一次分散）
を行う。得られた分散液を、目的の粒子サイズ分布にな
るまで、より微細なビーズを用いて再度湿式分散（二次
分散）を行う。または、湿式分散した分散液を遠心分離
によって分別したり、デカンテーションにより粗大粒子
を除去し目的の粒子サイズとサイズ分布を有する粒子を
得る。上記の混練過程や分散過程に、分散剤として例え
ば、第３級アミン化合物を共存させると顔料の微粒子化
分散が促進され、本発明の粒子サイズ分布のものを得る
のに有利である。特に、次のような、少なくとも１個の
重合基を有する第３級アミン化合物は好ましい。第３級
アミンに少なくとも１個有する重合体基としては、少な
くとも１種の重合体を有する基であれば、いずれのもの
でも用いることができる。その重合体基としては、好ま
しくは低級アルキレンオキシ基である。ここで、低級ア
ルキレンオキシ基としては、ポリオキシエチレン、ポリ
オキシプピレンを挙げることができる。さらに好ましく
は、ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンがブロ
ック共重合体を形成しているものを挙げることができ
る。これらの重合体基は、第三級アミンに１〜３個のい
ずれの個数でも結合してもよい。

【００４８】また、顔料の分散性を向上させる目的で従
来公知の顔料分散剤や界面活性剤を添加することが出来
る。これらの分散剤としては、多くの種類の化合物が用
いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体（市販品Ｅ
ＦＫＡ−７４５（森下産業製））；オルガノシロキサン
ポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）、（メタ）アク
リル酸系（共）重合体ポリフローＮo.７５、Ｎo.９０、
Ｎo.９５（共栄社油脂化学工業製）、Ｗ００１（裕商
製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジ
ラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、
ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤；
エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（新秋
田化成製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７
３（大日本インキ製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４
３１（住友スリーエム製）、アサヒガードＡＧ７１０、
サーフロンＳ３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０２、Ｓ
Ｃ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０
６８（旭硝子製）等のフッ素系界面活性剤；Ｗ００４、
Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商製）等のアニオン系界面活性
剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７
ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４０
０、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０
（以上森下産業製）、ディスパースエイド６、ディスパ
ースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパース
エイド９１００（サンノプコ製）等の高分子分散剤；ソ
ルスパース３０００、５０００、９０００、１２００
０、１３２４０、１３９４０、１７０００、２４００
０、２６０００、２８０００などの各種ソルスパース分
散剤（ゼネカ株式会社製）；アデカプルロニックＬ３
１，Ｆ３８，Ｌ４２，Ｌ４４，Ｌ６１，Ｌ６４，Ｆ６
８，Ｌ７２，Ｐ９５，Ｆ７７，Ｐ８４，Ｆ８７、Ｐ９
４，Ｌ１０１，Ｐ１０３，Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１
２３（旭電化製）およびイソネットＳ−２０（三洋化成
製）が挙げられる。

【００４９】次に、この様にして得られた顔料分散物の
好ましい使用様態について述べる。顔料の平均粒径（平
均サイズ）は非常に重要である。平均粒径が大きいと、
好ましくない光の散乱を生じ、結果して、感材に用いた
場合その透過率が低下し、光重合に必要な光を感光層の
内部にまで与える事ができなくなってしまう。散乱は特
に、光源として短波長な光を用いる場合に顕著である。
従って、本発明のごとき相対的に短波な光源の使用を目
的とした感光性平版印刷版の場合、顔料の平均粒径はで
きるだけ小さい事が好ましい。この様な、粒径に依存し
た散乱による透過率の低下の影響は顕著であって、仮に
４００ｎｍの透過率が大きくなる様に、顔料着色物質の
構造選択をおこない、吸収特性を適切に設定したとして
も、粒径が大きいと４００ｎｍの透過率は下がってしま
い、感光層の実質的な感度の低下を招く。一方、粒径が
小さすぎると、分散安定性が不足する傾向があり、感光
層中で凝集、沈降等、好ましくない問題を生じる。これ
らの観点から本発明における顔料としては、平均粒径が
０．０１〜０．７μｍ、さらには、０．０１〜０．４μ
ｍである事が望ましい。より詳細には、０．４μｍ以下
の粒子が全粒子の７０重量％以上、より好ましくは８０
重量％以上であり、かつ、平均粒子径が０．０１〜０．
４μｍ、より好ましくは、０．０２〜０．３５μｍの範
囲のものが好ましい。

【００５０】顔料の、使用量は、感光層成分の重合反応
性や、感光性平版印刷版の現像処理性を著しく低下させ
ない様に上限を設定する。一方、下限はカブリ性の向上
に十分な効果がえられる様に設定する。これらは個々の
顔料の光学特性によって異なる。通常は０．００１〜５
ｇ／ｍ²であり、好ましくは０．０５〜３ｇ／ｍ²、より
好ましくは０．１〜２ｇ／ｍ²の範囲がよい。一方光学
特性的に見た場合、カブリ性に優れた、感光層の５００
ｎｍにおける顔料に起因する吸光度は０．１以上、好ま
しくは０．３以上、より好ましくは０．５以上である。

【００５１】さらに顔料の好ましい使用形態として従来
公知の様々な技術の適用も可能である。特に、特開平８
−１０１４９８記載の様に、顔料の分散の際に、主鎖、
又は側鎖に脂肪族２重結合を有するポリマーを共存させ
ると、高感度な感光層を得ることができる。その他、光
重合系での顔料の使用に際する従来の提案としては、特
開平１０−２８２６４７号、特開平９−２３０６０１号
等がある。

【００５２】〔その他の成分〕本発明の感光性平版印刷
版の感光層には、さらにその用途、製造方法等に適した
その他の成分を適宜用いることができる。〔増感色素〕本発明の感光性平版印刷版の感光層におい
ては、感度を高める目的で、必要に応じ、増感色素を併
用することが好ましい。この増感色素は前述のチタノセ
ン化合物と併用することにより光開始系と称される。好
ましい、増感色素は、感光層中に於ける吸収特性が、５
００ｎｍよりも４００ｎｍにおいてより大きな吸光度を
示すものである。さらに、好ましい、増感色素はその分
光感度特性が４５０ｎｍより短波長、より好ましくは、
４３０ｎｍより短波長で、かつ３００ｎｍより長波長、
より好ましくは３５０ｎｍより長波長に極大感光波長を
有するものである。本発明における増感色素はこれらの
特性を満たすものであるかぎり、制限無く使用し得る。

【００５３】この様な特性を有する増感色素としては、
例えば、下記一般式（１）に示されるメロシアニン色素
類、下記一般式（２）で示されるスチリル系色素類、下
記一般式（３）で示されるベンゾピラン類、クマリン
類、下記一般式（４）で表される芳香族ケトン類、下記
一般式（５）で表されるアントラセン類等を挙げること
ができる。

【００５４】

【化５】

【００５５】（式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ₁をあ
らわし、Ｒ₁は一価の非金属原子団を表し、Ｙは隣接す
るＡおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を
形成する非金属原子団を表し、Ｘ₁、Ｘ₂はそれぞれ独立
に、一価の非金属原子団であり、Ｘ₁、Ｘ₂は互いに結合
して色素の酸性核を形成してもよい。）

【００５６】

【化６】

【００５７】（式中、Ｘ₁、Ｘ₂は一般式（１）における
ものと同義であり、Ｒ₂からＲ₆はそれぞれ独立に、一価
の非金属原子団であり、好ましくは、Ｒ₂からＲ₆のう
ち、少なくとも一個がハメットの置換基定数が負の電子
供与性置換基である）

【００５８】

【化７】

【００５９】（式中、＝Ｙは、カルボニル基、チオカル
ボニル基、イミノ基又は上記部分構造式（１）で表され
るアルキリデン基を表し、Ｘ₁、Ｘ₂は一般式（１）と同
義であり、Ｒ₇からＲ₁₂はそれぞれ独立に一価の非金属
原子団を表す）

【００６０】

【化８】

【００６１】（式中Ａｒ₁は、置換基を有していてもよ
い芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、Ｒ₁₃はそれぞ
れ独立に、一価の非金属原子団を表す。より好ましいＲ
₁₃は、芳香族基またはヘテロ芳香族基であって、Ａｒ₁
とＲ₁₃が互いに結合して環を形成してもよい。）

【００６２】

【化９】

【００６３】（式中、Ｘ₃、Ｘ₄、Ｒ₁₄からＲ₂₁はそれぞ
れ独立に、１価の非金属原子団を表し、より好ましい、
Ｘ₃、Ｘ₄はハメットの置換基定数が負の電子供与性基で
ある）

【００６４】一般式（１）から（５）における、Ｘ₁か
らＸ₄、Ｒ₁からＲ₂₁で表される一価の非金属原子団の好
ましい例としては、水素原子、アルキル基（例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソ
プロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチ
ル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メ
チルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル
基、２−ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチ
ル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メ
トキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオ
キシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキ
ソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ
−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メ
チル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォ
ノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニ
ルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２
−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−
ブチニル基、３−ブチニル基等）、アリール基（例え
ば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニ
ル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル
基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル
基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカ
ルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニ
ル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホ
スフォナトフェニル基等）、ヘテロアリール基（例え
ば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベ
ンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、
ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾ
ール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジ
ン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、
プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフ
チリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバ
ゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペ
リミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザ
ジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン
等）、アルケニル基（例えばビニル基、１−プロペニル
基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−
エテニル基、等）、アルキニル基（例えば、エチニル
基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシ
リルエチニル基等）、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−
Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリー
ロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ
基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリ
ールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ
−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ
基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，
Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド
基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキ
ル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド
基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
リール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′
−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル
−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ
基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ
基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共
役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシス
ルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモ
イル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ
−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基
（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスフォナ
ト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃(alky
l)₂）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、
アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(ary
l)）、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）
及びその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と
称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(ary
l)）及びその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト
基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及び
その共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称
す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(alky
l)₂）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(ary
l)₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰ
Ｏ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、ア
ルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役
塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称
す）、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の置換
基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。

【００６５】一般式（１）に於けるＹが隣接するＡおよ
び、隣接炭素原子と共同して形成する色素の塩基性核と
しては、５、６、７員の含窒素、あるいは含硫黄複素環
が挙げられ、好ましくは５、６員の複素環がよい。

【００６６】含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Br
ooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73, 5326-5358
(1951).及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類
における塩基性核を構成するものとして知られるものを
いずれも好適に用いることができる。具体例としては、
チアゾール類（例えば、チアゾール、４−メチルチアゾ
ール、４ーフェニルチアゾール、５−メチルチアゾー
ル、５−フェニルチアゾール、４，５−ジメチルチアゾ
ール、４，５−ジフェニルチアゾール、４，５−ジ（ｐ
−メトキシフェニルチアゾール）、４−（２−チエニ
ル）チアゾール、等）、ベンゾチアゾール類（例えば、
ベンゾチアゾール、４−クロロベンゾチアゾール、５−
クロロベンゾチアゾール、６−クロロベンゾチアゾー
ル、７−クロロベンゾチアゾール、４−メチルベンゾチ
アゾール、５−メチルベンゾチアゾール、６−メチルベ
ンゾチアゾール、５−ブロモベンゾチアゾール、４−フ
ェニルベンゾチアゾール、５−フェニルベンゾチアゾー
ル、４−メトキシベンゾチアゾール、５−メトキシベン
ゾチアゾール、６−メトキシベンゾチアゾール、５−ヨ
ードベンゾチアゾール、６−ヨードベンゾチアゾール、
４−エトキシベンゾチアゾール、５−エトキシベンゾチ
アゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、５，６−ジ
メトキシベンゾチアゾール、５，６−ジオキシメチレン
ベンゾチアゾール、５−ヒドロキシベンゾチアゾール、
６−ヒドロキシベンゾチアゾール、６ージメチルアミノ
ベンゾチアゾール、５−エトキシカルボニルベンゾチア
ゾール等）、ナフトチアゾール類（例えば、ナフト
［１，２］チアゾール、ナフト［２，１］チアゾール、
５−メトキシナフト［２，１］チアゾール、５−エトキ
シナフト［２，１］チアゾール、８−メトキシナフト
［１，２］チアゾール、７−メトキシナフト［１，２］
チアゾール等）、チアナフテノ−７’，６’，４，５−
チアゾール類（例えば、４’−メトキシチアナフテノ−
７’，６’，４，５−チアゾール等）、オキサゾール類
（例えば、４−メチルオキサゾール、５−メチルオキサ
ゾール、４−フェニルオキサゾール、４，５−ジフェニ
ルオキサゾール、４−エチルオキサゾール、４，５−ジ
メチルオキサゾール、５−フェニルオキサゾール等）、
ベンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５−クロ
ロベンゾオキサゾール、５−メチルベンゾオキサゾー
ル、５−フェニルベンゾオキサゾール、６−メチルベン
ゾオキサゾール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾー
ル、４，６−ジメチルベンゾオキサゾール、６−メトキ
シベンゾオキサゾール、５−メトキシベンゾオキサゾー
ル、４−エトキシベンゾオキサゾール、５−クロロベン
ゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオキサゾール、５
−ヒドロキシベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベン
ゾオキサゾール等）、ナフトオキサゾール類（例えば、
ナフト［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキ
サゾール等）、セレナゾール類（例えば、４−メチルセ
レナゾール、４−フェニルセレナゾール等）、ベンゾセ
レナゾール類（例えば、ベンゾセレナゾール、５−クロ
ロベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾー
ル、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロ
ベンゾセレナゾール等）、ナフトセレナゾール類（例え
ば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，１］
セレナゾール等）、チアゾリン類（例えば、チアゾリ
ン、４−メチルチアゾリン等）、２−キノリン類（例え
ば、キノリン、３−メチルキノリン、５−メチルキノリ
ン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン、６−ク
ロロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキシキノ
リン、６−エトキシキノリン、６ーヒドロキシキノリ
ン、８−ヒドロキシキノリン等）、４−キノリン類（例
えば、キノリン、６−メトキシキノリン、７−メチルキ
ノリン、８−メチルキノリン等）、１−イソキノリン類
（例えば、イソキノリン、３，４−ジヒドロイソキノリ
ン、等）、３−イソキノリン類（例えば、イソキノリン
等）、ベンズイミダゾール類（例えば、１，３−ジエチ
ルベンズイミダゾール、１−エチル−３−フェニルベン
ズイミダゾール等）、３，３−ジアルキルインドレニン
類（例えば、３，３−ジメチルインドレニン、３，３，
５，−トリメチルインドレニン、３，３，７，−トリメ
チルインドレニン等）、２−ピリジン類（例えば、ピリ
ジン、５−メチルピリジン等）、４−ピリジン（例え
ば、ピリジン等）等を挙げることができる。

【００６７】また、含硫黄複素環の例としては、例え
ば、特開平３−２９６７５９記載の色素類におけるジチ
オール部分構造をあげることができる。具体例として
は、ベンゾジチオール類（例えば、ベンゾジチオール、
５−ｔ−ブチルベンゾジチオール、５−メチルベンゾジ
チオール等）、ナフトジチオール類（例えば、ナフト
［１，２］ジチオール、ナフト［２，１］ジチオール
等）、ジチオール類（例えば、４，５−ジメチルジチオ
ール類、４−フェニルジチオール類、４−メトキシカル
ボニルジチオール類、４，５−ジメトキシカルボニルベ
ンゾジチオール類、４，５−ジトリフルオロメチルジチ
オール、４，５−ジシアノジチオール、４−メトキシカ
ルボニルメチルジチオール、４−カルボキシメチルジチ
オール等）等を挙げることができる。

【００６８】以上、述べた複素環に関する説明に用いた
記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名称を用いた
が、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合は例えば
ベンゾチアゾール骨格の場合は3-置換-2(3H)-benzothia
zolylidene基のように、不飽和度を一つ下げたアルキリ
デン型の置換基形で導入される。

【００６９】以下に、一般式（１）から（５）で表され
る増感色素のより具体的な例をあげるが、本発明に用い
ることのできる増感色素はこれらに限定されるものでは
ない。

【００７０】

【化１０】

【００７１】本発明の増感色素に関しては、さらに、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素と前述の付加重合性化
合物構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル
基）とを共有結合、イオン結合、水素結合等の方法によ
り結合させる事で、露光膜の高強度化や、露光後の膜か
らの色素の不要な析出抑制を行う事ができる。また、増
感色素と前述のチタノセン化合物やその他のラジカル発
生パート（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過
酸化物、ビイミダゾール、オニウム、ビイミダゾール等
の還元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシ
リルメチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等
の酸化解裂性部位）との結合により、特に光開始系の濃
度の低い状態での感光性を著しく高める事ができる。さ
らに、感光層の好ましい使用様態である、（アルカリ）
水系現像液への処理適性を高める目的に対しては、親水
性部位（カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン
酸基並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸
基もしくは極性基）の導入が有効である。特にエステル
型の親水性基は、該感光層中では比較的疎水的構造を有
するため相溶性に優れ、かつ、現像液中では、加水分解
により酸基を生成し、親水性が増大するという特徴を有
する。その他、例えば、該感光層中での相溶性向上、結
晶析出抑制のために適宜置換基を導入する事ができる。
例えば、ある種の感光系では、アリール基やアリル基等
の不飽和結合が相溶性向上に非常に有効である場合があ
り、また、分岐アルキル構造導入等の方法により、色素
π平面間の立体障害を導入する事で、結晶析出が著しく
抑制できる。また、ホスホン酸基やエポキシ基、トリア
ルコキシシリル基等の導入により、金属や金属酸化物等
の無機物への密着性を向上させる事ができる。そのほ
か、目的に応じ、増感色素のポリマー化等の方法も利用
できる。

【００７２】これらの増感色素のどの構造を用いるか、
単独で使用するか２種以上併用するか、添加量はどう
か、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計
にあわせて適宜設定できる。例えば、増感色素を２種以
上併用することで、本発明の感光性平版印刷版の感光層
への相溶性を高める事ができる。増感色素の選択は、感
光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が
重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用す
る事により、色素の添加量は比較的少なくできるので、
経済的であり、かつ感光層の膜物性の点からも有利であ
る。本発明の感光性平版印刷版の感光層の感光性、解像
度や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響
を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適
宜選択する。例えば、吸光度が０．１以下の低い領域で
は感度が低下する。また、ハレーションの影響により低
解像度となる。但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化
せしめる目的に対しては、この様な低い吸光度の方がか
えって硬化度を上げられる場合もある。また、吸光度が
３以上の様な高い領域では、該感光層表面で大部分の光
が吸収され、より内部での硬化が阻害され、例えば印刷
版として使用した場合には膜強度、基板密着性の不十分
なものとなる。比較的薄い膜厚での使用に際しては、増
感色素の添加量は、その感光層の吸光度が０．１から
１．５の範囲、好ましくは０．２５から１の範囲となる
ように設定するのが好ましい。これは、通常、その感光
層成分１００重量部に対し、０．０５〜３０重量部、好
ましくは０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．２
〜１０重量部の範囲である。

【００７３】〔バインダーポリマー〕本発明の感光性平
版印刷版の感光層に、さらにバインダーポリマーを使用
することが好ましい。バインダーとしては線状有機高分
子重合体を含有させることが好ましい。このような「線
状有機高分子重合体」としては、どれを使用しても構わ
ない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性で
ある線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分
子重合体は、感光層の皮膜形成剤としてだけでなく、
水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途
に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状
有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有す
る付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公
昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特
公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、
特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水
酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたも
のなどが有用である。

【００７４】特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アク
リレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。

【００７５】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平１１−１７１９０７号公報記載のアミド基
を有するバインダーは優れた現像性と膜強度をあわせも
ち、好適である。

【００７６】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は感光層全成分中に任意な量を混和させることができ
る。しかし９０重量％を超える場合には形成される画像
強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０
〜８５重量％である。また光重合可能なエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、
重量比で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。好
ましい実施様態においてバインダーポリマーは実質的に
水不要でアルカリに可溶なものが用いられる。そうする
ことで、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を
用いないかもしくは非常に少ない使用量に制限できる。
この様な使用法においてはバインダーポリマーの酸価
（ポリマー１ｇあたりの酸含率を化学等量数で表したも
の）と分子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択さ
れる。好ましい酸価は、０．４〜３．0ｍｅｑ／ｇであ
り好ましい分子量は３０００から５０万の範囲で、より
好ましくは、酸価が０．６〜２．０、分子量が１万から
３０万の範囲である。

【００７７】〔共増感剤〕本発明の感光性平版印刷版の
感光層は、ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を
用いることで、感度をさらに向上させる事ができる。こ
れらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような
化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、先述の
光開始系の光吸収により開始される光反応と、それに引
き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種
（ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感
剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定
される。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラ
ジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカ
ルを生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応
し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連
鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の
化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がな
い場合も多い。

【００７８】（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する
化合物炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物：還元的に炭素
−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考
えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−
トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等
が好適に使用できる。窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使
用される。酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用され
る。オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジ
ニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカル
を生成しうる。

【００７９】（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接
した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成
するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボ
キシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適で
ある。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−
フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニ
リン類等が挙げられる。含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化
合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。 α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボ
ニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成
しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換し
たものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル
−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシ
アミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化した
オキシムエーテル類をあげる事ができる。スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等をあ
げる事ができる。

【００８０】ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変
換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物：例え
ば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。

【００８１】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開昭９−２３６９１３中に、感度向上を目的と
した添加剤として、多く記載されている。以下に、その
一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものは
ない。

【００８２】

【化１１】

【００８３】これらの共増感剤に関しても、先の増感色
素と同様、さらに、本発明の感光性平版印刷版の感光層
の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可
能である。例えば、増感色素や活性剤、付加重合性不飽
和化合物その他のパートとの結合、親水性部位の導入、
相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性
を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用で
きる。

【００８４】これらの共増感剤は、単独でまたは２種以
上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物１００重量部に対し０．０
５〜１００重量部、好ましくは１〜８０重量部、さらに
好ましくは３〜５０重量部の範囲が適当である。

【００８５】〔重合禁止剤〕また、本発明においては、
他に感光層成分組成物の製造中あるいは保存中において
重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の
不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙
げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に
対して約０．０１重量％〜約５重量％が好ましい。また
必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベ
ヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を
添加して、本発明の感光性平版印刷版の感光層の塗布後
の乾燥の過程で該感光層の表面に偏在させてもよい。高
級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％
〜約１０重量％が好ましい。

【００８６】〔着色剤〕さらに、本発明の感光性平版印
刷版の感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を添
加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の
視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性
を向上させる事ができる。着色剤としては、多くの染料
は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤と
しては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては例
えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、ク
リスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系
染料、シアニン系染料などの染料がある。染料および顔
料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５重量％が
好ましい。

【００８７】〔その他の添加剤〕さらに、本発明の感光
性平版印刷版の感光層の硬化皮膜の物性を改良するため
に無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面のインク着
肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えて
もよい。可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、
ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジ
ルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバ
ケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使
用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
と結合剤との合計重量に対し１０重量％以下添加するこ
とができる。また、本発明の感光性平版印刷版の感光層
の後述する膜強度（耐刷性）向上を目的とした、現像後
の加熱・露光の効果を強化するための、ＵＶ開始剤や、
熱架橋剤等の添加もできる。

【００８８】その他、本発明の感光性平版印刷版の感光
層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の現像除去
性を高めるための添加剤、中間層を設ける事が可能であ
る。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホス
ホン化合物等、基板と比較的強い相互作用を有する化合
物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、耐刷性を高
める事が可能であり、一方ポリアクリル酸や、ポリスル
ホン酸のような親水性ポリマーの添加や下塗りにより、
非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能とな
る。

【００８９】本発明の感光性平版印刷版の感光層を後述
の支持体上に塗布する際には、該感光層成分組成物を、
種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用
する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テ
トラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサ
ノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメト
キシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルな
どがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用
することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度
は、２〜５０重量％が適当である。

【００９０】該感光層の支持体被覆量は、主に、感光層
の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるも
ので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量
が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方
多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の感光性平版印刷版としては、その被覆量は
乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲
が適当である。より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ²であ
る。

【００９１】〔保護層〕本発明の感光性平版印刷版にお
いては、通常、露光を大気中で行うため、感光層の上
に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、
該感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する
大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の
感光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とす
る。従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等
の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露
光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性
に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事
が望ましい。この様な、保護層に関する工夫が従来より
なされており、米国特許第３、４５８、３１１号、特開
昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。

【００９２】保護層に使用できる材料としては例えば、
比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事
がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビア
ゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知
られていが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった
基本特性的に最も良好な結果を与える。保護層に使用す
るポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性
を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有す
る限り、一部がエステル、エーテルおよびアセタールで
置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合
成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体
例としては７１〜１００％加水分解され、分子量が３０
０から２４００の範囲のものを挙げることができる。具
体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ
−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ
−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ
−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０
３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１
０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２
４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−
２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ
−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。

【００９３】保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使
用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対
し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案がな
されている。たとえば米国特許第２９２、５０１号、米
国特許第４４、５６３号には、主にポリビニルアルコー
ルからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョ
ンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート
共重合体などを２０〜６０重量％混合し、重合層の上に
積層することにより、十分な接着性が得られることが記
載されている。本発明の感光性平版印刷版における保護
層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する
事ができる。このような保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,４５8,３１１号、特開昭５５−４９
７２９号に詳しく記載されている。

【００９４】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う、３５０ｎｍから４５０ｎ
ｍの光の透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率
良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添加によ
り、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさ
らに高める事ができる。

【００９５】本発明の感光性平版印刷版は、通常、画像
露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画
像を得る。これらの感光性平版印刷版のから平版印刷版
の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公昭
５７−７４２７号に記載されているような現像液が挙げ
られ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸
ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモ
ニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機
アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノール
アミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当であ
る。このようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量
％、好ましくは０．５〜５重量％になるように添加され
る。

【００９６】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭５
０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６
−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載
されている現像液も優れている。

【００９７】その他、本発明の感光性平版印刷版からの
平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光
前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱して
も良い。この様な加熱により、感光層中の画像形成反応
が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化とい
った利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上
を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしく
は、全面露光を行う事も有効である。通常現像前の加熱
は１５０℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度
が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう等の問題を
生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。
通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十
分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体
の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。

【００９８】また、本発明の感光性平版印刷版の主要な
目的である、デジタル化された、画像情報に基づき、露
光・現像するＣＴＰのようなシステムにおいては、特に
優れた現像処理方式が可能である。即ち、あらかじめ、
デジタル化されている画像情報に基づき、それに見合っ
た最適の現像・処理条件を自動現像機等の版材処理装置
の制御装置に指示し、最も適切な現像・処理条件（現像
液補充量、現像温度、現像時間、後加熱時間、フィニッ
シャー条件、後露光条件等）を適宜選択しながら処理が
できる。これにより、処理安定性を大幅に向上させた
り、印刷性能を一定に維持する事ができる。例えば、特
開平１１−１５１４４号には、非画像の面積情報Ａ（ｍ
²）と版種情報Ｘとを自動現像機の制御部に記憶させ、
その情報に応じた次の様な定義による補充量を適宜補充
し、現像液の使用量を最小にとどめながら、版材の処理
量を大幅に増大させる方法が提案されている。

【００９９】自動現像液での面積補充量（ｍｌ）＝面積
補充率Ｒｘ（ｍｌ／ｍ²）×面積Ａ（ｍ²）

【０１００】ここでＲｘは版種Ｘを１ｍ²を全面非画像
部として現像した際に必要な補充量（ｍｌ）である。

【０１０１】本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いる事ができる。望ましい、光
源の波長は３５０ｎｍから４５０ｎｍであり、具体的に
はＩｎＧａＮ系半導体レーザが好適である。露光機構
は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド
方式等の何れでも良い。また、本発明の感光性平版印刷
版の感光層成分は、高い水溶性のものを使用する事で、
中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、
この様な構成の平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で
露光−現像といった方式を行う事もできる。

【０１０２】３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの入手可能なレー
ザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４ｎ
ｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザ
ー（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｈｅ
−Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ、３２５ｎｍ、１ｍＷ〜１
００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶ
Ｏ₄）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５ｎｍ、
５ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み
合わせ（４３０ｎｍ、１０ｍＷ）、

【０１０３】半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ₃リン
グ共振器（４３０ｎｍ、３０ｍＷ）、導波型波長変換素
子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ
（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、導
波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導
体の組み合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ、５ｍＷ〜１
００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎ
ｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ）その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー（３３７ｎ
ｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、
パルス１０〜２５０ｍＪ）

【０１０４】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎ
ｍ、５〜３０ｍＷ）が波長特性、コストの面で好適であ
る。

【０１０５】また走査露光方式の平版印刷版露光装置と
しては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方
式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源
の中でパルスレーザー以外のものを全てを利用すること
ができる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以
下の露光装置が特に好ましい。

【０１０６】・内面ドラム方式でガスレーザーあるいは
固体レーザー光源を１つ使用するシングルビーム露光装
置・フラットベッド方式で半導体レーザーを多数（１０個
以上）使用したマルチビームの露光装置・外面ドラム方式で半導体レーザーを多数（１０個以
上）使用したマルチビームの露光装置、

【０１０７】以上のようなレーザー直描型の平版印刷版
においては、一般に感材感度Ｘ（Ｊ／ｃｍ²）、感材の
露光面積Ｓ（ｃｍ²）、レーザー光源１個のパワーｑ
（Ｗ）、レーザー本数ｎ、全露光時間ｔ（ｓ）との間に
式（ｅｑ１）が成立する。

【０１０８】Ｘ・Ｓ＝ｎ・ｑ・ｔ − （ｅｑ１）

【０１０９】ｉ）内面ドラム（シングルビーム）方式の
場合レーザー回転数ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌ
ｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）の間には一般的に式（ｅｑ２）が成立する。

【０１１０】ｆ・Ｚ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ２）

【０１１１】ii）外面ドラム（マルチビーム）方式の場
合ドラム回転数Ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ
（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ３）
が成立する。

【０１１２】Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ３）

【０１１３】iii）フラットヘッド（マルチビーム）方
式の場合ポリゴンミラーの回転数Ｈ（ラジアン／ｓ）、感材の副
走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露
光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式
（ｅｑ４) が成立する。

【０１１４】Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ４）

【０１１５】実際の印刷版に要求される解像度（２５６
０ｄｐｉ）、版サイズ（Ａ１／Ｂ１、副走査長４２ｉｎ
ｃｈ）、２０枚／１時間程度の露光条件と本発明の感光
性平版印刷版の感光特性（感光波長、感度：約０．１ｍ
Ｊ／ｃｍ²）を上記式に代入することで、本発明の感材
においては半導体レーザーのマルチビーム露光方式との
組み合わせがより好ましいことが理解できる。さらに操
作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラム方
式の半導体レーザーマルチビーム露光装置との組み合わ
せが最も好ましいことになる。

【０１１６】また、本発明による感光性平版印刷版に対
するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、
低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、
キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種
レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も
使用できる。

【０１１７】

【実施例】以下、実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。下
記の成分からなるＡｌ溶湯を調整し、溶湯処理、濾過を
行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊を
ＤＣ鋳造法で作成し、表面を平均１０ｍｍ面削機で削り
取った後、約５時間５５０℃で均熱保持し、温度４００
℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７
ｍｍの圧延板とし、更に連続焼鈍機を使って熱処理を５
００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕
上げた。このアルミ板を本発明の以下の実施例、及び比
較例に使用した。使用したＡｌの基本的な成分は表１記
載の水準を使用した。下記実施例おけるパーセントは、
特に断りがない限り、全て重量％である。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】上記のように調整した、厚さ０．２４ｍ
ｍ、幅１０３０ｍｍのＪＩＳＡ１０５０アルミニウ
ム板を用いて連続的に処理を行った。（ａ）既存の機械的粗面化装置を使って、比重１．１２
の研磨剤（パミス）と水の懸濁液を研磨スラリー液とし
てアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するロー
ラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。
研磨剤の平均粒径は４０〜４５μｍ最大粒径は２００μ
ｍだった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを
使用し、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであっ
た。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒
に穴を開けて密になるように植毛した。回転ブラシは３
本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラー（φ２０
０ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラー
はブラシを回転させる駆動モーターの負荷が、ブラシロ
ーラーをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対し
て７ｋｗプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転
方向はアルミニウム板の移動方向と同じで回転数は２０
０ｒｐｍであった。

【０１２０】（ｂ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
２．６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％、
温度７０℃でスプレーによるエッチング処理を行い、ア
ルミニウム板を１３ｇ／ｍ²溶解した。その後スプレー
による水洗を行った。（ｃ）温度３０℃の硝酸濃度１ｗｔ％水溶液（アルミニ
ウムイオン０．５ｗｔ％含む）で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後スプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を
用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。

【０１２１】（ｄ）６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的
に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液
は、硝酸１ｗｔ％水溶液（アルミニウムイオン０．５ｗ
ｔ％、アンモニウムイオン０．００７ｗｔ％含む）、温
度４０℃であった。交流電源は電流値がゼロからピーク
に達するまでの時間ＴＰが２ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：
１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極と
して電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードに
はフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３
０Ａ／ｄｍ²、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気
量の総和で２５５Ｃ／ｃｍ²であった。補助陽極には電
源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレ
ーによる水洗を行った。

【０１２２】（ｅ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２
６ｗｔ％、アルミニウムイオン濃度６．５ｗｔ％でスプ
レーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウ
ム板を０．２ｇ／ｍ²溶解し、前段の交流を用いて電気
化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後スプレーで水洗した。（ｆ）温度６０℃の硫酸濃度２５ｗｔ％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）で、スプレーによる
デスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行
った。

【０１２３】（ｇ）既存の二段給電電解処理法の陽極酸
化装置（第一および第二電解部長各６ｍ、第一給電部長
３ｍ、第二給電部長３ｍ、第一及び第二給電電極長各
２．４ｍ）を使って電解部の硫酸濃度１７０ｇ／リット
ル（アルミニウムイオンを０．５ｗｔ％含む）、温度３
８℃で陽極酸化処理を行った。その後スプレーによる水
洗を行った。この時、陽極酸化装置においては、電源か
らの電流は、第一給電部に設けられた第一給電電極に流
れ、電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第一電解
部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させ、第
一給電部に設けられた電解電極を通り、電源に戻る。

【０１２４】一方、電源からの電流は、第二給電部に設
けられた第二給電電極に流れ、同様に電解液を介して板
状アルミニウムに流れ、第二電解部で板状アルミニウム
の表面に酸化皮膜を生成させるが、電源から第一給電部
に給電される電気量と電源から第二給電部に給電される
電気量は同じであり、第二給電部における酸化皮膜面で
の給電電流密度は、約２５（Ａ／ｄｍ²）であった。第
二給電部では、１．３５ｇ／ｍ²の酸化皮膜面から給電
することになった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ
²であった。ここまでの基板を［Ａ］とする。

【０１２５】基板［Ａ］において、（ａ）のブラシ研磨
を除いて作製した基板を［Ｂ］とする。基板［Ｂ］にお
いて、（ｇ）陽極酸化処理における処理温度が５０℃
で、給電電流密度が５（Ａ／ｄｍ²）であったものを基
板［Ｃ］とする。基板［Ｂ］において、（ｇ）陽極酸化
処理における処理液温度が１０℃で、給電電流密度が４
０（Ａ／ｄｍ²）、硫酸濃度８０ｇ／リットルであった
ものを基板［Ｄ］とする。基板［Ｂ］において、（ｇ）
陽極酸化処理における処理液温度が６０℃で、給電電流
密度が１（Ａ／ｄｍ²）、硫酸濃度３５０ｇ／リットル
であったものを基板［Ｅ］とする。

【０１２６】基板［Ｂ］において、陽極酸化処理後、ｐ
Ｈ１２のＮａＯＨ水溶液に４０℃で１０秒間浸漬したも
のを基板［Ｆ］とする。基板［Ｂ］において、（ｇ）陽
極酸化処理における処理液温度が５０℃で、給電電流密
度が１０（Ａ／ｄｍ²）、硫酸濃度３００ｇ／リットル
であったものを基板［Ｇ］とする。基板［Ｂ］におい
て、（ｇ）陽極酸化処理における処理液温度が５℃で、
給電電流密度が５０（Ａ／ｄｍ²）、硫酸濃度５０ｇ／
リットルであったものを基板［Ｈ］とする。

【０１２７】（画像形成層）まず、下記の手順によりＳ
Ｇ法の液状組成物（ゾル液）を調整した。ビーカーに下
記組成物を秤量し、２５℃で２０分間攪拌した。

【０１２８】Ｓｉ(ＯＣ₂Ｈ₅)₄ ３８ｇ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３ｇ８５％リン酸水溶液１２ｇイオン交換水１５ｇメタノール１００ｇ

【０１２９】その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却
器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸し
た。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラー
で攪拌しながら、３０分間で５０℃まで上昇させた。浴
温を５０℃に保ったまま、更に１時間反応させ液組成物
（ゾル液）を得た。このゾル液をメタノール／エチレン
グリコール＝２０／１（重量比）で０．５重量％になる
ように希釈した基板にホイラー塗布し、１００℃１分乾
燥させた。その時の塗布量は３．５ｍｇ／ｍ²であっ
た。この塗布量もケイ光Ｘ線分析法によりＳｉ元素量を
求め、それを塗布量とした。

【０１３０】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布量が１．３ｇ／
ｍ²となるように塗布し、８０℃２分間乾燥させ感光層
を形成させた。

【０１３１】（感光性組成物）ペンタエリスリトールテトラアクリレート１．５ｇベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体２．０ｇ（共重合モル比７５／２５）下記式の増感色素０．０７ｇ下記式のチタノセン化合物０．０３ｇフッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ）０．０３ｇ熱重合禁止剤（Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル０．０１ｇアミンアルミニウム塩）下記組成の顔料分散物２．０ｇメチルエチルケトン２０ｇプロピレングリコールモノメチルエーテル２０ｇ

【０１３２】

【化１２】

【０１３３】（顔料分散物組成）下記式の顔料Ｐ−１８３０ｇ（平均粒径0.13μm,透過率の大小：400nm＞500nm）アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体２０ｇ（共重合比80/20、重量平均分子量４万）シクロヘキサノン３５ｇメトキシプロピルアセテート１１５ｇ

【０１３４】

【化１３】

【０１３５】（保護層の調製）この感光層上にポリビニ
ルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の
３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２g/m²となるように
塗布し、１００℃で２分間乾燥した。

【０１３６】上記のようにして得られた感光性平版印刷
版に対して、光源として４００nmの単色光を用い、版面
露光エネルギー密度１５０μＪとなるように露光パワー
を調節し１７５line/inchの１０〜９０％まで１０％刻
みで網点画像様に露光を行った。その後１２０℃に２０
秒間さらし、後加熱処理を施した。現像は、下記の現像
液に２５℃で、３０秒間浸漬して行った。

【０１３７】 (現像液) １Ｋケイ酸カリウム３０ｇ水酸化カリウム１５ｇＣ₁₂Ｈ₂₅−Ｃ₆Ｈ₄−Ｏ−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ３ｇ水１０００ｇ

【０１３８】次に富士写真フイルム(株)製ガム液ＦＰ−
２Ｗを水で２倍に希釈し用法に沿って版面を処理した。
耐刷性測定には印刷機として三菱重工製ダイヤ１Ｆ−２
を使用し、インキとしては、大日本インキ社製グラフＧ
(Ｎ)を使用した。印刷スタートから５０００枚目毎に印
刷物をサンプリングして１５００００枚まで印刷した。
この時のベタ画像部分のインキの濃度が低くなり始めた
枚数を耐刷性とした。網点太りの指標として、網点部分
の濃度からマレーデービスの式により印刷物上網点％を
算出した。結果を下記表２に示す。

【０１３９】

【表２】

【０１４０】なお、ポア径とポア密度は、支持体表面を
日立製作所（株）製走査型電子顕微鏡Ｓ−９００を用い
て、蒸着せずに加速電圧１２ｋＶで１５００００倍で観
察したＳＥＭ写真から求めた。ポア径は無作為に５０個
選んだポアの平均値とし、また、ポア密度は６００ｎｍ
×６００ｎｍの中のポア数から算出した。

【０１４１】上記表２に示すように、陽極酸化皮膜のポ
ア径及びポア密度を一定の範囲内にすることによって、
耐刷性を劣化させずに散乱光によるドットゲインを抑制
できたものである。

【０１４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光性平
版印刷版は、支持体上の陽極酸化皮膜に存在するマイク
ロポアの径および密度を所定の範囲に規定し、感光層と
して４００ｎｍにおける透過率よりも５００ｎｍの透過
率の方が相対的に小さい光学特性を有する顔料を含有す
る光重合性層を用いることにより、安価な短波半導体レ
ーザーの発信波長に対し高感度で、明るいセーフライト
の下で扱うことができ、かつ、感光層と支持体の密着力
を損なうことがないため耐刷性に優れ、また支持体起因
の散乱光による網点の太りを劣化させ難いため網点の再
現性に優れたものとなった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/09 ５０１Ｇ０３Ｆ 7/09 ５０１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも粗面化処理と陽極酸化処理を
行ったアルミニウム支持体上に感光層を有する感光性平
版印刷版であって、該支持体上の陽極酸化皮膜に存在す
るマイクロポアがポア径５〜１０ｎｍ、ポア密度８×１
０¹⁵〜２×１０¹⁶個／ｍ²であり、該感光層が（ｉ）少
なくとも１種のチタノセン化合物、（ii）少なくとも１
個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合
物および（iii）４００ｎｍにおける透過率よりも５０
０ｎｍの透過率の方が相対的に小さい光学特性を有する
少なくとも１種の顔料を含有することを特徴とする感光
性平版印刷版。