JP2001232799A - Method for manufacturing nozzle forming member and liquid drop ejection head - Google Patents
Method for manufacturing nozzle forming member and liquid drop ejection headInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はノズル形成部材の製造方
法及び液滴吐出ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a nozzle forming member and a droplet discharge head.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、プリンタ、ファクシミリ、複写
装置、プロッタ等の画像記録装置（画像形成装置を含
む。）に用いられるインクジェット記録装置における液
滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドは、複数のノ
ズルを形成したノズル形成部材と、各ノズルが連通する
加圧室（インク室、圧力室、吐出室、インク流路、加圧
液室などとも称される。）と、各加圧室内のインクを加
圧するエネルギーを発生する圧電素子などの電気機械変
換素子、或いはヒータなどの電気熱変換素子、振動板と
電極等のエネルギー発生手段とを備えて、エネルギー発
生手段で発生したエネルギーで加圧室内インクを加圧す
ることによってノズルからインク滴を吐出させる。2. Description of the Related Art In general, an ink jet head, which is a droplet discharge head in an ink jet recording apparatus used for an image recording apparatus (including an image forming apparatus) such as a printer, a facsimile, a copying machine, a plotter, etc., has a plurality of nozzles. And a pressurizing chamber (also referred to as an ink chamber, a pressure chamber, a discharge chamber, an ink flow path, a pressurized liquid chamber, etc.) in which each nozzle communicates, and pressurizes the ink in each pressurizing chamber. It is provided with an electromechanical transducer such as a piezoelectric element that generates energy, an electrothermal transducer such as a heater, and energy generating means such as a diaphragm and an electrode. By applying pressure, ink droplets are ejected from the nozzles.
【０００３】ここで、ノズル形成部材及びその製造方法
としては、特開平１−１０８０５６号公報、特開平２−
１２１８４２号公報等に記載されているように、有機樹
脂材料からなるプレートにエキシマレーザーによってノ
ズル孔を形成したもの、或いは、特開昭６３−３９６３
号公報、特開平１−４２９３９号公報等に記載されてい
るように、電鋳支持基板上にドライフィルムレジスト等
の感光性樹脂材料を用いてノズル径に応じたレジストパ
ターンを形成した後、このレジストパターンを用いてニ
ッケル等の金属材料を電鋳工法で析出してノズルプレー
トを形成するもの、その他プレスによってノズル孔を形
成するものなどがある。The nozzle forming member and the manufacturing method thereof are described in JP-A-1-108056 and JP-A-2-108056.
No. 12,1842, etc., a plate made of an organic resin material having nozzle holes formed by an excimer laser, or Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-3963.
JP, JP-A-1-42939, etc., after forming a resist pattern in accordance with the nozzle diameter on an electroformed support substrate using a photosensitive resin material such as a dry film resist, A nozzle plate is formed by depositing a metal material such as nickel by an electroforming method using a resist pattern, and a nozzle plate is formed by pressing to form a nozzle hole.
【０００４】また、インクジェットヘッドにおいては、
ノズル孔から液滴化したインク（インク滴）を吐出飛翔
させて記録を行うため、ノズル孔の形状、精度等がイン
ク滴の噴射特性（インク滴吐出性能）に影響を与えると
共に、ノズル孔を形成しているノズル孔形成部材の表面
の特性がインク滴の噴射特性に影響を与える。例えば、
ノズル孔形成部材表面のノズル孔周辺部にインクが付着
して不均一なインク溜り（所謂濡れムラ）が発生する
と、インク滴の吐出方向が曲げられたり、インク滴の大
きさにバラツキが生じたり、インク滴の飛翔速度が不安
定になる等の不都合が生じることが知られている。In an ink jet head,
Since recording is performed by ejecting ink droplets (ink droplets) ejected from the nozzle holes, the shape, accuracy, etc. of the nozzle holes affect the ejection characteristics (ink droplet ejection performance) of the ink droplets. The characteristics of the surface of the formed nozzle hole forming member affect the ejection characteristics of ink droplets. For example,
If the ink adheres to the periphery of the nozzle hole on the surface of the nozzle hole forming member and uneven ink accumulation (so-called wetting unevenness) occurs, the ejection direction of the ink droplet is bent or the size of the ink droplet varies. It is known that inconveniences such as an unstable flying speed of ink droplets occur.
【０００５】そこで、このようなインクジェットヘッド
のノズル孔形成部材の表面（インク吐出面）には、例え
ば特開平４−２９４１４５号公報にも記載されているよ
うに、電解ニッケルノズル、プレス穿孔金属ノズル、ポ
リカーボネイトなどの高分子材料をエキシマレーザーで
穿孔したノズルなどのノズル孔形成部材の表面に、フッ
素系高分子の塗装膜や共析メッキ膜などの撥水性皮膜
（撥水膜、撥水性表面処理膜）を成膜して撥インク性
（撥水性）を持たせ、ノズル孔形成部材の表面の均一性
を高めて、インク滴の飛翔特性の安定化を図るようにす
ることが行われている（このほか、例えば特開平６−１
４３５８７号公報参照）。[0005] Therefore, as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-294145, an electrolytic nickel nozzle, a press-perforated metal nozzle is provided on the surface (ink ejection surface) of the nozzle hole forming member of such an ink jet head. A water-repellent film (water-repellent film, water-repellent surface treatment) such as a fluorine-based polymer coating film or eutectoid plating film is applied to the surface of a nozzle hole forming member such as a nozzle formed by extruding a polymer material such as polycarbonate or an excimer laser. Film) to impart ink repellency (water repellency), enhance the uniformity of the surface of the nozzle hole forming member, and stabilize the flight characteristics of ink droplets. (In addition, for example, see
43587).
【０００６】この場合、例えば特開平５−１１６３２７
号公報に記載されているように、ノズルプレートのノズ
ル孔周辺以外の裏面（液室側表面）全体をレジストテー
プで被覆し、ノズルプレートの表面、ノズル孔内壁面及
び裏面のノズル孔周辺に撥水性皮膜を形成するもの、或
いは、特開平９−１２３４６１号公報に記載されている
ように、２枚のノズルプレートを互いのノズル孔部分が
合うように裏面同士で重ね合わせて密着保持し、この状
態でノズルプレート表面とノズル孔内面に無電解めっき
による撥水処理を施すというもある。In this case, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-116327
As described in the publication, the entire back surface (surface on the liquid chamber side) other than the periphery of the nozzle hole of the nozzle plate is covered with a resist tape, and the surface of the nozzle plate, the inner wall surface of the nozzle hole, and the periphery of the nozzle hole on the back surface are repelled. One that forms an aqueous film, or as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-123461, two nozzle plates are superimposed on their back surfaces so that their nozzle holes are aligned with each other, and are closely held. In some cases, the surface of the nozzle plate and the inner surface of the nozzle hole are subjected to a water-repellent treatment by electroless plating.
【０００７】しかしながら、一般に、撥水性材料がノズ
ル孔内部に侵入して撥水性皮膜を形成すると、インク噴
射直後にノズル孔部のインク液面（メニスカス面）がノ
ズル孔内部まで深く引き込まれ、このときに気泡を巻き
込み、この気泡の影響によってインク滴の吐出方向がば
らついたり、インク滴の吐出が不能になる。また、イン
ク孔周辺部を打ち抜いたレジストテープをノズルに貼り
付けるためには、高精度の位置決めを行わねばならず、
僅かでも貼り付け位置がずれれば、そのノズルは欠陥品
となるので、歩留まりを上げるためには多大なコストが
かかるので、このような方法は採用されていない。However, in general, when a water-repellent material penetrates into the inside of the nozzle hole to form a water-repellent film, the ink liquid surface (meniscus surface) of the nozzle hole is drawn deeply into the nozzle hole immediately after the ink is ejected. Occasionally, bubbles are trapped, and due to the influence of the bubbles, the ejection direction of the ink droplet varies, or the ejection of the ink droplet becomes impossible. In addition, in order to stick the resist tape punched out around the ink hole to the nozzle, high-precision positioning must be performed,
Even if the attachment position is displaced even slightly, the nozzle becomes a defective product, and a great cost is required to increase the yield. Therefore, such a method is not adopted.
【０００８】むしろ、ノズル孔内部に撥水性皮膜が形成
されないように撥水性の表面処理を行なうことが提案さ
れている。これには、例えば、特開平６−２４６９２１
号公報に記載されているように、ノズル孔内部及びその
直上並びにノズル孔周囲でノズル径の１．４倍程度の領
域に感光性樹脂フィルムによるマスクを形成し、インク
液室面（裏面）側をレジストで覆って撥水性皮膜を形成
するようにしたものがある。Rather, it has been proposed to perform a water-repellent surface treatment so that a water-repellent film is not formed inside the nozzle hole. This includes, for example, JP-A-6-246921.
As described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-157, a mask made of a photosensitive resin film is formed in the nozzle hole, immediately above the nozzle hole, and around the nozzle hole in a region of about 1.4 times the nozzle diameter, and the ink liquid chamber surface (back surface) side Is covered with a resist to form a water-repellent film.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たノズル孔内部及びその直上並びにノズル孔周囲でノズ
ル径の１．４倍程度の領域に感光性樹脂フィルムによる
マスクを形成する方法にあっては、ノズル孔周辺に撥水
性皮膜がないためにインク滴吐出の安定性が得られず、
しかもノズル孔内部を塞ぐ感光性樹脂フィルムとインク
液室面側を覆うレジストとが異なるために新たな設備が
必要になり、コストが高くなる。However, in the above-described method of forming a mask made of a photosensitive resin film in the nozzle hole, immediately above the nozzle hole, and in a region of about 1.4 times the nozzle diameter around the nozzle hole, Since there is no water repellent film around the nozzle hole, the stability of ink droplet ejection cannot be obtained,
In addition, since the photosensitive resin film that blocks the inside of the nozzle hole is different from the resist that covers the ink liquid chamber surface side, new equipment is required and the cost is increased.
【００１０】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、液滴吐出安定性に優れたノズル形成部材を低コス
トで歩留まり良く製造する方法を提供するとともに、低
コストで吐出安定性に優れた液滴吐出ヘッドを提供する
ことを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and provides a method of manufacturing a nozzle forming member having excellent droplet discharge stability at a low cost with a good yield. It is an object to provide an excellent droplet discharge head.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係るノズル形成部材は、ノズル孔形成部材
のノズル孔内部及びノズル孔の表面側直上並びに裏面側
にアルカリ剥離型のネガ型ドライフィルムレジストによ
るマスキングを施した後、ノズル孔形成部材の表面に撥
水性皮膜を形成し、次いで、ネガ型ドライフィルムレジ
ストを除去する構成としたものである。In order to solve the above-mentioned problems, a nozzle forming member according to the present invention comprises an alkali peeling type negative inside the nozzle hole of the nozzle hole forming member, directly above the front surface side of the nozzle hole and on the back surface side. After performing masking with a mold dry film resist, a water repellent film is formed on the surface of the nozzle hole forming member, and then the negative dry film resist is removed.
【００１２】ここで、ドライフィルムレジストを剥離す
るときの剥離液が濃度３％〜１０％の水酸化ナトリウム
水溶液であることが好ましい。この場合、水酸化ナトリ
ウム水溶液温度が４０℃〜６０℃であることが好まし
い。また、ドライフィルムレジストを露光・現像した後
にはポストキュア処理を施さないことが好ましい。さら
に、剥離液中で出力４００Ｗ以上の超音波を１０分以上
印加した後スプレー方式でドライフィルムレジストを剥
離することが好ましい。Here, the stripping solution for stripping the dry film resist is preferably an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 3% to 10%. In this case, the temperature of the aqueous sodium hydroxide solution is preferably 40 ° C to 60 ° C. Further, it is preferable that post-curing treatment is not performed after exposing and developing the dry film resist. Furthermore, it is preferable to remove the dry film resist by a spray method after applying an ultrasonic wave having an output of 400 W or more in a remover for 10 minutes or more.
【００１３】本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液滴を吐
出するノズルと、このノズルが連通する加圧室と、この
加圧室内の液体を加圧するエネルギーを発生するエネル
ギー発生手段とを備え、ノズルを形成したノズル形成部
材が本発明に係る製造方法で製造されている構成とした
ものである。A droplet discharge head according to the present invention includes a nozzle for discharging droplets, a pressurizing chamber communicating with the nozzle, and energy generating means for generating energy for pressurizing the liquid in the pressurizing chamber. The nozzle forming member having the nozzle formed therein is manufactured by the manufacturing method according to the present invention.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。図１は本発明に係る液滴吐出
ヘッドであるインクジェットヘッドの分解斜視説明図、
図２は同ヘッドの振動板長手方向の断面説明図、図３は
図２の要部拡大図、図４は同ヘッドの振動板短手方向の
要部拡大断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an exploded perspective view of an ink jet head which is a droplet discharge head according to the present invention,
2 is an explanatory cross-sectional view of the head in the longitudinal direction of the diaphragm, FIG. 3 is an enlarged view of a main part of FIG. 2, and FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the main part of the head in the lateral direction of the diaphragm.
【００１５】このインクジェットヘッドは、単結晶シリ
コン基板、多結晶シリコン基板、ＳＯＩ基板などのシリ
コン基板等を用いた振動板／液室基板１と、この振動板
／液室基板１の下側に設けたシリコン基板、パイレック
スガラス基板、セラミックス基板等を用いた電極基板２
と、振動板／液室基板１の上側に設けたノズル形成部材
であるノズル板３とを備え、インク滴を吐出する複数の
ノズル４、各ノズル４が連通するインク流路である加圧
室６、各加圧室６にインク供給路を兼ねた流体抵抗部７
を介して連通する共通液室８などを形成している。The ink jet head is provided with a diaphragm / liquid chamber substrate 1 using a silicon substrate such as a single crystal silicon substrate, a polycrystalline silicon substrate, or an SOI substrate, and provided below the diaphragm / liquid chamber substrate 1. Substrate 2 using a silicon substrate, Pyrex glass substrate, ceramics substrate, etc.
And a nozzle plate 3 which is a nozzle forming member provided above the vibration plate / liquid chamber substrate 1, a plurality of nozzles 4 for ejecting ink droplets, and a pressurizing chamber which is an ink flow path communicating with each nozzle 4. 6. Fluid resistance part 7 also serving as ink supply path for each pressure chamber 6
To form a common liquid chamber 8 and the like that communicate with each other.
【００１６】振動板／液室基板１にはノズル４が連通す
る複数の加圧室６及びこの加圧室６の壁面である底部を
なす振動板１０（第１の電極となる。）を形成する凹部
を形成し、ノズル板３にはノズル４となる孔及び流体抵
抗部７を形成する溝を形成し、また振動板／液室基板１
と電極基板２には共通液室８を形成する貫通部を形成し
ている。The diaphragm / liquid chamber substrate 1 has a plurality of pressurizing chambers 6 with which the nozzles 4 communicate, and a vibrating plate 10 (which serves as a first electrode) which forms a bottom surface which is a wall surface of the pressurizing chamber 6. The nozzle plate 3 has a hole for forming the nozzle 4 and a groove for forming the fluid resistance portion 7, and the diaphragm / liquid chamber substrate 1
The electrode substrate 2 has a penetrating portion for forming the common liquid chamber 8.
【００１７】ここで、振動板／液室基板１は、例えば単
結晶シリコン基板を用いた場合、予め振動板厚さにボロ
ンを注入してエッチングストップ層となる高濃度ボロン
層を形成し、電極基板２と接合した後、加圧室６となる
凹部をＫＯＨ水溶液などのエッチング液を用いて異方性
エッチングすることにより、このとき高濃度ボロン層が
エッチングストップ層となって振動板１０が高精度に形
成される。また、多結晶シリコン基板で振動板１０を形
成する場合は、液室基板上に振動板となる多結晶シリコ
ン薄膜を形成する方法、または、予め電極基板２を犠牲
材料で平坦化し、その上に多結晶シリコン薄膜を成膜し
た後、犠牲材料を除去することで形成できる。When the diaphragm / liquid chamber substrate 1 is, for example, a single-crystal silicon substrate, boron is previously implanted into the diaphragm to form a high-concentration boron layer serving as an etching stop layer. After bonding with the substrate 2, the recess serving as the pressure chamber 6 is anisotropically etched using an etching solution such as a KOH aqueous solution, whereby the high-concentration boron layer becomes an etching stop layer, and the diaphragm 10 becomes high. Formed with precision. When the vibration plate 10 is formed of a polycrystalline silicon substrate, a method of forming a polycrystalline silicon thin film serving as a vibration plate on a liquid chamber substrate, or a method in which the electrode substrate 2 is previously flattened with a sacrificial material, and After the polycrystalline silicon thin film is formed, it can be formed by removing the sacrificial material.
【００１８】なお、振動板１０に別途電極膜を形成して
もよいが、上述したように不純物の拡散などによって振
動板が電極を兼ねるようにしている。また、振動板１０
の電極基板２側の面に絶縁膜を形成することもできる。
この絶縁膜としてはＳiＯ2等の酸化膜系絶縁膜、Ｓi3Ｎ
4等の窒化膜系絶縁膜などを用いることができる。絶縁
膜の成膜は、振動板表面を熱酸化して酸化膜を形成した
り、成膜手法を用いたりすることができる。Although an electrode film may be separately formed on the diaphragm 10, the diaphragm also serves as an electrode by diffusion of impurities as described above. Further, the diaphragm 10
An insulating film may be formed on the surface on the electrode substrate 2 side.
As this insulating film, an oxide-based insulating film such as SiO 2 or Si 3 N
For example, a nitride-based insulating film such as 4 can be used. For the formation of the insulating film, the surface of the diaphragm can be thermally oxidized to form an oxide film, or a film forming technique can be used.
【００１９】また、電極基板２には酸化膜層２ａを形成
し、この酸化膜層２ａの部分に凹部１４を形成して、こ
の凹部１４底面に振動板１０に対向する電極１５を設
け、振動板１０と電極１５との間にギャップ１６を形成
し、これらの振動板１０と電極１５とによってアクチュ
エータ部（エネルギー発生手段）を構成している。な
お、電極１５表面にはＳiＯ2膜などの酸化膜系絶縁膜、
Ｓi3Ｎ4膜などの窒化膜系絶縁膜からなる電極保護膜１
７を成膜しているが、電極表面１５に電極保護膜１７を
形成しないで、振動板１０側に絶縁膜を形成することも
できる。Further, an oxide film layer 2a is formed on the electrode substrate 2, a concave portion 14 is formed in the portion of the oxide film layer 2a, and an electrode 15 facing the diaphragm 10 is provided on the bottom surface of the concave portion 14 to provide a vibration. A gap 16 is formed between the plate 10 and the electrode 15, and the vibration plate 10 and the electrode 15 constitute an actuator section (energy generating means). An oxide insulating film such as a SiO 2 film is formed on the surface of the electrode 15.
Electrode protective film 1 made of a nitride insulating film such as a Si 3 N 4 film
Although the film 7 is formed, an insulating film may be formed on the diaphragm 10 side without forming the electrode protection film 17 on the electrode surface 15.
【００２０】これらの振動板／液室基板１と電極基板２
との接合は、例えば電極基板２がシリコンで形成される
場合、酸化膜を介した直接接合法を用いることができ
る。この直接接合は１０００℃程度の高温化で実施す
る。また、電極基板２がガラスの場合、陽極接合を行う
ことができる。電極基板２をシリコンで形成して、陽極
接合を行う場合には、電極基板２と振動板／液室基板１
との間にパイレックスガラスを成膜し、この膜を介して
陽極接合を行うこともできる。さらに、振動板／液室基
板１と電極基板２にシリコン基板を使用して金等のバイ
ンダーを接合面に介在させた共晶接合で接合することも
できる。The vibration plate / liquid chamber substrate 1 and the electrode substrate 2
For example, when the electrode substrate 2 is formed of silicon, a direct bonding method via an oxide film can be used for bonding. This direct bonding is performed at a high temperature of about 1000 ° C. When the electrode substrate 2 is made of glass, anodic bonding can be performed. When the electrode substrate 2 is formed of silicon and anodic bonding is performed, the electrode substrate 2 and the diaphragm / liquid chamber substrate 1
Pyrex glass can be formed between these layers, and anodic bonding can be performed via this film. Further, the vibration plate / liquid chamber substrate 1 and the electrode substrate 2 can be bonded by eutectic bonding in which a binder such as gold is interposed on the bonding surface using a silicon substrate.
【００２１】また、電極基板２の電極１５としては、通
常半導体素子の形成プロセスで一般的に用いられるＡ
ｌ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属材料や、Ｔｉ、ＴｉＮ、Ｗ等の
高融点金属、または不純物により低抵抗化した多結晶シ
リコン材料などを用いることができる。電極基板２をシ
リコンウエハで形成する場合には、電極基板２と電極１
５との間には絶縁層（上述した酸化膜層２ａ）を形成す
る必要がある。電極基板２にガラス基板、セラミック基
板等の絶縁性材料を用いる場合には電極１５との間に絶
縁層を形成する必要はない。The electrode 15 of the electrode substrate 2 is made of A which is generally used in a process of forming a semiconductor element.
Metal materials such as l, Cr, and Ni, high melting point metals such as Ti, TiN, and W, and polycrystalline silicon materials whose resistance has been reduced by impurities can be used. When the electrode substrate 2 is formed of a silicon wafer, the electrode substrate 2 and the electrode 1
5, it is necessary to form an insulating layer (the above-described oxide film layer 2a). When an insulating material such as a glass substrate or a ceramic substrate is used for the electrode substrate 2, it is not necessary to form an insulating layer between the electrode substrate 2 and the electrode 15.
【００２２】ノズル板３には、多数のノズル４を形成す
るとともに、共通液室８と加圧室６を連通するための流
体抵抗部７を形成する溝部を形成している。ここでは、
インク吐出面（ノズル表面側）には後述するように撥水
性皮膜を成膜している。このノズル板２のノズル孔形成
部材（撥水性皮膜を形成する母材）は、エレクトロフォ
ーミング（電鋳）工法によるニッケルメッキ膜で形成し
ている。この他、ポリイミド等の樹脂にエキシマレーザ
ー加工をしたもの、金属プレートにプレス加工で穴加工
をしたもの等でも用いることができる。The nozzle plate 3 has a large number of nozzles 4 and a groove for forming a fluid resistance portion 7 for communicating the common liquid chamber 8 and the pressurizing chamber 6. here,
A water-repellent film is formed on the ink ejection surface (nozzle surface side) as described later. The nozzle hole forming member (base material for forming the water repellent film) of the nozzle plate 2 is formed of a nickel plating film by an electroforming (electroforming) method. In addition, a resin obtained by subjecting a resin such as polyimide to excimer laser processing, or a metal plate obtained by forming a hole by press working can also be used.
【００２３】また、撥水性皮膜は、フッ素系樹脂微粒子
であるポリテトラフルオロエチレン微粒子を分散させた
電解又は無電解ニッケル共析メッキ（ＰＴＦＥ−Ｎi共
析メッキ）によるメッキ皮膜で形成することができる。The water-repellent film can be formed by a plating film by electrolytic or electroless nickel eutectoid plating (PTFE-Ni eutectoid plating) in which fine particles of polytetrafluoroethylene, which are fine particles of fluororesin, are dispersed. .
【００２４】このインクジェットヘッドではノズル４を
二列配置し、この各ノズル４に対応して加圧室６、振動
板１０、電極１５なども二列配置し、各ノズル列の中央
部に共通液室８を配置して、左右の加圧室６にインクを
供給する構成を採用している。これにより、簡単なヘッ
ド構成で多数のノズルを有するマルチノズルヘッドを構
成することができる。In this ink jet head, the nozzles 4 are arranged in two rows, and the pressurizing chamber 6, the vibration plate 10, the electrodes 15 and the like are arranged in two rows corresponding to the nozzles 4, respectively. A configuration in which the chamber 8 is arranged and ink is supplied to the left and right pressurizing chambers 6 is adopted. This makes it possible to configure a multi-nozzle head having a large number of nozzles with a simple head configuration.
【００２５】そして、電極１５は外部に延設して接続部
（電極パッド部）１５ａとし、これにヘッド駆動回路で
あるドライバＩＣ２０をワイヤボンドによって搭載した
ＦＰＣケーブル２１を異方性導電膜などを介して接続し
ている。このとき、電極基板２とノズル板３との間（ギ
ャップ１６入口）は図４に示すようにエポキシ樹脂等の
接着剤を用いたギャップ封止剤２２にて気密封止し、ギ
ャップ１６内に湿気が侵入して振動板１０が変位しなく
なるのを防止している。The electrode 15 is extended outside to form a connection portion (electrode pad portion) 15a. An FPC cable 21 having a driver IC 20 as a head drive circuit mounted thereon by wire bonding is provided with an anisotropic conductive film or the like. Connected through. At this time, the gap between the electrode substrate 2 and the nozzle plate 3 (the entrance of the gap 16) is hermetically sealed with a gap sealing agent 22 using an adhesive such as an epoxy resin as shown in FIG. This prevents the diaphragm 10 from being displaced by the invasion of moisture.
【００２６】さらに、インクジェットヘッド全体をフレ
ーム部材２５上に接着剤で接合している。このフレーム
部材２５にはインクジェットヘッドの共通液室８に外部
からインクを供給するためのインク供給穴２６を形成し
ており、またＦＰＣケーブル２１等はフレーム部材２５
に形成した穴部２７に収納される。Further, the entire ink jet head is joined on the frame member 25 with an adhesive. The frame member 25 has an ink supply hole 26 for supplying ink from the outside to the common liquid chamber 8 of the inkjet head.
Is housed in the hole 27 formed in the hole.
【００２７】このフレーム部材２５とノズル板３との間
は図４に示すようにエポキシ樹脂等の接着剤を用いたギ
ャップ封止剤２８にて封止し、撥水性を有するノズル板
３表面のインクが電極基板２やＦＰＣケーブル２１等に
回り込むことを防止している。The gap between the frame member 25 and the nozzle plate 3 is sealed with a gap sealant 28 using an adhesive such as epoxy resin as shown in FIG. Ink is prevented from flowing around the electrode substrate 2, the FPC cable 21, and the like.
【００２８】そして、このヘッドのフレーム部材２５に
はインクカートリッジとのジョイント部材３０が連結さ
れて、フレーム部材２５に熱融着したフィルタ３１を介
してインクカートリッジからインク供給穴２６を通じて
共通液室８にインクが供給される。A joint member 30 for connecting to the ink cartridge is connected to the frame member 25 of the head. The common liquid chamber 8 is supplied from the ink cartridge through the ink supply hole 26 through the filter 31 which is thermally fused to the frame member 25. Is supplied with ink.
【００２９】このインクジェットヘッドにおいては、振
動板１０を共通電極とし、電極１５を個別電極として
（逆の構成とすることもできる。）、振動板１０と電極
１５との間に駆動電圧を印加することによって、振動板
１０と電極１５との間に発生する静電力によって振動板
１０が電極１５側に変形変位し、この状態から振動板１
０と電極１５間の電荷を放電させることによって振動板
１０が復帰変形して、加圧室６の内容積（体積）／圧力
が変化することによって、ノズル４からインク滴が吐出
される。In this ink jet head, a driving voltage is applied between the vibration plate 10 and the electrode 15 by using the vibration plate 10 as a common electrode and the electrode 15 as an individual electrode (the configuration may be reversed). As a result, the diaphragm 10 is deformed and displaced toward the electrode 15 due to an electrostatic force generated between the diaphragm 10 and the electrode 15, and from this state, the diaphragm 1
By discharging the electric charge between 0 and the electrode 15, the diaphragm 10 is returned and deformed, and the internal volume (volume) / pressure of the pressurizing chamber 6 is changed, so that an ink droplet is ejected from the nozzle 4.
【００３０】この場合、振動板１０を電極１５（実際に
は絶縁保護膜１７表面）に当接するまで変位させる方式
を当接駆動方式、振動板１０を電極１５に当接させない
位置まで変位させる方式を非当接駆動方式と称し、いず
れの方式でも駆動できる。In this case, a method in which the diaphragm 10 is displaced until it comes into contact with the electrode 15 (actually, on the surface of the insulating protective film 17) is a contact driving method, and a method in which the diaphragm 10 is displaced to a position where the diaphragm 10 is not brought into contact with the electrode 15. Is referred to as a non-contact drive system, and can be driven by either system.
【００３１】次に、ノズル形成部材であるノズル板３の
製造方法の詳細について図５以降をも参照して説明す
る。先ず、同図（ａ）に示すようにエレクトロフォーミ
ング（電鋳）工法によってノズル孔６２を形成したノズ
ル孔形成部材（ノズルプレート母材）６１を形成する。
ノズル孔形成部材を金属で形成することによって、表面
処理にメッキ工法を採用することができ、また、電鋳工
法を採用することによって、ノズル孔がテーパ形状とな
り、ノズル孔と撥水性皮膜（撥水性表面処理膜）の孔と
の段差を無くして滑らかにすることが容易にできる。Next, a method of manufacturing the nozzle plate 3 as a nozzle forming member will be described in detail with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 1A, a nozzle hole forming member (a nozzle plate base material) 61 in which a nozzle hole 62 is formed is formed by an electroforming (electroforming) method.
By forming the nozzle hole forming member with a metal, a plating method can be adopted for the surface treatment, and by adopting the electroforming method, the nozzle hole becomes tapered, and the nozzle hole and the water-repellent film (repellent film) are formed. The smoothness can be easily achieved by eliminating the step with the holes of the aqueous surface treatment film).
【００３２】その後、同図（ｂ）に示すようにノズル孔
形成部材６１の裏面側（インク液室側）にアルカリ剥離
型のネガ型ドライフィルムレジスト（以下「ＤＦＲ］と
いう。）６３を熱圧着する。このとき、ノズル孔６２か
ら軟化したネガ型ＤＦＲ６３を押し出してノズル孔形成
部材６１の表面側（インク吐出面側）にはみ出させては
み出し部６３ａが形成されるようにする。Thereafter, as shown in FIG. 2B, an alkali-peelable negative dry film resist (hereinafter referred to as "DFR") 63 is thermocompression-bonded to the back surface side (ink liquid chamber side) of the nozzle hole forming member 61. At this time, the softened negative DFR 63 is extruded from the nozzle hole 62 and protrudes to the front surface side (ink ejection surface side) of the nozzle hole forming member 61 so that the protruding portion 63a is formed.
【００３３】ここで、ネガ型ＤＦＲはポジ型に比べて
酸、アルカリ耐性があり、後の共析メッキを行うための
前処理としてアルカリ脱脂、酸洗浄処理を行っても十分
な耐性を有しているからである。また、露光時にノズル
孔形成部材６１自身が遮光マスクの役割を果たすため、
露光用マスクが不要になってコストダウンを図れ、マス
クアライメントも不要になって作業効率が高まり、この
点でも製作コストを抑制できる。さらに、アルカリ剥離
タイプのＤＦＲを用いるのは、一般に使用される有機溶
剤剥離タイプのＤＦＲでは剥離液がニッケルを侵すもの
が多く、このような剥離液に侵されると、黒色又は白色
に変色して（硫化又は酸化する）、撥水性及びワイピン
グに対する耐摩耗性が維持できなくなるからである。The negative type DFR is more resistant to acid and alkali than the positive type DFR, and has sufficient resistance to alkali degreasing and acid washing as pretreatments for eutectoid plating. Because it is. In addition, since the nozzle hole forming member 61 itself plays a role of a light shielding mask during exposure,
Exposure masks are not required, and costs can be reduced. Mask alignment is also unnecessary, and work efficiency is improved. In this respect, manufacturing costs can be suppressed. Furthermore, the use of an alkali stripping type DFR is common in organic solvent stripping type DFRs in that the stripping solution often attacks nickel, and when it is attacked by such a stripping solution, the color changes to black or white. (Sulfidation or oxidation), water repellency and abrasion resistance to wiping cannot be maintained.
【００３４】また、ＤＦＲ６３はノズル孔６２からはみ
出して完全にノズル孔６２を塞がなければマスクとして
の意味がなくなるので、ＤＦＲ６３の厚さは、ノズル孔
形成部材（ノズルプレート母材）６１の厚みの７０％以
上とすることが好ましい。そのため、ＤＦＲ６３として
は熱可塑性の高いものを用いるのが好ましい。具体的に
は、アルカリ剥離タイプのネガ型ＤＦＲとして、日合AL
PHO NIT225（商品名）等が適している。Further, the DFR 63 has no meaning as a mask unless it protrudes from the nozzle hole 62 and completely closes the nozzle hole 62. Is preferably 70% or more. Therefore, it is preferable to use a DFR 63 having high thermoplasticity. More specifically, Nichigo AL
PHO NIT225 (product name) is suitable.
【００３５】次に、同図（ｃ）に示すように、ノズル孔
形成部材６１のインク吐出面側にもアルカリ剥離型のネ
ガ型ＤＦＲ６４（ＤＦＲ６３と同じものである。）を熱
圧着する。このＤＦＲ６４の膜厚は後工程で形成する撥
水性皮膜（メッキ皮膜）の厚さよりも厚くする。両面同
時に熱圧着を行わないのは、ノズル孔６２への気泡巻き
込みを防止するためである。ノズル孔６２内に気泡が巻
き込まれると、気泡によって平行紫外線露光時に紫外線
が散乱されてしまい精密パターニングができなくなる。Next, as shown in FIG. 3C, an alkali release type negative DFR 64 (same as the DFR 63) is thermocompression-bonded also to the ink ejection surface side of the nozzle hole forming member 61. The thickness of the DFR 64 is made larger than the thickness of the water-repellent film (plating film) formed in a later step. The reason why thermocompression bonding is not performed on both surfaces simultaneously is to prevent air bubbles from getting into the nozzle holes 62. When air bubbles are caught in the nozzle hole 62, ultraviolet light is scattered by the air bubbles at the time of parallel ultraviolet exposure, so that precise patterning cannot be performed.
【００３６】その後、同図（ｄ）に示すように、ノズル
孔形成部材６１のインク液室側から平行紫外線光（ＵＶ
光）で露光することによって、ノズル孔形成部材６１が
露光マスクになるので、インク液室側及びノズル孔６２
内のＤＦＲ６３及びノズル孔６２に対応する部分のＤＦ
Ｒ６４が露光硬化し、これを現像することによって、ノ
ズル孔形成部材６１のノズル孔６２から表面側直上に突
出した塔部（突出部）６５ａを有し、ノズル孔６２内部
及びその直上並びにインク液室側全面をマスキングする
硬化ＤＦＲ６５が形成される。Thereafter, as shown in FIG. 4D, the parallel ultraviolet light (UV) is applied from the ink liquid chamber side of the nozzle hole forming member 61.
By exposing with light, the nozzle hole forming member 61 becomes an exposure mask.
Of DF corresponding to DFR 63 and nozzle hole 62
R64 is exposed and cured, and is developed to have a tower (projection) 65a projecting right above the nozzle hole 62 of the nozzle hole forming member 61 from the nozzle hole 62, and the inside of the nozzle hole 62 and immediately above the nozzle hole 62 and the ink liquid. A cured DFR 65 for masking the entire chamber side is formed.
【００３７】ここで、ＤＦＲは通常１５０℃程度の温度
でポストキュアを施すが、この場合には後の剥離時に硬
化ＤＦＲ６５の剥離が困難になるのと、加熱によるＤＦ
Ｒ柱の熱収縮によって体積変化が起こりノズル径精度が
ばらつくのを防止するために、ポストキュアを施さな
い。Here, the DFR is usually post-cured at a temperature of about 150 ° C. In this case, it becomes difficult to peel off the cured DFR 65 at a later peeling time.
No post cure is performed in order to prevent a change in volume due to thermal shrinkage of the R column and a variation in nozzle diameter accuracy.
【００３８】次いで、同図（ｅ）に示すように、ノズル
孔形成部材６１のインク吐出面側に撥水性のメッキ皮膜
（撥水性皮膜）６６を成膜する。この場合、ノズル孔６
２内部にはＤＦＲ６５が充填され、ノズル孔内部からノ
ズル吐出面側に塔部６５ａが立設して、精密マスキング
が行われているので、撥水性皮膜６６がノズル孔６２内
に浸入することなく精度良く形成される。Next, a water-repellent plating film (water-repellent film) 66 is formed on the ink ejection surface side of the nozzle hole forming member 61 as shown in FIG. In this case, the nozzle hole 6
The inside of the nozzle hole 2 is filled with DFR 65, and the tower portion 65a is erected from the inside of the nozzle hole to the nozzle discharge surface side, and precision masking is performed, so that the water repellent film 66 does not enter the nozzle hole 62 It is formed with high accuracy.
【００３９】この撥水性皮膜６６としては、耐摩耗性、
耐薬品性及び皮膜膜厚の均一性などから、前述したよう
に電解ニッケルメッキ液中にＰＴＦＥなどのフッ素系樹
脂微粒子を分散させた電解共析メッキ（例えば、上村工
業製メタフロン（商品名）等）、或いは、無電解ニッケ
ルメッキ液中にフッ素系樹脂微粒子を分散させた無電解
共析メッキ（例えば、上村工業製ニムフロン（商品名）
等）を用いた共析メッキを施すことによって形成でき
る。その他、フッ素樹脂系の電着塗装などでも形成でき
る。The water-repellent film 66 has abrasion resistance,
Electrochemical eutectoid plating (for example, Metaflon (trade name) manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) in which fine particles of fluorine resin such as PTFE are dispersed in an electrolytic nickel plating solution ) Or electroless eutectoid plating in which fluorine-based resin particles are dispersed in an electroless nickel plating solution (for example, Nimflon (trade name) manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.)
Etc.) to form an eutectoid plating. In addition, it can be formed by electrodeposition coating of a fluorine resin.
【００４０】この撥水性皮膜６６の膜厚は、１．５μｍ
以下ではフッ素樹脂微粒子の含有量が少なくなって撥水
性が十分でなく、耐ワイピング性も十分でないので、
１．５μｍ以上の膜厚にして撥水性を確保し、耐ワイピ
ング耐久性を十分に持たせるようにする。また、撥水性
皮膜６６の膜厚がノズル孔形成部材６１の厚さの１／１
０以上になると内部応力による反りが発生するので、ノ
ズル孔形成部材６１の厚さの１／１０未満としている。The thickness of the water-repellent film 66 is 1.5 μm
In the following, the content of the fluororesin fine particles is reduced and the water repellency is not sufficient, and the wiping resistance is not sufficient,
A film thickness of 1.5 μm or more is provided to ensure water repellency and to sufficiently provide wiping resistance. The thickness of the water-repellent film 66 is 1/1 of the thickness of the nozzle hole forming member 61.
If it is 0 or more, warpage due to internal stress occurs. Therefore, the thickness is set to less than 1/10 of the thickness of the nozzle hole forming member 61.
【００４１】次いで、図６（ａ）に示すように、上述の
ようにして撥水性皮膜６６を形成したノズル孔形成部材
６１を、剥離槽７１に満たした剥離液７０内に浸漬す
る。この場合、剥離液７０としては、アルカリ系剥離液
である、温度４０℃〜６０℃、濃度３％〜１０％の水酸
化ナトリウム水溶液を使用する。Next, as shown in FIG. 6A, the nozzle hole forming member 61 on which the water-repellent film 66 has been formed as described above is immersed in a stripping solution 70 filled in a stripping tank 71. In this case, as the stripping solution 70, an aqueous solution of sodium hydroxide having a temperature of 40 ° C to 60 ° C and a concentration of 3% to 10%, which is an alkaline stripping solution, is used.
【００４２】そして、浸漬時間を１０分以上として、あ
る程度ＤＦＲ６５を膨潤させた後、同図（ｂ）に示すよ
うに、剥離槽７１内に設けた超音波発生器７２によって
ノズル孔形成部材６１に超音波を印加する。この場合、
超音波の出力は４００Ｗ以上とし、印加時間は１０分間
以上とする。After the immersion time is set to 10 minutes or more and the DFR 65 is swollen to some extent, as shown in FIG. Apply ultrasound. in this case,
The output of the ultrasonic wave is 400 W or more, and the application time is 10 minutes or more.
【００４３】これにより、ノズル孔形成部材６１から硬
化ＤＦＲ６５が全体的に遊離するので、図７（ａ）に示
すように、スプレーノズル７３によって温度４０℃〜６
０℃、濃度３％〜１０％の水酸化ナトリウム水溶液をス
プレーし、化学的だけでなく、物理的な圧力を加えるこ
とによって完全に剥離させることができる。剥離が終了
したら、流水中で良く洗浄し、同図（ｂ）に示すよう
に、撥水性皮膜６６を有するノズル板３が得られる。As a result, the cured DFR 65 is released entirely from the nozzle hole forming member 61, and as shown in FIG.
Spraying with an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 3% to 10% at 0 ° C. and applying a physical pressure as well as a chemical pressure can completely remove the film. After the peeling is completed, the nozzle plate 3 is thoroughly washed in running water to obtain a nozzle plate 3 having a water-repellent film 66 as shown in FIG.
【００４４】このようにして、ノズル孔形成部材６１か
らＤＦＲ６５をカスを含めて完全に除去することがで
き、ＤＦＲのカスがノズル目詰まりを引き起こして吐出
不良が発生することを防止することができ、インク滴吐
出安定性の良いインクジェットヘッドを低コストで歩留
まり良く製造することができる。In this manner, the DFR 65, including the waste, can be completely removed from the nozzle hole forming member 61, and the DFR waste can be prevented from causing clogging of the nozzle, thereby preventing a discharge failure. In addition, it is possible to manufacture an ink jet head having good ink droplet ejection stability at low cost and with good yield.
【００４５】なお、上記実施例においては、本発明を静
電型インクジェットヘッドに適用した例で説明したが、
電気機械変換素子をエネルギー発生手段とするインクジ
ェットヘッド、電気熱変換素子をエネルギー発生手段と
するインクジェットヘッドにも同様に実施でき、またサ
イドシュータ方式のインクジェットヘッドだけでなく、
エッジシュータ方式のインクジェットヘッドにも同様に
適用することができる。さらに、インクジェットヘッド
だけでなく液体レジスト等を吐出させる液滴吐出ヘッド
などにも適用できる。In the above embodiment, an example in which the present invention is applied to an electrostatic ink jet head has been described.
An ink jet head having an electromechanical transducer as an energy generating means, an ink jet head having an electrothermal transducer as an energy generating means can be similarly implemented, and not only a side shooter type ink jet head,
The present invention can be similarly applied to an edge shooter type inkjet head. Further, the present invention can be applied not only to an inkjet head but also to a droplet discharge head for discharging a liquid resist or the like.
【００４６】[0046]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るノズ
ル形成部材によれば、ノズル孔形成部材のノズル孔内部
及びノズル孔の表面側直上並びに裏面側にアルカリ剥離
型のネガ型ドライフィルムレジストによるマスキングを
施した後、ノズル孔形成部材の表面に撥水性皮膜を形成
し、次いで、ネガ型ドライフィルムレジストを除去する
構成としたので、液滴吐出安定性に優れたノズル形成部
材を低コストで歩留まり良く製造することができる。As described above, according to the nozzle forming member of the present invention, an alkali peeling type negative dry film resist is provided inside the nozzle hole of the nozzle hole forming member, directly above the front surface side of the nozzle hole, and on the back surface side. After forming a water-repellent film on the surface of the nozzle hole forming member, and then removing the negative dry film resist, the nozzle forming member with excellent droplet discharge stability can be manufactured at low cost. And can be manufactured with a high yield.
【００４７】ここで、ドライフィルムレジストを剥離す
るときの剥離液が濃度３％〜１０％の水酸化ナトリウム
水溶液であることで、撥水性皮膜を侵すことがなく、撥
水性及び耐磨耗性に優れたノズル形成部材を得ることが
できる。この場合、水酸化ナトリウム水溶液温度を４０
℃〜６０℃とすることにより、確実に撥水性皮膜の浸食
を防止できる。Here, since the stripping solution for stripping the dry film resist is an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 3% to 10%, it does not attack the water-repellent film, and has high water-repellency and abrasion resistance. An excellent nozzle forming member can be obtained. In this case, the temperature of the aqueous sodium hydroxide solution is set to 40
By setting the temperature to between 60 ° C and 60 ° C, erosion of the water-repellent film can be reliably prevented.
【００４８】また、ドライフィルムレジストを露光・現
像した後にはポストキュア処理を施さないことで、ドラ
イフィルムレジストの剥離が容易になる。さらに、剥離
液中で出力４００Ｗ以上の超音波を１０分以上印加した
後スプレー方式でドライフィルムレジストを剥離するこ
とで、ノズル孔部のドライフィルムレジストを効率的に
確実に剥離することができ、目詰まりのないノズル形成
部材を得ることができる。Further, since the post-curing process is not performed after exposing and developing the dry film resist, the dry film resist can be easily peeled. Furthermore, by applying an ultrasonic wave having an output of 400 W or more in a stripping liquid for 10 minutes or more, by peeling the dry film resist by a spray method, the dry film resist in the nozzle hole can be efficiently and reliably peeled, A nozzle forming member without clogging can be obtained.
【００４９】本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、液
滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する加圧室
と、この加圧室内の液体を加圧するエネルギーを発生す
るエネルギー発生手段とを備え、ノズルを形成したノズ
ル形成部材が本発明に係る製造方法で製造されている構
成としたので、吐出安定性に優れた液滴吐出ヘッドを低
コストで得ることができる。According to the droplet discharge head of the present invention, a nozzle for discharging droplets, a pressurizing chamber communicating with the nozzle, and energy generating means for generating energy for pressurizing the liquid in the pressurizing chamber are provided. Since the nozzle forming member having the nozzle is formed by the manufacturing method according to the present invention, a droplet discharge head having excellent discharge stability can be obtained at low cost.
【図１】本発明に係る液滴吐出ヘッドの分解斜視説明図FIG. 1 is an exploded perspective view of a droplet discharge head according to the present invention.
【図２】同ヘッドの振動板長手方向の断面説明図FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view of the head in the longitudinal direction of the diaphragm.
【図３】図２の要部拡大図FIG. 3 is an enlarged view of a main part of FIG.
【図４】同ヘッドの振動板短手方向の要部拡大断面図FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the head in a lateral direction of a diaphragm.
【図５】同ヘッドのノズル板の製造工程の説明の供する
説明図FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a manufacturing process of a nozzle plate of the head.
【図６】図５の工程に続く工程の説明に供する説明図FIG. 6 is an explanatory view for explaining a step that follows the step of FIG. 5;
【図７】図６の工程に続く工程の説明に供する説明図FIG. 7 is an explanatory view for explaining a step following the step in FIG. 6;
１…振動板／液室基板、２…電極基板、３…ノズル板、
４…ノズル、６…加圧室、７…流体抵抗部、８…共通液
室、１０…振動板、１５…電極、６１…ノズル孔形成部
材、６２…ノズル孔、６３，６４…ドライフィルムレジ
スト、６５…硬化ドライフィルムレジスト、６５ａ…塔
部、６６…撥水性皮膜、７０…剥離液、７１…剥離槽、
７２…超音波発生器、７３…ノズルスプレー。1: diaphragm / liquid chamber substrate, 2: electrode substrate, 3: nozzle plate,
4 ... Nozzle, 6 ... Pressure chamber, 7 ... Fluid resistance section, 8 ... Common liquid chamber, 10 ... Vibration plate, 15 ... Electrode, 61 ... Nozzle hole forming member, 62 ... Nozzle hole, 63, 64 ... Dry film resist , 65: cured dry film resist, 65a: tower section, 66: water-repellent film, 70: release liquid, 71: release tank,
72: ultrasonic generator, 73: nozzle spray.
Claims (6)
孔形成部材表面に撥水性皮膜を形成したノズル形成部材
において、前記ノズル孔形成部材のノズル孔内部及びノ
ズル孔の表面側直上並びに裏面側にアルカリ剥離型のネ
ガ型ドライフィルムレジストによるマスキングを施した
後、前記ノズル孔形成部材の表面に撥水性皮膜を形成
し、次いで、前記ネガ型ドライフィルムレジストを除去
することを特徴とするノズル形成部材の製造方法。1. A nozzle forming member having a water-repellent film formed on the surface of a nozzle hole forming member having a nozzle for discharging liquid droplets, wherein the inside of the nozzle hole of the nozzle hole forming member, the surface directly above the nozzle hole and the back side thereof Forming a water-repellent film on the surface of the nozzle hole forming member after performing masking with an alkali stripping type negative dry film resist, and then removing the negative dry film resist. Manufacturing method of the member.
方法において、前記ドライフィルムレジストを剥離する
ときの剥離液が濃度３％〜１０％の水酸化ナトリウム水
溶液であることを特徴とするノズル形成部材の製造方
法。2. The method of manufacturing a nozzle forming member according to claim 1, wherein the stripper used for stripping the dry film resist is an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 3% to 10%. A method for manufacturing a formed member.
方法において、前記水酸化ナトリウム水溶液温度が４０
℃〜６０℃であることを特徴とするノズル形成部材の製
造方法。3. The method for manufacturing a nozzle forming member according to claim 2, wherein the temperature of the aqueous sodium hydroxide solution is 40.
A method for producing a nozzle forming member, which is at a temperature of from 60C to 60C.
ル形成部材の製造方法において、前記ドライフィルムレ
ジストを露光・現像した後にはポストキュア処理を施さ
ないことを特徴とするノズル形成部材の製造方法。4. The method of manufacturing a nozzle forming member according to claim 1, wherein a post-curing process is not performed after exposing and developing the dry film resist. Production method.
の製造方法において、剥離液中で出力４００Ｗ以上の超
音波を１０分以上印加した後スプレー方式で前記ドライ
フィルムレジストを剥離することを特徴とするノズル形
成部材の製造方法。5. The method of manufacturing a nozzle forming member according to claim 2, wherein the ultrasonic wave having an output of 400 W or more is applied in a stripping solution for 10 minutes or more, and then the dry film resist is stripped by a spray method. A method for manufacturing a nozzle forming member.
連通する加圧室と、この加圧室内の液体を加圧するエネ
ルギーを発生するエネルギー発生手段とを備えて、前記
ノズルから液滴を吐出させる液滴吐出ヘッドにおいて、
前記ノズルを形成したノズル形成部材が前記請求項１乃
至５のいずれかの製造方法で製造されていることを特徴
とする液滴吐出ヘッド。6. A nozzle for discharging a droplet, a pressurized chamber to which the nozzle communicates, and energy generating means for generating energy for pressurizing the liquid in the pressurized chamber, wherein the droplet is discharged from the nozzle. In a droplet discharge head for discharging,
A droplet discharge head, wherein the nozzle forming member having the nozzle is manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5.
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|---|---|---|---|
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