JP2001201870A

JP2001201870A - パターン形成用積層体

Info

Publication number: JP2001201870A
Application number: JP2000234019A
Authority: JP
Inventors: Daisuke Kojima; 大輔小嶋; Takanobu Komatsu; 隆伸小松; Genji Imai; 玄児今井
Original assignee: Kansai Paint Co Ltd; Fujitsu Ltd
Current assignee: Kansai Paint Co Ltd; Fujitsu Ltd
Priority date: 1999-08-03
Filing date: 2000-08-02
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】シャープなパターンを与えるパターン形成用
積層体を提供すること。【解決手段】本発明は、基材表面に、ネガ型もしくは
ポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過す
るシート層（Ｂ）、及び紫外線を遮蔽する感エネルギー
線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパ
ターン形成用積層体を提供するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はパターン形成用積層
体、その製造方法及び該積層体を利用したパターン形成
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及びその課題】従来、露光技術を利用した
リソグラフィは、例えばプラスチック、無機質等にパタ
ーンを形成する方法として、配線板、ディスプレーパネ
ル、食刻等に利用されている。

【０００３】パターンを形成する方法として、例えば、
基材表面に感光性の絶縁性又は導電性組成物を塗布して
感光性絶縁性又は導電性被膜層を形成したのち、その表
面から電子線、紫外線をフォトマスクを介して照射し、
次いで該感光性絶縁性又は導電性被膜層を現像処理する
ことにより目的のパターンを得る方法が知られている。
しかしながら、この方法は、絶縁性又は導電性被膜層の
感光性が充分でないためにシャープなパターンが形成で
きないという問題がある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の如
き問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、今
回、特定の感光性被膜を積層した被膜を使用することに
より、上記の問題点を解消することができることを見出
し、本発明を完成するに至った。

【０００５】かくして、本発明によれば、基材表面に、
ネガ型もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、
紫外線を透過するシート層（Ｂ）、及び紫外線を遮蔽す
る感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなること
を特徴とするパターン形成用積層体が提供される。

【０００６】以下、本発明のパターン形成用積層体、そ
の製造方法、及び該積層体を用いたパターン形成方法に
ついてさらに詳細に説明する。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の積層体に使用される基材
は、特に制限されるものではなく、従来からパターン形
成に使用されているものが同様に使用可能であり例え
ば、電気絶縁性のガラスーエポキシ板；ポリエチレンテ
レフタレートシート、ポリイミドシート等のプラスチッ
クシートやプラスチック板；これらのプラスチック板や
プラスチックシートの表面に、銅、アルミニウム等の金
属箔を接着することによって、又は銅、ニッケル、銀等
の金属もしくは酸化インジウムー錫（ＩＴＯ）に代表さ
れる導電性酸化物等の化合物を真空蒸着、化学蒸着、メ
ッキ等の方法で導電性被膜を形成したもの；スルーホー
ル部を設けたプラスチック板やプラスチックシートの表
面及びスルーホール部に上記の如き導電性被膜を形成し
たもの；銅板等の金属板；パターン形成されている銅ス
ルーホールプリント配線基板等が挙げられる。

【０００８】本発明の積層体に使用されるネガ型もしく
はポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）は、紫外線照射
されなかった部分の被膜層は現像液により溶解もしくは
分散して除去されそして紫外線照射された部分の被膜層
は現像液により溶解もしくは分散せずにレジスト被膜と
して残るようなネガ型の被膜層（Ａ−１）、又は紫外線
照射されなかった部分の被膜は現像液により溶解もしく
は分散して除去されずにレジスト被膜として残り、そし
て紫外線照射された部分の被膜は紫外線により分解し現
像液により溶解もしくは分散して除去されるようなポジ
型の被膜層（Ａ−２）であり、かかる紫外線感光特性を
有するものであれば、特に制限なしに使用することがで
きる。

【０００９】ネガ型紫外線感光性被膜層（Ａ−１）を形
成する樹脂組成物としては、例えば、紫外線硬化性樹脂
及び光ラジカル重合開始剤を含有するそれ自体既知の被
膜形成性樹脂組成物を使用することができる。

【００１０】上記の紫外線硬化性樹脂としては、例え
ば、紫外線照射により樹脂を架橋硬化させうる感光性不
飽和基と、樹脂をアルカリ性現像液もしくは酸性現像液
中に溶解もしくは分散させるのに十分なイオン性基（ア
ニオン性基又はカチオン性基）を有している紫外線硬化
性樹脂が使用される。

【００１１】紫外線硬化性樹脂に含ませうる感光性不飽
和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ
る。また、イオン性基としては、例えば、アニオン性基
としてはカルボキシル基が代表的なものとして挙げら
れ、該カルボキシル基の含有量は樹脂の酸価で通常約１
０〜７００ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に約２０〜６００ｍｇＫ
ＯＨ／ｇの範囲内が好ましい。カチオン性基としては、
アミノ基が代表的なものとして挙げられ、該アミノ基の
含有量は、樹脂のアミン価で通常約２０〜６５０、特に
約３０〜６００の範囲内が好ましい。

【００１２】アニオン性の紫外線硬化性樹脂としては、
例えば、カルボキシル基含有樹脂（ポリカルボン酸樹
脂）に、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート等の
不飽和モノマーを反応させて樹脂中に不飽和基とカルボ
キシル基を導入したものが挙げられる。

【００１３】また、カチオン性の紫外線硬化性樹脂とし
ては、例えば、水酸基及び第３級アミノ基含有樹脂に、
ヒドロキシル基含有不飽和化合物とジイソシアネート化
合物との反応物を付加反応させてなる樹脂が挙げられ
る。

【００１４】上記したアニオン性及びカチオン性の紫外
線硬化性樹脂については、特開平３−２２３７５９号公
報（＝米国特許第５，０４５，４３４号）に記載されて
いるので、ここではその引用をもって詳細な記述に代え
る。

【００１５】光ラジカル重合開始剤としては、例えば、
ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル、ベンジルキサントン、チオキ
サントン、アントラキノンなどの芳香族カルボニル化合
物；アセトフェノン、プロピオフェノン、α−ヒドロキ
シイソブチルフェノン、α，α’−ジクロル−４−フェ
ノキシアセトフェノン、１−ヒドロキシ−１−シクロヘ
キシルアセトフェノン、ジアセチルアセトフェノンなど
のアセトフェノン類；ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−
ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブ
チルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルジパーオ
キシイソフタレート、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ
−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどの
有機過酸化物；ジフェニルヨードブロマイド、ジフェニ
ルヨードニウムクロライドなどのジフェニルハロニウム
塩；四臭化炭素、クロロホルム、ヨードホルムなどの有
機ハロゲン化物；３−フェニル−５−イソオキサゾロ
ン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，
３，５−トリアジン、ベンズアントロンなどの複素環式
及び多環式化合物；２，２’−アゾ（２，４−ジメチル
バレロニトリル）、２，２−アゾビスイソブチロニトリ
ル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボ
ニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニ
トリル）などのアゾ化合物；鉄−アレン錯体（ＥＰ−Ａ
−１５２３７７参照）；チタノセン化合物（特開昭６３
−２２１１１０号公報（＝米国特許第５，０１１，７５
５号）参照）ビスイミダゾール系化合物；Ｎ−アリール
グリシジル系化合物；アクリジン系化合物；芳香族ケト
ン／芳香族アミンの組み合わせ；ペルオキシケタール
（特開平６−３２１８９５号公報参照）等が挙げられ
る。上記した光ラジカル重合開始剤の中でも、ジ−ｔ−
ブチルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，
４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、鉄−アレン錯体及びチタノセン化合物は一
般に架橋もしくは重合に対する活性が高いので、これら
を使用することが好ましい。

【００１６】また、市販品としては、例えば、イルガキ
ュア６５１（チバガイギー社製、商品名、アセトフェノ
ン系光ラジカル重合開始剤）、イルガキュア１８４（チ
バガイギー社製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル
重合開始剤）、イルガキュア１８５０（チバガイギー社
製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、イルガキュア９０７（チバガイギー社製、商品
名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、イルガキュア３６９（チバガイギー社製、商品
名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、商品名、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド）、カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）
製、商品名、チオキサントン系化合物）、ＣＧＩ−７８
４（チバガイギ−社製、商品名、チタン錯体化合物）な
どが挙げられる。これらのものは１種もしくは２種以上
組み合わせて使用することができる。

【００１７】光ラジカル重合開始剤の配合割合は、紫外
線硬化性樹脂１００重量部に対して一般に０．１〜２５
重量部、好ましくは０．２〜１０重量部の範囲内とする
ことができる。

【００１８】紫外線感光性被膜層（Ａ−１）を形成する
樹脂組成物には、必要に応じて、飽和樹脂を配合するこ
とができる。該飽和樹脂は、該樹脂組成物の溶解性（レ
ジスト被膜のアルカリ現像液に対する溶解性や、光硬化
被膜の除去で使用される、例えば、強アルカリ液に対す
る溶解性）を抑制するために使用されるものであり、例
えば、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、（メタ）アク
リル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、天然樹脂、合成ゴム、シリコン樹脂、フッ素樹脂、
ポリウレタン樹脂等が包含される。これらの樹脂は１種
のみ又は２種以上組合わせて用いることができる。

【００１９】該樹脂組成物は、例えば、有機溶剤、水又
はそれらの混合物のような溶剤中に溶解もしくは分散さ
せて基材表面に塗布されることができる。有機溶剤とし
ては、例えば、ケトン類、エステル類、エーテル類、セ
ロソルブ類、芳香族炭化水素類、アルコール類、ハロゲ
ン化炭化水素類などが挙げられる。また、溶剤に溶解も
しくは分散された該樹脂組成物は、例えば、ローラー、
ロールコーター、スピンコーター、カーテンロールコー
ター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、ス
ピン塗装等の手段により塗布することができる。形成さ
れる塗膜は、次いで、必要に応じてセッテングした後、
例えば約５０〜約１３０℃の温度で乾燥することにより
ネガ型の紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ−１）を得ること
ができる。

【００２０】また、水性のネガ型紫外線感光性樹脂組成
物は、上記したネガ型紫外線感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散することによって得られる。

【００２１】ネガ型紫外線感光性樹脂組成物の水溶化又
は水分散化は、紫外線硬化性樹脂中のアニオン性基（例
えば、カルボキシル基）をアルカリ（中和剤）で中和す
ることにより、又は紫外線硬化性樹脂組成物中のカチオ
ン性基（例えば、アミノ基）を酸（中和剤）で中和する
ことによって行われる。

【００２２】また、上記した以外に、ネガ型紫外線感光
性樹脂組成物として、従来から既知の水現像可能な紫外
線硬化性樹脂組成物を使用することもできる。このもの
としては、例えば、ノボラックフェノール型エポキシ樹
脂に紫外線硬化性不飽和基とイオン形成基を導入した水
性樹脂を挙げることができる。該水性樹脂は、例えば、
ノボラックフェノール型エポキシ樹脂が有する一部のエ
ポキシ基に（メタ）アクリル酸を付加させることにより
光重合性を樹脂に付与し、且つ他の少なくとも一部のエ
ポキシ基に例えば第３級アミン化合物を反応させること
により水溶性のオニウム塩基を形成することにより得ら
れる。かくして得られる水性樹脂は、紫外線露光された
部分が硬化して水に不溶性となり、未露光部分が水現像
により除去される。また、水現像後に加熱（例えば、約
１４０〜２００℃で１０〜３０分間）して、硬化被膜中
に残存するイオン形成基を揮発させることにより塗膜を
疎水性とすることができる。これにより、上記したアル
カリ現像性及び酸現像性感光性組成物から形成されるレ
ジスト塗膜のように塗膜中に親水基（カルボキシル基、
アミノ基等）やこれらの塩（現像液による塩）を有さな
いレジスト性に優れた被膜を形成することができる。ま
た、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂以外に、例え
ばグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシ
シクロヘキシルアルキル（メタ）アクリレート、ビニル
グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有ラジカル重合
性不飽和モノマーのホモ重合体もしくはこれらの１種以
上のモノマーとその他のラジカル重合性不飽和モノマー
（例えば、炭素数１〜２４のアルキル又はシクロアルキ
ル（メタ）アクリル酸エステル類、ラジカル重合性不飽
和芳香族化合物など）との共重合体に、上記と同様にし
て、（メタ）アクリル酸及び例えば第３級アミン化合物
を反応させることにより得られる水性重合体も使用する
ことができる。

【００２３】ネガ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ−１）
の現像処理は、被膜層を形成するネガ型紫外線感光性樹
脂組成物がアニオン性の場合には、アルカリ性現像液を
用いて行なわれ、また、カチオン性の場合には、酸性現
像液を用いて行なわれる。また、樹脂自体が水に溶解す
るもの（例えは、上記のオニウム塩基含有樹脂等）であ
る場合には水現像処理を行うことができる。

【００２４】また、ネガ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ
−１）はそれ自体導電性であっても絶縁性であってもよ
く、かくして、該被膜に導電性や絶縁性を付与させるた
めに、紫外線感光性樹脂組成物に、必要に応じて、導電
性材料（従来から既知の導電性顔料、例えば、銀、銅、
鉄、マンガン、ニッケル、アルミニウム、コバルト、ク
ロム、鉛、亜鉛、ビスマス、ＩＴＯ等の金属類、これら
の１種以上の合金類及びこれらの酸化物、また、絶縁材
料表面にこれらの導電材料がコーテングもしくは蒸着さ
れたもの等）や絶縁性材料（プラスチック微粉末、絶縁
性無機粉末等）を配合することができる。絶縁性被膜
は、通常、最終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１
０⁹Ω・ｃｍを越えるもの、特に１０¹⁰Ω・ｃｍ〜１０
¹⁸Ω・ｃｍの範囲内にあり、他方、導電性被膜は、通
常、最終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω
・ｃｍ未満、特に１Ω・ｃｍ〜１０⁸Ω・ｃｍの範囲内
にあるものが好ましい。

【００２５】他方、ポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ
−２）を形成する樹脂組成物としては、例えば、光酸発
生剤成分と樹脂成分を含むものを使用することができ
る。該樹脂成分としては、紫外線照射により光酸発生剤
成分から発生した酸により分解して樹脂成分の極性、分
子量等の物性が変化し、これによりアルカリ性もしくは
酸性水性現像液、水現像液、有機溶剤現像液などの現像
液に対して溶解性を示すようになる被膜形成性樹脂が用
いられる。また、該樹脂組成物には、更に、現像液に対
する溶解性を調整するその他の樹脂等を必要に応じて配
合することができる。

【００２６】しかして、ポジ型紫外線感光性樹脂組成物
に使用される樹脂成分としては、例えば、イオン形成基
を有するアクリル樹脂等の基体樹脂にキノンジアジドス
ルホン酸類をスルホン酸エステル結合を介して結合させ
た樹脂を主成分とする組成物（特開昭６１−２０６２９
３号公報（＝米国特許第４，６７３，４５８号）、特開
平７−１３３４４９号公報（＝米国特許第５，６２４，
７８１号）等参照）、即ち、照射紫外光によりキノンジ
アジド基が光分解してケテンを経由してインデンカルボ
ン酸を形成する反応を利用したナフトキノンジアジド感
活性エネルギー線系組成物；加熱によりアルカリ性現像
液又は酸性現像液に対して不溶性の架橋被膜を形成し、
更に紫外線照射により光酸発生剤から産生する酸により
架橋構造が切断されて照射部がアルカリ性現像液又は酸
性現像液に対して可溶性となるメカニズムを利用したポ
ジ型感活性エネルギー線性組成物（特開平６−２９５０
６４号公報、特開平６−３０８７３３号公報、特開平６
−３１３１３４号公報（＝米国特許第５，５２７，６５
６号）、特開平６−３１３１３５号公報（＝米国特許第
５，５２７，６５６号及び同第５，７０２，８７２
号）、特開平６−３１３１３６号公報（＝米国特許第
５，５２７，６５６号及び同第５，７０２，８７２
号）、特開平７−１４６５５２号公報等参照）等が代表
的なものとして挙げられる。上記したポジ型紫外線感光
性樹脂については、上記した公報に記載されているの
で、ここではそれらの引用をもって詳細な記述に代え
る。

【００２７】また、光酸発生剤は、露光により酸を発生
する化合物であり、この発生した酸を触媒として、樹脂
を分解させるものであり、従来から既知のものを使用す
ることができ、具体的には、例えば、スルホニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、セ
レニウム塩等のオニウム塩類、鉄−アレン錯体類、ルテ
ニウムアレン錯体類、シラノール−金属キレート錯体
類、トリアジン化合物類、ジアジドナフトキノン化合物
類、スルホン酸エステル類、スルホン酸イミドエステル
類、ハロゲン系化合物類等を挙げることができる。ま
た、上記した以外に、特開平７−１４６５５２号公報、
特開平１１−２３７７３１号に記載の光酸発生剤も使用
することができる。この光酸発生剤成分は、上記した樹
脂との混合物の形態であってもよく、又は樹脂本体に結
合したものであってもよい。光酸発生剤成分の配合割合
は、樹脂成分１００重量部に対して一般に約０．１〜約
４０重量部、特に約０．２〜約２０重量部の範囲内であ
ることが好ましい。

【００２８】該樹脂組成物は、例えば、有機溶剤、水又
はそれらの混合物のような溶剤中に溶解もしくは分散さ
せて基材表面に塗布される。有機溶剤としては、例え
ば、ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ
類、芳香族炭化水素類、アルコール類、ハロゲン化炭化
水素類などが挙げられる。また、溶剤に溶解もしくは分
散された該樹脂組成物は、例えば、ローラー、ロールコ
ーター、スピンコーター、カーテンロールコーター、ス
プレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装
等の手段により塗布することができる。形成される塗膜
は、次いで、必要に応じてセッテングした後、例えば約
５０〜約１３０℃の温度で乾燥することによりポジ型の
紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ−２）を得ることができ
る。

【００２９】また、水性のポジ型紫外線感光性樹脂組成
物は、上記したポジ型紫外線感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散することによって得られる。

【００３０】ポジ型紫外線感光性樹脂組成物の水溶化又
は水分散化は、樹脂中のアニオン性基（例えば、カルボ
キシル基）をアルカリ（中和剤）で中和することによ
り、又は樹脂中のカチオン性基（例えば、アミノ基)を
酸(中和剤）で中和することによって行われる。

【００３１】ポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ−２）
の現像処理は、被膜層を形成するポジ型紫外線感光性樹
脂組成物がアニオン性の場合には、アルカリ現像液を用
いて行なわれ、また、カチオン性の場合には、酸現像液
を用いて行なわれる。また、樹脂自体が水に溶解するも
の（例えは、オニウム塩基含有樹脂等）は水現像処理を
行うことができる。

【００３２】また、ポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ
−２）はそれ自体導電性であっても絶縁性であってもよ
く、かくして該被膜に導電性や絶縁性を付与させるため
に、紫外線感光性樹脂組成物に、必要に応じて導電性材
料（従来から既知の導電性顔料、例えば銀、銅、鉄、マ
ンガン、ニッケル、アルミニウム、コバルト、クロム、
鉛、亜鉛、ビスマス、ＩＴＯ等の金属類、これらの１種
以上の合金類及びこれらの酸化物、また、絶縁材料表面
にこれらの導電材料がコーテングもしくは蒸着されたも
の等）や絶縁性材料（プラスチック微粉末、絶縁性無機
粉末等）を配合することができる。絶縁性被膜は、通
常、最終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω
・ｃｍを越えるもの、特に１０¹⁰Ω・ｃｍ〜１０¹⁸Ω・
ｃｍの範囲内にあり、他方、導電性被膜は、通常、最終
的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ未
満、特に１Ω・ｃｍ〜１０⁸Ω・ｃｍの範囲内にあるも
のが好ましい。

【００３３】以上に述べたネガ型もしくはポジ型の紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）の厚さは、厳密に制限される
ものではなく、最終の積層体の用途等に応じて適宜選択
することができるが、通常、約１μｍ〜約５ｍｍ、特に
約２μｍ〜約５００μｍの範囲内が好ましい。

【００３４】本発明の積層体において使用される紫外性
透過性のシート層（Ｂ）は、照射される紫外線少なくと
も約９０％、好ましくは約９９％又はそれ以上を透過す
る樹脂シートであれば、その材質等には特に制限はな
く、それ自体既知のものを使用することができる。例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、セルロース系、
ポリウレタン、ポリアクリレート、アラミド、カプト
ン、ポリメチルペンテン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等の重合体からなるシートを使用することができる
が、特にポリエチレンテレフタレートシートを使用する
ことが好ましい。シート層（Ｂ）の厚さは、通常、約１
０μｍ〜約５ｍｍ、特に約１５μｍ〜約５００μｍの範
囲内にあることが好ましい。

【００３５】本発明の積層体に使用される紫外線を遮蔽
する感エネルギー線被膜層（Ｃ）は、シート層（Ｂ）表
面に形成されて最上層となるものであり、本発明の積層
体に、該被膜層（Ｃ）の上層表面から活性エネルギー線
を照射し、次いで被膜層（Ｃ）を現像処理すると、被膜
層（Ｃ）にパターが形成され、次いでパターニングされ
た被膜層（Ｃ）表面から紫外線を照射すると、被膜層
（Ｃ）は紫外線を遮蔽（吸収及び／又は反射）するの
で、下層の紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）に、被膜層
（Ｃ）に形成されたパターンに対応するポジ型もしくは
ネガ型のパターンを形成せしめるために設けられる層で
ある。

【００３６】感エネルギー線被膜層（Ｃ）は、上記した
ように、被膜層（Ｃ）の上層表面から照射される紫外線
を遮蔽（吸収及び／又は反射）することにより、紫外線
照射によるその下層の被膜層（Ａ）の実質的な変化（硬
化又は分解）を阻止する役割を果たすと同時に、被膜層
（Ｃ）自体活性エネルギー線照射により水、有機溶剤、
アルカリ、酸等の処理液に可溶性もしくは分散可能とな
り、被膜層（Ａ）に体して所望されると同じパターンを
形成することができるもの、あるいは被膜層（Ｃ）自体
活性エネルギー線照射により水、有機溶剤、アルカリ、
酸等の処理液に不溶性もしくは非分散性となって被膜層
（Ａ）に対して所望されると同じパターンを形成するこ
とができるものである。

【００３７】感エネルギー線被膜層（Ｃ）としては、紫
外線を吸収するもの、例えば、紫外線吸収剤、着色剤
（着色顔料、着色染料等）、充填剤等を被膜層中に含有
させたものを使用することができる。

【００３８】上記紫外線吸収剤としては、具体的には、
例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフ
ェノン系；２（２′ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系；シュ
ウ酸アニリド系；シアノアクリレート系等の紫外線吸収
剤、その他、BEDNERET et al., Farbe + Lacke, 89, 84
0(1983); H. J. HELLER et al., Pure and Applied, Ch
em, 30, 145(1972); Ibid, 36, 141(1973); A.VALET, F
arbe + Lacle, 96, 189(1990)等に記載のものが挙げら
れる。

【００３９】上記着色剤としては、例えば、酸化チタ
ン、亜鉛華、鉛白、塩基性硫酸鉛、硫酸鉛、リトポン、
硫化亜鉛、アンチモン白などの白色顔料；カーボンブラ
ック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブ
ラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラックなどの黒色顔
料；ナフトールエローＳ、ハンザエロー１０Ｇ、パーマ
ネントエロー、パーマネントオレンジなどの橙色顔料；
酸化鉄、アンバーなどの褐色顔料；ベンガラ、鉛丹、パ
ーマネントレッド、キナクリドン系赤顔料などの赤色顔
料；コバルト紫、マンガン紫、ファストバイオレット
Ｂ、メチルバイオレットレーキなどの紫色顔料、群青、
紺青、コバルトブルー、セルリアンブルー、フタロシア
ニンブルー、ファストスカイブルーなどの青色顔料；ク
ロムグリーン、フタロシアニングリーンなどの緑色顔料
などが挙げられる。

【００４０】上記充填剤としては、例えば、バリタ粉、
沈降性硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、
石膏、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、珪藻土、タ
ルク、炭酸マグネシウム、アルミナホワイト、マイカ粉
などが挙げられる。

【００４１】使用される紫外線吸収剤、着色剤、充填剤
の配合割合は、照射される紫外線の強度や感エネルギー
線被膜層（Ｃ）の厚さ等に応じて適宜選択することがで
きるが、通常、紫外線吸収剤の場合、被膜層（Ｃ）に対
して０．０１重量％〜５０重量％、好ましくは０．０２
重量％〜３０重量％の範囲内、また、着色剤及び充填剤
の場合には、被膜層（Ｃ）に対して０．５重量％〜９０
重量％、好ましくは１重量％〜５０重量％の範囲内とす
ることができる。

【００４２】紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層
（Ｃ）としては、紫外線を反射する反射剤（燐片状金属
顔料等）等を含有したものを使用することもできる。

【００４３】上記反射剤としては、例えば、（鱗片状）
アルミニウム粉、ブロンズ粉、銅粉、錫粉、鉛粉、亜鉛
末、リン化鉄、パール状金属コーティング雲母粉、マイ
カ状酸化鉄などの金属粉顔料および金属光沢顔料が挙げ
られる。

【００４４】使用される反射剤の配合割合は照射される
紫外線の強度や感エネルギー線被膜層（Ｃ）の厚さ等に
応じて適宜選択することができるが、通常、被膜層
（Ｃ）に対して０．５重量％〜９０重量％、好ましくは
１重量％〜５０重量％の範囲内にあることが望ましい。

【００４５】上記した紫外線の吸収剤及び反射剤は組み
合わせて使用することもできる。

【００４６】感エネルギー線被膜層（Ｃ）を形成するた
めの樹脂はネガ型もしくはポジ型のいずれであってもよ
く、また、照射すべき感エネルギー線は紫外線、可視光
線、電子線、熱線のいずれのものであってもよい。

【００４７】ネガ型及びポジ型の感紫外線型のものとし
ては、上記被膜層（Ａ）を形成する樹脂組成物と同様の
ものが使用できる。

【００４８】また、ネガ型及びポジ型の感可視光線型の
ものとしては、上記被膜層（Ａ）を形成するものとして
前述した樹脂組成物に光増感剤を配合したものを使用す
ることができる。該光増感剤としては、従来から既知の
光増感色素を使用することができ、具体的には、例え
ば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオ
ピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、
３ー置換クマリン系、３．４ー置換クマリン系、シアニ
ン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、
アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、
ペリレン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系
等の色素が挙げられる。これらのものは１種もしくは２
種以上組み合わせて使用することができる。ボレート系
光増感色素としては、例えば、特開平５−２４１３３８
号公報、特開平７−５６８５号公報（＝米国特許第５，
４９８，６４１号）、特開平７−２２５４７４号公報
（＝米国特許第５，４９８，６４１号）等に記載のもの
が挙げられる。これら光増感剤の配合割合は、被膜層
（Ｃ）（固形分）に対して約０．１〜２０重量％、好ま
しくは約０．２〜１０重量％の範囲内とすることができ
る。

【００４９】また、感熱線性樹脂組成物は、赤外線等の
熱線により架橋もしくは分解する樹脂を含んでなる組成
物であり、該樹脂組成物としては、従来から既知のもの
を使用することができ、例えば、水酸基含有樹脂／アミ
ノ樹脂の組合わせ、水酸基含有樹脂／ブロックイソシア
ネートの組合わせ、メラミン樹脂、加水分解性基（例え
ばアルコキシシリル基、ヒドロキシシリル基等）含有珪
素樹脂もしくはアクリル系樹脂、エポキシ樹脂／フェノ
ール樹脂の組合わせ、エポキシ樹脂／（無水）カルボン
酸の組合わせ、エポキシ樹脂／ポリアミンの組合わせ、
不飽和樹脂／ラジカル重合触媒（例えばパーオキサイド
等）の組合わせ、カルボキシル基及び／又はヒドロキシ
フェニル基及びエーテル結合含有オレフィン性不飽和化
合物等が挙げられる。また、これらのものに熱酸発生剤
（例えば、上記光酸発生剤と同様のもの）を配合してポ
ジ型として使用することができる。

【００５０】感エネルギー線被膜層（Ｃ）を形成する該
樹脂組成物は、例えば、有機溶剤、水又はそれらの混合
物中に溶解もしくは分散させてシート層（Ｂ）の表面に
塗布することができる。

【００５１】上記した有機溶剤としては、例えば、ケト
ン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、芳香族
炭化水素類、アルコール類、ハロゲン化炭化水素類など
が挙げられ、また、該組成物の塗布は、例えば、ローラ
ー、ロールコーター、スピンコーター、カーテンロール
コーター、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印
刷、スピン塗装等の手段により行なうことができる。次
いで、必要に応じてセッテングした後、例えば約５０〜
約１３０℃の温度で乾燥することにより感エネルギー線
被膜層（Ｃ）を得ることができる。

【００５２】感エネルギー線被膜層（Ｃ）の厚さは、通
常、約１μｍ〜約５００μｍ、特に約２μｍ〜約１００
μｍの範囲内にあることが好ましい。

【００５３】かくして形成される積層体の感エネルギー
線被膜層（Ｃ）の表面には、必要に応じてカバーコート
層を設けることができる。このカバーコート層は空気中
の酸素を遮断して露光によって発生するラジカルが酸素
によって失活するのを防止し、露光による感光材料の硬
化を円滑に進めるために有効である。そのようなカバー
コート層は、例えば、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ
塩化ビニル樹脂等の樹脂フィルム（膜厚約１〜約７０μ
ｍ）を積層体表面に被覆することにより、また、ポリビ
ニルアルコール、ポリ酢酸ビニルの部分ケン化物、ポリ
ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ルの部分ケン化物−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルピ
ロリドン、プルラン等の水溶性多糖類ポリマー類、塩基
性基、酸性基もしくは塩基を含有する、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂等の
水性樹脂類を水に溶解もしくば分散した水性液を積層体
表面に塗装し（乾燥膜厚約０．５〜約５μｍ）、乾燥す
ることにより形成することができる。

【００５４】本発明のパターン形成用積層体は、例えば
下記１〜４のいずれかの方法により製造することができ
る。

【００５５】１．基材表面にネガ型もしくはポジ型紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成し、次いで紫外線を透
過するシート層（Ｂ）を形成し、更に紫外線を遮蔽する
感エネルギー線被膜層（Ｃ）を積層することからなる方
法：被膜層（Ａ）は、上記した如き被膜層（Ａ）を形成
するための樹脂組成物を基材表面に塗装するか、又はラ
ミネートするか、あるいは該樹脂組成物からなる被膜を
感光性もしくは感熱性の粘着剤（接着剤）層を介して基
材表面に貼りつけることにより形成することができ、ま
た、シート層（Ｂ）は、被膜層（Ａ）の表面に、前記し
た如きシートを熱ラミネートするか又は該シートを感圧
性もしくは感熱性の粘着剤（接着剤）層を介して被膜層
（Ａ）に貼り付けることができる。さらに、感エネルギ
ー線被膜層（Ｃ）は、シート層（Ｂ）の表面に感エネル
ギー線被膜層（Ｃ）を形成する樹脂組成物を塗装する
か、又はラミネートするか、あるいは該樹脂組成物から
なるフィルム感光性もしくは感熱性の粘着剤（接着剤）
層を介してシート層（Ｂ）に貼り付けることにより積層
することができる。

【００５６】２．基材表面にネガ型もしくはポジ型紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成し、次いで該被膜層
（Ａ）の表面に、予め形成された、紫外線を透過するシ
ート層（Ｂ）と紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層
（Ｃ）との２層積層物の該シート層（Ｂ）側の面と上記
被膜層（Ａ）とが接するようにして積層することからな
る方法：被膜層（Ａ）は上記方法１と同様にして基材表
面に形成することができる。被膜層（Ａ）に設けられる
２層積層物は、シート層（Ｂ）の片面に、感エネルギー
線被膜層（Ｃ）を形成する樹脂組成物を塗装するか、又
はラミネートするか、あるいは該樹脂組成物からなる被
膜を感光性もしくは感熱性の粘着剤（接着剤）層を介し
て貼り付けることにより得られる。更に、該積層物のシ
ート層（Ｂ）側の面の被膜層（Ａ）への積層は、例えば
熱ラミネート法又は感圧性又は感熱性の粘着剤（接着
剤）層を用いる方法により行なうことができる。

【００５７】３．基材表面に、予め形成された、ネガ型
もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線
を透過するシート層（Ｂ）及び紫外線を遮蔽する感エネ
ルギー線被膜層（Ｃ）の３層積層物の該被膜層（Ａ）側
の面と基材表面とが接するようにして積層する方法：該
ネガ型もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、
紫外線を透過するシート層（Ｂ）及び紫外線を遮蔽する
感エネルギー線被膜層（Ｃ）の３層積層物は、例えば、
シート層（Ｂ）の片面に被膜層（Ａ）を形成する樹脂組
成物を塗装し必要に応じて乾燥した後、次いでシート層
（Ｂ）のもう一方の片面に被膜層（Ｃ）を形成する樹脂
組成物を塗装することにより製造することができる（被
膜層（Ａ）及び被膜層（Ｃ）の塗装順序は逆であっても
よい）。更に、該３層積層物の被膜層（Ａ）側の基材表
面への積層は、例えば、熱ラミネート法により行なうこ
とができる。

【００５８】４．基材表面に、予め形成された、ネガ型
もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）と紫外線
を透過するシート層（Ｂ）との２層積層物の該被膜層
（Ａ）側の面と基材表面とが接するようにして積層し、
次いで得られる３層積層物のシート層（Ｂ）側の表面に
紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を前述の
如くして形成することからなる方法：ネガ型もしくはポ
ジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）と紫外線を透過する
シート層（Ｂ）との２層積層物は、例えば、シート層
（Ｂ）表面に被膜層（Ａ）を形成する樹脂組成物を塗装
することにより得ることができる。該２層積層物の被膜
層（Ａ）側の基材表面への積層は、例えば、熱ラミネー
ト法により行なうことができる。更に、被膜層（Ｃ）の
形成は該被膜層を形成する樹脂組成物を塗装するか、又
はラミネートするか、あるいは該樹脂組成物からなる被
膜を感熱性もしくは感熱性の粘着剤（接着剤）層を介し
て貼り付けることにより行なうことができる。

【００５９】以上に述べた如くして製造される本発明の
積層体を用いてのパターン形成は、例えば、下記の工程（i）パターン形成用積層体の感エネルギー線被膜層
（Ｃ）に、活性エネルギー線をパターン通りにマスクを
介して又は直接に照射し、（ii）感エネルギー線被膜層
（Ｃ）を現像処理することにより照射又は非照射部分の
被膜層（Ｃ）を除去してレジストパターン被膜を形成
し、（iii）次いで、紫外線を全面照射した後、（iv）
積層体の紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）から、紫外線を
透過するシート層（Ｂ）及び感エネルギー線被膜層
（Ｃ）を取りのぞいて、紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）
を露出させ、（v）次いで、被膜層（Ａ）を現像液によ
り現像することからなる方法により行なうことができ
る。

【００６０】活性エネルギー線照射に使用される光源と
しては、例えば、超高圧、高圧、中圧もしくは低圧の水
銀灯、ケミカルランプ灯、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、タングステン灯等や、アルゴン
レーザー（４８８ｎｍ）、ＹＡＧーＳＨＧレーザー（５
３２ｎｍ）、ＵＶレーザー（３５１〜３６４ｎｍ）など
のレーザー（カッコ内は発振線の波長）等が挙げられ
る。また、熱線源としては、例えば、半導体レーザー
（８３０ｎｍ）、ＹＡＧレーザー（１．０６μｍ）、赤
外線等が挙げられる。

【００６１】紫外線照射のための光源としては、従来か
ら使用されているもの、例えば、超高圧、高圧、中圧も
しくは低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タングス
テン灯、太陽光等の各光源を使用することができる。

【００６２】被膜（Ａ）及び被膜（Ｃ）の現像処理は、
被膜がアニオン性の場合にはアルカリ性現像液を用いて
行なわれ、また、カチオン性の場合には酸性現像液を用
いて行なわれる。また、被膜の性質に応じては、有機溶
剤又は水を用いて現像することもできる。

【００６３】現像処理は、例えば、現像液を約１０〜約
８０℃、好ましくは約１５〜約５０℃の液温度で、約１
０秒〜約６０分間、好ましくは約３０秒〜約３０分間吹
き付けや浸漬することにより行うことができる。

【００６４】アルカリ性現像液としては、例えば、モノ
メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モ
ノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ
イソプロピルアミン、モノブチルアミン、ジブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチ
ルアミノエタノール、アンモニア、苛性ソーダー、苛性
カリ、メタ珪酸ソーダー、メタ珪酸カリ、炭酸ソーダ
ー、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の水性液
が挙げられる。

【００６５】酸性現像液としては、例えば、ギ酸、クロ
トン酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸等の水性液が挙げられる。

【００６６】有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレンな
どの炭化水素系、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどのアルコール系、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビ
ニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシド、テト
ラヒドロフラン、セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メチルカルビトール、ジエチレングルコ
ールモノエチルエーテル等のエーテル系、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系、ピ
リジン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等のその他の溶剤等が挙げられる。

【００６７】本発明のパターン形成用積層体は、例え
ば、ブラックマトリックスパターン、カラーフィルター
用パターン、電子部品被覆用パターン（ソルダー用被
膜）、セラミックや蛍光体のパターン、表示パネルの隔
壁パターン等の如き基材表面に形成するパターンや、配
線用プラスチック基板、ビルドアップ用プラスチック基
板等の如き絶縁性基材やこれらに設けられる導電性パタ
ーン等の形成のために適用することができる。

【００６８】実施例により本発明をさらに具体的に説明
する。なお、部及び％は特にことわらない限り重量基準
である。

【００６９】

【実施例】感エネルギー線組成物ａの製造例エネルギー線硬化性樹脂（高分子バインダー）として、
アクリル樹脂（樹脂酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、メチル
メタクリレート／ブチルアクリレート／アクリル酸＝４
０／４０／２０重量比）６０部にグリシジルメタクリレ
ート２４部を反応させてなる紫外線硬化性樹脂（樹脂固
形分５５％、プロピレングリコールモノメチルエーテル
有機溶媒、樹脂酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量
約２万）１００部（固形分）に、光ラジカル重合開始剤
（ＣＧＩー７８４、商品名、チバガイギー社製、チタノ
セン化合物）１部、紫外線吸収剤（チヌビン３２６、商
品名、チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、ベンゾ
トリアゾール系）１０部を配合して組成物ａ（固形分１
５％）を得た。

【００７０】紫外線感光性組成物ｂの製造例紫外線硬化性樹脂（高分子バインダー）として、アクリ
ル樹脂（樹脂酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、メチルメタク
リレート／ブチルアクリレート／アクリル酸＝４０／４
０／２０重量比）６０部にグリシジルメタクリレート２
４部を反応させてなる光硬化性樹脂（樹脂固形分５５
％、プロピレングリコールモノメチルエーテル有機溶
媒、樹脂酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量約２
万）１００部（固形分）に、光ラジカル重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、商品名、チバガイギー社製、アセト
フェノン化合物）１０部及び光ラジカル重合開始剤（カ
ヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、商品名、日本化薬社製、チオキ
サントン系化合物）１部を配合し、この配合物とフタロ
シアニングリーン１部、タルク５０部及びエポキシ樹脂
（エピコート８２８、商品名、油化シェル社製、ビスフ
ェノールＡ型液状エポキシ樹脂）２０部をジエチレング
リコールジメチルエーテル溶媒に溶解して組成物ｂ（固
形分３０％）を得た。

【００７１】実施例１（１）銅箔（２００×２００×１．１ｍｍ）上に紫外線
感光性組成物ｂをバーコーターにて塗布し、８０℃で１
０分間予備乾燥させて膜厚約３０μｍの紫外線感光性樹
脂被膜層（Ｉ）を形成した。次いで形成した被膜表面に
ポリエチレンテレフタレートシート（３８μｍ）を貼
付け、シート層（ＩＩ）を得た。次いで感エネルギー線
組成物ａを乾燥膜厚が６μｍになるようにローラー塗装
し、６５℃で１０分間乾燥させて感エネルギー線被膜層
（ＩＩＩ）を形成した。（２）次いで、被膜層（ＩＩＩ）にアルゴンイオンレー
ザー（５ｍｊ／ｃｍ²）をパターン状に直接照射し露光
した。次いでアルカリ現像液ａ（炭酸ナトリウム水溶液
０．２５％）に２５℃で６０秒間浸漬して露光部の被膜
層（ＩＩＩ）を除去した。（３）次いで、被膜の表面に超高圧水銀灯（３００ｍｊ
／ｃｍ²）を全面照射した。（４）次いで、感エネルギー線被膜層（ＩＩＩ）及びシ
ート層（ＩＩ）を紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）から剥
離して、銅箔と紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）との積層
物を得た。（５）次いで該積層物を０．７５％の炭酸ナトリウム水
溶液に２５℃で６０秒間浸漬して未硬化（未露光部）の
紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）を除去した。得られたパ
ターンはライン（パターン幅）／スペース＝１００μｍ
／２０μｍのストライプ状にパターニングされ良好であ
った。

【００７２】実施例２感エネルギー線被膜層（ＩＩＩ）及びシート層（ＩＩ）
を予め積層したものを紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）に
ラミネートした以外は、実施例１と同様の処理を行なっ
た。得られたパターンはライン（パターン幅）／スペー
ス＝１００μｍ／２０μｍのストライプ状にパターニン
グされ良好であった。

【００７３】実施例３紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）及びシート層（ＩＩ）を
予め積層したものを基材にラミネートした後、感エネル
ギー線被膜層（ＩＩＩ）を形成した以外は、実施例１と
同様の処理を行なった。得られたパターンはライン（パ
ターン幅）／スペース＝１００μｍ／２０μｍのストラ
イプ状にパターニングされ良好であった。

【００７４】実施例４紫外線感光性樹脂被膜層（Ｉ）、シート層（ＩＩ）及び
感エネルギー線被膜層（ＩＩＩ）を予め積層したものを
基材にラミネートした以外は、実施例１と同様の処理を
行なった。得られたパターンはライン（パターン幅）／
スペース＝１００μｍ／２０μｍのストライプ状にパタ
ーニングされ良好であった。

【００７５】比較例１実施例１において、被膜層（ＩＩＩ）に紫外線吸収剤を
含ませない以外は実施例１とそれぞれ同様にして積層物
を形成し現像処理した。その結果、得られた全部の被膜
は、ライン残存性は不良、スペース現像性は不可で悪か
った。

【００７６】比較例２実施例２において、被膜層（ＩＩＩ）に紫外線吸収剤を
含ませない以外は実施例２とそれぞれ同様にして積層物
を形成し現像処理した。その結果、得られた全部の被膜
は、ライン残存性は不良、スペース現像性は不可で悪か
った。

【００７７】比較例３実施例３において、被膜層（ＩＩＩ）に紫外線吸収剤を
含ませない以外は実施例３とそれぞれ同様にして積層物
を形成し現像処理した。その結果、得られた全部の被膜
は、ライン残存性は不良、スペース現像性は不可で悪か
った。

【００７８】比較例４実施例４において、被膜層（ＩＩＩ）に紫外線吸収剤を
含ませない以外は実施例４とそれぞれ同様にして積層物
を形成し現像処理した。その結果、得られた全部の被膜
は、ライン残存性は不良、スペース現像性は不可で悪か
った。

フロントページの続き (72)発明者小松隆伸神奈川県平塚市東八幡４丁目17番１号関西ペイント株式会社内 (72)発明者今井玄児神奈川県平塚市東八幡４丁目17番１号関西ペイント株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AA20 AB15 AB20 AC01 AC08 AD01 AD03 BC13 BC73 BC83 BC86 BE00 BE02 CA18 CA39 CB41 CC02 CC08 CC11 DA01 DA13 DA14 DA33 DA40 FA06 FA17 FA30 FA39 2H096 AA26 AA30 BA06 BA10 CA20 EA04 GA08 HA03 HA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材表面に、ネガ型もしくはポジ型紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層
（Ｂ）、及び紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層
（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形
成用積層体。
【請求項２】紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、紫外
線硬化性樹脂及び光ラジカル重合開始剤を含有する被膜
形成樹脂組成物から形成されるネガ型の紫外線感光性樹
脂被膜層（Ａ−１）である請求項１に記載の積層体。
【請求項３】紫外線硬化性樹脂が紫外線照射により樹
脂を架橋硬化させうる感光性不飽和基と樹脂をアルカリ
性もしくは酸性現像液中に溶解もしくは分散させるのに
十分なイオン性基を有する樹脂である請求項２に記載の
積層体。
【請求項４】光ラジカル重合開始剤がジ−ｔ−ブチル
ジパーオキシイソフタレート、３，３′，４，４′−テ
トラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、鉄−アレン錯体及びチタノセン化合物よりなる群か
ら選ばれるものである請求項２に記載の積層体。
【請求項５】紫外線硬化性樹脂１００重量部に対して
光ラジカル重合開始剤を０．１〜２５重量部の範囲内で
含有する請求項２に記載の積層体。
【請求項６】紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、ノボ
ラックフェノール型エポキシ樹脂に紫外線硬化性不飽和
基とイオン形成基を導入した水性樹脂を含んでなるもの
である請求項１に記載の積層体。
【請求項７】紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、光酸
発生剤成分と樹脂成分とを含んでなる樹脂組成物から形
成されるポジ型の紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ−２）で
ある請求項１に記載の積層体。
【請求項８】該樹脂成分がイオン形成基を有する基体
樹脂にキノンジアジドスルホン酸類をスルホン酸エステ
ル結合を介して結合させた樹脂である請求項７に記載の
積層体。
【請求項９】樹脂成分１００重量部に対して光酸発生
剤成分を０．１〜４０重量部の範囲内で含有する請求項
７に記載の積層体。
【請求項１０】紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）が導電
性又は絶縁性である請求項１に記載の積層体。
【請求項１１】紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）が約１
μｍ〜約５ｍｍの厚さを有する請求項１に記載の積層
体。
【請求項１２】紫外線を透過するシート層（Ｂ）が照
射される紫外線を少なくとも約９０％透過する樹脂シー
トからなる請求項１に記載の積層体。
【請求項１３】紫外線を透過するシート層（Ｂ）がポ
リエチレンテレフタレートシートからなる請求項１に記
載の積層体。
【請求項１４】紫外線を透過するシート層（Ｂ）が約
１０μｍ〜約５ｍｍの厚さを有する請求項１に記載の積
層体。
【請求項１５】感エネルギー線被膜層（Ｃ）が紫外線
吸収剤、着色剤、充填剤、金属粉顔料又は金属光沢顔料
を含んでなる請求項１に記載の積層体。
【請求項１６】感エネルギー線被膜層（Ｃ）が、活性
エネルギー線照射により水、有機溶剤、アルカリ又は酸
のような処理液に可溶性もしくは分散可能となるネガ型
の樹脂組成物からなる請求項１に記載の積層体。
【請求項１７】感エネルギー線被膜層（Ｃ）が、活性
エネルギー線照射により水、有機溶剤、アルカリ又は酸
のような処理液に不溶性もしくは非分散性となるポジ型
の樹脂組成物からなる請求項１に記載の積層体。
【請求項１８】感エネルギー線被膜層（Ｃ）が約１μ
ｍ〜約５００μｍの厚さを有する請求項１に記載の積層
体。
【請求項１９】感エネルギー線被膜層（Ｃ）上にさら
にカバーコート層を有する請求項１に記載の積層体。
【請求項２０】基材表面にネガ型もしくはポジ型紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成し、次いで紫外線を透
過するシート層（Ｂ）を形成し、更に紫外線を遮蔽する
感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層することを特徴
とする請求項１に記載のパターン形成用積層体の製造方
法。
【請求項２１】基材表面にネガ型もしくはポジ型紫外
線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成し、次いで該被膜層
（Ａ）の表面に、予め形成された、紫外線を透過するシ
ート層（Ｂ）と紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層
（Ｃ）との２層積層物の該シート層（Ｂ）側の面と上記
被膜層（Ａ）とが接するようにして積層することを特徴
とする請求項１に記載のパターン形成用積層体の製造方
法。
【請求項２２】基材表面に、予め形成された、ネガ型
もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線
を透過するシート層（Ｂ）及び紫外線を遮蔽する感エネ
ルギー線被膜層（Ｃ）の３層積層物の該被膜層（Ａ）側
の面と基体表面と接するようにして積層することを特徴
とする請求項１に記載のパターン形成用積層体の製造方
法。
【請求項２３】基材表面に、予め形成された、ネガ型
もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）と紫外線
を透過するシート層（Ｂ）との２層積層物の該被膜層
（Ａ）側の面と基材表面とが接するようにして積層し、
次いで得られる３層積層物のシート層（Ｂ）側の表面に
紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を形成す
ることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成用積
層体の製造方法。
【請求項２４】下記工程（i）請求項１に記載のパターン形成用積層体の感エネ
ルギー線被膜層（Ｃ）表面に、活性エネルギー線をパタ
ーン通りに（patern-wise）マスクを介して又は直接に
照射し、（ii）感エネルギー線被膜層（Ｃ）を現像処理すること
により照射又は非照射部分の被膜層（Ｃ）を除去してレ
ジストパターン被膜を形成し、（iii）次いで、紫外線を全面照射した後、（iv）積層体の紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）から、紫
外線を透過するシート層（Ｂ）及び感エネルギー線被膜
層（Ｃ）を取り除いて、紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）
を露出させ、（v）次いで、被膜層（Ａ）を現像液により現像するこ
とからなるパターン形成方法。