JP2001198540A - クリーニングシ―ト - Google Patents
クリーニングシ―トInfo
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- JP2001198540A JP2001198540A JP2000177964A JP2000177964A JP2001198540A JP 2001198540 A JP2001198540 A JP 2001198540A JP 2000177964 A JP2000177964 A JP 2000177964A JP 2000177964 A JP2000177964 A JP 2000177964A JP 2001198540 A JP2001198540 A JP 2001198540A
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- JP
- Japan
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- cleaning
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- cleaning sheet
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- adhesive layer
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- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、例えば、半導体、フラットパネル
ディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置
など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシートを
提供する。 【解決手段】 支持体に、実質的に粘着性を有さずかつ
引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が
０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層が設けられて
なる、又はさらに他面に通常の粘着剤層が設けられてな
るクリーニングシートである。
ディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置
など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシートを
提供する。 【解決手段】 支持体に、実質的に粘着性を有さずかつ
引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が
０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層が設けられて
なる、又はさらに他面に通常の粘着剤層が設けられてな
るクリーニングシートである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種装置をクリー
ニングするシートに関し、例えば、半導体、フラットパ
ネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査
装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシー
トに関する。
ニングするシートに関し、例えば、半導体、フラットパ
ネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査
装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシー
トに関する。
【０００２】
【従来の技術】各種基板処理装置は、各搬送系と基板と
を物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬
送系に異物が付着していると、後続の基板を次々に汚染
することになり、定期的に装置を停止させ、洗浄処理を
する必要があった。このため、稼働率低下や多大な労力
が必要になるという問題があった。これらの問題を解決
するため、粘着性の物質を固着した基板を搬送すること
により基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除
去する方法が提案されている（例えば特開平１０−１５
４６８６号）。
を物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬
送系に異物が付着していると、後続の基板を次々に汚染
することになり、定期的に装置を停止させ、洗浄処理を
する必要があった。このため、稼働率低下や多大な労力
が必要になるという問題があった。これらの問題を解決
するため、粘着性の物質を固着した基板を搬送すること
により基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除
去する方法が提案されている（例えば特開平１０−１５
４６８６号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】粘着性の物質を固着し
た基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した
異物をクリーニング除去する方法は、前述の課題を克服
する有効な方法である。しかしこの方法では粘着性物質
と装置接触部とが強く接着しすぎて剥れない恐れがあ
り、基板を確実に搬送できなくなる恐れがあった。本発
明は、このような事情に照らし、基板処理装置内に基板
を確実に搬送できると共に、装置内に付着している異物
を簡便かつ確実に除去できるクリーニングシートを提供
することを目的としている。
た基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した
異物をクリーニング除去する方法は、前述の課題を克服
する有効な方法である。しかしこの方法では粘着性物質
と装置接触部とが強く接着しすぎて剥れない恐れがあ
り、基板を確実に搬送できなくなる恐れがあった。本発
明は、このような事情に照らし、基板処理装置内に基板
を確実に搬送できると共に、装置内に付着している異物
を簡便かつ確実に除去できるクリーニングシートを提供
することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するために、鋭意検討した結果、クリーニング
層を固着したシートあるいはこのシートを固着した基板
を搬送することにより、基板処理装置内の付着した異物
をクリーニング除去するにあたり、そのクリーニング層
として実質的に粘着性を有さずかつその引張弾性率を特
定値以上にすることにより、前記問題を生じることな
く、さらに異物を簡便かつ確実に除去できることを見出
し、本発明を完成するに至つた。
的を達成するために、鋭意検討した結果、クリーニング
層を固着したシートあるいはこのシートを固着した基板
を搬送することにより、基板処理装置内の付着した異物
をクリーニング除去するにあたり、そのクリーニング層
として実質的に粘着性を有さずかつその引張弾性率を特
定値以上にすることにより、前記問題を生じることな
く、さらに異物を簡便かつ確実に除去できることを見出
し、本発明を完成するに至つた。
【０００５】即ち、本発明は、支持体に、実質的に粘着
性を有さずかつ引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７
に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層
が設けられてなるクリーニングシート（請求項１）、支
持体の片面に、実質的に粘着性を有さず引張弾性率（試
験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ
2以上のクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着
剤層が設けられてなるクリーニングシート（請求項
２）、クリーニング層が、感圧接着性ポリマーに分子内
に不飽和二重結合を１個以上有する化合物と重合開始剤
を少なくとも含有させたものを、活性エネルギーにより
重合硬化反応させて粘着性が実質的に消失されてなるク
リーニングシート（請求項３）、さらにクリーニング層
の表面抵抗率が１×１０13Ω／□以上であるクリーニン
グシート（請求項４）、通常の粘着剤層のシリコンウエ
ハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が
０．２１〜０．９８Ｎ／１０ｍｍであるクリーニングシ
ート（請求項５）などに係るものである。
性を有さずかつ引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７
に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層
が設けられてなるクリーニングシート（請求項１）、支
持体の片面に、実質的に粘着性を有さず引張弾性率（試
験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ
2以上のクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着
剤層が設けられてなるクリーニングシート（請求項
２）、クリーニング層が、感圧接着性ポリマーに分子内
に不飽和二重結合を１個以上有する化合物と重合開始剤
を少なくとも含有させたものを、活性エネルギーにより
重合硬化反応させて粘着性が実質的に消失されてなるク
リーニングシート（請求項３）、さらにクリーニング層
の表面抵抗率が１×１０13Ω／□以上であるクリーニン
グシート（請求項４）、通常の粘着剤層のシリコンウエ
ハ（ミラー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が
０．２１〜０．９８Ｎ／１０ｍｍであるクリーニングシ
ート（請求項５）などに係るものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明のクリーニングシートは、
支持体の片面にクリーニング層が設けられ、該クリーニ
ング層は、その引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７
に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ2以上、好ましくは９．
８〜３０００Ｎ／ｍｍ2であることが必要である。 か
かる引張弾性率が０．９８Ｎ／ｍｍ2未満の場合、クリ
ーニング層が粘着性を発現するようになり、搬送時に装
置内の被クリーニング部に接着して搬送トラブルとなる
恐れがある。
支持体の片面にクリーニング層が設けられ、該クリーニ
ング層は、その引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７
に準ずる）が０．９８Ｎ／ｍｍ2以上、好ましくは９．
８〜３０００Ｎ／ｍｍ2であることが必要である。 か
かる引張弾性率が０．９８Ｎ／ｍｍ2未満の場合、クリ
ーニング層が粘着性を発現するようになり、搬送時に装
置内の被クリーニング部に接着して搬送トラブルとなる
恐れがある。
【０００７】かかるクリーニング層は、その引張弾性率
が前述の特定値以上で実質的に粘着性を有しない限り、
その材質等は特に限定されないが、紫外線や熱などの活
性エネルギー源により架橋反応や硬化が促進されて、そ
の引張弾性率を大きくできるものが好ましい。さらに、
該クリーニング層は、その表面抵抗率が１×１０13Ω／
□以上、好ましくは１×１０14Ω／□以上であることが
望ましい。クリーニング層の表面抵抗率をかかる特定値
以上に設計して、クリーニング層をできるだけ絶縁体に
することにより、静電気による異物の捕獲、吸着できる
という効果も得られる。 よって、表面抵抗率が１×１
０13Ω／□未満の場合は、かかる静電気による異物の捕
獲、吸着効果が著しく低下する。
が前述の特定値以上で実質的に粘着性を有しない限り、
その材質等は特に限定されないが、紫外線や熱などの活
性エネルギー源により架橋反応や硬化が促進されて、そ
の引張弾性率を大きくできるものが好ましい。さらに、
該クリーニング層は、その表面抵抗率が１×１０13Ω／
□以上、好ましくは１×１０14Ω／□以上であることが
望ましい。クリーニング層の表面抵抗率をかかる特定値
以上に設計して、クリーニング層をできるだけ絶縁体に
することにより、静電気による異物の捕獲、吸着できる
という効果も得られる。 よって、表面抵抗率が１×１
０13Ω／□未満の場合は、かかる静電気による異物の捕
獲、吸着効果が著しく低下する。
【０００８】かかるクリーニング層としては、例えば感
圧接着性ポリマーに分子内に不飽和二重結合を１個以上
有する化合物と重合開始剤を少なくとも含有させたもの
を、活性エネルギーにより重合硬化反応させて粘着性が
実質的に消失されてなるものが好ましい。かかる感圧接
着性ポリマーとしては、例えばアクリル酸、アクリル酸
エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステルから選
ばれる（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル
酸エステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが挙
げられる。このアクリル系ポリマーの合成にあたり、共
重合モノマーとして分子内に不飽和二重結合を２個以上
有する化合物を用いるか、あるいは合成後のアクリル系
ポリマーに分子内に不飽和二重結合を有する化合物を官
能基間の反応で化学結合させるなどして、アクリル系ポ
リマーの分子内に不飽和二重結合を導入しておくことに
より、このポリマー自体も活性エネルギーにより重合硬
化反応に関与させるようにすることもできる。
圧接着性ポリマーに分子内に不飽和二重結合を１個以上
有する化合物と重合開始剤を少なくとも含有させたもの
を、活性エネルギーにより重合硬化反応させて粘着性が
実質的に消失されてなるものが好ましい。かかる感圧接
着性ポリマーとしては、例えばアクリル酸、アクリル酸
エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステルから選
ばれる（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル
酸エステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが挙
げられる。このアクリル系ポリマーの合成にあたり、共
重合モノマーとして分子内に不飽和二重結合を２個以上
有する化合物を用いるか、あるいは合成後のアクリル系
ポリマーに分子内に不飽和二重結合を有する化合物を官
能基間の反応で化学結合させるなどして、アクリル系ポ
リマーの分子内に不飽和二重結合を導入しておくことに
より、このポリマー自体も活性エネルギーにより重合硬
化反応に関与させるようにすることもできる。
【０００９】ここで、分子内に不飽和二重結合を１個以
上有する化合物（以下、重合性不飽和化合物という）と
しては、不揮発性でかつ重量平均分子量が１００００以
下の低分子量体であるのがよく、特に硬化時の接着剤層
の三次元網状化が効率よくなされるように、５０００以
下の分子量を有しているのが好ましい。
上有する化合物（以下、重合性不飽和化合物という）と
しては、不揮発性でかつ重量平均分子量が１００００以
下の低分子量体であるのがよく、特に硬化時の接着剤層
の三次元網状化が効率よくなされるように、５０００以
下の分子量を有しているのが好ましい。
【００１０】また、クリーニング層に添加される重合開
始剤は、特に限定されず公知のものを使用でき、例えば
活性エネルギー源に熱を用いる場合は、ベンゾイルパー
オキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどの熱重合
開始剤、また光を用いる場合は、ベンゾイル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、シベンジル、イソプロピルベンゾイ
ンエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンクロロ
チオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチ
オキサントン、アセトフェノンジエチルケタール、ベン
ジルジメチルケタール、α−ヒドルキシシクロヒキシル
フェニルケトン、２−ヒドロキシジメチルフェニルプロ
パン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ンなどの光重合開始剤が挙げられる。またクリーニング
層の厚さは特に限定されないが、通常５〜１００μｍ程
度である。
始剤は、特に限定されず公知のものを使用でき、例えば
活性エネルギー源に熱を用いる場合は、ベンゾイルパー
オキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどの熱重合
開始剤、また光を用いる場合は、ベンゾイル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、シベンジル、イソプロピルベンゾイ
ンエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンクロロ
チオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチ
オキサントン、アセトフェノンジエチルケタール、ベン
ジルジメチルケタール、α−ヒドルキシシクロヒキシル
フェニルケトン、２−ヒドロキシジメチルフェニルプロ
パン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ンなどの光重合開始剤が挙げられる。またクリーニング
層の厚さは特に限定されないが、通常５〜１００μｍ程
度である。
【００１１】本発明は、支持体の片面に、上記の特定の
クリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設
けられたクリーニングシートも提供する。 この他面側
の粘着剤層は、粘着機能を満たす限りその材質などは特
に限定されず、通常の粘着剤（例えばアクリル系、ゴム
系など）を用いることができる。かかる構成とすること
により、クリーニングシートを通常の粘着剤層により各
種基板や他のテープ・シートなどの搬送部材に貼り付け
て、クリーニング機能付き搬送部材（請求項６）として
装置内に搬送して、被洗浄部位に接触させてクリーニン
グすること（請求項７）もできる。
クリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設
けられたクリーニングシートも提供する。 この他面側
の粘着剤層は、粘着機能を満たす限りその材質などは特
に限定されず、通常の粘着剤（例えばアクリル系、ゴム
系など）を用いることができる。かかる構成とすること
により、クリーニングシートを通常の粘着剤層により各
種基板や他のテープ・シートなどの搬送部材に貼り付け
て、クリーニング機能付き搬送部材（請求項６）として
装置内に搬送して、被洗浄部位に接触させてクリーニン
グすること（請求項７）もできる。
【００１２】本発明において上記の基板などの搬送部材
を再利用するために、クリーニング後に基板をかかる粘
着剤層から剥がす場合は、かかる通常の粘着剤層の粘着
力は、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引
き剥がし粘着力が０．２１〜０．９８Ｎ／１０ｍｍ（請
求項５）、特に０．４０〜０．９８Ｎ／１０ｍｍ程度で
あれば、搬送中に剥離することなく、かつクリーンニン
グ後に容易に再剥離できるので好ましい。
を再利用するために、クリーニング後に基板をかかる粘
着剤層から剥がす場合は、かかる通常の粘着剤層の粘着
力は、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０°引
き剥がし粘着力が０．２１〜０．９８Ｎ／１０ｍｍ（請
求項５）、特に０．４０〜０．９８Ｎ／１０ｍｍ程度で
あれば、搬送中に剥離することなく、かつクリーンニン
グ後に容易に再剥離できるので好ましい。
【００１３】またクリーニング層の支持体としては特に
限定されないが、例えばポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン、ポリアミドなどのプラスチックフ
ィルムなどが挙げられる。 その厚みは通常１０〜１０
０μｍ程度である。
限定されないが、例えばポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン、ポリアミドなどのプラスチックフ
ィルムなどが挙げられる。 その厚みは通常１０〜１０
０μｍ程度である。
【００１４】クリーニングシートが貼り付けられる搬送
部材としては特に限定されないが、例えば半導体ウエ
ハ、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ
用基板、その他コンパクトディスク、ＭＲヘッドなどの
基板などが挙げられる。
部材としては特に限定されないが、例えば半導体ウエ
ハ、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ
用基板、その他コンパクトディスク、ＭＲヘッドなどの
基板などが挙げられる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 な
お、以下、部とあるのは重量部を意味するものとする。 実施例 アクリル酸−２−エチルヘキシル７５部、アクリル酸メ
チル２０部、及びアクリル酸５部からなるモノマ―混合
液から得たアクリル系ポリマー（重量平均分子量７０
万）１００部に対して、ポリエチレングリコ―ルジメタ
クリレ―ト５０部、ウレタンアクリレ―ト５０部、ベン
ジルジメチルケタール３部、及びジフエニルメタンジイ
ソシアネ―ト３部を均一に混合し、紫外線硬化型の粘着
剤溶液とした。この粘着剤に中心波長３６５ｎｍの紫外
線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2照射して硬化させた
後の引張弾性率は４９Ｎ／ｍｍ2であった。ここで引張
弾性率は、試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準じて測定し
た。一方、上記粘着剤からベンジルジメチルケタールを
除いた以外は、上記と同様にして得た粘着剤溶液を、幅
２５０ｍｍ、厚み３８μｍのポリエステル製剥離フィル
ムの剥離面に、乾燥後の厚みが１０μｍになるように塗
布して通常の粘着剤層を設けた。 次に厚み３８μｍの
ポリエステル製剥離フィルムの剥離面に、前記の紫外線
硬化型粘着剤溶液を乾燥後の厚みが４０μｍになるよう
に塗布してクリーニング層を設け、先に作製した通常の
粘着剤層面をその表面に貼り合せた。このシートに中心
波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ
2照射して、本発明のクリーニングシートを得た。 か
かるクリーニング層の表面は実質的に粘着性は有してい
なかった。また、温度２３℃、湿度６０％ＲＨの条件下
でクリーニング層上から表面抵抗率を表面抵抗測定計
（三菱化学社製、型式MCP−UP450）にて測定したとこ
ろ、９．９９×１０13Ω／□以上で測定不能であった。
また、他面側の通常の粘着剤層をシリコンウエハのミラ
ー面に幅１０ｍｍで貼り付け、ＪＩＳＺ０２３７に準じ
てシリコンウエハに対する１８０°引き剥がし粘着力を
測定した結果、０．２５Ｎ／１０ｍｍであった。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 な
お、以下、部とあるのは重量部を意味するものとする。 実施例 アクリル酸−２−エチルヘキシル７５部、アクリル酸メ
チル２０部、及びアクリル酸５部からなるモノマ―混合
液から得たアクリル系ポリマー（重量平均分子量７０
万）１００部に対して、ポリエチレングリコ―ルジメタ
クリレ―ト５０部、ウレタンアクリレ―ト５０部、ベン
ジルジメチルケタール３部、及びジフエニルメタンジイ
ソシアネ―ト３部を均一に混合し、紫外線硬化型の粘着
剤溶液とした。この粘着剤に中心波長３６５ｎｍの紫外
線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2照射して硬化させた
後の引張弾性率は４９Ｎ／ｍｍ2であった。ここで引張
弾性率は、試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準じて測定し
た。一方、上記粘着剤からベンジルジメチルケタールを
除いた以外は、上記と同様にして得た粘着剤溶液を、幅
２５０ｍｍ、厚み３８μｍのポリエステル製剥離フィル
ムの剥離面に、乾燥後の厚みが１０μｍになるように塗
布して通常の粘着剤層を設けた。 次に厚み３８μｍの
ポリエステル製剥離フィルムの剥離面に、前記の紫外線
硬化型粘着剤溶液を乾燥後の厚みが４０μｍになるよう
に塗布してクリーニング層を設け、先に作製した通常の
粘着剤層面をその表面に貼り合せた。このシートに中心
波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ
2照射して、本発明のクリーニングシートを得た。 か
かるクリーニング層の表面は実質的に粘着性は有してい
なかった。また、温度２３℃、湿度６０％ＲＨの条件下
でクリーニング層上から表面抵抗率を表面抵抗測定計
（三菱化学社製、型式MCP−UP450）にて測定したとこ
ろ、９．９９×１０13Ω／□以上で測定不能であった。
また、他面側の通常の粘着剤層をシリコンウエハのミラ
ー面に幅１０ｍｍで貼り付け、ＪＩＳＺ０２３７に準じ
てシリコンウエハに対する１８０°引き剥がし粘着力を
測定した結果、０．２５Ｎ／１０ｍｍであった。
【００１６】このクリーニングシートの通常の粘着剤層
側の剥離フィルムを剥がし、８ｉｎｃｈのシリコンウエ
ハの裏面（ミラー面）にハンドローラで貼り付け、クリ
ーニング機能付き搬送用クリーニングウエハを作製し
た。
側の剥離フィルムを剥がし、８ｉｎｃｈのシリコンウエ
ハの裏面（ミラー面）にハンドローラで貼り付け、クリ
ーニング機能付き搬送用クリーニングウエハを作製し
た。
【００１７】一方、基板処理装置のウエハステージを２
つ取り外し、レーザー式異物測定装置で、０．３μｍ以
上の異物を測定したところ、８ｉｎｃｈウエハサイズの
エリア内で１つは１８０００個、もう一つは１７０００
個であった。
つ取り外し、レーザー式異物測定装置で、０．３μｍ以
上の異物を測定したところ、８ｉｎｃｈウエハサイズの
エリア内で１つは１８０００個、もう一つは１７０００
個であった。
【００１８】次いで前記で得た搬送用クリーニングウエ
ハのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の
１８０００個の異物が付着していたウエハステージを持
つ基板処理装置内に搬送したところ、支障なく搬送でき
た。 その後にウエハステージを取り外し、レーザー式
異物測定装置で０．３μｍ以上の異物を測定したとこ
ろ、８ｉｎｃｈウエハサイズのエリア内で４０００個で
あり、クリーニング前に付着していた異物数の３／４以
上を除去することができた。
ハのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の
１８０００個の異物が付着していたウエハステージを持
つ基板処理装置内に搬送したところ、支障なく搬送でき
た。 その後にウエハステージを取り外し、レーザー式
異物測定装置で０．３μｍ以上の異物を測定したとこ
ろ、８ｉｎｃｈウエハサイズのエリア内で４０００個で
あり、クリーニング前に付着していた異物数の３／４以
上を除去することができた。
【００１９】比較例 実施例において、ベンジルジメチルケタールを０．０５
部にした以外は、実施例と同じ方法で作製したクリーニ
ングシートのクリーニング層は粘着性を有し、その引張
弾性率を測定したところ、０．５Ｎ／ｍｍ2であった。
このクリーニングシートから実施例と同じ方法で作製し
た搬送用クリーニングウエハを、１７０００個の異物が
付着しているウエハステージを持つ基板処理装置内を搬
送したところ、搬送アームに接着し、搬送できなかっ
た。
部にした以外は、実施例と同じ方法で作製したクリーニ
ングシートのクリーニング層は粘着性を有し、その引張
弾性率を測定したところ、０．５Ｎ／ｍｍ2であった。
このクリーニングシートから実施例と同じ方法で作製し
た搬送用クリーニングウエハを、１７０００個の異物が
付着しているウエハステージを持つ基板処理装置内を搬
送したところ、搬送アームに接着し、搬送できなかっ
た。
【００２０】
【発明の効果】以上のように本発明のクリーニングシー
トによれば、基板処理装置内を確実に搬送できると共
に、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去で
きる。
トによれば、基板処理装置内を確実に搬送できると共
に、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去で
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ａ４７Ｌ 25/00 Ａ４７Ｌ 25/00 Ｂ Ｆターム(参考） 3B116 AA02 AA03 AA46 AB01 BC01 BC07 4J004 AA05 AA10 AB01 AB07 CA02 CA04 CA06 CC03 EA06 FA04 FA05 FA10 5F031 CA02 CA04 CA11 FA01 FA02 MA37 PA24
Claims (7)
- 【請求項１】 支持体に、実質的に粘着性を有さずかつ
引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が
０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層が設けられて
なるクリーニングシート。 - 【請求項２】 支持体の片面に、実質的に粘着性を有さ
ず引張弾性率（試験法ＪＩＳ Ｋ７１２７に準ずる）が
０．９８Ｎ／ｍｍ2以上のクリーニング層が設けられ、
他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシ
ート。 - 【請求項３】 クリーニング層が、感圧接着性ポリマー
に分子内に不飽和二重結合を１個以上有する化合物と重
合開始剤を少なくとも含有させたものを、活性エネルギ
ーにより重合硬化反応させて粘着性が実質的に消失され
てなる請求項１又は２記載のクリーニングシート。 - 【請求項４】 クリーニング層の表面抵抗率が１×１０
13Ω／□以上である請求項１〜３いずれか記載のクリー
ニングシート。 - 【請求項５】 通常の粘着剤層のシリコンウエハ（ミラ
ー面）に対する１８０°引き剥がし粘着力が０．２１〜
０．９８Ｎ／１０ｍｍである請求項２〜４いずれか記載
のクリーニングシート。 - 【請求項６】 搬送部材に、請求項２〜５いずれか記載
のクリーニングシートが、通常の粘着剤層により設けら
れたクリーニング機能付き搬送部材。 - 【請求項７】 請求項６記載のクリーニング機能付き搬
送部材を、被洗浄部位に搬送接触させることを特徴とす
るクリーニング方法。
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