JP2001194374A - 自動分析装置および分析方法 - Google Patents
自動分析装置および分析方法Info
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- JP2001194374A JP2001194374A JP2000006110A JP2000006110A JP2001194374A JP 2001194374 A JP2001194374 A JP 2001194374A JP 2000006110 A JP2000006110 A JP 2000006110A JP 2000006110 A JP2000006110 A JP 2000006110A JP 2001194374 A JP2001194374 A JP 2001194374A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ランニングコスト低減の観点から試薬消費量の
低減が強く要望され、反応液量低減に対応した反応容器
の小形化が進んできている。このため、比色分析部の反
応容器を電解質の希釈槽に使用する測定方法では、電解
質測定部に吸引する流量を、十分に確保することが困難
になってきている。 【解決手段】希釈液を吸引・吐出する電解質ピペティン
グ機構が反応容器列の２ヶ所の反応容器に対して試薬の
分注が可能な位置として移動可能であるとし、その内の
１ヶ所で希釈液を吐出し、もう１ヶ所の位置まで反応容
器を回転移動後、前もって希釈液を吸引した電解質用ピ
ペッティング機構で検体と希釈液の混合液を吸引し、電
解質測定部に設けた希釈槽へともに吐出し、これを電解
質測定部に吸引して測定を行う。
低減が強く要望され、反応液量低減に対応した反応容器
の小形化が進んできている。このため、比色分析部の反
応容器を電解質の希釈槽に使用する測定方法では、電解
質測定部に吸引する流量を、十分に確保することが困難
になってきている。 【解決手段】希釈液を吸引・吐出する電解質ピペティン
グ機構が反応容器列の２ヶ所の反応容器に対して試薬の
分注が可能な位置として移動可能であるとし、その内の
１ヶ所で希釈液を吐出し、もう１ヶ所の位置まで反応容
器を回転移動後、前もって希釈液を吸引した電解質用ピ
ペッティング機構で検体と希釈液の混合液を吸引し、電
解質測定部に設けた希釈槽へともに吐出し、これを電解
質測定部に吸引して測定を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動分析装置およ
び分析方法、特に電解質測定装置およびその測定法に関
する。
び分析方法、特に電解質測定装置およびその測定法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】電解質測定装置は人体の血液，尿等の電
解質溶液中に含まれる特定の電解質濃度を測定する装置
であり、イオン選択性電極を利用して濃度測定が行われ
ている。測定の方法としては、電解質溶液としての血清
（以下試料）を直接、あるいは希釈液により希釈した溶
液をイオン選択電極に供給して電位レベルを測定し、次
に（又は前記測定に先立って）イオン選択電極に標準液
を供給して電位レベルを測定し、２つの電位レベルから
試料の濃度を算出する。
解質溶液中に含まれる特定の電解質濃度を測定する装置
であり、イオン選択性電極を利用して濃度測定が行われ
ている。測定の方法としては、電解質溶液としての血清
（以下試料）を直接、あるいは希釈液により希釈した溶
液をイオン選択電極に供給して電位レベルを測定し、次
に（又は前記測定に先立って）イオン選択電極に標準液
を供給して電位レベルを測定し、２つの電位レベルから
試料の濃度を算出する。
【０００３】従来の装置は、特開平6−130070 号公報記
載のように、比色分析部に電解質測定部を設け、比色分
析部の試薬ピペッティング機構により電解質測定用の試
薬を反応容器に分注をすることで、比色分析部の反応容
器を電解質測定用の希釈槽として使用し、更に比色分析
部の恒温槽，攪拌機構を利用することで測定データの安
定化を図っている。また希釈槽として使用した反応容器
は、洗浄機構を利用して洗浄することで電解質測定装置
の小形化も図っている。
載のように、比色分析部に電解質測定部を設け、比色分
析部の試薬ピペッティング機構により電解質測定用の試
薬を反応容器に分注をすることで、比色分析部の反応容
器を電解質測定用の希釈槽として使用し、更に比色分析
部の恒温槽，攪拌機構を利用することで測定データの安
定化を図っている。また希釈槽として使用した反応容器
は、洗浄機構を利用して洗浄することで電解質測定装置
の小形化も図っている。
【０００４】特公平4−7956 号公報には、反応ライン上
の少なくとも２つの反応容器に上記サンプルプローブが
位置づけられるように上記サンプルプローブの移動経路
が設定されていること、上記反応ライン上の第１の反応
容器が上記サンプルプローブの移動経路に位置づけられ
たときに、上記試料容器から上記第１の反応容器へ上記
サンプルプローブによって所定量の試料を分注するこ
と、上記試料が分注された上記第１の反応容器内へ所定
量の希釈液を加えて試料を希釈すること、および上記反
応ライン上の第２の反応容器と上記第１の反応容器が共
に上記サンプルプローブの移動経路に位置づけられたと
きに、上記サンプルプローブによって上記第１の反応容
器内の希釈された試料を所定量分取し上記第２の反応容
器に移すことを含むことを特徴とする自動分析装置にお
ける試料処理方法が記載されている。
の少なくとも２つの反応容器に上記サンプルプローブが
位置づけられるように上記サンプルプローブの移動経路
が設定されていること、上記反応ライン上の第１の反応
容器が上記サンプルプローブの移動経路に位置づけられ
たときに、上記試料容器から上記第１の反応容器へ上記
サンプルプローブによって所定量の試料を分注するこ
と、上記試料が分注された上記第１の反応容器内へ所定
量の希釈液を加えて試料を希釈すること、および上記反
応ライン上の第２の反応容器と上記第１の反応容器が共
に上記サンプルプローブの移動経路に位置づけられたと
きに、上記サンプルプローブによって上記第１の反応容
器内の希釈された試料を所定量分取し上記第２の反応容
器に移すことを含むことを特徴とする自動分析装置にお
ける試料処理方法が記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、反応
容器を希釈槽として使用するため、電解質測定部に吸引
できる試料の希釈液量は、反応容器の容量に制限を受け
てしまう。つまり、反応容器の容量以上に試料の希釈液
を吸引することができない。
容器を希釈槽として使用するため、電解質測定部に吸引
できる試料の希釈液量は、反応容器の容量に制限を受け
てしまう。つまり、反応容器の容量以上に試料の希釈液
を吸引することができない。
【０００６】一方、反応容器内の試料の希釈液を電解質
測定部まで吸引するための流路は、毎回測定のたびに流
される試料の希釈液や標準液によって洗い流されるにす
ぎないため、液体の入替え時に発生するキャリオーバの
発生を防止するためには、流路容量に対して前記流量を
できるだけ大きくする必要がある。従って、流路容量が
大きくなると、反応容器の容量も大きくなる必要があっ
た。
測定部まで吸引するための流路は、毎回測定のたびに流
される試料の希釈液や標準液によって洗い流されるにす
ぎないため、液体の入替え時に発生するキャリオーバの
発生を防止するためには、流路容量に対して前記流量を
できるだけ大きくする必要がある。従って、流路容量が
大きくなると、反応容器の容量も大きくなる必要があっ
た。
【０００７】ところが最近、ランニングコスト低減の観
点から試薬消費量の低減が強く要望され、反応液量低減
に対応した反応容器の小形化が進んできている。このた
め、電解質測定部に吸引する流量を、十分に確保するこ
とが困難になってきている。例えば、反応容器の形状を
幅３mm，奥行き５mm，高さ２０mmとすると、吸引可能容
量は最大でも３００μｌであり、電解質測定部までの容
量を８０μｌとすると、吸引流量：流路容量＝３.７
５：１となる。通常この比率を４.５：１程度にとらな
いと、流路内のキャリオーバの影響を受け安定した測定
データが得られない。
点から試薬消費量の低減が強く要望され、反応液量低減
に対応した反応容器の小形化が進んできている。このた
め、電解質測定部に吸引する流量を、十分に確保するこ
とが困難になってきている。例えば、反応容器の形状を
幅３mm，奥行き５mm，高さ２０mmとすると、吸引可能容
量は最大でも３００μｌであり、電解質測定部までの容
量を８０μｌとすると、吸引流量：流路容量＝３.７
５：１となる。通常この比率を４.５：１程度にとらな
いと、流路内のキャリオーバの影響を受け安定した測定
データが得られない。
【０００８】本発明は、従来のこのような問題に注目
し、電解質測定部への試料供給方法を変更することで、
流路容量に対する流量を十分に確保し、自動分析装置に
好適な電解質測定装置を提供することを目的としてい
る。
し、電解質測定部への試料供給方法を変更することで、
流路容量に対する流量を十分に確保し、自動分析装置に
好適な電解質測定装置を提供することを目的としてい
る。
【０００９】また、本発明は、電解質測定部に好適な洗
浄方法を提供しようとするものである。
浄方法を提供しようとするものである。
【００１０】更には、再検査要求のある試料に対して有
効な測定方法を提供しようとするものである。
効な測定方法を提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は希釈液を吸引・吐出する電解質用ピペッテ
ィングが、前記反応容器列の２ヶ所の反応容器に対し
て、電解質用試薬の分注が可能な位置として移動可能で
あるとし、その内の１ヶ所で希釈液を吐出し、もう１ヶ
所の位置まで反応容器を回転移動後、前もって希釈液を
吸引した電解質用ピペッティング機構で前記反応容器内
の検体と希釈液の混合液を吸引し、電解質測定部に設け
た希釈槽へともに吐出し、これを電解質測定部に吸引し
て測定を行う。
め、本発明は希釈液を吸引・吐出する電解質用ピペッテ
ィングが、前記反応容器列の２ヶ所の反応容器に対し
て、電解質用試薬の分注が可能な位置として移動可能で
あるとし、その内の１ヶ所で希釈液を吐出し、もう１ヶ
所の位置まで反応容器を回転移動後、前もって希釈液を
吸引した電解質用ピペッティング機構で前記反応容器内
の検体と希釈液の混合液を吸引し、電解質測定部に設け
た希釈槽へともに吐出し、これを電解質測定部に吸引し
て測定を行う。
【００１２】本発明は、具体的には次に掲げる装置を提
供する。
供する。
【００１３】本発明は、比色分析部及び電解質測定部を
備え、比色分析部は試料と希釈液の投入を行う環状に配
列された反応容器と、試料と希釈液との混合を行う撹拌
機構と、混合された試料と希釈液との温度制御を行う恒
温反応槽と、反応容器の洗浄を行う洗浄機構とを備えた
自動分析装置において、希釈液を吸引・吐出する電解質
用ピペッティング機構を設け、前記環状に配列された反
応容器が回転移動したときに、任意の反応容器は第１の
ポジションと第１のポジションと異なる第２のポジショ
ンを取り、前記電解質用ピペッティング機構は前記第１
および第２のポジションの反応容器に対峙して第１のポ
ジションで反応容器に希釈液を吐出し、第２のポジショ
ンで反応容器から試料と希釈液の混合液を吸引し、該混
合液を第１の希釈槽の希釈液と第２の希釈槽に吐出し、
希釈された混合液を前記電解質測定部に吸引して測定を
行う自動分析装置を提供する。
備え、比色分析部は試料と希釈液の投入を行う環状に配
列された反応容器と、試料と希釈液との混合を行う撹拌
機構と、混合された試料と希釈液との温度制御を行う恒
温反応槽と、反応容器の洗浄を行う洗浄機構とを備えた
自動分析装置において、希釈液を吸引・吐出する電解質
用ピペッティング機構を設け、前記環状に配列された反
応容器が回転移動したときに、任意の反応容器は第１の
ポジションと第１のポジションと異なる第２のポジショ
ンを取り、前記電解質用ピペッティング機構は前記第１
および第２のポジションの反応容器に対峙して第１のポ
ジションで反応容器に希釈液を吐出し、第２のポジショ
ンで反応容器から試料と希釈液の混合液を吸引し、該混
合液を第１の希釈槽の希釈液と第２の希釈槽に吐出し、
希釈された混合液を前記電解質測定部に吸引して測定を
行う自動分析装置を提供する。
【００１４】本発明は、更に前記第１の、および第２の
希釈槽は、恒温手段によって温度制御されている自動分
析装置を提供する。
希釈槽は、恒温手段によって温度制御されている自動分
析装置を提供する。
【００１５】本発明は、更に第１のポジションで反応容
器に吐出される希釈液を収容する希釈液用試薬容器、並
びに前記第１の、および第２の希釈槽を前記電解質用ピ
ペッティング機構の回転軌道上に配設した自動分析装置
を提供する。
器に吐出される希釈液を収容する希釈液用試薬容器、並
びに前記第１の、および第２の希釈槽を前記電解質用ピ
ペッティング機構の回転軌道上に配設した自動分析装置
を提供する。
【００１６】本発明は、更に洗剤を収容した洗剤容器を
前記電解質用ピペッティング機構の回転軌道上に配設し
た自動分析装置を提供する。
前記電解質用ピペッティング機構の回転軌道上に配設し
た自動分析装置を提供する。
【００１７】本発明は、更に前記第１の、および第２の
希釈槽は制御部に記憶させた洗浄情報によって希釈液ま
たは精製水で洗浄される自動分析装置を提供する。
希釈槽は制御部に記憶させた洗浄情報によって希釈液ま
たは精製水で洗浄される自動分析装置を提供する。
【００１８】本発明は、更に前記電解質用ピペッティン
グ機構は複数の電解質用ピペッティング機構からなる自
動分析装置を提供する。
グ機構は複数の電解質用ピペッティング機構からなる自
動分析装置を提供する。
【００１９】本発明は、試料と希釈液の投入・混合を環
状に配列された反応容器で行い、比色分析及び電解質分
析を行う試料の自動分析方法において、前記環状に配列
された反応容器がステップ回転移動したときに、任意の
反応容器は第１のポジションと第１のポジションを超え
た第２のポジションを取り、電解質用ピペッティング機
構は第１のポジションにある反応容器に希釈液を吐出
し、かつ第２のポジションにある反応容器から試料と希
釈液との混合液とし、該混合液を希釈し、希釈された混
合液を電解質分析に供する試料の自動分析方法を提供す
る。
状に配列された反応容器で行い、比色分析及び電解質分
析を行う試料の自動分析方法において、前記環状に配列
された反応容器がステップ回転移動したときに、任意の
反応容器は第１のポジションと第１のポジションを超え
た第２のポジションを取り、電解質用ピペッティング機
構は第１のポジションにある反応容器に希釈液を吐出
し、かつ第２のポジションにある反応容器から試料と希
釈液との混合液とし、該混合液を希釈し、希釈された混
合液を電解質分析に供する試料の自動分析方法を提供す
る。
【００２０】本発明は、更に前記混合液を吸引し、該混
合液を第１の希釈槽の希釈液によって希釈して第２の希
釈槽に吐出する試料の自動分析方法を提供する。
合液を第１の希釈槽の希釈液によって希釈して第２の希
釈槽に吐出する試料の自動分析方法を提供する。
【００２１】反応容器から試料の希釈液を吸引し、前も
って吸引しておいた希釈液とともに電解質測定部の希釈
槽に吐出することができるので、反応容器の容量が小さ
くとも、電極測定部までの流路容量に対して十分な流量
を確保でき、自動分析装置に好適な電解質測定装置を提
供することができる。
って吸引しておいた希釈液とともに電解質測定部の希釈
槽に吐出することができるので、反応容器の容量が小さ
くとも、電極測定部までの流路容量に対して十分な流量
を確保でき、自動分析装置に好適な電解質測定装置を提
供することができる。
【００２２】また、洗剤も同様に、希釈槽，専用槽に対
してそれぞれに適した希釈濃度の洗剤希釈液を吐出して
洗浄でき、電解質測定部に好適な洗浄方法を提供するこ
とができる。
してそれぞれに適した希釈濃度の洗剤希釈液を吐出して
洗浄でき、電解質測定部に好適な洗浄方法を提供するこ
とができる。
【００２３】また、再検査要求のある試料に対して有効
な測定方法を提供することができる。
な測定方法を提供することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００２５】図１は本発明が適用された自動分析装置の
第１の実施例を示している。分析部１００，制御系２０
０からなる。比色分析部１０１は試料（検体）が満たさ
れた試料容器１，試料容器を保持するためのサンプルデ
ィスク２及び駆動機構３，分析試験内容に対応した試
薬，試薬を保持するための試薬ディスク４及び駆動機構
５，試料と試薬を反応させるためのものであり、複数個
で群をなす反応容器６，反応容器を保持するための反応
テーブル７及び駆動機構８，試料を反応容器６に分注す
るためのサンプリング機構９，試薬を反応容器６に分注
するために反応容器に対峙した試薬ピペッティング機構
１０，投入された試料と試薬を撹拌混合するための撹拌
機構１１，反応容器を洗浄するための洗浄機構１２，反
応容器６内の反応液を吸光度測定するための光度計１３
を備える。また、電解質分析部１０２は標準液用試薬容
器１４及びその専用槽１５，希釈液用試薬容器１６及び
その専用槽１７（すなわち、第１の希釈槽），各試薬容
器から各専用槽へ分注する電解質用ピペッティング機構
１８，試料の希釈液をさらに希釈する希釈槽１９（すな
わち、第２の希釈槽），電解質分析を行う電解質測定部
２０から構成されている。ここで、各専用槽１７と希釈
槽１９は恒温手段２１により温度制御されている。また
制御系は、制御部２２，情報を入力する入力部２３，そ
れを記憶する情報記憶部２４，測定データを表示する表
示部２５から構成され、インターフェース２６を介して
比色分析部，電解質分析部１０２の制御を行う。
第１の実施例を示している。分析部１００，制御系２０
０からなる。比色分析部１０１は試料（検体）が満たさ
れた試料容器１，試料容器を保持するためのサンプルデ
ィスク２及び駆動機構３，分析試験内容に対応した試
薬，試薬を保持するための試薬ディスク４及び駆動機構
５，試料と試薬を反応させるためのものであり、複数個
で群をなす反応容器６，反応容器を保持するための反応
テーブル７及び駆動機構８，試料を反応容器６に分注す
るためのサンプリング機構９，試薬を反応容器６に分注
するために反応容器に対峙した試薬ピペッティング機構
１０，投入された試料と試薬を撹拌混合するための撹拌
機構１１，反応容器を洗浄するための洗浄機構１２，反
応容器６内の反応液を吸光度測定するための光度計１３
を備える。また、電解質分析部１０２は標準液用試薬容
器１４及びその専用槽１５，希釈液用試薬容器１６及び
その専用槽１７（すなわち、第１の希釈槽），各試薬容
器から各専用槽へ分注する電解質用ピペッティング機構
１８，試料の希釈液をさらに希釈する希釈槽１９（すな
わち、第２の希釈槽），電解質分析を行う電解質測定部
２０から構成されている。ここで、各専用槽１７と希釈
槽１９は恒温手段２１により温度制御されている。また
制御系は、制御部２２，情報を入力する入力部２３，そ
れを記憶する情報記憶部２４，測定データを表示する表
示部２５から構成され、インターフェース２６を介して
比色分析部，電解質分析部１０２の制御を行う。
【００２６】図２に分析動作のフローチャート、図３に
構成概略図を示す。最初に、これから分析を行う試料を
サンプルディスク２に並べ、分析項目を入力する。次に
スタートを入力すると、制御部では分析に不都合が無い
かどうか分析条件の確認や、分析部では反応容器６の洗
浄といった準備動作を行う（Step１）。反応容器の数が
１６０個の場合、最初の試料が第１ポジション（図３中
の〔１〕）に分注が行われる（Step２）。この時の試料
分注量を１６μｌとする。次に反応容器６は、反応テー
ブル２の駆動機構３により４１ポジションだけ回転（ス
テップ回転）し、第４２ポジション〔４２〕（第１のポ
ジション）の位置に移動する。ここで、電解質用ピペッ
ティング機構１８は希釈液専用槽１７から希釈液を吸引
し、第４２ポジション〔４２〕にある反応容器６に希釈
液を吐出する。（Step３）。この時の希釈液分注量を１
７６μｌとし、１２倍希釈を行う。また、希釈液専用槽
内の希釈液は恒温手段１９により、３７℃±２℃に温度
制御されている。反応容器６は更に４１ポジション移動
を２回のステップ回転で行い、第１２４ポジション〔１
２４〕に移動する。ここで、攪拌機構１１により攪拌混
合される（Step４）。反応容器６は更に４１ポジション
移動を２回のステップ回転で行い、第４６ポジション
〔４６〕（第２のポジション）に移動する。前述した第
１のポジションと第２のポジションは異なる位置にあ
り、実施例にあっては第２のポジションは第１のポジシ
ョンを越えた位置を占める。ここで、電解質用ピペッテ
ィング機構１８は希釈液専用槽１７から希釈液を２３
２．７５μｌ吸引し、更に第４６ポジション〔４６〕に
ある反応容器６内の試料と希釈液の混合液１４７μｌを
吸引後、電解質測定部２０の希釈槽１９に希釈液ととも
に３７９．７５μｌ吐出する。（Step５）。この希釈液
を電解質測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する
（Step６）。次に、電解質用ピペッティング機構１８は
標準液専用槽１５から標準液を３８０μｌ吸引し、電解
質測定部２０の希釈槽１９に吐出する。（Step７）。こ
の際、標準液専用槽内の標準液は恒温手段１９により３
７℃±２℃に温度制御されている。この標準液を電解質
測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する（Step
８）。こうして得られた２つの電位レベルから、試料の
電解質濃度が求められる（Step９）。この時、吸引流
量：流路容量＝３７９．７５：８０＝４．７５：１とな
り、従来方法では達成できなかった４．５倍を満足して
十分な流量を確保できる。また、流路容量が多少大きく
なっても、前記比率を確保しつつ希釈液量を大きくする
ことで、簡便に対応できる。なお、各試薬容器から専用
槽への試薬の移送は、前記電解質用ピペッティング機構
の空き時間で周期的に行われる。
構成概略図を示す。最初に、これから分析を行う試料を
サンプルディスク２に並べ、分析項目を入力する。次に
スタートを入力すると、制御部では分析に不都合が無い
かどうか分析条件の確認や、分析部では反応容器６の洗
浄といった準備動作を行う（Step１）。反応容器の数が
１６０個の場合、最初の試料が第１ポジション（図３中
の〔１〕）に分注が行われる（Step２）。この時の試料
分注量を１６μｌとする。次に反応容器６は、反応テー
ブル２の駆動機構３により４１ポジションだけ回転（ス
テップ回転）し、第４２ポジション〔４２〕（第１のポ
ジション）の位置に移動する。ここで、電解質用ピペッ
ティング機構１８は希釈液専用槽１７から希釈液を吸引
し、第４２ポジション〔４２〕にある反応容器６に希釈
液を吐出する。（Step３）。この時の希釈液分注量を１
７６μｌとし、１２倍希釈を行う。また、希釈液専用槽
内の希釈液は恒温手段１９により、３７℃±２℃に温度
制御されている。反応容器６は更に４１ポジション移動
を２回のステップ回転で行い、第１２４ポジション〔１
２４〕に移動する。ここで、攪拌機構１１により攪拌混
合される（Step４）。反応容器６は更に４１ポジション
移動を２回のステップ回転で行い、第４６ポジション
〔４６〕（第２のポジション）に移動する。前述した第
１のポジションと第２のポジションは異なる位置にあ
り、実施例にあっては第２のポジションは第１のポジシ
ョンを越えた位置を占める。ここで、電解質用ピペッテ
ィング機構１８は希釈液専用槽１７から希釈液を２３
２．７５μｌ吸引し、更に第４６ポジション〔４６〕に
ある反応容器６内の試料と希釈液の混合液１４７μｌを
吸引後、電解質測定部２０の希釈槽１９に希釈液ととも
に３７９．７５μｌ吐出する。（Step５）。この希釈液
を電解質測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する
（Step６）。次に、電解質用ピペッティング機構１８は
標準液専用槽１５から標準液を３８０μｌ吸引し、電解
質測定部２０の希釈槽１９に吐出する。（Step７）。こ
の際、標準液専用槽内の標準液は恒温手段１９により３
７℃±２℃に温度制御されている。この標準液を電解質
測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する（Step
８）。こうして得られた２つの電位レベルから、試料の
電解質濃度が求められる（Step９）。この時、吸引流
量：流路容量＝３７９．７５：８０＝４．７５：１とな
り、従来方法では達成できなかった４．５倍を満足して
十分な流量を確保できる。また、流路容量が多少大きく
なっても、前記比率を確保しつつ希釈液量を大きくする
ことで、簡便に対応できる。なお、各試薬容器から専用
槽への試薬の移送は、前記電解質用ピペッティング機構
の空き時間で周期的に行われる。
【００２７】図４には本発明が適用された自動分析装置
の第２の実施例の構成図を示している。第１の実施例と
同一の構成には同一の番号が付してあり、同一の内容に
ついては説明を繰り返さない。以下の実施例も同じ。前
記電解質用ピペッティング機構１８の回転軌道上に、電
解質測定部用の洗剤が収容された洗剤容器２７が構成さ
れている。制御部２２からの命令に従い、洗剤容器２７
から洗剤を吸引した電解質ピペッティング機構１８は、
電解質測定部２０の希釈槽１９，標準液専用槽１５、ま
たは希釈液専用槽１７に移動し、電解質用ピペッティン
グ機構１８内の精製水を希釈液として洗剤とともに吐出
する。この際、洗剤の種類、及び洗剤と精製水の希釈比
率は、洗浄対象とその洗浄レベルにより、あらかじめ情
報記憶部２４に記憶された図５に示す洗浄情報テーブル
に従い、自動的に行われるように構成される。なお、希
釈液としては、電解質用ピペッティング機構１８内の精
製水の替わりに専用の希釈液を収容した希釈容器を電解
質用ピペッティング機構１８の回転軌道上に架設しても
良い。
の第２の実施例の構成図を示している。第１の実施例と
同一の構成には同一の番号が付してあり、同一の内容に
ついては説明を繰り返さない。以下の実施例も同じ。前
記電解質用ピペッティング機構１８の回転軌道上に、電
解質測定部用の洗剤が収容された洗剤容器２７が構成さ
れている。制御部２２からの命令に従い、洗剤容器２７
から洗剤を吸引した電解質ピペッティング機構１８は、
電解質測定部２０の希釈槽１９，標準液専用槽１５、ま
たは希釈液専用槽１７に移動し、電解質用ピペッティン
グ機構１８内の精製水を希釈液として洗剤とともに吐出
する。この際、洗剤の種類、及び洗剤と精製水の希釈比
率は、洗浄対象とその洗浄レベルにより、あらかじめ情
報記憶部２４に記憶された図５に示す洗浄情報テーブル
に従い、自動的に行われるように構成される。なお、希
釈液としては、電解質用ピペッティング機構１８内の精
製水の替わりに専用の希釈液を収容した希釈容器を電解
質用ピペッティング機構１８の回転軌道上に架設しても
良い。
【００２８】図５の洗浄情報テーブルは、各洗浄部位で
ある希釈槽，標準液専用槽，希釈液専用槽，電解質測定
部流路について洗浄情報としてルーチン毎か，毎日か，
毎週か，毎月かに分けて次亜塩素酸水溶液（３１倍希
釈），精製水の使用の順序を示す。
ある希釈槽，標準液専用槽，希釈液専用槽，電解質測定
部流路について洗浄情報としてルーチン毎か，毎日か，
毎週か，毎月かに分けて次亜塩素酸水溶液（３１倍希
釈），精製水の使用の順序を示す。
【００２９】図６は本発明が適用された自動分析装置の
第３の実施例の構成図を示している。前記電解質用ピペ
ッティング機構１８以外の第２の電解質用ピペッティン
グ機構２８が、反応容器６と前記希釈液専用槽１７及び
前記電解質測定部２０に設けられた希釈槽１９との間を
移動可能なように構成されている。この場合、第２の電
解質用ピペッティング機構２８は試料と希釈液の混合
液、または標準液を電解質測定部で測定するための時間
を十分に経過できる反応容器６の位置、例えば第５８ポ
ジション〔５８〕から試料と希釈液の混合液を吸引でき
るよう配置しておけば良い。図７に分析動作のフローチ
ャートを示す。測定結果に対して再検査要求があった場
合（Step１０）、再スケジューリングを行い、再検査要
求のある試料と希釈液の混合液が含まれている反応容器
６の分析割込みを行う（Step１１）。第２の電解質用ピ
ペッティング機構２８により、希釈液専用槽１７から希
釈液を吸引し、再検査要求の試料と希釈液の混合液が収
容された第５８ポジション〔５８〕の反応容器６から前
記混合液を吸引し、希釈液とともに電解質測定部２０の
希釈槽に吐出する（Step５）。次にこの混合液を電解質
測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する（Step
６）。以下前述したように、標準液の電位レベルを測定
し、試料の電解質濃度を求める（Step７，８，９）。
第３の実施例の構成図を示している。前記電解質用ピペ
ッティング機構１８以外の第２の電解質用ピペッティン
グ機構２８が、反応容器６と前記希釈液専用槽１７及び
前記電解質測定部２０に設けられた希釈槽１９との間を
移動可能なように構成されている。この場合、第２の電
解質用ピペッティング機構２８は試料と希釈液の混合
液、または標準液を電解質測定部で測定するための時間
を十分に経過できる反応容器６の位置、例えば第５８ポ
ジション〔５８〕から試料と希釈液の混合液を吸引でき
るよう配置しておけば良い。図７に分析動作のフローチ
ャートを示す。測定結果に対して再検査要求があった場
合（Step１０）、再スケジューリングを行い、再検査要
求のある試料と希釈液の混合液が含まれている反応容器
６の分析割込みを行う（Step１１）。第２の電解質用ピ
ペッティング機構２８により、希釈液専用槽１７から希
釈液を吸引し、再検査要求の試料と希釈液の混合液が収
容された第５８ポジション〔５８〕の反応容器６から前
記混合液を吸引し、希釈液とともに電解質測定部２０の
希釈槽に吐出する（Step５）。次にこの混合液を電解質
測定部２０に吸引し、電位レベルを測定する（Step
６）。以下前述したように、標準液の電位レベルを測定
し、試料の電解質濃度を求める（Step７，８，９）。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、反応容器から試料の希
釈液を吸引し、前もって吸引しておいた希釈液とともに
電解質測定部の希釈槽に吐出することができるので、反
応容器の容量が小さくとも、電極測定部までの流路容量
に対して十分な流量を確保でき、自動分析装置に好適な
電解質測定装置を提供することができる。
釈液を吸引し、前もって吸引しておいた希釈液とともに
電解質測定部の希釈槽に吐出することができるので、反
応容器の容量が小さくとも、電極測定部までの流路容量
に対して十分な流量を確保でき、自動分析装置に好適な
電解質測定装置を提供することができる。
【００３１】また、洗剤も同様に、希釈槽，専用槽に対
してそれぞれに適した希釈濃度の洗剤希釈液を吐出して
洗浄でき、電解質測定部に好適な洗浄方法を提供するこ
とができる。
してそれぞれに適した希釈濃度の洗剤希釈液を吐出して
洗浄でき、電解質測定部に好適な洗浄方法を提供するこ
とができる。
【００３２】また、再検査要求のある試料に対して有効
な測定方法を提供することができる。
な測定方法を提供することができる。
【図１】本発明が適用される自動分析装置の第１の実施
例を示す概略構成図である。
例を示す概略構成図である。
【図２】図１の実施形態である自動分析装置の分析動作
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図３】図１の実施形態である分注動作の説明図を示し
たものである。
たものである。
【図４】本発明が適用される自動分析装置の第２の実施
例の説明図を示したものである。
例の説明図を示したものである。
【図５】図４の実施形態である洗浄情報テーブルを示す
説明図である。
説明図である。
【図６】本発明が適用される自動分析装置の第３の実施
例の説明図を示したものである。
例の説明図を示したものである。
【図７】図６の実施形態である自動分析装置の分析動作
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
１…試料容器、２…サンプルディスク、３…サンプルデ
ィスク駆動機構、４…試薬ディスク、５…試薬ディスク
駆動機構、６…反応容器、７…反応テーブル、８…反応
テーブル駆動機構、９…サンプリング機構、１０…比色
分析用ピペッティング機構、１１…撹拌機構、１２…洗
浄機構、１３…光度計、１４…標準液用試薬容器、１５
…標準液用専用槽、１６…希釈液用試薬容器、１７…希
釈液用専用槽、１８…電解質用ピペッティング機構、１
９…希釈槽、２０…電解質測定部、２１…電解質恒温
槽、２２…制御部、２３…入力部、２４…情報記憶部、
２５…表示部、２６…インターフェース、２７…洗剤容
器、２８…第２電解質用ピペッティング機構。
ィスク駆動機構、４…試薬ディスク、５…試薬ディスク
駆動機構、６…反応容器、７…反応テーブル、８…反応
テーブル駆動機構、９…サンプリング機構、１０…比色
分析用ピペッティング機構、１１…撹拌機構、１２…洗
浄機構、１３…光度計、１４…標準液用試薬容器、１５
…標準液用専用槽、１６…希釈液用試薬容器、１７…希
釈液用専用槽、１８…電解質用ピペッティング機構、１
９…希釈槽、２０…電解質測定部、２１…電解質恒温
槽、２２…制御部、２３…入力部、２４…情報記憶部、
２５…表示部、２６…インターフェース、２７…洗剤容
器、２８…第２電解質用ピペッティング機構。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G058 BA01 BB15 BB27 CB04 CD04 CE08 CF22 EA02 EA04 ED03 FA02 FB02 GA03 GA11 GD07 GE02 GE03
Claims (8)
- 【請求項１】比色分析部及び電解質測定部を備え、比色
分析部は試料と希釈液の投入を行う環状に配列された反
応容器と、試料と希釈液との混合を行う撹拌機構と、混
合された試料と希釈液との温度制御を行う恒温反応槽
と、反応容器の洗浄を行う洗浄機構とを備えた自動分析
装置において、 希釈液を吸引・吐出する電解質用ピペッティング機構を
設け、前記環状に配列された反応容器が回転移動したと
きに、任意の反応容器は第１のポジションと第１のポジ
ションと異なる第２のポジションを取り、前記電解質用
ピペッティング機構は前記第１および第２のポジション
の反応容器に対峙して第１のポジションで反応容器に希
釈液を吐出し、第２のポジションで反応容器から試料と
希釈液の混合液を吸引し、該混合液を第１の希釈槽の希
釈液と第２の希釈槽に吐出し、希釈された混合液を前記
電解質測定部に吸引して測定を行うことを特徴とする自
動分析装置。 - 【請求項２】請求項１において、 前記第１の、および第２の希釈槽は、恒温手段によって
温度制御されていることを特徴とする自動分析装置。 - 【請求項３】請求項１において、 第１のポジションで反応容器に吐出される希釈液を収容
する希釈液用試薬容器、並びに前記第１の、および第２
の希釈槽を前記電解質用ピペッティング機構の回転軌道
上に配設したことを特徴とする自動分析装置。 - 【請求項４】請求項３において、 洗剤を収容した洗剤容器を前記電解質用ピペッティング
機構の回転軌道上に配設したことを特徴とする自動分析
装置。 - 【請求項５】請求項１から４のいずれかにおいて、前記
第１の、および第２の希釈槽は制御部に記憶させた洗浄
情報によって希釈液または精製水で洗浄されることを特
徴とする自動分析装置。 - 【請求項６】請求項１から５のいずれかにおいて、 前記電解質用ピペッティング機構は複数の電解質用ピペ
ッティング機構からなることを特徴とする自動分析装
置。 - 【請求項７】試料と希釈液の投入・混合を環状に配列さ
れた反応容器で行い、比色分析及び電解質分析を行う試
料の自動分析方法において、 前記環状に配列された反応容器がステップ回転移動した
ときに、任意の反応容器は第１のポジションと第１のポ
ジションを超えた第２のポジションを取り、電解質用ピ
ペッティング機構は第１のポジションにある反応容器に
希釈液を吐出し、かつ第２のポジションにある反応容器
から試料と希釈液との混合液とし、該混合液を希釈し、
希釈された混合液を電解質分析に供することを特徴とす
る試料の自動分析方法。 - 【請求項８】請求項７において、 前記混合液を吸引し、該混合液を第１の希釈槽の希釈液
によって希釈して第２の希釈槽に吐出することを特徴と
する試料の自動分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006110A JP2001194374A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | 自動分析装置および分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006110A JP2001194374A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | 自動分析装置および分析方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001194374A true JP2001194374A (ja) | 2001-07-19 |
Family
ID=18534693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000006110A Pending JP2001194374A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | 自動分析装置および分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001194374A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1835292A1 (en) * | 2006-03-14 | 2007-09-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Automatic analyzer |
| CN113287022A (zh) * | 2018-12-27 | 2021-08-20 | 株式会社日立高新技术 | 自动分析装置、自动分析***及样品的自动分析方法 |
-
2000
- 2000-01-11 JP JP2000006110A patent/JP2001194374A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1835292A1 (en) * | 2006-03-14 | 2007-09-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Automatic analyzer |
| JP2007248085A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| JP4538423B2 (ja) * | 2006-03-14 | 2010-09-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
| CN113287022A (zh) * | 2018-12-27 | 2021-08-20 | 株式会社日立高新技术 | 自动分析装置、自动分析***及样品的自动分析方法 |
| JPWO2020137140A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2021-10-07 | 株式会社日立ハイテク | 自動分析装置および自動分析システム、ならびに試料の自動分析方法 |
| JP7144667B2 (ja) | 2018-12-27 | 2022-09-30 | 株式会社日立ハイテク | 自動分析装置および自動分析システム、ならびに試料の自動分析方法 |
| CN113287022B (zh) * | 2018-12-27 | 2023-12-12 | 株式会社日立高新技术 | 自动分析装置、自动分析***及样品的自动分析方法 |
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