JP2001177067A - 集積回路およびその製造方法 - Google Patents
集積回路およびその製造方法Info
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/34—Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回路のユーザによって所望される所定の機能
を有している集積回路ICを製造時のマスクの取り違え
によるエラーを検出できるようにする。 【解決手段】 複数の固定配線レベルM1,M2,Pに
おいて露光マスクMSKiを用いて生成される、所定の
機能を実現するために用いられ第1の構造S1の他に、
固定配線レベルの複数において、使用の露光マスクの、
共通のマスクセットMSKSに対する帰属性を検査する
ために用いられる第2の構造S2を有している。
を有している集積回路ICを製造時のマスクの取り違え
によるエラーを検出できるようにする。 【解決手段】 複数の固定配線レベルM1,M2,Pに
おいて露光マスクMSKiを用いて生成される、所定の
機能を実現するために用いられ第1の構造S1の他に、
固定配線レベルの複数において、使用の露光マスクの、
共通のマスクセットMSKSに対する帰属性を検査する
ために用いられる第2の構造S2を有している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路並びに相
応の製造方法に関する。
応の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】集積回路を製造するために、それを使用
して光に感応する層を構造化する露光マスクが使用され
る。その場合構造化された光に感応する層は例えば、エ
ッチングバリヤとしてまたは製造すべき集積回路の下方
に位置する層における規定のドーピングプロフィールを
生成するために用いられる。複合的な集積回路を製造す
る際に殊に、多数の露光マスクが必要とされる。その際
所定の集積回路の製造のために用いられるすべての露光
マスクは関連所属マスクセットと称される。
して光に感応する層を構造化する露光マスクが使用され
る。その場合構造化された光に感応する層は例えば、エ
ッチングバリヤとしてまたは製造すべき集積回路の下方
に位置する層における規定のドーピングプロフィールを
生成するために用いられる。複合的な集積回路を製造す
る際に殊に、多数の露光マスクが必要とされる。その際
所定の集積回路の製造のために用いられるすべての露光
マスクは関連所属マスクセットと称される。
【0003】製造の期間、使用すべきマスクセットMS
KSのマスクが、当該マスクセットに属していない別の
マスクと取り違えられることが起こり得る。このことは
殊に、既存の回路の改良されたバージョンを生成しよう
とするとき起こる。というのはこの場合、新しい回路の
マスクセットがその前のマスクセットとはほんの僅かし
か異なっておらず、使用すべきマスクの数も同じである
からである。そこでその時点で使用すべきマスクセット
のマスクの1つが別のマスクセットのマスクの1つと取
り違えられるとすれば、製造すべき回路の作動期間中、
このために誤機能が生じる。これはテストの際に確認さ
れるのは難しくまたはそのエラーの原因、すなわち誤っ
たマスクを使用したからだということをそう簡単に突き
止めることはできない。
KSのマスクが、当該マスクセットに属していない別の
マスクと取り違えられることが起こり得る。このことは
殊に、既存の回路の改良されたバージョンを生成しよう
とするとき起こる。というのはこの場合、新しい回路の
マスクセットがその前のマスクセットとはほんの僅かし
か異なっておらず、使用すべきマスクの数も同じである
からである。そこでその時点で使用すべきマスクセット
のマスクの1つが別のマスクセットのマスクの1つと取
り違えられるとすれば、製造すべき回路の作動期間中、
このために誤機能が生じる。これはテストの際に確認さ
れるのは難しくまたはそのエラーの原因、すなわち誤っ
たマスクを使用したからだということをそう簡単に突き
止めることはできない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、集積
回路の製造のために用いられるマスクの交換を認識でき
るようにすることである。
回路の製造のために用いられるマスクの交換を認識でき
るようにすることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題は、請求項1に
記載の集積回路によって並びに請求項5に記載の製造方
法によって解決される。本発明の有利な構成および実施
形態は従属請求項の対象である。
記載の集積回路によって並びに請求項5に記載の製造方
法によって解決される。本発明の有利な構成および実施
形態は従属請求項の対象である。
【0006】本発明によれば、回路のユーザによって所
望される機能を実現するために用いられる第1の構造の
他に、回路の製造期間に、露光マスクを用いて第2の構
造が生成される。この構造は、所定の機能のためではな
くて、使用された露光マスクの、共通のマスクセットに
対する帰属を検査するためにだけ用いられ、その際第2
の構造は集積回路の複数の固定配線レベルに配置されて
いる。その際第1の構造は、回路の所望の機能を保証す
るすべての電気的な構造を含んでいる。第1の構造は例
えば、抵抗、コンデンサまたはトランジスタの部分であ
ってよい。これに対して第2の構造は、回路のユーザに
よって所望される機能のためではなくて、使用された露
光マスクが正しい露光マスクであったかどうかを検査す
るために用いられる。従って、第2の構造は、製造され
た回路がそもそも、共通のマスクセットに割り当てられ
ている正しい露光マスクが使用されたからエラーなく機
能することができるかどうかを第2の構造を用いて確認
することができる、この集積回路の製造者の関心に役立
つものである。
望される機能を実現するために用いられる第1の構造の
他に、回路の製造期間に、露光マスクを用いて第2の構
造が生成される。この構造は、所定の機能のためではな
くて、使用された露光マスクの、共通のマスクセットに
対する帰属を検査するためにだけ用いられ、その際第2
の構造は集積回路の複数の固定配線レベルに配置されて
いる。その際第1の構造は、回路の所望の機能を保証す
るすべての電気的な構造を含んでいる。第1の構造は例
えば、抵抗、コンデンサまたはトランジスタの部分であ
ってよい。これに対して第2の構造は、回路のユーザに
よって所望される機能のためではなくて、使用された露
光マスクが正しい露光マスクであったかどうかを検査す
るために用いられる。従って、第2の構造は、製造され
た回路がそもそも、共通のマスクセットに割り当てられ
ている正しい露光マスクが使用されたからエラーなく機
能することができるかどうかを第2の構造を用いて確認
することができる、この集積回路の製造者の関心に役立
つものである。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態によれば、第
2の構造は電気的に評価可能であるので、製造の際に使
用された露光マスクが共通のマスクセットに配属されて
いたかどうかを確認することができる。このことは、第
2の構造が導電性であって、例えばこれに供給される測
定電流は通ることができるはずであることを意味してい
る。
2の構造は電気的に評価可能であるので、製造の際に使
用された露光マスクが共通のマスクセットに配属されて
いたかどうかを確認することができる。このことは、第
2の構造が導電性であって、例えばこれに供給される測
定電流は通ることができるはずであることを意味してい
る。
【0008】集積回路が第2の構造を評価しかつ相応の
結果信号を生成するための評価ユニットを有しているよ
うにすれば有利であり、その際この結果信号は、製造の
際に使用された露光マスクが共通のマスクセットに配属
しているかどうかを指示するものである。回路に集積さ
れているこのような評価ユニットにより、製造の期間に
使用されたマスクの妥当性に関する自己テストが可能で
ある。
結果信号を生成するための評価ユニットを有しているよ
うにすれば有利であり、その際この結果信号は、製造の
際に使用された露光マスクが共通のマスクセットに配属
しているかどうかを指示するものである。回路に集積さ
れているこのような評価ユニットにより、製造の期間に
使用されたマスクの妥当性に関する自己テストが可能で
ある。
【0009】評価ユニットが結果信号を介して、製造の
ために使用された露光マスクが共通のマスクセットに所
属していない場合に、回路の誤機能をトリガするように
すれば効果的である。この誤機能は、第1の構造によっ
て保証される、回路のユーザによって所望される機能に
関している。それ故に、評価ユニットは本発明のこの実
施の形態では、第1の構造によって保証される、回路の
機能を捕捉検出する。その場合、回路の製造者は、この
所定の誤機能の発生の際に、評価ユニットが回路の製造
のために使用されたマスクにエラーがあることを検出し
たものと推定することができる。
ために使用された露光マスクが共通のマスクセットに所
属していない場合に、回路の誤機能をトリガするように
すれば効果的である。この誤機能は、第1の構造によっ
て保証される、回路のユーザによって所望される機能に
関している。それ故に、評価ユニットは本発明のこの実
施の形態では、第1の構造によって保証される、回路の
機能を捕捉検出する。その場合、回路の製造者は、この
所定の誤機能の発生の際に、評価ユニットが回路の製造
のために使用されたマスクにエラーがあることを検出し
たものと推定することができる。
【0010】
【実施例】次に本発明を図示の実施例につき図面を用い
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0011】図1には、横断面図にて、集積回路ICが
示されている。これは基板1に複数の配線レベルM1,
M2,Pを有している。配線レベルとは第1の金属化レ
ベルM1,第2の金属化レベルM2並びにポリシリコン
レベルPである。種々異なった配線レベルに、第1の構
造S1並びに第2の構造S2が配置されている。これら
構造は図1では斜線を施して示した。これら構造S1,
S2は導電性である。これに対して図1で斜線を施して
いない領域は電気的に絶縁性である。配線レベルM1,
M2,Pのそれぞれ2つの間に、アイソレーションレベ
ルV1,V2が配置されている。アイソレーションレベ
ルにはスルーロッホDが生成されている。これらも、第
1の構造S1ないし第2の構造S2の構成部分でかつ配
線レベルM1,M2,Pに配置されている導電性の構造
を相互に接続している。
示されている。これは基板1に複数の配線レベルM1,
M2,Pを有している。配線レベルとは第1の金属化レ
ベルM1,第2の金属化レベルM2並びにポリシリコン
レベルPである。種々異なった配線レベルに、第1の構
造S1並びに第2の構造S2が配置されている。これら
構造は図1では斜線を施して示した。これら構造S1,
S2は導電性である。これに対して図1で斜線を施して
いない領域は電気的に絶縁性である。配線レベルM1,
M2,Pのそれぞれ2つの間に、アイソレーションレベ
ルV1,V2が配置されている。アイソレーションレベ
ルにはスルーロッホDが生成されている。これらも、第
1の構造S1ないし第2の構造S2の構成部分でかつ配
線レベルM1,M2,Pに配置されている導電性の構造
を相互に接続している。
【0012】第1の構造S1は共通に、ユーザによって
所望される、集積回路の機能を実現するために用いられ
る電気回路を形成している。これには例えば、第1の構
造S1によって形成される抵抗、トランジスタ、コンデ
ンサなどがある。
所望される、集積回路の機能を実現するために用いられ
る電気回路を形成している。これには例えば、第1の構
造S1によって形成される抵抗、トランジスタ、コンデ
ンサなどがある。
【0013】第2の構造S2は、関連している、導電性
の信号路を形成している。この信号路の一端は、正の給
電電位VCCに接続されておりかつ他端は抵抗Rを介し
てアースに接続されている。抵抗Rの、アースとは反対
側の接続端子にてこの信号路は結果信号Sを送出する。
この信号のレベルは、この信号路が給電電位VCCおよ
び抵抗Rを連続的に相互に接続しているかどうか、また
はそれが中断を有しているかどうかに依存している。前
者の場合、結果信号Sは給電電位VCCの値を有してお
り、後者の場合それはアースに等しい。従って抵抗Rは
プル・ダウン抵抗である。
の信号路を形成している。この信号路の一端は、正の給
電電位VCCに接続されておりかつ他端は抵抗Rを介し
てアースに接続されている。抵抗Rの、アースとは反対
側の接続端子にてこの信号路は結果信号Sを送出する。
この信号のレベルは、この信号路が給電電位VCCおよ
び抵抗Rを連続的に相互に接続しているかどうか、また
はそれが中断を有しているかどうかに依存している。前
者の場合、結果信号Sは給電電位VCCの値を有してお
り、後者の場合それはアースに等しい。従って抵抗Rは
プル・ダウン抵抗である。
【0014】図3から、図1の個々の第1の構造S1お
よび第2の構造S2が露光マスクMSK1を使用して製
造されることが分かる。図3には例として、単に第1の
マスクMSK1が使用されるという、数多くの製造ステ
ップの1つが示されているに過ぎない。その際基板1に
は感光層が塗布されている。この層は第1のマスクMS
K1を通り抜けて到来した光Lを用いて露光される。
よび第2の構造S2が露光マスクMSK1を使用して製
造されることが分かる。図3には例として、単に第1の
マスクMSK1が使用されるという、数多くの製造ステ
ップの1つが示されているに過ぎない。その際基板1に
は感光層が塗布されている。この層は第1のマスクMS
K1を通り抜けて到来した光Lを用いて露光される。
【0015】図4には、集積回路の製造のために必要と
されるすべてのマスクが1つの共通のマスクセットMS
KSに配属されていることが示されている。ただし図4
にはすべてのマスクのうち3つのマスクMSK1ないし
MSK3が示されているだけである。製造期間中、これ
らマスクMSKiが正しい順序で使用されると、図1に
示されている構造S1,S2が生成される。この場合、
図1からわかる関連のある信号路は第2の構造S2によ
って形成されかつ結果信号Sは給電電位VCCの値を有
している。これに対してマスクセットMSKSのマスク
セットMSKiの1つまたは複数がこの特有な集積回路
の製造のために設けられていない別のマスクセットのマ
スクによって置換されると、製造の際に第2の構造S2
の別の相互配置が生じ、その結果関連のある信号路は生
じずかつ結果信号はアース電位を有している。これに対
する前提条件は、特有の集積回路の製造のために設けら
れているそれぞれのマスクセットMSKSに、独自の
「識別コード」が割り当てられており、この識別コード
が結果的に、それぞれのマスクセットMSKSのマスク
MSKiが別のマスクセットMSKSのマスクからその
形状において区別されることであり、その場合種々様々
なマスクセットMSKSを使用する際に、マスクセット
MSKSのそれぞれの識別コードに相応するその都度異
なった第2の構造S2が生じる。
されるすべてのマスクが1つの共通のマスクセットMS
KSに配属されていることが示されている。ただし図4
にはすべてのマスクのうち3つのマスクMSK1ないし
MSK3が示されているだけである。製造期間中、これ
らマスクMSKiが正しい順序で使用されると、図1に
示されている構造S1,S2が生成される。この場合、
図1からわかる関連のある信号路は第2の構造S2によ
って形成されかつ結果信号Sは給電電位VCCの値を有
している。これに対してマスクセットMSKSのマスク
セットMSKiの1つまたは複数がこの特有な集積回路
の製造のために設けられていない別のマスクセットのマ
スクによって置換されると、製造の際に第2の構造S2
の別の相互配置が生じ、その結果関連のある信号路は生
じずかつ結果信号はアース電位を有している。これに対
する前提条件は、特有の集積回路の製造のために設けら
れているそれぞれのマスクセットMSKSに、独自の
「識別コード」が割り当てられており、この識別コード
が結果的に、それぞれのマスクセットMSKSのマスク
MSKiが別のマスクセットMSKSのマスクからその
形状において区別されることであり、その場合種々様々
なマスクセットMSKSを使用する際に、マスクセット
MSKSのそれぞれの識別コードに相応するその都度異
なった第2の構造S2が生じる。
【0016】図2に基づいてもう一度、上述したことが
何を表しているかを説明したい。図2は、象徴的に示し
ているに過ぎず、すなわち横断面表示ではない。図1の
給電電位VCCと抵抗Rとの間に延在している信号路の
部分が示されている。種々異なったレベルM1,M2,
P,V1,V2において生成される第2の構造S2によ
って形成されている信号路は、図1および図2に示され
ているように、この第2の構造S2が相応に相互に配置
されているときにだけ、通っている。例えば、図2に示
されているボックスの第4列に象徴的に示されている第
2の構造S2が第1のアイソレーションレベルV1にお
いて位置1ではなくて、位置3に(鎖線で示されてい
る)配置されているとすれば、関連していない信号路が
生じることになり、その結果結果信号Sはアースレベル
を有することになる。個々の識別コードを種々異なった
マスクセットMSKSに付与することによって、使用さ
れるすべてのマスクが同一のマスクセットMSKSに属
しているときにだけ関連のある信号路が生じることが保
証されるはずである。
何を表しているかを説明したい。図2は、象徴的に示し
ているに過ぎず、すなわち横断面表示ではない。図1の
給電電位VCCと抵抗Rとの間に延在している信号路の
部分が示されている。種々異なったレベルM1,M2,
P,V1,V2において生成される第2の構造S2によ
って形成されている信号路は、図1および図2に示され
ているように、この第2の構造S2が相応に相互に配置
されているときにだけ、通っている。例えば、図2に示
されているボックスの第4列に象徴的に示されている第
2の構造S2が第1のアイソレーションレベルV1にお
いて位置1ではなくて、位置3に(鎖線で示されてい
る)配置されているとすれば、関連していない信号路が
生じることになり、その結果結果信号Sはアースレベル
を有することになる。個々の識別コードを種々異なった
マスクセットMSKSに付与することによって、使用さ
れるすべてのマスクが同一のマスクセットMSKSに属
しているときにだけ関連のある信号路が生じることが保
証されるはずである。
【0017】図2から、集積回路ICが、作動期間中、
出力信号を集積回路の出力側OUTに送出する部分回路
C(第1の構造S1によって実現されてる)を有してい
ることも分かる。更に、集積回路は不活性化回路AKT
を有している。これは、結果信号Sのレベルが低い場合
(すなわち、給電電位VCCと抵抗Rとの間に関連のあ
る信号路が存在していない、すなわち集積回路の製造の
期間に少なくとも1つの反転されたマスクMSKiが使
用されたとき)部分回路の機能を、そこに誤機能が生じ
るように働きかける。この誤機能の結果として、部分回
路Cは正常な作動時に設定されている信号を出力側に出
力せずに、それとは異なった信号を出力することにな
る。この信号は例えば誤機能に基づいて、出力側OUT
を、これが正常作動に設定されていないとき、簡単に高
抵抗に切り換えることができる。いずれの場合にも、こ
の誤機能は集積回路の外部から一義的に認識することが
できかつ生じたエラーに対応付けてやることができる。
その場合、誤機能の発生の際集積回路の外部では、エラ
ーが、回路の製造の期間のマスク割り当ての際に生じた
ものであることを推測することができる。
出力信号を集積回路の出力側OUTに送出する部分回路
C(第1の構造S1によって実現されてる)を有してい
ることも分かる。更に、集積回路は不活性化回路AKT
を有している。これは、結果信号Sのレベルが低い場合
(すなわち、給電電位VCCと抵抗Rとの間に関連のあ
る信号路が存在していない、すなわち集積回路の製造の
期間に少なくとも1つの反転されたマスクMSKiが使
用されたとき)部分回路の機能を、そこに誤機能が生じ
るように働きかける。この誤機能の結果として、部分回
路Cは正常な作動時に設定されている信号を出力側に出
力せずに、それとは異なった信号を出力することにな
る。この信号は例えば誤機能に基づいて、出力側OUT
を、これが正常作動に設定されていないとき、簡単に高
抵抗に切り換えることができる。いずれの場合にも、こ
の誤機能は集積回路の外部から一義的に認識することが
できかつ生じたエラーに対応付けてやることができる。
その場合、誤機能の発生の際集積回路の外部では、エラ
ーが、回路の製造の期間のマスク割り当ての際に生じた
ものであることを推測することができる。
【0018】本発明によって、製造期間中に、正しいマ
スクセットMSKSに割り当てられているような露光マ
スクだけが使用されたのかどうかが検出できるのみなら
ず、これらマスクが集積回路の個々の製造ステップにお
いて正しい順序で使用されたかどうかについても検出さ
れる。
スクセットMSKSに割り当てられているような露光マ
スクだけが使用されたのかどうかが検出できるのみなら
ず、これらマスクが集積回路の個々の製造ステップにお
いて正しい順序で使用されたかどうかについても検出さ
れる。
【0019】本発明は、電気的な集積回路に適用される
のみならず、例えば、マイクロメカニックな構成要素を
含んでいる集積回路にも適用される。
のみならず、例えば、マイクロメカニックな構成要素を
含んでいる集積回路にも適用される。
【図1】本発明の集積回路の横断面を示す略図である。
【図2】回路の第2の構造の評価の原理並びに回路の評
価ユニットの略図である。
価ユニットの略図である。
【図3】集積回路を生成するための製造ステップを説明
する略図である。
する略図である。
【図4】回路の製造のために用いられる、共通のマスク
セットに割り当てられている3つのマスクの略図であ
る。
セットに割り当てられている3つのマスクの略図であ
る。
1 基板、 S1,S2 構造、 M1,M2 金属化
レベル、 P ポリシリコンレベル、 V1,V2 ア
イソレーションレベル、 D スルーロッホ、R 抵
抗、 MSKS マスクセット、 MSKi マスク、
VCC 給電レベル、 S 結果信号
レベル、 P ポリシリコンレベル、 V1,V2 ア
イソレーションレベル、 D スルーロッホ、R 抵
抗、 MSKS マスクセット、 MSKi マスク、
VCC 給電レベル、 S 結果信号
Claims (6)
- 【請求項1】 回路のユーザによって所望される所定の
機能を有している集積回路(IC)であって、該集積回
路は、複数の固定配線レベル(M1,M2,P)におい
て露光マスク(MSKi)を用いて生成される第1の構
造(S1)を有しており、該第1の構造は所定の機能を
実現するために用いられ、固定配線レベルの複数におい
て露光マスク(MSKi)を用いて生成される第2の構
造(S2)を有しており、該第2の構造は所定の機能の
ために用いられるのはなく、使用の露光マスクの、共通
のマスクセット(MSKS)に対する帰属性を検査する
ために用いられる集積回路。 - 【請求項2】 前記第2の構造(S2)は電気的に評価
可能であるので、製造の際に使用された露光マスク(M
SKi)が共通のマスクセット(MSKS)に配属され
ていたかどうかを検出することができる請求項1記載の
集積回路。 - 【請求項3】 評価ユニット(R,AKT)が設けられ
ており、該評価ユニットは第2の構造(S2)を評価し
かつ、製造の際に使用された露光マスク(MSKi)が
共通のマスクセット(MSKS)に配属しているかどう
かを指示する相応の結果信号(S)を生成する請求項2
記載の集積回路。 - 【請求項4】 前記評価ユニット(R,AKT)は前記
結果信号(S)を介して、製造のために使用された露光
マスク(MSKi)が共通のマスクセット(MSKS)
に所属していない場合に、回路(IC)の誤機能をトリ
ガする請求項3記載の集積回路。 - 【請求項5】 回路のユーザによって所望される所定の
機能を有している集積回路(IC)の製造方法であっ
て、該集積回路は、露光マスク(MSKi)を用いて、
製造すべき回路の複数の固定配線レベル(M1,M2,
P)において、所定の機能を実現するために用いられる
第1の構造(S1)を生成し、露光マスク(MSKi)
を用いて、固定配線レベルの複数において、所定の機能
のために用いられるのはなく、使用の露光マスクの、共
通のマスクセット(MSKS)に対する帰属性を検査す
るために用いられる第2の構造(S2)を生成する集積
回路の製造方法。 - 【請求項6】 前記精製された第2の構造(S2)を、
製造の際に使用されたすべての露光マスク(MSKi)
が共通のマスクセット(MSKS)に配属されていたか
どうかについてまで検査する請求項5記載の方法。
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070727 |
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A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20081225 |