JP2001176401A - Member for plasma display, manufacturing method therefor and plasma display - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a member for plasma display having neither cracks at interface between a partition and an auxiliary partition, breakings nor exfoliation, and to provide its manufacturing method, a plasma display that enables displaying of high brightness and quality. SOLUTION: This member for the plasma display has address electrodes and partitions formed on a substrate and auxiliary partitions perpendicular to the partitions, and at least the top of the auxiliary partitions is separated from the partitions.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、壁掛けテレビや大
型モニターに用いられるプラズマディスプレイ用部材お
よびプラズマディスプレイ用部材並びにプラズマディス
プレイの製造方法に係り、特にプラズマディスプレイパ
ネルの輝度を向上し、パネルの表示品位、放電特性を高
めたプラズマディスプレイ用部材およびその製造方法並
びにプラズマディスプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display member used for a wall-mounted television or a large monitor, a plasma display member, and a method of manufacturing a plasma display. The present invention relates to a plasma display member with improved quality and discharge characteristics, a method for manufacturing the same, and a plasma display.

【０００２】[0002]

【従来の技術】薄型・大型テレビに使用できるディスプ
レイとして、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤ
Ｐと略す）が注目されている。ＰＤＰは、例えば、表示
面となる前面板側のガラス基板には、対をなす複数のサ
ステイン電極が銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等
の材料で形成されている。さらにサステイン電極を被覆
してガラスを主成分とする誘電体層が２０〜５０μｍ厚
みで形成され、誘電体層を被覆してＭｇＯ層が形成され
ている。一方、背面板側のガラス基板には、複数のアド
レス電極がストライプ状に形成され、アドレス電極を被
覆してガラスを主成分とする誘電体層が形成されてい
る。誘電体層上に放電セルを仕切るための隔壁が形成さ
れ、隔壁と誘電体層で形成された放電空間内に蛍光体層
が形成されてなる。フルカラー表示が可能なＰＤＰにお
いては、蛍光体層は、ＲＧＢの各色に発光するものによ
り構成される。前面板側のガラス基板のサステイン電極
と背面板側のアドレス電極が互いに直交するように、前
面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリ
ウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封
入されＰＤＰが形成される。スキャン電極とアドレス電
極の交点を中心として画素セルが形成されるので、ＰＤ
Ｐは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。2. Description of the Related Art A plasma display panel (hereinafter referred to as PD) is used as a display which can be used for a thin and large-sized television.
P). In a PDP, for example, a plurality of pairs of sustain electrodes are formed of a material such as silver, chromium, aluminum, or nickel on a glass substrate on a front plate side serving as a display surface. Further, a dielectric layer mainly composed of glass is formed in a thickness of 20 to 50 μm to cover the sustain electrode, and an MgO layer is formed to cover the dielectric layer. On the other hand, a plurality of address electrodes are formed in a stripe shape on the glass substrate on the back plate side, and a dielectric layer mainly composed of glass is formed so as to cover the address electrodes. A partition for dividing discharge cells is formed on the dielectric layer, and a phosphor layer is formed in a discharge space formed by the partition and the dielectric layer. In a PDP capable of full-color display, the phosphor layer is formed of a material that emits light of each color of RGB. The front plate and the back plate are sealed so that the sustain electrodes of the glass plate on the front plate and the address electrodes on the back plate are orthogonal to each other, and are formed of helium, neon, xenon, etc. in the gap between those substrates. A rare gas is sealed to form PDP. Since the pixel cell is formed around the intersection of the scan electrode and the address electrode, PD
P has a plurality of pixel cells and can display an image.

【０００３】ＰＤＰにおいて表示を行う際、選択された
画素セルにおいて、発光していない状態からサステイン
電極とアドレス電極との間に放電開始電圧以上の電圧を
印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素
セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の
電極へと向けて移動してＭｇＯ層の内壁に帯電し、内壁
の電荷はＭｇＯ層の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷
として残留する。When a display is performed on a PDP, when a voltage higher than a discharge starting voltage is applied between a sustain electrode and an address electrode in a selected pixel cell from a state where no light is emitted, cations and electrons generated by ionization are removed. Since the pixel cell is a capacitive load, it moves in the discharge space toward the electrode of the opposite polarity and is charged on the inner wall of the MgO layer, and the charge on the inner wall is not attenuated due to the high resistance of the MgO layer. It remains as wall charges.

【０００４】次に、スキャン電極とサステイン電極の間
に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、
放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。
放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４
７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体を励起するこ
とにより、発光表示が可能になる。Next, a sustaining voltage is applied between the scan electrode and the sustain electrode. Where there is a wall charge,
It is possible to discharge even at a voltage lower than the discharge starting voltage.
The xenon gas in the discharge space is excited by the discharge,
Ultraviolet light of 7 nm is generated, and the ultraviolet light excites the fluorescent substance, thereby enabling light emission display.

【０００５】このようなＰＤＰにおいては蛍光面を発光
させた場合の輝度を高めることが重要となっている。こ
の輝度を高めるための手段として、特開平１０−３２１
１４８号公報には、隔壁の他に補助隔壁を設け、補助隔
壁の表面にも蛍光面を形成することにより蛍光面の発光
面積を大きくし、紫外線を効率よく蛍光面に作用させ、
輝度を高めることが提案されている。[0005] In such a PDP, it is important to increase the luminance when the fluorescent screen is illuminated. As means for increasing the luminance, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-321
No. 148, an auxiliary partition is provided in addition to the partition, and a fluorescent screen is also formed on the surface of the auxiliary partition to increase a light emitting area of the fluorescent screen, thereby allowing ultraviolet rays to efficiently act on the fluorescent screen.
It has been proposed to increase the brightness.

【０００６】しかしこのような補助隔壁を形成した場
合、特に補助隔壁が隔壁より太い場合、パターン形成
後、焼成工程において両者の焼成収縮挙動の違いによ
り、隔壁が断線してしまったり、隔壁と補助隔壁界面で
剥離が生じてしまうという問題があった。また、このよ
うな隔壁は、蛍光体層を形成する際の混色の原因となる
ばかりか、ＰＤＰパネルとしての表示特性を極端に悪化
させる要因となる。However, when such an auxiliary partition is formed, especially when the auxiliary partition is thicker than the partition, the partition may be disconnected due to a difference in firing shrinkage behavior between the two in the firing step after pattern formation, or the partition may be disconnected from the partition. There is a problem that separation occurs at the partition wall interface. Such partition walls not only cause color mixing when forming the phosphor layer, but also extremely deteriorate display characteristics as a PDP panel.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、隔壁
と補助隔壁の幅が違う構造、具体的には補助隔壁が隔壁
幅より太い場合であっても、焼成後の剥がれ、断線、形
状変化が生じないプラズマディスプレイ用部材の製造方
法およびプラズマディスプレイ部材並びにプラズマディ
スプレイを提供することを目的とする。Accordingly, the present invention provides a structure having different widths between the partition and the auxiliary partition, specifically, even if the auxiliary partition is wider than the width of the partition, peeling, disconnection and shape change after firing. It is an object of the present invention to provide a plasma display member manufacturing method, a plasma display member, and a plasma display that do not cause the occurrence.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上にアドレス電極と隔壁を形成したプラズマディスプレ
イ用部材であって、隔壁と垂直方向に補助隔壁を形成
し、少なくとも補助隔壁頂部が隔壁と分離していること
を特徴とするプラズマディスプレイ用部材を要旨とする
ものである。That is, the present invention relates to a plasma display member having an address electrode and a partition formed on a substrate, wherein an auxiliary partition is formed in a direction perpendicular to the partition, and at least the top of the auxiliary partition is formed by the partition. The gist of the present invention is a plasma display member that is separated.

【０００９】また本発明は、基板上に感光性ペーストを
塗布し、フォトマスクを介して露光する工程を含むプラ
ズマディスプレイ用部材の製造方法であって、フォトマ
スクが、破線状透光パターンを有するフォトマスクＡと
直線状のストライプパターンを有するフォトマスクＢを
組み合わせることを特徴とする前記プラズマディスプレ
イ用部材の製造方法を要旨とするものである。Further, the present invention is a method for manufacturing a member for a plasma display, comprising a step of applying a photosensitive paste on a substrate and exposing through a photomask, wherein the photomask has a dashed light-transmitting pattern. A gist of the method for manufacturing a member for a plasma display, comprising combining a photomask A and a photomask B having a linear stripe pattern.

【００１０】さらに本発明は、前記記載のプラズマディ
スプレイ用部材で得られたプラズマディスプレイ用部材
を背面板として用いたことを特徴とするプラズマディス
プレイを要旨とするものである。The present invention further provides a plasma display characterized in that a plasma display member obtained from the above-described plasma display member is used as a back plate.

【００１１】[0011]

【発明の実施の形態】以下に、本発明をＰＤＰの作製手
順に沿って説明する。本発明のＰＤＰ用部材としての背
面板に用いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ
用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日
本電気硝子社製の“ＰＰ８”を用いることができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in accordance with a PDP manufacturing procedure. As the substrate used for the back plate as the member for PDP of the present invention, in addition to soda glass, PDP
"PD200" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. or "PP8" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., which is a heat-resistant glass for use.

【００１２】ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロ
ム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成す
る。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機
バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印
刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感
光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後
に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分
を現像工程で溶解除去し、さらに、４００〜６００℃に
加熱・焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト
法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロム
やアルミニウム等の金属をスパッタリングした後に、レ
ジストを塗布し、レジストをパターン露光・現像した後
にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッ
チング法を用いることができる。電極厚みは１〜１０μ
ｍが好ましく、２〜５μｍがより好ましい。電極厚みが
薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる
傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コスト
的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは
２０〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍで
ある。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり
正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣合う
電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じや
すい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画
素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成さ
れる。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精細Ｐ
ＤＰにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成する
のが好ましい。An address electrode is formed on a glass substrate by using a metal such as silver, aluminum, chromium or nickel. As a method of forming, a method of pattern-printing a metal paste containing these metal powders and an organic binder as main components by screen printing, or after applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder, A photosensitive paste method in which pattern exposure is performed using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a developing step, and further, heating and baking at 400 to 600 ° C. to form a metal pattern can be used. In addition, an etching method in which a metal such as chromium or aluminum is sputtered on a glass substrate, a resist is applied, and the resist is subjected to pattern exposure / development, followed by etching to remove an unnecessary portion of the metal by etching. Electrode thickness is 1-10μ
m is preferable, and 2 to 5 μm is more preferable. If the electrode thickness is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be difficult. If the electrode thickness is too thick, a large amount of material is required, which tends to be disadvantageous in cost. The width of the address electrode is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. If the width of the address electrode is too small, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult. If the address electrode is too thick, the distance between adjacent electrodes is small, and short-circuit defects tend to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (the area where each RGB of a pixel is formed). 100-500 μm for normal PDP, high-definition P
DP is preferably formed at a pitch of 100 to 400 μm.

【００１３】次いで誘電体層を好ましく形成する。誘電
体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラ
スペーストをアドレス電極を覆う形で塗布した後に、４
００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電
体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマ
ス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有
し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉
末を好ましく用いることができる。１０重量％以上とす
ることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重
量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防
止する。これらのガラス粉末と有機バインダーと混練し
てペーストを作成できる。用いる有機バインダーとして
は、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表され
るセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレ
ート等のアクリル系化合物等を用いることができる。ま
た、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加
えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラ
クトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用
いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタ
レート、ジエチルフタレート等を用いることができる。
ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、
反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。
フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム等が好ましく、粒子径０．０５〜３μｍ
の酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの
含有量はガラス粉末：フィラーの比で、１：１〜１０：
１が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の１０分
の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることがで
きる。また、ガラス粉末の等量以下とすることで、焼結
性を保つことができる。また、導電性微粒子を添加する
ことにより駆動時の信頼性の高いＰＤＰを作成すること
ができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金
属粉末が好ましく、粒子径は１〜１０μｍが好ましい。
１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μ
ｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容
易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体
層に含まれる含有量としては、０．１〜１０重量％が好
ましい。０．１重量％以上とすることで導電性を得るこ
とができ、１０重量％以下とすることで、隣り合うアド
レス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層
の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜
１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホー
ルが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くな
り、消費電力が大きくなる傾向にある。Next, a dielectric layer is preferably formed. The dielectric layer is formed by applying a glass paste containing glass powder and an organic binder as main components so as to cover the address electrodes.
It can be formed by firing at 00 to 600 ° C. As the glass paste used for the dielectric layer, a glass powder containing at least one kind of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide, and phosphorus oxide, and a total of 10 to 80% by weight of these can be preferably used. When the content is 10% by weight or more, baking at 600 ° C. or less is facilitated, and when the content is 80% by weight or less, crystallization is prevented and a decrease in transmittance is prevented. A paste can be prepared by kneading these glass powders with an organic binder. As the organic binder to be used, cellulose compounds such as ethyl cellulose and methyl cellulose, and acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, and isobutyl acrylate can be used. Further, additives such as a solvent and a plasticizer may be added to the glass paste. As the solvent, general-purpose solvents such as terpineol, butyrolactone, toluene, and methylcellosolve can be used. Further, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used as the plasticizer.
By adding filler components other than glass powder,
A PDP with high reflectance and high luminance can be obtained.
As the filler, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are preferable, and the particle diameter is 0.05 to 3 μm.
It is particularly preferable to use titanium oxide. The content of the filler is glass powder: filler ratio of 1: 1 to 10:
1 is preferred. By setting the content of the filler to one-tenth or more of the glass powder, it is possible to obtain the effect of improving the luminance. In addition, the sinterability can be maintained by setting the equivalent amount of the glass powder or less. Further, by adding the conductive fine particles, a PDP with high reliability at the time of driving can be manufactured. The conductive fine particles are preferably metal powders such as nickel and chromium, and the particle diameter is preferably 1 to 10 μm.
A sufficient effect can be exhibited by setting the thickness to 1 μm or more,
By setting it to m or less, irregularities on the dielectric can be suppressed to facilitate the formation of the partition walls. The content of these conductive fine particles in the dielectric layer is preferably 0.1 to 10% by weight. When the content is 0.1% by weight or more, conductivity can be obtained, and when the content is 10% by weight or less, short circuit between adjacent address electrodes can be prevented. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 30 μm.
15 μm. If the thickness of the dielectric layer is too small, the number of pinholes tends to increase. If the thickness is too large, the discharge voltage tends to increase and the power consumption tends to increase.

【００１４】本発明のプラズマディスプレイ用部材は、
基板上もしくは誘電体層上に、放電セルを仕切るための
隔壁および隔壁（あるいはアドレス電極）の垂直方向に
補助隔壁を形成する。図１は本発明で形成する隔壁およ
び補助隔壁の形状の一例を示す斜視図である。図１にお
いて、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは隔壁、２Ａ、２Ｂ、２Ｃは補
助隔壁、３は誘電体層、４はアドレス電極、５はガラス
基板である。隔壁１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、アドレス電極と
平行方向に形成する。[0014] The member for a plasma display of the present invention comprises:
On the substrate or on the dielectric layer, auxiliary partitions are formed in the vertical direction of the partitions for partitioning the discharge cells and the partitions (or address electrodes). FIG. 1 is a perspective view showing an example of the shape of a partition and an auxiliary partition formed in the present invention. In FIG. 1, reference numerals 1A, 1B and 1C denote partition walls, 2A, 2B and 2C denote auxiliary partition walls, 3 a dielectric layer, 4 an address electrode, and 5 a glass substrate. The partition walls 1A, 1B, and 1C are formed in a direction parallel to the address electrodes.

【００１５】隔壁の断面形状は台形や矩形に形成するこ
とができる。隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適
している。８０μｍ以上とすることで蛍光体とスキャン
電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化
を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすること
で、スキャン電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十
分な輝度を得ることができる。またピッチ（Ｐ）は、１
００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。ま
た、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッ
チ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１０
０μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を
得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細
かいきれいな映像表示ができる。２５０μｍ以下にする
ことにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい
映像を表示することができる。The sectional shape of the partition can be trapezoidal or rectangular. The height of the partition wall is preferably 80 μm to 200 μm. When the thickness is 80 μm or more, it is possible to prevent the phosphor and the scan electrode from coming too close to each other, and to prevent the phosphor from being deteriorated due to discharge. When the thickness is 200 μm or less, the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor can be reduced, and sufficient luminance can be obtained. The pitch (P) is 1
Those having a size of 00 μm ≦ P ≦ 500 μm are often used. In the high definition plasma display, the pitch (P) of the partition walls is 100 μm ≦ P ≦ 250 μm. 10
When the thickness is 0 μm or more, a sufficient discharge space can be obtained and sufficient luminance can be obtained. When the thickness is 500 μm or less, fine and clear images with fine pixels can be displayed. By setting the thickness to 250 μm or less, a beautiful video at an HDTV (high definition) level can be displayed.

【００１６】補助隔壁を形成することにより、補助隔壁
の壁面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を
大きくとることができる。従って、紫外線が効率よく蛍
光面に作用するため輝度を高めることが可能である。ま
た、補助隔壁が存在することで、隔壁全体の結合面積が
広くなり、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔
壁の幅を小さくすることができ、表示セル部における放
電容積を大きくすることができ、放電効率をさらによく
することができる。By forming the auxiliary partition, a phosphor layer can be formed also on the wall surface of the auxiliary partition, and the light emitting area can be increased. Therefore, since the ultraviolet rays efficiently act on the fluorescent screen, the luminance can be increased. In addition, the presence of the auxiliary partition increases the bonding area of the entire partition, thereby obtaining structural strength of the member. As a result, the width of the partition can be reduced, the discharge volume in the display cell portion can be increased, and the discharge efficiency can be further improved.

【００１７】隔壁の半値幅は、２０〜１２０μｍ、さら
には２５〜９０μｍであることが好ましい。隔壁の半値
幅が２０μｍ未満では、強度が低くなり、前面板との封
着時に隔壁が倒れたりするという問題が生じやすくな
る。また１２０μｍを越えると、蛍光体層の形成面積が
小さくなるため、ＰＤＰとした場合、輝度が低くなる傾
向にある。The half width of the partition walls is preferably 20 to 120 μm, more preferably 25 to 90 μm. If the half-value width of the partition is less than 20 μm, the strength becomes low, and the problem that the partition collapses when sealing with the front plate is likely to occur. On the other hand, if the thickness exceeds 120 μm, the formation area of the phosphor layer becomes small, so that the brightness tends to be low when PDP is used.

【００１８】また、補助隔壁の半値幅は、隔壁のピッチ
により異なるが、通常隔壁幅の１〜３００倍、好ましく
は１．５〜２００倍であることが好ましい。補助隔壁幅
が前記範囲未満では補助隔壁としての効果が低くなりや
すく、また前記範囲を超えるとＰＤＰとした場合輝度が
低くなるばかりか発光効率が低下傾向にある。The half-value width of the auxiliary partition varies depending on the pitch of the partition, but is usually 1 to 300 times, preferably 1.5 to 200 times the partition width. If the width of the auxiliary partition is less than the above range, the effect as the auxiliary partition tends to be low, and if it exceeds the range, not only the brightness but also the luminous efficiency tends to decrease when PDP is used.

【００１９】本発明で、補助隔壁の少なくともその頂部
は、隔壁と分離している必要がある。本発明のように補
助隔壁を形成し、特に補助隔壁が隔壁の半値幅より大き
い場合、隔壁焼成時に、両者の焼成収縮挙動の違いによ
り、隔壁と補助隔壁の界面で亀裂、跳ね上がりが発生し
たり、補助隔壁の剥離が生じる場合がある。In the present invention, at least the top of the auxiliary partition must be separated from the partition. Forming the auxiliary partition as in the present invention, especially when the auxiliary partition is larger than the half-width of the partition, during the baking of the partition, due to the difference in firing shrinkage behavior of both, cracks at the interface between the partition and the auxiliary partition, jumping or In some cases, peeling of the auxiliary partition may occur.

【００２０】この問題に対し本発明の図１のように補助
隔壁の少なくとも頂部を隔壁と分離する方法を採用する
ことで、前記亀裂、跳ね上がり、剥離の発生を防ぐこと
ができる。To solve this problem, the method of separating at least the top of the auxiliary partition wall from the partition wall as shown in FIG. 1 of the present invention can prevent the cracks, jumping up, and peeling.

【００２１】本発明の隔壁および補助隔壁の構成を、図
２、図３、図４を用いて具体的に説明する。隔壁と補助
隔壁が分離した部分の深さＨは、補助隔壁頂部から補助
隔壁高さの４０％以上、さらには５０％以上であること
が好ましい。もちろんこの場合、隔壁と補助隔壁が完全
に分離していてもよい。隔壁と補助隔壁の分離した深さ
Ｈが前記範囲未満では、前記問題対策の効果が薄れ、隔
壁と補助隔壁界面で亀裂、また隔壁の断線、剥離が生じ
やすくなる傾向にある。The structures of the partition and the auxiliary partition of the present invention will be specifically described with reference to FIGS. 2, 3 and 4. FIG. The depth H of the part where the partition and the auxiliary partition are separated is preferably 40% or more, more preferably 50% or more of the height of the auxiliary partition from the top of the auxiliary partition. Of course, in this case, the partition and the auxiliary partition may be completely separated. If the depth H at which the partition wall and the auxiliary partition wall are separated from each other is less than the above range, the effect of the above-described measures is weakened, and cracks at the interface between the partition wall and the auxiliary partition wall, and disconnection and peeling of the partition wall tend to occur.

【００２２】また、隔壁と補助隔壁の分離した部分の長
さＬは、その最大値が隔壁ピッチの１／８０〜１／１
０、さらには１／７０〜１／７であることが好ましい。
分離した部分の長さＬが前記範囲未満では、隔壁と補助
隔壁の界面での亀裂発生や、隔壁の断線、剥離発生とい
った問題を抑制する効果が低くなりやすく、また前記範
囲を超えると補助隔壁としての効果が薄れるため好まし
くない。The maximum value of the length L of the separated portion between the partition and the auxiliary partition is 1/80 to 1/1 of the partition pitch.
It is preferably 0, more preferably 1/70 to 1/7.
When the length L of the separated portion is less than the above range, the effect of suppressing problems such as crack generation at the interface between the partition and the auxiliary partition, disconnection of the partition, and occurrence of peeling is likely to be low. Is not preferred because the effect of the method is weakened.

【００２３】さらに補助隔壁の高さは隔壁高さの１／１
０〜１／１、さらには１／８〜１／１であることが好ま
しい。補助隔壁の高さを隔壁の高さの１／１０以上とす
ることで、発光面積を大きくとることによる輝度向上の
効果を得ることができる。また、蛍光体層の形成の際の
混色や、プラズマディスプレイの表示の際の他色間のク
ロストークの発生を考慮すると、補助隔壁の高さは隔壁
の高さの１／１以下とすることが好ましい。Further, the height of the auxiliary partition is 1/1 of the partition height.
It is preferably 0 to 1/1, more preferably 1/8 to 1/1. By setting the height of the auxiliary partition walls to 1/10 or more of the height of the partition walls, an effect of improving luminance by increasing the light emitting area can be obtained. Also, in consideration of the color mixture at the time of forming the phosphor layer and the occurrence of crosstalk between other colors at the time of displaying on the plasma display, the height of the auxiliary partition should be not more than 1/1 of the height of the partition. Is preferred.

【００２４】補助隔壁を形成する位置とピッチは、前面
板と合わせてプラズマディスプレイとした際に画素を区
切る位置に形成することが、ガス放電と蛍光体層の発光
の効率の点から好ましい。The positions and pitches at which the auxiliary partition walls are formed are preferably formed at positions that separate pixels when combined with the front panel to form a plasma display, from the viewpoint of gas discharge and emission efficiency of the phosphor layer.

【００２５】隔壁と補助隔壁の他に、接合補助壁なるも
のを形成することも好ましい。接合補助壁とは、補助隔
壁の並列パターンの両側部の外側であり隔壁の端部であ
る箇所に、隔壁と垂直方向に形成するものであり、これ
により隔壁端部の剥がれを防ぐことができる。隔壁が接
合補助壁に対して突出する端部の長さは０．５ｍｍ以下
とすることが、剥がれ防止の実効を得る上で好ましい。It is also preferable to form a joining auxiliary wall in addition to the partition and the auxiliary partition. The joining auxiliary wall is formed outside the both sides of the parallel pattern of the auxiliary partition walls and at a position that is an end of the partition wall, in a direction perpendicular to the partition wall, thereby preventing peeling of the partition wall end portion. . It is preferable that the length of the end portion where the partition wall protrudes from the joining auxiliary wall be 0.5 mm or less in order to obtain the effect of preventing peeling.

【００２６】また本発明では、補助隔壁頂部に溝を形成
することも好ましく行われる。具体的には、図５に示す
ような補助隔壁頂部に、隔壁の平行方向に少なくとも１
本のストライプ状の溝を形成することで、補助隔壁が太
い場合であっても、焼成収縮量が緩和されるばかりか、
焼成時の脱脂性も向上し、焼成時の補助隔壁の断線、亀
裂の発生を抑制できる。補助隔壁頂部に形成されるスト
ライプ状の溝の幅は、隔壁ピッチの１／５０〜１／５で
あることが前記理由の点から好ましい。In the present invention, it is also preferable to form a groove at the top of the auxiliary partition. Specifically, at least one of the auxiliary partition walls shown in FIG.
By forming the stripe-shaped groove of the book, even when the auxiliary partition is thick, not only the amount of firing shrinkage is reduced,
The degreasing property at the time of firing is also improved, and disconnection and cracking of the auxiliary partition walls at the time of firing can be suppressed. The width of the stripe-shaped groove formed on the top of the auxiliary partition wall is preferably 1/50 to 1/5 of the partition wall pitch for the reasons described above.

【００２７】また、本発明で補助隔壁は、図６に示すよ
うな隔壁の平行方向に配列された短隔壁の集合体であっ
てもよい。短隔壁の長さは、前述した補助隔壁の幅同様
の理由から、通常隔壁の半値幅の１〜３００の範囲で設
計される。また、短隔壁の形状は、隔壁と近似の形状と
することが、面内均一性の点から好ましい。さらに短隔
壁の半値幅、底部幅、高さ、ピッチ、本数等は特に限定
されるものではないが、連続した補助隔壁と近似の機能
を果たすために、半値幅は１０〜１００μｍ、底部幅は
１３〜１４０μｍ、高さは隔壁高さの１／１０〜１／
１、ピッチは３０〜２００μｍ、本数は２本以上である
ことが好ましい。Further, in the present invention, the auxiliary partition may be an aggregate of short partitions arranged in parallel to the partition as shown in FIG. The length of the short partition is usually designed in the range of 1 to 300 of the half width of the partition for the same reason as the width of the auxiliary partition described above. In addition, it is preferable that the shape of the short partition wall be similar to that of the partition wall from the viewpoint of in-plane uniformity. Furthermore, the half width, short width, bottom width, height, pitch, number, and the like of the short partitions are not particularly limited, but in order to perform a function similar to continuous auxiliary partitions, the half width is 10 to 100 μm, and the bottom width is 13-140 μm, height is 1 / 10-1 / 1 of partition height
1. The pitch is preferably 30 to 200 μm, and the number is preferably two or more.

【００２８】次に、本発明における隔壁および補助隔壁
の形成方法について説明する。隔壁および補助隔壁は、
基板上に絶縁性無機成分と有機成分からなるペースト
を、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、感光性ペー
スト法（フォトリソグラフィー法）、金型転写法、リフ
トオフ法等公知の技術により隔壁および補助隔壁パター
ンを形成し、焼成することで形成されるが、溝の形状制
御、均一性等の理由から、中でも感光性ペーストを基板
上に塗布、乾燥し感光性ペースト膜を形成し、フォトマ
スクを介して露光・現像するいわゆる感光性ペースト法
（フォトリソグラフィー法）が本発明では好ましく適用
される。Next, a method of forming the partition and the auxiliary partition in the present invention will be described. The bulkhead and the auxiliary bulkhead are
A paste consisting of an insulating inorganic component and an organic component is formed on a substrate by a known technique such as a screen printing method, a sand blast method, a photosensitive paste method (photolithography method), a mold transfer method, and a lift-off method. It is formed by forming and baking, but for reasons such as groove shape control and uniformity, among other things, apply a photosensitive paste on the substrate, dry it, form a photosensitive paste film, and expose it through a photomask. A so-called photosensitive paste method (photolithography method) of developing is preferably applied in the present invention.

【００２９】以下に本発明で好ましく適用する感光性ペ
ースト法について、詳述する。本発明で用いる感光性ペ
ーストは、無機微粒子と感光性有機成分を主成分とする
ものである。Hereinafter, the photosensitive paste method preferably applied in the present invention will be described in detail. The photosensitive paste used in the present invention contains inorganic fine particles and a photosensitive organic component as main components.

【００３０】感光性ペーストの無機微粒子としては、ガ
ラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）な
どを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素
酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とする
ガラスやセラミックスが好ましい。As the inorganic fine particles of the photosensitive paste, glass, ceramic (alumina, cordierite, etc.) and the like can be used. In particular, glass and ceramics containing silicon oxide, boron oxide, or aluminum oxide as an essential component are preferable.

【００３１】無機微粒子の粒子径は、作製しようとする
パターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径
（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、よ
り好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以
下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができ
る。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調
整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２
〜３ｍ²／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン
形成において、特に好ましい。The particle size of the inorganic fine particles is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced. The volume average particle size (D50) is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1 to 5 μm. It is. By setting D50 to 10 μm or less, it is possible to prevent the occurrence of surface irregularities. When the thickness is 1 μm or more, the viscosity of the paste can be easily adjusted. Furthermore, specific surface area 0.2
It is particularly preferable to use glass fine particles of up to 3 m ² / g in pattern formation.

【００３２】隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化
点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機
微粒子として、熱軟化温度が３５０℃〜６００℃のガラ
ス微粒子を６０重量％以上含む無機微粒子を用いること
が好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上のガラス
微粒子やセラミック微粒子を添加することによって、焼
成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、４
０重量％以下が好ましい。用いるガラス微粒子として
は、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには
線膨脹係数が５０×１０^-7〜９０×１０^-7、更には、６
０×１０^-7〜９０×１０^-7のガラス微粒子を用いること
が好ましい。Since the partition walls and the auxiliary partition walls are preferably formed on a glass substrate having a low thermal softening point, inorganic fine particles containing glass fine particles having a thermal softening temperature of 350 ° C. to 600 ° C. in an amount of 60% by weight or more are used as inorganic fine particles. It is preferable to use Further, by adding glass fine particles or ceramic fine particles having a heat softening temperature of 600 ° C. or more, the shrinkage rate during firing can be suppressed, but the amount is 4%.
It is preferably 0% by weight or less. The glass fine particles to be used have a linear expansion coefficient of 50 × 10 ^{−7 to} 90 × 10 ⁻⁷ , more preferably 6 × 10 ⁻⁷ to prevent warping of the glass substrate during firing.
It is preferable to use glass particles of 0 × 10 ^{−7 to} 90 × 10 ⁻⁷ .

【００３３】ガラス微粒子としては、ケイ素および／ま
たはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いら
れる。As the glass fine particles, glass containing an oxide of silicon and / or boron is preferably used.

【００３４】酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配
合されていることが好ましい。３重量％以上とすること
で、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、
熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマ
ッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にする
ことによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼
き付けが可能になるなどの利点がある。The silicon oxide is preferably blended in the range of 3 to 60% by weight. By setting the content to 3% by weight or more, the denseness, strength and stability of the glass layer are improved, and
The coefficient of thermal expansion can be set within a desired range, and mismatch with the glass substrate can be prevented. Further, by setting the content to 60% by weight or less, there is an advantage that the heat softening point is lowered and baking on a glass substrate becomes possible.

【００３５】酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配
合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、
絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上
することができる。５０重量％以下とすることでガラス
の安定性を保つことができる。By mixing boron oxide in the range of 5 to 50% by weight, electrical insulation, strength, coefficient of thermal expansion,
Electrical, mechanical, and thermal properties such as the denseness of the insulating layer can be improved. When the content is 50% by weight or less, the stability of the glass can be maintained.

【００３６】さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛
のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有
させることによって、ガラス基板上にパターン加工する
のに適した温度特性を有するガラスペーストを得ること
ができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有す
るガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが
長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子と
しては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ま
しい。 酸化ビスマス ：１０〜４０重量部 酸化ケイ素 ： ３〜５０重量部 酸化ホウ素 ：１０〜４０重量部 酸化バリウム ： ８〜２０重量部 酸化アルミニウム：１０〜３０重量部。Further, by containing at least one of bismuth oxide, lead oxide and zinc oxide in a total amount of 5 to 50% by weight, a glass paste having a temperature characteristic suitable for pattern processing on a glass substrate can be obtained. Obtainable. In particular, when glass particles containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide are used, advantages such as long pot life of the paste can be obtained. As the bismuth-based glass fine particles, it is preferable to use a glass powder having the following composition. Bismuth oxide: 10 to 40 parts by weight Silicon oxide: 3 to 50 parts by weight Boron oxide: 10 to 40 parts by weight Barium oxide: 8 to 20 parts by weight Aluminum oxide: 10 to 30 parts by weight

【００３７】また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％
含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物
の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％
以下にすることによって、ペーストの安定性を向上する
ことができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸
化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。
リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成
を含むガラス粉末を用いることが好ましい。 酸化リチウム ： ２〜１５重量部 酸化ケイ素 ：１５〜５０重量部 酸化ホウ素 ：１５〜４０重量部 酸化バリウム ： ２〜１５重量部 酸化アルミニウム： ６〜２５重量部。Further, at least one of lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide is 3 to 20% by weight.
Glass fine particles may be used. The addition amount of the alkali metal oxide is 20% by weight or less, preferably 15% by weight.
By doing so, the stability of the paste can be improved. Among the above three kinds of alkali metal oxides, lithium oxide is particularly preferable in view of the stability of the paste.
As the lithium-based glass fine particles, for example, it is preferable to use a glass powder having the following composition. Lithium oxide: 2 to 15 parts by weight Silicon oxide: 15 to 50 parts by weight Boron oxide: 15 to 40 parts by weight Barium oxide: 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide: 6 to 25 parts by weight.

【００３８】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量
で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールする
ことができる。Further, when glass fine particles containing both a metal oxide such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and an alkali metal oxide such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, a lower alkali content is obtained. The amount can easily control the thermal softening temperature and the coefficient of linear expansion.

【００３９】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特
に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加
することにより、加工性を改良することができるが、熱
軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重
量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下で
ある。Further, by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and the like, particularly aluminum oxide, barium oxide, and zinc oxide to the glass fine particles, the processability is improved. However, from the viewpoint of the thermal softening point and the coefficient of thermal expansion, the content is preferably 40% by weight or less, more preferably 25% by weight or less.

【００４０】感光性有機成分としては、感光性モノマ
ー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なく
とも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好
ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収
剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を添加す
る。It is preferable that the photosensitive organic component contains a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer. An initiator, a light absorber, a sensitizer, an organic solvent, a sensitization aid, and a polymerization inhibitor are added.

【００４１】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単
官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル
系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができ
る。これらは１種または２種以上使用することができ
る。The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include monofunctional and polyfunctional (meth) acrylates, vinyl compounds and allyl compounds. Etc. can be used. These can be used alone or in combination of two or more.

【００４２】感光性オリゴマー、感光性ポリマーとして
は、炭素−炭素２重結合を有する化合物のうちの少なく
とも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを
用いることができる。重合する際に、これらのモノマの
含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量
％以上になるように、他の感光性のモノマと共重合する
ことができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン
酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の
現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具
体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、
または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして
得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポ
リマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜
１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好
ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対
して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させるこ
とによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴ
マーとして用いることができる。好ましい光反応性基
は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン
性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル
基、メタクリル基などが挙げられる。As the photosensitive oligomer or photosensitive polymer, an oligomer or polymer obtained by polymerizing at least one kind of a compound having a carbon-carbon double bond can be used. At the time of polymerization, these monomers can be copolymerized with other photosensitive monomers such that the content of these monomers is at least 10% by weight, more preferably at least 35% by weight. By copolymerizing the polymer or oligomer with an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid, the developability after exposure can be improved. Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid,
Alternatively, these acid anhydrides and the like can be mentioned. The acid value (AV) of the polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is 50 to 50.
A range of 180 is preferable, and a range of 70 to 140 is more preferable. By adding a photoreactive group to the side chain or molecular terminal of the polymer or oligomer shown above, it can be used as a photosensitive polymer or photosensitive oligomer having photosensitivity. Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group.

【００４３】光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾ
フェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロ
ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニル
ケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられ
る。これらを１種または２種以上使用することができ
る。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは
０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましく
は、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤
の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光
重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さく
なり過ぎる傾向にある。Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl O-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, and 4,4-dichlorobenzophenone. , 4-benzoyl-4-methylphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone and the like. One or more of these can be used. The photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.05 to 10% by weight, more preferably in the range of 0.1 to 5% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity tends to decrease, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to be too small.

【００４４】光吸収剤を添加することも有効である。紫
外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することに
よって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られ
る。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ま
しく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケト
ン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アント
ラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシ
アノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミ
ノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼
成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁
膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中
でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。
有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、
より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が
少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあ
り、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向に
ある。It is also effective to add a light absorber. By adding a compound having a high effect of absorbing ultraviolet light or visible light, a high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. As the light absorber, those composed of organic dyes are preferably used.Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenyl cyanoacrylate dyes Dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes and the like can be used. Since the organic dye does not remain in the insulating film after firing, deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorber can be reduced, which is preferable. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferred.
The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by weight,
More preferably, it is 0.05 to 1% by weight. If the amount is too small, the effect of adding the light absorber tends to decrease, and if it is too large, the properties of the insulating film after firing tend to deteriorate.

【００４５】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘ
キサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以
上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添
加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常
０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重
量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上さ
せる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過
ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。A sensitizer is added to improve the sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone,
2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone and the like. One or more of these can be used. When a sensitizer is added to the photosensitive paste, the amount is usually 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity tends not to be exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to decrease.

【００４６】有機溶媒としては、例えば、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエ
チルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
フォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリド
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブ
ロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、ク
ロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する
有機溶媒混合物が用いられる。Examples of the organic solvent include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ -Butyllactone, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and one or more of these An organic solvent mixture containing is used.

【００４７】感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒
子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３
本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。The photosensitive paste is usually prepared by mixing the above-mentioned inorganic fine particles and organic components so as to have a predetermined composition.
It is manufactured by mixing and dispersing homogeneously with this roller or kneader.

【００４８】次いで感光性ペーストの塗布、乾燥、露
光、現像等を行うが、これらの一連の工程の説明に先立
ち、本発明で好ましく適用する感光性ペースト法におい
て、露光で用いるフォトマスクとしては、破線状透光パ
ターンを有するフォトマスクＡと直線状のストライプパ
ターンを有するフォトマスクＢを組み合わせることこと
が重要である。破線状あるいは直線状とは、有限の長さ
と幅を有する断続的あるいは連続的なスリットを指す。
通常は、連続的に延在する直線状のスリットから頂部が
平坦な隔壁等を得ることができるが、本発明者等は、断
続的に延在する破線状のスリットから、隔壁と補助隔壁
頂部を分離でき、フォトマスクＡの破線部分の長さを調
整することで、隔壁と補助隔壁の分離深さを調整できる
ことを見出した。Next, a photosensitive paste is applied, dried, exposed, developed, and the like. Prior to the description of a series of these steps, in a photosensitive paste method preferably applied in the present invention, a photomask used for exposure includes: It is important to combine a photomask A having a dashed light-transmitting pattern with a photomask B having a linear stripe pattern. Dashed or straight refers to an intermittent or continuous slit having a finite length and width.
Normally, a partition having a flat top can be obtained from a linear slit extending continuously, but the present inventors have found that a partition and a top of an auxiliary partition can be obtained from a broken slit extending intermittently. It has been found that the separation depth of the partition and the auxiliary partition can be adjusted by adjusting the length of the broken line portion of the photomask A.

【００４９】つまり、フォトリソグラフィーにおいて露
光光はフォトマスク以降完全に鉛直方向に直進するわけ
ではなく、フォトマスクの遮光部の陰になる部分にも若
干露光光がまわり込む。従って、光硬化型の感光性ペー
ストを用い、破線状のスリットが途切れる間隔や露光条
件を調節すると、スリットが途切れる遮光部の直下は硬
化されないが、塗布膜の深さ方向に進んだ箇所では露光
光のまわり込みにより硬化する。かくして所望の寸法
で、隔壁と補助隔壁を分離することができる。また、露
光光源の平行度を高くしたり、露光量を小さくすること
で分離深さの最大深さを大きくすることができ、また逆
に露光光源の平行度を低くしたり、露光量を大きくする
ことで分離深さの最大深さを小さくすることができる。
さらに、ギャップ量を大きくすることで分離深さの深さ
を小さくすることができ、またギャップ量を小さくする
ことで分離深さの深さを小さくすることができる。That is, in the photolithography, the exposure light does not go straight in the vertical direction completely after the photomask, but also slightly goes around the shaded portion of the light shielding portion of the photomask. Therefore, when using a photo-curing type photosensitive paste and adjusting the exposure interval and the interval at which the dashed slit is interrupted, the portion immediately below the light-shielding portion at which the slit is interrupted is not cured, but is exposed at a position advanced in the depth direction of the coating film. It cures due to light wraparound. Thus, the partition and the auxiliary partition can be separated with desired dimensions. In addition, by increasing the parallelism of the exposure light source or reducing the exposure amount, the maximum separation depth can be increased, and conversely, the parallelism of the exposure light source can be reduced or the exposure amount can be increased. By doing so, the maximum separation depth can be reduced.
Further, the separation depth can be reduced by increasing the gap amount, and the separation depth can be reduced by reducing the gap amount.

【００５０】以下に、隔壁と補助隔壁の高さ関係に応じ
て好ましく適用する、塗布から露光までの２種類の一連
の形成工程を示す。The following describes a series of two types of forming steps from application to exposure, which are preferably applied according to the height relationship between the partition and the auxiliary partition.

【００５１】第１の形成工程は補助隔壁の高さがアドレ
ス電極と平行方向に形成される隔壁高さより低い場合に
好ましく適用される。まず乾燥・焼成による収縮分を考
慮した補助隔壁高さに相当する厚みの感光性ペーストを
塗布、乾燥し、破線状透光パターンを有するフォトマス
クＡを、アドレス電極と破線状スリットが垂直となるよ
うに配置し、露光する。その際、スリットの途切れる区
間の中央部に隔壁の幅方向の端部が位置するようフォト
マスクを配置することが好ましい。The first forming step is preferably applied when the height of the auxiliary partition is lower than the height of the partition formed in the direction parallel to the address electrode. First, a photosensitive paste having a thickness corresponding to the height of the auxiliary partition wall in consideration of shrinkage due to drying and baking is applied and dried, and a photomask A having a dashed light-transmitting pattern is formed. And expose. At this time, it is preferable to dispose the photomask so that the end in the width direction of the partition is located at the center of the section where the slit is interrupted.

【００５２】次いで、乾燥・焼成による収縮分を考慮し
た残りの隔壁の高さに相当する厚みとなるように、前記
補助隔壁パターンが露光された膜上に感光性ペーストを
塗布、乾燥し、直線状のストライプのパターンを有する
フォトマスクＢをアドレス電極と直線状スリットが平行
となるように配置し再び露光する。Next, a photosensitive paste is applied onto the film on which the auxiliary partition wall pattern has been exposed so as to have a thickness corresponding to the height of the remaining partition wall in consideration of the amount of shrinkage due to drying and baking, followed by drying, followed by straightening. A photomask B having a stripe pattern is arranged so that the address electrodes and the linear slits are parallel to each other, and is exposed again.

【００５３】第２の形成工程は、補助隔壁と隔壁の高さ
が同じ場合に好ましく適用される。まず収縮分を考慮し
た隔壁・補助隔壁の高さに相当する厚みの感光性ペース
トを塗布、乾燥し、破線状透光ストライプと直線状のス
トライプが直交するパターンを有するフォトマスクを、
アドレス電極と直線状スリットが平行となるように配置
する。その際、破線状スリットのスリットが隔壁と補助
隔壁に相当するパターン間に位置するようフォトマスク
を配置することが好ましい。The second forming step is preferably applied when the heights of the auxiliary partition and the partition are the same. First, a photosensitive paste having a thickness corresponding to the height of the partition wall and the auxiliary partition wall in consideration of the shrinkage is applied and dried, and a photomask having a pattern in which the dashed transparent stripes and the linear stripes are orthogonal to each other,
The address electrode and the linear slit are arranged so as to be parallel. At this time, it is preferable to dispose the photomask so that the slit of the dashed slit is located between the patterns corresponding to the partition and the auxiliary partition.

【００５４】これらの一連の形成工程において、感光性
ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、
バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレー
ドコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗
布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶ
ことによって調整できる。In these series of forming steps, the method of applying the photosensitive paste includes screen printing,
A bar coater, a roll coater, a die coater, a blade coater and the like can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the screen mesh, and the viscosity of the paste.

【００５５】また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホ
ットプレート、ＩＲ炉などを用いることができる。For drying after coating, a ventilation oven, a hot plate, an IR furnace, or the like can be used.

【００５６】露光で使用される活性光源は、例えば、可
視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光な
どが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、
その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用でき
る。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光
条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／
ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間
露光を行う。The active light source used in the exposure includes, for example, visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, laser light and the like. Of these, ultraviolet rays are most preferred,
As the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a germicidal lamp, and the like can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but 1 to 100 mW /
Exposure is performed for 0.1 to 10 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp having an output of cm ² .

【００５７】ここで、フォトマスクと感光性ペーストの
塗布膜表面との距離、すなわちギャップ量は５０〜５０
０μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好
ましい。ギャップ量を５０μｍ以上さらには７０μｍ以
上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマ
スクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができ
る。また５００μｍ以下さらには４００μｍ以下とする
ことにより、適度にシャープなパターニングが可能とな
る。Here, the distance between the photomask and the surface of the photosensitive paste coating film, that is, the gap amount is 50 to 50.
It is preferable to adjust the thickness to 0 μm, more preferably 70 to 400 μm. When the gap amount is 50 μm or more, and more preferably 70 μm or more, contact between the photosensitive paste coating film and the photomask can be prevented, and destruction and contamination of both can be prevented. By setting the thickness to 500 μm or less, or 400 μm or less, moderately sharp patterning becomes possible.

【００５８】現像は、露光部分と非露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行う。現像は、浸漬
法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。The development is performed by utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the non-exposed portion in the developing solution. The development can be performed by an immersion method, a spray method, a brush method, or the like.

【００５９】現像液は、感光性ペースト中の溶解させた
い有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペー
スト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭
酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使
用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時に
アルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカ
リとしては、一般的なアミン化合物を用いることができ
る。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサ
イド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイ
ド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが
挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１
〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾
向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥
離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。ま
た、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工
程管理上好ましい。As the developing solution, a solution in which an organic component to be dissolved in the photosensitive paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the aqueous alkali solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, an aqueous sodium carbonate solution, an aqueous calcium hydroxide solution, or the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkali aqueous solution because the alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the aqueous alkali solution is usually 0.01
10 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends not to be removed, while if the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to peel off or corrode the non-soluble portion. The development temperature during development is preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.

【００６０】次に、現像により得られた隔壁・補助隔壁
のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度
は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、
窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉として
は、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成
炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００
℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場
合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持し
て焼成を行うと良い。Next, the pattern of the partition walls and the auxiliary partition walls obtained by the development is fired in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste and substrate, but in air,
It is fired in an atmosphere such as nitrogen or hydrogen. As the firing furnace, a batch type firing furnace or a roller hearth type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is 400-800
It is good to carry out at ° C. When partition walls are formed directly on a glass substrate, firing is preferably performed at a temperature of 450 to 620 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００６１】次いで所定のアドレス電極と平行方向に形
成された隔壁間に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）各色に発
光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、
有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペ
ーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じ
て焼成することにより形成することができる。Next, phosphor layers emitting light of R (red), G (green), and B (blue) are formed between the partition walls formed in a direction parallel to the predetermined address electrodes. The phosphor layer includes phosphor powder,
It can be formed by applying a phosphor paste containing an organic binder and an organic solvent as main components between predetermined partition walls, drying, and firing as necessary.

【００６２】蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ
る方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印
刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体
ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、
蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を
有する有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の
蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができる
が、コストの理由からスクリーン印刷法、ディスペンサ
ー法が本発明では好ましく適用される。As a method of applying the phosphor paste between the predetermined partition walls, a screen printing method of pattern printing using a screen printing plate, a dispenser method of pattern-discharging the phosphor paste from the tip of a discharge nozzle, or
The phosphor paste of each color can be applied to a predetermined place by the photosensitive paste method using the above-described photosensitive organic component as an organic binder of the phosphor paste. However, for cost reasons, a screen printing method and a dispenser are used. The method is preferably applied in the present invention.

【００６３】Ｒ蛍光体層の厚みをＴｒ、Ｇ蛍光体層の厚
みをＴｇ、および、Ｂ蛍光体層の厚みをＴｂとしたと
き、好ましくは、 １０μｍ≦Ｔｒ≦Ｔｂ≦５０μｍ １０μｍ≦Ｔｇ≦Ｔｂ≦５０μｍ なる関係を有することにより、より本発明の効果を発揮
できる。つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを
緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランス
に優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製
できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とする
ことで十分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ
以下とすることで放電空間を広くとり高い輝度を得るこ
とができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う隔
壁の中間点での形成厚みとして測定する。つまり、放電
空間（セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとし
て測定する。When the thickness of the R phosphor layer is Tr, the thickness of the G phosphor layer is Tg, and the thickness of the B phosphor layer is Tb, preferably 10 μm ≦ Tr ≦ Tb ≦ 50 μm 10 μm ≦ Tg ≦ Tb By having a relationship of ≦ 50 μm, the effects of the present invention can be more exhibited. In other words, by making the thickness of blue light having a low emission luminance larger than that of green or red, a plasma display having more excellent color balance (higher color temperature) can be manufactured. Sufficient luminance can be obtained by setting the thickness of the phosphor layer to 10 μm or more. Also, 50 μm
By setting it as follows, it is possible to widen the discharge space and obtain high luminance. In this case, the thickness of the phosphor layer is measured as a thickness formed at an intermediate point between adjacent partition walls. That is, it is measured as the thickness of the phosphor layer formed at the bottom of the discharge space (in the cell).

【００６４】塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４０
０〜５５０℃で焼成することにより、本発明のプラズマ
ディスプレイ用部材を作製することができる。The coated phosphor layer is optionally coated with 40
By firing at 0 to 550 ° C., the member for a plasma display of the present invention can be manufactured.

【００６５】このプラズマディスプレイ用部材を背面板
として用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形
成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから
構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラ
ズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所
定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜
（ＭｇＯ）を形成した部材である。背面板上に形成され
たＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルタ
ー層を形成しても良い。また、コントラストを向上する
ために、ブラックストライプを形成しても良い。Using this plasma display member as a back plate, after sealing with the front plate, a discharge gas composed of helium, neon, xenon, or the like is filled in a space formed between the front and rear substrates, and A plasma display can be manufactured by installing a drive circuit. The front plate is a member in which a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective film (MgO) are formed in a predetermined pattern on a substrate. A color filter layer may be formed at a portion corresponding to the RGB phosphor layers formed on the back plate. Further, a black stripe may be formed to improve the contrast.

【００６６】[0066]

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentration (%) in the examples and comparative examples is% by weight.

【００６７】（実施例１）まず前面板を作製した。(Example 1) First, a front plate was manufactured.

【００６８】旭硝子社製ガラス基板”ＰＤ２００”上
に、ＩＴＯを用いて、ピッチ３７５μｍ、線幅１５０μ
ｍのスキャン電極を形成した。また、その基板上に感光
性銀ペーストを塗布した後に、フォトマスクを介したマ
スク露光、０．３％炭酸ナトリウム水溶液を用いた現
像、５８０℃１５分間の焼成工程を経て、線幅５０μ
ｍ、厚み３μｍのバス電極を形成した。次に、酸化鉛を
７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を７０％、エチ
ルセルロース２０％、テルピネオール１０％を混練して
得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示
部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布
した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体を形
成した。誘電体を形成した基板上に電子ビーム蒸着によ
り保護膜として、厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層
を形成して前面板を作製した。On a glass substrate “PD200” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., a pitch of 375 μm and a line width of 150 μm were formed using ITO.
m scan electrodes were formed. Further, after applying a photosensitive silver paste on the substrate, a mask exposure through a photomask, a development using a 0.3% sodium carbonate aqueous solution, a baking process at 580 ° C. for 15 minutes, and a line width of 50 μm were performed.
A bus electrode having a thickness of m and a thickness of 3 μm was formed. Next, a glass paste obtained by kneading 70% of powder of low melting point glass containing 75% by weight of lead oxide, 20% of ethylcellulose and 10% of terpineol is screen-printed so as to cover the bus electrode at the display portion. Was applied at a thickness of 50 μm, and baked at 570 ° C. for 15 minutes to form a dielectric. A 0.5 μm-thick magnesium oxide layer was formed as a protective film on the substrate on which the dielectric was formed by electron beam evaporation to produce a front plate.

【００６９】次に、背面板を作製した。ガラス基板”Ｐ
Ｄ２００”上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を
作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現
像、焼成工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍ、ピッ
チ３６０μｍのアドレス電極を形成した。次に、酸化ビ
スマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０
％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量
％、エチルセルロース１５％、テルピネオール１５％を
混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷によ
り、表示部分のバス電極が覆われるように２０μｍの厚
みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘
電体層を形成した。Next, a back plate was manufactured. Glass substrate "P"
An address electrode was formed on D200 "using a photosensitive silver paste. The photosensitive silver paste was applied, dried, exposed, developed, and fired to form an address electrode having a line width of 50 μm, a thickness of 3 μm, and a pitch of 360 μm. Next, low melting glass powder containing 75% by weight of bismuth oxide was added to 60
%, 10% by weight of a titanium oxide powder having an average particle diameter of 0.3 μm, 15% of ethyl cellulose, and 15% of terpineol are kneaded. A glass paste obtained by screen printing is screen-printed to a thickness of 20 μm to cover the bus electrode at the display portion. After coating with a thickness, baking was performed at 570 ° C. for 15 minutes to form a dielectric layer.

【００７０】誘電体層上に、１層目の感光性ペーストを
塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を
含む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化
リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３
０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重
量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラス
を粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感
光性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含
有するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤であ
る“イルガキュア３６９”（チバガイギー社製）１０重
量％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用
いた。The first layer of the photosensitive paste was applied on the dielectric layer. The photosensitive paste is composed of a glass powder and an organic component including a photosensitive component. The glass powder includes lithium oxide 10% by weight, silicon oxide 25% by weight, boron oxide 3
Glass powder having an average particle diameter of 2 μm was used by pulverizing glass having a composition of 0% by weight, 15% by weight of zinc oxide, 5% by weight of aluminum oxide, and 15% by weight of calcium oxide. As the organic components including the photosensitive component, 30% by weight of an acrylic polymer having a carboxyl group, 30% by weight of trimethylolpropane triacrylate, 10% by weight of a photopolymerization initiator “Irgacure 369” (manufactured by Ciba Geigy), γ -Butyrolactone consisting of 30% by weight was used.

【００７１】感光性ペーストは、これらのガラス粉末と
感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量
比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。
次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて乾燥後
厚み１７０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリー
ンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。乾燥後、ピッ
チ１．０８ｍｍ、線幅４００μｍであり、透光部２５０
μｍ／遮光部１１０μｍのパターンが等間隔に配列され
た破線状ストライプパターンを有するフォトマスクを用
いて、アドレス電極と垂直方向に露光した。なおこのと
き破線状パターンの遮光部が後記する隔壁の幅方向端部
に相当する位置になるよう位置合わせをし、ギャップ量
を１５０μｍとした。露光後、上記感光性ペーストをさ
らに前記露光膜上に塗布し、合計厚みが２００μｍの塗
布膜を得た。The photosensitive paste was prepared by mixing the glass powder and the organic component including the photosensitive component at a weight ratio of 70:30, and kneading the mixture with a roll mill.
Next, this photosensitive paste was applied to a thickness of 170 μm after drying using a die coater. Drying was performed in a clean oven (manufactured by Yamato Kagaku). After drying, the pitch is 1.08 mm and the line width is 400 μm.
Exposure was performed in the direction perpendicular to the address electrodes using a photomask having a dashed stripe pattern in which patterns of μm / light-shielding portion 110 μm were arranged at equal intervals. At this time, positioning was performed so that the light-shielding portion of the dashed pattern corresponded to a position corresponding to an end portion in the width direction of the partition wall described later, and the gap amount was 150 μm. After the exposure, the photosensitive paste was further applied on the exposed film to obtain an applied film having a total thickness of 200 μm.

【００７２】次に、ピッチ３６０μｍ、線幅６０μｍの
ストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、ア
ドレス電極と平行方向に露光した。露光後、０．５重量
％のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、５６
０℃で１５分間焼成することにより、表１に示す構造の
隔壁および補助隔壁が形成されたプラズマディスプレイ
用部材を得た。かくして得られたプラズマディスプレイ
用部材は、隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、ま
た隔壁の断線が無いものであった。Next, exposure was performed in a direction parallel to the address electrodes using a photomask having a stripe pattern having a pitch of 360 μm and a line width of 60 μm. After exposure, the film was developed in a 0.5% by weight aqueous solution of ethanolamine.
By baking at 0 ° C. for 15 minutes, a member for a plasma display in which the partition walls and the auxiliary partition walls having the structures shown in Table 1 were formed was obtained. The plasma display member thus obtained had no cracks generated at the interface between the partition and the auxiliary partition, and had no break in the partition.

【００７３】次に、隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布し
た。蛍光体の塗布は、２５６カ所の穴（口径：１３０μ
ｍ）が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを吐出
するディスペンサー法により形成した。蛍光体は隔壁側
面に焼成後厚み２５μｍ、誘電体上に焼成後厚み２５μ
ｍになるように塗布した後に、５００℃で１０分間の焼
成を行った。かくしてプラズマディスプレイ用部材とし
て、背面板を作製した。Next, a phosphor was applied between adjacent partitions. The phosphor was applied in 256 holes (130 μm in diameter).
m) was formed by a dispenser method in which a phosphor paste was discharged from the tip of the nozzle formed. The phosphor has a thickness of 25 μm after firing on the side wall of the partition and a thickness of 25 μm after firing on the dielectric.
m, and baked at 500 ° C. for 10 minutes. Thus, a back plate was produced as a member for a plasma display.

【００７４】作製した前面板と背面板を封着ガラスを用
いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６
６５００Ｐａになるように封入した。さらに、駆動回路
を実装してプラズマディスプレイを作製した。プラズマ
ディスプレイのスキャン電極に電圧を印加して発光させ
た。その輝度計を用いて輝度を測定したところ、２５０
ｃｄ／ｍ²であり、高い輝度の表示特性を得ることがで
きた。The prepared front plate and back plate were sealed with a sealing glass, and a Ne gas containing 5% of Xe was supplied with an internal gas pressure of 6%.
It sealed so that it might become 6500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to manufacture a plasma display. A voltage was applied to the scan electrode of the plasma display to emit light. When the luminance was measured using the luminance meter, 250
cd / m ² , and high-luminance display characteristics could be obtained.

【００７５】（実施例２）実施例１において、感光性ペ
ーストの１回目の塗布厚みを１２０μｍ、２回目の塗布
厚みを８０μｍ（トータル２００μｍ）に変更した他は
同一手法で表１に示すプラズマディスプレイ用部材を得
た。かくして得られたプラズマディスプレイ用部材は、
隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、また隔壁の断
線が無いものであった。また、実施例１同様ＰＤＰを作
製し、発光させたところ、高い輝度の表材特性を得るこ
とができた。(Example 2) The plasma display shown in Table 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the first application of the photosensitive paste was changed to 120 µm and the thickness of the second application was changed to 80 µm (total 200 µm). A member for use was obtained. The plasma display member thus obtained is
No cracking occurred at the interface between the partition and the auxiliary partition, and there was no disconnection of the partition. Also, when a PDP was prepared and light was emitted in the same manner as in Example 1, high-brightness surface material characteristics could be obtained.

【００７６】（実施例３）実施例１において、１回目の
露光量を調整することで、表１に示す隔壁と補助隔壁頂
部の分離深さの異なるプラズマディスプレイ用部材を得
た。かくして得られたプラズマディスプレイ用部材は、
隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、また隔壁の断
線が無いものであった。また、実施例１同様ＰＤＰを作
成し、発光させたところ、高い輝度の表材特性を得るこ
とができた。Example 3 In Example 1, by adjusting the first exposure amount, members for plasma display having different separation depths of the partition and the top of the auxiliary partition shown in Table 1 were obtained. The plasma display member thus obtained is
No cracking occurred at the interface between the partition and the auxiliary partition, and there was no disconnection of the partition. In addition, when a PDP was prepared and illuminated in the same manner as in Example 1, high-brightness surface material characteristics could be obtained.

【００７７】（実施例４）破線状のパターンを有するフ
ォトマスクを透光部２００μｍ／遮光部１６０μｍ、露
光のギャップ量を７５μｍに変更した他は同一の手法に
より表１に示す構造のプラズマディスプレイ用部材を得
た。かくして得られたプラズマディスプレイ用部材は、
隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、また隔壁の断
線が無いものであった。また、実施例１同様ＰＤＰを作
製し、発光させたところ、高い輝度の表材特性を得るこ
とができた。(Example 4) A plasma mask having a structure shown in Table 1 was formed by the same method except that the photomask having a dashed pattern was changed to a light-transmitting portion of 200 µm / a light-shielding portion of 160 µm and the exposure gap was set to 75 µm. A member was obtained. The plasma display member thus obtained is
No cracking occurred at the interface between the partition and the auxiliary partition, and there was no disconnection of the partition. Also, when a PDP was prepared and light was emitted in the same manner as in Example 1, high-brightness surface material characteristics could be obtained.

【００７８】（実施例５）実施例１において、１回目の
露光に用いたフォトマスクにおいて、破線状のストライ
プパターン内の遮光部中央部に、幅２０μｍの遮光パタ
ーン形成し、そこを基準に透光部３０μｍ、遮光部２０
μｍを繰り返し３本設置した以外は同一手法にてプラズ
マディスプレイ部材を得た。尚、ここで得られたもの
は、図５、表１に示すような、補助隔壁頂部に最大幅３
０μｍストライプ状の溝を３本有するものであった。Example 5 In Example 1, a light-shielding pattern having a width of 20 μm was formed at the center of the light-shielding portion in the dashed stripe pattern on the photomask used for the first exposure, and the light-transmitting pattern was used as a reference. Light part 30 μm, light shielding part 20
A plasma display member was obtained by the same method except that three μm were repeatedly set. In addition, what was obtained here has a maximum width of 3 at the top of the auxiliary partition wall as shown in FIG.
It had three 0 μm stripe-shaped grooves.

【００７９】かくして得られたプラズマディスプレイ用
部材は、隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、また
隔壁の断線がないものであった。また、実施例１同様Ｐ
ＤＰを作製し、発光させたところ、高い輝度の素材特性
を得ることができた。In the plasma display member thus obtained, no crack was generated at the interface between the partition and the auxiliary partition, and the partition was not broken. Also, as in the first embodiment, P
When a DP was manufactured and emitted light, material characteristics with high luminance could be obtained.

【００８０】（実施例６）実施例５において、１回目の
露光に用いたフォトマスクのパターンを遮光部４０μ
ｍ、透光部１８μｍ、遮光部本数４本に変更した他は同
一手法にてプラズマディスプレイ用部材を得た。尚、こ
こで得られたものは図６に示すように、補助隔壁として
隔壁間に短隔壁が４本形成されたものであり、短隔壁の
長さは４００μｍ、線幅（頂部）２３μｍ、ピッチ５８
μｍであった。(Example 6) In Example 5, the pattern of the photomask used for the first exposure was
m, a light-transmitting portion of 18 μm, and a light-shielding portion were changed to four, and a member for a plasma display was obtained by the same method. In this case, as shown in FIG. 6, four short partitions were formed between the partitions as auxiliary partitions, and the length of the short partitions was 400 μm, the line width (top) was 23 μm, and the pitch was as shown in FIG. 58
μm.

【００８１】かくして得られたプラズマディスプレイ用
部材は、隔壁と補助隔壁界面での亀裂発生がなく、また
隔壁断線がないものであった。また、実施例１同様ＰＤ
Ｐを作製し、発光させたところ、高い輝度の素材特性を
得ることができた。The thus obtained plasma display member had no cracks generated at the interface between the partition and the auxiliary partition, and had no break in the partition. Also, as in the first embodiment, the PD
When P was produced and emitted light, high luminance material characteristics could be obtained.

【００８２】（比較例１）実施例１において、１回目の
露光で用いたフォトマスクを、線幅４００μｍ、ピッチ
１．０８ｍｍのストライプ状パターンを有するフォトマ
スクＢに変更した他は同一手法により表１に示す構造の
プラズマディスプレイ用部材を得た。かくして得られた
プラズマディスプレイ用部材は、隔壁が補助隔壁との界
面で断線し、また補助隔壁が部分的に剥離しているもの
であった。また実施例１同様に蛍光体層を形成したが、
隣接するセルとの混色が非常に多いものであった。(Comparative Example 1) In Example 1, the photomask used in the first exposure was changed to a photomask B having a stripe pattern with a line width of 400 μm and a pitch of 1.08 mm, and the same procedure was used. A member for a plasma display having the structure shown in FIG. In the plasma display member thus obtained, the partition wall was broken at the interface with the auxiliary partition wall, and the auxiliary partition wall was partially peeled off. Further, a phosphor layer was formed in the same manner as in Example 1, but
The color mixture with adjacent cells was very large.

【００８３】[0083]

【表１】 [Table 1]

【００８４】[0084]

【発明の効果】本発明によれば、隔壁と補助隔壁の幅が
違う構造、具体的には補助隔壁が隔壁幅より太い場合で
あっても、焼成後の剥がれ、断線、形状変化が生じない
プラズマディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマ
ディスプレイ部材を提供することができる。According to the present invention, even when the partition walls and the auxiliary partition walls have different widths, specifically, even when the auxiliary partition walls are wider than the partition wall width, peeling, disconnection, and shape change after firing do not occur. A method for manufacturing a plasma display member and a plasma display member can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の隔壁および補助隔壁の一例を示す概略
斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of a partition and an auxiliary partition of the present invention.

【図２】本発明の隔壁および補助隔壁の一例の概略平面
図である。FIG. 2 is a schematic plan view of an example of a partition and an auxiliary partition of the present invention.

【図３】本発明の隔壁および補助隔壁の他の一例の概略
断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of another example of the partition wall and the auxiliary partition wall of the present invention.

【図４】本発明の隔壁および補助隔壁の更に他の一例の
概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of still another example of the partition wall and the auxiliary partition wall of the present invention.

【図５】本発明の補助隔壁の構造のさらに他の一例を示
す概略斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing still another example of the structure of the auxiliary partition wall of the present invention.

【図６】本発明の補助隔壁の構造のさらに他の一例を示
す概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view showing still another example of the structure of the auxiliary partition wall of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ：隔壁 ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ：補助隔壁 ３：誘電体層 ４：アドレス電極 ５：ガラス基板 1A, 1B, 1C: partition 2A, 2B, 2C: auxiliary partition 3: dielectric layer 4: address electrode 5: glass substrate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】基板上にアドレス電極と隔壁を形成したプ
ラズマディスプレイ用部材であって、隔壁と垂直方向に
補助隔壁を形成し、少なくとも補助隔壁頂部が隔壁と分
離していることを特徴とするプラズマディスプレイ用部
材。1. A plasma display member having an address electrode and a partition formed on a substrate, wherein an auxiliary partition is formed in a direction perpendicular to the partition, and at least a top of the auxiliary partition is separated from the partition. Member for plasma display. 【請求項２】隔壁と補助隔壁が分離した部分の深さが、
補助隔壁頂部から補助隔壁高さの４０％以上であること
を特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用部
材。2. The depth of the part where the partition and the auxiliary partition are separated,
2. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the height of the auxiliary partition from the top of the auxiliary partition is 40% or more. 【請求項３】補助隔壁頂部に、隔壁の平行方向に少なく
とも１本のストライプ状の溝を有することを特徴とする
請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用部
材。3. The plasma display member according to claim 1, wherein at least one stripe-shaped groove is provided at the top of the auxiliary partition wall in a direction parallel to the partition wall. 【請求項４】補助隔壁が、隔壁の平行方向に配列された
短隔壁の集合体であることを特徴とする請求項１または
２記載のプラズマディスプレイ用部材。4. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the auxiliary partition wall is an aggregate of short partition walls arranged in parallel to the partition wall. 【請求項５】基板上に感光性ペーストを塗布し、フォト
マスクを介して露光する工程を含むプラズマディスプレ
イ用部材の製造方法であって、フォトマスクが、破線状
透光パターンを有するフォトマスクＡと直線状のストラ
イプパターンを有するフォトマスクＢを組み合わせるこ
とにより請求項１記載のプラズマディスプレイ部材を製
造することを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の
製造方法。5. A method for manufacturing a member for a plasma display, comprising a step of applying a photosensitive paste on a substrate and exposing through a photomask, wherein the photomask has a dashed light-transmitting pattern. 2. A method for manufacturing a member for a plasma display, comprising manufacturing the plasma display member according to claim 1, by combining a photomask B having a linear stripe pattern. 【請求項６】基板上に、補助隔壁を形成するのに必要な
量だけ塗布、乾燥した感光性隔壁ペースト塗布膜をフォ
トマスクＡを介してアドレス電極の垂直方向に露光し、
次いでその上に隔壁を形成するのに必要な量だけ塗布・
乾燥した感光性ペースト塗布膜をフォトマスクＢを介し
てアドレス電極の平行方向に露光し、一括現像すること
を特徴とする請求項５記載のプラズマディスプレイ用部
材の製造方法。6. A photosensitive partition paste application film, which is applied and dried in an amount necessary to form an auxiliary partition on a substrate, is exposed through a photomask A in a direction perpendicular to an address electrode.
Next, apply only the amount necessary to form partitions on it.
6. The method for manufacturing a member for a plasma display according to claim 5, wherein the dried photosensitive paste coating film is exposed through a photomask B in a direction parallel to the address electrodes and is collectively developed. 【請求項７】請求項１〜４いずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイ用部材を背面板として用いたことを特徴とす
るプラズマディスプレイ。7. A plasma display using the member for plasma display according to claim 1 as a back plate.