JP2001023515A - Manufacture of plasma display material and plasma display - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide superior display quality by forming a first-layer photosensitive paste coated film, exposing it via a mask having a stripe pattern formed perpendicularly to electrodes, forming a second-layer photosensitive paste coated film, and forming a stripe pattern on the coated film in parallel to the electrodes so as to form a diaphragm. SOLUTION: Diaphragms 1A, 1B, 1C (hereinafter, codes omitted) are formed in parallel to an address electrode 4. Auxiliary diaphragms 2A, 2B, 2C, 2D (hereinafter, codes omitted) are formed perpendicularly to the address electrode 4. The cross section of the auxiliary diaphragm can be formed into a trapezoidal and a rectangular shape similar to the diaphragm. The formation of the auxiliary diaphragm can form a phosphor layer on the surface of the auxiliary diaphragm. The ultraviolet ray can thus efficiency act on the fluorescent screen so as to enhance the luminance. The presence of the auxiliary diaphragm can enlarge the total area of the whole diaphragm so as to provide the structural strength of the member.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、壁掛けテレビや大
型モニターに用いられるプラズマディスプレイ用基板お
よびプラズマディスプレイの製造方法に係り、特にプラ
ズマディスプレイパネルの輝度を向上し、パネルの表示
品位を高めたプラズマディスプレイの製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display substrate used for a wall-mounted television or a large monitor, and a method of manufacturing the plasma display. More particularly, the present invention relates to a plasma display panel in which the brightness of a plasma display panel is improved and the display quality of the panel is improved. The present invention relates to a method for manufacturing a display.

【０００２】[0002]

【従来の技術】薄型・大型テレビに使用できるディスプ
レイとして、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤ
Ｐと略す）が注目されている。ＰＤＰは、例えば、表示
面となる前面板側のガラス基板には、対をなす複数のサ
ステイン電極が銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等
の材料で形成されている。さらにサステイン電極を被覆
してガラスを主成分とする誘電体層が２０〜５０μｍ厚
みで形成され、誘電体層を被覆してＭｇＯ層が形成され
ている。一方、背面板側のガラス基板には、複数のアド
レス電極がストライプ状に形成され、アドレス電極を被
覆してガラスを主成分とする誘電体層が形成されてい
る。誘電体層上に放電セルを仕切るための隔壁が形成さ
れ、隔壁と誘電体層で形成された放電空間内に蛍光体層
が形成されてなる。フルカラー表示が可能なＰＤＰにお
いては、蛍光体層は、ＲＧＢの各色に発光するものによ
り構成される。前面板側のガラス基板のサステイン電極
と背面板側のアドレス電極が互いに直交するように、前
面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリ
ウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封
入されＰＤＰが形成される。スキャン電極とアドレス電
極の交点を中心として画素セルが形成されるので、ＰＤ
Ｐは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。2. Description of the Related Art A plasma display panel (hereinafter referred to as PD) is used as a display which can be used for a thin and large-sized television.
P). In a PDP, for example, a plurality of pairs of sustain electrodes are formed of a material such as silver, chromium, aluminum, or nickel on a glass substrate on a front plate side serving as a display surface. Further, a dielectric layer mainly composed of glass is formed in a thickness of 20 to 50 μm to cover the sustain electrode, and an MgO layer is formed to cover the dielectric layer. On the other hand, a plurality of address electrodes are formed in a stripe shape on the glass substrate on the back plate side, and a dielectric layer mainly composed of glass is formed so as to cover the address electrodes. A partition for dividing discharge cells is formed on the dielectric layer, and a phosphor layer is formed in a discharge space formed by the partition and the dielectric layer. In a PDP capable of full-color display, the phosphor layer is formed of a material that emits light of each color of RGB. The front plate and the back plate are sealed so that the sustain electrodes of the glass plate on the front plate and the address electrodes on the back plate are orthogonal to each other, and are formed of helium, neon, xenon, etc. in the gap between those substrates. A rare gas is sealed to form PDP. Since the pixel cell is formed around the intersection of the scan electrode and the address electrode, PD
P has a plurality of pixel cells and can display an image.

【０００３】ＰＤＰにおいて表示を行う際、選択された
画素セルにおいて、発光していない状態からサステイン
電極とアドレス電極との間に放電開始電圧以上の電圧を
印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素
セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の
電極へと向けて移動してＭｇＯ層の内壁に帯電し、内壁
の電荷はＭｇＯ層の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷
として残留する。When a display is performed on a PDP, when a voltage higher than a discharge starting voltage is applied between a sustain electrode and an address electrode in a selected pixel cell from a state where no light is emitted, cations and electrons generated by ionization are removed. Since the pixel cell is a capacitive load, it moves in the discharge space toward the electrode of the opposite polarity and is charged on the inner wall of the MgO layer, and the charge on the inner wall is not attenuated due to the high resistance of the MgO layer. It remains as wall charges.

【０００４】次に、スキャン電極とサステイン電極の間
に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、
放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。
放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４
７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体を励起するこ
とにより、発光表示が可能になる。Next, a sustaining voltage is applied between the scan electrode and the sustain electrode. Where there is a wall charge,
It is possible to discharge even at a voltage lower than the discharge starting voltage.
The xenon gas in the discharge space is excited by the discharge,
Ultraviolet light of 7 nm is generated, and the ultraviolet light excites the fluorescent substance, thereby enabling light emission display.

【０００５】このようなＰＤＰにおいては蛍光面を発光
させた場合の輝度を高めることが重要となっている。こ
の輝度を高めるための手段として、特開平１０−３２１
１４８号公報には、隔壁の他に補助隔壁を設け、補助隔
壁の表面にも蛍光面を形成することにより蛍光面の発光
面積を大きくし、紫外線を効率よく蛍光面に作用させ、
輝度を高めることが提案されている。[0005] In such a PDP, it is important to increase the luminance when the fluorescent screen is illuminated. As means for increasing the luminance, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-321
No. 148, an auxiliary partition is provided in addition to the partition, and a fluorescent screen is also formed on the surface of the auxiliary partition to increase a light emitting area of the fluorescent screen, thereby allowing ultraviolet rays to efficiently act on the fluorescent screen.
It has been proposed to increase the brightness.

【０００６】この隔壁と補助隔壁の形成方法として同号
公報には例えば感光性材料を用いたフォトリソグラフィ
法等で、第１工程として補助隔壁の高さまでの隔壁と補
助隔壁を形成し、次に第２工程として、上層の隔壁を形
成する方法が提案されている。しかしこの方法では、現
像を２回以上要し工程が複雑であり、また、下層と上層
の極めて精緻な位置合わせが必要となり精度よく形成で
きないという問題がある。As a method of forming the partition and the auxiliary partition, the same publication discloses, for example, a photolithography method using a photosensitive material or the like, and forms a partition and an auxiliary partition up to the height of the auxiliary partition as a first step. As a second step, a method of forming an upper partition wall has been proposed. However, in this method, development is required twice or more, and the process is complicated. In addition, extremely precise alignment between the lower layer and the upper layer is required, so that there is a problem that accurate formation is not possible.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は簡略
な工程により隔壁および補助隔壁を高精度に形成し、表
示品位に優れたプラズマディスプレイ用部材の製造方
法、およびプラズマディスプレイを提供することを目的
とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention provides a method for manufacturing a plasma display member having excellent display quality, in which partition walls and auxiliary partition walls are formed with high accuracy by simple steps, and a plasma display. Aim.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、電極
を形成した基板上に隔壁を形成する工程を含むプラズマ
ディスプレイ用部材の製造方法であって、隔壁を形成す
る工程が下記の（Ａ）〜（Ｄ）の工程を含むことを特徴
とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法である。 （Ａ）１層目の感光性ペーストの塗布膜を形成する工
程、（Ｂ）１層目の感光性ペーストの塗布膜を電極と垂
直方向にストライプパターンが形成されたマスクを介し
て、露光する工程、（Ｃ）２層目の感光性ペーストの塗
布膜を形成する工程、（Ｄ）２層目の感光性ペーストの
塗布膜を電極と平行方向にストライプパターンが形成さ
れたマスクを介して、露光する工程。That is, the present invention relates to a method of manufacturing a member for a plasma display including a step of forming a partition on a substrate on which electrodes are formed, wherein the step of forming a partition comprises the following (A): A method for manufacturing a member for a plasma display, comprising the steps of (D) to (D). (A) a step of forming a first-layer photosensitive paste coating film, and (B) exposing the first-layer photosensitive paste coating film via a mask having a stripe pattern formed in a direction perpendicular to the electrodes. (C) a step of forming a second photosensitive paste coating film, and (D) a second photosensitive paste coating film through a mask having a stripe pattern formed in a direction parallel to the electrodes. The step of exposing.

【０００９】また、本発明は、上記の製造方法により製
造したプラズマディスプレイ用部材を背面板として用い
たことを特徴とするプラズマディスプレイである。Further, the present invention is a plasma display characterized in that the member for a plasma display manufactured by the above manufacturing method is used as a back plate.

【００１０】[0010]

【発明の実施の形態】以下に、本発明をＰＤＰの作製手
順に沿って説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in accordance with a PDP manufacturing procedure.

【００１１】本発明のＰＤＰ用部材としての背面板に用
いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の耐熱
ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝
子社製の“ＰＰ８”を用いることができる。As the substrate used for the back plate as the member for PDP of the present invention, in addition to soda glass, heat-resistant glass for PDP, "PD200" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. and "PP8" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. are used. be able to.

【００１２】ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロ
ム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成す
る。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機
バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印
刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感
光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後
に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分
を現像工程で溶解除去し、さらに、４００〜６００℃に
加熱・焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト
法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロム
やアルミニウム等の金属をスパッタリングした後に、レ
ジストを塗布し、レジストをパターン露光・現像した後
にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッ
チング法を用いることができる。電極厚みは１〜１０μ
ｍが好ましく、２〜５μｍがより好ましい。電極厚みが
薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる
傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コスト
的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは
２０〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍで
ある。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり
正確な駆動が困難となる傾向にあり、太いすぎると隣合
う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じ
やすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル
（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形
成される。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精
細ＰＤＰにおいては１００〜２５０μｍのピッチで形成
するのが好ましい。An address electrode is formed on a glass substrate by using a metal such as silver, aluminum, chromium or nickel. As a method of forming, a method of pattern-printing a metal paste containing these metal powders and an organic binder as main components by screen printing, or after applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder, A photosensitive paste method in which pattern exposure is performed using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a developing step, and further, heating and baking at 400 to 600 ° C. to form a metal pattern can be used. In addition, an etching method in which a metal such as chromium or aluminum is sputtered on a glass substrate, a resist is applied, and the resist is subjected to pattern exposure / development, followed by etching to remove an unnecessary portion of the metal by etching. Electrode thickness is 1-10μ
m is preferable, and 2 to 5 μm is more preferable. If the electrode thickness is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be difficult. If the electrode thickness is too thick, a large amount of material is required, which tends to be disadvantageous in cost. The width of the address electrode is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. If the width of the address electrode is too small, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult. If the address electrode is too thick, the distance between adjacent electrodes is small, and short-circuit defects tend to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (the area where each RGB of a pixel is formed). It is preferable that the pitch is formed at a pitch of 100 to 500 μm for a normal PDP and 100 to 250 μm for a high definition PDP.

【００１３】次いで誘電体層を好ましく形成する。誘電
体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラ
スペーストをアドレス電極を覆う形で塗布した後に、４
００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電
体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマ
ス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有
し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉
末を好ましく用いることができる。１０重量％以上とす
ることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重
量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防
止する。これらのガラス粉末と有機バインダーと混練し
てペーストを作成できる。用いる有機バインダーとして
は、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表され
るセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレ
ート等のアクリル系化合物等を用いることができる。ま
た、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加
えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラ
クトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用
いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタ
レート、ジエチルフタレート等を用いることができる。
ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、
反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。
フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム等が好ましく、粒子径０．０５〜３μｍ
の酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの
含有量はガラス粉末：フィラーの比で、１：１〜１０：
１が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の１０分
の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることがで
きる。また、ガラス粉末の等量以下とすることで、焼結
性を保つことができる。また、導電性微粒子を添加する
ことにより駆動時の信頼性の高いＰＤＰを作成すること
ができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金
属粉末が好ましく、粒子径は１〜１０μｍが好ましい。
１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μ
ｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容
易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体
層に含まれる含有量としては、０．１〜１０重量％が好
ましい。０．１重量％以上とすることで実効を得ること
ができ、１０重量％以下とすることで、隣り合うアドレ
ス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の
厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１
５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホール
が多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くな
り、消費電力が大きくなる傾向にある。Next, a dielectric layer is preferably formed. The dielectric layer is formed by applying a glass paste containing glass powder and an organic binder as main components so as to cover the address electrodes.
It can be formed by firing at 00 to 600 ° C. As the glass paste used for the dielectric layer, a glass powder containing at least one kind of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide, and phosphorus oxide, and a total of 10 to 80% by weight of these can be preferably used. When the content is 10% by weight or more, baking at 600 ° C. or less is facilitated, and when the content is 80% by weight or less, crystallization is prevented and a decrease in transmittance is prevented. A paste can be prepared by kneading these glass powders with an organic binder. As the organic binder to be used, cellulose compounds such as ethyl cellulose and methyl cellulose, and acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, and isobutyl acrylate can be used. Further, additives such as a solvent and a plasticizer may be added to the glass paste. As the solvent, general-purpose solvents such as terpineol, butyrolactone, toluene, and methylcellosolve can be used. Further, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used as the plasticizer.
By adding filler components other than glass powder,
A PDP with high reflectance and high luminance can be obtained.
As the filler, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are preferable, and the particle diameter is 0.05 to 3 μm.
It is particularly preferable to use titanium oxide. The content of the filler is glass powder: filler ratio of 1: 1 to 10:
1 is preferred. By setting the content of the filler to one-tenth or more of the glass powder, it is possible to obtain the effect of improving the luminance. In addition, the sinterability can be maintained by setting the equivalent amount of the glass powder or less. Further, by adding the conductive fine particles, a PDP with high reliability at the time of driving can be manufactured. The conductive fine particles are preferably metal powders such as nickel and chromium, and the particle diameter is preferably 1 to 10 μm.
A sufficient effect can be exhibited by setting the thickness to 1 μm or more,
By setting it to m or less, irregularities on the dielectric can be suppressed to facilitate the formation of the partition walls. The content of these conductive fine particles in the dielectric layer is preferably 0.1 to 10% by weight. Effectiveness can be obtained by adjusting the content to 0.1% by weight or more, and short-circuiting between adjacent address electrodes can be prevented by setting the content to 10% by weight or less. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 1 μm.
5 μm. If the thickness of the dielectric layer is too small, the number of pinholes tends to increase. If the thickness is too large, the discharge voltage tends to increase and the power consumption tends to increase.

【００１４】誘電体層上に、放電セルを仕切るための隔
壁および補助隔壁を形成する。図１は本発明で形成する
隔壁および補助隔壁の形状の一例を示す斜視図である。
図１において、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは隔壁、２Ａ、２Ｂ、
２Ｃ、２Ｄは補助隔壁、３は誘電体層、４はアドレス電
極、５はガラス基板である。隔壁１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、
アドレス電極と平行方向に形成する。隔壁１Ａ、１Ｂ、
１Ｃの断面形状は台形や矩形に形成することができる。
補助隔壁２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは、アドレス電極と垂
直方向に形成する。補助隔壁２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄの
断面形状も、台形や矩形に形成することができる。On the dielectric layer, partition walls and auxiliary partition walls for partitioning the discharge cells are formed. FIG. 1 is a perspective view showing an example of the shape of a partition and an auxiliary partition formed in the present invention.
In FIG. 1, 1A, 1B, and 1C are partition walls, 2A, 2B,
2C and 2D are auxiliary partition walls, 3 is a dielectric layer, 4 is an address electrode, and 5 is a glass substrate. The partition walls 1A, 1B, 1C
It is formed in a direction parallel to the address electrode. Partition walls 1A, 1B,
The cross-sectional shape of 1C can be formed in a trapezoid or a rectangle.
The auxiliary partition walls 2A, 2B, 2C, and 2D are formed in a direction perpendicular to the address electrodes. The sectional shape of the auxiliary partition walls 2A, 2B, 2C, and 2D can also be formed in a trapezoidal or rectangular shape.

【００１５】補助隔壁を形成することにより、補助隔壁
の表面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を
大きくとることができる。従って、紫外線が効率よく蛍
光面に作用するため輝度を高めることが可能である。ま
た、補助隔壁が存在することで、隔壁全体の結合面積が
広くなり、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔
壁や補助隔壁の幅を小さくすることができ、表示セル部
における放電容積を大きくすることができ、放電効率を
さらによくすることができる。By forming the auxiliary partition, a phosphor layer can be formed also on the surface of the auxiliary partition, and the light emitting area can be increased. Therefore, since the ultraviolet rays efficiently act on the fluorescent screen, the luminance can be increased. In addition, the presence of the auxiliary partition increases the bonding area of the entire partition, thereby obtaining structural strength of the member. As a result, the width of the partition and the auxiliary partition can be reduced, the discharge volume in the display cell portion can be increased, and the discharge efficiency can be further improved.

【００１６】隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適
している。８０μｍ以上とすることで蛍光体とスキャン
電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化
を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすること
で、スキャン電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十
分な輝度を得ることができる。隔壁のピッチ（Ｐ）は、
１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。
また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピ
ッチ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１
００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度
を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の
細かいきれいな映像表示ができる。２５０μｍ以下にす
ることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美し
い映像を表示することができる。線幅（Ｌ）は、半値幅
で１０μｍ≦Ｌ≦５０μｍであることが好ましい。１０
μｍ以上とすることで強度を保ち、前面板と背面板を封
着する際に破損が生じるのを防ぐことができる。また、
５０μｍ以下とすることで蛍光体の形成面積を大きくと
ることができ高い輝度を得ることができる。The height of the partition walls is preferably 80 μm to 200 μm. When the thickness is 80 μm or more, it is possible to prevent the phosphor and the scan electrode from coming too close to each other, and to prevent the phosphor from being deteriorated due to discharge. When the thickness is 200 μm or less, the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor can be reduced, and sufficient luminance can be obtained. The pitch (P) of the partition is
Those with 100 μm ≦ P ≦ 500 μm are often used.
In the high definition plasma display, the pitch (P) of the partition walls is 100 μm ≦ P ≦ 250 μm. 1
When the thickness is 00 μm or more, the discharge space can be widened and sufficient luminance can be obtained. When the thickness is 500 μm or less, fine and clear video display of pixels can be performed. By setting the thickness to 250 μm or less, a beautiful video at an HDTV (high definition) level can be displayed. It is preferable that the line width (L) satisfies 10 μm ≦ L ≦ 50 μm in half width. 10
When the thickness is at least μm, the strength can be maintained and breakage can be prevented when the front plate and the back plate are sealed. Also,
When the thickness is 50 μm or less, a large phosphor formation area can be obtained, and high luminance can be obtained.

【００１７】補助隔壁の高さは、隔壁の高さよりも低い
ことが好ましく、さらには隔壁の高さの１／２〜５／６
の高さであることが好ましい。補助隔壁の高さを隔壁の
高さの１／２以上とすることで、発光面積を大きくとる
ことによる輝度向上の効果を得ることができる。また、
隔壁よりも低くすることで、製造工程において蛍光体層
の形成を容易にすることができる。The height of the auxiliary partition is preferably lower than the height of the partition, and more preferably 1/2 to 5/6 of the height of the partition.
It is preferable that the height is By setting the height of the auxiliary partition wall to be equal to or more than の of the height of the partition wall, an effect of improving luminance by increasing the light emitting area can be obtained. Also,
By making the height lower than that of the partition walls, formation of the phosphor layer in the manufacturing process can be facilitated.

【００１８】このような隔壁および補助隔壁は、無機微
粒子と感光性成分を含む有機成分からなる感光性ペース
トを用いてパターン形成した後に、焼成して形成する。Such partition walls and auxiliary partition walls are formed by forming a pattern by using a photosensitive paste composed of an inorganic component and an organic component containing a photosensitive component, and then firing.

【００１９】感光性ペーストの無機微粒子としては、ガ
ラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）な
どを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素
酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とする
ガラスやセラミックスが好ましい。As the inorganic fine particles of the photosensitive paste, glass, ceramic (alumina, cordierite, etc.) and the like can be used. In particular, glass and ceramics containing silicon oxide, boron oxide, or aluminum oxide as an essential component are preferable.

【００２０】無機微粒子の粒子径は、作製しようとする
パターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径
（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、よ
り好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以
下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができ
る。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調
整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２
〜３ｍ²／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン
形成において、特に好ましい。The particle size of the inorganic fine particles is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced. The volume average particle size (D50) is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 1 to 5 μm. It is. By setting D50 to 10 μm or less, it is possible to prevent the occurrence of surface irregularities. When the thickness is 1 μm or more, the viscosity of the paste can be easily adjusted. Furthermore, specific surface area 0.2
It is particularly preferable to use glass fine particles of up to 3 m ² / g in pattern formation.

【００２１】隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス
基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、
熱軟化温度が３５０℃〜６００℃のガラス微粒子を６０
重量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。ま
た、熱軟化温度が６００℃以上のガラス微粒子やセラミ
ック微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を
抑制することができるが、その量は、４０重量％以下が
好ましい。The partition walls are preferably patterned on a glass substrate having a low thermal softening point.
Glass fine particles having a heat softening temperature of 350 ° C to 600 ° C
It is preferable to use inorganic fine particles containing not less than% by weight. Further, by adding glass fine particles or ceramic fine particles having a heat softening temperature of 600 ° C. or more, the shrinkage rate during firing can be suppressed, but the amount is preferably 40% by weight or less.

【００２２】用いるガラス粉末としては、焼成時にガラ
ス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０
×１０^-7〜９０×１０^-7、更には、６０×１０^-7〜９０
×１０^-7のガラス微粒子を用いることが好ましい。The glass powder used has a coefficient of linear expansion of 50 so as not to warp the glass substrate during firing.
× 10 ^{−7 to} 90 × 10 ⁻⁷ , and further 60 × 10 ^{−7 to} 90
It is preferable to use × 10 ⁻⁷ glass particles.

【００２３】隔壁を形成する素材としては、ケイ素およ
び／またはホウ素の酸化物を含有したガラス材料が好ま
しく用いられる。As a material for forming the partition, a glass material containing an oxide of silicon and / or boron is preferably used.

【００２４】酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配
合されていることが好ましい。３重量％以上とすること
で、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、
熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマ
ッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にする
ことによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼
き付けが可能になるなどの利点がある。The silicon oxide is preferably blended in the range of 3 to 60% by weight. By setting the content to 3% by weight or more, the denseness, strength and stability of the glass layer are improved, and
The coefficient of thermal expansion can be set within a desired range, and mismatch with the glass substrate can be prevented. Further, by setting the content to 60% by weight or less, there is an advantage that the heat softening point is lowered and baking on a glass substrate becomes possible.

【００２５】酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配
合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、
絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上
することができる。５０重量％以下とすることでガラス
の安定性を保つことができる。By mixing boron oxide in the range of 5 to 50% by weight, electrical insulation, strength, coefficient of thermal expansion,
Electrical, mechanical, and thermal properties such as the denseness of the insulating layer can be improved. When the content is 50% by weight or less, the stability of the glass can be maintained.

【００２６】さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛
のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有
させることによって、ガラス基板上にパターン加工する
のに適した温度特性を有するガラスペーストを得ること
ができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有す
るガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが
長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子と
しては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ま
しい。 酸化ビスマス ：１０〜４０重量部 酸化ケイ素 ： ３〜５０重量部 酸化ホウ素 ：１０〜４０重量部 酸化バリウム ： ８〜２０重量部 酸化アルミニウム：１０〜３０重量部。Further, by containing at least one of bismuth oxide, lead oxide and zinc oxide in a total amount of 5 to 50% by weight, a glass paste having a temperature characteristic suitable for pattern processing on a glass substrate can be obtained. Obtainable. In particular, when glass particles containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide are used, advantages such as long pot life of the paste can be obtained. As the bismuth-based glass fine particles, it is preferable to use a glass powder having the following composition. Bismuth oxide: 10 to 40 parts by weight Silicon oxide: 3 to 50 parts by weight Boron oxide: 10 to 40 parts by weight Barium oxide: 8 to 20 parts by weight Aluminum oxide: 10 to 30 parts by weight

【００２７】また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％
含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物
の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％
以下にすることによって、ペーストの安定性を向上する
ことができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸
化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。
リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成
を含むガラス粉末を用いることが好ましい。In addition, at least one of lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide is 3 to 20% by weight.
Glass fine particles may be used. The addition amount of the alkali metal oxide is 20% by weight or less, preferably 15% by weight.
By doing so, the stability of the paste can be improved. Among the above three kinds of alkali metal oxides, lithium oxide is particularly preferable in view of the stability of the paste.
As the lithium-based glass fine particles, for example, it is preferable to use a glass powder having the following composition.

【００２８】この場合の具体的なガラス微粒子として
は、次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ま
しい。 酸化リチウム ： ２〜１５重量部 酸化ケイ素 ：１５〜５０重量部 酸化ホウ素 ：１５〜４０重量部 酸化バリウム ： ２〜１５重量部 酸化アルミニウム： ６〜２５重量部。As the specific glass fine particles in this case, it is preferable to use a glass powder having the following composition. Lithium oxide: 2 to 15 parts by weight Silicon oxide: 15 to 50 parts by weight Boron oxide: 15 to 40 parts by weight Barium oxide: 2 to 15 parts by weight Aluminum oxide: 6 to 25 parts by weight.

【００２９】また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛の
ような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸
化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有す
るガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量
で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールする
ことができる。Further, when glass fine particles containing both a metal oxide such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and an alkali metal oxide such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, a lower alkali content is obtained. The amount can easily control the thermal softening temperature and the coefficient of linear expansion.

【００３０】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特
に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加
することにより、加工性を改良することができるが、熱
軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重
量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下で
ある。Further, by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide and the like, particularly aluminum oxide, barium oxide and zinc oxide to the glass fine particles, the workability is improved. However, from the viewpoint of the thermal softening point and the coefficient of thermal expansion, the content is preferably 40% by weight or less, more preferably 25% by weight or less.

【００３１】感光性成分を含む有機成分としては、感光
性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち
の少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有する
ことが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、
光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を
添加する。The organic component containing a photosensitive component preferably contains a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer. , Photopolymerization initiator,
A light absorber, a sensitizer, an organic solvent, a sensitization aid, and a polymerization inhibitor are added.

【００３２】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単
官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル
系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができ
る。これらは１種または２種以上使用することができ
る。The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include monofunctional and polyfunctional (meth) acrylates, vinyl compounds and allyl compounds. Etc. can be used. These can be used alone or in combination of two or more.

【００３３】感光性オリゴマー、感光性ポリマーとして
は、炭素−炭素２重結合を有する化合物のうちの少なく
とも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを
用いることができる。重合する際に、これらのモノマの
含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量
％以上になるように、他の感光性のモノマと共重合する
ことができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン
酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の
現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具
体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、
または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして
得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポ
リマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜
１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好
ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対
して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させるこ
とによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴ
マーとして用いることができる。好ましい光反応性基
は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン
性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル
基、メタクリル基などが挙げられる。As the photosensitive oligomer and photosensitive polymer, oligomers and polymers obtained by polymerizing at least one compound having a carbon-carbon double bond can be used. At the time of polymerization, these monomers can be copolymerized with other photosensitive monomers such that the content of these monomers is at least 10% by weight, more preferably at least 35% by weight. By copolymerizing the polymer or oligomer with an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid, the developability after exposure can be improved. Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid,
Alternatively, these acid anhydrides and the like can be mentioned. The acid value (AV) of the polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is 50 to 50.
A range of 180 is preferable, and a range of 70 to 140 is more preferable. By adding a photoreactive group to the side chain or molecular terminal of the polymer or oligomer shown above, it can be used as a photosensitive polymer or photosensitive oligomer having photosensitivity. Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group.

【００３４】光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾ
フェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロ
ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニル
ケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられ
る。これらを１種または２種以上使用することができ
る。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは
０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましく
は、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤
の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光
重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さく
なり過ぎる傾向にある。Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl O-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, and 4,4-dichlorobenzophenone. , 4-benzoyl-4-methylphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone and the like. One or more of these can be used. The photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.05 to 10% by weight, more preferably in the range of 0.1 to 5% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity tends to decrease, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to be too small.

【００３５】光吸収剤を添加することも有効である。紫
外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することに
よって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られ
る。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ま
しく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケト
ン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アント
ラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシ
アノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミ
ノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼
成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁
膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中
でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。
有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、
より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が
少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあ
り、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向に
ある。It is also effective to add a light absorbing agent. By adding a compound having a high effect of absorbing ultraviolet light or visible light, a high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. As the light absorber, those composed of organic dyes are preferably used.Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenyl cyanoacrylate dyes Dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes and the like can be used. Since the organic dye does not remain in the insulating film after firing, deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorber can be reduced, which is preferable. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferred.
The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by weight,
More preferably, it is 0.05 to 1% by weight. If the amount is too small, the effect of adding the light absorber tends to decrease, and if it is too large, the properties of the insulating film after firing tend to deteriorate.

【００３６】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘ
キサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以
上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添
加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常
０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重
量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上さ
せる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過
ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。A sensitizer is added to improve the sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone,
2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone and the like. One or more of these can be used. When a sensitizer is added to the photosensitive paste, the amount is usually 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity tends not to be exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to decrease.

【００３７】有機溶媒としては、例えば、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエ
チルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
フォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリド
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブ
ロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、ク
ロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する
有機溶媒混合物が用いられる。Examples of the organic solvent include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ -Butyllactone, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and one or more of these An organic solvent mixture containing is used.

【００３８】感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒
子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３
本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。The photosensitive paste is usually prepared by mixing the above-mentioned inorganic fine particles and organic components so as to have a predetermined composition.
It is manufactured by mixing and dispersing homogeneously with this roller or kneader.

【００３９】次に、本発明における隔壁および補助隔壁
の形成方法について説明する。まず、電極が形成された
基板上もしくは誘電体層上に１層目の感光性ペーストを
塗布する。１層目の感光性ペーストとしては焼成して白
色、青色もしくは透明を呈するものを用いることが好ま
しい。特に、白色を呈するものを用いることにより、隔
壁および補助隔壁の反射率を上げ、発光効率を向上させ
ることができる。感光性ペーストが焼成して白色を呈す
る様にするには、高融点ガラス、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、シリカ、炭酸カルシウムなどを感光性ペース
トに添加すると良い。また、青色を呈するものを用いる
ことにより、発光輝度の低い青色について選択的に反射
率を向上させることができ、発色のバランスを向上させ
ることもできる。感光性ペーストが焼成して青色を呈す
る様にするには、酸化コバルト、アルミン酸コバルト等
のコバルト系化合物や、バナジウム−ジルコニウム、酸
化銅などを感光性ペーストに添加すると良い。Next, a method of forming the partition and the auxiliary partition in the present invention will be described. First, a first-layer photosensitive paste is applied on a substrate on which electrodes are formed or on a dielectric layer. As the first layer of the photosensitive paste, it is preferable to use a paste that exhibits white, blue, or transparent by baking. In particular, by using a material exhibiting white color, the reflectance of the partition and the auxiliary partition can be increased, and the luminous efficiency can be improved. In order for the photosensitive paste to be baked to give a white color, high melting point glass, titanium oxide, aluminum oxide, silica, calcium carbonate and the like are preferably added to the photosensitive paste. In addition, by using a material that exhibits blue light, the reflectance can be selectively improved for blue light having low emission luminance, and the color balance can be improved. In order for the photosensitive paste to be baked to exhibit a blue color, a cobalt-based compound such as cobalt oxide or cobalt aluminate, vanadium-zirconium, or copper oxide is preferably added to the photosensitive paste.

【００４０】塗布方法としては、スクリーン印刷法、バ
ーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレード
コーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布
回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶこ
とによって調整できる。As a coating method, a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, a blade coater, or the like can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the screen mesh, and the viscosity of the paste.

【００４１】感光性ペースト塗布した後、通風オーブ
ン、ホットプレート、ＩＲ炉などを用いて乾燥し、１層
目の感光性ペーストの塗布膜を形成する。After the application of the photosensitive paste, the film is dried using a ventilation oven, a hot plate, an IR furnace, or the like to form a first photosensitive paste coating film.

【００４２】続いて、露光装置を用いて露光を行う。露
光は、通常のフォトリソグラフィ法で行われるように、
フォトマスクを用いてマスク露光する。この時、アドレ
ス電極と垂直方向にストライプパターンを有するフォト
マスクを用いる。この際使用される活性光源は、例え
ば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レー
ザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ま
しく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍ
Ｗ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０
分間露光を行う。Subsequently, exposure is performed using an exposure apparatus. Exposure is performed by a normal photolithography method,
Mask exposure is performed using a photomask. At this time, a photomask having a stripe pattern in a direction perpendicular to the address electrodes is used. The active light source used at this time includes, for example, visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light. Of these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a germicidal lamp, and the like can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred.
Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but 1 to 100 m
0.1 to 10 using an ultra-high pressure mercury lamp having an output of W / cm ²
Exposure for a minute.

【００４３】露光された１層目の感光性ペースト塗布膜
上に、さらに感光性ペーストを塗布、乾燥し、２層目の
感光性ペースト塗布膜を形成する。ここで、２層目の感
光性ペーストに１層目の感光性ペーストを用いること
も、本発明の好ましい態様の一つである。また、２層目
の感光性ペーストに、焼成して黒色を呈するものを用い
ることも本発明の好ましい態様の一つである。２層目の
感光性ペーストに焼成して黒色を呈するものを用いるこ
とにより、コントラストを向上させることができる。感
光性ペーストが焼成して黒色を呈する様にするには、Ｒ
ｕ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕの金属もしく
はそれらの酸化物を合計で１〜１５重量％含有するガラ
スを用いると良い。また、ガラス粉末に黒色金属又は金
属酸化物を付着させるか、または被服させても良い。On the exposed first layer of the photosensitive paste coating film, a photosensitive paste is further applied and dried to form a second layer of the photosensitive paste coating film. Here, the use of the first-layer photosensitive paste for the second-layer photosensitive paste is also a preferred embodiment of the present invention. It is also a preferred embodiment of the present invention to use, as the second-layer photosensitive paste, a paste that exhibits a black color when fired. The contrast can be improved by using the second layer of the photosensitive paste which is blackened by baking. In order for the photosensitive paste to bake to give a black color, R
It is preferable to use a glass containing metals of u, Mn, Ni, Cr, Fe, Co, and Cu or oxides thereof in total of 1 to 15% by weight. Further, a black metal or metal oxide may be attached to the glass powder or coated.

【００４４】２層目の感光性ペースト被膜を形成後、露
光装置を用いて露光を行う。この時、アドレス電極と平
行方向にストライプパターンを有するフォトマスクを用
いる。After forming the second photosensitive paste film, exposure is performed using an exposure apparatus. At this time, a photomask having a stripe pattern in a direction parallel to the address electrodes is used.

【００４５】２層目の感光性ペースト被膜を露光した
後、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を
利用して、現像を行う。現像は、浸漬法やスプレー法、
ブラシ法等で行うことができる。After exposing the second photosensitive paste film, development is performed utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion in the developing solution. Development is carried out by dipping or spraying,
It can be performed by a brush method or the like.

【００４６】現像液は、感光性ペースト中の溶解させた
い有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペー
スト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭
酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使
用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時に
アルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカ
リとしては、一般的なアミン化合物を用いることができ
る。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサ
イド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイ
ド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが
挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１
〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾
向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥
離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。ま
た、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工
程管理上好ましい。As the developing solution, a solution in which the organic component to be dissolved in the photosensitive paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the aqueous alkali solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, an aqueous sodium carbonate solution, an aqueous calcium hydroxide solution, or the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkali aqueous solution because the alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the aqueous alkali solution is usually 0.01
10 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends not to be removed, while if the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to peel off or corrode the non-soluble portion. The development temperature during development is preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.

【００４７】次に、焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉と
しては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型
焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８
００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成す
る場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保
持して焼成を行うと良い。Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere such as air, nitrogen, or hydrogen. As the firing furnace, a batch type firing furnace or a roller hearth type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is 400-8
It is good to carry out at 00 ° C. When partition walls are formed directly on a glass substrate, firing is preferably performed at a temperature of 450 to 620 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００４８】次いで所定の隔壁間に、ＲＧＢ各色に発光
する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有
機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペー
ストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて
焼成することにより形成することができる。Next, a phosphor layer emitting light of each of RGB colors is formed between predetermined partition walls. The phosphor layer can be formed by applying a phosphor paste containing a phosphor powder, an organic binder and an organic solvent as main components between predetermined partition walls, drying, and firing as necessary.

【００４９】蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ
る方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印
刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体
ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、
蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を
有する有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の
蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができ
る。As a method of applying the phosphor paste between the predetermined partition walls, a screen printing method of pattern printing using a screen printing plate, a dispenser method of pattern discharging the phosphor paste from the tip of a discharge nozzle, or
The phosphor paste of each color can be applied to a predetermined place by the photosensitive paste method using the above-mentioned photosensitive organic component as the organic binder of the phosphor paste.

【００５０】Ｒ蛍光体層の厚みをＴｒ、Ｇ蛍光体層の厚
みをＴｇ、および、Ｂ蛍光体層の厚みをＴｂとしたと
き、好ましくは、 １０μｍ≦Ｔｒ＜Ｔｂ≦５０μｍ １０μｍ≦Ｔｇ＜Ｔｂ≦５０μｍ なる関係を有することにより、より本発明の効果を発揮
できる。つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを
緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランス
に優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製
できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とする
ことで十分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ
以下とすることで放電空間を広くとり高い輝度を得るこ
とができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う隔
壁の中間点での形成厚みとして測定する。つまり、放電
空間（セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとし
て測定する。When the thickness of the R phosphor layer is Tr, the thickness of the G phosphor layer is Tg, and the thickness of the B phosphor layer is Tb, preferably 10 μm ≦ Tr <Tb ≦ 50 μm 10 μm ≦ Tg <Tb By having a relationship of ≦ 50 μm, the effects of the present invention can be more exhibited. In other words, by making the thickness of blue light having a low emission luminance larger than that of green or red, a plasma display having more excellent color balance (higher color temperature) can be manufactured. Sufficient luminance can be obtained by setting the thickness of the phosphor layer to 10 μm or more. Also, 50 μm
By setting it as follows, it is possible to widen the discharge space and obtain high luminance. In this case, the thickness of the phosphor layer is measured as a thickness formed at an intermediate point between adjacent partition walls. That is, it is measured as the thickness of the phosphor layer formed at the bottom of the discharge space (in the cell).

【００５１】塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４０
０〜５５０℃で焼成する事により、本発明のプラズマデ
ィスプレイ用部材を作製することができる。The coated phosphor layer is optionally coated with 40
By firing at 0 to 550 ° C., the member for a plasma display of the present invention can be manufactured.

【００５２】このプラズマディスプレイ用部材を背面板
として用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形
成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから
構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラ
ズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所
定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜
（ＭｇＯ）を形成した部材である。背面板上に形成され
たＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルタ
ー層を形成しても良い。また、コントラストを向上する
ために、ブラックストライプを形成しても良い。Using this plasma display member as a back plate, after sealing with the front plate, a discharge gas composed of helium, neon, xenon, or the like is filled in a space formed between the front and back substrates at intervals. A plasma display can be manufactured by installing a drive circuit. The front plate is a member in which a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective film (MgO) are formed in a predetermined pattern on a substrate. A color filter layer may be formed at a portion corresponding to the RGB phosphor layers formed on the back plate. Further, a black stripe may be formed to improve the contrast.

【００５３】[0053]

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentration (%) in the examples and comparative examples is% by weight.

【００５４】（実施例１）まず前面板を作製した。旭硝
子社製ガラス基板ＰＤ２００上に、ＩＴＯを用いて、ピ
ッチ３７５μｍ、線幅１５０μｍのスキャン電極を形成
した。また、その基板上に感光性銀ペーストを塗布した
後に、フォトマスクを介したマスク露光、０．３％炭酸
ナトリウム水溶液を用いた現像、５８０℃１５分間の焼
成工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍのバス電極を
形成した。Example 1 First, a front plate was manufactured. Scan electrodes having a pitch of 375 μm and a line width of 150 μm were formed on a glass substrate PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. using ITO. After applying a photosensitive silver paste on the substrate, a mask exposure through a photomask, a development using a 0.3% sodium carbonate aqueous solution, a baking process at 580 ° C. for 15 minutes, and a line width of 50 μm A bus electrode of 3 μm was formed.

【００５５】次に、酸化鉛を７５重量％含有する低融点
ガラスの粉末を７０％、エチルセルロース２０％、テル
ピネオール１０％を混練して得られたガラスペーストを
スクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われる
ように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分
間の焼成を行って前面誘電体を形成した。Next, a glass paste obtained by kneading 70% of powder of low melting point glass containing 75% by weight of lead oxide, 20% of ethylcellulose and 10% of terpineol was screen-printed to form a bus electrode at a display portion. After being applied in a thickness of 50 μm so as to be covered, baking was performed at 570 ° C. for 15 minutes to form a front dielectric.

【００５６】誘電体を形成した基板上に電子ビーム蒸着
により保護膜として、厚み０．５μｍの酸化マグネシウ
ム層を形成して前面板を作製した。A 0.5 μm-thick magnesium oxide layer was formed as a protective film on the substrate on which the dielectric was formed by electron beam evaporation to produce a front plate.

【００５７】次に、背面板を作製した。ガラス基板ＰＤ
２００上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を作成
した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼
成工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍ、ピッチ２５
０μｍのアドレス電極を形成した。Next, a back plate was manufactured. Glass substrate PD
An address electrode was formed on 200 using a photosensitive silver paste. After applying a photosensitive silver paste, drying, exposing, developing and baking steps, the line width is 50 μm, the thickness is 3 μm, and the pitch is 25
An address electrode of 0 μm was formed.

【００５８】次に、酸化ビスマスを７５重量％含有する
低融点ガラスの粉末を６０％、平均粒子径０．３μｍの
酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５
％、テルピネオール１５％を混練して得られたガラスペ
ーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が
覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０
℃１５分間の焼成を行って前面誘電体層を形成した。Next, 60% of powder of low melting point glass containing 75% by weight of bismuth oxide, 10% by weight of titanium oxide powder having an average particle diameter of 0.3 μm, and 15% of ethyl cellulose
% And terpineol 15% are applied by screen printing to a thickness of 50 μm by screen printing so as to cover the bus electrode at the display portion, and then 570 mm.
C. for 15 minutes to form a front dielectric layer.

【００５９】誘電体上に、１層目の感光性ペーストを塗
布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含
む有機成分から構成され、ガラス粉末としては、酸化リ
チウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０
重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量
％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを
粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末を用いた。感光
性成分を含む有機成分としては、カルボキシル基を含有
するアクリルポリマー３０重量％、トリメチロールプロ
パントリアクリレート３０重量％、光重合開始剤である
“イルガキュア３６９”（チバガイギー社製）１０重量
％、γ−ブチロラクトン３０重量％からなるものを用い
た。The first layer of photosensitive paste was applied on the dielectric. The photosensitive paste is composed of a glass powder and an organic component containing a photosensitive component. Examples of the glass powder include lithium oxide 10% by weight, silicon oxide 25% by weight, and boron oxide 30%.
Glass powder having an average particle size of 2 μm was used by pulverizing a glass having a composition consisting of 5% by weight, 15% by weight of zinc oxide, 5% by weight of aluminum oxide and 15% by weight of calcium oxide. As the organic components including the photosensitive component, 30% by weight of an acrylic polymer having a carboxyl group, 30% by weight of trimethylolpropane triacrylate, 10% by weight of a photopolymerization initiator “Irgacure 369” (manufactured by Ciba Geigy), γ -Butyrolactone consisting of 30% by weight was used.

【００６０】感光性ペーストは、これらのガラス粉末と
感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量
比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。
次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて乾燥
後厚み９０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリー
ンオーブン（ヤマト科学社製）で行った。The photosensitive paste was prepared by mixing the glass powder and the organic component including the photosensitive component at a weight ratio of 70:30, and kneading the mixture with a roll mill.
Next, this photosensitive paste was applied to a thickness of 90 μm after drying using a die coater. Drying was performed in a clean oven (manufactured by Yamato Kagaku).

【００６１】乾燥後、ピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍ
のストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、
アドレス電極と垂直方向に露光した。After drying, pitch 250 μm, line width 30 μm
Using a photomask with a stripe pattern of
Exposure was performed in the direction perpendicular to the address electrodes.

【００６２】露光後、上記感光性ペーストをさらに塗
布、乾燥し、９０μｍの塗布膜を得た。After the exposure, the above-mentioned photosensitive paste was further applied and dried to obtain a coating film of 90 μm.

【００６３】次に、ピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍの
ストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、ア
ドレス電極と平行方向に露光した。Next, exposure was performed in a direction parallel to the address electrodes using a photomask having a stripe pattern with a pitch of 250 μm and a line width of 30 μm.

【００６４】露光後、０．５重量％のエタノールアミン
水溶液中で現像し、さらに、５６０℃で１５分間焼成す
ることにより、ピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍ、高さ
１３０μｍの隔壁とピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍ、
高さ６５μｍの補助隔壁を形成した。After exposure, the film is developed in a 0.5% by weight aqueous solution of ethanolamine, and baked at 560 ° C. for 15 minutes to form a partition having a pitch of 250 μm, a line width of 30 μm, a height of 130 μm and a pitch of 250 μm, and a line width of 250 μm. 30 μm,
An auxiliary partition having a height of 65 μm was formed.

【００６５】次に、隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布し
た。蛍光体の塗布は、２５６カ所の穴（口径：１３０μ
ｍ）が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを吐出
するディスペンサー法により形成した。蛍光体は隔壁側
面に焼成後厚み２５μｍ、誘電体上に焼成後厚み２５μ
ｍになるように塗布した後に、５００℃で１０分間の焼
成を行った。かくしてＰＤＰ用部材として、背面板を作
製した。Next, a phosphor was applied between adjacent partitions. The phosphor was applied in 256 holes (130 μm in diameter).
m) was formed by a dispenser method in which a phosphor paste was discharged from the tip of the nozzle formed. The phosphor has a thickness of 25 μm after firing on the side wall of the partition and a thickness of 25 μm after firing on the dielectric.
m, and baked at 500 ° C. for 10 minutes. Thus, a back plate was produced as a PDP member.

【００６６】さらに、作製した前面基板と背面基板を封
着ガラスを用いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを
内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入した。さら
に、駆動回路を実装してＰＤＰを作製した。ＰＤＰのス
キャン電極に電圧を印加して発光させた。その輝度計を
用いて輝度を測定したところ、２５０ｃｄ／ｍ²であ
り、高い輝度の表示特性を得ることができた。。Further, the front substrate and the rear substrate thus prepared were sealed with a sealing glass, and a Ne gas containing 5% of Xe was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. A voltage was applied to the scan electrode of the PDP to emit light. When the luminance was measured using the luminance meter, the luminance was 250 cd / m ² , and high luminance display characteristics could be obtained. .

【００６７】[0067]

【発明の効果】本発明によれば、簡略な工程によりアド
レス電極と平行方向の隔壁とアドレス電極と垂直方向の
補助隔壁とを高精度に形成し、表示品位に優れたプラズ
マディスプレイ用部材の製造方法、およびプラズマディ
スプレイを提供できる。According to the present invention, a partition wall in the direction parallel to the address electrode and an auxiliary partition wall in the direction perpendicular to the address electrode are formed with high accuracy by a simple process, thereby manufacturing a member for a plasma display excellent in display quality. Methods and plasma displays can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明で形成する隔壁および補助隔壁の形状の
一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of the shape of a partition and an auxiliary partition formed in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 隔壁 ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ 補助隔壁 ３ 誘電体層 ４ アドレス電極 ５ ガラス基板 1A, 1B, 1C Partition 2A, 2B, 2C Auxiliary partition 3 Dielectric layer 4 Address electrode 5 Glass substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF03 GF19 JA15 KA09 MA26  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF03 GF19 JA15 KA09 MA26

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】電極を形成した基板上に隔壁を形成する工
程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であっ
て、隔壁を形成する工程が下記の（Ａ）〜（Ｄ）の工程
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の
製造方法。 （Ａ）１層目の感光性ペーストの塗布膜を形成する工
程、（Ｂ）１層目の感光性ペーストの塗布膜を電極と垂
直方向にストライプパターンが形成されたマスクを介し
て、露光する工程、（Ｃ）２層目の感光性ペーストの塗
布膜を形成する工程、（Ｄ）２層目の感光性ペーストの
塗布膜を電極と平行方向にストライプパターンが形成さ
れたマスクを介して、露光する工程。1. A method for manufacturing a member for a plasma display comprising a step of forming a partition on a substrate on which electrodes are formed, wherein the step of forming a partition includes the following steps (A) to (D): A method for producing a member for a plasma display, comprising: (A) a step of forming a first-layer photosensitive paste coating film, and (B) exposing the first-layer photosensitive paste coating film via a mask having a stripe pattern formed in a direction perpendicular to the electrodes. (C) a step of forming a second photosensitive paste coating film, and (D) a second photosensitive paste coating film through a mask having a stripe pattern formed in a direction parallel to the electrodes. The step of exposing. 【請求項２】１層目の塗布膜に用いる感光性ペーストと
２層目の塗布膜に用いる感光性ペーストとが、異なるこ
とを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用
部材の製造方法。2. The method for manufacturing a member for a plasma display according to claim 1, wherein the photosensitive paste used for the first coating film is different from the photosensitive paste used for the second coating film. 【請求項３】１層目の塗布膜に用いる感光性ペースト
が、焼成して白色、青色もしくは透明を呈することを特
徴とする請求項１または２記載のプラズマディスプレイ
用部材の製造方法。3. The method for producing a member for a plasma display according to claim 1, wherein the photosensitive paste used for the first coating film has a white, blue or transparent color when fired. 【請求項４】２層目の塗布膜に用いる感光性ペースト
が、焼成して黒色を呈することを特徴とする請求項１〜
３のいずれか記載のプラズマディスプレイ用部材の製造
方法。4. A photosensitive paste used for a second coating film, which is baked to exhibit a black color.
4. The method for producing a member for a plasma display according to any one of the above items 3. 【請求項５】請求項１〜４のいずれか記載の製造方法に
より製造したプラズマディスプレイ用部材を背面板とし
て用いたことを特徴とするプラズマディスプレイ。5. A plasma display, wherein a member for a plasma display manufactured by the manufacturing method according to claim 1 is used as a back plate.