JP5293485B2 - Method for manufacturing plasma display member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はプラズマディスプレイ用部材の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a member for a plasma display.
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイが注目されている。図１２は、プラズマディスプレイの１つの画素の構成の例を模式的に示した斜視図である。図１２に示す例では、表示面となる前面板１９側のガラス基板１４上には、対をなす複数のサステイン電極１５とスキャン電極１６が、銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で、表示領域の短辺の方向を縦方向、長辺の方向を横方向としたときに、横方向を長手方向とするストライプ状に形成されている。さらにサステイン電極１５およびスキャン電極１６を被覆してガラスを主成分とする誘電体層１７が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層１７を被覆して保護層１８が形成されている。
Plasma displays are attracting attention as displays that can be used in thin and large televisions. FIG. 12 is a perspective view schematically showing an example of the configuration of one pixel of the plasma display. In the example shown in FIG. 12, a plurality of paired
一方、背面板２６側のガラス基板２０には、複数のアドレス電極２１が、縦方向を長手方向とするストライプ状に形成され、アドレス電極２１を被覆してガラスを主成分とする誘電体層２２が形成されている。前記誘電体層２２上に放電セルを仕切るために、縦方向を長手方向とする主隔壁２３と、主隔壁２３と略直交する補助隔壁２４からなる格子状隔壁が形成され、隔壁と誘電体層２２で形成された放電空間内に蛍光体層２５が形成されてなる。フルカラー表示が可能なプラズマディスプレイにおいては、蛍光体層は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に発光するものにより構成される。前面板１９側のサステイン電極１５と背面板２６側のアドレス電極２１が互いに直交するように、前面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されプラズマディスプレイが形成される。スキャン電極１６とアドレス電極２１の交点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマディスプレイは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。
On the other hand, on the
プラズマディスプレイにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて、発光していない状態からスキャン電極１６とアドレス電極２１との間に放電開始電圧以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動して保護層１８の内壁に帯電し、内壁の電荷は保護層１８の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷として残留する。
When performing display on the plasma display, if a voltage higher than the discharge start voltage is applied between the
次に、スキャン電極１６とサステイン電極１５の間に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体層２５を励起することにより、発光表示が可能になる。
Next, a sustaining voltage is applied between the
プラズマディスプレイパネル用背面板を構成するアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層においては、基板上に感光性ペーストを塗布または積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、その後所望の現像液を用いて現像する方法が知られている。 In the address electrodes, dielectric layers, barrier ribs, and phosphor layers constituting the back plate for plasma display panel, a photosensitive paste is applied or laminated on the substrate, exposed through a photomask having a desired pattern, and then desired. There is known a method of developing using the above developer.
例えば基板上にセラミック粉末と紫外線硬化型樹脂からなる感光性ペースト層を形成し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して露光、現像、焼成することにより隔壁を形成する方法（特許文献１）が提案されている。 For example, there is a method of forming a partition wall by forming a photosensitive paste layer made of ceramic powder and an ultraviolet curable resin on a substrate, and exposing, developing, and baking through a photomask having a desired pattern (Patent Document 1). Proposed.
しかしながら、フォトマスク上に異物が付着した場合、あるいはキズがあった場合、露光・現像・焼成後に得られるパターンは、その殆どにおいて断線あるいは短絡等の欠陥が発生し、歩留まりが低下するという問題があった。 However, when foreign matter adheres to the photomask, or there are scratches, most of the patterns obtained after exposure, development, and baking have defects such as disconnection or short circuit, resulting in a decrease in yield. there were.
このような問題に対し、フォトマスクの開口部の長さが、パターン層の長さより短いフォトマスクを準備し、基板またはフォトマスクを移動させながら露光する方法（特許文献２、３）が提案されている。しかしながらこの方法においては、ＰＤＰの格子状隔壁などの複雑なパターンを形成する場合、たとえ露光、現像後に良好な形状の隔壁前駆体を形成することができても、焼成時に隔壁前駆体を構成する感光性ペースト層中の有機成分が除去される際に収縮が起こるため、特に基板端部またはフォトマスクの移動方向端部で隔壁形状の不良が発生し、部材の生産性を落としたり、パネルの表示品位を低下させたりするという問題がある。
In order to solve such a problem, a method has been proposed in which a photomask having a photomask opening shorter than the pattern layer is prepared and exposed while moving the substrate or the photomask (
本発明が解決しようとする課題は、生産性の高いプラズマディスプレイ用部材を提供し、かつ表示品位が高いプラズマディスプレイを提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is to provide a plasma display member with high productivity and to provide a plasma display with high display quality.
本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層を形成し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う前に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によって解決することができる。 An object of the present invention is to form a lattice pattern comprising a plurality of substantially striped address electrodes on a substrate, a dielectric layer covering the address electrodes, a main partition substantially parallel to the address electrode, and an auxiliary partition substantially orthogonal to the main partition. In manufacturing a member for a plasma display having a partition wall, an address electrode or an address electrode precursor and a dielectric layer or a dielectric layer precursor are provided on a substrate, and the dielectric layer or the dielectric layer precursor is provided on the substrate. A grid-like light transmission comprising a light-transmitting portion for forming a main barrier rib substantially parallel to the address electrode or the precursor of the address electrode and a light-transmitting portion for forming a auxiliary barrier rib that is substantially orthogonal to the address electrode or the address electrode precursor. A method for producing a display member, wherein a plurality of exposure operations are performed through a photomask having a pattern, developed, and baked to form a grid-shaped partition wall. The opening width of the light transmitting portion for forming the auxiliary barrier rib located at the outermost portion in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming the main barrier rib of the photomask having a light transmitting pattern is the center in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming the main barrier rib This is larger than the opening width of the light transmitting part for forming the auxiliary barrier rib located at the part, and after performing a specific exposure operation among the multiple exposure operations, before performing the next exposure operation, A photomask moving operation is performed in which a photomask having a light pattern and a substrate are moved relative to each other in parallel with the address electrode, and a moving distance in the photomask moving operation is a main partition wall of the photomask having the lattice-like light transmitting pattern. To solve the problem by a method for manufacturing a member for plasma display, characterized in that it is an integral multiple of the pitch of the auxiliary barrier rib transparent portion located at the outermost part in the longitudinal direction of the forming transparent portion and the auxiliary barrier rib transparent portion adjacent thereto. It can be.
また、本発明の課題は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に第一の感光性ガラスペースト層を形成し、該主隔壁と該補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを用いて露光し、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う前に、該第二のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法によっても解決することができる。 Another object of the present invention is to comprise a plurality of substantially striped address electrodes on a substrate, a dielectric layer covering the address electrodes, a main partition substantially parallel to the address electrode, and an auxiliary partition substantially orthogonal to the main partition. In manufacturing a member for a plasma display having a lattice-shaped partition wall, an address electrode or a precursor of an address electrode, and a dielectric layer or a precursor of a dielectric layer are provided on a substrate, and the dielectric layer or the precursor of the dielectric layer is provided. A first photosensitive glass paste layer is formed on the body, exposed using a first photomask having a translucent portion at a position corresponding to the intersection of the main partition and the auxiliary partition, and the first A second photosensitive glass paste layer is provided on the photosensitive glass paste layer, a light transmitting portion for forming a main partition wall substantially parallel to the address electrode or the address electrode precursor, and an auxiliary member substantially orthogonal thereto. Method for manufacturing display member, wherein a plurality of exposure operations are performed through a second photomask having a lattice-like light-transmitting pattern composed of a wall-forming light-transmitting portion, developed, and baked to form a lattice-shaped partition wall The opening width of the auxiliary partition wall forming light transmitting portion located at the outermost portion in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion of the second photomask is the center in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion. After the specific exposure operation is performed among the plurality of exposure operations and before the next exposure operation, the second photo is larger. A photomask moving operation is performed in which the mask and the substrate are moved relative to each other in parallel with the address electrode, and the moving distance in the photomask moving operation is the outermost portion in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming the main partition wall of the second photomask. Auxiliary partition wall translucent part located at and next to it Can also be solved by a manufacturing method of a plasma display member, characterized in that the Hare is an integer multiple of the pitch of the auxiliary barrier transparent portion.
本発明により、生産性の高いプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供し、かつ表示品位が高いプラズマディスプレイを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a plasma display member with high productivity and to provide a plasma display with high display quality.
本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に感光性ガラスペースト層を形成し、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有するフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法である（本発明の第一の態様）。 The method for manufacturing a member for a plasma display according to the present invention includes a plurality of substantially striped address electrodes on a substrate, a dielectric layer covering the address electrodes, a main partition substantially parallel to the address electrode, and substantially orthogonal to the main partition. In manufacturing a member for a plasma display having a grid-shaped partition made up of auxiliary partitions, an address electrode or an address electrode precursor, and a dielectric layer or a dielectric layer precursor are provided on a substrate, and the dielectric layer or dielectric Forming a photosensitive glass paste layer on the precursor of the body layer, from the light transmitting portion for forming the main partition wall substantially parallel to the address electrode or the precursor of the address electrode, and the light transmitting portion for forming the auxiliary partition wall substantially orthogonal thereto A display in which a plurality of exposure operations are performed through a photomask having a lattice-like light-transmitting pattern, developed, and baked to form lattice-like partition walls. The opening width of the auxiliary partition wall forming light transmitting portion located on the outermost side in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion of the photomask having the lattice-shaped light transmitting pattern is After the specific exposure operation is performed among the plurality of exposure operations, the next exposure is performed, which is larger than the opening width of the light transmission portion for auxiliary partition wall formation located in the longitudinal central portion of the light transmission portion for main partition wall formation. During the operation, a photomask moving operation is performed in which the photomask having the lattice-like light-transmitting pattern and the substrate are relatively moved in parallel with the address electrodes, and the moving distance in the photomask moving operation is the lattice-like shape. It is an integral multiple of the pitch between the auxiliary barrier rib transparent portion located at the outermost part in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion of the photomask having the transparent pattern and the auxiliary barrier rib transparent portion adjacent thereto. Plasma display part A method of manufacturing (first aspect of the present invention).
特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行うことによって、フォトマスク上に異物が付着した場合やキズがあった場合であっても、断線や短絡等といった欠陥の発生を抑制し、生産性良くプラズマディスプレイ部材を製造することが出来る。 After performing a specific exposure operation, during a next exposure operation, a photomask moving operation is performed in which the photomask having the lattice-like translucent pattern and the substrate are relatively moved in parallel with the address electrodes. Even when foreign matter adheres to the photomask or there are scratches, it is possible to suppress the occurrence of defects such as disconnection or short circuit, and to manufacture a plasma display member with high productivity.
該フォトマスク移動動作における移動距離は、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であるが、なかでも等倍であることが好ましい。等倍にすることによって、フォトマスク移動動作を行った際の位置ずれを最小限に抑えることが出来る。整数倍でない場合は、隔壁の形状の制御が困難になる。なお、本発明において、ピッチとは各パターンの中心線間の距離を指し、また、整数倍とは、必ずしも厳密に整数倍とすることが必要なわけではなく、概ね整数倍の０．９０〜１．１０倍、好ましくは０．９５〜１．０５倍の範囲内であればよい。 The moving distance in the photomask moving operation is such that the auxiliary barrier rib transparent portion located on the outermost side in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion of the photomask having the lattice-like transparent pattern and the auxiliary barrier rib transparent adjacent thereto. Although it is an integral multiple of the pitch of the part, it is preferable that it is the same multiple. By setting the same magnification, it is possible to minimize the positional deviation when the photomask moving operation is performed. If it is not an integer multiple, it becomes difficult to control the shape of the partition. In the present invention, the pitch refers to the distance between the center lines of each pattern, and the integral multiple does not necessarily need to be strictly an integral multiple, and is generally an integer multiple of 0.90. It may be within a range of 1.10 times, preferably 0.95 to 1.05 times.
図１は、本発明に用いる格子状の透光パターンを有するフォトマスクの左上部におけるパターンを示す模式図である。このフォトマスクは、主隔壁形成用透光部３および補助隔壁形成用透光部１からなる格子状の透光パターンを有し、該格子状の透光パターンを有するフォトマスクの該主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部２の開口幅Ｗ２が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１よりも大きい（Ｗ１＜Ｗ２）。従来のようにＷ１＝Ｗ２とした場合、フォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させて露光動作を行うと、縦方向最外部の補助隔壁の露光量が、縦方向中央部の補助隔壁と比較して少なくなる。その結果、露光、現像を行った後の隔壁前駆体において、図２に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７の幅Ｌ２が主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁６の幅Ｌ１と比較して細くなり、これを焼成すると、図３に示すように主隔壁の収縮応力によって主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が引っ張られ、基板との接着力よりも大きな収縮応力を受けることにより、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がってしまう。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がると、プラズマディスプレイを作製した際に、浮き上がった部分が前面板と干渉し、前面板との間に隙間ができるため誤放電などが発生し、表示品位を落としてしまう。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a pattern in the upper left part of a photomask having a lattice-like light transmission pattern used in the present invention. This photomask has a lattice-like light-transmitting pattern composed of a main barrier rib-forming light-transmitting
これを解決するためには、格子状の透光パターンを有するフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部２の開口幅Ｗ２を、主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１よりも大きくする、すなわちＷ１＜Ｗ２とすることで、フォトマスクと基板とを主隔壁の方向と平行に相対移動させて露光動作を行っても、露光、現像を行った後の隔壁前駆体において、図４に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７の幅Ｌ５を太くすることが出来るので、焼成を行っても図５に示すように主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁７が基板から浮き上がることが無くなり、プラズマディスプレイを作製した際に表示品位を落とすことがなくなる。
In order to solve this problem, the opening width W2 of the auxiliary barrier rib forming
フォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅と前記主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅との比（Ｗ２／Ｗ１）は１．１〜４．７であることが好ましく、１．１以上であれば縦方向最外部の隔壁幅を充分に太くすることが出来るので、縦方向最外部の補助隔壁が基板から浮き上がってプラズマディスプレイの表示品位を落とすことが無く、４．７以下であれば最外部補助隔壁自身の幅方向の収縮応力が大きくなり頂部が反り上がったりすることもない。 The opening width of the light transmitting portion for forming auxiliary barrier ribs located at the outermost portion in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming main barrier ribs of the photomask and the light transmitting portion for forming auxiliary barrier ribs positioned at the center in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming main barrier ribs. The ratio (W2 / W1) to the aperture width of the optical part is preferably 1.1 to 4.7, and if it is 1.1 or more, the partition wall width at the outermost part in the vertical direction can be sufficiently increased. The outermost auxiliary partition wall in the vertical direction is not lifted from the substrate and the display quality of the plasma display is not deteriorated, and if it is 4.7 or less, the contraction stress in the width direction of the outermost auxiliary partition wall itself is increased and the top is warped. There is nothing.
なお、図１にはプラズマディスプレイ用部材の左上部に相当する部分のみの透光パターンを示しているが、この部分の下側の位置においては主隔壁形成用透光部がそれぞれ直線状に延び、補助隔壁形成用透光部が等ピッチで配置されている。また、最下部における透光部パターンは図１のパターンを上下反転させたパターンとなる。さらに、図１の部分の左側の位置においては、主隔壁形成用透光部が等ピッチで配置され、補助隔壁形成用透光部がそれぞれ直線状に延びており、右端部においては図１のパターンを左右反転させたパターンとなる。 FIG. 1 shows a translucent pattern of only the portion corresponding to the upper left portion of the plasma display member, but the translucent portion for forming the main partition wall extends linearly at a position below this portion. The light transmitting portions for forming auxiliary partition walls are arranged at an equal pitch. Further, the light-transmitting portion pattern at the bottom is a pattern obtained by vertically inverting the pattern of FIG. Further, in the position on the left side of the portion in FIG. 1, the light transmitting portions for forming the main barrier ribs are arranged at an equal pitch, the light transmitting portions for forming the auxiliary barrier ribs extend linearly, and the right end portion of FIG. The pattern is a left-right reversed pattern.
また、複数回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。このようにすることで露光動作の位置精度を確保し、かつ短時間で露光動作を終えることができるので、生産性を犠牲にすることもない。 In addition, since the photomask and the substrate are relatively moved during a plurality of exposure operations, an alignment operation for alignment is performed before each of the two exposure operations in order to ensure the exposure position accuracy. Is preferred. However, before the first exposure operation, an alignment operation for alignment between the substrate and the photomask is performed every time, but before the second exposure operation, the alignment operation is performed on the first sheet and the second and subsequent sheets. In one cycle, the exposure operation may be performed by moving the photomask and the substrate relative to each other by a certain distance based on the result of the initial alignment without performing the alignment operation. In this way, the positional accuracy of the exposure operation can be ensured and the exposure operation can be completed in a short time, so that productivity is not sacrificed.
また、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、基板上に複数の略ストライプ状のアドレス電極、該アドレス電極を覆う誘電体層ならびに該アドレス電極に略平行な主隔壁および該主隔壁と略直交する補助隔壁からなる格子状隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材を製造するにあたり、基板上にアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、該誘電体層または誘電体層の前駆体上に第一の感光性ガラスペースト層を形成し、該主隔壁と該補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを用いて露光し、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、該アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法であって、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、該主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該第二のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行い、該フォトマスク移動動作における移動距離が、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法であってもよい（第二の態様）。 The method for manufacturing a member for a plasma display according to the present invention includes a plurality of substantially striped address electrodes on a substrate, a dielectric layer covering the address electrodes, a main partition substantially parallel to the address electrodes, and the main partition. In manufacturing a member for a plasma display having a grid-shaped partition wall composed of orthogonal auxiliary partition walls, an address electrode or an address electrode precursor and a dielectric layer or a dielectric layer precursor are provided on a substrate, and the dielectric layer Alternatively, a first photosensitive glass paste layer is formed on the dielectric layer precursor, and exposure is performed using a first photomask having a translucent portion at a position corresponding to the intersection of the main partition and the auxiliary partition. Providing a second photosensitive glass paste layer on the first photosensitive glass paste layer, and forming a main partition wall substantially parallel to the address electrode or address electrode precursor A plurality of exposure operations are carried out through a second photomask having a lattice-like light transmission pattern comprising a light portion and a light transmission portion for forming auxiliary barrier ribs substantially orthogonal to the light portion, and developed and baked to form a lattice-like partition wall. And the opening width of the auxiliary barrier rib forming light-transmitting portion located at the outermost portion in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion of the second photomask is the main barrier rib. After the specific exposure operation is performed among the plurality of exposure operations, the next exposure operation is performed, which is larger than the opening width of the auxiliary partition wall forming translucent portion located at the central portion in the longitudinal direction of the forming translucent portion. While performing, a photomask moving operation is performed in which the second photomask and the substrate are relatively moved in parallel with the address electrode, and the moving distance in the photomask moving operation is the main partition formation of the second photomask. At the outermost part of the translucent part in the longitudinal direction It may be a method for manufacturing a plasma display member, wherein the auxiliary barrier rib is an integral multiple of the pitch of the transparent portion and the auxiliary barrier transparent portion adjacent thereto to (the second embodiment).
本発明の第二の態様においては、主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクを介して露光を行う。第一のフォトマスクを介して露光を実施した後、該第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設けることで、第一のフォトマスクを介して露光を行った際の露光部が盛り上がるため、焼成時に高さ方向の収縮率が大きい主隔壁該補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることを抑制することができ、主隔壁と補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることで発生する、パネル表示した際の誤放電による表示品位の低下を防ぐことが出来る。 In the second aspect of the present invention, exposure is performed through a first photomask having a light transmitting portion at a position corresponding to the intersection of the main partition and the auxiliary partition. After performing the exposure through the first photomask, the exposure was performed through the first photomask by providing a second photosensitive glass paste layer on the first photosensitive glass paste layer. Since the exposed portion at the time is raised, it can be suppressed that the partition wall is locally lowered at the intersection of the main partition wall and the auxiliary partition wall having a large shrinkage ratio in the height direction during firing. It is possible to prevent the display quality from being deteriorated due to erroneous discharge at the time of panel display, which is caused by the partition wall being locally lowered at the intersection.
主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクの透光部パターンは特に限定されるものではなく、例えば図６に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように正方形、図７に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように長方形、図８に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように多角形、図９に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように円形、図１０に示す主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部４のように楕円形のいずれであっても良いが、中でも図１１に示すような菱形であることが好ましい。菱形以外の形状、例えば図６に示すように主隔壁の長手方向と補助隔壁の長手方向に平行な辺を有する正方形にした場合、格子状のパターンからはみ出した部分が焼成時に高さ方向に突出し、蛍光体層の形成を困難にしたりパネルの表示品位を落としたりすることがあるが、菱形にすることでこのような問題の発生をなくすことが出来る。
The light transmitting portion pattern of the first photomask having a light transmitting portion at a position corresponding to the intersection between the main partition and the auxiliary partition is not particularly limited. For example, the intersection between the main partition and the auxiliary partition shown in FIG. 8 is a square as the
菱形の大きさは対角で３０〜１５０μｍが好ましく、３０μｍ以上であれば主隔壁と補助隔壁との交差部で局所的に隔壁が低くなることを抑制する効果を充分得ることが出来、１５０μｍ以下であればパターンが埋まり、蛍光体層の形成が困難になることもない。 The size of the rhombus is preferably 30 to 150 μm diagonally, and if it is 30 μm or more, it is possible to sufficiently obtain an effect of suppressing the local partition wall from being locally lowered at the intersection of the main partition wall and the auxiliary partition wall, and 150 μm or less. If this is the case, the pattern is buried and formation of the phosphor layer does not become difficult.
なお、図１と同様、図６〜１１にはプラズマディスプレイ用部材の左上部に相当する透光部パターンのみを示しているが、図６〜１１の領域外の部分においても、同じ形状の透光部パターンが等ピッチで配置されている。 Similar to FIG. 1, FIGS. 6 to 11 show only the translucent part pattern corresponding to the upper left part of the plasma display member, but the transparent parts of the same shape are also formed in the part outside the region of FIGS. The light part patterns are arranged at an equal pitch.
また、第一のフォトマスクを用いて露光を行う際、後述の第二のフォトマスクを用いて露光を行うのと同様に複数回の露光動作を行うことが出来る。該複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、該第一のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と平行に相対移動させるフォトマスク移動動作を行う場合は、該フォトマスク移動動作における移動距離は、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁透光部とそれに隣り合う補助隔壁透光部のピッチの整数倍であることが好ましい。該第一のフォトマスクと基板とを該アドレス電極と垂直に相対移動させるフォトマスク移動動作を行う場合は、該フォトマスク移動動作における移動距離は、該第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部のピッチの整数倍であることが好ましい。整数倍でない場合は、隔壁の形状の制御が困難になる。 In addition, when performing exposure using the first photomask, a plurality of exposure operations can be performed as in the case of performing exposure using a second photomask described later. Among the multiple exposure operations, after performing a specific exposure operation, a photomask moving operation for relatively moving the first photomask and the substrate in parallel with the address electrode during the next exposure operation In this case, the movement distance in the photomask moving operation is such that the auxiliary barrier rib transparent portion located on the outermost part in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion of the second photomask and the auxiliary barrier rib transparent adjacent thereto are transmitted. It is preferably an integral multiple of the part pitch. When performing a photomask movement operation in which the first photomask and the substrate are moved relative to each other perpendicular to the address electrode, the movement distance in the photomask movement operation is the transmission distance for forming the main partition wall of the second photomask. It is preferably an integer multiple of the pitch of the optical part. If it is not an integer multiple, it becomes difficult to control the shape of the partition.
複数回の露光動作の間にフォトマスクと基板とを相対移動させることから、露光の位置精度を確保するために２回の各露光動作の前に位置合わせのためのアライメント動作を行うことが好ましい。ただし、１回目の露光動作の前には基板とフォトマスクとの位置合わせのためのアライメント動作を毎回行うが、２回目の露光動作の前は１枚目でアライメント動作を行い、２枚目以降はアライメント動作を行わずに初回アライメントの結果を基にフォトマスクと基板とを一定距離相対移動させて露光動作を行うことを１サイクルとし、これを繰り返してもよい。 Since the photomask and the substrate are relatively moved during a plurality of exposure operations, it is preferable to perform an alignment operation for alignment before each of the two exposure operations in order to ensure the exposure position accuracy. . However, before the first exposure operation, an alignment operation for alignment between the substrate and the photomask is performed every time, but before the second exposure operation, the alignment operation is performed on the first sheet and the second and subsequent sheets. In one cycle, the exposure operation may be performed by moving the photomask and the substrate relative to each other by a certain distance based on the result of the initial alignment without performing the alignment operation.
第一のフォトマスクを用いて露光を行った後、第一の感光性ガラスペースト層上に第二の感光性ガラスペースト層を設け、本発明の第一の態様と同様に、アドレス電極またはアドレス電極の前駆体に略平行な主隔壁形成用透光部およびこれに略直交する補助隔壁形成用透光部からなる格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクを介して複数回の露光動作を行い、現像し、焼成して格子状隔壁を形成する。この際、第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅が、主隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅よりも大きく、複数回の露光動作のうち、特定の露光動作を行った後、次の露光動作を行う間に、第二のフォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に相対移動させることによって、本発明の第一の態様と同様、焼成後に主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁が基板から浮き上がることがなくなり、プラズマディスプレイを作製した際に表示品位を落とすことがなくなるという格別な効果を奏する。 After performing exposure using the first photomask, a second photosensitive glass paste layer is provided on the first photosensitive glass paste layer, and in the same manner as in the first aspect of the present invention, address electrodes or addresses are provided. Multiple exposures through a second photomask having a light transmission pattern in the form of a main barrier rib forming light-transmitting portion substantially parallel to the electrode precursor and an auxiliary barrier rib forming light-transmitting portion substantially orthogonal thereto Operation is performed, development is performed, and baking is performed to form grid-like partition walls. At this time, the opening width of the light transmitting portion for forming the auxiliary barrier rib located at the outermost portion in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming the main barrier rib of the second photomask is positioned at the center in the longitudinal direction of the light transmitting portion for forming the main barrier rib. The second photomask and the substrate are placed after performing a specific exposure operation among a plurality of exposure operations and performing the next exposure operation. By moving relative to the address electrodes in parallel, as in the first aspect of the present invention, the auxiliary barrier ribs located on the outermost part in the longitudinal direction of the main barrier ribs are not lifted from the substrate after firing, and the plasma display is manufactured. There is an extraordinary effect that the display quality is not degraded.
以上の本発明の第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクとは、いずれもフォトマスクと基板とを相対移動させる際に、フォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に移動させるが、こうした場合、移動方向と平行な主隔壁では移動前後の基板とフォトマスクとの位置精度が確保しやすく、主隔壁の幅のバラツキを小さくすることが出来る。主隔壁の幅のバラツキが小さければ蛍光体層形成を困難にすることが無く、プラズマディスプレイ用部材の生産性を落とすこともない。一方、フォトマスクと基板とをアドレス電極と垂直方向に相対移動させるフォトマスク移動動作を行った場合、移動方向と垂直な主隔壁では移動前後の基板とフォトマスクとの位置精度を確保しにくいために、主隔壁のバラツキが大きくなり、蛍光体層形成を困難にするために、プラズマディスプレイ用部材の生産性を落としてしまうことがある。同様にアドレス電極と平行または垂直以外の方向にフォトマスク移動動作を行った場合も主隔壁の幅のバラツキが大きくなるため、蛍光体層塗布が困難となりプラズマディスプレイ部材の生産性を落とす可能性がある。 The photomask having a lattice-like light transmission pattern in the first aspect of the present invention and the second photomask having the lattice-like light transmission pattern in the second aspect are both a photomask and a substrate. When moving the photomask, the photomask and the substrate are moved in parallel with the address electrodes. In such a case, the main partition parallel to the moving direction can easily secure the positional accuracy of the substrate and the photomask before and after the movement. The variation in the width of the partition can be reduced. If the variation in the width of the main partition is small, it will not be difficult to form the phosphor layer, and the productivity of the plasma display member will not be reduced. On the other hand, when a photomask moving operation is performed in which the photomask and the substrate are moved relative to each other in the direction perpendicular to the address electrodes, it is difficult to ensure the positional accuracy between the substrate and the photomask before and after the movement in the main partition perpendicular to the moving direction. In addition, the variation of the main partition wall is increased, and it is difficult to form the phosphor layer, so that the productivity of the plasma display member may be lowered. Similarly, when the photomask moving operation is performed in a direction other than parallel or perpendicular to the address electrodes, the variation in the width of the main barrier ribs increases, which makes it difficult to apply the phosphor layer and may reduce the productivity of the plasma display member. is there.
第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクは、図１に示すように主隔壁形成用透光部が主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部よりも主隔壁形成用透光部の長手方向に突出していることが好ましく、かつ主隔壁形成用透光部の長手方向の長さが主隔壁の長手方向の長さより長い、すなわち隔壁を形成するために設ける感光性ガラスペースト層の縦方向の長さよりも長いことが好ましい。主隔壁形成用透光部を主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部よりも突出させ、かつ主隔壁形成用透光部の長手方向の長さを主隔壁の長手方向の長さより充分長くすることで、格子状の透光パターンを有するフォトマスクを用いて行う全ての露光動作において、現像後に主隔壁の前駆体となるパターンの長手方向全域で露光が行われるため、フォトマスクと基板とをアドレス電極と平行に相対移動させても主隔壁長手方向端部で露光不足になることがなく、主隔壁端部が現像後剥がれたりすることを防ぐことが出来る。 As shown in FIG. 1, the photomask having the lattice-like light transmission pattern in the first embodiment and the second photomask having the lattice-like light transmission pattern in the second embodiment are used. Preferably protrudes in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion from the auxiliary partition wall forming light transmitting portion located at the outermost portion in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion, and the main partition wall forming light transmitting portion. The length in the longitudinal direction of the part is preferably longer than the length in the longitudinal direction of the main partition wall, that is, longer than the length in the longitudinal direction of the photosensitive glass paste layer provided to form the partition wall. The main partition wall forming light transmitting portion protrudes beyond the auxiliary partition wall forming light transmitting portion located at the outermost portion in the longitudinal direction of the main partition wall forming light transmitting portion, and the length of the main partition wall forming light transmitting portion in the longitudinal direction is set. By making it sufficiently longer than the length of the main partition wall in the longitudinal direction, exposure is performed in the entire longitudinal direction of the pattern that becomes the precursor of the main partition wall after development in all exposure operations performed using a photomask having a lattice-like light-transmitting pattern. Therefore, even if the photomask and the substrate are moved relative to each other in parallel with the address electrode, there is no underexposure at the main partition longitudinal end, and the main partition end is prevented from peeling off after development. I can do it.
第一の態様で格子状の透光パターンを有するフォトマスクと、第二の態様で格子状の透光パターンを有する第二のフォトマスクとは、補助隔壁形成用透光部が補助隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部よりも突出しないことが好ましい。補助隔壁形成用透光部が補助隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する主隔壁形成用透光部よりも突出すると、補助隔壁の焼成収縮応力によって補助隔壁の補助隔壁長手方向端部が引っ張られ、基板から浮き上がってしまう。補助隔壁の補助隔壁長手方向端部が基板から浮き上がると、プラズマディスプレイを作製した際に、浮き上がった部分が前面板と干渉し、前面板との間に隙間ができるため誤放電などが発生し、表示品位を落としてしまう場合がある。 The photomask having the lattice-like light transmission pattern in the first aspect and the second photomask having the lattice-like light transmission pattern in the second aspect are such that the auxiliary barrier rib formation light-transmitting portion is for the auxiliary barrier rib formation. It is preferable that it does not protrude from the light transmitting part for forming the main partition located at the outermost part in the longitudinal direction of the light transmitting part. When the auxiliary partition forming light transmitting portion protrudes beyond the main partition forming light transmitting portion located at the outermost part in the longitudinal direction of the auxiliary partition forming light transmitting portion, the auxiliary partition longitudinal end of the auxiliary partition due to the firing shrinkage stress of the auxiliary partition The part is pulled and floats up from the substrate. When the auxiliary partition longitudinal end of the auxiliary partition lifts from the substrate, when the plasma display is manufactured, the lifted part interferes with the front plate, and a gap is formed between the front plate and misdischarge occurs. The display quality may be degraded.
以下、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法について説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the member for plasma displays of the present invention is explained.
本発明においてプラズマディスプレイ用部材に用いる基板としては、ソーダガラスなどを用いることができ、具体的にはプラズマディスプレイ用の耐熱ガラスである旭硝子（株）製のＰＤ２００や日本電気硝子（株）製のＰＰ８などが挙げられる。 As the substrate used for the plasma display member in the present invention, soda glass or the like can be used. Specifically, the heat-resistant glass for plasma display is PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. or Nippon Electric Glass Co., Ltd. PP8 etc. are mentioned.
基板上には、銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりストライプ状のアドレス電極が形成される。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷し、４００〜６００℃に加熱・焼成して金属パターンを形成する方法や、金属粉末と感光性有機成分を含む感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光後、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに４００〜６００℃に加熱、焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後にレジストを塗布し、レジストをパターン露光、現像した後にエッチングにより不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることもできる。電極厚みは１．０〜１０μｍが好ましく、１．５〜５μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要とされ、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは３０〜２４０μｍ、より好ましくは３５〜１５０μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣り合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のプラズマディスプレイでは１００〜５００μｍ、高精細プラズマディスプレイにおいては１００〜４００μｍのピッチで形成するのが好ましい。 Striped address electrodes are formed on the substrate with a metal such as silver, aluminum, chromium, or nickel. As a forming method, a metal paste mainly composed of these metal powders and an organic binder is printed by screen printing, and heated and baked at 400 to 600 ° C. to form a metal pattern, After applying a photosensitive metal paste containing a photosensitive organic component, after pattern exposure using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a development process, and further heated and baked at 400 to 600 ° C. to form a metal pattern. A photosensitive paste method can be used. Alternatively, an etching method may be used in which a resist is applied after sputtering a metal such as chromium or aluminum on a glass substrate, and after the resist is subjected to pattern exposure and development, an unnecessary portion of the metal is removed by etching. The electrode thickness is preferably 1.0 to 10 μm, and more preferably 1.5 to 5 μm. If the electrode thickness is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be difficult, and if it is too thick, a large amount of material is required, which tends to be disadvantageous in terms of cost. The width of the address electrode is preferably 30 to 240 μm, more preferably 35 to 150 μm. If the width of the address electrode is too narrow, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (region where each RGB of the pixel is formed). It is preferable to form at a pitch of 100 to 500 μm for a normal plasma display and 100 to 400 μm for a high definition plasma display.
前記アドレス電極を被覆して、誘電体層が形成される。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストを、アドレス電極を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成することができる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０質量％含有する低融点ガラス粉末を好ましく用いることができる。該配合物を１０質量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０質量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。 A dielectric layer is formed to cover the address electrodes. The dielectric layer can be formed by applying a glass paste mainly composed of glass powder and an organic binder so as to cover the address electrodes, and then baking at 400 to 600 ° C. The glass paste used for the dielectric layer preferably includes a low melting glass powder containing at least one of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide and phosphorus oxide, and containing 10 to 80% by mass in total. it can. By setting the blend to 10% by mass or more, firing at 600 ° C. or less is facilitated, and by setting it to 80% by mass or less, crystallization is prevented and a decrease in transmittance is prevented.
上記低融点ガラス粉末と有機バインダーを混練してペーストを作成する。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。低融点ガラス粉末以外に軟化温度が高く焼成時に軟化しないフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径が０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの質量比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量を重量比でガラス粉末含有量の１０分の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることができる。また、ガラス粉末の含有量の同量以下とすることで、焼結性を保つことができる。
A paste is prepared by kneading the low-melting glass powder and an organic binder. As the organic binder to be used, cellulose compounds typified by ethyl cellulose, methyl cellulose and the like, acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate and isobutyl acrylate can be used. Moreover, you may add additives, such as a solvent and a plasticizer, in glass paste. As the solvent, general-purpose solvents such as terpineol, butyrolactone, toluene and methyl cellosolve can be used. As the plasticizer, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used. By adding a filler component having a high softening temperature and not softening during firing, in addition to the low-melting glass powder, a PDP having a high reflectance and a high luminance can be obtained. As the filler, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are preferable, and it is particularly preferable to use titanium oxide having a 50% particle diameter in a volume distribution curve of 0.05 to 3 μm. The filler content is preferably a glass powder: filler mass ratio of 1: 1 to 10: 1. By making the
また、誘電体層に用いるガラスペーストに導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いプラズマディスプレイを作成することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、体積分布曲線における５０％粒子径は１〜１０μｍであることが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑えることができ、誘電体層上での後述の隔壁の形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０質量％が好ましい。０．１質量％以上とすることで導電性を得ることができ、１０質量％以下とすることで、横方向の隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。 Further, by adding conductive fine particles to the glass paste used for the dielectric layer, a plasma display with high reliability during driving can be produced. The conductive fine particles are preferably metal powders such as nickel and chromium, and the 50% particle diameter in the volume distribution curve is preferably 1 to 10 μm. When the thickness is 1 μm or more, a sufficient effect can be exhibited, and when the thickness is 10 μm or less, unevenness on the dielectric can be suppressed, and formation of a partition wall described later on the dielectric layer can be facilitated. As content in which these electroconductive fine particles are contained in a dielectric material layer, 0.1-10 mass% is preferable. When the content is 0.1% by mass or more, conductivity can be obtained, and when the content is 10% by mass or less, a short circuit between adjacent address electrodes in the horizontal direction can be prevented. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm. If the thickness of the dielectric layer is too thin, pinholes tend to occur frequently, and if it is too thick, the discharge voltage tends to be high and the power consumption tends to increase.
次に、本発明における主隔壁および補助隔壁の形成方法について説明する。主隔壁および補助隔壁は、感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）によりパターンを形成し、焼成することで形成される。 Next, the formation method of the main partition and the auxiliary partition in this invention is demonstrated. The main partition wall and the auxiliary partition wall are formed by forming a pattern by a photosensitive paste method (photolithography method) and baking it.
以下に感光性ペースト法について、詳述する。 The photosensitive paste method will be described in detail below.
感光性ペースト法で用いる隔壁形成用感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機成分を主成分とし、必要に応じて光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を含有する。 The photosensitive paste for forming a partition used in the photosensitive paste method is mainly composed of inorganic fine particles and a photosensitive organic component, and if necessary, a photopolymerization initiator, a light absorber, a sensitizer, an organic solvent, and a sensitization aid. Contains a polymerization inhibitor.
隔壁形成用感光性ペーストの無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。 As the inorganic fine particles of the barrier rib forming photosensitive paste, glass, ceramic (alumina, cordierite, etc.) and the like can be used. In particular, glass or ceramics containing silicon oxide, boron oxide, or aluminum oxide as an essential component is preferable.
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積分布曲線における５０％粒子径が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。体積分布曲線における５０％粒子径を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において特に好ましい。 The particle diameter of the inorganic fine particles is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced, but the 50% particle diameter in the volume distribution curve is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. . By setting the 50% particle diameter in the volume distribution curve to 10 μm or less, it is possible to prevent surface irregularities from occurring. Moreover, the viscosity adjustment of a paste can be made easy by setting it as 1 micrometer or more. Furthermore, it is particularly preferable in the pattern formation to use glass fine particles having a specific surface area of 0.2 to 3 m 2 / g.
主隔壁および補助隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃の低融点ガラス微粒子を６０質量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃より高い高融点ガラス微粒子やセラミック微粒子からなるフィラー成分を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、無機微粒子の合計量に対して４０質量％以下が好ましい。低融点ガラス微粒子としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１、さらには、６０×１０−７〜９０×１０−７Ｋ−１の低融点ガラス微粒子を用いることが好ましい。 Since the main partition wall and the auxiliary partition wall are preferably patterned on a glass substrate having a low heat softening point, inorganic particles containing 60% by mass or more of low melting glass particles having a heat softening temperature of 350 to 600 ° C. are used as the inorganic particles. It is preferable to use it. Further, by adding a filler component composed of high melting point glass fine particles or ceramic fine particles having a heat softening temperature higher than 600 ° C., the shrinkage rate at the time of firing can be suppressed, but the amount is equal to the total amount of inorganic fine particles. The amount is preferably 40% by mass or less. The low-melting glass fine particles have a linear expansion coefficient of 50 × 10 −7 to 90 × 10 −7 K −1 , and further 60 × 10 −7 to 90 × 10 in order to prevent warping of the glass substrate during firing. It is preferable to use low-melting glass particles of −7 K −1 .
低融点ガラス微粒子としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いられる。 As the low-melting glass fine particles, glass containing silicon and / or boron oxide is preferably used.
酸化ケイ素は、３〜６０質量％の範囲で配合されていることが好ましい。３質量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板との熱膨張係数の差によるそり発生の問題を防ぐことができる。また、６０質量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。 The silicon oxide is preferably blended in the range of 3 to 60% by mass. By setting the content to 3% by mass or more, the denseness, strength and stability of the glass layer are improved, and the thermal expansion coefficient is set within a desired range to prevent the problem of warpage due to the difference in thermal expansion coefficient with the glass substrate. be able to. Moreover, by setting it as 60 mass% or less, there exists an advantage that a thermal softening point becomes low and baking to a glass substrate is attained.
酸化ホウ素は、５〜５０質量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０質量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。 Boron oxide can improve electrical, mechanical, and thermal characteristics such as electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, and denseness of the insulating layer by blending in the range of 5 to 50% by mass. The stability of glass can be maintained by setting it as 50 mass% or less.
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０質量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０質量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成をからなるガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス：１０〜４０質量％
酸化ケイ素：３〜５０質量％
酸化ホウ素：１０〜４０質量％
酸化バリウム：８〜２０質量％
酸化アルミニウム：１０〜３０質量％
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０質量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０質量％以下、好ましくは、１５質量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム：２〜１５質量％
酸化ケイ素：１５〜５０質量％
酸化ホウ素：１５〜４０質量％
酸化バリウム：２〜１５質量％
酸化アルミニウム：６〜２５質量％
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ金属含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
Furthermore, by containing at least one of bismuth oxide, lead oxide, and zinc oxide in a total amount of 5 to 50% by mass, a glass paste having temperature characteristics suitable for patterning on a glass substrate can be obtained. it can. In particular, when glass fine particles containing 5 to 50% by mass of bismuth oxide are used, advantages such as a long pot life of the paste can be obtained. As the bismuth-based glass fine particles, glass powder having the following composition is preferably used.
Bismuth oxide: 10 to 40% by mass
Silicon oxide: 3-50 mass%
Boron oxide: 10 to 40% by mass
Barium oxide: 8-20% by mass
Aluminum oxide: 10-30% by mass
Moreover, you may use the glass fine particle which contains 3-20 mass% of at least 1 sort (s) among lithium oxide, sodium oxide, and potassium oxide. By adding the alkali metal oxide in an amount of 20% by mass or less, preferably 15% by mass or less, the stability of the paste can be improved. Of the above three types of alkali metal oxides, lithium oxide is particularly preferred from the viewpoint of paste stability. As the lithium glass fine particles, for example, glass powder containing the following composition is preferably used.
Lithium oxide: 2 to 15% by mass
Silicon oxide: 15-50 mass%
Boron oxide: 15-40% by mass
Barium oxide: 2 to 15% by mass
Aluminum oxide: 6-25% by mass
If glass particles containing both metal oxides such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and alkali metal oxides such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, the alkali metal content can be reduced. In addition, the heat softening temperature and the linear expansion coefficient can be easily controlled.
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０質量％以下が好ましく、より好ましくは２５質量％以下である。 Also, workability is improved by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, etc., especially aluminum oxide, barium oxide, zinc oxide, etc. to the glass fine particles. However, from the viewpoint of the thermal softening point and the thermal expansion coefficient, the content is preferably 40% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類を含有することが好ましい。 The photosensitive organic component preferably contains at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer.
感光性モノマーは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などのアクリル系モノマーを用いることが好ましい。これらは１種または２種以上使用することができる。 The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include monofunctional and polyfunctional (meth) acrylates, vinyl compounds, allylic compounds such as allyl compounds. It is preferable to use a monomer. These can be used alone or in combination of two or more.
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有するモノマーのうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。好ましくは上記アクリル系モノマーのうち少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーであって、前記モノマーの含有率が、１０質量％以上、さらに好ましくは３５質量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマー、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。 As the photosensitive oligomer and photosensitive polymer, an oligomer or polymer obtained by polymerizing at least one of monomers having a carbon-carbon double bond can be used. Preferably, it is an oligomer or polymer obtained by polymerizing at least one of the acrylic monomers, and the content of the monomer is 10% by mass or more, more preferably 35% by mass or more. It can be copolymerized with a photosensitive monomer. By copolymerizing an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid with a polymer or oligomer, the developability after exposure can be improved. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. The acid value (AV) of the polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is preferably in the range of 50 to 180, and more preferably in the range of 70 to 140. By adding a photoreactive group to the side chain or molecular end to the polymer or oligomer shown above, it can be used as a photosensitive polymer or photosensitive oligomer having photosensitivity. Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acrylic group, and a methacryl group.
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５質量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。 Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl O-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4- Examples include benzoyl-4-methylphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, and the like. One or more of these can be used. The photopolymerization initiator is preferably added in a range of 0.05 to 10% by mass, and more preferably in a range of 0.1 to 5% by mass with respect to the photosensitive component. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity tends to decrease, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to be too small.
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１質量％である。添加量が前記範囲より少ないと、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、前記範囲より多いと、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。 It is also effective to add a light absorber. By adding a compound having a high absorption effect of ultraviolet light or visible light, a high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. As the light absorber, those composed of organic dyes are preferably used. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenylcyanoacrylate dyes are used. Dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, and the like can be used. Since organic dye does not remain in the insulating film after baking, it is preferable because the deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorber can be reduced. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferable. The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by mass, and more preferably 0.05 to 1% by mass. When the addition amount is less than the above range, the effect of adding the light absorber tends to be reduced, and when it is more than the above range, the insulating film characteristics after firing tend to be lowered.
増感剤は、感度を向上させるために好ましく添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。増感剤の量が前記範囲より少ないと感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が前記範囲より多いと、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。 A sensitizer is preferably added in order to improve sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, and the like. Is mentioned. One or more of these can be used. When adding a sensitizer to a photosensitive paste, the addition amount is 0.05-10 mass% normally with respect to the photosensitive component, More preferably, it is 0.1-10 mass%. If the amount of the sensitizer is less than the above range, the effect of improving the sensitivity tends not to be exhibited.
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。 Examples of the organic solvent include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, and γ-butyllactone. , N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid and the like, and one or more of these An organic solvent mixture is used.
隔壁形成用感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。次いで感光性ペーストの塗布、乾燥、露光、現像等を行う。 The partition-forming photosensitive paste is usually prepared by mixing the above-mentioned inorganic fine particles and organic components so as to have a predetermined composition, and then uniformly mixing and dispersing them with a three roller or kneader. Next, a photosensitive paste is applied, dried, exposed, developed, and the like.
隔壁形成用感光性ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。 As a method for applying the barrier rib forming photosensitive paste, a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, a blade coater or the like can be used.
また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ（赤外線）炉などを用いることができる。 In addition, a drying oven, a hot plate, an IR (infrared) furnace or the like can be used for drying after application.
露光で使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。 Examples of the active light source used for exposure include visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light. Among these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or a germicidal lamp can be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp is suitable. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but exposure is performed for 0.1 to 10 minutes using an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 1 to 100 mW / cm 2 .
ここで、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離（以下ギャップ量という）は５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ量を５０μｍ以上、さらに好ましくは７０μｍ以上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下、さらに好ましくは４００μｍ以下とすることにより、シャープなパターニングが可能となる。 Here, the distance between the photomask and the surface of the photosensitive paste coating film (hereinafter referred to as the gap amount) is preferably adjusted to 50 to 500 μm, more preferably 70 to 400 μm. By setting the gap amount to 50 μm or more, more preferably 70 μm or more, contact between the photosensitive paste coating film and the photomask can be prevented, and destruction or contamination of both can be prevented. Moreover, sharp patterning is attained by setting it as 500 micrometers or less, More preferably, it is 400 micrometers or less.
現像は、露光部と非露光部の現像液に対する溶解度差を利用して行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。 Development is performed using the difference in solubility in the developer between the exposed and unexposed areas. Development can be performed by a dipping method, a spray method, a brush method, or the like.
現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分、すなわち、ネガ型感光性ペーストの場合は露光前の感光性有機成分が、ポジ型感光性ペーストの場合は露光後の有機成分が溶解可能である溶液を用いる。溶解させたい有機成分にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像することができる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリ水溶液を使用することが好ましいが、有機アルカリ水溶液を用いることもできる。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されにくい傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、非可溶部を腐食させたりする傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。 Developer can dissolve organic components in the photosensitive paste, that is, photosensitive organic components before exposure in the case of negative photosensitive paste, and organic components after exposure in the case of positive photosensitive paste. Is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the organic component to be dissolved, development can be performed with an alkaline aqueous solution. As the alkaline aqueous solution, an inorganic alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate aqueous solution or calcium hydroxide aqueous solution is preferably used, but an organic alkaline aqueous solution can also be used. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, and diethanolamine. The density | concentration of aqueous alkali solution is 0.01-10 mass% normally, More preferably, it is 0.1-5 mass%. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends to be difficult to remove, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to be peeled off or the insoluble portion tends to be corroded. The development temperature during development is preferably 20 to 50 ° C. in terms of process control.
次に、現像により得られた主隔壁及び補助隔壁のパターンは焼成炉にて焼成される。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。 Next, the pattern of the main partition and the auxiliary partition obtained by development is fired in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste and substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a roller hearth-type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is preferably 400 to 800 ° C. In the case where the partition wall is directly formed on the glass substrate, it is preferable to perform baking while maintaining the temperature at 450 to 620 ° C. for 10 to 60 minutes.
次いで所定のアドレス電極と平行方向に形成された主隔壁間に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。 Next, phosphor layers that emit light of red (R), green (G), and blue (B) colors are formed between main barrier ribs formed in a direction parallel to predetermined address electrodes. The phosphor layer can be formed by applying a phosphor paste mainly composed of phosphor powder, an organic binder, and an organic solvent between predetermined main partition walls, drying, and firing if necessary.
蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストに前述の感光性有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができるが、コストの理由からスクリーン印刷法、ディスペンサー法が本発明では好ましく適用される。 As a method of applying the phosphor paste between predetermined main partition walls, a screen printing method in which a pattern is printed using a screen printing plate, a dispenser method in which a phosphor paste is discharged from the tip of a discharge nozzle, and a phosphor paste The phosphor paste of each color can be applied to a predetermined place by the above-described photosensitive paste method using the photosensitive organic component. However, the screen printing method and the dispenser method are preferably applied in the present invention for cost reasons. The
赤色蛍光体層の厚みをＴｒ（μｍ）、緑色蛍光体層の厚みをＴｇ（μｍ）、および青色蛍光体層の厚みをＴｂ（μｍ）としたとき、式（２）および（３）を満たすことが好ましい。
１０≦Ｔｒ≦Ｔｂ≦５０ （２）、
１０≦Ｔｇ≦Ｔｂ≦５０ （３）
つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランスに優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とすることで充分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ以下とすることで、放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う主隔壁および隣り合う補助隔壁の中間点での焼成後の厚みとして測定する。つまり、放電空間（主隔壁、補助隔壁によって囲まれた画素セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。
When the thickness of the red phosphor layer is T r (μm), the thickness of the green phosphor layer is T g (μm), and the thickness of the blue phosphor layer is T b (μm), equations (2) and (3 ) Is preferably satisfied.
10 ≦ T r ≦ T b ≦ 50 (2),
10 ≦ T g ≦ T b ≦ 50 (3)
That is, a plasma display having a better color balance (high color temperature) can be produced by making the thickness of blue with low emission luminance thicker than green and red. A sufficient luminance can be obtained by setting the thickness of the phosphor layer to 10 μm or more. Further, by setting the thickness to 50 μm or less, it is possible to obtain a wide brightness and high brightness. The thickness of the phosphor layer in this case is measured as the thickness after firing at the midpoint between the adjacent main barrier ribs and the adjacent auxiliary barrier ribs. That is, it is measured as the thickness of the phosphor layer formed at the bottom of the discharge space (in the pixel cell surrounded by the main barrier rib and the auxiliary barrier rib).
塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４００〜５５０℃で焼成することにより、背面板を作製することができる。 A back plate can be produced by firing the applied phosphor layer at 400 to 550 ° C., if necessary.
この背面板を用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護層を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。 After sealing with the front plate using this back plate, a discharge gas composed of helium, neon, xenon, etc. is sealed in the space formed between the front and back substrates, and a drive circuit is attached to the plasma display Can be produced. The front plate is a member in which a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective layer are formed in a predetermined pattern on a substrate. You may form a color filter layer in the part corresponding to the RGB each color phosphor layer formed on the back plate. Further, a black stripe may be formed in order to improve contrast.
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to this.
まず、評価方法について説明する。隔壁の形成不良については背面板で評価を実施、誤放電についてはプラズマディスプレイパネルで評価を実施した。
＜隔壁形成不良＞
作製した背面板を透過光にて目視確認し、隔壁パターンの断線、剥がれの有無を調べ、以下基準で判定した。
First, the evaluation method will be described. The partition wall formation failure was evaluated on the back plate, and the erroneous discharge was evaluated on the plasma display panel.
<Defective partition formation>
The produced back plate was visually confirmed with transmitted light, and the presence or absence of disconnection and peeling of the partition wall pattern was examined.
○：断線、剥がれなし（良品レベル）
×：断線または剥がれあり（不良品レベル）
＜誤放電＞
作製したＰＤＰのスキャン電極に１４０Ｖ、サステイン電極に２００Ｖ、アドレス電極に７０Ｖの電圧を印加してＲ、Ｇ、Ｂを単色で順に点灯させた。誤放電のために点灯させていないはずの色（Ｒ点灯時はＧとＢ、Ｇ点灯時はＢとＲ、Ｂ点灯時はＲとＧ）で点灯したセルの個数を数え、以下基準で判定した。
○: No disconnection or peeling (good product level)
×: Disconnection or peeling (defective product level)
<Error discharge>
A voltage of 140 V was applied to the scan electrode of the manufactured PDP, a voltage of 200 V was applied to the sustain electrode, and a voltage of 70 V was applied to the address electrode, and R, G, and B were sequentially turned on in a single color. Count the number of cells lit in the colors that should not have been lit due to erroneous discharge (G and B when R is lit, B and R when G is lit, and R and G when B is lit). did.
○：誤点灯セル数が１パネルあたり５個以下（良品レベル）
△：誤点灯セル数が１パネルあたり６〜１０個（やや劣るが良品レベル）
×：誤点灯セル数が１パネルあたり１１個以上（不良品レベル）
次に、形成方法を順に説明する。
（実施例１、比較例１、２）
ガラス基板として、５９０×９６４×１．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。この基板上に、書き込み電極として、平均粒径２．０μｍの銀粉末を７０重量部、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３＝６９／２４／４／３（質量％）からなる平均粒径２．２μｍのガラス粉末２重量部、アクリル酸、メチルメタクリレート、スチレンの共重合ポリマー８重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート７重量部、ベンゾフェノン３重量部、ブチルカルビトールアクリレート７重量部、ベンジルアルコール３重量部からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィー法により、ピッチ２４０μｍ、線幅１００μｍ、焼成後厚み３μｍのストライプ状電極を形成した。
○: Number of erroneously lit cells is 5 or less per panel (non-defective product level)
Δ: Number of erroneously lit cells is 6 to 10 per panel (slightly inferior but good product level)
×: 11 or more erroneously lit cells per panel (defective product level)
Next, a formation method is demonstrated in order.
(Example 1, Comparative Examples 1 and 2)
As a glass substrate, PD-200 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) of 590 × 964 × 1.8 mm and 42 inch size was used. On this substrate, as a writing electrode, 70 parts by weight of silver powder having an average particle diameter of 2.0 μm, Bi 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / B 2 O 3 = 69/24/4/3 (mass %) Glass powder having an average particle diameter of 2.2 μm, acrylic acid, methyl methacrylate, styrene copolymer 8 parts by weight,
この基板に、Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝７８／１４／３／３／２（質量％）からなる体積平均粒子径２μｍの低融点ガラス微粒子を６０重量部、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量部、エチルセルロース１５重量部、テルピネオール１５重量部からなる誘電体ペーストを塗布した後、５８０℃で焼成して、厚み１０μｍの誘電体層を形成した。 On this substrate, low-melting glass particles having a volume average particle diameter of 2 μm composed of Bi 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / ZnO / B 2 O 3 = 78/14/3/3/2 (mass%) are formed. A dielectric paste consisting of 60 parts by weight, 10 parts by weight of titanium oxide powder having an average particle size of 0.3 μm, 15 parts by weight of ethyl cellulose, and 15 parts by weight of terpineol, and then firing at 580 ° C. to form a dielectric having a thickness of 10 μm A layer was formed.
隔壁形成用の感光性ペーストは以下の成分を配合、分散して用いた。
ガラス粉末：Ｂｉ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３＝８２／６／３／６／３（質量％）からなる平均粒径２μｍのガラス粉末 ６７重量部
フィラー：平均粒径０．２μｍの酸化チタン ３重量部
ポリマー：”サイクロマー”Ｐ（ＡＣＡ２５０、ダイセル化学工業社製） １０重量部
有機溶剤（１）：ベンジルアルコール ４重量部
有機溶剤（２）：ブチルカルビトールアセテート ３重量部
モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８重量部
光重合開始剤：ベンゾフェノン ３重量部
酸化防止剤：１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］ １重量部
有機染料：ベージックブルー２６ ０．０１重量部
チキソトロピー付与剤：Ｎ，Ｎ’−１２−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミン：０．５重量部
界面活性剤：ポリオキシエチレンセチルエーテル：０．４９重量部。
The photosensitive paste for forming the partition wall was used by blending and dispersing the following components.
Glass powder: Bi 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / ZnO / B 2 O 3 = 82/6/3/6/3 (mass%) glass powder having an average particle diameter of 2 μm 67 parts by weight filler: Titanium oxide having an average particle size of 0.2
隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、塗布膜を形成し、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置に透光部を有する第一のフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ１（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１１に示したパターンを有したものを使用した。その上に、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有する第二のフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ２（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１に示したパターンを有したものを使用した。 The partition wall forming photosensitive paste was applied to a thickness of 250 μm with a die coater, and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 40 minutes to form a coating film, thereby forming a coating film. The position of the first photomask having a translucent portion is aligned with the position corresponding to the intersection of the main partition wall and the auxiliary partition wall with respect to the formed coating film, once exposed (exposure operation 1), and further, as shown in Table 1 The substrate or the photomask was moved in a direction parallel to the auxiliary partition wall by the movement distance S1 (μm), and alignment was performed again for exposure (exposure operation 2). A photomask having the pattern shown in FIG. 11 was used. On top of that, a photosensitive paste for barrier rib formation was applied to a thickness of 50 μm with a die coater, and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 30 minutes to form a coating film. The position of the second photomask having a desired lattice pattern is aligned with the formed coating film, and once exposed (exposure operation 1). The mask was moved in a direction parallel to the auxiliary partition wall, and again aligned and exposed (exposure operation 2). A photomask having the pattern shown in FIG. 1 was used.
また、第一のフォトマスクを用いた露光、第二のフォトマスクを用いた露光ともにフォトマスクとのギャップを１５０μｍとし、露光動作１と露光動作２で積算露光量の和が４００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を実施した。
Further, in both exposure using the first photomask and exposure using the second photomask, the gap with the photomask is set to 150 μm, and the sum of the integrated exposure amounts in
第一のフォトマスクの移動距離Ｓ１（μｍ）、第二のフォトマスクの主隔壁形成用透光部のピッチ（μｍ）、開口幅（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部とそれに隣り合う補助隔壁形成用透光部とのピッチＰｍ（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ２（μｍ）、隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１（μｍ）、移動距離Ｓ２（μｍ）を表１に示す。 The moving distance S1 (μm) of the first photomask, the pitch (μm) of the light transmitting portions for forming the main partition walls of the second photomask, the opening width (μm), the outermost portion in the longitudinal direction of the light transmitting portions for forming the main partition walls The pitch Pm (μm) between the auxiliary barrier rib forming light-transmitting portion positioned adjacent to and the auxiliary barrier rib forming light transmitting portion adjacent thereto, and the auxiliary barrier rib forming transparent light beam positioned at the outermost portion in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion Table 1 shows the opening width W2 (μm) of the part, the opening width W1 (μm) of the light transmitting part for auxiliary partition wall located in the center in the longitudinal direction of the light transmitting part for partition wall formation, and the moving distance S2 (μm).
上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁とそれに隣り合う補助隔壁とのピッチＰｋ（μｍ）、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）、主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）の測定結果を表１に示す。 The exposed substrate formed as described above was developed with a 0.5% by mass aqueous sodium carbonate solution to form a partition pattern. The substrate on which pattern formation was completed was baked at 560 ° C. for 15 minutes. The pitch Pk (μm) between the auxiliary partition located at the outermost part in the longitudinal direction of the main partition and the adjacent auxiliary partition, the width of the auxiliary partition located at the outermost part in the longitudinal direction of the main partition (μm), the center in the longitudinal direction of the main partition Table 1 shows the measurement results of the width (μm) of the auxiliary partition located in the section.
形成された隔壁間に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法により塗布、焼成（５００℃、３０分）して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。 Each color phosphor paste was applied between the formed barrier ribs by screen printing and baked (500 ° C., 30 minutes) to form phosphor layers on the side and bottom portions of the barrier ribs.
次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、ガラス基板として５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を用い、このガラス基板上にＩＴＯをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光、現像処理、エッチング処理によって厚み０．１μｍ、線幅２００μｍの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み５μｍのスキャン電極とサステイン電極を形成した。電極はそれぞれピッチ５００μｍ、線幅８０μｍのものを作製した。 Next, the front plate was produced by the following steps. First, a 590 × 964 × 2.8 mm 42-inch PD-200 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used as a glass substrate, ITO was formed on this glass substrate by sputtering, resist was applied, exposure, development A transparent electrode having a thickness of 0.1 μm and a line width of 200 μm was formed by the treatment and the etching treatment. Further, a scan electrode and a sustain electrode having a thickness of 5 μm were formed by photolithography using a photosensitive silver paste made of black silver powder. Electrodes having a pitch of 500 μm and a line width of 80 μm were prepared.
次に、酸化鉛を７５質量％含有する低融点ガラスの粉末を７０重量部、エチルセルロース２０重量部、テルピネオール１０重量部を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃、１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。 Next, a glass paste obtained by kneading 70 parts by weight of low melting point glass powder containing 75% by weight of lead oxide, 20 parts by weight of ethyl cellulose, and 10 parts by weight of terpineol was screen-printed to obtain a bus electrode for the display part. After coating with a thickness of 50 μm so as to be covered, baking was performed at 570 ° C. for 15 minutes to form a front dielectric.
誘電体を形成した基板上に、保護膜として、電子ビーム蒸着により厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。 A magnesium oxide layer having a thickness of 0.5 μm was formed as a protective film on the substrate on which the dielectric was formed by electron beam vapor deposition to produce a front plate.
作製した前面板と背面板とを封着ガラスを用いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入し、駆動回路を実装することによりプラズマディスプレイパネルを作製した。
The produced front plate and the back plate are sealed with sealing glass, Ne
評価結果を表１に示す。実施例１では生産性良く、表示品位も高いプラズマディスプレイパネルを得ることができたが、比較例１、２では生産性と表示品位とでいずれかが劣っている結果となった。
（実施例２）
実施例１、比較例１、２の場合と同様にして、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより２５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、その上に、隔壁形成用感光性ペーストをダイコーターにより５０μｍの厚みに塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、３０分の乾燥を行い、塗布膜を形成した。形成塗布膜に対し、所望の格子状パターンを有するフォトマスクの位置を合わせ、一度露光し（露光動作１）、さらに、表１に示す所望の移動距離Ｓ２（μｍ）で基板またはフォトマスクを補助隔壁と平行な方向に移動し、再度位置合わせをして露光を行った（露光動作２）。フォトマスクは図１に示したパターンを有したものを使用した。
The evaluation results are shown in Table 1. In Example 1, a plasma display panel with good productivity and high display quality could be obtained, but in Comparative Examples 1 and 2, either the productivity or the display quality was inferior.
(Example 2)
In the same manner as in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, the partition-forming photosensitive paste was applied to a thickness of 250 μm with a die coater, and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 40 minutes. Further, the barrier rib forming photosensitive paste was applied to a thickness of 50 μm with a die coater, and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 30 minutes to form a coating film. The position of a photomask having a desired grid pattern is aligned with the formed coating film, once exposed (exposure operation 1), and further, the substrate or photomask is assisted with a desired moving distance S2 (μm) shown in Table 1. The film was moved in a direction parallel to the partition walls, aligned again, and exposed (exposure operation 2). A photomask having the pattern shown in FIG. 1 was used.
また、フォトマスクを用いた露光ともにフォトマスクとのギャップを１５０μｍとし、露光動作1と露光動作２で積算露光量の和が４００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を実施した。
In addition, in the exposure using the photomask, the gap with the photomask was set to 150 μm, and the
フォトマスクの主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部とそれに隣り合う補助隔壁形成用透光部とのピッチＰｍ（μｍ）、主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ２（μｍ）、隔壁形成用透光部の長手方向中央部に位置する補助隔壁形成用透光部の開口幅Ｗ１（μｍ）、移動距離Ｓ２（μｍ）を表１に示す。 The pitch Pm (μm) between the auxiliary barrier rib forming light transmitting portion located on the outermost part in the longitudinal direction of the main barrier rib forming transparent portion of the photomask and the auxiliary barrier rib forming light transmission adjacent thereto, and the main barrier rib transmitting light The opening width W2 (μm) of the auxiliary partition wall forming translucent portion located at the outermost part in the longitudinal direction of the portion, and the opening width W1 of the auxiliary partition wall forming light transmitting portion positioned at the longitudinal center of the partition forming light transmitting portion ( μm) and moving distance S2 (μm) are shown in Table 1.
上記のようにして形成した露光済み基板を０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁とそれに隣り合う補助隔壁とのピッチＰｋ（μｍ）、主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）、主隔壁の長手方向中央部に位置する補助隔壁の幅（μｍ）の測定結果を表１に示す。 The exposed substrate formed as described above was developed with a 0.5% by mass aqueous sodium carbonate solution to form a partition pattern. The substrate on which pattern formation was completed was baked at 560 ° C. for 15 minutes. The pitch Pk (μm) between the auxiliary partition located at the outermost part in the longitudinal direction of the main partition and the adjacent auxiliary partition, the width of the auxiliary partition located at the outermost part in the longitudinal direction of the main partition (μm), the center in the longitudinal direction of the main partition Table 1 shows the measurement results of the width (μm) of the auxiliary partition located in the section.
蛍光体層形成、前面板の作製、パネルの作製は実施例１、比較例１、２の場合と同様にして実施した。評価結果を表１に示す。実施例２ではやや表示品位に劣るものの、製品として不良になることはなかった。 The phosphor layer formation, front plate production, and panel production were carried out in the same manner as in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2. The evaluation results are shown in Table 1. In Example 2, the display quality was slightly inferior, but the product was not defective.
１：補助隔壁形成用透光部
２：主隔壁形成用透光部の長手方向最外部に位置する補助隔壁形成用透光部
３：主隔壁形成用透光部
４：主隔壁と補助隔壁の交差部に相当する位置の透光部
５：主隔壁
６：補助隔壁
７：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁
８：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁に隣り合う補助隔壁
１４：ガラス基板
１５：サステイン電極
１６：スキャン電極
１７：誘電体層
１８：保護層
１９：前面板
２０：ガラス基板
２１：アドレス電極
２２：誘電体層
２３：主隔壁
２４：補助隔壁
２５：蛍光体層
２６：背面板
Ｐｋ：補助隔壁のピッチ
Ｌ１：補助隔壁の幅
Ｌ２：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅
Ｌ３：補助隔壁の幅
Ｌ４：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁に隣り合う補助隔壁の幅
Ｌ５：主隔壁の長手方向最外部に位置する補助隔壁の幅
Ｐｍ：フォトマスクの補助隔壁形成用透光部のピッチ
1: Auxiliary partition forming translucent part 2: Auxiliary partition forming translucent part located at the outermost part in the longitudinal direction of the main partition forming translucent part 3: A main partition forming translucent part 4: between the main partition and the auxiliary partition
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009177401A JP5293485B2 (en) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | Method for manufacturing plasma display member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009177401A JP5293485B2 (en) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | Method for manufacturing plasma display member |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011034704A JP2011034704A (en) | 2011-02-17 |
| JP5293485B2 true JP5293485B2 (en) | 2013-09-18 |
Family
ID=43763604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009177401A Expired - Fee Related JP5293485B2 (en) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | Method for manufacturing plasma display member |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5293485B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6712527B2 (en) * | 2016-09-30 | 2020-06-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Proximity exposure method |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0845823A (en) * | 1994-08-03 | 1996-02-16 | Sony Corp | Exposure device and its method |
| JP4613503B2 (en) * | 2004-03-25 | 2011-01-19 | パナソニック株式会社 | Display member manufacturing method, display member manufactured by the method, and display |
| JP2007265853A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toray Ind Inc | Manufacturing method of display panel member |
| JP2009146682A (en) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Panasonic Corp | Manufacturing method for plasma display panel |
| JP2010122619A (en) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern drawing device, pattern drawing method and mask for pattern drawing |
-
2009
- 2009-07-30 JP JP2009177401A patent/JP5293485B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011034704A (en) | 2011-02-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120625 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130426 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |