JP2001168342A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
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Abstract
し、キャリアの移動度を向上させる際に、Si層中に導
入される転位を最小化する。 【解決手段】 Si基板上に臨界膜厚以下の厚さの圧縮
歪みSiGe層を形成し、これに隣接して薄いSi層を
無歪み状態で形成し、得られた積層構造を絶縁膜を介し
て別のSi基板に貼付け、前記圧縮歪みSiGe層を担
持するSi基板を除去することにより前記SiGe層の
圧縮歪みを緩和すると共に、前記歪み緩和したSiGe
層を使って隣接する前記薄いSi層中に引っ張り歪みを
誘起する。
Description
係り、特に歪みSi活性層を有する高速半導体装置およ
びその製造方法に関する。
称性に起因して、第1ブリュアン領域中に、伝導帯下端
近傍に対応して図1に示す六つの結晶学的に等価(逆格
子空間において)な、しかし結晶運動量の異なる状態が
存在し、伝導帯上において電子はこれらの状態のいずれ
をもとることができる。その結果、従来のSiを活性領
域として使った半導体装置では、電子がこれらの結晶学
的に等価な状態の間で散乱することに起因して、動作速
度に限界が生じていた。
張り歪みを与えることにより図1に矢印で示すように結
晶の対称性を低下させ、電子が散乱できる状態の数を制
限することにより電子の移動度が増大し、Siを活性層
として使う半導体装置の動作速度を向上できることが認
識されていた。例えば特開平9−82944号公報、あ
るいは特開平5- 82558号公報を参照。さらに、歪
みSiGe層を活性層としたp型MOSFET(S.Verd
onckt-Vandebroek et al., IEEE Trans. Electron Devi
ces, vol.12, no.8, 1991, pp.447-449 )、あるいはC
MOS回路装置(A. Sadek, et al., IEEE Trans. Elec
tron Devices, vol.43, no.8, 1996, pp.1224-1232)も
提案されている。
置の動作速度を向上させるために、SOI(silicon-on
-insulator)構造の採用が有効であることが認識されて
いる。SOI構造を採用することにより、配線の寄生容
量に起因する信号遅延の問題が軽減される。そこで、か
かるSOI構造においてSi層を歪ませたSSOI(st
rained-Si-on-insulator) 構造により、より高速な半導
体装置を提供することが提案されている(Powell, A.R.,
Appl. Phys. Lett. vol.64, no.14, pp.1856-1858, 19
94) 。
の構造を示す。図2を参照するに、単結晶Si基板11
上にはSIMOX法によりSiO2 層12が形成され、
さらに前記SiO2 層12上には単結晶Si層13が前
記Si基板11に対してエピタキシャルな関係を保って
形成される。さらに前記単結晶Si層13上にはSiG
e層14がエピタキシャルに形成され、前記SiGe層
14上に、前記半導体装置の活性層を構成するSi層1
5がエピタキシャルに形成される。
の歪みを与えるために前記SiGe層14を前記活性層
15よりも厚く形成し、また前記SiGe層14の下の
Si単結晶層13の厚さを前記SiGe層14の厚さよ
りも薄く形成する。その結果、前記Si単結晶層13中
には転位およびこれに沿ったすべりが発生し前記SiG
e層14は実質的に無歪み状態となる。そこで、前記S
iGe層14上に薄いSi層15を形成すると、Siと
SiGeとの間の格子定数差に起因する歪みが、かかる
Si層15に付与される。
i単結晶基板中にSIMOX法により前記SiO2 層1
2およびSi層13よりなるSOI構造を形成し、かか
るSi層13の上に、前記SiGe層14およびSi層
15をエピタキシャルに成長させることにより得ること
ができる。あるいは、前記SOI構造を形成した後で、
前記Si層13上に薄いSi層をエピタキシャルに形成
した後で前記SiGe層14の成長を行なってもよい。
e層14を既存のSi層13の表面に再成長させる必要
があるため、前記Si層13とSiGe層14との間
に、あるいは前記Si層13の内部に結晶成長界面が形
成されるのを回避することができない。かかる結晶成長
界面は欠陥を含むことが多く、その結果かかる欠陥が前
記SiGe層14を介して転位の形で前記歪みSi活性
層15に伝達される実質的な危険が存在する。
SSOI構造では、前記SiGe層14を実質的に無歪
み状態とするために、前記SiGe層14の下方のSi
層13を臨界膜厚以上の厚さとし、前記Si層13中に
転位を誘起し、かかる転位に沿ってSi層13中にすべ
り、すなわち塑性変形を誘起している。この塑性変形が
起こるのは、前記Si層13と下地SiO2 層12との
界面がすべりを起こすためである。この結果、前記従来
技術では、かかるSi層13中に誘起された転位が観察
されている。かかるSi層13中のすべりに伴って前記
SiGe層14の歪みは緩和され、SiGe層14は実
質的に無歪み状態となる。その結果、前記SiGe層1
4上の薄いSi活性層15には、前記SiGe層14か
ら強い引っ張り応力が印加される。
は、前記転位を前記Si層13中に完全に閉じ込めるの
は困難で、その結果、図2の従来のSSOI構造を活性
領域に有する半導体装置では、前記Si層13中の転位
が前記SiGe層14を貫通して前記歪みSi活性層1
5に到達する危険があり、前記歪みSi活性層15中に
おけるキャリアの散乱は避けられないと考えられる。
新規で有用な半導体装置およびその製造方法を提供する
ことを概括的課題とする。本発明のより具体的な課題
は、SSOI構造を活性領域中に有する半導体装置にお
いて、歪みSi層中の欠陥を実質的に除去することによ
りキャリア散乱を最小化し、所望の高速動作を実現する
ことにある。
請求項1に記載したように、Si基板と、前記Si基板
上に形成された酸化膜と、前記酸化膜上に形成された活
性層とよりなる半導体装置において、前記活性層は、前
記酸化膜上に形成された第1の歪みSi層と、前記第1
の歪みSi層上にエピタキシャルに形成され、臨界膜厚
よりも小さい厚さを有するSiGe混晶層と、前記Si
Ge混晶層上にエピタキシャルに形成された第2の歪み
Si層とよりなり、前記第1および第2の歪みSi層の
厚さの合計が前記SiGe混晶層の厚さよりも小さく、
前記第1および第2の歪みSi層の各々は、実質的に欠
陥を含まないことを特徴とする半導体装置により、解決
する。
載したように、さらに前記活性層上に形成されたゲート
酸化膜と、前記ゲート酸化膜上に形成されたゲート電極
と前記活性層中、前記ゲート電極の両側にそれぞれ形成
された第1および第2の拡散領域とを含むことを特徴と
する半導体装置により、解決する。
載したように、前記第1および第2の拡散領域はp型で
あり、前記SiGe混晶層が前記ゲート電極直下におい
てp型チャネルを形成することを特徴とする請求項2記
載の半導体装置により、解決する。また本発明は上記の
課題を、請求項4に記載したように、前記第1および第
2の拡散領域はn型であり、前記第1の歪みSi層が前
記ゲート電極直下においてn型チャネルを形成すること
を特徴とする請求項2記載の半導体装置により、解決す
る。
載したように、SiGe混晶に隣接して歪みSi層を有
する半導体装置の製造方法において、第1のSi基板上
に、第1のSi層と臨界膜厚以下の厚さのSiGe混晶
層と前記SiGe混晶層よりも薄い第2のSi層とを、
順次エピタキシャルに堆積する工程と、前記第2のSi
層上に第1の絶縁膜を形成し、第1の積層構造体を形成
する工程と、第2のSi基板上に第2の絶縁膜を形成
し、第2の積層構造体を形成する工程と、前記第1の積
層構造体と前記第2の積層構造体とを、前記第1の絶縁
膜と前記第2の絶縁膜が密接するように貼りあわせ、第
3の積層構造体を形成する工程と、前記第3の積層構造
体において、前記第1のSi基板および前記第1のSi
層の一部を除去し、前記第1のSi層により歪みSi層
を含む活性層を形成する工程とを含むことを特徴とする
半導体装置の製造方法により、解決する。
載したように、前記第1のSi層の一部を除去する工程
は、前記第1のSi層を前記SiGe混晶層上に、前記
第1のSi層の厚さと前記第2のSi層の厚さとの総和
が前記SiGe混晶層の厚さよりも小さくなるように実
行されることを特徴とする請求項5記載の半導体装置の
製造方法により、解決する。
載したように、さらに、前記活性層を形成する工程は、
前記第1のSi層の一部を除去する工程の後で実行され
る熱処理工程を含むことを特徴とする請求項5または6
記載の半導体装置の製造方法により、解決する。また本
発明は上記の課題を、請求項8に記載したように、前記
除去工程は、電解エッチングにより実行されることを特
徴とする請求項5〜7のうち、いずれか一項記載の半導
体装置の製造方法により、解決する。
載したように、前記除去工程は、選択エッチングにより
実行されることを特徴とする請求項5〜7のうち、いず
れか一項記載の半導体装置の製造方法により、解決す
る。また本発明は上記の課題を、請求項10に記載した
ように、前記第1のSi層を形成する工程は、前記第1
のSi層のうち、前記除去工程で残される部分に導電性
を付与する工程を含むことを特徴とする請求項8または
9記載の半導体装置の製造方法により、解決する。 [作用]図3(A)〜(C)は、本発明の原理を示す。
基板21上にSi層22をエピタキシャルに成長させ、
さらにその上にSiGe混晶層23を臨界膜厚以下の厚
さにエピタキシャル成長させる。前記Si層22とSi
Ge混晶層23との間の格子定数差により、前記SiG
e混晶層23には圧縮歪みが蓄積する。ただし、前記S
iGe混晶層23は臨界膜厚以下の厚さに形成されてい
るため、転位は発生しない。さらに、前記SiGe層2
3上には薄いSi層24がエピタキシャルに形成され、
さらに前記Si層24上には絶縁膜25が形成される。
に相前後して、図3(B)の工程において別のSi基板
26上に絶縁膜27が形成され、図3(C)の工程にお
いて図3(B)の構造上に前記図3(A)の構造を上下
反転させた状態で、前記絶縁膜25が前記Si基板26
上の絶縁膜27に密接するように貼り合わせる。さらに
図3(C)の工程において、前記SiGe層23上に位
置するSi基板21およびSi層22が、図3(A)中
のラインA−A’に対応する位置まで除去され、その結
果、前記SiGe層23上に、薄いSi層23Aが形成
される。その際、本発明では前記SiGe層23の下の
Si層24と前記SiGe層23上のSi層22Aの厚
さの合計が、前記SiGe層23の厚さよりも薄くなる
ように設定され、その結果、図3(C)の状態では、熱
処理により前記絶縁膜25を特に前記SiGe層23と
の界面近傍において塑性変形させることにより、図3
(A)の状態において前記SiGe層23中に蓄積され
ていた歪みが前記Si層22Aおよび24に移される。
換言すると、図3(C)の状態では、前記SiGe層2
3において実質的に歪みが緩和され、前記Si層22A
および24には引っ張り歪みが蓄積する。
引っ張り歪みを蓄積したSi層22Aあるいは24では
移動度が増大し、このためかかる歪みSi層22Aある
いは24を電子走行層として使うことにより、高速で動
作する半導体装置を実現することが可能になる。その
際、図2の従来の構造と異なり、図3(C)のSSOI
構造では前記SiGe層23の下のSi層24は臨界膜
厚以下の厚さを有し、実質的に転位を含まない。
するバンド構造図を示す。図4中、Ecは伝導帯を、ま
たEvは価電子帯を示す。図4を参照するに、このよう
な構造を正電圧によりバイアスすると、反転状態におい
て前記歪みSi層24中に、前記SiGe層23との界
面に沿って電子のチャネルが反転層として形成される。
その際、前記Si層24は引っ張り歪みを蓄積している
ため、電子はかかる反転層中を、散乱の少ない、大きな
移動度で輸送される。すなわち、前記歪みSi層24を
電子走行層として使ったnチャネル型MOS半導体装置
は、従来の通常のSi半導体装置を上回る高速動作が可
能である。その際前記歪みSi層24は厚い絶縁膜2
5,27に隣接しているため、寄生容量に起因する信号
遅延も最小化される。
イアスすると、前記SiGe層23中に、前記歪みSi
層22Aとの界面に沿って、ホールのチャネルが反転層
として形成される。すなわち、かかるSSOI構造は、
pチャネル型MOS半導体装置としても使うことができ
る。ただし図4は概念図であり、上記の正電圧あるいは
負電圧バイアスに伴うバンドの変形は示していない。
(E)は、本発明の第1実施例によるSSOI構造の形
成方法を示す。図5(A)を参照するに、比抵抗が約
0.01cm/Sの低抵抗Si基板31上に通常のMB
E法により、比抵抗が約0.01cm/SのSi層32
Aを約200nmの厚さに形成し、さらにその上に比抵
抗が約10cm/S以上の高抵抗非ドープSi層32B
を、同じくMBE法により約5nmの厚さに形成する。
非ドープSi層32B上に、組成が例えばSi0.5 Ge
0.5 で表されるSiGe混晶層33をMBE法により、
約25nmの厚さに形成し、さらにその上に非ドープS
i層34を約5nm、MBE法により堆積した後、前記
Si層34上にSiO2 膜35を通常の熱CVD法によ
り、約100nmの厚さに形成する。
33はSiよりも実質的に大きい格子定数を有するた
め、前記Si基板31およびSiエピタキシャル層32
A,32Bを含む厚いSi単結晶層から歪みを受け、実
質的な圧縮歪みを蓄積する。一方、前記Si単結晶層は
厚いため、歪みを蓄積することはほとんどない。一方、
前記SiGe混晶層33の厚さは、前記SiGe組成の
SiGe混晶層の、Si単結晶に対する臨界膜厚以下の
厚さに設定されているため、前記SiGe混晶層33中
に転位が発生することはない。前記SiGe混晶層33
において、Geの組成を0.5を超えて大きくすること
も可能であるが、その場合には、前記SiGe混晶層3
3中に蓄積される圧縮歪みは大きくなるものの、前記臨
界膜厚も減少するため、転位の発生を回避するために層
33の膜厚を小さく設定することが必要である。前記S
iGe混晶層の実用的な組成範囲は、Ge組成が0.1
〜0.6(10〜60%)程度と考えられる。
は別に、図5(C)の工程において、比抵抗が約10c
m/Sのp型Si基板41上に別のSiO2 膜42が、
熱酸化法により約300nmの厚さに形成され、次に図
6(D)の工程で、図5(B)の構造が前記図5(C)
の構造上に、上下反転した状態で、すなわち前記SiO
2 膜35が前記SiO2 膜42に密接するように、約1
3.3Pa(0.1Torr)程度の真空中で貼り合わ
せられ、約300°Cの温度で熱処理することにより、
前記SiO2 膜35およびSiO2 膜42が強固に接合
される。
6(D)の構造に対してHF水溶液中において電解エッ
チングを施し、前記高抵抗Si層32Bを残し、前記低
抵抗Si基板31および低抵抗Si層32Aを選択的に
除去する。かかる電解エッチングでは、比抵抗が約0.
1cm/S以下の低抵抗Si層が、選択的にエッチング
除去される。その結果、先に図3(C)で説明した構造
に対応する、歪みSi層32Bが鏡面で画成されたSS
OI構造が得られる。
板31および低抵抗Si層32Aを除去する際に、先に
説明した電解エッチング工程の代わりにHFとHNO3
とCH3 COOHの混合液をエッチャントとしたウェッ
トエッチング法を使うこともできる。この場合にも、前
記低抵抗Si基板31あるいは低抵抗Si層32Aの比
抵抗が0.1cm/S以下である場合に、高抵抗Si層
32Bに対して1000倍を超える選択比が実現できる
(Sumitomo, Y. et al., Electrochem. Soc.,Extended
Abstracts, vol.72, no.1, pp.74-76, 1972) 。
°Cで1時間程度の熱処理を行なうことにより、前記絶
縁膜35とSi層34との界面にすべりが発生し、その
結果前記SiGe混晶層33の歪み状態が実質的に緩和
すると同時に、歪みが前記Si層34および32Bに移
され、Si層34および32Bが、当初の無歪み状態か
ら、引っ張り歪みを蓄積した状態に遷移する。その際、
前記SiGe混晶層33の厚さが、前記Si層34およ
び32Bを合計した厚さよりも大きいため、前記SiG
e混晶層33は、前記実質的に歪みが緩和した状態を維
持する。
5および42の代わりに、SiN膜を使うことも可能で
ある。さらに、それ以外にも、前記Si層34との間の
界面において熱処理により塑性変形が生じるものであれ
ば、他のアモルファス絶縁体膜を使うことも可能であ
る。 [第2実施例]図7(A),(B)は、本発明の第2実
施例によるSSOI構造を示す。ただし図7(A)は先
に図5(B)の構造に対応し、図7(B)は図6(E)
の構造に対応する。図7(A),(B)中、先に説明し
た部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
ては先の実施例の図5(B)に対応する工程において、
前記Si層34上に、前記歪みSiGe混晶層33と実
質的に同じ組成を有する別の歪みSiGe混晶層33A
を、約20nmの厚さに堆積し、前記CVD−SiO2
膜35を前記SiGe混晶層33A上に形成している。
造では、前記歪みSi層34が前記SiGe混晶33A
と33との間に形成されるが、かかる構造では半導体装
置の活性層として使われる歪みSi層34がSiO2 膜
35に対して離間して形成されるため、前記歪みSi層
34中を走行する電子が前記SiO2 膜35界面の凹凸
により散乱される問題が軽減される。このため、前記歪
みSi層34を活性層に使うことにより、電子の移動度
をさらに向上させることが可能になる。 [第3実施例]図8(A)〜図12(I)は、本発明の
第8実施例によるCMOSインバータ50の製造方法を
示す。
応する工程によりSi基板51上にSiO2 膜52が形
成され、さらに図8(B)の工程において、図5(B)
の工程に対応してp型Si基板61上にp型Si層62
Aと、非ドープSi層62Bと、非ドープSiGe層6
3と、非ドープSi層64とを順次エピタキシャルに積
層し、さらに前記非ドープSi層64上にCVD−Si
O2 膜65を堆積した構造が形成される。
(D)の工程に対応して前記図8(B)の構造が上下反
転した状態で図8(A)の構造上に接合され、図9
(D)の工程において、図9(C)のp型Si基板61
およびp型Si層62Aが選択的電解エッチングにより
除去される。さらに図9(D)の工程においては熱処理
を行なうことにより、前記SiO2 膜52および65中
に塑性変形を誘起し、前記SiGe層63中の圧縮歪み
を緩和させると同時に、隣接するSi層62Bおよび6
4中に引っ張り歪みを誘起する。
Si層62B上に熱酸化膜66を形成し、さらに前記熱
酸化膜66上にポリシリコンあるいはW等よりなる導電
層67を一様に形成する。さらに図10(F)の工程に
おいて前記導電層67をパターニングしてゲート電極6
7Aおよび67Bを形成し、前記ゲート電極67Bを含
む領域をレジストパターン68Aで保護しながら、前記
ゲート電極67Aを含む領域中に、As+あるいはP+
等のn型不純物をイオン注入により導入する。
ゲート電極67Aを含む領域をレジストパターン68B
により保護しながら前記ゲート電極67Bを含む領域中
にB + あるいはBF2 + 等のp型不純物をイオン注入
し、図11(H)の工程において先に図10(F)およ
び図11(G)の工程で導入された不純物を活性化させ
る。その結果、前記エピタキシャル層64,63,62
Bよりなる活性層69中、前記ゲート電極67Aの両側
に、n+ 型の拡散領域69Aおよび69Bが、また前記
ゲート電極67Bの両側にp+ 型の拡散領域69Cおよ
び69Dが形成される。
1(H)の構造をSiNよりなるパッシベーション膜7
0により覆い、さらに前記パッシベーション膜70中に
前記拡散領域69A,69B,69Cおよび69Dをそ
れぞれ露出するコンタクトホール70A,70B,70
Cおよび70Dを形成する。さらに、前記コンタクトホ
ール70Aを介して前記拡散領域69Aにコンタクトす
るように電極71Aを形成し、前記コンタクトホール7
0Bを介して前記拡散領域69Bにコンタクトするよう
に、また前記コンタクトホール70Cを介して前記拡散
領域69Cにコンタクトするように電極71Bを形成
し、さらに前記コンタクトホール70Dを介して前記拡
散領域69Dにコンタクトするように電極71Cを形成
することにより、所望のCMOSインバータ50が得ら
れる。
OS構造では、電子のチャネル64CHが前記ゲート電
極67A直下の歪みSi層64中に、またホールのチャ
ネル63CHが、前記ゲート電極67B直下のSiGe
混晶層63中に形成される。図12(I)のCMOSイ
ンバータはSOI構造を有し、しかも電子のチャネル6
4CHが、電子移動度の大きい歪みSi層64中に形成
されるため、高速で動作する。さらに前記歪みSi層6
4は欠陥を含むことがなく、キャリア電子の散乱も最小
化される。
明したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるも
のではなく、特許請求の範囲に記載した要旨内において
様々な変形・変更が可能である。
れば、欠陥の少ない良質の歪みSi層を容易に、かつ確
実に形成することが可能で、その結果電子移動度の非常
に大きい活性層を有する高速半導体装置を実現すること
が可能になる。
明する図である。
図である。
る。
SSOI構造の製造方法を示す図(その1)である。
SSOI構造の製造方法を示す図(その2)である。
SSOI構造を示す図である。
CMOSインバータの製造方法を示す図(その1)であ
る。
CMOSインバータの製造方法を示す図(その2)であ
る。
るCMOSインバータの製造方法を示す図(その3)で
ある。
るCMOSインバータの製造方法を示す図(その4)で
ある。
Sインバータの製造方法を示す図(その5)である。
4,62A,62B,64 Si層 14,23,33,63 SiGe混晶層 66 熱酸化膜 67 導体層 67A,67B ゲート電極 68A,68B レジストパターン 69A,69B n+ 型拡散領域 69C,69D p+ 型拡散領域 70 パッシベーション膜 70A,70B,70C,70D コンタクトホール 71A,71B,71C 電極パターン
Claims (10)
- 【請求項1】 Si基板と、 前記Si基板上に形成された酸化膜と、 前記酸化膜上に形成された活性層とよりなる半導体装置
において、 前記活性層は、 前記酸化膜上に形成された第1の歪みSi層と、 前記第1の歪みSi層上にエピタキシャルに形成され、
臨界膜厚よりも小さい厚さを有するSiGe混晶層と、 前記SiGe混晶層上にエピタキシャルに形成された第
2の歪みSi層とよりなり、 前記第1および第2の歪みSi層の厚さの合計が前記S
iGe混晶層の厚さよりも小さく、 前記第1および第2の歪みSi層の各々は、実質的に欠
陥を含まないことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 さらに前記活性層上に形成されたゲート
酸化膜と、 前記ゲート酸化膜上に形成されたゲート電極と前記活性
層中、前記ゲート電極の両側にそれぞれ形成された第1
および第2の拡散領域とを含むことを特徴とする半導体
装置。 - 【請求項3】 前記第1および第2の拡散領域はp型で
あり、前記SiGe混晶層が前記ゲート電極直下におい
てp型チャネルを形成することを特徴とする請求項2記
載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記第1および第2の拡散領域はn型で
あり、前記第1の歪みSi層が前記ゲート電極直下にお
いてn型チャネルを形成することを特徴とする請求項2
記載の半導体装置。 - 【請求項5】 SiGe混晶に隣接して歪みSi層を有
する半導体装置の製造方法において、 第1のSi基板上に、第1のSi層と臨界膜厚以下の厚
さのSiGe混晶層と前記SiGe混晶層よりも薄い第
2のSi層とを、順次エピタキシャルに堆積する工程
と、 前記第2のSi層上に第1の絶縁膜を形成し、第1の積
層構造体を形成する工程と、 第2のSi基板上に第2の絶縁膜を形成し、第2の積層
構造体を形成する工程と、 前記第1の積層構造体と前記第2の積層構造体とを、前
記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜が密接するように貼
りあわせ、第3の積層構造体を形成する工程と、 前記第3の積層構造体において、前記第1のSi基板お
よび前記第1のSi層の一部を除去し、前記第1のSi
層により歪みSi層を含む活性層を形成する工程とを含
むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 前記第1のSi層の一部を除去する工程
は、前記第1のSi層を前記SiGe混晶層上に、前記
第1のSi層の厚さと前記第2のSi層の厚さとの総和
が前記SiGe混晶層の厚さよりも小さくなるように実
行されることを特徴とする請求項5記載の半導体装置の
製造方法。 - 【請求項7】 さらに、前記活性層を形成する工程は、
前記第1のSi層の一部を除去する工程の後で実行され
る熱処理工程を含むことを特徴とする請求項5または6
記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項8】 前記除去工程は、電解エッチングにより
実行されることを特徴とする請求項5〜7のうち、いず
れか一項記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項9】 前記除去工程は、選択エッチングにより
実行されることを特徴とする請求項5〜7のうち、いず
れか一項記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項10】 前記第1のSi層を形成する工程は、
前記第1のSi層のうち、前記除去工程で残される部分
に導電性を付与する工程を含むことを特徴とする請求項
8または9記載の半導体装置の製造方法。
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