JP2001163906A - 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 - Google Patents
低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜Info
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- JP2001163906A JP2001163906A JP34737499A JP34737499A JP2001163906A JP 2001163906 A JP2001163906 A JP 2001163906A JP 34737499 A JP34737499 A JP 34737499A JP 34737499 A JP34737499 A JP 34737499A JP 2001163906 A JP2001163906 A JP 2001163906A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】低い屈折率を有しかつ物理的的強度にも優れ、
安価で、生産性に優れた組成物を提供することを目的と
する。 【解決手段】シリカゾル粒子とジペンタエリストリール
ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などに代表される多官
能アクリル化合物を主成分とする組成物において、組成
物中に特定粒径のシリカゾル粒子（５０〜１００ｎｍ）
を２０％以上含有させることで、組成物被膜にナノポー
ラス構造を呈させ、該ナノポーラス化により見掛けの屈
折率を低下させることができる組成物を提供する。
安価で、生産性に優れた組成物を提供することを目的と
する。 【解決手段】シリカゾル粒子とジペンタエリストリール
ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などに代表される多官
能アクリル化合物を主成分とする組成物において、組成
物中に特定粒径のシリカゾル粒子（５０〜１００ｎｍ）
を２０％以上含有させることで、組成物被膜にナノポー
ラス構造を呈させ、該ナノポーラス化により見掛けの屈
折率を低下させることができる組成物を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は低屈折率組成物に関する
もので、ガラスやプラスチックなどの透明基材などに塗
工して、反射防止膜、選択透過，あるいは吸収膜などの
光学多層膜およびそれを形成可能な低屈折率組成物に関
する。
もので、ガラスやプラスチックなどの透明基材などに塗
工して、反射防止膜、選択透過，あるいは吸収膜などの
光学多層膜およびそれを形成可能な低屈折率組成物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラスやプラスチックなどの基材
に、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機酸化物を蒸着法
あるいはスパッタ法などのドライコーティングによって
薄膜を形成して反射防止膜などの光干渉による光学多層
膜を形成する方法が知られている。しかし、このような
ドライコーティングプロセスでは装置が高価で、成膜速
度が遅く、生産性が高くないなどの課題を有している。
に、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機酸化物を蒸着法
あるいはスパッタ法などのドライコーティングによって
薄膜を形成して反射防止膜などの光干渉による光学多層
膜を形成する方法が知られている。しかし、このような
ドライコーティングプロセスでは装置が高価で、成膜速
度が遅く、生産性が高くないなどの課題を有している。
【０００３】これに対して金属アルコキシドなどを出発
組成とし、基材に塗工して光学多層膜を形成する方法が
知られており、高屈折率材料としてはＴｉやＺｒなどの
アルコキシドを用いる方法が、低屈折率材料としてはＳ
ｉ系アルコキシドあるいはＳｉアルコキシドの一部をエ
ポキシ基やアルキル基など他の有機置換基に置き換えた
有機ケイ素化合物いわゆるシランカップリング剤などを
用いる方法が提案されている。
組成とし、基材に塗工して光学多層膜を形成する方法が
知られており、高屈折率材料としてはＴｉやＺｒなどの
アルコキシドを用いる方法が、低屈折率材料としてはＳ
ｉ系アルコキシドあるいはＳｉアルコキシドの一部をエ
ポキシ基やアルキル基など他の有機置換基に置き換えた
有機ケイ素化合物いわゆるシランカップリング剤などを
用いる方法が提案されている。
【０００４】しかしこれらの塗膜では、乾燥重合に高
温、長時間を必要とするため生産性に問題がある。また
ある程度の低い屈折率を得ることはできるが、硬度や耐
擦傷性、基材との密着性などの物理的強度が不十分であ
り、光学多層膜は最外層に使用されるため、強度が不十
分では実用に耐えることができないといった欠点を有し
ている。
温、長時間を必要とするため生産性に問題がある。また
ある程度の低い屈折率を得ることはできるが、硬度や耐
擦傷性、基材との密着性などの物理的強度が不十分であ
り、光学多層膜は最外層に使用されるため、強度が不十
分では実用に耐えることができないといった欠点を有し
ている。
【０００５】これらを改善するために、ケイ素アルコキ
シドを出発物質としたシリカゾルと反応性有機ケイ素化
合物（シランカップリング剤や末端に反応基を有するジ
メチルシリコーンなど）との複合材料などが提案されて
いる（特開平９−２２０７９１など）。
シドを出発物質としたシリカゾルと反応性有機ケイ素化
合物（シランカップリング剤や末端に反応基を有するジ
メチルシリコーンなど）との複合材料などが提案されて
いる（特開平９−２２０７９１など）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のＳｉＯ2 系複合膜組成物も十分な物性を得ようとする
と加熱に長時間を要するもので、アクリロイル基などの
重合性不飽和基を含有する有機ケイ素化合物も記載され
ているが、いずれもアクリロイル基が１個乃至は２個の
単官能あるいは２官能性の化合物であり光（ＥＢ）重合
しても高い架橋密度が得られない、硬度や耐擦傷性など
の物理的強度を向上させようとすると上記複合膜成分中
にシリカ成分以外の成分、例えはアクリル系化合物を複
合し該アクリル成分比率を高くする必要がある。そうな
ると光学特性を決定するＳｉ系などのアルコキシドを出
発組成とするシリカ成分の体積比が抑制され低屈折率化
をはかることができないという欠点を有し、低屈折率化
と硬度や耐擦傷性、密着性などの物理的強度特性が両立
できる組成物は見出されていない。
のＳｉＯ2 系複合膜組成物も十分な物性を得ようとする
と加熱に長時間を要するもので、アクリロイル基などの
重合性不飽和基を含有する有機ケイ素化合物も記載され
ているが、いずれもアクリロイル基が１個乃至は２個の
単官能あるいは２官能性の化合物であり光（ＥＢ）重合
しても高い架橋密度が得られない、硬度や耐擦傷性など
の物理的強度を向上させようとすると上記複合膜成分中
にシリカ成分以外の成分、例えはアクリル系化合物を複
合し該アクリル成分比率を高くする必要がある。そうな
ると光学特性を決定するＳｉ系などのアルコキシドを出
発組成とするシリカ成分の体積比が抑制され低屈折率化
をはかることができないという欠点を有し、低屈折率化
と硬度や耐擦傷性、密着性などの物理的強度特性が両立
できる組成物は見出されていない。
【０００７】そこで、本発明は、低い屈折率を有しかつ
物理的的強度にも優れ、安価で、生産性に優れた組成物
を提供することを目的とする。
物理的的強度にも優れ、安価で、生産性に優れた組成物
を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の課題を達成すべく
検討した結果、シリカゾル粒子とジペンタエリストリー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などに代表される多
官能アクリル化合物を主成分とする組成物において、組
成物中に特定粒径のシリカゾル粒子（５０〜１００ｎ
ｍ）を２０％以上含有させることで、組成物被膜にナノ
ポーラス構造を呈させ、該ナノポーラス化により見掛け
の屈折率を低下させることができることを見出した。
検討した結果、シリカゾル粒子とジペンタエリストリー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などに代表される多
官能アクリル化合物を主成分とする組成物において、組
成物中に特定粒径のシリカゾル粒子（５０〜１００ｎ
ｍ）を２０％以上含有させることで、組成物被膜にナノ
ポーラス構造を呈させ、該ナノポーラス化により見掛け
の屈折率を低下させることができることを見出した。
【０００９】さらに、（３−アクリロキシプロピル）ト
リメトキシシランなどに代表される一般式（Ａ）Ｒ’x
Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキル基、Ｒ’：末端にビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可
能な不飽和結合を有する官能基、ｘは０＜ｘ＜４の置換
数、）で表せる有機ケイ素化合物を加えることで、ナノ
ポーラス構造でもある程度の強度が発現できることをを
見出した。
リメトキシシランなどに代表される一般式（Ａ）Ｒ’x
Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキル基、Ｒ’：末端にビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可
能な不飽和結合を有する官能基、ｘは０＜ｘ＜４の置換
数、）で表せる有機ケイ素化合物を加えることで、ナノ
ポーラス構造でもある程度の強度が発現できることをを
見出した。
【００１０】本発明のハイブリッド系組成物は、粒子と
シランカップリング剤とアクリル系バインダーを用いて
おり、ハードコート組成物としては公知の技術の組合せ
ではあるが、粒径の制御でナノポーラス構造にして、な
おかつ特定組成の材料を用いて有機無機ハイブリッド膜
を形成したり、シリカ粒子を特定材料、および特定比率
にて表面修飾することで、低屈折率組成物の光学薄膜と
して、最適な材料設計条件を見出すに至り、強度と低屈
折率化の両立可能な本発明の低屈折率組成物を提供する
ものである。
シランカップリング剤とアクリル系バインダーを用いて
おり、ハードコート組成物としては公知の技術の組合せ
ではあるが、粒径の制御でナノポーラス構造にして、な
おかつ特定組成の材料を用いて有機無機ハイブリッド膜
を形成したり、シリカ粒子を特定材料、および特定比率
にて表面修飾することで、低屈折率組成物の光学薄膜と
して、最適な材料設計条件を見出すに至り、強度と低屈
折率化の両立可能な本発明の低屈折率組成物を提供する
ものである。
【００１１】更に本発明を請求項に即して説明すると、
請求項１の発明は、平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカ
ゾル粒子と分子中にビニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも３
個以上を有するアクリル系化合物とを主成分とする低屈
折率組成物において該組成物中におけるシリカゾル粒子
含有量が３０〜８０％で、なかでも粒径５０〜１００ｎ
ｍのシリカゾル粒子が２０％以上含有されていることを
特徴とする低屈折率組成物を提供するものである。
請求項１の発明は、平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカ
ゾル粒子と分子中にビニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも３
個以上を有するアクリル系化合物とを主成分とする低屈
折率組成物において該組成物中におけるシリカゾル粒子
含有量が３０〜８０％で、なかでも粒径５０〜１００ｎ
ｍのシリカゾル粒子が２０％以上含有されていることを
特徴とする低屈折率組成物を提供するものである。
【００１２】請求項２の発明は、前記低屈折率組成物中
にさらにＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキル基、
Ｒ’：末端にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、）、およびその加水分解物とが含
まれてなることを特徴とする請求項１に記載の低屈折率
組成物を提供するものである。
にさらにＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキル基、
Ｒ’：末端にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、）、およびその加水分解物とが含
まれてなることを特徴とする請求項１に記載の低屈折率
組成物を提供するものである。
【００１３】請求項３の発明は、前記低屈折率組成物に
おいてアクリル系化合物が３官能以上のアクリルモノマ
ーおよびその変性体で、平均分子量が２００〜１０００
であることを特徴とする請求項１、２何れか記載の低屈
折率組成物を提供するものである。
おいてアクリル系化合物が３官能以上のアクリルモノマ
ーおよびその変性体で、平均分子量が２００〜１０００
であることを特徴とする請求項１、２何れか記載の低屈
折率組成物を提供するものである。
【００１４】請求項４の発明は、前記低屈折率組成物を
形成するＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ
−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒ：アルキル基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、ｎはｎ＜５の整数）であって、シ
リカゾル粒子にあらかじめ修飾されてなることを特徴と
する請求項１〜３何れか記載の低屈折率組成物を提供す
るものである。
形成するＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ
−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒ：アルキル基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、ｎはｎ＜５の整数）であって、シ
リカゾル粒子にあらかじめ修飾されてなることを特徴と
する請求項１〜３何れか記載の低屈折率組成物を提供す
るものである。
【００１５】請求項５の発明は、前記Ｒ’x Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 が修飾粒子に対して比率が、粒子／ＣＨ2 ＝ＣＨ
ＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 のモル比で１／
０．０４〜１／０．２５（重量換算で９０／１０〜６０
／４０ｗｔ％相当）であることを特徴とする請求項４に
記載の低屈折率組成物を提供するものである。
Ｒ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 が修飾粒子に対して比率が、粒子／ＣＨ2 ＝ＣＨ
ＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 のモル比で１／
０．０４〜１／０．２５（重量換算で９０／１０〜６０
／４０ｗｔ％相当）であることを特徴とする請求項４に
記載の低屈折率組成物を提供するものである。
【００１６】請求項６の発明は、前記Ｒ’x Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 を粒子修飾する際に、ｐトルエンスルホン酸など
のスルホン酸触媒下で反応させてなるものであることを
特徴とする請求項４、５何れか記載の低屈折率組成物を
提供するものである。
Ｒ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 を粒子修飾する際に、ｐトルエンスルホン酸など
のスルホン酸触媒下で反応させてなるものであることを
特徴とする請求項４、５何れか記載の低屈折率組成物を
提供するものである。
【００１７】請求項７の発明は、請求項１〜６何れか記
載の低屈折率組成物が重合して組成物被膜がナノポーラ
ス構造を呈していることを特徴とする低屈折率膜を提供
するものである。
載の低屈折率組成物が重合して組成物被膜がナノポーラ
ス構造を呈していることを特徴とする低屈折率膜を提供
するものである。
【００１８】請求項８の発明は、請求項７記載の低屈折
率膜を基材上に高屈折率膜および必要に応じて他の屈折
率膜とともに備えている事を特徴とする光学多層膜を提
供するものである。
率膜を基材上に高屈折率膜および必要に応じて他の屈折
率膜とともに備えている事を特徴とする光学多層膜を提
供するものである。
【００１９】請求項９の発明は、光学多層膜が反射防止
機能を有するものである請求項８記載の反射防止膜を提
供するものである。
機能を有するものである請求項８記載の反射防止膜を提
供するものである。
【００２０】本発明によれば、シリカゾル粒子と末端に
ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重
合可能な不飽和結合を複数個有する多官能アクリル化合
物を主成分とすることで、塗膜形成後にＵＶあるいはＥ
Ｂ照射により塗膜中のアクリロイル基などの重合可能な
不飽和結合基の光（ＥＢ）重合による架橋のにより硬化
するものであり、該組成物中のシリカの粒子径およびバ
インダーである多官能アクリルの比率を制御すること
で、ナノポーラス構造を呈させ、見掛け屈折率を低下さ
せるものである。
ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重
合可能な不飽和結合を複数個有する多官能アクリル化合
物を主成分とすることで、塗膜形成後にＵＶあるいはＥ
Ｂ照射により塗膜中のアクリロイル基などの重合可能な
不飽和結合基の光（ＥＢ）重合による架橋のにより硬化
するものであり、該組成物中のシリカの粒子径およびバ
インダーである多官能アクリルの比率を制御すること
で、ナノポーラス構造を呈させ、見掛け屈折率を低下さ
せるものである。
【００２１】組成物自身が低屈折率成分として機能する
ものではあるが、ナノポーラス化により材料自身の屈折
率（シリカの屈折率１．４５程度アクリル成分の屈折率
１．５０程度）では到達できないほどの低屈折率化
（１．４０以下）をはかることができるものである。
ものではあるが、ナノポーラス化により材料自身の屈折
率（シリカの屈折率１．４５程度アクリル成分の屈折率
１．５０程度）では到達できないほどの低屈折率化
（１．４０以下）をはかることができるものである。
【００２２】物理的強さは通常アクリル基などの導入量
によって決定されるものであり、これらのアクリル基成
分は通常シリカ成分などに比べると屈折率的にはやや高
く、アクリル成分が増加すると強度は高いが屈折率が低
くできなくなってしまうが、本発明の組成物は特定の多
官能アクリル化合物を用いることで、少ないバインダー
比でも強度を発現させるものある。
によって決定されるものであり、これらのアクリル基成
分は通常シリカ成分などに比べると屈折率的にはやや高
く、アクリル成分が増加すると強度は高いが屈折率が低
くできなくなってしまうが、本発明の組成物は特定の多
官能アクリル化合物を用いることで、少ないバインダー
比でも強度を発現させるものある。
【００２３】なかでも、アクリル化合物を分子量が大き
なプレポリマーではなく、ＤＰＨＡなどの３官能以上の
多官能アクリルモノマー用いることで、より均質で架橋
密度の高いハイブリッド膜を形成することができる。
なプレポリマーではなく、ＤＰＨＡなどの３官能以上の
多官能アクリルモノマー用いることで、より均質で架橋
密度の高いハイブリッド膜を形成することができる。
【００２４】さらにアクリロイル基を含有した有機ケイ
素化合物による複合化（粒子修飾化）で、より被膜の架
橋密度を向上させることができる分子レベルで均一なハ
イブリッド構造を呈しているのので、シリカゾルなどの
低屈折率化成分の体積比が大きく、ナノポーラス構造を
呈していても充分な強度を発揮できるもので、硬度が高
く耐擦傷性性も良好で、従来の低屈折率組成物の欠点を
大幅に改善することができ、低屈折率化と高強度化の両
立可能な組成物を提供するものである。
素化合物による複合化（粒子修飾化）で、より被膜の架
橋密度を向上させることができる分子レベルで均一なハ
イブリッド構造を呈しているのので、シリカゾルなどの
低屈折率化成分の体積比が大きく、ナノポーラス構造を
呈していても充分な強度を発揮できるもので、硬度が高
く耐擦傷性性も良好で、従来の低屈折率組成物の欠点を
大幅に改善することができ、低屈折率化と高強度化の両
立可能な組成物を提供するものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
る。
【００２６】本発明の組成物は、シリカゾル粒子と末端
にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの
重合可能な不飽和結合を複数個有する多官能アクリル化
合物を主成分とし、さらにアクリロイル基含有の有機ケ
イ素化合物などが含まれる有機無機ハイブリッド組成物
からなるものてあり、これを基材に塗工し、加熱乾燥
し、被膜を形成した後、ＵＶなどの光照射を施すことで
低屈折率組成物被膜を形成可能とするものであり、該組
成物中のシリカの粒子径などを制御することで、ナノポ
ーラス構造を呈させ、見掛け屈折率を低下させるもので
ある。
にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの
重合可能な不飽和結合を複数個有する多官能アクリル化
合物を主成分とし、さらにアクリロイル基含有の有機ケ
イ素化合物などが含まれる有機無機ハイブリッド組成物
からなるものてあり、これを基材に塗工し、加熱乾燥
し、被膜を形成した後、ＵＶなどの光照射を施すことで
低屈折率組成物被膜を形成可能とするものであり、該組
成物中のシリカの粒子径などを制御することで、ナノポ
ーラス構造を呈させ、見掛け屈折率を低下させるもので
ある。
【００２７】低屈折率組成物中に含まれる各成分につい
て以下に詳述する。本発明において用いられる、シリカ
ゾルとは平均粒径が５〜１００ｎｍの粒子径のシリカ粒
子が溶媒中に分散されたもので、ケイ酸ナトリムなどの
ケイ酸アルカリからイオン交換等でアルカリを除去した
り、酸で中和したりする方法で得られるシリカゾルであ
って、水性でも、有機溶剤置換された有機溶媒系シリカ
ゾルでも特に限定されないが、アクリルモノマーとの相
溶性、プラスティック基材への塗工適性などから有機溶
媒系のものが望ましい。
て以下に詳述する。本発明において用いられる、シリカ
ゾルとは平均粒径が５〜１００ｎｍの粒子径のシリカ粒
子が溶媒中に分散されたもので、ケイ酸ナトリムなどの
ケイ酸アルカリからイオン交換等でアルカリを除去した
り、酸で中和したりする方法で得られるシリカゾルであ
って、水性でも、有機溶剤置換された有機溶媒系シリカ
ゾルでも特に限定されないが、アクリルモノマーとの相
溶性、プラスティック基材への塗工適性などから有機溶
媒系のものが望ましい。
【００２８】５ｎｍ以下は製造が困難であり、１００ｎ
ｍ以上では光の散乱のため透明性が損なわれる。
ｍ以上では光の散乱のため透明性が損なわれる。
【００２９】ナノポーラス構造とするためには粒子とバ
インダーとの比率が重要であり、本発明の低屈折率組成
物被膜中の全シリカ粒子成分が３０〜８０ｗｔ％さらに
好適には４０〜７０ｗｔ％含有されていることがが望ま
しく、３０ｗｔ％以下では所望の屈折率が得られにく
く、８０％以上では十分な強度を発現できなくなる。な
かでも粒径が５０〜１００ｎｍである大粒子径成分が２
０ｗｔ％以上、さらに好適には３０％以上含有されるこ
とで、良好なナノポーラス構造とすることができるもの
であって、２０％以下では効果が少ない。
インダーとの比率が重要であり、本発明の低屈折率組成
物被膜中の全シリカ粒子成分が３０〜８０ｗｔ％さらに
好適には４０〜７０ｗｔ％含有されていることがが望ま
しく、３０ｗｔ％以下では所望の屈折率が得られにく
く、８０％以上では十分な強度を発現できなくなる。な
かでも粒径が５０〜１００ｎｍである大粒子径成分が２
０ｗｔ％以上、さらに好適には３０％以上含有されるこ
とで、良好なナノポーラス構造とすることができるもの
であって、２０％以下では効果が少ない。
【００３０】多官能アクリル化合物とは、その分子中に
ビニル基、アクリロイル基やメタクルロイル基など重合
可能なの不飽和結合を少なくとも３個以上有するもので
あって、例えばＤＰＨＡなどのアクリルモノマー類と、
これらのモノマーの変性体、および誘導体、などが使用
できる。
ビニル基、アクリロイル基やメタクルロイル基など重合
可能なの不飽和結合を少なくとも３個以上有するもので
あって、例えばＤＰＨＡなどのアクリルモノマー類と、
これらのモノマーの変性体、および誘導体、などが使用
できる。
【００３１】なかでもＤＰＨＡ、ＰＥＴＡ、あるいはＰ
ＥＴＡとＨＤＩなどのジイソシアネートとの反応生成で
あるプレポリマーなど多官能アクリルモノマー類および
その変性体などで、平均分子量２００〜１０００のもの
であれば、シリカゾルとの相溶性も良く、被膜形成時に
相分離することなく、架橋密度の高い、均質で透明なハ
イブリッド被膜が形成できる。アクリロイル基含有有機
ケイ素化合物とはＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキ
ル基、Ｒ’：末端にビニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能
基、ｘは０＜ｘ＜４の置換数、）で表せる有機ケイ素化
合物（以下一般式Ａと称す）であって、ビニルトリメト
キシチタン、メタクリロキシトリイソプロポキシチタネ
ート、メタクリロキシプロピルトリイソプロポキシジル
コネートなどが例示される。
ＥＴＡとＨＤＩなどのジイソシアネートとの反応生成で
あるプレポリマーなど多官能アクリルモノマー類および
その変性体などで、平均分子量２００〜１０００のもの
であれば、シリカゾルとの相溶性も良く、被膜形成時に
相分離することなく、架橋密度の高い、均質で透明なハ
イブリッド被膜が形成できる。アクリロイル基含有有機
ケイ素化合物とはＲ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキ
ル基、Ｒ’：末端にビニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能
基、ｘは０＜ｘ＜４の置換数、）で表せる有機ケイ素化
合物（以下一般式Ａと称す）であって、ビニルトリメト
キシチタン、メタクリロキシトリイソプロポキシチタネ
ート、メタクリロキシプロピルトリイソプロポキシジル
コネートなどが例示される。
【００３２】なかでも（３−アクリロキシプロピル）ト
リメトキシシランなどに代表されるＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ
−（ＣＨ）n −Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒ：アルキル基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、ｎはｎ＜５の整数）で表せるアク
リロイル基含ケイ素化合物（以下一般式Ｂと称す）が好
適である。
リメトキシシランなどに代表されるＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ
−（ＣＨ）n −Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒ：アルキル基、ｘは
０＜ｘ＜４の置換数、ｎはｎ＜５の整数）で表せるアク
リロイル基含ケイ素化合物（以下一般式Ｂと称す）が好
適である。
【００３３】これらの有機金属ケイ素化合物は組成物中
にｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸触媒を含有させ
ることで、塗工後に大気中の水分でもって加水分解反応
させて被膜形成しても良いし、またあらかじめ水（塩酸
などの触媒を含む）を添加し加水分解反応させたものを
用いることもできる。
にｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸触媒を含有させ
ることで、塗工後に大気中の水分でもって加水分解反応
させて被膜形成しても良いし、またあらかじめ水（塩酸
などの触媒を含む）を添加し加水分解反応させたものを
用いることもできる。
【００３４】その際に、有機ケイ素化合物の加水分解物
が、該有機ケイ素化合物の全アルコキシル基を加水分解
させるのに必要な水の量よりも１／８〜７／８の量の水
で部分加水分解されたものであるとすることで安定な組
成物を得ることができ、余分な水を残すことなく特別な
分離精製せずに用いることができる。
が、該有機ケイ素化合物の全アルコキシル基を加水分解
させるのに必要な水の量よりも１／８〜７／８の量の水
で部分加水分解されたものであるとすることで安定な組
成物を得ることができ、余分な水を残すことなく特別な
分離精製せずに用いることができる。
【００３５】上記の調整は、アクリル化合物と余分な水
との副反応を抑制したり、ケイ素化合物の加水分解率を
コントロールして、ケイ素化合物ポリマーの成長を抑制
したり、相溶性を高めることで、相分離を抑制し均質で
分子架橋密度が高く、分子レベルのハイブリッド膜を形
成至らしめるものである。
との副反応を抑制したり、ケイ素化合物の加水分解率を
コントロールして、ケイ素化合物ポリマーの成長を抑制
したり、相溶性を高めることで、相分離を抑制し均質で
分子架橋密度が高く、分子レベルのハイブリッド膜を形
成至らしめるものである。
【００３６】これらのハイブリッド系組成物の組み合わ
せは、一般に公知ではあるが、本発明の組成物は単なる
組み合わせではなく、マトリックスであるコート組成物
の無機のネットワークと無機フィラーとの相溶性、親和
性が高く、単に有機樹脂中に分散するより、より良い分
散状態、フィラーとマトリックスとの密着性が高い被膜
が得られる材料系で、通常の添加効果よりも高い効果が
得られるものであり、特にこれらのアクリロイル基含有
ケイ素化合物の添加の際に、シリカゾル粒子と一般式Ａ
の有機ケイ素化合物を別の系にて混合反応させ、あらか
じめ粒子表面に修飾させると、バインダー成分となるア
クリル化合物の量を抑制しても十分な強度を得られるな
どの効果が大きくなりナノポーラス構造の本発明の組成
物には好適である。
せは、一般に公知ではあるが、本発明の組成物は単なる
組み合わせではなく、マトリックスであるコート組成物
の無機のネットワークと無機フィラーとの相溶性、親和
性が高く、単に有機樹脂中に分散するより、より良い分
散状態、フィラーとマトリックスとの密着性が高い被膜
が得られる材料系で、通常の添加効果よりも高い効果が
得られるものであり、特にこれらのアクリロイル基含有
ケイ素化合物の添加の際に、シリカゾル粒子と一般式Ａ
の有機ケイ素化合物を別の系にて混合反応させ、あらか
じめ粒子表面に修飾させると、バインダー成分となるア
クリル化合物の量を抑制しても十分な強度を得られるな
どの効果が大きくなりナノポーラス構造の本発明の組成
物には好適である。
【００３７】表面修飾の方法は、塩酸、有機酸の存在下
で両者を混合し、有機金属のアルコキシド基と粒子表面
のＯＨ基とを反応させることで容易に処理されるもので
あり、特別に分離精製することなく、そのまま他の成分
を添加してコーティング組成物を調整することができ
る。
で両者を混合し、有機金属のアルコキシド基と粒子表面
のＯＨ基とを反応させることで容易に処理されるもので
あり、特別に分離精製することなく、そのまま他の成分
を添加してコーティング組成物を調整することができ
る。
【００３８】なかでもアクリロイル基含有ケイ素化合物
を粒子修飾する際に、アルコールやケトン系などの有機
溶媒中でｐトルエンスルホン酸などのスルホン酸触媒下
で反応させるのが修飾効率が良好で溶媒中への水の混入
を防止することができ好適である。
を粒子修飾する際に、アルコールやケトン系などの有機
溶媒中でｐトルエンスルホン酸などのスルホン酸触媒下
で反応させるのが修飾効率が良好で溶媒中への水の混入
を防止することができ好適である。
【００３９】さらにシリカゾル粒子とアクリロイル基含
有ケイ素化合物との比率をシリカゾル粒子／アクリロイ
ル基含有ケイ素化合物のモル比が１／０．０４〜１／
０．２５（重量換算で９０／１０〜６０／４０ｗｔ％相
当）とすることでナノポーラス構造と強度の両立するこ
とができ好適である。
有ケイ素化合物との比率をシリカゾル粒子／アクリロイ
ル基含有ケイ素化合物のモル比が１／０．０４〜１／
０．２５（重量換算で９０／１０〜６０／４０ｗｔ％相
当）とすることでナノポーラス構造と強度の両立するこ
とができ好適である。
【００４０】本発明における、ナノポーラス構造とは、
光の散乱の影響を受けないほどの微細な空隙を意味する
もので、空隙の形態は閉じられたもの、開かれたもので
も特に限定されるものではない。
光の散乱の影響を受けないほどの微細な空隙を意味する
もので、空隙の形態は閉じられたもの、開かれたもので
も特に限定されるものではない。
【００４１】該空隙は物理的にはある大きさを有するも
のであるが微細かつ不定形の場合が多く、電子顕微鏡な
どでは直接観察されないことも多い。その場合には光学
的な手法で屈折率を測定すると、多成分系における加成
性から逸脱する現象が観察されることでナノポーラス構
造と推定した。
のであるが微細かつ不定形の場合が多く、電子顕微鏡な
どでは直接観察されないことも多い。その場合には光学
的な手法で屈折率を測定すると、多成分系における加成
性から逸脱する現象が観察されることでナノポーラス構
造と推定した。
【００４２】例えば屈折率１．４５のシリカ粒子と屈折
率１．５２のアクリルバインダーを用いた場合、通常５
０／５０ｖｏｌ％の混合物ではほぼ中間的屈折率である
１．４７〜１．４９の間になることが観察される。本発
明のようなナノポーラス構造の場合はこれよりも小さく
なり、見掛け屈折率が１．４５以下、粒径によっては
１．３５以下と大きく加成性から逸脱する現象が見られ
る。
率１．５２のアクリルバインダーを用いた場合、通常５
０／５０ｖｏｌ％の混合物ではほぼ中間的屈折率である
１．４７〜１．４９の間になることが観察される。本発
明のようなナノポーラス構造の場合はこれよりも小さく
なり、見掛け屈折率が１．４５以下、粒径によっては
１．３５以下と大きく加成性から逸脱する現象が見られ
る。
【００４３】これらの現象は被膜がナノポーラス構造を
呈していること、すなわち微細な空隙が存在することで
見掛けの屈折率が低下したためと推測されるもので、本
発明の低屈折率組成物もこの屈折率測定手法によりバイ
ンダー比率を変えた組成物の屈折率を測定することで、
ナノポーラス構造を呈しているとして定義したもので、
ポーラス構造の形態や、その組成物被膜の膜厚方向の分
布（例えば表面方向に傾斜構造を有するなど）など特に
に限定されるものではない。
呈していること、すなわち微細な空隙が存在することで
見掛けの屈折率が低下したためと推測されるもので、本
発明の低屈折率組成物もこの屈折率測定手法によりバイ
ンダー比率を変えた組成物の屈折率を測定することで、
ナノポーラス構造を呈しているとして定義したもので、
ポーラス構造の形態や、その組成物被膜の膜厚方向の分
布（例えば表面方向に傾斜構造を有するなど）など特に
に限定されるものではない。
【００４４】ＵＶ照射による硬化を行う際には、ラジカ
ル重合開始剤を添加すると好適であり、ベンゾインメチ
ルエーテルなどのベンゾインエーテル系開始剤、アセト
フェノン、２、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、などのアセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノ
ンなどのベンゾフェノン系開始剤など特に限定されるも
のではない。
ル重合開始剤を添加すると好適であり、ベンゾインメチ
ルエーテルなどのベンゾインエーテル系開始剤、アセト
フェノン、２、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、などのアセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノ
ンなどのベンゾフェノン系開始剤など特に限定されるも
のではない。
【００４５】上述した各成分をいくつか組み合わせてコ
ーティング組成物に加えることができ、さらに、物性を
損なわない範囲で、分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着
色剤など公知の添加剤を加えることができる。
ーティング組成物に加えることができ、さらに、物性を
損なわない範囲で、分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着
色剤など公知の添加剤を加えることができる。
【００４６】コーティング組成物の塗布方法には、通常
用いられる、ディッピング法、ロールコティング法、ス
クリーン印刷法、スプレー法など従来公知の手段が用い
られる。被膜の厚さは目的の光学設計にあわせて、液の
濃度や塗工量によって適宜選択調整することができる。
用いられる、ディッピング法、ロールコティング法、ス
クリーン印刷法、スプレー法など従来公知の手段が用い
られる。被膜の厚さは目的の光学設計にあわせて、液の
濃度や塗工量によって適宜選択調整することができる。
【００４７】本発明の低屈折率組成物は、ガラスやプラ
スチックフィルムなど特に限定されるものではなく、さ
らに必要に応じて各種ハードコート剤、低屈折率材料、
セラミック蒸着膜と積層することが可能で、また本発明
の組成比を変えて積層することも可能である。
スチックフィルムなど特に限定されるものではなく、さ
らに必要に応じて各種ハードコート剤、低屈折率材料、
セラミック蒸着膜と積層することが可能で、また本発明
の組成比を変えて積層することも可能である。
【００４８】本発明のコーティング組成物を具体的な実
施例をあげて説明する。
施例をあげて説明する。
【００４９】
【実施例】表面にＵＶ硬化樹脂ＨＣ層（５μｍ）を設け
た８０μｍ厚のＴＡＣフィルムを基材として、下記組成
の材料を各成分の固形分が表１に示す割合になるように
組み合わせて調液してコーティング組成物を作成、ＵＶ
硬化の開始剤としてアセトフェノン系開始剤を重合成分
に対して２％添加した。
た８０μｍ厚のＴＡＣフィルムを基材として、下記組成
の材料を各成分の固形分が表１に示す割合になるように
組み合わせて調液してコーティング組成物を作成、ＵＶ
硬化の開始剤としてアセトフェノン系開始剤を重合成分
に対して２％添加した。
【００５０】バーコーターにより塗布し、乾燥機で１０
０℃−１ｍｉｎ乾燥し、高圧水銀灯により１，０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、光学膜厚（ｎ
ｄ＝屈折率ｎ＊膜厚ｄ（ｎｍ））がｎｄ＝５５０／４ｎ
ｍになるよう適宜濃度調整をして低屈折率被膜を形成
し、各種試験用の試験体を得た。
０℃−１ｍｉｎ乾燥し、高圧水銀灯により１，０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ、光学膜厚（ｎ
ｄ＝屈折率ｎ＊膜厚ｄ（ｎｍ））がｎｄ＝５５０／４ｎ
ｍになるよう適宜濃度調整をして低屈折率被膜を形成
し、各種試験用の試験体を得た。
【００５１】本発明の実施例として実施例１〜３に示す
配合で、比較例１として粒径の小さいものだけを用いた
系、また、比較例２としてのバインダー成分として多官
能アクリルモノマーを用いてない系の試験体を合わせて
作成し、下記評価方法にて評価した。表１に結果を示
す。
配合で、比較例１として粒径の小さいものだけを用いた
系、また、比較例２としてのバインダー成分として多官
能アクリルモノマーを用いてない系の試験体を合わせて
作成し、下記評価方法にて評価した。表１に結果を示
す。
【００５２】＜コーティング組成物の各成分＞ （ａ）平均粒径１０〜１５ｎｍのシリカゾル／ＭＥＫ溶
媒 （ｂ）平均粒径５０〜７０ｎｍのシリカゾル／ＭＥＫ溶
媒 （ｃ）平均粒径５０〜７０ｎｍのシリカゾルにモル比で
１／０．０８（重量比で約８０／２０）（３−アクリロ
キシプロピル）トリメトキシシランを今後し触媒として
ｐトルエンスルホン酸をアクリルシランに対して重量比
で１％添加し室温で３時間攪拌し反応させ修飾させた複
合ゾル。 （ｄ）ＤＰＨＡのＭＥＫ希釈溶液。 （ｅ）ＯＨ価１３０、平均分子量１００００、Ｔｇ８８
℃の市販アクリルポリオール樹脂の溶液（酢酸ブチル、
酢酸エチル混合溶剤）
媒 （ｂ）平均粒径５０〜７０ｎｍのシリカゾル／ＭＥＫ溶
媒 （ｃ）平均粒径５０〜７０ｎｍのシリカゾルにモル比で
１／０．０８（重量比で約８０／２０）（３−アクリロ
キシプロピル）トリメトキシシランを今後し触媒として
ｐトルエンスルホン酸をアクリルシランに対して重量比
で１％添加し室温で３時間攪拌し反応させ修飾させた複
合ゾル。 （ｄ）ＤＰＨＡのＭＥＫ希釈溶液。 （ｅ）ＯＨ価１３０、平均分子量１００００、Ｔｇ８８
℃の市販アクリルポリオール樹脂の溶液（酢酸ブチル、
酢酸エチル混合溶剤）
【００５３】＜評価試験＞ （１）光学特性 分光光度計により入射角５で５５０ｎｍにおける反射率
を測定し、反射率値か被膜の屈折率を見積もった。 （２）密着性 塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００のクロスカット密着
試験方法に準じて塗膜の残存数にて評価した。 （３）鉛筆硬度 塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００の鉛筆引っかき値試
験方法に準じて塗膜の擦り傷にて評価した 。 （４）耐擦傷試験 スチールウール＃００００により、２５０ｇ／ｃｍ2 の
荷重で往復５回擦傷試験を実施、目視による傷の外観を
検査した。評価は、傷なし◎、かるく傷あり○、かなり
傷つく△、著しく傷つく×の４段階とした。
を測定し、反射率値か被膜の屈折率を見積もった。 （２）密着性 塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００のクロスカット密着
試験方法に準じて塗膜の残存数にて評価した。 （３）鉛筆硬度 塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００の鉛筆引っかき値試
験方法に準じて塗膜の擦り傷にて評価した 。 （４）耐擦傷試験 スチールウール＃００００により、２５０ｇ／ｃｍ2 の
荷重で往復５回擦傷試験を実施、目視による傷の外観を
検査した。評価は、傷なし◎、かるく傷あり○、かなり
傷つく△、著しく傷つく×の４段階とした。
【００５４】
【表１】
【００５５】表１に示すように、本発明の実施例は屈折
率が１．４０と低くなおかつ密着性、硬度、耐擦傷性な
ど強度面にも優れるが、比較例１の比粒径の小さいもの
だけを用いた系ではかなり７０％とシリカ成分をかなり
多くしても、屈折率が１．４６と低くならずに低屈折率
化がはかれない。また、比較例２のバインダー成分とし
て多官能アクリルモノマーを用いてない系では粒径の大
きなものを用いたため、屈折率が１．４と所望のものが
得られたが強度面で特性が劣っていることがわかる。
率が１．４０と低くなおかつ密着性、硬度、耐擦傷性な
ど強度面にも優れるが、比較例１の比粒径の小さいもの
だけを用いた系ではかなり７０％とシリカ成分をかなり
多くしても、屈折率が１．４６と低くならずに低屈折率
化がはかれない。また、比較例２のバインダー成分とし
て多官能アクリルモノマーを用いてない系では粒径の大
きなものを用いたため、屈折率が１．４と所望のものが
得られたが強度面で特性が劣っていることがわかる。
【００５６】
【発明の効果】以上述べたように本発明の低屈折率組成
物は、シリカゾル粒子ととアクリル基含有ケイ素化合物
ならびに多官能アクリルモノマーを有し、無機と有機化
合物の分子レベルのハイブリッド構造を呈した被膜を形
成できるものであり、ナノポーラス構造による低屈折率
という光学特性と物理的強度特性とを兼備した被膜を形
成することができるものである。
物は、シリカゾル粒子ととアクリル基含有ケイ素化合物
ならびに多官能アクリルモノマーを有し、無機と有機化
合物の分子レベルのハイブリッド構造を呈した被膜を形
成できるものであり、ナノポーラス構造による低屈折率
という光学特性と物理的強度特性とを兼備した被膜を形
成することができるものである。
【００５７】すなわち、ディスプレイの反射防止膜など
の基材の最外層に形成され、過酷な環境や取り扱いにも
充分に耐えられる被膜を形成することができ、蒸着など
と比べ装置コストも比較的安価で、成膜（塗工）速度も
１０倍以上で生産性も高く、製造も容易である。
の基材の最外層に形成され、過酷な環境や取り扱いにも
充分に耐えられる被膜を形成することができ、蒸着など
と比べ装置コストも比較的安価で、成膜（塗工）速度も
１０倍以上で生産性も高く、製造も容易である。
【００５８】また本発明の組成物の被膜は、光照射など
で硬化するため、低温での塗工が可能なので、フィルム
などのを巻き取り塗工で作成することが可能で安価に、
大量生産できるといった効果を奏する。
で硬化するため、低温での塗工が可能なので、フィルム
などのを巻き取り塗工で作成することが可能で安価に、
大量生産できるといった効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 4/02 Ｃ０９Ｄ 4/02 ４Ｊ０２６ 5/00 5/00 Ｍ ４Ｊ０３８ 7/12 7/12 Ｚ 183/07 183/07 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｃ０８Ｆ 292/00 // Ｃ０８Ｆ 292/00 Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０３ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB20 AC01 AD01 BC14 BC43 BC83 CA01 CC06 CC08 FA03 2K009 AA02 BB02 BB28 CC09 CC24 CC42 DD02 DD05 4F006 AA02 AB24 AB39 AB52 BA01 BA02 CA05 CA08 DA01 EA03 4J002 CP141 CP161 DJ016 FB106 GQ00 4J011 PA13 PB16 PC08 QA23 SA01 SA31 TA06 TA09 UA01 UA03 VA01 WA02 4J026 AC00 BA43 DB05 GA09 4J038 DL122 FA111 GA01 GA02 HA446 KA15 KA20 MA10 MA14 NA17 NA19 PB08 PC03 PC08
Claims (9)
- 【請求項１】平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカゾル粒
子と分子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも３個以上
を有するアクリル系化合物とを主成分とする低屈折率組
成物において該組成物中におけるシリカゾル粒子含有量
が３０〜８０％で、なかでも粒径５０〜１００ｎｍのシ
リカゾル粒子が２０％以上含有されていることを特徴と
する低屈折率組成物。 - 【請求項２】前記低屈折率組成物中にさらにＲ’x Ｓｉ
（ＯＲ）4-x （Ｒ：アルキル基、Ｒ’：末端にビニル
基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能
な不飽和結合を有する官能基、ｘは０＜ｘ＜４の置換
数、）、およびその加水分解物とが含まれてなることを
特徴とする請求項１に記載の低屈折率組成物。 - 【請求項３】前記低屈折率組成物においてアクリル系化
合物が３官能以上のアクリルモノマーおよびその変性体
で、平均分子量が２００〜１０００であることを特徴と
する請求項１、２記載の低屈折率組成物。 - 【請求項４】前記低屈折率組成物を形成するＲ’x Ｓｉ
（ＯＲ）4-x がＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ
（ＯＲ）4 （Ｒ：アルキル基、ｘは０＜ｘ＜４の置換
数、ｎはｎ＜５の整数）であって、シリカゾル粒子にあ
らかじめ修飾されてなることを特徴とする請求項１〜３
何れか記載の低屈折率組成物。 - 【請求項５】前記Ｒ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x がＣＨ2 ＝Ｃ
ＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 が修飾粒子に対
して比率が、粒子／ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−
Ｓｉ（ＯＲ）4 のモル比で１／０．０４〜１／０．２５
（重量換算で９０／１０〜６０／４０ｗｔ％相当）であ
ることを特徴とする請求項４に記載の低屈折率組成物。 - 【請求項６】前記Ｒ’x Ｓｉ（ＯＲ）4-x がＣＨ2 ＝Ｃ
ＨＣＯＯ−（ＣＨ）ｎ−Ｓｉ（ＯＲ）4 を粒子修飾する
際に、ｐトルエンスルホン酸などのスルホン酸触媒下で
反応させてなるものであることを特徴とする請求項４、
５何れか記載の低屈折率組成物。 - 【請求項７】請求項１〜６何れか記載の低屈折率組成物
が重合して組成物被膜がナノポーラス構造を呈している
ことを特徴とする低屈折率膜。 - 【請求項８】請求項７記載の低屈折率膜を基材上に高屈
折率膜および必要に応じて他の屈折率膜とともに備えて
いる事を特徴とする光学多層膜。 - 【請求項９】光学多層膜が反射防止機能を有するもので
ある請求項８記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34737499A JP4759780B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34737499A JP4759780B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001163906A true JP2001163906A (ja) | 2001-06-19 |
| JP4759780B2 JP4759780B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=18389807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34737499A Expired - Lifetime JP4759780B2 (ja) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4759780B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
| WO2002039187A1 (fr) * | 2000-11-08 | 2002-05-16 | Jsr Corporation | Compositions pour film sub-resist et leurs procedes de preparation, et films sub-resist et leurs procedes de production |
| WO2004005976A1 (ja) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Nof Corporation | 低屈折率層を有する減反射フィルム |
| JP2007507342A (ja) * | 2003-05-20 | 2007-03-29 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品 |
| US7229686B2 (en) | 2002-09-25 | 2007-06-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflection film and making method |
| CN100375908C (zh) * | 2003-06-18 | 2008-03-19 | 旭化成株式会社 | 抗反射膜 |
| CN100500938C (zh) * | 2007-09-28 | 2009-06-17 | 钢铁研究总院 | 一种用于镀锌板纳米改性丙烯酸树脂乳液及其制备方法 |
| CN102064204A (zh) * | 2010-12-03 | 2011-05-18 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法 |
| JPWO2011142130A1 (ja) * | 2010-05-14 | 2013-07-22 | 株式会社Kri | 修飾金属酸化物ゾル |
| US9435916B2 (en) | 2008-12-30 | 2016-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective articles and methods of making the same |
| US9908772B2 (en) | 2008-12-30 | 2018-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured articles and methods of making nanostructured articles |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57131214A (en) * | 1980-12-18 | 1982-08-14 | Gen Electric | Abrasion resistant ultraviolet ray curable coating composition and manufacture |
| JPH04234441A (ja) * | 1990-09-10 | 1992-08-24 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 有機被覆に対して改良された接着性を有する被覆材料 |
| WO1997011129A1 (fr) * | 1995-09-20 | 1997-03-27 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Composition de revetement resistant a l'usure et article ainsi revetu de cette composition |
| JPH116902A (ja) * | 1997-04-04 | 1999-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
-
1999
- 1999-12-07 JP JP34737499A patent/JP4759780B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57131214A (en) * | 1980-12-18 | 1982-08-14 | Gen Electric | Abrasion resistant ultraviolet ray curable coating composition and manufacture |
| JPH04234441A (ja) * | 1990-09-10 | 1992-08-24 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 有機被覆に対して改良された接着性を有する被覆材料 |
| WO1997011129A1 (fr) * | 1995-09-20 | 1997-03-27 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Composition de revetement resistant a l'usure et article ainsi revetu de cette composition |
| JPH116902A (ja) * | 1997-04-04 | 1999-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
| WO2002039187A1 (fr) * | 2000-11-08 | 2002-05-16 | Jsr Corporation | Compositions pour film sub-resist et leurs procedes de preparation, et films sub-resist et leurs procedes de production |
| WO2004005976A1 (ja) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Nof Corporation | 低屈折率層を有する減反射フィルム |
| CN100334469C (zh) * | 2002-07-05 | 2007-08-29 | 日本油脂株式会社 | 具有低折射率层的抗反射膜 |
| US7229686B2 (en) | 2002-09-25 | 2007-06-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflection film and making method |
| JP2007507342A (ja) * | 2003-05-20 | 2007-03-29 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品 |
| US7604866B2 (en) | 2003-06-18 | 2009-10-20 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Antireflection film |
| CN100375908C (zh) * | 2003-06-18 | 2008-03-19 | 旭化成株式会社 | 抗反射膜 |
| CN100500938C (zh) * | 2007-09-28 | 2009-06-17 | 钢铁研究总院 | 一种用于镀锌板纳米改性丙烯酸树脂乳液及其制备方法 |
| US9435916B2 (en) | 2008-12-30 | 2016-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective articles and methods of making the same |
| US9908772B2 (en) | 2008-12-30 | 2018-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured articles and methods of making nanostructured articles |
| US9939557B2 (en) | 2008-12-30 | 2018-04-10 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective articles and methods of making the same |
| JPWO2011142130A1 (ja) * | 2010-05-14 | 2013-07-22 | 株式会社Kri | 修飾金属酸化物ゾル |
| JP5750436B2 (ja) * | 2010-05-14 | 2015-07-22 | 株式会社Kri | 修飾金属酸化物ゾル |
| CN102064204A (zh) * | 2010-12-03 | 2011-05-18 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法 |
| CN102064204B (zh) * | 2010-12-03 | 2014-06-18 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种宽带减反增透纳米结构及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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