JP2001116902A - 光学部品の製造装置及び製造方法 - Google Patents
光学部品の製造装置及び製造方法Info
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- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 好適な光学特性を発揮し、容易に安定して製
造できる光学部品の製造装置及び製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 異なる光学特性の膜同士が交互に成膜さ
れる多層膜を支持体３ａに形成するための光学部品の製
造装置１であって、前記支持体３ａに前記多層膜３０を
成膜するための成膜手段と、前記支持体３ａに前記多層
膜３０が成膜された前記光学部品の光学特性を測定する
ための測定手段と、測定された前記光学部品の光学特性
に基づいて、前記成膜手段によって成膜される前記多層
膜３０の一部の膜厚を制御する制御手段２５とを設け
る。
造できる光学部品の製造装置及び製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 異なる光学特性の膜同士が交互に成膜さ
れる多層膜を支持体３ａに形成するための光学部品の製
造装置１であって、前記支持体３ａに前記多層膜３０を
成膜するための成膜手段と、前記支持体３ａに前記多層
膜３０が成膜された前記光学部品の光学特性を測定する
ための測定手段と、測定された前記光学部品の光学特性
に基づいて、前記成膜手段によって成膜される前記多層
膜３０の一部の膜厚を制御する制御手段２５とを設け
る。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体に多層膜を
成膜して光学部品を製造するための光学部品の製造装置
及び製造方法に関するものである。
成膜して光学部品を製造するための光学部品の製造装置
及び製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ダイクロイックミラー等の光学薄
膜を形成した光学部品において良好な光学特性を実現す
るためには、少なくとも１０層の光学薄膜を形成する必
要がある。光学薄膜は、低屈折率材料のＭｇＦ2 やＳｉ
Ｏ2 等及び高屈折率材料のＴｉＯ2 やＮｂ2 Ｏ5 等によ
り構成される。通常のバッチプロセスで光学薄膜を形成
して作製される光学部品は、真空装置内で蒸着やスパッ
タリング等の薄膜形成方法により光学薄膜原材料を蒸発
させて、これをガラス基板等の透明部材上に直接成膜し
作製される。
膜を形成した光学部品において良好な光学特性を実現す
るためには、少なくとも１０層の光学薄膜を形成する必
要がある。光学薄膜は、低屈折率材料のＭｇＦ2 やＳｉ
Ｏ2 等及び高屈折率材料のＴｉＯ2 やＮｂ2 Ｏ5 等によ
り構成される。通常のバッチプロセスで光学薄膜を形成
して作製される光学部品は、真空装置内で蒸着やスパッ
タリング等の薄膜形成方法により光学薄膜原材料を蒸発
させて、これをガラス基板等の透明部材上に直接成膜し
作製される。
【０００３】従来の光学部品の製造方法としては、例え
ば特開平１１−１１９００２号公報に示された薄膜形成
方法を利用したものがある。この薄膜形成方法では、フ
ィルム等の支持体に光学薄膜を成膜しつつ、例えば光学
モニタにより所定の透過特性を満たすように各層毎の膜
毎にそれぞれの膜厚を調整しつつ、全体として予め光学
設計された薄膜構成となるように光学薄膜を連続的に支
持体に成膜していた。
ば特開平１１−１１９００２号公報に示された薄膜形成
方法を利用したものがある。この薄膜形成方法では、フ
ィルム等の支持体に光学薄膜を成膜しつつ、例えば光学
モニタにより所定の透過特性を満たすように各層毎の膜
毎にそれぞれの膜厚を調整しつつ、全体として予め光学
設計された薄膜構成となるように光学薄膜を連続的に支
持体に成膜していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、特開平１１
−１１９００２号公報に示された薄膜形成方法では、例
えばフィルム等の支持体に連続的に光学薄膜を成膜する
際に、各層の膜厚を正確に測定する手段がなかった。こ
のため、調整して成膜したつもりの光学薄膜の膜厚が正
確でなく、また製造した光学部品が光学薄膜の理想的な
膜厚からのずれにより理想的な光学特性を発揮しないば
かりでなく、製造した光学部品間において光学特性のば
らつきが生じていた。
−１１９００２号公報に示された薄膜形成方法では、例
えばフィルム等の支持体に連続的に光学薄膜を成膜する
際に、各層の膜厚を正確に測定する手段がなかった。こ
のため、調整して成膜したつもりの光学薄膜の膜厚が正
確でなく、また製造した光学部品が光学薄膜の理想的な
膜厚からのずれにより理想的な光学特性を発揮しないば
かりでなく、製造した光学部品間において光学特性のば
らつきが生じていた。
【０００５】例えば図１４に示すように、従来の薄膜形
成方法によって光学薄膜を通常の速度で成膜すると、膜
厚の変化によって光学部品の光学特性が大きく変化して
しまう。尚、図１４において「７４．７６ｎｍ」、「９
４．７６ｎｍ」、「１１４．７６ｎｍ」は、それぞれ光
学薄膜の膜厚を示している。また、光学薄膜を通常の速
度より落として形成した場合であっても、図１５に示す
ように膜厚によって光学特性が大きく変化してしまう。
尚、図１５において「０ｎｍ」、「６５．５ｎｍ」、
「９７．３ｎｍ」、「１１２．４ｎｍ」は、それぞれ光
学薄膜の膜厚を示している。また、光学薄膜は、各層毎
にその膜厚が調整されるので、成膜に手間がかるという
問題点もあった。
成方法によって光学薄膜を通常の速度で成膜すると、膜
厚の変化によって光学部品の光学特性が大きく変化して
しまう。尚、図１４において「７４．７６ｎｍ」、「９
４．７６ｎｍ」、「１１４．７６ｎｍ」は、それぞれ光
学薄膜の膜厚を示している。また、光学薄膜を通常の速
度より落として形成した場合であっても、図１５に示す
ように膜厚によって光学特性が大きく変化してしまう。
尚、図１５において「０ｎｍ」、「６５．５ｎｍ」、
「９７．３ｎｍ」、「１１２．４ｎｍ」は、それぞれ光
学薄膜の膜厚を示している。また、光学薄膜は、各層毎
にその膜厚が調整されるので、成膜に手間がかるという
問題点もあった。
【０００６】そこで本発明は上記課題を解消し、好適な
光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光学部品
の製造装置及び製造方法を提供することを目的としてい
る。
光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光学部品
の製造装置及び製造方法を提供することを目的としてい
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、請求項１の
発明にあっては、異なる光学特性の膜同士が交互に成膜
される多層膜を支持体に形成するための光学部品の製造
装置であって、前記支持体に前記多層膜を成膜するため
の成膜手段と、前記支持体に前記多層膜が成膜された前
記光学部品の光学特性を測定するための測定手段と、測
定された前記光学部品の光学特性に基づいて、前記成膜
手段によって成膜される前記多層膜の一部の膜厚を制御
する制御手段とを備えることを特徴とする光学部品の製
造装置により、達成される。
発明にあっては、異なる光学特性の膜同士が交互に成膜
される多層膜を支持体に形成するための光学部品の製造
装置であって、前記支持体に前記多層膜を成膜するため
の成膜手段と、前記支持体に前記多層膜が成膜された前
記光学部品の光学特性を測定するための測定手段と、測
定された前記光学部品の光学特性に基づいて、前記成膜
手段によって成膜される前記多層膜の一部の膜厚を制御
する制御手段とを備えることを特徴とする光学部品の製
造装置により、達成される。
【０００８】上記目的は、請求項５の発明にあっては、
異なる光学特性の膜同士が交互に成膜される多層膜を支
持体に形成するための光学部品の製造方法であって、成
膜手段によって前記支持体に前記多層膜が成膜された前
記光学部品の光学特性を測定手段によって測定する測定
ステップと、測定された前記光学部品の光学特性に基づ
いて制御手段によって成膜手段を制御し、成膜される前
記多層膜の一部の膜厚を制御する制御ステップとを有す
ることを特徴とする光学部品の製造方法により、達成さ
れる。
異なる光学特性の膜同士が交互に成膜される多層膜を支
持体に形成するための光学部品の製造方法であって、成
膜手段によって前記支持体に前記多層膜が成膜された前
記光学部品の光学特性を測定手段によって測定する測定
ステップと、測定された前記光学部品の光学特性に基づ
いて制御手段によって成膜手段を制御し、成膜される前
記多層膜の一部の膜厚を制御する制御ステップとを有す
ることを特徴とする光学部品の製造方法により、達成さ
れる。
【０００９】請求項１又は請求項５のいずれかの構成に
よれば、それぞれ支持体には、成膜手段によって例えば
１層ずつ多層膜が成膜されている。多層膜が支持体に成
膜された構成の光学部品の光学特性は、測定手段によっ
て測定される。制御手段は、測定された光学部品の光学
特性に基づいて成膜手段を制御し、成膜される多層膜の
一部の膜厚を制御する。この多層膜の一部を光学部品の
光学特性に最も影響を与える部分とすれば、光学部品
は、好適な光学特性を発揮するように形成される。ま
た、多層膜は、その一部の膜厚が制御されるのみである
ので、容易に膜厚制御が行われる。従って、光学部品
は、好適な光学特性を発揮し、複数製造されても光学特
性にばらつきがなく安定した製品となる。
よれば、それぞれ支持体には、成膜手段によって例えば
１層ずつ多層膜が成膜されている。多層膜が支持体に成
膜された構成の光学部品の光学特性は、測定手段によっ
て測定される。制御手段は、測定された光学部品の光学
特性に基づいて成膜手段を制御し、成膜される多層膜の
一部の膜厚を制御する。この多層膜の一部を光学部品の
光学特性に最も影響を与える部分とすれば、光学部品
は、好適な光学特性を発揮するように形成される。ま
た、多層膜は、その一部の膜厚が制御されるのみである
ので、容易に膜厚制御が行われる。従って、光学部品
は、好適な光学特性を発揮し、複数製造されても光学特
性にばらつきがなく安定した製品となる。
【００１０】請求項２の発明は、請求項１の構成におい
て、前記測定手段は、前記光学部品の透過率を測定して
おり、前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過
率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成
膜手段による成膜を終了させることを特徴とする。請求
項６の発明は、請求項４の構成において、前記測定手段
は、前記光学部品の透過率を測定しており、前記制御手
段は、測定された前記光学部品の透過率が減少に転じる
と、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜
を終了させることを特徴とする。請求項２又は請求項６
のいずれかの構成によれば、それぞれ測定手段は光学部
品の透過率を測定している。制御手段は、測定された光
学部品の透過率が減少に転じると、多層膜の一部におけ
る成膜手段による成膜を終了させる。従って、光学部品
には、好適な光学特性を発揮する多層膜が支持体に成膜
される。
て、前記測定手段は、前記光学部品の透過率を測定して
おり、前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過
率が減少に転じると、前記多層膜の一部における前記成
膜手段による成膜を終了させることを特徴とする。請求
項６の発明は、請求項４の構成において、前記測定手段
は、前記光学部品の透過率を測定しており、前記制御手
段は、測定された前記光学部品の透過率が減少に転じる
と、前記多層膜の一部における前記成膜手段による成膜
を終了させることを特徴とする。請求項２又は請求項６
のいずれかの構成によれば、それぞれ測定手段は光学部
品の透過率を測定している。制御手段は、測定された光
学部品の透過率が減少に転じると、多層膜の一部におけ
る成膜手段による成膜を終了させる。従って、光学部品
には、好適な光学特性を発揮する多層膜が支持体に成膜
される。
【００１１】請求項３の発明は、請求項２の構成におい
て、測定された前記光学部品の透過率の増減がなくなっ
てから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去する
ための除去手段を有することを特徴とする。請求項７の
発明は、請求項５の構成において、前記測定手段によっ
て測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減
少に転じるまでの間に成膜された膜を除去手段によって
除去する除去ステップを有することを特徴とする。請求
項３又は請求項７のいずれかの構成によれば、それぞれ
除去手段は、測定手段によって測定された光学部品の透
過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成
膜された膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することが
できる。従って、光学部品は、さらに正確に好適な光学
特性を発揮するように製造される。
て、測定された前記光学部品の透過率の増減がなくなっ
てから減少に転じるまでの間に成膜された膜を除去する
ための除去手段を有することを特徴とする。請求項７の
発明は、請求項５の構成において、前記測定手段によっ
て測定された光の平均透過率の増減がなくなってから減
少に転じるまでの間に成膜された膜を除去手段によって
除去する除去ステップを有することを特徴とする。請求
項３又は請求項７のいずれかの構成によれば、それぞれ
除去手段は、測定手段によって測定された光学部品の透
過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に成
膜された膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することが
できる。従って、光学部品は、さらに正確に好適な光学
特性を発揮するように製造される。
【００１２】請求項４の発明は、請求項１の構成におい
て、前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面
に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率の
より高い膜の膜厚を制御することを特徴とする。請求項
８の発明は、請求項４の構成において、前記制御手段
は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成
膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚
を制御することを特徴とする。請求項４又は請求項８の
いずれかの構成によれば、それぞれ多層膜は、異なる屈
折率の複数の膜が交互に成膜されたものである。制御手
段は、支持体から最も離れた最表面に近い膜であって、
交互に成膜される複数の膜のうち屈折率のより高い膜の
膜厚を制御する。上述の支持体から最も離れた最表面に
近い膜であって、交互に成膜される複数の膜のうち屈折
率のより高い膜は、光学部品の光学特性に影響が大きい
ことを本願発明者らが見出した。このため、制御部がこ
の膜の膜厚を制御することで、光学部品は好適な光学特
性を発揮して形成可能となった。
て、前記制御手段は、前記支持体から最も離れた最表面
に近く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率の
より高い膜の膜厚を制御することを特徴とする。請求項
８の発明は、請求項４の構成において、前記制御手段
は、前記支持体から最も離れた最表面に近く、交互に成
膜される前記複数の膜のうち屈折率のより高い膜の膜厚
を制御することを特徴とする。請求項４又は請求項８の
いずれかの構成によれば、それぞれ多層膜は、異なる屈
折率の複数の膜が交互に成膜されたものである。制御手
段は、支持体から最も離れた最表面に近い膜であって、
交互に成膜される複数の膜のうち屈折率のより高い膜の
膜厚を制御する。上述の支持体から最も離れた最表面に
近い膜であって、交互に成膜される複数の膜のうち屈折
率のより高い膜は、光学部品の光学特性に影響が大きい
ことを本願発明者らが見出した。このため、制御部がこ
の膜の膜厚を制御することで、光学部品は好適な光学特
性を発揮して形成可能となった。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。図１は、本発明の好ましい実施形態としての光学薄
膜形成装置１の構成例を示す平面図である。光学薄膜形
成装置１（光学部品の製造装置）は、高分子フィルム等
の支持体上に光学薄膜を成膜するための光学部品の製造
装置である。この光学部品の一例としては、例えばプロ
ジェクションテレビに用いられるダイクロイックミラー
の他、ＵＶ−ＩＲフィルター（紫外線、赤外線カットフ
ィルター）、バンドパスフィルター等が挙げられる。以
下の説明では、光学部品はダイクロイックミラーである
と例示して説明する。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。図１は、本発明の好ましい実施形態としての光学薄
膜形成装置１の構成例を示す平面図である。光学薄膜形
成装置１（光学部品の製造装置）は、高分子フィルム等
の支持体上に光学薄膜を成膜するための光学部品の製造
装置である。この光学部品の一例としては、例えばプロ
ジェクションテレビに用いられるダイクロイックミラー
の他、ＵＶ−ＩＲフィルター（紫外線、赤外線カットフ
ィルター）、バンドパスフィルター等が挙げられる。以
下の説明では、光学部品はダイクロイックミラーである
と例示して説明する。
【００１４】光学薄膜形成装置１は、例えば送りロール
４（成膜手段）、巻き取りロール６（成膜手段）、ガイ
ドロール５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ（成膜手
段）、プラズマ電極８（成膜手段）、蒸発源７ａ，７ｂ
（成膜手段）及び光学モニタ１０（測定手段）を有し、
ガス導入バルブ９及び真空排気装置２が設けられてい
る。また、光学薄膜形成装置１は、好ましくは除去手段
２７をも有する。光学薄膜形成装置１内には、例えば支
持体３ａを送りロール４からガイドロール５ａ，５ｂ，
５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆを経由して巻き取りロール６に
定速で走行させる走行装置（成膜手段）を配設する。プ
ラズマ電極８は、支持体３ａの脱ガス等の前処理装置と
して、ガイドロール５ａ及び５ｂ間に配置された支持体
３ａに対向して配設されている。蒸発源７ａ，７ｂは、
例えばスパッタリング装置を用いており、光学薄膜原材
料としてＳｉ及びＮｂ等のターゲットをそれぞれガイド
ロール５ｄに対向して２個配設している。
４（成膜手段）、巻き取りロール６（成膜手段）、ガイ
ドロール５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ（成膜手
段）、プラズマ電極８（成膜手段）、蒸発源７ａ，７ｂ
（成膜手段）及び光学モニタ１０（測定手段）を有し、
ガス導入バルブ９及び真空排気装置２が設けられてい
る。また、光学薄膜形成装置１は、好ましくは除去手段
２７をも有する。光学薄膜形成装置１内には、例えば支
持体３ａを送りロール４からガイドロール５ａ，５ｂ，
５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆを経由して巻き取りロール６に
定速で走行させる走行装置（成膜手段）を配設する。プ
ラズマ電極８は、支持体３ａの脱ガス等の前処理装置と
して、ガイドロール５ａ及び５ｂ間に配置された支持体
３ａに対向して配設されている。蒸発源７ａ，７ｂは、
例えばスパッタリング装置を用いており、光学薄膜原材
料としてＳｉ及びＮｂ等のターゲットをそれぞれガイド
ロール５ｄに対向して２個配設している。
【００１５】上述のように光学薄膜形成装置１には、ガ
ス導入バルブ９が設られており、スパッタにおいては、
アルゴン（Ａｒ）ガス及び酸素ガス等の反応ガスの導入
流量を調節できるようになっている。ガイドロール５ｄ
は、図示を省略するが、成膜時に支持体３ａの温度上昇
を防止するために冷却される構造になっている。
ス導入バルブ９が設られており、スパッタにおいては、
アルゴン（Ａｒ）ガス及び酸素ガス等の反応ガスの導入
流量を調節できるようになっている。ガイドロール５ｄ
は、図示を省略するが、成膜時に支持体３ａの温度上昇
を防止するために冷却される構造になっている。
【００１６】この光学モニタ１０は、例えば支持体３ａ
の表面に光学薄膜が成膜された光学部品の光学特性を測
定する。測定する光学特性としては、例えば光学部品の
光の透過率、好ましくは平均透過率である。この光学モ
ニタ１０が光学薄膜形成装置１に設けられていること
で、光学薄膜形成装置１は、複数の光学薄膜が成膜され
た多層膜が形成された光学部品の光の平均透過率を正確
に測定することができる。
の表面に光学薄膜が成膜された光学部品の光学特性を測
定する。測定する光学特性としては、例えば光学部品の
光の透過率、好ましくは平均透過率である。この光学モ
ニタ１０が光学薄膜形成装置１に設けられていること
で、光学薄膜形成装置１は、複数の光学薄膜が成膜され
た多層膜が形成された光学部品の光の平均透過率を正確
に測定することができる。
【００１７】除去手段２７は、制御部２５の制御によっ
て、例えば光学モニタ１０によって測定された光の平均
透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に
成膜された余分な膜を除去するためのものである。この
ような構成とすることで、光学薄膜形成装置１は、上述
の余分な膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することが
できる。これにより、光学薄膜形成装置１は、好適な光
学特性を発揮する光学部品を製造することができる。
て、例えば光学モニタ１０によって測定された光の平均
透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間に
成膜された余分な膜を除去するためのものである。この
ような構成とすることで、光学薄膜形成装置１は、上述
の余分な膜を除去し、この膜の膜厚を微調整することが
できる。これにより、光学薄膜形成装置１は、好適な光
学特性を発揮する光学部品を製造することができる。
【００１８】図２は、図１の光学モニタ１０の構成例を
示すブロック図である。光学モニタ１０は、例えば光源
１０ｃ、光学ヘッド１０ｇ及び分光器１０ｄを有し、好
ましくは切り替え器１０ｆが設けられている。これら
は、例えば分光器１０ｄと制御部２５とを接続する信号
線を除いて、それぞれ光ファイバー等の光通信線によっ
て接続されている。光学ヘッド１０ｇは、発光部１２及
び受光部１３を有する。発光部１２は、波長が例えば４
５０〜７００ｎｍの連続発光が可能な光源（波長が例え
ば４５０〜７００ｎｍの連続スペクトルを持つ光源）で
あり、例えばＬＥＤ（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇ Ｄ
ｉｏｄｅ）である。受光部１３は、波長が例えば４５０
〜７００ｎｍの連続スペクトルが検出可能な分光部であ
り、例えばフォトダイオードである。発光部１２及び受
光部１３は、例えば走行する支持体３ａを挟んで互いに
対面する位置に設けられている。発光部１２は例えば光
源１０ｃに接続されており、光源１０ｃは、原則として
一定の光量の光を供給する。また、発光部１２及び光源
１０ｃの間には、好ましくは例えば切替器１０ｆから伸
びる光通信線１０ｂが接続されている。光学ヘッド１０
ｇは、所定の光量の光を発光部１２に供給するためのも
のである。
示すブロック図である。光学モニタ１０は、例えば光源
１０ｃ、光学ヘッド１０ｇ及び分光器１０ｄを有し、好
ましくは切り替え器１０ｆが設けられている。これら
は、例えば分光器１０ｄと制御部２５とを接続する信号
線を除いて、それぞれ光ファイバー等の光通信線によっ
て接続されている。光学ヘッド１０ｇは、発光部１２及
び受光部１３を有する。発光部１２は、波長が例えば４
５０〜７００ｎｍの連続発光が可能な光源（波長が例え
ば４５０〜７００ｎｍの連続スペクトルを持つ光源）で
あり、例えばＬＥＤ（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇ Ｄ
ｉｏｄｅ）である。受光部１３は、波長が例えば４５０
〜７００ｎｍの連続スペクトルが検出可能な分光部であ
り、例えばフォトダイオードである。発光部１２及び受
光部１３は、例えば走行する支持体３ａを挟んで互いに
対面する位置に設けられている。発光部１２は例えば光
源１０ｃに接続されており、光源１０ｃは、原則として
一定の光量の光を供給する。また、発光部１２及び光源
１０ｃの間には、好ましくは例えば切替器１０ｆから伸
びる光通信線１０ｂが接続されている。光学ヘッド１０
ｇは、所定の光量の光を発光部１２に供給するためのも
のである。
【００１９】受光部１３は、例えば分光器１０ｄと接続
されており、好ましくは分光器１０ｄとの間に、光通信
線１０ｂが接続された切替器１０ｆが設けられている。
受光部１３は、発光部１２から発光された光の内支持体
３ａを透過した分の光を受光するためのものである。切
替器１０ｆは、光源１０ｃの光量のばらつきを光通信線
１０ｂを経由して検知している。従って、分光器１０ｄ
は、例えば光源１０ｃの光量がばらついたとしても、増
減した光量を考慮して発光部１２の発光量に対する受光
部１３の受光量の割合を検知することができる。
されており、好ましくは分光器１０ｄとの間に、光通信
線１０ｂが接続された切替器１０ｆが設けられている。
受光部１３は、発光部１２から発光された光の内支持体
３ａを透過した分の光を受光するためのものである。切
替器１０ｆは、光源１０ｃの光量のばらつきを光通信線
１０ｂを経由して検知している。従って、分光器１０ｄ
は、例えば光源１０ｃの光量がばらついたとしても、増
減した光量を考慮して発光部１２の発光量に対する受光
部１３の受光量の割合を検知することができる。
【００２０】分光器１０ｄは、制御部２５とも接続され
ており、制御部２５の制御を受けている。分光器１０ｄ
は、発光部１２から発光された光の内支持体３ａを透過
した光の割合（透過率）を演算している。分光器１０ｄ
は、切替器１０ｆの機能によって正確に透過率を演算す
ることができる。演算された透過率は、例えば制御部２
５に引き渡される。
ており、制御部２５の制御を受けている。分光器１０ｄ
は、発光部１２から発光された光の内支持体３ａを透過
した光の割合（透過率）を演算している。分光器１０ｄ
は、切替器１０ｆの機能によって正確に透過率を演算す
ることができる。演算された透過率は、例えば制御部２
５に引き渡される。
【００２１】制御部２５では、引き渡されたその透過率
（平均透過率でも良い）に基づいて光学部品に成膜され
る多層膜の一部の膜厚を制御する。制御部２５は、例え
ば光学部品に成膜される多層膜の内、支持体から最も離
れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のう
ち屈折率のより高い膜（図３におけるチューニング層３
２）の膜厚を制御する。このチューニング層３２は、例
えば後述する異なる屈折率の膜同士でなる多層膜におけ
る屈折率の高い膜であるので、光学部品の光学特性に影
響が大きい。このため、制御部２５がこの膜の膜厚を制
御することで、光学部品は好適な光学特性を発揮するよ
うになる。
（平均透過率でも良い）に基づいて光学部品に成膜され
る多層膜の一部の膜厚を制御する。制御部２５は、例え
ば光学部品に成膜される多層膜の内、支持体から最も離
れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のう
ち屈折率のより高い膜（図３におけるチューニング層３
２）の膜厚を制御する。このチューニング層３２は、例
えば後述する異なる屈折率の膜同士でなる多層膜におけ
る屈折率の高い膜であるので、光学部品の光学特性に影
響が大きい。このため、制御部２５がこの膜の膜厚を制
御することで、光学部品は好適な光学特性を発揮するよ
うになる。
【００２２】図３は、図１の光学薄膜形成装置１によっ
て形成される光学部品の断面の一例を示す断面図であ
る。光学部品は、例えば下層から支持体３ａ、ハードコ
ート層３ｂ、低屈折層３ｃ’及び多層膜３０で構成され
ている。多層膜３０は、低屈折層３ｃ及び高屈折層３ｄ
が繰り返した構成でなる。多層膜３０を構成する各層
は、それぞれ１層ずつ成膜される。従って、光学部品
は、ハードコート層３ｂ付き支持体３ａに低屈折率層３
ｃ’を介し、低屈折層３ｃと高屈折層３ｄとを交互に合
計例えば２１層成膜してなる。
て形成される光学部品の断面の一例を示す断面図であ
る。光学部品は、例えば下層から支持体３ａ、ハードコ
ート層３ｂ、低屈折層３ｃ’及び多層膜３０で構成され
ている。多層膜３０は、低屈折層３ｃ及び高屈折層３ｄ
が繰り返した構成でなる。多層膜３０を構成する各層
は、それぞれ１層ずつ成膜される。従って、光学部品
は、ハードコート層３ｂ付き支持体３ａに低屈折率層３
ｃ’を介し、低屈折層３ｃと高屈折層３ｄとを交互に合
計例えば２１層成膜してなる。
【００２３】以下では、多層膜３０におけるチューニン
グ層３２の位置を上述のように決定する検証を行う。図
４〜図１１は、それぞれ波長に対する透過率分布の一例
を示す特性図であり、横軸が波長［ｎｍ］を示してお
り、縦軸が透過率［％］を示している。また、図４〜図
１１において光学特性を示す各線の右に記載された数値
は、チューニング膜３２の膜厚を示している。
グ層３２の位置を上述のように決定する検証を行う。図
４〜図１１は、それぞれ波長に対する透過率分布の一例
を示す特性図であり、横軸が波長［ｎｍ］を示してお
り、縦軸が透過率［％］を示している。また、図４〜図
１１において光学特性を示す各線の右に記載された数値
は、チューニング膜３２の膜厚を示している。
【００２４】図４（Ａ）は、支持体３ａに対して垂直方
向から入射した光についての光学特性に関するものであ
り、光学モニタ１０での出力結果を示す光学特性の一例
である。図４（Ｂ）は、支持体３ａに対して垂直方向か
ら４５゜傾斜して入射した光についての光学特性に関す
るものであり、作成された光学部品（この説明において
は例えばダイクロイックミラー）の光学特性の一例であ
る。尚、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）〜図１１（Ａ）及び
図１１（Ｂ）では、それぞれ図４（Ａ）及び図４（Ｂ）
と、上述の条件については同様である。
向から入射した光についての光学特性に関するものであ
り、光学モニタ１０での出力結果を示す光学特性の一例
である。図４（Ｂ）は、支持体３ａに対して垂直方向か
ら４５゜傾斜して入射した光についての光学特性に関す
るものであり、作成された光学部品（この説明において
は例えばダイクロイックミラー）の光学特性の一例であ
る。尚、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）〜図１１（Ａ）及び
図１１（Ｂ）では、それぞれ図４（Ａ）及び図４（Ｂ）
と、上述の条件については同様である。
【００２５】図４〜図７は、それぞれ上述の説明のよう
に多層膜３０の下層から、低屈折率層３ｃ，高屈折率層
３ｄ，低屈折率層３ｃ，・・・，高屈折率層３ｄ，低屈
折率層３ｃの順で成膜される場合の波長に対する透過率
特性を示している。チューニング層３２は、図４では第
１８層、図５では第１９層、図６では第２０層、図７で
は第２１層としている。
に多層膜３０の下層から、低屈折率層３ｃ，高屈折率層
３ｄ，低屈折率層３ｃ，・・・，高屈折率層３ｄ，低屈
折率層３ｃの順で成膜される場合の波長に対する透過率
特性を示している。チューニング層３２は、図４では第
１８層、図５では第１９層、図６では第２０層、図７で
は第２１層としている。
【００２６】これらの光学特性を参照すると、ダイクロ
イックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈
折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化するこ
とがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果
（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２０層目の高屈折
率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）
において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これ
に対して、第１８層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚
の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
イックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈
折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化するこ
とがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果
（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２０層目の高屈折
率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）
において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これ
に対して、第１８層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚
の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
【００２７】図８〜図１１は、それぞれ上述の説明とは
異なり多層膜３０の下層から、高屈折率層３ｄ，低屈折
率層３ｃ，高屈折率層３ｄ，・・・，低屈折率層３ｃ，
高屈折率層３ｄの順で成膜されるとしてシミュレーショ
ンを行った場合の波長に対する透過率特性を示してい
る。チューニング層３２は、図８では第１８層、図９で
は第１９層、図１０では第２０層、図２０では第２１層
としている。
異なり多層膜３０の下層から、高屈折率層３ｄ，低屈折
率層３ｃ，高屈折率層３ｄ，・・・，低屈折率層３ｃ，
高屈折率層３ｄの順で成膜されるとしてシミュレーショ
ンを行った場合の波長に対する透過率特性を示してい
る。チューニング層３２は、図８では第１８層、図９で
は第１９層、図１０では第２０層、図２０では第２１層
としている。
【００２８】これらの光学特性を参照すると、ダイクロ
イックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈
折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化するこ
とがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果
（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２１層目の高屈折
率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）
において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これ
に対して、第１９層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚
の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
イックミラーの光学特性から低屈折率層３ｃよりも高屈
折率層３ｄの方が膜厚変化により光学特性が変化するこ
とがわかる。さらには、光学モニタ１０での出力結果
（図４（Ａ）〜図７（Ａ））から、第２１層目の高屈折
率層３ｄでは、透過帯域の波長（４５０〜５５０ｎｍ）
において理想膜厚の時に透過率のピーク値が来る。これ
に対して、第１９層目の高屈折率層３ｄでは、理想膜厚
の時に透過率がピーク値とはならないことがわかる。
【００２９】これらのシミュレーションからもわかるよ
うに、チューニング層３２は、光学部品に成膜される多
層膜３０の内、支持体３ａから最も離れた最表面に近
く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより
高い膜３ｄとすることが望ましい。
うに、チューニング層３２は、光学部品に成膜される多
層膜３０の内、支持体３ａから最も離れた最表面に近
く、交互に成膜される前記複数の膜のうち屈折率のより
高い膜３ｄとすることが望ましい。
【００３０】光学部品の製造装置は以上のような構成で
あり、次に図１〜図３、図１２及び図１３を参照しなが
らその光学部品の製造方法の一例について説明する。ま
ず、光学薄膜形成装置１内では、例えば厚さ１８８μm
のポリエチレンナフタレートを材質とする支持体３ａ
を、送りロール４にセットして送りロール４からガイド
ロール５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆを経由して
巻き取りロール６に巻き取るようにする。
あり、次に図１〜図３、図１２及び図１３を参照しなが
らその光学部品の製造方法の一例について説明する。ま
ず、光学薄膜形成装置１内では、例えば厚さ１８８μm
のポリエチレンナフタレートを材質とする支持体３ａ
を、送りロール４にセットして送りロール４からガイド
ロール５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆを経由して
巻き取りロール６に巻き取るようにする。
【００３１】次に、光学薄膜形成装置１は、Ａｒガス及
び酸素ガスの流量を調節しつつ、Ｓｉのターゲットの蒸
発源７ａをスパッタさせてＳｉＯx （ｘは、例えば２以
下の正数）を支持体３ａに形成する。次に、光学薄膜形
成装置１は、Ｎｂのターゲットの蒸発源７ｂ、Ｓｉのタ
ーゲットの蒸発源７ａとを交互にスパッタさせて、Ａｒ
ガス及び酸素ガスの流量を調節しつつ、光学モニタ１０
により所定の透過率特性を満たすように膜厚を調整しつ
つ、予め光学設計された薄膜構成の光学薄膜のＳｉＯ2
とＮｂ2 Ｏ5 を例えば１層づつ例えば２１層形成する
（ＳｉＯx はＳｉＯ2 に含める）。
び酸素ガスの流量を調節しつつ、Ｓｉのターゲットの蒸
発源７ａをスパッタさせてＳｉＯx （ｘは、例えば２以
下の正数）を支持体３ａに形成する。次に、光学薄膜形
成装置１は、Ｎｂのターゲットの蒸発源７ｂ、Ｓｉのタ
ーゲットの蒸発源７ａとを交互にスパッタさせて、Ａｒ
ガス及び酸素ガスの流量を調節しつつ、光学モニタ１０
により所定の透過率特性を満たすように膜厚を調整しつ
つ、予め光学設計された薄膜構成の光学薄膜のＳｉＯ2
とＮｂ2 Ｏ5 を例えば１層づつ例えば２１層形成する
（ＳｉＯx はＳｉＯ2 に含める）。
【００３２】また、光学薄膜成膜のときに、スパッタの
Ａｒガス及び酸素ガスの流量をガス導入バルブ９により
調節して圧力を変化させ、光学薄膜の応力が小さくなる
ような条件に設定する。例えば通常のスパッタ条件は圧
力が０．３Ｐａ程度であるが、これを１．６Ｐａ程度に
することにより、ＳｉＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 の応力のバラン
スを調整しつつ光学薄膜全体の内部応力を小さくし、フ
ィルム状の支持体３ａのカールを低減することができ
る。
Ａｒガス及び酸素ガスの流量をガス導入バルブ９により
調節して圧力を変化させ、光学薄膜の応力が小さくなる
ような条件に設定する。例えば通常のスパッタ条件は圧
力が０．３Ｐａ程度であるが、これを１．６Ｐａ程度に
することにより、ＳｉＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 の応力のバラン
スを調整しつつ光学薄膜全体の内部応力を小さくし、フ
ィルム状の支持体３ａのカールを低減することができ
る。
【００３３】支持体３ａは、予め光学薄膜形成面にはハ
ードコート層を形成し、また、光学薄膜形成面の反対面
に接着剤層と接着剤層上に保護フィルムを形成したもの
を使用する。例えばポリエチレンナフタレートの支持体
３ａは、耐熱性があり熱変形が小さいので成膜時に光学
薄膜を均一に成膜することができる。例えば、ポリエチ
レンナフタレートのガラス転移点は１１０℃であり、ポ
リエチレンテレフタレートの６９℃と比べて耐熱性に優
れるものと推察される。
ードコート層を形成し、また、光学薄膜形成面の反対面
に接着剤層と接着剤層上に保護フィルムを形成したもの
を使用する。例えばポリエチレンナフタレートの支持体
３ａは、耐熱性があり熱変形が小さいので成膜時に光学
薄膜を均一に成膜することができる。例えば、ポリエチ
レンナフタレートのガラス転移点は１１０℃であり、ポ
リエチレンテレフタレートの６９℃と比べて耐熱性に優
れるものと推察される。
【００３４】次に、透明部材として、例えば幅５ｃｍ、
長さ８．７５ｃｍ、厚さ１ｍｍの板状ガラスを用意す
る。上記の光学薄膜を形成した支持体３ａは、例えば接
着剤を介して上記透明部材にラミネート接合され、板状
ガラスの外形形状に裁断される。これにより、例えばプ
ロジェクションテレビ用のダイクロイックミラーに適用
した光学部品が完成する。尚、透明部材は予め接着剤層
と接着剤層上に保護フィルムを形成したものを使用して
も良い。
長さ８．７５ｃｍ、厚さ１ｍｍの板状ガラスを用意す
る。上記の光学薄膜を形成した支持体３ａは、例えば接
着剤を介して上記透明部材にラミネート接合され、板状
ガラスの外形形状に裁断される。これにより、例えばプ
ロジェクションテレビ用のダイクロイックミラーに適用
した光学部品が完成する。尚、透明部材は予め接着剤層
と接着剤層上に保護フィルムを形成したものを使用して
も良い。
【００３５】このように、高品質の光学部品（光学フィ
ルタ）を安定的に製造するには、光学モニタ１０が必須
である。図１２は、光学モニタ１０を使用し、膜厚を少
しずつ厚くしたときの平均透過率のシミュレーションの
一例を示す図であり、図１３は、光学モニタ１０の有無
による最終透過率分布の違いの一例を示す図である。図
１２は、チューニング層３２の膜厚が一例として２０μ
ｍ前後変化した場合の結果であり、垂直に光が入射した
場合での計算となっている。チューニング層３２は、例
えば９４．７６ｎｍが理想膜厚であり、その特性は７
４．７６ｎｍから膜厚を徐々に増やすと平均透過率は上
昇して９４．７６ｎｍ程度においてピークを迎える。ま
た、その特性は、さらにチューニング層３２の膜厚を増
やすと平均透過率が減少に転じることがわかる。また、
図１３では、光学モニタ１０を使用することにより、透
過帯域波長（４５０〜５５０ｎｍ）の平均透過率が７％
前後も上昇し、高品質の光学部品を作成することができ
る。
ルタ）を安定的に製造するには、光学モニタ１０が必須
である。図１２は、光学モニタ１０を使用し、膜厚を少
しずつ厚くしたときの平均透過率のシミュレーションの
一例を示す図であり、図１３は、光学モニタ１０の有無
による最終透過率分布の違いの一例を示す図である。図
１２は、チューニング層３２の膜厚が一例として２０μ
ｍ前後変化した場合の結果であり、垂直に光が入射した
場合での計算となっている。チューニング層３２は、例
えば９４．７６ｎｍが理想膜厚であり、その特性は７
４．７６ｎｍから膜厚を徐々に増やすと平均透過率は上
昇して９４．７６ｎｍ程度においてピークを迎える。ま
た、その特性は、さらにチューニング層３２の膜厚を増
やすと平均透過率が減少に転じることがわかる。また、
図１３では、光学モニタ１０を使用することにより、透
過帯域波長（４５０〜５５０ｎｍ）の平均透過率が７％
前後も上昇し、高品質の光学部品を作成することができ
る。
【００３６】本発明の実施形態によれば、好適な光学特
性を発揮する光学部品を容易に安定して製造することが
できる。
性を発揮する光学部品を容易に安定して製造することが
できる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
好適な光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光
学部品の製造装置及び製造方法を提供することができ
る。
好適な光学特性を発揮し、容易に安定して製造できる光
学部品の製造装置及び製造方法を提供することができ
る。
【図１】本発明の好ましい実施形態としての光学薄膜形
成装置の構成例を示す平面図。
成装置の構成例を示す平面図。
【図２】図１の光学モニタの構成例を示すブロック図。
【図３】図１の光学薄膜形成装置によって形成される光
学部品の断面の一例を示す断面図。
学部品の断面の一例を示す断面図。
【図４】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図５】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図６】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図７】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図８】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図９】波長に対する透過率分布の一例を示す特性図。
【図１０】波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
図。
【図１１】波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
図。
【図１２】光学モニタを使用し、膜厚を少しずつ厚くし
たときの平均透過率の実際の変化例を示す図。
たときの平均透過率の実際の変化例を示す図。
【図１３】光学モニタの有無による最終透過率分布の違
いの一例を示す図。
いの一例を示す図。
【図１４】従来の光学薄膜形成方法によって形成された
光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
【図１５】従来の光学薄膜形成方法によって形成された
光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
光学部品の波長に対する透過率分布の一例を示す特性
図。
１・・・光学薄膜形成装置（光学部品の製造装置）、２
５・・・制御部（制御手段）、２７・・・除去手段
５・・・制御部（制御手段）、２７・・・除去手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 AA09 CA12 CA13 2K009 AA02 AA09 AA15 CC34 DD03 4F100 AR00A AR00B AT00C BA02 BA03 BA10A BA10B BA10C BA26 EJ612 EK11 EK15 GB90 JN00A JN00B
Claims (8)
- 【請求項１】 異なる光学特性の膜同士が交互に成膜さ
れる多層膜を支持体に形成するための光学部品の製造装
置であって、 前記支持体に前記多層膜を成膜するための成膜手段と、 前記支持体に前記多層膜が成膜された前記光学部品の光
学特性を測定するための測定手段と、 測定された前記光学部品の光学特性に基づいて、前記成
膜手段によって成膜される前記多層膜の一部の膜厚を制
御する制御手段とを備えることを特徴とする光学部品の
製造装置。 - 【請求項２】 前記測定手段は、前記光学部品の透過率
を測定しており、 前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過率が減
少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段
による成膜を終了させる請求項１に記載の光学部品の製
造装置。 - 【請求項３】 測定された前記光学部品の透過率の増減
がなくなってから減少に転じるまでの間に成膜された膜
を除去するための除去手段を有する請求項２に記載の光
学部品の製造装置。 - 【請求項４】 前記制御手段は、前記支持体から最も離
れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のう
ち屈折率のより高い膜の膜厚を制御する請求項１に記載
の光学部品の製造装置。 - 【請求項５】 異なる光学特性の膜同士が交互に成膜さ
れる多層膜を支持体に形成するための光学部品の製造方
法であって、 成膜手段によって前記支持体に前記多層膜が成膜された
前記光学部品の光学特性を測定手段によって測定する測
定ステップと、 測定された前記光学部品の光学特性に基づいて制御手段
によって成膜手段を制御し、成膜される前記多層膜の一
部の膜厚を制御する制御ステップとを有することを特徴
とする光学部品の製造方法。 - 【請求項６】 前記測定手段は、前記光学部品の透過率
を測定しており、 前記制御手段は、測定された前記光学部品の透過率が減
少に転じると、前記多層膜の一部における前記成膜手段
による成膜を終了させる請求項５に記載の光学部品の製
造方法。 - 【請求項７】 前記測定手段によって測定された光の平
均透過率の増減がなくなってから減少に転じるまでの間
に成膜された膜を除去手段によって除去する除去ステッ
プを有する請求項６に記載の光学部品の製造方法。 - 【請求項８】 前記制御手段は、前記支持体から最も離
れた最表面に近く、交互に成膜される前記複数の膜のう
ち屈折率のより高い膜の膜厚を制御する請求項５に記載
の光学部品の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29440699A JP4345158B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 光学部品の製造装置及び製造方法 |
| EP00122454A EP1094341A3 (en) | 1999-10-15 | 2000-10-13 | Apparatus and method for producing optical component |
| US09/688,541 US6733821B1 (en) | 1999-10-15 | 2000-10-16 | Method for forming an optical component |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29440699A JP4345158B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 光学部品の製造装置及び製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001116902A true JP2001116902A (ja) | 2001-04-27 |
| JP4345158B2 JP4345158B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=17807342
Family Applications (1)
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