JP2001108375A - Apparatus for vacuum heat treatment - Google Patents

Apparatus for vacuum heat treatment

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JP2001108375A
JP2001108375A JP28655499A JP28655499A JP2001108375A JP 2001108375 A JP2001108375 A JP 2001108375A JP 28655499 A JP28655499 A JP 28655499A JP 28655499 A JP28655499 A JP 28655499A JP 2001108375 A JP2001108375 A JP 2001108375A
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treatment chamber
vacuum
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for vacuum heat treatment wherein a heat treatment chamber can be closed hermetically and a heating section in the heat treatment chamber can be closed thermally and wherein the heat treatment chamber can be exhausted to be of high vacuum without necessitating a vacuum pump having a large exhausting capacity and, besides, heat treatment can be executed with high accuracy in temperature. SOLUTION: On the occasion of closing hermetically a communication opening 16 of a heat treatment chamber 11 by an elevating cap 16, an O ring 19 is interposed between an annular bottom part 15 of the heat treatment chamber 11 and an intermediate tray 63, while an O ring 79 is interposed between the intermediate tray 63 and the elevating cap 76. Besides, the annular bottom part 15 and the elevating cap 76 have water-cooled structures and, just above the communication opening 16, an opening 26 of a heating section 25 of the heat treatment chamber 11 is closed thermally by a support part reflector 74 of a support 13 inserted together with an object G of treatment and by movable reflectors 34 and 34' coming into external contact with the above reflector, so as to prevent a rise in the temperature of the O rings 19 and 79.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は被処理物を真空下に
熱処理するための真空熱処理炉に関するものであり、更
に詳しくは、熱処理室と、その下側に接合された搬送室
または冷却室からなり、搬送されて搬送室または冷却室
にある被処理物を熱処理室へ挿入し、真空下に加熱して
熱処理する真空熱処理装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum heat treatment furnace for heat-treating an object to be processed under vacuum, and more particularly, to a heat treatment room and a transfer room or a cooling room joined thereunder. The present invention relates to a vacuum heat treatment apparatus in which an object to be processed, which is conveyed and is in a transfer chamber or a cooling chamber, is inserted into a heat treatment chamber and heated under vacuum to perform heat treatment.

【０００２】[0002]

【従来の技術】金属の焼入れ、ろう付けには熱処理室と
冷却室とを並べた真空熱処理装置が使用され、タンタル
電解コンデンサなどの焼結製品の製造には熱処理室とし
ての脱ワックス室と焼結室とがそれぞれの下側の搬送室
で連結された真空熱処理装置が使用されて、不活性ガス
の存在下または不存在下に、被処理物が真空熱処理され
ている。2. Description of the Related Art A vacuum heat treatment apparatus having a heat treatment room and a cooling room arranged side by side is used for quenching and brazing metal, and a dewaxing room as a heat treatment room and a sintering room are used for manufacturing sintered products such as tantalum electrolytic capacitors. An object to be processed is subjected to vacuum heat treatment in the presence or absence of an inert gas using a vacuum heat treatment apparatus in which a connection chamber is connected to each lower transfer chamber.

【０００３】（従来例１）図９は特開平９ー５３８８７
号公報に開示されている真空熱処理装置１００の予熱室
１１１と搬送室１４１との断面図である。熱処理室とし
ての予熱室１１１はその円環状底板１１５によって搬送
室１４１の天井部の開口１４４の周囲に固定されてお
り、数種の真空ポンプからなる真空排気系１２０が接続
されている。予熱室１１１内には円筒状リフレクタ１２
４によって被処理物Ｈを収容する加熱区画１２５が形成
されており、加熱区画１２５内には加熱のための電熱ヒ
ータ１２２が取り付けられている。また、円筒状リフレ
クタ１２４の下端部は円環状底板１１５の内周に接する
ように小径として予熱室１１１への挿入開口１１６とさ
れ、予熱室１１１の円環状底板１１５には冷却水通路１
１７が設けられており、円環状底板１１５の下面にはＯ
−リング１１９が嵌め込まれている。(Conventional Example 1) FIG. 9 is Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-53887.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a preheating chamber 111 and a transfer chamber 141 of a vacuum heat treatment apparatus 100 disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. H11-15095. A preheating chamber 111 as a heat treatment chamber is fixed around an opening 144 in the ceiling of the transfer chamber 141 by an annular bottom plate 115, and is connected to a vacuum evacuation system 120 including several kinds of vacuum pumps. In the preheating chamber 111, a cylindrical reflector 12 is provided.
4 forms a heating section 125 for accommodating the processing object H, and an electric heater 122 for heating is attached in the heating section 125. The lower end of the cylindrical reflector 124 has a small-diameter insertion opening 116 into the preheating chamber 111 so as to be in contact with the inner periphery of the annular bottom plate 115. The cooling water passage 1 is formed in the annular bottom plate 115 of the preheating chamber 111.
17 is provided on the lower surface of the annular bottom plate 115.
The ring 119 is fitted.

【０００４】搬送室１４１内をチエインコンベア１５３
によって搬送される搬送台１６２に積載された被処理物
Ｈは予熱室１１１の直下に停止される。搬送台１６２は
ほぼ正方形の板状で中央部に円形の開口１６２ｈが設け
られている。そして、開口１６２ｈに面する内周縁部の
座ぐりに、以下一点鎖線で示すように、中間トレイ１６
３が載置され、中間トレイ１６３の中央部の開口１６３
ｈに面する内周縁部の座ぐりにトレイ１６４が重ねて載
置され、そのトレイ１６４に被処理物Ｈが積載されてく
る。[0006] A chain conveyor 153 is provided in the transfer chamber 141.
The workpieces H loaded on the transport table 162 transported by the above are stopped immediately below the preheating chamber 111. The transfer table 162 has a substantially square plate shape and has a circular opening 162h at the center. Then, as shown by a dashed line below, the intermediate tray 16 has a counterbore at the inner peripheral edge portion facing the opening 162h.
3 is placed, and an opening 163 at the center of the intermediate tray 163 is placed.
The tray 164 is placed on the counterbore at the inner peripheral edge facing h, and the workpiece H is loaded on the tray 164.

【０００５】搬送室１４１の下側には昇降装置としての
エアシリンダ１８１が設置されており、そのロッド１８
２が軸シール１４２を介して搬送室１４１内へ挿通され
ており、その先端に昇降蓋１７６が取り付けられてい
る。昇降蓋１７６は搬送台１６２の開口１６２ｈを挿通
可能な外径を有し、昇降蓋１７６の上面には被処理物Ｈ
を載置するトレイ１６４を下方から支持する支柱１７３
が中間トレイ１６３の開口１６３ｈを挿通可能に立設さ
れている。また、昇降蓋１７６の上面と支柱１７３の中
間位置には昇降蓋１７６と平行に支柱部リフレクタ１７
４が取り付けられており、昇降蓋１７６の上面の外周縁
部にはＯ−リング１７９が嵌め込まれている。[0005] An air cylinder 181 is installed below the transfer chamber 141 as an elevating device.
2 is inserted into the transfer chamber 141 via the shaft seal 142, and an elevating lid 176 is attached to the end thereof. The elevating lid 176 has an outer diameter that allows the opening 162h of the transfer table 162 to pass therethrough.
173 for supporting the tray 164 on which the table is placed from below
Are provided upright so that the opening 163h of the intermediate tray 163 can be inserted therethrough. In addition, at the middle position between the upper surface of the lifting lid 176 and the column 173, the column reflector 17 is disposed in parallel with the lifting lid 176.
4 is attached, and an O-ring 179 is fitted on the outer peripheral edge of the upper surface of the elevating lid 176.

【０００６】そして、エアシリンダ１８１によって昇降
蓋１７６が上昇されると、支柱１７３は中間トレイ１６
３の開口１６３ｈ内を挿通して上昇し、昇降蓋１７６は
搬送台１６２の開口１６２ｈ内を挿通した後、直ちに中
間トレイ１６３を伴って上昇し、被処理物Ｈは加熱区画
１１１内へ挿入されるが、図９はその挿入された状態を
示す。すなわち、昇降蓋１７６は中間トレイ１６３と共
に予熱室１１１の挿入開口１１６を密閉する。この時、
予熱室１１１の円環状底板１１５と中間トレイ１６３と
の間はＯ−リング１１９によって、また、中間トレイ１
６３と昇降蓋１７６との間はＯ−リング１７９によって
気密にシールされる。When the lifting lid 176 is raised by the air cylinder 181, the column 173 is moved to the intermediate tray 16.
3 rises through the inside of the opening 163h, and the elevating lid 176 immediately rises with the intermediate tray 163 after passing through the opening 162h of the carrier 162, and the workpiece H is inserted into the heating section 111. FIG. 9 shows the inserted state. That is, the lifting lid 176 seals the insertion opening 116 of the preheating chamber 111 together with the intermediate tray 163. At this time,
The O-ring 119 connects between the annular bottom plate 115 of the preheating chamber 111 and the intermediate tray 163, and the intermediate tray 1
An O-ring 179 is hermetically sealed between the 63 and the elevating lid 176.

【０００７】（従来例２）図１０は特開平９ー１２６６
５９号公報に開示されている真空熱処理装置２００の脱
バインダ室２１１と搬送室２４１との断面図である。熱
処理室としての脱バインダ室２１１は鋼板製の鏡蓋２１
２と側壁２１３とによって形成されて円環状底板２１５
と一体化されており、鏡蓋２１２と側壁２１３の外周面
は断熱材２１７で覆われている。そして円環状底板２１
５は搬送室２４１の天井部の開口２４４の周囲に取り付
けられている。また、側壁２１３には排気管２１８が設
けられ、脱離されたバインダを捕捉するためのトラップ
を備えた真空排気系２２０が接続されている。脱バイン
ダ室２１１の内部には、円環状底板２１５の挿入開口２
１６に整合させて、下方に開口２２６を有する円筒状リ
フレクタ２２４がブラケット２２１に固定されて加熱区
画２２５が形成されており、加熱区画２２５内には図示
しない導入端子を経由して電熱ヒータ２２２が架張され
ている。なお、円環状底板２１５の下面にはＯ−リング
２１９が嵌め込まれている。(Conventional Example 2) FIG.
It is sectional drawing of the binder removal chamber 211 and the transfer chamber 241 of the vacuum heat treatment apparatus 200 disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 59. The binder removal chamber 211 as a heat treatment chamber is made of a steel plate lid 21.
2 and an annular bottom plate 215 formed by the side wall 213
The outer peripheral surfaces of the mirror lid 212 and the side wall 213 are covered with a heat insulating material 217. And the annular bottom plate 21
5 is mounted around the opening 244 in the ceiling of the transfer chamber 241. An exhaust pipe 218 is provided on the side wall 213, and is connected to a vacuum exhaust system 220 having a trap for capturing the desorbed binder. Inside the binder removal chamber 211, the insertion opening 2 of the annular bottom plate 215 is provided.
16, a cylindrical reflector 224 having an opening 226 below is fixed to the bracket 221 to form a heating section 225. In the heating section 225, an electric heater 222 is provided via an introduction terminal (not shown). It is stretched. An O-ring 219 is fitted on the lower surface of the annular bottom plate 215.

【０００８】また、搬送室２４１の下方の軸シール２４
３を介して搬送室２４１内へ挿通されているロッド２８
２の先端に昇降蓋２７６が固定されている。昇降蓋２７
６はフランジ部２７４と台部２７５を有し、台部２７５
に立設された支柱２７３ａ、２７３ｂが被処理物Ｆを載
置するトレイ２６４を下方から突き上げて支持してい
る。すなわち、図１０は加熱区画２２５内に被処理物Ｆ
が挿入され、昇降蓋２７６のフランジ部２７４に支持さ
れる中間トレイ２６３がＯ−リング２１９を介して円環
状底板２１５と当接して脱バインダ室２１１を密閉して
いる状態を示す。The shaft seal 24 below the transfer chamber 241
Rod 28 inserted into the transfer chamber 241 through
An elevating lid 276 is fixed to the tip of the second. Lifting lid 27
6 has a flange portion 274 and a base portion 275;
The columns 273a and 273b erected from above support the tray 264 on which the workpiece F is to be placed by pushing up from below. That is, FIG.
Is inserted, and the intermediate tray 263 supported by the flange portion 274 of the elevating lid 276 is in contact with the annular bottom plate 215 via the O-ring 219 to seal the debinding chamber 211.

【０００９】なお、上記の被処理物Ｆとトレイ２６４お
よび中間トレイ２６３は搬送室２４１内のチェインコン
ベア２５３によって搬送台２６２と共に搬入されて来た
ものであり、その時点では、搬送台２６２の中央部の開
口２６２ｈに面する内周縁部の座ぐりに中間トレイ２６
３が載置され、中間トレイ２６３の中央部の開口２６３
ｈに面する内周縁部の座ぐりにトレイ２６４が重ねて載
置され、そのトレイ２６４上に被処理物Ｆが積載されて
いたものである。そして、昇降蓋２７６のフランジ部２
７４は搬送台２６２の開口２６２ｈを挿通可能な外径と
され、台部２７５は中間トレイ２６３の開口２６３ｈを
挿通可能な外径とされている。そのほか、搬送室２４１
に設けた排気管２４８には真空排気系２５０が接続され
ている。The object F, the tray 264 and the intermediate tray 263 have been carried in together with the carrier 262 by the chain conveyor 253 in the carrier chamber 241. Counterbore at the inner periphery facing the opening 262h
3 is placed, and an opening 263 at the center of the intermediate tray 263 is placed.
The tray 264 is placed on the counterbore at the inner peripheral edge facing h, and the workpiece F is stacked on the tray 264. Then, the flange portion 2 of the lift lid 276
Reference numeral 74 denotes an outer diameter capable of passing through the opening 262h of the transfer table 262, and the base 275 has an outer diameter capable of passing through the opening 263h of the intermediate tray 263. In addition, the transfer chamber 241
A vacuum exhaust system 250 is connected to an exhaust pipe 248 provided at the bottom.

【００１０】（従来例３）図１１は特開平９ー１２６６
６０号公報に開示されている真空熱処理装置３００にお
ける焼結室３１１と搬送室３４１、昇降機室３７１の断
面図である。熱処理室としての焼結室３１１は鋼板で二
重構造とされた鏡蓋３１２と側壁３１３とがフランジで
接合されており、二重の鋼板の間は冷却水が循環されて
いる。そして、側壁３１３の下端部は円環状底板３１５
と一体化されており、円環状底板３１５は搬送室３４１
の天井部の開口３４４の周囲に取り付けられている。な
お、焼結室３１１には真空排気系３２０が接続されてい
る。焼結室３１１内においては、ブラケット３２１に固
定され、下方に開口３２６を有する円筒状リフレクタ３
２４によって加熱区画３２５が形成されており、加熱区
画３２５の内部には図示しない導入端子に接続して帯状
の電熱ヒータ３２２が架張されている。そして、円筒状
リフレクタ３２４の開口３２６の周囲の下面には金属製
の中空Ｏ−リング３１９が嵌め込まれている。(Conventional Example 3) FIG.
It is sectional drawing of the sintering chamber 311 in the vacuum heat processing apparatus 300 disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 60, the transfer chamber 341, and the elevator room 371. In a sintering chamber 311 as a heat treatment chamber, a mirror cover 312 and a side wall 313 having a double structure made of a steel plate are joined by a flange, and cooling water is circulated between the double steel plates. The lower end of the side wall 313 is an annular bottom plate 315.
The annular bottom plate 315 is integrated with the transfer chamber 341.
Around the opening 344 in the ceiling. Note that a vacuum exhaust system 320 is connected to the sintering chamber 311. In the sintering chamber 311, the cylindrical reflector 3 fixed to the bracket 321 and having an opening 326 below.
A heating section 325 is formed by 24, and a belt-shaped electric heater 322 is stretched inside the heating section 325 by connecting to an introduction terminal (not shown). A hollow O-ring 319 made of metal is fitted on the lower surface around the opening 326 of the cylindrical reflector 324.

【００１１】昇降機室３７１にはスライダー・クランク
機構による昇降機３８０が設置されており、レール３８
３に沿って上下に走行する昇降台３８１にロッド３８２
が立てられている。ロッド３８２の先端部の接続フラン
ジ３７８には冷却水ジャケット３７７を介して鍔部３７
４と台部３７５とからなる昇降蓋３７６が取り付けられ
ている。また、接続フランジ３７８には支柱３７３ａと
その周囲の支柱３７３ｂとが台部３７５を貫通して立設
されおり、加熱区画３２５内において被処理物Ｓを載置
するトレイ３６４を下方から突き上げて支持している。
すなわち、図１１は被処理物Ｓを加熱区画３２５内に挿
入し、昇降蓋３７６の鍔部３７４に支持される中間トレ
イ３６３がメタルＯ−リング３１９を介して円筒状リフ
レクタ３２４の底板と当接して加熱区画３２５を熱的に
閉じている状態を示す。The elevator room 371 is provided with an elevator 380 by a slider / crank mechanism.
A rod 382 is attached to a lift 381 that travels up and down along 3
Is set up. The connection flange 378 at the tip of the rod 382 is provided with a flange 37 via a cooling water jacket 377.
An elevating lid 376 composed of a base 4 and a base 375 is attached. A column 373a and a column 373b around the column are erected on the connection flange 378 so as to penetrate the base 375, and a tray 364 on which the object to be processed S is placed is pushed up from below in the heating section 325 to support it. are doing.
That is, in FIG. 11, the workpiece S is inserted into the heating section 325, and the intermediate tray 363 supported by the flange 374 of the elevating lid 376 contacts the bottom plate of the cylindrical reflector 324 via the metal O-ring 319. The heating compartment 325 is thermally closed.

【００１２】なお、上記の被処理物Ｓとトレイ３６４お
よび中間トレイ３６３は搬送室３４１のチエインコンベ
ア３５３によって搬送台３６２と共に搬送されて来たも
のであり、その時点では、搬送台３６２の中央部の開口
３６２ｈに面する内周縁部の座ぐりに中間トレイ３６３
が載置され、中間トレイ３６３の中央部の開口３６３ｈ
に面する内周縁部の座ぐりにトレイ３６４が重ねて載置
され、そのトレイ３６４上に被処理物Ｓが積載されてい
たものである。そして、昇降蓋３７６の鍔部３７４は搬
送台３６２の開口３６２ｈを挿通可能な外径とされ、台
部３７５は中間トレイ３６３の開口３６３ｈを挿通可能
な外径とされている。The object S, the tray 364, and the intermediate tray 363 are transported together with the transport table 362 by the chain conveyor 353 in the transport chamber 341. Counterbore at the inner periphery facing the opening 362h
Is placed, and an opening 363h at the center of the intermediate tray 363 is placed.
The tray 364 is placed on the counterbore at the inner peripheral edge facing the, and the workpiece S is stacked on the tray 364. The flange 374 of the elevating lid 376 has an outer diameter capable of passing through the opening 362h of the transfer table 362, and the base 375 has an outer diameter capable of passing through the opening 363h of the intermediate tray 363.

【００１３】[0013]

【発明が解決しようとする課題】従来例１の真空熱処理
装置１００における予熱室１１１は、その円環状底板１
１５は水冷されているので円環状底板１１５のＯ−リン
グ１１９は劣化されにくいが、昇降蓋１７６は水冷され
ていないことから昇降蓋１７６のＯ−リング１７９はや
や劣化し易く、中間トレイ１６３と昇降蓋１７６とによ
る予熱室１１１の密閉にはやや問題が残るほか、中間ト
レイ１６３の内周縁部や昇降蓋１７６の一部が加熱区画
１２５に面しており、それらを伝達する熱ロスがあるの
で、加熱区画１２５は熱的に十分に密閉されたものとは
なっていない。従来例２の真空熱処理装置２００におけ
る脱バインダ室２１１は、その円環状底板２１５と昇降
蓋２７６の鍔部２７４とが共に水冷されていないこと、
円環状底板２１５と中間トレイ２６３との間にのみＯ−
リング２１９が使用され、中間トレイ２６３と鍔部２７
４との間にはシール材が使用されていないことから、脱
バインダ室２１１の密閉は必ずしも十分ではなく、ま
た、中間トレイ２６３の内周縁部や昇降蓋２７６の台部
２７５が加熱区画２２５に直接に面しており、加熱区画
２２５は熱的に十分には閉じられていない。また、従来
例３の真空熱処理装置３００における焼結室３１１は、
その円筒状リフレクタ３２４の開口３２６が中間トレイ
３６３と水冷の昇降蓋３７６とによって熱的に閉じられ
ており、焼結温度を高い精度で制御し得るものの、焼結
室３１１は搬送室３４１、昇降機室３８１と連通してお
り、焼結室３１１を真空排気する場合、同時に搬送室３
４１、昇降機室３７１も真空排気されるので、排気能力
の大きい真空ポンプを必要とする。The preheating chamber 111 of the vacuum heat treatment apparatus 100 of the first conventional example has the annular bottom plate 1.
15 is water-cooled, the O-ring 119 of the annular bottom plate 115 is not easily deteriorated. However, since the lifting lid 176 is not water-cooled, the O-ring 179 of the lifting lid 176 is slightly deteriorated. The sealing of the preheating chamber 111 with the lifting lid 176 has some problems. In addition, the inner peripheral edge of the intermediate tray 163 and a part of the lifting lid 176 face the heating section 125, and there is a heat loss for transmitting them. Thus, the heating compartment 125 is not sufficiently thermally sealed. In the binder removal chamber 211 in the vacuum heat treatment apparatus 200 of the second conventional example, both the annular bottom plate 215 and the flange 274 of the lifting lid 276 are not water-cooled,
Only between the annular bottom plate 215 and the intermediate tray 263 is O-
The ring 219 is used, and the intermediate tray 263 and the flange 27 are used.
4, the sealing of the binder removal chamber 211 is not always sufficient, and the inner peripheral edge of the intermediate tray 263 and the base 275 of the elevating lid 276 are connected to the heating section 225. Facing directly, the heating compartment 225 is not sufficiently closed thermally. The sintering chamber 311 in the vacuum heat treatment apparatus 300 of Conventional Example 3
Although the opening 326 of the cylindrical reflector 324 is thermally closed by the intermediate tray 363 and the water-cooled elevating lid 376, the sintering temperature can be controlled with high accuracy. When the sintering chamber 311 is evacuated to vacuum, the transfer chamber 3
41, since the elevator room 371 is also evacuated, a vacuum pump having a large evacuation capacity is required.

【００１４】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、熱処
理室内に形成される加熱区画を熱的に閉じることが可能
で真空熱処理を高い温度精度で施すことができ、かつ熱
処理室を密閉することが可能で排気能力の小さい真空ポ
ンプによって高真空度に排気することができる真空熱処
理装置を提供することを課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a heating section formed in a heat treatment chamber can be thermally closed, a vacuum heat treatment can be performed with high temperature accuracy, and the heat treatment chamber is sealed. It is an object of the present invention to provide a vacuum heat treatment apparatus capable of evacuating to a high degree of vacuum by a vacuum pump having a small evacuation capacity.

【００１５】[0015]

【課題を解決するための手段】上記の課題は請求項１ま
たは請求項２の構成によって解決されるが、その解決手
段を説明すれば、請求項１の真空熱処理装置は、真空排
気可能な熱処理室と、熱処理室と挿入開口を介して接合
された搬送室または冷却室と、熱処理室の内部に加熱区
画を形成し下方に開口を有する筒状リフレクタと、搬送
室または冷却室内に配置され、被処理物を積載したトレ
イを搬送する搬送機構と、トレイを下方から支持する複
数の支柱を備え、上昇されて被処理物を加熱区画内へ挿
入すると共に挿入開口を塞ぐ昇降蓋と、支柱間に昇降蓋
と平行に設けられた複数の支柱部リフレクタと、筒状リ
フレクタの下方に位置し、支柱部リフレクタの存在下
に、筒状リフレクタの開口を熱的に閉じるように作動す
る可動リフレクタと、昇降蓋の上面の支柱より外側とな
る外周縁部、または熱処理室の挿入開口を形成する環状
底板の下面に設けられた環状シーリング材とから構成さ
れる装置である。 このような真空熱処理装置は、熱処
理室の挿入開口が昇降蓋によって密閉されるので、熱処
理室は排気能力の小さい真空ポンプによっても高真空度
まで排気することが可能であるほか、筒状リフレクタの
開口が可動レフレクタと支柱部リフレクタとによって熱
的に閉じられて加熱区画からの輻射熱が遮蔽され、加熱
区画より下方にある構成要素の不必要な温度上昇が防が
れる。Means for Solving the Problems The above problems can be solved by the constitution of claim 1 or claim 2. To solve the problem, the vacuum heat treatment apparatus of claim 1 is a heat treatment apparatus capable of evacuating. Chamber, a transfer chamber or a cooling chamber joined via an insertion opening to the heat treatment chamber, a tubular reflector having a heating section formed inside the heat treatment chamber and having an opening below, and disposed in the transfer chamber or the cooling chamber, A transport mechanism for transporting the tray loaded with the workpiece, a plurality of columns for supporting the tray from below, a lifting lid that is raised to insert the workpiece into the heating compartment and close the insertion opening, and between the columns. A plurality of column reflectors provided in parallel with the elevating lid, and a movable reflector that is located below the cylindrical reflector and operates to thermally close the opening of the cylindrical reflector in the presence of the column reflector. Outer peripheral edge becomes outside the posts of the upper surface of the lifting lid, or a device composed of an annular sealing member provided on the lower surface of the annular bottom plate forming the insertion opening of the heat treatment chamber. In such a vacuum heat treatment apparatus, since the insertion opening of the heat treatment chamber is sealed by the elevating lid, the heat treatment chamber can be evacuated to a high degree of vacuum even by a vacuum pump having a small evacuation capacity. The opening is thermally closed by the movable reflector and the strut reflector to shield radiant heat from the heating compartment and prevent unnecessary temperature rise of components below the heating compartment.

【００１６】請求項２の真空熱処理装置は、真空排気可
能な熱処理室と、熱処理室と挿入開口を介して接合され
た搬送室または冷却室と、熱処理室の内部に加熱区画を
形成し下方に開口を有する筒状リフレクタと、搬送室ま
たは冷却室内に配置され、被処理物が積載されるトレイ
およびトレイを支持し搬送する中間トレイを備えた搬送
機構と、トレイを下方から支持する複数の支柱を備え、
上昇されて被処理物を加熱区画内へ挿入し、上昇される
中間トレイと共に熱処理室の挿入開口を塞ぐ昇降蓋と、
支柱間に昇降蓋と平行に設けられた複数の支柱部リフレ
クタと、筒状リフレクタの下方に位置し、支柱部リフレ
クタの存在下に、筒状リフレクタの開口を熱的に閉じる
ように作動する可動リフレクタと、昇降蓋の上面の支柱
より外側となる外周縁部に設けられた環状シーリング材
（１）と、熱処理室の挿入開口を形成する環状底板の下
面に設けられた環状シーリング材（２）と、から構成さ
れる装置である。このような真空熱処理装置は、熱処理
室の挿入開口が搬送機構の中間トレイと昇降蓋とによっ
て簡易にかつ確実に密閉されるので、熱処理室は排気能
力の小さい真空ポンプによっても高真空度まで排気する
ことが可能であるほか、筒状リフレクタの開口が可動レ
フレクタと支柱部リフレクタとによって熱的に閉じられ
て、加熱区画からの輻射熱が遮蔽され、加熱区画より下
方にある構成要素の不必要な温度上昇が防がれる。According to a second aspect of the present invention, there is provided a vacuum heat treatment apparatus, wherein a heat treatment chamber capable of evacuating, a transfer chamber or a cooling chamber joined to the heat treatment chamber through an insertion opening, and a heating section formed inside the heat treatment chamber and formed downward. A cylindrical reflector having an opening, a tray disposed in the transfer chamber or the cooling chamber, a transfer mechanism including a tray on which the object to be processed is loaded, and an intermediate tray for supporting and transferring the tray, and a plurality of columns for supporting the tray from below With
An elevating lid that inserts the workpiece to be raised into the heating compartment and closes the insertion opening of the heat treatment chamber together with the intermediate tray that is raised,
A plurality of column reflectors provided between the columns in parallel with the lifting lid, and a movable member located below the cylindrical reflector and operated to thermally close the opening of the cylindrical reflector in the presence of the column reflector. A reflector, an annular sealing material (1) provided on the outer peripheral edge of the upper surface of the lifting lid, which is outside the support pillar, and an annular sealing material (2) provided on the lower surface of the annular bottom plate forming the insertion opening of the heat treatment chamber. And a device composed of: In such a vacuum heat treatment apparatus, since the insertion opening of the heat treatment chamber is easily and reliably sealed by the intermediate tray and the elevating lid of the transfer mechanism, the heat treatment chamber is evacuated to a high degree of vacuum even by a vacuum pump having a small evacuation capacity. In addition, the opening of the cylindrical reflector is thermally closed by the movable reflector and the columnar reflector, so that radiant heat from the heating compartment is blocked, and unnecessary components of the components below the heating compartment are unnecessary. Temperature rise is prevented.

【００１７】請求項２に従属する請求項３の真空熱処理
装置は、昇降蓋が中間トレイを伴って上昇され、被処理
物を加熱区画内へ挿入すると共に、環状シーリング材
（１）によって昇降蓋と中間トレイとをシールし、同時
に環状シーリング材（２）によって中間トレイと環状底
板とをシールして熱処理室を密閉し、かつ可動リフレク
タと支柱部リフレクタとによって筒状リフレクタの開口
を熱的に閉じて、熱処理室の加熱区画が真空下に加熱さ
れ被処理物が真空熱処理される装置である。このような
真空熱処理装置は、熱処理室の加熱区画への被処理物の
挿入と熱処理室の密閉と加熱区画からの輻射熱の遮蔽と
を同時に行うことを可能し、被処理物の真空熱処理操作
を合理化させる。According to a second aspect of the present invention, there is provided the vacuum heat treatment apparatus, wherein the lifting lid is raised with the intermediate tray, the object to be processed is inserted into the heating compartment, and the lifting lid is moved by the annular sealing material (1). And the intermediate tray, and simultaneously seal the intermediate tray and the annular bottom plate with the annular sealing material (2) to seal the heat treatment chamber, and thermally open the opening of the cylindrical reflector with the movable reflector and the columnar reflector. The apparatus is closed, and the heating section of the heat treatment chamber is heated under vacuum so that the object to be processed is subjected to vacuum heat treatment. Such a vacuum heat treatment apparatus enables simultaneous insertion of an object to be treated into a heating section of a heat treatment chamber, sealing of the heat treatment chamber, and shielding of radiant heat from the heating section, and performs vacuum heat treatment of the object to be treated. Streamline.

【００１８】請求項２に従属する請求項４の真空熱処理
装置は、熱処理室の環状底板と、昇降蓋と、可動リフレ
クタとに冷却手段を有する装置である。このような真空
熱処理装置は、可動リフレクタと支柱部リフレクタとに
よる輻射熱の遮蔽に加え、更に冷却手段によって熱処理
室の環状底板と昇降蓋との温度上昇を防ぐので、可動リ
フレクタの温度上昇による歪みを防ぐと共に、環状底
板、中間トレイ、昇降蓋の間に介装する環状シーリング
材（１）、（２）に繰返し使用ができシール性に優れた
ゴム製Ｏ−リングの採用を可能にする。請求項２に従属
する請求項５の真空熱処理装置は、可動リフレクタが分
割可能な平板状に形成されており、閉時には支柱部リフ
レクタの外周に対応する位置まで移動されて環状体を形
成し、開時には分割されて側方へ移動される装置でであ
る。このような真空熱処理装置は、熱処理室の容積の大
きく増大させることなく、加熱区画を熱的に閉じること
を可能にする。A vacuum heat treatment apparatus according to claim 4 is a device having cooling means in the annular bottom plate of the heat treatment chamber, the elevating lid, and the movable reflector. Such a vacuum heat treatment apparatus, in addition to shielding the radiant heat by the movable reflector and the pillar reflector, further prevents the temperature rise of the annular bottom plate and the elevating lid of the heat treatment chamber by the cooling means, so that the distortion due to the temperature rise of the movable reflector is reduced. In addition to this, it is possible to employ a rubber O-ring which can be repeatedly used for the annular sealing materials (1) and (2) interposed between the annular bottom plate, the intermediate tray, and the elevating lid and has excellent sealing properties. The vacuum heat treatment apparatus according to claim 5, which is dependent on claim 2, wherein the movable reflector is formed in a plate shape that can be divided, and when closed, is moved to a position corresponding to the outer periphery of the pillar portion reflector to form an annular body, It is a device that is split and moved to the side when opened. Such a vacuum heat treatment device makes it possible to thermally close the heating compartment without significantly increasing the volume of the heat treatment chamber.

【００１９】[0019]

【発明の実施の形態】本発明の真空熱処理装置は、上述
したように、搬送室または冷却室において加熱区画の直
下に停止され、被処理物をトレイと中間トレイを介して
積載する搬送台に対して、昇降蓋が下方から上昇され昇
降蓋の支柱がトレイの底面を支持して上昇されるに伴
い、昇降蓋の外周縁部が環状シーリング材（１）を介し
中間トレイを支持して上昇し、被処理物が熱処理室の挿
入開口から筒状リフレクタによって形成された加熱区画
内へ挿入されて、中間トレイが環状シーリング材（２）
を介して熱処理室の環状底板と当接することにより熱処
理室が密閉され、かつ筒状リフレクタの開口が可動リフ
レクタと支柱部リフレクタとによって熱的に閉じられた
後、真空下に加熱区画が加熱されて、被処理物が真空熱
処理される装置である。加熱温度および真空度は真空熱
処理の目的によって異なるが、加熱温度は１０００℃か
ら２０００℃までの範囲内にあり、その時の真空度は１
０-2Ｐａから１０-4Ｐａまでの範囲内にある。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, the vacuum heat treatment apparatus of the present invention is stopped immediately below a heating section in a transfer chamber or a cooling chamber, and is mounted on a transfer table for loading an object to be processed via a tray and an intermediate tray. On the other hand, as the lifting lid is raised from below and the column of the lifting lid is raised while supporting the bottom surface of the tray, the outer peripheral edge of the lifting lid is raised while supporting the intermediate tray via the annular sealing material (1). Then, the workpiece is inserted from the insertion opening of the heat treatment chamber into the heating section formed by the cylindrical reflector, and the intermediate tray is turned into the annular sealing material (2).
After the heat treatment chamber is sealed by contacting the annular bottom plate of the heat treatment chamber through the opening, and the opening of the cylindrical reflector is thermally closed by the movable reflector and the pillar reflector, the heating section is heated under vacuum. This is an apparatus in which an object to be processed is subjected to a vacuum heat treatment. The heating temperature and the degree of vacuum differ depending on the purpose of the vacuum heat treatment, but the heating temperature is in the range from 1000 ° C. to 2000 ° C., and the degree of vacuum at that time is 1
It is in the range of 0 -2 Pa to 10 -4 Pa.

【００２０】熱処理室の挿入開口を気密に閉じるために
は、中間トレイと昇降蓋との間に環状シーリング材
（１）を介装させ、更に熱処理室の挿入開口を形成する
環状底板と中間トレイとの間に環状シーリング材（２）
を介装させることが望ましい。それぞれの間で確実に真
空シールを行うためである。また、環状シーリング材
（１）と環状シーリング材（２）とを上下で介装させる
ことにより、例えば、昇降蓋や中間トレイに僅かの傾き
があっても、その傾きは２本の環状シーリング材によっ
て分担してカバーされ、十分な真空シールが得られると
いうメリットもある。In order to hermetically close the insertion opening of the heat treatment chamber, an annular sealing material (1) is interposed between the intermediate tray and the elevating lid, and an annular bottom plate and an intermediate tray forming the insertion opening of the heat treatment chamber are further provided. Between the annular sealing material (2)
It is desirable to interpose. This is for surely performing the vacuum seal between the two. Further, by interposing the annular sealing material (1) and the annular sealing material (2) vertically, for example, even if the lifting lid or the intermediate tray has a slight inclination, the inclination is two annular sealing materials. There is also a merit that a sufficient vacuum seal can be obtained by being shared by and covered.

【００２１】環状シーリング材（１）、（２）として
は、熱処理時における高温に耐える耐熱性を必要とする
ので、メタル製中空Ｏ−リングを採用し得るほか、ナイ
フエッヂと柔軟な金属ガスケットとの組み合わせによる
メタルシールも採用し得る。最も好ましい環状シーリン
グ材（１）、（２）は弾性変形範囲の大きいゴム製Ｏ−
リングであるが、耐熱性に劣るので、ゴム製Ｏ−リング
を採用する場合には、これを介装する構成部材のうち、
水冷の困難な中間トレイを除く、熱処理室の環状底板お
よび昇降蓋を水冷してゴム製Ｏ−リングの温度上昇を防
ぐことが必要である。Since the annular sealing materials (1) and (2) need to have heat resistance to withstand high temperatures during heat treatment, a metal hollow O-ring can be employed, and a knife edge and a flexible metal gasket can be used. A metal seal by a combination of the above can also be adopted. The most preferred annular sealing materials (1) and (2) are rubber O-
Although a ring is inferior in heat resistance, when a rubber O-ring is adopted, of the constituent members interposed therewith,
It is necessary to prevent the temperature of the rubber O-ring from rising by cooling the annular bottom plate and the elevating lid of the heat treatment chamber, except for the intermediate tray, which is difficult to water-cool.

【００２２】更には、ゴム製Ｏ−リングの温度上昇を防
ぐには、上記の水冷以外に、ゴム製Ｏ−リングの介装箇
所を加熱区画の輻射熱から遮蔽することが望ましい。輻
射熱を遮蔽するには、すなわち、筒状リフレクタの開口
を塞ぐには、真空熱処理時に加熱区画内へ被処理物を支
持して挿入される昇降蓋の複数の支柱で囲われる部分を
遮蔽する支柱部リフレクタを設けると共に、支柱部リフ
レクタの外周部分を遮蔽し、かつ被処理物の挿入時、取
出し時には支障とならないように開閉し得る可動リフレ
クタを設けることが必要である。Further, in order to prevent the temperature of the rubber O-ring from rising, it is desirable to shield the interposed portion of the rubber O-ring from the radiant heat of the heating section in addition to the above water cooling. In order to shield the radiant heat, that is, to close the opening of the cylindrical reflector, a pillar that shields a portion surrounded by a plurality of pillars of a lifting lid that is inserted to support the object to be processed into the heating compartment during vacuum heat treatment In addition to providing a partial reflector, it is necessary to provide a movable reflector that shields the outer peripheral portion of the pillar reflector and that can be opened and closed so as not to hinder the insertion and removal of the workpiece.

【００２３】支柱部リフレクタは支柱の長さ方向に多段
に設けることが好ましい。しかし、支柱が加熱区画内に
挿入された時点において、その中の少なくとも一段は筒
状リフレクタの開口の外側に存在することが望ましい。
また、可動リフレクタは支柱部リフレクタの外周側を遮
蔽するものであるから、可動リフレクタは環状体を分割
して開閉するものとなるが、その分割形状や開閉方法は
限定されない。例えば環状体を２分割したものでもよ
く、３分割したものでもよい。また等分割されていなく
てもよい。更には、開閉方法として側方へ移動させても
よく、また外周側に支点を設けて下方へ回動させてもよ
い。It is preferable that the pillar reflectors are provided in multiple stages in the longitudinal direction of the pillar. However, when the column is inserted into the heating compartment, it is desirable that at least one of the columns is outside the opening of the cylindrical reflector.
In addition, since the movable reflector shields the outer peripheral side of the pillar portion reflector, the movable reflector splits and opens and closes the annular body, but the divided shape and the opening and closing method are not limited. For example, the annular body may be divided into two parts, or may be divided into three parts. In addition, it is not necessary to be equally divided. Further, as an opening and closing method, it may be moved to the side, or a fulcrum may be provided on the outer peripheral side and turned downward.

【００２４】更には、真空熱処理時に熱処理室内へ不活
性ガスを導入する配管を設けることが望ましい。真空熱
処理時に被処理物からガスが放出される場合には、不活
性ガスは熱処理室内における放出ガスの分圧を低下さ
せ、被処理物からの放出ガスの脱離を促進する。また、
たとえ極微量の空気であっても、その空気の存在下の加
熱によって被処理物が劣化されるような場合には、不活
性ガスの雰囲気下での加熱によって被処理物の熱劣化を
抑制することができる。不活性ガスとしてはアルゴンや
ヘリウムのような希ガスまたは窒素ガスを採用し得る。Furthermore, it is desirable to provide a pipe for introducing an inert gas into the heat treatment chamber during the vacuum heat treatment. When a gas is released from an object to be processed during vacuum heat treatment, the inert gas reduces the partial pressure of the released gas in the heat treatment chamber, and promotes desorption of the released gas from the object. Also,
Even if the amount of air is extremely small, if the object to be processed is deteriorated by heating in the presence of the air, the heat deterioration of the object to be processed is suppressed by heating in an atmosphere of an inert gas. be able to. As the inert gas, a rare gas such as argon or helium or a nitrogen gas can be employed.

【００２５】なお、上記において熱処理室の挿入開口を
密閉することにより、熱処理室を真空排気するに際して
排気能力の小さい真空ポンプの使用が可能となるが、搬
送室はその上流側または下流側に接続される処理室との
間で被処理物を受け渡しする時に真空排気されるので、
排気能力の小さい真空ポンプの使用を可能とするために
は、搬送室も可及的に容積も小さくすることが望まし
い。In the above, by closing the insertion opening of the heat treatment chamber, it is possible to use a vacuum pump having a small evacuation capacity when evacuating the heat treatment chamber, but the transfer chamber is connected to the upstream or downstream side thereof. Is evacuated when the workpiece is transferred to and from the processing chamber
In order to be able to use a vacuum pump having a small evacuation capacity, it is desirable to make the transfer chamber as small as possible in volume.

【００２６】[0026]

【実施例】以下、本発明の真空熱処理装置を実施例によ
って、図面を参照し、具体的に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a vacuum heat treatment apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【００２７】（実施例１）図１は実施例１の真空熱処理
装置１の断面図であり、熱処理室１１と搬送室４１とが
上下に配置されている。すなわち、床面を掘り下げたピ
ット９の段差面に立てられた支柱８に搬送室４１が支持
されており、搬送室４１の天井部の連通開口４４の周囲
に熱処理室１１が設置されている。熱処理室１１は鋼板
による二重壁構造とされた鏡蓋１２と側壁１３とがフラ
ンジで気密に接合されて形成されており、二重壁の間は
冷却水が循環されて冷却されている。熱処理室１１の側
壁１３の下端部は連通開口４４の周囲に固定された円環
状底部１５と一体化されており、円環状底部１５の中央
は熱処理室１１への挿入開口１６となっている。また、
円環状底部１５の内部は冷却水路１７となっており、円
環状底部１５の上面および内周側面には底面リフレクタ
１４が張り合わされている。また、後述の図４において
拡大して示すが、円環状底部１５の下面の内周縁部には
環状シーリング材（２）としての耐熱性のフッ素ゴム製
Ｏ−リング１９が一部を露出させて嵌め込まれている。
そして、熱処理室１１には複数種の真空ポンプを含む真
空排気系２０が接続されている。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus 1 of Embodiment 1, in which a heat treatment chamber 11 and a transfer chamber 41 are vertically arranged. That is, the transfer chamber 41 is supported on the support 8 erected on the stepped surface of the pit 9 where the floor is dug down, and the heat treatment chamber 11 is installed around the communication opening 44 in the ceiling of the transfer chamber 41. The heat treatment chamber 11 is formed by joining a mirror cover 12 and a side wall 13 having a double wall structure made of a steel plate with a flange in an airtight manner, and cooling water is circulated between the double walls to be cooled. The lower end of the side wall 13 of the heat treatment chamber 11 is integrated with an annular bottom 15 fixed around the communication opening 44, and the center of the annular bottom 15 is an insertion opening 16 into the heat treatment chamber 11. Also,
The inside of the annular bottom portion 15 is a cooling water passage 17, and a bottom surface reflector 14 is attached to an upper surface and an inner peripheral side surface of the annular bottom portion 15. Also, as shown in an enlarged manner in FIG. 4 described later, a heat-resistant fluoro rubber O-ring 19 as an annular sealing material (2) is partially exposed at the inner peripheral edge of the lower surface of the annular bottom portion 15. It is fitted.
A vacuum evacuation system 20 including a plurality of types of vacuum pumps is connected to the heat treatment chamber 11.

【００２８】熱処理室１１内においては、ブラケット２
１に固定された下開きの円筒状リフレクタ２４によって
加熱区画２５が形成されており、円筒状リフレクタ２４
の下端の円環状底面２３によって加熱区画２５への挿入
開口２６が形成されている。円筒状リフレクタ２４に
は、その内面に近接して篭型ヒータ−２２が取り付けら
れており、熱処理室１１の側壁１３に取り付けられた水
冷給電端子２７に接続されている。また、加熱温度の制
御のために、側壁１３に取り付けられた導入端子２８か
ら円筒状リフレクタ２４を貫通して加熱区画２５内へ熱
電対が挿入されている。更には、加熱区画２５内へ外部
から不活性ガス導入管２９が挿入されており、その下端
のノズル２９ｎの開口からは下方へ向けて不活性ガスが
吹き出されるようになっている。In the heat treatment chamber 11, the bracket 2
A heating section 25 is formed by a downward-opening cylindrical reflector 24 fixed to the cylindrical reflector 24.
An insertion opening 26 into the heating compartment 25 is formed by the annular bottom surface 23 at the lower end of the heater. The cylindrical reflector 24 is provided with a cage-type heater 22 close to the inner surface thereof, and is connected to a water-cooling power supply terminal 27 mounted on the side wall 13 of the heat treatment chamber 11. In order to control the heating temperature, a thermocouple is inserted from the introduction terminal 28 attached to the side wall 13 through the cylindrical reflector 24 into the heating section 25. Further, an inert gas introducing pipe 29 is inserted into the heating section 25 from the outside, and the inert gas is blown downward from the opening of the nozzle 29n at the lower end thereof.

【００２９】そして、円筒状リフレクタ２４の直下には
両側方へ開閉可能な可動レフレクター３４、３４’が取
り付けられており、後述の昇降蓋７６の支柱７３に設け
られた支柱部リフレクター７４と共に、加熱区画２５の
挿入開口２６を塞ぐようになっている。すなわち、熱処
理室１１の側壁１３に断面が横長の長方形の枝管１８、
１８’が対向して設けられており、詳しくは後述する図
５を参照して、その内部に設けられた２本のレール上の
車輪付きの台車の上面に貼られた可動リフレクタ３４、
３４’がエアシリンダ３１、３１’を駆動源として水平
方向に開閉される。なお、図１においては、上記のレー
ルやエアシリンダ３１、３１’を固定するブラケット等
は図示を省略されている。そして、後述の図５に示すよ
うに、可動リフレクタ３４、３４’は閉じた状態で円環
状となるが、その時の外径は円筒状リフレクタ２４の外
径とほぼ同一であり、内径は被処理物Ｇが加熱区画２５
内へ挿入される時の後述の６本の支柱７３に外接する大
きさである。また、被処理物Ｇが加熱区画２５内へ挿入
され取り出される時には、支障とならないように可動リ
フレクタ３４、３４’はそれぞれエアシリンダ３１、３
１’によって枝管１８、１８’内へ引き込まれる。Movable reflectors 34, 34 'which can be opened and closed on both sides are attached directly below the cylindrical reflector 24, and together with a column reflector 74 provided on a column 73 of a lifting lid 76, which will be described later, together with heating. The insertion opening 26 of the section 25 is closed. That is, a rectangular branch pipe 18 having a horizontally long cross section is formed on the side wall 13 of the heat treatment chamber 11.
18 'are provided facing each other, and the movable reflector 34 attached to the upper surface of the wheeled cart on two rails provided therein,
34 'is opened and closed in the horizontal direction using the air cylinders 31, 31' as a drive source. In FIG. 1, the rails, the brackets for fixing the air cylinders 31 and 31 ', and the like are not shown. Then, as shown in FIG. 5 to be described later, the movable reflectors 34 and 34 ′ have an annular shape in a closed state, but the outer diameter at this time is substantially the same as the outer diameter of the cylindrical reflector 24, and the inner diameter is Object G is heating section 25
It is a size that circumscribes six struts 73 described later when inserted into the inside. When the object G is inserted into and removed from the heating section 25, the movable reflectors 34 and 34 'are respectively connected to the air cylinders 31 and 3' so as not to cause any trouble.
It is drawn into the branches 18, 18 'by 1'.

【００３０】搬送室４１には、その右側の図示を省略し
た準備室と接続するためのフランジ４５に密閉可能な仕
切り扉４６が取り付けられており、左側の図示を省略し
た冷却室と接続するためのフランジ４７に密閉可能な仕
切り扉４８が取り付けられている。また、搬送室４１内
には、図１における［２］−［２］線方向の断面図であ
る図２も参照して、チェインコンベア５３が電動機５７
でギヤ駆動される駆動スプロケット５５と従動スプロケ
ット５６に巻装されており、チェインコンベア５３に係
合された方形の厚板状の搬送台６２が図１において右方
から左方へ搬送される。The transfer chamber 41 is provided with a partition door 46 which can be hermetically sealed to a flange 45 for connection to a preparation chamber (not shown) on the right side, and is connected to a cooling chamber (not shown) on the left side. A partition door 48 that can be hermetically sealed is attached to the flange 47. In the transfer chamber 41, a chain conveyor 53 is also provided with an electric motor 57 with reference to FIG. 2 which is a sectional view taken along the line [2]-[2] in FIG.
1, and is transported from the right to the left in FIG. 1 by a rectangular thick plate-shaped transfer table 62 which is wound around a drive sprocket 55 and a driven sprocket 56 which are gear-driven.

【００３１】搬送台６２には、その中央部に大径穴６２
ｈが形成されており、その大径穴６２ｈの周囲の座ぐり
にリング状の中間トレイ６３が載置され、中間トレイ６
３の中央部に形成されている中径穴６３ｈの周囲の座ぐ
りにトレイ６４が重ねて載置される。そして、そのトレ
イ６４上に被処理物Ｇが積載されて搬送されてくる。搬
送台６２の大径穴６２ｈの直径は後述する昇降蓋７６の
外周縁に設けられた円環状凸部７６ｒが挿通可能な大き
さとされ、中間トレイ６３の中径穴６３ｈの直径は円環
状凸部７６ｒの内側に配置された６本の支柱７３が挿通
可能な大きさとされている。The carrier 62 has a large-diameter hole 62 at its center.
h is formed, and a ring-shaped intermediate tray 63 is placed around a counterbore around the large-diameter hole 62h.
The tray 64 is placed on the counterbore around the middle diameter hole 63h formed in the center of the tray 3. Then, the objects to be processed G are stacked on the tray 64 and conveyed. The diameter of the large-diameter hole 62h of the transfer table 62 is such that an annular convex portion 76r provided on the outer peripheral edge of the elevating lid 76 described later can be inserted, and the diameter of the medium-diameter hole 63h of the intermediate tray 63 is annular convex. Six columns 73 arranged inside the portion 76r are sized to be inserted.

【００３２】また、チェインコンベア５３の途中には、
搬送されてくる搬送台６２を検出するための光センサ５
２の素子５２ａ、５２ｂが搬送室４１を横断して設置さ
れており、光センサ５２が搬送台６２を検出するとチェ
インコンベア５３の搬送速度を減速させ、トレイ６４上
の被処理物Ｇが加熱区画２５の直下に位置するように停
止させる。そして、図示を省略したエアシリンダによっ
て、チェインコンベア５３の下方から搬送台６２の前端
側へストッパ５８が突き上げられ、搬送台６２の後端側
へはエアシリンダ５４によってストッパ５９が回動され
て立ち上げられ搬送台６２を係止するようになってい
る。なお、図１、および後述の図３には、光センサ５
２、ストッパ５８、５９、および付随する部材類は図示
を省略している。In the middle of the chain conveyor 53,
Optical sensor 5 for detecting the transport table 62 being transported
The two elements 52a and 52b are installed across the transfer chamber 41. When the optical sensor 52 detects the transfer table 62, the transfer speed of the chain conveyor 53 is reduced, and the processing object G on the tray 64 is heated. Stop so that it is located immediately below 25. The stopper 58 is pushed up from below the chain conveyor 53 toward the front end of the transfer table 62 by an air cylinder (not shown), and the stopper 59 is rotated by the air cylinder 54 toward the rear end of the transfer table 62 to stand. The transport table 62 is raised and locked. Note that, in FIG. 1 and FIG.
2, illustration of stoppers 58, 59 and associated members is omitted.

【００３３】図１へ戻り、搬送室４１のチェインコンベ
ア５３より下方の部分には、昇降蓋７６とその上面に立
設された６本の支柱７３を共に収容するための収容空間
４１Ｕが設けられており、収容空間４１Ｕを含む搬送室
４１の容積は熱処理室１１の１．３倍程度とされてい
る。昇降蓋７６はその底面側の接続フランジ７８に取り
付けられたロッド８２によって昇降される。すなわち、
ロッド８２は搬送室４１の底面フランジ４９の軸シール
４２を介して搬送室４１の外へ導出されており、ピット
９内に設置されたエアシリンダ８１によって昇降され
る。また、接続フランジ７８のロッド８２の両側には後
述の冷却水ジャケット７７への給排水パイプ８３が取り
付けられており、搬送室４１の底面フランジ４９の軸シ
ール４３を挿通してピット９内へ延在している。そし
て、給排水パイプ８３はロッド８２の昇降と同時に昇降
され、ガイドシャフトとしても働く。Returning to FIG. 1, an accommodation space 41U for accommodating both the elevating lid 76 and the six columns 73 erected on the upper surface thereof is provided below the chain conveyor 53 in the transfer chamber 41. The capacity of the transfer chamber 41 including the accommodation space 41U is about 1.3 times the heat treatment chamber 11. The lifting lid 76 is raised and lowered by a rod 82 attached to a connection flange 78 on the bottom surface side. That is,
The rod 82 is led out of the transfer chamber 41 through the shaft seal 42 of the bottom flange 49 of the transfer chamber 41, and is raised and lowered by an air cylinder 81 installed in the pit 9. On both sides of the rod 82 of the connection flange 78, supply / drain pipes 83 for a cooling water jacket 77 described later are attached, and extend into the pit 9 through the shaft seal 43 of the bottom flange 49 of the transfer chamber 41. are doing. The water supply / drainage pipe 83 is raised and lowered at the same time as the rod 82 is raised and lowered, and also functions as a guide shaft.

【００３４】昇降蓋７６は、後述の図４も参照して、冷
却水ジャケット７７を有し、上面は無機物繊維からなる
マット状の断熱材７２とそのカバーによって覆われてい
る。そして、前述したように、昇降蓋７６の外周縁部の
円環状凸部７６ｒの内側には６本の支柱７３が同一円周
上に立設されている。そして、円環状凸部７６ｒの上面
には環状シーリング材（１）としてのフッ素ゴム製Ｏ−
リング７９が一部を露出させて嵌め込まれている。ま
た、６本の支柱７３の外接円の円内には支柱部リフレク
タ７４が支持ボルト７５によって昇降蓋７６と平行に５
段に架張されている。The elevating lid 76 has a cooling water jacket 77 with reference to FIG. 4 described later, and the upper surface is covered with a mat-like heat insulating material 72 made of inorganic fibers and a cover thereof. As described above, the six columns 73 are provided upright on the same circumference inside the annular convex portion 76r on the outer peripheral edge of the lifting lid 76. On the upper surface of the annular convex portion 76r, a fluorine rubber O-
A ring 79 is fitted so as to expose a part thereof. Further, within the circle of the circumcircle of the six pillars 73, a pillar reflector 74 is provided by supporting bolts 75 in parallel with the lifting lid 76.
It is suspended on the steps.

【００３５】図１の状態からロッド８２が昇降蓋７６を
上昇させると、支柱７３の先端が中間トレイ６３の中径
穴６３ｈを挿通し、トレイ６４の底面を支持して被処理
物Ｇを上昇させるが、その途中において昇降蓋７６の円
環状凸部７６ｒが中間トレイ６３を支持し上昇する。そ
して、被処理物Ｇはトレイ６４と共に熱処理室１１の挿
入開口１６、開放されている可動リフレクタ３４、３
４’の間、円筒状リフレクタ２４の開口２６を経由して
加熱区画２５へ挿入されるが、図１と同様な断面図であ
る図３に示すように、被処理物Ｇが加熱区画２５内の所
定の位置に達し、中間トレイ６３が熱処理室１１の円環
状底部１５の底面に当接して、熱処理室１１の挿入開口
１６が中間トレイ６３と昇降蓋７６とによって密閉され
た時点で昇降蓋７６の上昇が停止されて、可動リフレク
タ３４、３４’が閉じられる。When the rod 82 raises the elevating lid 76 from the state shown in FIG. 1, the end of the column 73 passes through the medium diameter hole 63h of the intermediate tray 63, and supports the bottom surface of the tray 64 to raise the workpiece G. However, the annular convex portion 76r of the elevating lid 76 supports the intermediate tray 63 and moves up during the process. The processing object G, together with the tray 64, is inserted into the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11, the movable reflectors 34, 3
During the period 4 ', the workpiece G is inserted into the heating section 25 via the opening 26 of the cylindrical reflector 24. As shown in FIG. 3, which is a sectional view similar to FIG. When the intermediate tray 63 contacts the bottom surface of the annular bottom portion 15 of the heat treatment chamber 11 and the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11 is sealed by the intermediate tray 63 and the lift lid 76. The ascent of 76 is stopped and the movable reflectors 34, 34 'are closed.

【００３６】図４は図３の状態、すなわち、被処理物Ｇ
が加熱区画２５内へ挿入されて熱処理室１１が密閉され
た時の状態を示す部分拡大図であり、熱処理室１１の円
環状底部１５が中間トレイ６３と昇降蓋７６、およびそ
れらの間に介装されたフッ素ゴム製Ｏ−リング１９、７
９とによって密閉されていることを示す。円環状底部１
５はその冷却水路１７によって冷却され、昇降蓋７６は
冷却水ジャケット７７によって冷却されているので、フ
ッ素ゴム製Ｏ−リング１９、７９は耐熱性ではあるが、
温度上昇が防がれることにより劣化せず、シール性を長
期間にわたって発揮する。また、フッ素ゴム製Ｏ−リン
グ１９、７９が上下に位置して介装されているので、中
間トレイ６３や昇降蓋７６に若干の傾きがあり、何れか
一方のＯ−リングだけではシールが困難な場合にも、傾
きを分担して吸収し熱処理室１１を確実に密閉する。FIG. 4 shows the state of FIG.
Is a partially enlarged view showing a state in which the heat treatment chamber 11 is closed by inserting the heat treatment chamber 25 into the heating section 25, and the annular bottom portion 15 of the heat treatment chamber 11 is provided with the intermediate tray 63, the elevating lid 76, and the interposition therebetween. Fluoro rubber O-rings 19, 7 mounted
9 indicates that the container is sealed. Annular bottom 1
5 is cooled by the cooling water passage 17 and the lift lid 76 is cooled by the cooling water jacket 77, so that the fluoro rubber O-rings 19 and 79 have heat resistance,
As the temperature rise is prevented, it does not deteriorate and exhibits sealing properties over a long period of time. In addition, since the fluoro rubber O-rings 19 and 79 are interposed at the top and bottom, the intermediate tray 63 and the elevating lid 76 are slightly inclined, and it is difficult to seal with only one of the O-rings. In such a case, the heat treatment chamber 11 is securely sealed by sharing the inclination and absorbing it.

【００３７】図５は図３における［５］−［５］線方向
の断面図であり、可動リフレクタ３４、３４’が閉じら
れている場合を示す。また、図６は可動リフレクタ３
４、３４’が開かれている場合、すなわち、図１の状態
を示す。可動リフレクタ３４、３４’は対称に設けられ
ているので、一方の可動リフレクタ３４に付いてその構
成を説明し、他方の可動リフレクタ３４’の対応する構
成要素には（’）付きの同じ符号を付する。図５におい
て、熱処理室１１の側壁１３に設けられた枝管１８内に
熱処理室１１のほぼ中心部まで２本のレール３３が設け
られており、そのレール３３上を走行する車輪３６ｗを
備えた台車３６の上面に半円環形状の可動リフレクタ３
４が貼り合わされている。台車３６の側端部にはシャフ
ト３７が取り付けられており、シャフト３７は枝管１８
のフランジ１８ｆに固定されたベローズ付きの水冷軸受
３８を挿通して熱処理室１１の外部へ取り出されてい
る。なお詳細は図示せずとも、水冷軸受３８に使用され
ている水はシャフト３７内からフレキシブルチューブ３
５を経由して台車３６内へ循環されており、台車３６を
冷却するようになっている。他方、フランジ１８ｆに固
定されたブランケット３０にエアシリンダ３１が固定さ
れており、エアシリンダ３１のロッド３２とシャフト３
７とがカップリング３９によって連結されている。すな
わち、可動リフレクタ３４はエアシリンダ３１を駆動源
として開閉される。FIG. 5 is a sectional view taken along the line [5]-[5] in FIG. 3, and shows a case where the movable reflectors 34 and 34 'are closed. FIG. 6 shows the movable reflector 3.
4, 34 'is open, that is, the state of FIG. Since the movable reflectors 34 and 34 'are provided symmetrically, the configuration of one movable reflector 34 will be described, and the corresponding components of the other movable reflector 34' will be denoted by the same reference numerals with ('). Attached. In FIG. 5, two rails 33 are provided in a branch pipe 18 provided on a side wall 13 of the heat treatment chamber 11 to a substantially central portion of the heat treatment chamber 11, and a wheel 36 w running on the rail 33 is provided. A semi-annular movable reflector 3 is provided on the upper surface of the carriage 36.
4 are pasted together. A shaft 37 is attached to a side end of the carriage 36, and the shaft 37 is connected to the branch pipe 18.
A water-cooled bearing 38 with a bellows fixed to the flange 18f is taken out of the heat treatment chamber 11. Although not shown in detail, water used for the water-cooled bearing 38 is supplied from the inside of the shaft 37 to the flexible tube 3.
The air is circulated through the carriage 5 into the carriage 36 to cool the carriage 36. On the other hand, the air cylinder 31 is fixed to the blanket 30 fixed to the flange 18f, and the rod 32 of the air cylinder 31 and the shaft 3 are fixed.
7 are connected by a coupling 39. That is, the movable reflector 34 is opened and closed using the air cylinder 31 as a drive source.

【００３８】図５に示すように、可動リフレクタ３４、
３４’が閉じられた円環状態においては、その外径は一
点鎖線で示す円筒状リフレクタ２４の外径とほぼ同一と
され、その内径は被処理物Ｇと共に加熱区画２５内へ挿
入されている昇降蓋７６の支柱７３に設けられた支柱部
リフレクタ７４の外径とほぼ同一とされている。そのこ
とによって、図３に示されているように、円筒状リフレ
クタ２４の開口２６は可動リフレクタ３４、３４’と支
柱部リフレレクタ７４とによって熱的に閉じられる。そ
して、図６を参照して、被処理物Ｇの挿入時、取り出し
時には、可動リフレクタ３４、３４’が障害とならない
ように、エアシリンダ３１、３１’のロッド３２、３
２’がシャフト３７、３７’をそれぞれ外側方へ引き出
すので、可動リフレクタ３４、３４’はそれぞれ側方の
枝管１８、１８’内へ引き込まれ、円筒状リフレクタ２
４の下方は開放される。As shown in FIG. 5, the movable reflector 34,
In an annular state in which 34 ′ is closed, the outer diameter is substantially the same as the outer diameter of the cylindrical reflector 24 indicated by a dashed line, and the inner diameter is inserted into the heating section 25 together with the workpiece G. The outer diameter of the pillar reflector 74 provided on the pillar 73 of the lifting lid 76 is substantially the same as that of the pillar reflector 74. Thereby, as shown in FIG. 3, the opening 26 of the cylindrical reflector 24 is thermally closed by the movable reflectors 34, 34 'and the column reflector 74. Referring to FIG. 6, when inserting or removing the object G, the rods 32, 3 'of the air cylinders 31, 31' are so arranged that the movable reflectors 34, 34 'do not become obstacles.
As 2 'pulls the shafts 37, 37' outward, respectively, the movable reflectors 34, 34 'are retracted into the lateral branches 18, 18' respectively, and the cylindrical reflector 2
4 is opened below.

【００３９】実施例１の真空熱処理装置１は以上のよう
に構成されるが、次にその作用を説明する。なお、図１
を参照し、可動リフレクタ３４、３４’が開放され、昇
降蓋７６が下降された真空熱処理装置１において、熱処
理室１１と搬送室４１は真空排気系２０によって排気さ
れて所定の真空度にあり、また、熱処理室１１の鏡蓋１
２と側壁１３の二重壁の間、水冷給電端子２７、円環状
底部１５の冷却水路１７、昇降蓋７６の冷却水ジャケッ
ト７７、可動リフレクタ３４、３４’の台車３６、３
６’内、水冷軸受け３８、３８’等は所定通りに水冷さ
れており、導入端子２８から加熱区画２５内へ挿入され
ている熱電対、搬送室４１の光センサ５２も作動状態に
あるものとする。The vacuum heat treatment apparatus 1 according to the first embodiment is configured as described above. Next, its operation will be described. FIG.
In the vacuum heat treatment apparatus 1 in which the movable reflectors 34 and 34 ′ are opened and the elevating lid 76 is lowered, the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41 are evacuated by the vacuum evacuation system 20 to a predetermined degree of vacuum, In addition, the mirror lid 1 of the heat treatment chamber 11
2 and the double wall of the side wall 13, a water-cooling power supply terminal 27, a cooling water channel 17 of the annular bottom 15, a cooling water jacket 77 of the elevating lid 76, and carts 36, 3 of the movable reflectors 34, 34 ′.
6 ′, the water-cooled bearings 38, 38 ′, etc. are water-cooled as specified, and the thermocouple inserted from the introduction terminal 28 into the heating compartment 25, and the optical sensor 52 of the transfer chamber 41 are also in the operating state. I do.

【００４０】搬送台６２に中間トレイ６３が載置され、
その上へ重ねて載置されたトレイ６４上の被処理物Ｇ
が、右側に隣接する準備室から仕切り扉４６を経由して
搬送室４１内へ搬入され、チェインコンベア５３によっ
て右方から左方へ搬送される。そして、図２を参照し
て、搬送台６２の前端部が光センサ５２の素子５２ａ、
５２ｂによって検出されると、チェインコンベア５３は
減速され、被処理物Ｇが加熱区画２５の直下に位置する
とチェインコンベア５３は停止される。続いて、搬送台
６２の前端側にストッパー５８が下方から突き出され、
エアシリンダ５４によって後端側にストッパー５９が回
動され持ち上げられて搬送台６２が固定される。The intermediate tray 63 is placed on the transfer table 62,
The object G to be processed on the tray 64 placed thereon
Is transported from the preparation room adjacent to the right side into the transfer chamber 41 via the partition door 46, and is transferred from the right to the left by the chain conveyor 53. Then, referring to FIG. 2, the front end of the transfer table 62 is the element 52 a of the optical sensor 52,
When it is detected by 52b, the chain conveyor 53 is decelerated, and when the object G is located immediately below the heating section 25, the chain conveyor 53 is stopped. Subsequently, a stopper 58 protrudes from below on the front end side of the transfer table 62,
The stopper 59 is rotated to the rear end side by the air cylinder 54 and lifted, and the transfer table 62 is fixed.

【００４１】図１を参照し、続いて昇降用のエアシリン
ダ８１が起動されてロッド８２が上昇され昇降蓋７６と
支柱７３を上昇させる。支柱７３は搬送台６２の大径穴
６２ｈおよび中間トレイ６３の中径穴６３ｈを挿通して
トレイ６４の底面に当接し、これを支持し持ち上げて被
処理物Ｇを熱処理室１１の挿入開口１６から円筒状リフ
レクタ２４の開口２６を経て加熱区画２５内へ挿入す
る。その途中において、昇降蓋７６の外周縁部の円環状
凸部７６ｒが搬送台６２の大径穴６２ｈを挿通し、続い
てフッ素ゴム製Ｏ−リング７９を介して中間トレイ６３
の底面を支持し持ち上げる。そして、図３に示すよう
に、被処理物Ｇが加熱区画２５内の所定の位置へ挿入さ
れると共に、図４に詳細を示すように、昇降蓋７６の円
環状凸部７６ｒがＯリング７９を介して中間トレイ６３
を支持した状態において、中間トレイ６３がフッ素ゴム
製Ｏ−リング１９を介して熱処理室１１の円環状底部１
５の下面と当接して押圧されることにより、熱処理室１
１の挿入開口１６が中間トレイ６３と昇降蓋７６とによ
って密閉される。Referring to FIG. 1, subsequently, an air cylinder 81 for elevating and lowering is activated, and a rod 82 is raised to raise a lifting lid 76 and a column 73. The column 73 is inserted through the large-diameter hole 62h of the transfer table 62 and the medium-diameter hole 63h of the intermediate tray 63 to abut the bottom surface of the tray 64, and supports and lifts the workpiece G to insert the workpiece G into the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11. Through the opening 26 of the cylindrical reflector 24 and into the heating compartment 25. On the way, the annular convex portion 76r on the outer peripheral edge of the elevating lid 76 passes through the large-diameter hole 62h of the transfer table 62, and then passes through the intermediate tray 63 via a fluorine rubber O-ring 79.
Support and lift the bottom of. Then, as shown in FIG. 3, the workpiece G is inserted into a predetermined position in the heating section 25, and as shown in detail in FIG. Through the intermediate tray 63
Is supported, the intermediate tray 63 is connected to the annular bottom portion 1 of the heat treatment chamber 11 via the fluoro rubber O-ring 19.
5 is pressed against the lower surface of the heat treatment chamber 1.
One insertion opening 16 is sealed by the intermediate tray 63 and the elevating lid 76.

【００４２】次いで、図３、図５に示すように、エアシ
リンダ３１、３１’によって可動リフレクタ３４、３
４’が両側から閉じられ、円筒状リフレクタ２４の挿入
開口２６の直下が可動リフレクタ３４、３４’と支柱部
リフレクタ７４とによって熱的に閉じられる。そして、
加熱区画２５の篭型ヒータ−２２に三相交流が通電され
て、例えば、高温度熱処理の場合には１８００℃〜２０
００℃の温度、±１０℃以内の温度精度で加熱され、熱
処理室１１は最高１０-4Ｐａの真空度まで真空排気され
る。この真空熱処理時、熱処理室１１は密閉されている
ので排気能力の小さい真空ポンプを使用しても所定の真
空度まで容易に排気することができる。そして、被処理
物Ｇから放出されるガスがある場合、そのガスは真空ポ
ンプによってその排気ラインへ除去される。また、円筒
状リフレクタ２４が熱的に閉じられているので、上記の
ような温度精度での加熱が可能であるほか、加熱区画２
５からの輻射熱が効果的に遮蔽されることから、図４に
示した熱処理室１１の挿入開口１６を密閉する中間トレ
イ６３と昇降蓋７６の温度上昇が防がれ、これらは水冷
されていることもあって、フッ素ゴム製のＯリング１
９、７９は劣化することなく長期間にわたってシール性
を発揮する。また、中間トレイ６３や昇降蓋７６の材料
に高価な耐熱性金属のタングステンやモリブデンを必要
とせず、一般的なステンレス鋼の使用が可能となりコス
トを低下させる。Then, as shown in FIGS. 3 and 5, the movable reflectors 34, 3 are moved by air cylinders 31, 31 '.
4 ′ is closed from both sides, and the portion immediately below the insertion opening 26 of the cylindrical reflector 24 is thermally closed by the movable reflectors 34, 34 ′ and the post reflector 74. And
A three-phase alternating current is supplied to the cage type heater 22 of the heating section 25, for example, in the case of high temperature heat treatment, 1800 ° C. to 20 ° C.
The heat treatment chamber 11 is heated at a temperature of 00 ° C. with a temperature accuracy within ± 10 ° C., and the heat treatment chamber 11 is evacuated to a degree of vacuum of up to 10 −4 Pa. At the time of this vacuum heat treatment, the heat treatment chamber 11 is sealed, so that even a vacuum pump having a small exhaust capacity can be easily evacuated to a predetermined degree of vacuum. When there is a gas released from the processing object G, the gas is removed to the exhaust line by a vacuum pump. In addition, since the cylindrical reflector 24 is thermally closed, it is possible to perform heating with the above-described temperature accuracy, and to perform heating with the heating section 2.
Since the radiant heat from 5 is effectively shielded, temperature rises of the intermediate tray 63 and the elevating lid 76 that seal the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11 shown in FIG. 4 are prevented, and these are water-cooled. O-ring 1 made of fluoro rubber
Nos. 9 and 79 exhibit sealing properties over a long period of time without deterioration. In addition, expensive intermediate materials such as tungsten or molybdenum, which is a heat-resistant metal, are not required for the material of the intermediate tray 63 and the elevating lid 76, so that general stainless steel can be used and the cost is reduced.

【００４３】被処理物Ｇから例えばワックスをガスとし
て除去する場合、また不活性ガス中で熱処理を行うこと
が必要な場合には、上記の真空熱処理時に、不活性ガス
導入管２９のノズル２９ｎから例えばアルゴンガスが導
入される。勿論、アルゴンガスに替えてヘリウムガスを
導入してもよく、場合によっては窒素ガス、その他を導
入してもよい。アルゴンガスの導入は熱処理室１１内に
おける被処理物Ｇからの放出ガス成分の分圧を低下させ
るので、脱ガスが効果的に進行させる。また、不活性ガ
ス中での熱処理は被処理物Ｇの加熱劣化を抑制する。こ
の不活性ガスを吹き込む場合にも、熱処理室１１は密閉
されており、アルゴンガスが搬送室４１へ流れ込むこと
はないので、アルゴンガスの消費量が節減される。In the case where, for example, wax is removed as a gas from the article to be processed G, or when it is necessary to perform heat treatment in an inert gas, the nozzle 29n of the inert gas introduction pipe 29 is used during the above vacuum heat treatment. For example, argon gas is introduced. Of course, helium gas may be introduced in place of argon gas, and in some cases, nitrogen gas or the like may be introduced. Since the introduction of the argon gas reduces the partial pressure of the gas component released from the processing object G in the heat treatment chamber 11, the degassing effectively proceeds. Further, the heat treatment in an inert gas suppresses the heat deterioration of the object to be processed G. Even when the inert gas is blown, the heat treatment chamber 11 is sealed and the argon gas does not flow into the transfer chamber 41, so that the consumption of the argon gas is reduced.

【００４４】所定の真空熱処理時間が経過すると、篭型
ヒータ２２への通電が停止され、不活性ガスが使用され
ている場合には吹き込みも停止される。次いで図６に示
すように、可動リフレクタ３４、３４’が両側方へ開か
れた後、エアシリンダ８１によってロッド８２が若干下
降されることにより、熱処理室１１の円環状底部１５と
中間トレイ６３との間に隙間ができて熱処理室１１と搬
送室４１との圧力差が解消される。昇降蓋７６は更に下
降され、被処理物Ｇがトレイ６４、中間トレイ６３と共
に搬送台６２上へ降ろされた後、支柱７３と昇降蓋７６
は更に最下点まで下降される。この時、搬送室４１は熱
処理室１１と共に真空排気されるが、搬送室４１の容積
も小さくされているので、搬送室４１は容易に高真空度
に到達する。その後、搬送台６２のストッパ５８、５９
による係止が解除されて、搬送室４１の左側のフランジ
４７の仕切り扉４８が開かれ、チェインコンベア５３が
起動されることにより、被処理物Ｇは搬送台６２と共に
仕切り扉４８を経由して左方に隣接する冷却室へ搬出さ
れる。After the elapse of a predetermined vacuum heat treatment time, the energization of the basket type heater 22 is stopped, and the blowing is stopped when an inert gas is used. Next, as shown in FIG. 6, after the movable reflectors 34 and 34 ′ are opened to both sides, the rod 82 is slightly lowered by the air cylinder 81, so that the annular bottom portion 15 of the heat treatment chamber 11 and the intermediate tray 63 The pressure difference between the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41 is eliminated. The elevating lid 76 is further lowered, and after the workpiece G is lowered onto the transfer table 62 together with the tray 64 and the intermediate tray 63, the column 73 and the elevating lid 76 are moved.
Is further lowered to the lowest point. At this time, the transfer chamber 41 is evacuated together with the heat treatment chamber 11, but since the volume of the transfer chamber 41 is reduced, the transfer chamber 41 easily reaches a high vacuum level. Thereafter, the stoppers 58, 59 of the transfer table 62
Is released, the partition door 48 of the flange 47 on the left side of the transfer chamber 41 is opened, and the chain conveyor 53 is activated, so that the workpiece G is transferred via the partition door 48 together with the transfer table 62. It is carried out to the cooling room adjacent to the left.

【００４５】すなわち、実施例１の真空熱処理装置１
は、熱処理室１１内に加熱区画２５を画成する円筒状リ
フレクタ２４の開口２６を可動リフレクタ３４、３４’
と支柱部リフレクタ７４とによって熱的に閉じることが
可能であるので、真空熱処理を高い温度精度で施すこと
ができ、更には、熱処理室１１の挿入開口１６を中間ト
レイ６３、昇降蓋７６およびフッ素ゴム製Ｏ−リング１
９、７９によって完全に密閉することが可能であるの
で、排気能力の小さい真空ポンプによって高真空度に排
気することができるほか、真空熱処理時に不活性ガスを
導入する場合にも少量のガス量で目的を達成し得る。ま
た、搬送室４１の容積が熱処理室１１の容積と同程度の
オーダに狭小化されているので、熱処理室１１と搬送室
４１との連通時においても、排気能力の小さい真空ポン
プによって高真空度に排気することができる。That is, the vacuum heat treatment apparatus 1 of the first embodiment
Moves the movable reflectors 34, 34 'with the opening 26 of the cylindrical reflector 24 defining the heating section 25 in the heat treatment chamber 11.
Since the heat treatment chamber 11 can be thermally closed by the support member 74 and the support 74, vacuum heat treatment can be performed with high temperature accuracy. Rubber O-ring 1
9, 79, it is possible to completely seal, so that it can be evacuated to a high degree of vacuum by a vacuum pump with a small evacuation capacity, and a small amount of gas is used even when introducing an inert gas during vacuum heat treatment. The goal can be achieved. In addition, since the volume of the transfer chamber 41 is reduced to the same order of magnitude as the volume of the heat treatment chamber 11, even when the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41 are in communication with each other, the vacuum pump having a small evacuation capacity is used to maintain a high vacuum. Can be exhausted.

【００４６】（実施例２）図７は実施例１における熱処
理室１１と冷却室９１とが上下に配置された金属焼入れ
用の真空熱処理装置２の断面図である。すなわち、床面
を掘り下げたピット９の段差面に支柱８が立てられてお
り、その支柱８に冷却室９１が支持されている。そし
て、冷却室９１の天井部の連通開口９４の周囲に設けら
れた低い円筒状のアダプタ９１Ａ上に、実施例１におい
て使用したものと同様な構成の熱処理室１１が設置され
ている。従って、熱処理室１１と、その挿入開口１６を
塞ぐ昇降蓋７６、および昇降蓋７６に関連する各種の構
成要素には実施例１の場合と同じ符号を付して、それら
の説明は省略する。(Embodiment 2) FIG. 7 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus 2 for metal quenching in which a heat treatment chamber 11 and a cooling chamber 91 in Embodiment 1 are arranged vertically. That is, the column 8 is erected on the step surface of the pit 9 dug down on the floor surface, and the cooling room 91 is supported by the column 8. The heat treatment chamber 11 having the same configuration as that used in the first embodiment is installed on a low cylindrical adapter 91A provided around the communication opening 94 in the ceiling of the cooling chamber 91. Accordingly, the heat treatment chamber 11, the elevating lid 76 closing the insertion opening 16 thereof, and various components related to the elevating lid 76 are denoted by the same reference numerals as in the first embodiment, and description thereof will be omitted.

【００４７】冷却室９１の連通開口９４はエアシリンダ
９３によって水平方向に往復動される円板状のゲート板
９３Ｐを備えたゲート弁９２によって開閉される。また
冷却室９１にはファンモータ９５が外付けされており、
その軸に取り付けられたファン９５Ｆが冷却室９１に設
けられた風洞９７内において回転され、風洞９７の外周
には冷媒チューブ９８が巻装されている。また、ファン
モータ９５と反対側には被処理物Ｊの搬入・取出扉９９
が取り付けられている。The communication opening 94 of the cooling chamber 91 is opened and closed by a gate valve 92 having a disk-shaped gate plate 93P which is reciprocated horizontally by an air cylinder 93. Further, a fan motor 95 is externally provided in the cooling chamber 91,
A fan 95F attached to the shaft is rotated in a wind tunnel 97 provided in the cooling chamber 91, and a refrigerant tube 98 is wound around the outer periphery of the wind tunnel 97. On the opposite side of the fan motor 95, a loading / unloading door 99 for the workpiece J is provided.
Is attached.

【００４８】図７は搬入・取出扉９９から搬入された一
点鎖線で示す位置へ搬入された被処理物Ｊが昇降蓋７６
の支柱７３に支持されて上昇され、連通開口９４、熱処
理室１１の挿入開口１６、円筒状リフレクタ２４内の二
点鎖線で示す位置へ挿入されると共に、可動リフレクタ
３４、３４’が閉じられ、熱処理室１１の挿入開口１６
が中間トレイ６３と昇降蓋７６とによって密閉された状
態を示す。この状態において、最終的に真空度１０-2Ｐ
ａ、温度１２００℃とする真空熱処理が行われる。FIG. 7 shows that the workpiece J loaded into the position shown by the dashed line and loaded from the loading / unloading door 99 is moved up and down the lid 76.
While being supported by the column 73 and inserted into the communication opening 94, the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11, and the position indicated by the two-dot chain line in the cylindrical reflector 24, and the movable reflectors 34 and 34 'are closed. Insertion opening 16 of heat treatment chamber 11
Indicates a state in which the intermediate tray 63 and the elevating lid 76 are sealed. In this state, the degree of vacuum finally becomes 10 -2 P
a, Vacuum heat treatment at a temperature of 1200 ° C. is performed.

【００４９】所定の真空熱処理が完了すると、可動リフ
レクタ３４、３４’が開かれ、昇降蓋７６と共に被処理
物Ｊが一点鎖線で示す下方の所定の位置まで下降され、
ゲート弁９２のゲート板９３Ｐがエアシリンダ９３によ
って押し出されて、冷却室９１の天井部の連通開口９４
を閉じる。そして、冷却室９１内へ例えば加圧窒素ガス
が導入され、ファン９５Ｆが回転されることにより、加
圧窒素ガスは循環され冷却されるが、その加圧窒素ガス
の冷風によって被処理物Ｊが所定の温度まで冷却される
と、装入・取出扉９９を解放して被処理物Ｊが取り出さ
れる。When the predetermined vacuum heat treatment is completed, the movable reflectors 34 and 34 'are opened, and the processing object J is lowered together with the lift lid 76 to a predetermined lower position indicated by a dashed line.
The gate plate 93P of the gate valve 92 is pushed out by the air cylinder 93, and the communication opening 94 in the ceiling of the cooling chamber 91 is opened.
Close. Then, for example, a pressurized nitrogen gas is introduced into the cooling chamber 91 and the fan 95F is rotated to circulate and cool the pressurized nitrogen gas. When cooled to a predetermined temperature, the loading / unloading door 99 is opened and the workpiece J is taken out.

【００５０】このように真空熱処理装置２においては、
真空熱処理時に、可動リフレクタ３４、３４’と支柱部
リフレクタ７４とによって熱処理室１１の加熱区画２５
からの輻射熱が遮蔽されると共に、熱処理室１１の挿入
開口１６が、中間トレイ６３と水冷の昇降蓋７６、フッ
素ゴム製Ｏ−リング１９、７９によって密閉されること
により、高い温度精度で、かつ排気能力の小さい真空ポ
ンプによっても高い真空度で真空熱処理が行われる。As described above, in the vacuum heat treatment apparatus 2,
At the time of vacuum heat treatment, the movable reflectors 34 and 34 ′ and the pillar reflector 74 are used to heat the heating section 25 of the heat treatment chamber 11.
And the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11 is hermetically sealed by the intermediate tray 63, the water-cooled elevating lid 76, and the O-rings 19, 79 made of fluoro rubber. Vacuum heat treatment is performed at a high degree of vacuum even with a vacuum pump having a small evacuation capacity.

【００５１】（実施例３）実施例１においては、熱処理
室１１を搬送室４１とが上下に並べられ、搬送室４１の
両側に準備室と冷却室が配置された真空熱処理装置１を
示したが、この熱処理室１１と搬送室４１との組み合わ
せを単位として連接して連続式の真空熱処理装置とする
ことが可能である。図８は熱処理室１１と搬送室４１と
の組み合わせの３単位が水平方向に連設され最後尾に冷
却室が接続された真空熱処理装置３の断面図である。す
なわち、熱処理室１１は左側から順に、脱ワックス室１
１1、第１燒結室１１2 、第２燒結室１１3 とされ、か
つ、それぞれの搬送室４１1、４１2 、４１3 および冷
却室４１4 は仕切り扉４2 、４3 、４4 を介して接続さ
れており、脱ワックス室１１1 の搬送室４１1 には搬入
扉４1 、冷却室４１4には搬出扉４5 が取り付けられた
ものである。そして、冷却室４１4 以外の３単位の熱処
理室１１1 〜１１3 と搬送室４１1 〜４１3 は実施例１
の熱処理室１１、搬送室４１と同様に構成されているの
で、主要な構成要素についてのみ符号を付してそれらの
説明は省略する。(Embodiment 3) In the first embodiment, the vacuum heat treatment apparatus 1 has the heat treatment chamber 11 in which the transfer chamber 41 is vertically arranged, and the preparation chamber and the cooling chamber are arranged on both sides of the transfer chamber 41. However, it is possible to form a continuous vacuum heat treatment apparatus by connecting the combination of the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41 as a unit. FIG. 8 is a cross-sectional view of the vacuum heat treatment apparatus 3 in which three units of the combination of the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41 are connected in the horizontal direction, and the cooling chamber is connected to the rear end. That is, the heat treatment chambers 11 are arranged in order from the left side.
1 1, first sintered chamber 11 2, is a second sintering chamber 11 3, and, each of the transfer chamber 41 1, 41 2, 41 3 and the cooling chamber 41 4 partition door 4 2, 4 3, 4 4 through and are connected, it carried door 4 1 the transfer chamber 41 1 dewaxing chamber 11 1, the cooling chamber 41 4 in which the unloaded door 4 5 attached. Then, a heat treatment chamber 11 1 to 11 3 of 3 units other than cooling chamber 41 4 transfer chamber 41 1-41 3 Example 1
Are configured in the same manner as the heat treatment chamber 11 and the transfer chamber 41, and only the main components are denoted by the reference numerals, and their description is omitted.

【００５２】冷却室４１4 には上流側の搬送室４１1 、
４２2、４１3 におけると同様なチェインコンベア５３4
が設けられており、外付けされたファンモータ８５に
よって冷却室４１4 の天井部のファン８５Ｆが回転さ
れ、図示せずとも外部から導入される加圧不活性ガスを
循環させる。また、冷却室４１4 の上部には加圧不活性
ガスを冷却するための熱交換器８８が設けられている。
そのほか、冷却室４１4には真空排気系２０4 が接続さ
れている。なお、実施例１の図１に示した真空熱処理装
置１における熱処理室１１の可動リフレクタ３４、３
４’は被処理物Ｇの流れる方向を開閉方向とするもので
あったが、図８の真空熱処理装置３においては、熱処理
室としての脱ワックス室１１1 、第１燒結室１１2 、第
２燒結室１１ 3 に冷却室４１4 を連接するものであるた
めに、各熱処理室における可動リフレクタの開閉方向は
被処理物Ｓの流れる方向とは直角な方向としている。従
って、図８においては開閉を駆動するエアシリンダは図
示されず、可動リフレクタ３４ 1 〜３４3 のみを簡略化
した形で示しているCooling chamber 41Four In the upstream transfer chamber 411 ,
422,41Three Chain conveyor 53 as inFour
 Is provided to the externally mounted fan motor 85.
Therefore, the cooling chamber 41Four The ceiling fan 85F is rotated
And pressurized inert gas introduced from outside (not shown).
Circulate. Also, the cooling chamber 41Four Inert pressure on top of
A heat exchanger 88 for cooling the gas is provided.
In addition, the cooling chamber 41FourHas a vacuum exhaust system 20Four Is connected
Have been. The vacuum heat treatment apparatus shown in FIG.
Movable reflectors 34, 3 of the heat treatment chamber 11 in the apparatus 1
Reference numeral 4 'designates the direction in which the object G flows as the opening / closing direction.
However, in the vacuum heat treatment apparatus 3 of FIG.
Dewaxing room 11 as a room1 , First sintering chamber 11Two ,
2 sintering chamber 11 Three Cooling room 41Four Is to connect
In order to open and close the movable reflector in each heat treatment room,
The direction is perpendicular to the direction in which the object S flows. Obedience
Therefore, in FIG. 8, the air cylinder for opening and closing is
Not shown, movable reflector 34 1 ~ 34Three Only simplify
Shown

【００５３】真空熱処理装置３は例えばタンタルの微粉
末を樟脳のようなバインダと共に加圧成形した被処理物
Ｓからを先ずバインダを除去し、すなわち、脱ワックス
し、続いてタンタルの微粉末を燒結するような場合に使
用される。すなわち、真空熱処理装置３の稼動時におけ
る真空度と加熱温度は、例えば、脱ワックス室１１1は
５００〜６００℃、１０2 〜１０-1Ｐａ、第１燒結室１
１2 は１４００〜１５００℃、１０-3Ｐａ、第２燒結室
１１3 は１８００℃〜２０００℃、１０-4Ｐａとするよ
うな条件下に被処理物Ｓが連続的に真空熱処理される。
真空熱処理の完了後、被処理物Ｓは冷却室４１4 へ移さ
れ、１０-3Ｐａ程度の真空度において約１００℃まで冷
却してから、導入される圧力０．５ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ程度
のアルゴンガスが熱交換器８８で冷却されファン８５Ｆ
によって循環されて更に冷却される。The vacuum heat treatment apparatus 3 first removes the binder from the object to be processed S, which is obtained by press-forming a fine powder of tantalum together with a binder such as camphor, that is, dewaxing, and then sinters the fine powder of tantalum. It is used in such a case. That is, the heating temperature and the degree of vacuum during the operation of the vacuum heat-treatment apparatus 3 is, for example, dewaxing chamber 11 1 is 500~600 ℃, 10 2 ~10 -1 Pa , the first sintered chamber 1
1 2 1400~1500 ℃, 10 -3 Pa, the second sintering chamber 11 3 1800 ° C. to 2000 ° C., the object to be treated S is continuously vacuum heat treatment under conditions such that a 10 -4 Pa.
After completion of the vacuum heat treatment, the object to be treated S is transferred to the cooling chamber 41 4, 10 -3 was cooled to about 100 ° C. in a vacuum degree of about Pa, pressure of about 0.5 kg / cm 2 G to be introduced Argon gas is cooled by heat exchanger 88 and fan 85F
And further cooled.

【００５４】このような真空熱処理装置３の脱ワックス
室１１1 、第１燒結室１１2 、第２燒結室１１3 におい
ては、それぞれ密閉下に脱ワックスされ、燒結されるの
で、それぞれの真空排気系２０1 、２０2 、２０3 は排
気能力が大きくなくとも所定の真空度を得ることが可能
である。また、密閉されているので例えば脱ワックス中
における搬送室４１1 のワックスによる汚染、ないしは
搬送室４１1 と連通されることによる搬送室４１2 のワ
ックスによる汚染が防がれるので、その汚染に基づく燒
結製品の品質劣化が解消される。The dewaxing chamber 11 1 , the first sintering chamber 11 2 , and the second sintering chamber 11 3 of the vacuum heat treatment apparatus 3 are dewaxed and sintered in a closed state, so that each of them is evacuated. the system 20 1, 20 2, 20 3 it is possible to obtain a predetermined degree of vacuum even not greater exhaust capacity. Moreover, contamination by wax transfer chamber 41 1 in so e.g. dewaxing in is sealed, or since contamination by wax transfer chamber 41 2 by being communicated with the transfer chamber 41 1 is prevented, based on the contaminated The deterioration of the quality of the sintered product is eliminated.

【００５５】本実施の形態による真空熱処理装置は以上
のように構成され作用するが、勿論、本発明はこれらに
限られることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々
の変形が可能である。The vacuum heat treatment apparatus according to the present embodiment is constructed and operates as described above, but, of course, the present invention is not limited to these, and various modifications are possible based on the technical idea of the present invention. .

【００５６】例えば本実施の形態においては、加熱区画
２５を円筒状リフレクタ２４によって画成したが、角筒
状リフレクタを採用してもよい。また本実施の形態にお
いては、被処理物と支持する昇降蓋をエアシリンダ８１
によって昇降するロッド８２によって昇降させるものと
したが、エアシリンダ以外の機構、例えばボールねじ機
構によってによってロッドを昇降させるようにしてもよ
い。また本実施の形態の実施例２においては、熱処理室
１１と窒素ガスの冷風による冷却室９１とが上下に配置
された例を示したが、ガスによる冷却室に替えて、被処
理物を油中に浸漬して冷却するような冷却室を設けても
よい。また実施例１においては、搬送機構の中間トレイ
６３を昇降蓋７６の円環状凸部７６ｒによって上昇させ
る場合を示したが、円環状凸部７６ｒではなく、全く別
な機構によって中間トレイ６３を上昇させるようにして
もよい。For example, in the present embodiment, the heating section 25 is defined by the cylindrical reflector 24, but a rectangular cylindrical reflector may be employed. Further, in the present embodiment, the lifting lid supporting the object to be processed is attached to the air cylinder 81.
However, the rod may be raised and lowered by a mechanism other than the air cylinder, for example, a ball screw mechanism. Further, in Example 2 of the present embodiment, an example is shown in which the heat treatment chamber 11 and the cooling chamber 91 using cold air of nitrogen gas are arranged vertically, but the object to be processed is made of oil instead of the cooling chamber using gas. A cooling chamber may be provided so as to be immersed and cooled. Further, in the first embodiment, the case where the intermediate tray 63 of the transport mechanism is raised by the annular convex portion 76r of the elevating lid 76 has been described, but the intermediate tray 63 is lifted not by the annular convex portion 76r but by a completely different mechanism. You may make it do.

【００５７】また実施例１においては、昇降蓋７６に伴
われて上昇する搬送機構の中間トレイ６３と、昇降蓋７
６とによって熱処理室１１の挿入開口１６を密閉する場
合を説明したが、搬送台６２に中間トレイ６３を持たな
い真空熱処理装置とすることも可能である。例えば、実
施例１とは異なる搬送機構において、実施例１の中間ト
レイ６３を二つ割りにして両側方への開閉を可能とした
可動支持部材６３ａ’、６３ｂ’によってトレイ６４を
支持し、実施例１の中間トレイ６３と昇降蓋７６とを一
体化させた形状の昇降蓋７６’に設けられた実施例１と
同様な支柱７３の先端が搬送機構上のトレイ６４の底面
に当接して上昇し始める同時に、円環状支持部材６３
ａ’、６３ｂ’を両側方へ移動させ、それらの間を昇降
蓋７６’が通過し上昇するようにしてもよい。この例で
は、熱処理室１１の環状底部１５の下面または昇降蓋７
６’の外周縁部の上面に、環状シーリング材、例えばフ
ッ素ゴム製０−リングが設けられる。所定の真空熱処理
の完了後、昇降蓋７６’が下降され離隔された円環状支
持部材６３ａ’、６３ｂ’の間を通過した時点で円環状
支持部材６３ａ’、６３ｂ’を閉じることにより、昇降
蓋７６’とその支柱７３はトレイ６４を円環状支持部材
６３ａ’、６３ｂ’上に残して最下点まで下降される。
可動リフレクタ３４、３４’が実施例１の場合と同様に
設けられることは言うまでもない。勿論、これ以外の機
構であってもよい。In the first embodiment, the intermediate tray 63 of the transport mechanism which rises with the lifting lid 76 and the lifting lid 7
6, the case where the insertion opening 16 of the heat treatment chamber 11 is sealed has been described. However, a vacuum heat treatment apparatus that does not have the intermediate tray 63 on the transfer table 62 is also possible. For example, in a transport mechanism different from that of the first embodiment, the intermediate tray 63 of the first embodiment is divided into two and the tray 64 is supported by movable support members 63a ′ and 63b ′ that can be opened and closed on both sides. The front end of a column 73 similar to that of the first embodiment provided on an elevating lid 76 ′ in which the intermediate tray 63 and the elevating lid 76 are integrated with each other comes into contact with the bottom surface of the tray 64 on the transport mechanism and starts to rise. At the same time, the annular support member 63
a ′, 63b ′ may be moved to both sides so that the lifting lid 76 ′ passes between them and rises. In this example, the lower surface of the annular bottom portion 15 of the heat treatment chamber 11 or the lift lid 7
An annular sealing material, for example, a 0-ring made of fluoro rubber is provided on the upper surface of the outer peripheral edge of 6 '. After completion of the predetermined vacuum heat treatment, the lifting / lowering lid 76 'is lowered to close the toroidal supporting members 63a', 63b 'at the time when the lid 76' has passed between the spaced annular supporting members 63a ', 63b'. 76 'and its support 73 are lowered to the lowest point, leaving the tray 64 on the annular support members 63a', 63b '.
Needless to say, the movable reflectors 34 and 34 'are provided in the same manner as in the first embodiment. Of course, other mechanisms may be used.

【００５８】[0058]

【発明の効果】本発明の真空熱処理装置は以上に説明し
たような形態で実施され、次に述べるような効果を奏す
る。The vacuum heat treatment apparatus of the present invention is implemented in the form described above, and has the following effects.

【００５９】請求項１の真空熱処理装置によれば、熱処
理室の挿入開口が環状シーリング材を介する昇降蓋によ
って密閉され、熱処理室の真空排気に際して搬送室また
は冷却室は排気されないので、排気能力の小さい真空ポ
ンプを使用しても所定の高真空度が得られ、真空熱処理
装置の製造コスト、ランニングコストを低下させる。ま
た、可動リフレクタと支柱部リフレクタによって筒状リ
フレクタの開口が熱的に閉じられるので、加熱区画内で
温度精度の高い真空熱処理が可能となるほか、輻射熱が
遮蔽される部分においては高価な耐熱性金属に替えて一
般的な鉄鋼材、ステンレス鋼材を採用することを可能に
し、この面からも真空熱処理装置の製造コストを低下さ
せる。According to the vacuum heat treatment apparatus of the first aspect, the insertion opening of the heat treatment chamber is closed by the elevating lid via the annular sealing material, and the transfer chamber or the cooling chamber is not evacuated when the heat treatment chamber is evacuated. Even if a small vacuum pump is used, a predetermined high degree of vacuum can be obtained, which reduces the manufacturing cost and running cost of the vacuum heat treatment apparatus. In addition, since the opening of the cylindrical reflector is thermally closed by the movable reflector and the pillar reflector, high-precision vacuum heat treatment can be performed in the heating compartment, and expensive heat resistance is used in areas where radiant heat is shielded. It is possible to adopt a general steel or stainless steel in place of metal, and in this respect, the manufacturing cost of the vacuum heat treatment apparatus can be reduced.

【００６０】請求項２の真空熱処理装置によれば、熱処
理室の挿入開口が昇降蓋と搬送機構の中間プレートとに
よって密閉され、その密閉は位置的に上下となる環状シ
ーリング材（１）と環状シーリング材（２）とを介して
行われるので、密閉が簡易にかつ確実に行われるほか、
昇降蓋に若干の傾きがある場合にも、その傾きを吸収し
て確実に密閉される。従って、熱処理室の真空排気に際
して搬送室または冷却室は排気されないので、排気能力
の小さい真空ポンプを使用しても所定の高真空度が得ら
れ、真空熱処理装置の製造コスト、ランニングコストを
低下させる。また、可動リフレクタと支柱部リフレクタ
によって筒状リフレクタの開口が熱的に閉じられるの
で、加熱区画内で温度精度の高い真空熱処理が可能とな
るほか、輻射熱が遮蔽される部分においては高価な耐熱
性金属に代えて一般的な鉄鋼材、ステンレス鋼材を採用
することを可能にし、この面からも真空熱処理装置の製
造コストを低下させる。According to the vacuum heat treatment apparatus of the second aspect, the insertion opening of the heat treatment chamber is sealed by the elevating lid and the intermediate plate of the transfer mechanism, and the sealing is performed by the annular sealing material (1) and the annular sealing material which are positioned vertically. Since sealing is performed through the sealing material (2), sealing is easily and reliably performed.
Even when the lifting lid has a slight inclination, the inclination is absorbed to ensure the hermetic sealing. Therefore, since the transfer chamber or the cooling chamber is not evacuated during the evacuation of the heat treatment chamber, a predetermined high degree of vacuum can be obtained even if a vacuum pump having a small evacuation capacity is used, and the manufacturing cost and running cost of the vacuum heat treatment apparatus are reduced. . In addition, since the opening of the cylindrical reflector is thermally closed by the movable reflector and the pillar reflector, high-precision vacuum heat treatment can be performed in the heating compartment, and expensive heat resistance is used in areas where radiant heat is shielded. This makes it possible to adopt a general steel or stainless steel material in place of metal, and in this respect also reduces the manufacturing cost of the vacuum heat treatment apparatus.

【００６１】請求項３の真空熱処理装置によれば、熱処
理室の加熱区画への被処理物の挿入と、熱処理室の密閉
と、加熱区画からの輻射熱の遮蔽とを同時に行うことを
可能し、被処理物の真空熱処理操作が合理化され、真空
熱処理のランニングコストを削減すると共に生産性を向
上させる。According to the vacuum heat treatment apparatus of the third aspect, it is possible to simultaneously insert the object to be processed into the heating section of the heat treatment chamber, seal the heat treatment chamber, and shield radiant heat from the heating section, Vacuum heat treatment of the object to be processed is streamlined, reducing the running cost of vacuum heat treatment and improving productivity.

【００６２】請求項４の真空熱処理装置によれば、可動
リフレクタと支柱部リフレクタとによる加熱区画からの
輻射熱の遮蔽に加えて、冷却手段によって熱処理室の環
状底板と昇降蓋との温度上昇が防がれるので、それらよ
り下方の構造材料に耐熱性金属を不要とし、それらの間
に介装させる環状シーリング材（１）、（２）として繰
り返しの使用に耐え、長期間にわたって優れたシール性
を保持するゴム製Ｏ−リングの使用を可能として、真空
熱処理装置の製造コスト、ランニングコストを大幅に低
下させる。また、可動リフレクタの温度上昇が防止され
歪みの発生が抑制されるので、可動リフレクタの円滑は
開閉が長期にわたって保証される。請求項５の真空熱処
理装置によれば、可動リフレクタが平板状で閉時には支
柱部リフレクタの外周に対応する位置まで移動されて環
状体を形成し、開時には分割されて側方へ移動されるも
のであり、その設置によって熱処理室の容積の大きく増
大させないので、熱処理室の排気に能力の大きい真空ポ
ンプを必要とせず、可動リフレクタを設置したことによ
る製造コスト、ランニングコストを上昇させない。According to the vacuum heat treatment apparatus of the fourth aspect, in addition to shielding the radiant heat from the heating section by the movable reflector and the pillar reflector, the cooling means prevents the temperature of the annular bottom plate of the heat treatment chamber and the elevating lid from rising. Since it is peeled off, a heat-resistant metal is not required for the structural material below them, and it can withstand repeated use as the annular sealing materials (1) and (2) interposed therebetween, and has excellent sealing properties for a long period of time. The use of a rubber O-ring to be held is made possible, thereby greatly reducing the manufacturing cost and running cost of the vacuum heat treatment apparatus. Further, since the temperature rise of the movable reflector is prevented and the occurrence of distortion is suppressed, the smooth opening and closing of the movable reflector is guaranteed for a long period of time. According to the vacuum heat treatment apparatus of the fifth aspect, when the movable reflector is flat and closed, the movable reflector is moved to a position corresponding to the outer periphery of the pillar portion reflector to form an annular body, and is divided and moved to the side when opened. In addition, since the installation does not greatly increase the volume of the heat treatment chamber, a vacuum pump having a large capacity for exhausting the heat treatment chamber is not required, and the production cost and running cost due to the installation of the movable reflector are not increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】実施例１の真空熱処理装置の断面図であり、被
処理物が下方にある状態を示す。FIG. 1 is a cross-sectional view of a vacuum heat treatment apparatus according to a first embodiment, showing a state where an object to be processed is below.

【図２】図１における［２］−［２］線方向の断面図で
ある。FIG. 2 is a sectional view taken along line [2]-[2] in FIG.

【図３】図１と同様な断面図であり、被処理物が熱処理
室内へ挿入された状態を示す。FIG. 3 is a cross-sectional view similar to FIG. 1, showing a state where an object to be processed is inserted into a heat treatment chamber.

【図４】図３の部分拡大図であり、中間トレイと昇降蓋
とによる熱処理室の密閉状態を示す。FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. 3, showing a state in which a heat treatment chamber is closed by an intermediate tray and an elevating lid.

【図５】図３における［５］−［５］線方向の断面図で
あり、可動リフレクタが閉じられた状態を示す。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line [5]-[5] in FIG. 3, showing a state in which a movable reflector is closed.

【図６】図５と同様な断面図であり、可動リフレクタが
開かれた状態を示す。FIG. 6 is a sectional view similar to FIG. 5, showing a state where a movable reflector is opened.

【図７】実施例２の真空熱処理装置の熱処理室と搬送室
の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a heat treatment chamber and a transfer chamber of a vacuum heat treatment apparatus according to a second embodiment.

【図８】実施例３の真空熱処理装置の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus of a third embodiment.

【図９】従来例１の真空熱処理装置の断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus of Conventional Example 1.

【図１０】従来例２の真空熱処理装置の断面図である。FIG. 10 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus of Conventional Example 2.

【図１１】従来例３の真空熱処理装置の断面図である。FIG. 11 is a sectional view of a vacuum heat treatment apparatus of Conventional Example 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 真空熱処理装置 １１ 熱処理室 １５ 円環状底部 １６ 挿入開口 １９ フッ素ゴム製Ｏ−リング ２４ 円筒状リフレクタ ２５ 加熱区画 ２６ 開口 ２９ 不活性ガス導入管 ３４ 可動リフレクタ ３４’ 可動リフレクタ ４１ 搬送室 ５３ チェインコンベア ６２ 搬送台 ６３ 中間トレイ ６４ トレイ ７３ 支柱 ７４ 支柱部リフレクタ ７９ フッ素ゴム製Ｏ−リング ８１ エアシリンダ ８２ ロッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum heat treatment apparatus 11 Heat treatment chamber 15 Annular bottom part 16 Insertion opening 19 Fluoro rubber O-ring 24 Cylindrical reflector 25 Heating section 26 Opening 29 Inert gas introduction pipe 34 Movable reflector 34 'Movable reflector 41 Transfer chamber 53 Chain conveyor 62 Conveyance table 63 Intermediate tray 64 Tray 73 Support 74 Support post reflector 79 Fluoro rubber O-ring 81 Air cylinder 82 Rod

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２２Ｆ 3/10 Ｂ２２Ｆ 3/10 Ｌ (72)発明者 佐藤 英剛 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 Ｆターム(参考） 4K018 DA05 DA12 DA24 DA28 DA32 DA33 DA38 DA45 4K050 AA02 AA04 BA01 BA16 CA09 CA13 CC03 CC07 CD08 CG01 CG10 CG29 DA01 EA03 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) // B22F 3/10 B22F 3/10 L (72) Inventor Eigo Sato 2500 Hagizono, Chigasaki-shi, Kanagawa Japan Company F term (reference) 4K018 DA05 DA12 DA24 DA28 DA32 DA33 DA38 DA45 4K050 AA02 AA04 BA01 BA16 CA09 CA13 CC03 CC07 CD08 CG01 CG10 CG29 DA01 EA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 真空排気可能な熱処理室と、 前記熱処理室と挿入開口を介して接合された搬送室また
は冷却室と、 前記熱処理室の内部に加熱区画を形成し下方に開口を有
する筒状リフレクタと、 前記搬送室または前記冷却室内に配置され、被処理物を
積載したトレイを搬送する搬送機構と、 前記トレイを下方から支持する１本または複数本の支柱
を備え、上昇されて被処理物を前記加熱区画内へ挿入す
ると共に前記挿入開口を塞ぐ昇降蓋と、 前記支柱に前記昇降蓋と平行に設けられた複数の支柱部
リフレクタと、 前記筒状リフレクタの下方に位置し、前記支柱部リフレ
クタの存在下に、前記筒状リフレクタの前記開口を熱的
に閉じるように作動する可動リフレクタと、 前記昇降蓋の上面の前記支柱より外側となる外周縁部、
または前記熱処理室の前記挿入開口を形成する環状底板
の下面に設けられた環状シーリング材と、から構成され
ることを特徴とする真空熱処理装置。1. A heat treatment chamber capable of being evacuated, a transfer chamber or a cooling room joined to the heat treatment chamber via an insertion opening, and a cylindrical section having a heating section formed inside the heat treatment chamber and having an opening below. A reflector, a transport mechanism disposed in the transport chamber or the cooling chamber, and transporting a tray loaded with an object to be processed, and one or more columns supporting the tray from below; An elevating lid that inserts an object into the heating compartment and closes the insertion opening; a plurality of strut reflectors provided on the strut in parallel with the elevating lid; and the strut located below the cylindrical reflector. A movable reflector that operates to thermally close the opening of the cylindrical reflector in the presence of the partial reflector, and an outer peripheral edge that is outside the support on the upper surface of the elevating lid,
Or an annular sealing material provided on a lower surface of an annular bottom plate forming the insertion opening of the heat treatment chamber. 【請求項２】 真空排気可能な熱処理室と、 前記熱処理室と挿入開口を介して接合された搬送室また
は冷却室と、 前記熱処理室の内部に加熱区画を形成し下方に開口を有
する筒状リフレクタと、 前記搬送室または前記冷却室内に配置され、被処理物が
積載されるトレイおよび前記トレイを支持し搬送する中
間トレイを備えた搬送機構と、 前記トレイを下方から支持する１本または複数本の支柱
を備え、上昇されて被処理物を前記加熱区画内へ挿入
し、上昇される前記中間トレイと共に前記熱処理室の前
記挿入開口を塞ぐ昇降蓋と、 前記支柱に前記昇降蓋と平行に設けられた複数の支柱部
リフレクタと、 前記筒状リフレクタの下方に位置し、前記支柱部リフレ
クタの存在下に、前記筒状リフレクタの前記開口を熱的
に閉じるように作動する可動リフレクタと、 前記昇降蓋の上面の前記支柱より外側となる外周縁部に
設けられた環状シーリング材（１）と前記熱処理室の前
記挿入開口を形成する環状底板の下面に設けられた環状
シーリング材（２）と、から構成されることを特徴とす
る真空熱処理装置。2. A heat treatment chamber capable of being evacuated, a transfer chamber or a cooling room joined to the heat treatment chamber via an insertion opening, and a cylindrical section having a heating section formed inside the heat treatment chamber and having an opening below. A reflector, a transport mechanism that is disposed in the transport chamber or the cooling chamber, and includes a tray on which the object to be processed is loaded, and an intermediate tray that supports and transports the tray; and one or more that supports the tray from below. The column includes a column, and the object to be processed is inserted into the heating section by being raised, and an elevating lid that closes the insertion opening of the heat treatment chamber together with the intermediate tray that is raised, and the column is parallel to the elevating lid. A plurality of support pillar reflectors provided, and operable to thermally close the opening of the cylindrical reflector in the presence of the support reflector, located below the cylindrical reflector; A dynamic reflector, an annular sealing material (1) provided on an outer peripheral edge of the upper surface of the lift lid, which is outside the support, and an annular sealing material provided on a lower surface of an annular bottom plate forming the insertion opening of the heat treatment chamber. And a material (2). 【請求項３】 前記昇降蓋が前記中間トレイを伴って上
昇され、被処理物を前記加熱区画内へ挿入すると共に、
前記環状シーリング材（１）によって前記昇降蓋と前記
中間トレイとをシールし、同時に前記環状シーリング材
（２）によって前記中間トレイと前記環状底板とをシー
ルして前記熱処理室を密閉し、かつ前記可動リフレクタ
と前記支柱部リフレクタとによって前記筒状リフレクタ
の前記開口を熱的に閉じて、前記加熱区画が真空下に加
熱され被処理物が真空熱処理される請求項２に記載の真
空熱処理装置。3. The elevating lid is raised with the intermediate tray to insert an object to be processed into the heating section.
The annular sealing material (1) seals the elevating lid and the intermediate tray, and the annular sealing material (2) simultaneously seals the intermediate tray and the annular bottom plate to seal the heat treatment chamber, and The vacuum heat treatment apparatus according to claim 2, wherein the opening of the cylindrical reflector is thermally closed by the movable reflector and the support portion reflector, and the heating section is heated under vacuum so that the workpiece is subjected to vacuum heat treatment. 【請求項４】 前記熱処理室の前記環状底板と前記昇降
蓋と前記可動リフレクタとに冷却手段を有する請求項２
または請求項３に記載の真空熱処理装置。4. A cooling means in said annular bottom plate, said lifting lid and said movable reflector of said heat treatment chamber.
Or the vacuum heat treatment apparatus according to claim 3. 【請求項５】 前記可動リフレクタが分割可能な平板状
に形成されており、閉時には前記支柱部リフレクタの外
周に対応する位置まで移動されて環状体を形成し、開時
には分割されて側方へ移動される請求項２から請求項４
までの何れかに記載の真空熱処理装置。5. The movable reflector is formed in a plate shape which can be divided, is moved to a position corresponding to the outer periphery of the pillar portion reflector when closed, and forms an annular body when opened, and is divided and laterally opened when opened. Claims 2 to 4 that are moved
The vacuum heat treatment apparatus according to any one of the above.
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