JP2001096103A - Pressure treatment apparatus - Google Patents
Pressure treatment apparatusInfo
- Publication number
- JP2001096103A JP2001096103A JP27656599A JP27656599A JP2001096103A JP 2001096103 A JP2001096103 A JP 2001096103A JP 27656599 A JP27656599 A JP 27656599A JP 27656599 A JP27656599 A JP 27656599A JP 2001096103 A JP2001096103 A JP 2001096103A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure vessel
- fluid
- cylinder
- pressure
- partition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、圧力容器内で、被
処理体を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと接触
させて処理するようにした加圧処理装置に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure processing apparatus for processing an object to be processed in a pressure vessel by contacting the object with a supercritical fluid, a subcritical fluid or a liquefied gas.
【０００２】[0002]
【従来の技術】携帯電話や衛星放送・通信などのマイク
ロ波回路には、従来の導波管や同軸ケーブルに代わって
マイクロストリップラインを用いた集積回路が採用され
ている。マイクロストリップライン回路は、ベース層
（金属）、誘電体層、マイクロストリップライン（金
属）から形成されている。この誘電体層（基板・薄膜）
には通常、フッ素樹脂ガラスやアルミナセラミックスな
どが用いられるが、より誘電率が小さく信号損失の少な
い誘電体材料として多孔質エアロゲルを用いることが行
われている（例えば特開平８−２２８１０５公報に開示
されている）。2. Description of the Related Art An integrated circuit using a microstrip line has been used in a microwave circuit for a cellular phone, satellite broadcasting, communication, or the like instead of a conventional waveguide or coaxial cable. The microstrip line circuit is formed from a base layer (metal), a dielectric layer, and a microstrip line (metal). This dielectric layer (substrate / thin film)
Usually, fluororesin glass, alumina ceramics, or the like is used, but porous aerogel is used as a dielectric material having a smaller dielectric constant and less signal loss (for example, disclosed in JP-A-8-228105). Has been).
【０００３】この多孔質エアロゲル膜を形成する方法と
して、基材上に湿潤ゲル膜を形成し、これを超臨界乾燥
する手法がある（例えば特開平９−２１３７９７に開示
されている）。上記超臨界乾燥法は、物質に固有の臨界
点（臨界温度、臨界圧力）を越えた状態の持つ「密度は
液体に近く、拡散係数や粘度は気体に近い」という気体
と液体の略中間状態の特性を応用したものである。湿潤
ゲル体を乾燥ゲル体に変えるときに、多孔体の内部の溶
媒を乾燥させるが常圧乾燥では気液界面での毛細管応力
が働き、収縮やクラックが発生するのに対して、超臨界
乾燥では気液界面が生じず、多孔体に収縮やクラックを
生じることなく乾燥できる。As a method for forming the porous airgel film, there is a method of forming a wet gel film on a base material and drying the wet gel film by supercritical drying (for example, disclosed in JP-A-9-21797). The above supercritical drying method has a state where the density exceeds the critical point (critical temperature, critical pressure) inherent to the substance, "the density is close to the liquid, and the diffusion coefficient and viscosity are close to the gas." This is an application of the characteristics described above. When a wet gel is converted to a dry gel, the solvent inside the porous body is dried, but in normal pressure drying, capillary stress at the gas-liquid interface acts, causing shrinkage and cracking. In this case, a gas-liquid interface does not occur, and the porous body can be dried without shrinking or cracking.
【０００４】超臨界乾燥装置としては、これまでに超臨
界抽出装置としてさまざまな装置技術が提案されてきて
いる。特開平３−１３５４０２号公報では、圧力容器内
筒を圧力容器外筒に挿入し、挿入可能としつつ両者の密
閉手段を設け、内筒、外筒いずれか一方をスライドさせ
内筒円周部に設けた開口部から材料を出し入れすること
を特徴とした装置が発明されている。また、特開平８−
１４３０７号公報では、圧力容器の上蓋、下蓋、にそれ
ぞれフィルタを一体的に固定したことを特徴にした装置
が発明されている。[0004] As a supercritical drying device, various device technologies have been proposed as a supercritical extraction device. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-135402, a pressure vessel inner cylinder is inserted into a pressure vessel outer cylinder, a sealing means for both is provided while enabling insertion, and either the inner cylinder or the outer cylinder is slid to form a seal around the inner cylinder circumference. There has been invented an apparatus characterized in that material is taken in and out of the provided opening. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 8-
Japanese Patent No. 14307 discloses an apparatus in which a filter is integrally fixed to an upper lid and a lower lid of a pressure vessel.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらはいず
れも被処理体を圧力容器に取り入れ、取り出しする場合
において必ずシール部材が容器内面と擦れるためシール
部材からの損耗による微粒子が発生する。集積回路の誘
電体層を超臨界乾燥する場合には、ごみなどの不要な微
粒子が存在しないこといわゆるパーティクルフリーが集
積回路の正常な動作のための必要不可欠な条件となる
が、従来ではパーティクルフリーを実現することは困難
であった。However, in any case, when the object to be processed is taken into and taken out of the pressure vessel, the seal member always rubs against the inner surface of the vessel, so that fine particles are generated due to wear from the seal member. When supercritically drying the dielectric layer of an integrated circuit, the so-called particle-free condition that there is no unnecessary fine particles such as dust is an indispensable condition for normal operation of the integrated circuit. Was difficult to achieve.
【０００６】また、集積回路など半導体産業において特
に生産性が極めて重要であるが、従来の技術では生産性
向上に不可欠な、温度制御精度や温度制御反応性それぞ
れの向上が困難であった。従って、被処理体を、超臨界
ガス、亜臨界ガス又は液化ガスと接触させて処理するよ
うにした、従来の超臨界抽出槽等の加圧処理装置では、
パーティクルフリーという点について配慮されておら
ず、集積回路など極めて清浄な雰囲気での処理が必要な
場合に対応できないという問題があった。Further, productivity is particularly important in the semiconductor industry such as integrated circuits, but it has been difficult to improve the temperature control accuracy and the temperature control reactivity, which are essential for improving the productivity, in the conventional technology. Therefore, in the pressurized processing apparatus such as a conventional supercritical extraction tank, the object to be processed is to be processed by contacting with a supercritical gas, a subcritical gas or a liquefied gas.
There has been a problem that no consideration is given to the point of particle-free, and it is not possible to cope with a case where processing in an extremely clean atmosphere such as an integrated circuit is required.
【０００７】本発明は上記問題点に鑑み、パーティクル
フリーの処理が可能な超臨界ガス抽出装置または液化ガ
ス抽出装置等の加圧処理装置を提供することにある。ま
た、生産性向上に不可欠な温度制御精度や温度制御応答
性を向上させることができる超臨界ガス抽出装置または
液化ガス抽出装置等の加圧処理装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a pressurized processing apparatus such as a supercritical gas extraction apparatus or a liquefied gas extraction apparatus capable of performing particle-free processing. Another object of the present invention is to provide a pressurized processing apparatus such as a supercritical gas extraction apparatus or a liquefied gas extraction apparatus, which can improve temperature control accuracy and temperature control responsiveness which are indispensable for improving productivity.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】この技術的課題を解決す
る本発明の技術的手段は、圧力容器１内で、被処理体２
１を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと接触させ
て処理するようにした加圧処理装置において、圧力容器
１は、一端が閉塞されたシリンダ６とシリンダ６の他端
開口を塞ぐ蓋体４とを備え、蓋体４をシリンダ６に対し
て該シリンダ６の軸方向に押圧する押圧手段が設けら
れ、シリンダ６の開口端面と、シリンダ６の開口端面１
１に対向する蓋体４の対向端面１２との間にシール部材
１３が設けられている点にある。The technical solution of the present invention for solving this technical problem is to provide a pressure vessel 1 with an object 2 to be treated.
In a pressurized processing apparatus in which the pressure vessel 1 is treated by bringing it into contact with a supercritical fluid, a subcritical fluid or a liquefied gas, the pressure vessel 1 has a cylinder 6 having one end closed and a lid for closing the other end of the cylinder 6 A pressurizing means for pressing the lid 4 against the cylinder 6 in the axial direction of the cylinder 6, wherein an opening end face of the cylinder 6 and an opening end face 1 of the cylinder 6 are provided.
1 in that a seal member 13 is provided between the cover member 4 and the opposing end surface 12 of the cover 4.
【０００９】本発明の他の技術的手段は、圧力容器１内
に、気密な空間を形成するように隔壁１５が設けられ、
該隔壁１５により形成した気密な空間内に、加熱手段１
７が設けられている点にある。本発明の他の技術的手段
は、圧力容器１への流体導入通路２５と流体排出通路２
６とが、前記隔壁１５の内側及び外側にそれぞれ連通す
るように、個別に設けられている点にある。本発明の他
の技術的手段は、圧力容器１への流体導入通路２５の途
中に超微粒子を補足するフィルタ２７が設けられている
点にある。Another technical means of the present invention is that a partition 15 is provided in the pressure vessel 1 so as to form an airtight space,
In the airtight space formed by the partition wall 15, the heating means 1
7 is provided. Other technical means of the present invention include a fluid introduction passage 25 to the pressure vessel 1 and a fluid discharge passage 2
6 are provided individually so as to communicate with the inside and outside of the partition wall 15, respectively. Another technical means of the present invention resides in that a filter 27 for capturing ultrafine particles is provided in the fluid introduction passage 25 to the pressure vessel 1.
【００１０】本発明の他の技術的手段は、圧力容器１の
内側に、断熱層３７が、この断熱層３７の内外を気密に
隔絶するように設けられ、断熱層３７の内外を連通する
連通通路３９が設けられ、この連通通路３９の途中に、
超微粒子を補足するフィルタ４０が設けられている点に
ある。本発明の他の技術的手段は、圧力容器１内で、被
処理体２１を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと
接触させて処理するようにした加圧処理装置において、
圧力容器１内に、被処理体２１を収納する隔壁４８が設
けられ、圧力容器１内に流入する流体の大部分が隔壁４
８内に流入するように、圧力容器１への流体導入通路５
１が設けられている点にある。Another technical means of the present invention is that a heat insulating layer 37 is provided inside the pressure vessel 1 so as to airtightly isolate the inside and outside of the heat insulating layer 37, and a communication between the inside and outside of the heat insulating layer 37. A passage 39 is provided, and in the middle of the communication passage 39,
The point is that a filter 40 for capturing ultrafine particles is provided. Another technical means of the present invention is a pressurized processing apparatus configured to contact the object to be processed 21 with a supercritical fluid, a subcritical fluid, or a liquefied gas in the pressure vessel 1,
A partition 48 for accommodating the object 21 is provided in the pressure vessel 1, and most of the fluid flowing into the pressure vessel 1 is
8 so as to flow into the pressure vessel 1.
1 is provided.
【００１１】本発明の他の技術的手段は、圧力容器１へ
の流体導入通路５１の途中に、超微粒子を補足するフィ
ルタ６０が設けられている点にある。本発明の他の技術
的手段は、圧力容器１内で、被処理体２１を、超臨界流
体、亜臨界流体又は液化ガスと接触させて処理するよう
にした加圧処理装置において、被処理体２１と圧力容器
１との間に断熱材からなる隔壁６９が設けられ、該隔壁
６９の流体の流入してくる側に、超微粒子を補足するフ
ィルタ７１が設置されている点にある。Another technical means of the present invention resides in that a filter 60 for capturing ultrafine particles is provided in the fluid introduction passage 51 to the pressure vessel 1. Another technical means of the present invention resides in a pressure processing apparatus configured to contact a processing target 21 with a supercritical fluid, a subcritical fluid, or a liquefied gas in a pressure vessel 1 for processing. A partition 69 made of a heat insulating material is provided between the pressure vessel 1 and the pressure vessel 1, and a filter 71 for capturing ultrafine particles is provided on a side of the partition 69 where a fluid flows.
【００１２】本発明の他の技術的手段は、前記隔壁６９
が、石英、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ 2Ｏ3などのセラミッ
クス、熱伝導率の低い金属のうち少なくとも１種、或い
は前記材料の組み合わせで構成されている点にある。本
発明の他の技術的手段は、前記フィルタ７１が、金属製
である点にある。Another technical means of the present invention is that the partition 69
Is quartz, SiC, SiThreeNFour, Al TwoOThreeSuch as ceramics
Or at least one of metals having low thermal conductivity, or
Is characterized by being composed of a combination of the above materials. Book
Another technical means of the present invention is that the filter 71 is made of metal.
It is in the point that is.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は、加圧処理装置である超臨界
ガス抽出装置の容器断面構造図を示している。図１にお
いて、圧力容器１は、容器円筒２と上蓋３と下蓋４とに
より処理空間を形成している。圧力容器１の内部は、超
臨界処理のため高圧雰囲気に保たれている。圧力容器１
の内圧を保持するために、上蓋３はボルト（図示してい
ない）で容器円筒２と固定され、通常運転では容器円筒
２と上蓋３とを固定したままで使用する。これにより、
容器円筒２と上蓋３とで一端が開口したシリンダ６が構
成されている。従って、圧力容器１は、一端が閉塞され
たシリンダ６と該シリンダ６の他端開口を塞ぐ蓋体（下
蓋）４とを備える。ただし、メンテナンス時には上蓋３
を容器円筒２から着脱することができる。圧力容器１の
内圧をシールするために、上蓋３と容器円筒２との間に
軸シール８が設けられている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross-sectional structure diagram of a container of a supercritical gas extraction device that is a pressure processing device. In FIG. 1, a pressure vessel 1 forms a processing space by a vessel cylinder 2, an upper lid 3 and a lower lid 4. The inside of the pressure vessel 1 is kept in a high-pressure atmosphere for supercritical processing. Pressure vessel 1
The upper cover 3 is fixed to the container cylinder 2 with bolts (not shown) in order to maintain the internal pressure of the container. In normal operation, the container cylinder 2 and the upper cover 3 are used while being fixed. This allows
The container cylinder 2 and the upper lid 3 constitute a cylinder 6 whose one end is open. Therefore, the pressure vessel 1 includes a cylinder 6 whose one end is closed and a lid (lower lid) 4 that closes the other end of the cylinder 6. However, during maintenance,
Can be detached from the container cylinder 2. To seal the internal pressure of the pressure vessel 1, a shaft seal 8 is provided between the upper lid 3 and the vessel cylinder 2.
【００１４】図示省略しているが、下蓋（蓋体）４をシ
リンダ６に対して該シリンダ６の軸方向に押圧する押圧
手段が設けられている。また、容器円筒２の下端面（即
ち、シリンダ６の開口端面）１１と、下蓋４の上面（即
ち、シリンダ６の開口端面に対向する蓋体４の対向端
面）１２との間にシール部材１３が設けられ、下蓋４は
その上面１２が容器円筒２の下端面１１に対してシール
部材１３を介して押圧されている。上記押圧手段は、図
示していないが、通常運転では上蓋３と容器円筒２とで
構成されるシリンダ６を固定した状態で、下蓋４を上下
に昇降するか、もしくは下蓋４を固定した状態で、シリ
ンダ６を上下方向に昇降するかのいずれかであればよ
い。Although not shown, pressing means for pressing the lower lid (lid) 4 against the cylinder 6 in the axial direction of the cylinder 6 is provided. A sealing member is provided between the lower end surface 11 of the container cylinder 2 (that is, the opening end surface of the cylinder 6) 11 and the upper surface of the lower lid 4 (that is, the facing end surface of the lid 4 that faces the opening end surface of the cylinder 6). An upper surface 12 of the lower lid 4 is pressed against a lower end surface 11 of the container cylinder 2 via a seal member 13. Although not shown, the pressing means raises and lowers the lower lid 4 or fixes the lower lid 4 in a state where the cylinder 6 composed of the upper lid 3 and the container cylinder 2 is fixed in normal operation. In this state, it is only necessary to move the cylinder 6 up and down.
【００１５】この場合、いずれにしても下蓋４と容器円
筒２の間のシール部材１３は運転ごとに圧力容器２と摺
動することがないため、シール部材１３の摩耗がなくシ
ール部材１３の摩耗に伴う微粒子が発生することがな
い。圧力容器１内に、気密な空間を形成するように隔壁
１５が設けられ、この隔壁１５は下蓋４の上面に気密に
取付られ、該隔壁１５により形成した気密な空間がヒー
タ格納室１６とされ、このヒータ格納室１６に加熱手段
である電気加熱ヒータ１７が設けられている。この電気
加熱ヒータ１７への電力供給は下蓋４を気密に貫通する
ヒータ電極１８を通じて行われるようになっている。In this case, in any case, the seal member 13 between the lower lid 4 and the container cylinder 2 does not slide on the pressure vessel 2 every time the operation is performed. No fine particles are generated due to abrasion. A partition 15 is provided in the pressure vessel 1 so as to form an air-tight space. The partition 15 is air-tightly mounted on the upper surface of the lower lid 4. An electric heater 17 as a heating means is provided in the heater storage chamber 16. The power supply to the electric heater 17 is performed through a heater electrode 18 that penetrates the lower lid 4 in an airtight manner.
【００１６】例えば隔壁１５上に、ボート容器２０が載
置固定されている。ボート容器２０にウエハ等の薄い円
盤状の被処理体２１が複数段に設置され、圧力容器１内
の隔壁１５外方が処理室２２とされている。処理室２２
の被処理体２１の近傍に雰囲気温度測定のための温度計
（図示省略）が設けられ、温度計により測定した温度に
基づいて処理室２２内の雰囲気温度が所望の温度になる
ように電気加熱ヒータ１７を制御するようになってい
る。この場合、圧力容器１内に加熱手段である電気加熱
ヒータ１７が設けられているため、被処理体２１の近傍
の雰囲気温度制御が精度よく行えると共に、制御応答性
も優れる。そのため、的確な処理が可能となり、生産性
の向上が可能となる。For example, a boat container 20 is mounted and fixed on the partition wall 15. A thin disk-shaped workpiece 21 such as a wafer is installed in a boat vessel 20 in a plurality of stages, and a processing chamber 22 is provided outside the partition 15 in the pressure vessel 1. Processing room 22
A thermometer (not shown) for measuring an ambient temperature is provided in the vicinity of the object 21 to be processed, and electric heating is performed so that the ambient temperature in the processing chamber 22 becomes a desired temperature based on the temperature measured by the thermometer. The heater 17 is controlled. In this case, since the electric heater 17 as the heating means is provided in the pressure vessel 1, the atmosphere temperature in the vicinity of the object 21 can be controlled with high accuracy, and the control response is excellent. Therefore, accurate processing can be performed and productivity can be improved.
【００１７】電気加熱ヒータ１７の構成部材は表面から
発塵などないような材料が選ばれるが、もしも微粒子が
発生しても隔壁１５により微粒子の処理室２２への進入
を防ぐことができる。２５は流体導入通路、２６は流体
排出通路で、流体導入通路２５により外部から超臨界流
体（ガス）を圧力容器１内に導入し、流体排出通路２６
により超臨界流体（ガス）を圧力容器１内から外部に排
出するようになっている。流体導入通路２５の途中に、
超微粒子を補足するフィルタ２７が設けられ、超臨界流
体の内部の微粒子が圧力容器１内に入るのを未然に防ぐ
ことができるようになっている。The material of the electric heater 17 is selected from materials that do not generate dust from the surface. However, even if fine particles are generated, the partition walls 15 can prevent the fine particles from entering the processing chamber 22. 25 is a fluid introduction passage, 26 is a fluid discharge passage, and a supercritical fluid (gas) is introduced into the pressure vessel 1 from the outside by the fluid introduction passage 25, and the fluid discharge passage 26
Thereby, the supercritical fluid (gas) is discharged from the inside of the pressure vessel 1 to the outside. In the middle of the fluid introduction passage 25,
A filter 27 for capturing ultra-fine particles is provided, so that particles inside the supercritical fluid can be prevented from entering the pressure vessel 1.
【００１８】隔壁１５はシールにより処理室２２とヒー
タ格納室１６とを気密に隔離しているため、隔壁１５内
外の圧力差で隔壁１５が破損しないように、圧力容器１
へのガス導入通路２５に、隔壁１５の内側及び外側に個
別に連通する連通通路２９，３０がそれぞれ設けられて
いる。また、流体排出通路２６に、隔壁１５の内側およ
び外側から個別に連通する連通通路３１，３２がそれぞ
れ設けられている。これにより、圧力容器１への流体導
入通路２５と流体排出通路２６とが、外部から圧力容器
１内の隔壁１５の内側及び外側にそれぞれ個別に連通す
るようになっている。Since the partition wall 15 hermetically separates the processing chamber 22 and the heater storage chamber 16 from each other by a seal, the pressure vessel 1 is designed to prevent the partition wall 15 from being damaged by a pressure difference between the inside and the outside of the partition wall 15.
The gas introduction passage 25 is provided with communication passages 29 and 30 that respectively communicate with the inside and outside of the partition wall 15. The fluid discharge passage 26 is provided with communication passages 31 and 32 that individually communicate from inside and outside of the partition wall 15. Thus, the fluid introduction passage 25 and the fluid discharge passage 26 to the pressure vessel 1 are individually connected to the inside and outside of the partition 15 in the pressure vessel 1 from the outside.
【００１９】流体導入通路２５の連通通路２９，３０の
圧力容器１側ポートには、超微粒子を補足するフィルタ
３３，３４が設けられている。これにより、超臨界流体
内部の微粒子が処理室２２内に入ることを２重に防ぐこ
とができるようになっている。圧力容器１の内側に断熱
層３７が設けられている。この断熱層３７はできる限り
気密質な材料で構成され、特に断熱層３７も超微粒子の
発生源になる可能性があるため、少なくとも断熱層３７
の最内面の材料は気密質な材料が採用され、これにより
断熱層３７からの超微粒子も断熱層３７の内側に侵入し
ないようにしている。Filters 33 and 34 for capturing ultrafine particles are provided at the pressure vessel 1 side ports of the communication passages 29 and 30 of the fluid introduction passage 25. This makes it possible to double prevent the fine particles inside the supercritical fluid from entering the processing chamber 22. A heat insulating layer 37 is provided inside the pressure vessel 1. The heat insulating layer 37 is made of a material that is as air-tight as possible. In particular, since the heat insulating layer 37 may also be a source of ultrafine particles, at least the heat insulating layer 37 is used.
An airtight material is adopted as the material on the innermost surface, so that ultrafine particles from the heat-insulating layer 37 do not enter the inside of the heat-insulating layer 37.
【００２０】断熱層３７は圧力容器１の容器円筒２に一
体的に取付けられているが、その取付面には気密シール
３８が設けられ、断熱層３７が、断熱層３７の内外を気
密に隔絶するようになっている。前記隔壁１５の場合と
同様に断熱層３７の内外の圧力差で断熱層３７が破損し
ないように、断熱層３７の内外を連通する連通通路３９
が設けられ、連通通路３９の最内面側の途中に超微粒子
を補足するフィルタ４０が設けられている。断熱層３７
を設けることにより容器円筒２などの圧力容器１の不要
な加熱を行うことなく、電気加熱ヒータ１７の投入電力
の節減が計られる。さらに、被処理体２１の近傍の雰囲
気温度制御が精度よく行えると共に、制御応答性も優
れ、的確な処理が可能となり、生産性の向上が可能とな
る。The heat insulating layer 37 is integrally attached to the container cylinder 2 of the pressure vessel 1, and an airtight seal 38 is provided on the mounting surface, and the heat insulating layer 37 hermetically isolates the inside and outside of the heat insulating layer 37. It is supposed to. Similarly to the case of the partition wall 15, a communication passage 39 communicating between the inside and outside of the heat insulating layer 37 so that the heat insulating layer 37 is not damaged by a pressure difference between the inside and outside of the heat insulating layer 37.
Is provided, and a filter 40 for capturing ultra-fine particles is provided in the middle of the communication passage 39 on the innermost surface side. Insulation layer 37
Is provided, unnecessary power of the pressure vessel 1 such as the vessel cylinder 2 is not heated, and power consumption of the electric heater 17 can be reduced. Further, the control of the ambient temperature in the vicinity of the processing target 21 can be performed with high accuracy, the control response is excellent, the processing can be performed accurately, and the productivity can be improved.
【００２１】なお、前記実施の形態では、容器円筒２と
上蓋３とで一端が開口したシリンダ６を構成し、該シリ
ンダ６の他端開口を塞ぐ蓋体を下蓋４で構成している
が、これに代え、容器円筒２と下蓋４とで一端が開口し
たシリンダを構成し、該シリンダ６の他端開口を塞ぐ蓋
体を上蓋３で構成するようにしてもよく、この場合、容
器円筒２の上端面（即ち、シリンダの開口端面）と、上
蓋３の下面（即ち、シリンダの開口端面に対向する上蓋
３の対向端面）との間にシール部材１３を設けるように
すればよい。また、シリンダ６は縦向きに代えて、横向
きのもの等であっても良い。In the above-described embodiment, the cylinder 6 and the upper lid 3 constitute the cylinder 6 having one end opened, and the lid closing the other end of the cylinder 6 is constituted by the lower lid 4. Alternatively, a cylinder having one end opened by the container cylinder 2 and the lower lid 4 may be formed, and a lid closing the other end of the cylinder 6 may be formed by the upper lid 3. The sealing member 13 may be provided between the upper end surface of the cylinder 2 (that is, the opening end surface of the cylinder) and the lower surface of the upper lid 3 (that is, the facing end surface of the upper lid 3 that faces the opening end surface of the cylinder). Further, the cylinder 6 may be horizontally oriented instead of being vertically oriented.
【００２２】図２は他の実施の形態を示し、前記図１の
実施の形態の場合と同様に、圧力容器１は、容器円筒２
と上蓋３と下蓋４とにより処理空間を形成している。圧
力容器１の内部は、超臨界処理のため高圧雰囲気に保た
れている。圧力容器１の内圧を保持するために、上蓋３
はボルト（図示されていない）で容器円筒２と固定さ
れ、通常運転では容器円筒２と上蓋３とを固定したまま
で使用する。これにより、容器円筒２と上蓋３とで一端
が開口したシリンダ６が構成されている。従って、圧力
容器１は、一端が閉塞されたシリンダ６と該シリンダ６
の他端開口を塞ぐ蓋体（下蓋）４とを備える。ただし、
メンテナンス時には上蓋３を容器円筒２から着脱するこ
とができる。圧力容器１の内圧をシールするために、上
蓋３と容器円筒２との間に軸シール４５が設けられてい
る。FIG. 2 shows another embodiment. As in the case of the embodiment of FIG.
The upper lid 3 and the lower lid 4 form a processing space. The inside of the pressure vessel 1 is kept in a high-pressure atmosphere for supercritical processing. In order to maintain the internal pressure of the pressure vessel 1,
Is fixed to the container cylinder 2 by bolts (not shown), and is used with the container cylinder 2 and the upper lid 3 fixed in normal operation. Thus, a cylinder 6 having one end opened by the container cylinder 2 and the upper lid 3 is configured. Therefore, the pressure vessel 1 includes the cylinder 6 having one end closed and the cylinder 6
And a lid (lower lid) 4 that closes the other end opening. However,
During maintenance, the upper lid 3 can be detached from the container cylinder 2. To seal the internal pressure of the pressure vessel 1, a shaft seal 45 is provided between the upper lid 3 and the vessel cylinder 2.
【００２３】図示省略しているが、下蓋（蓋体）４をシ
リンダ６に対して該シリンダ６の軸方向に押圧する押圧
手段が設けられている。ボート容器２０は下蓋４上に載
置され、ウエハ等の被処理体２１は、ボート容器２０に
セットされている。そして、容器円筒２の下端面と、下
蓋４の上面との間にシール部材４５が設けられている。
ボート容器２０及び被処理体２１は、さらに上面が閉じ
た円筒状の隔壁４８で囲まれている。隔壁４８は下蓋４
に載置され、隔壁４８内に処理室４９を形成している。Although not shown, pressing means for pressing the lower lid (lid) 4 against the cylinder 6 in the axial direction of the cylinder 6 is provided. The boat container 20 is placed on the lower lid 4, and the object 21 such as a wafer is set in the boat container 20. A seal member 45 is provided between the lower end surface of the container cylinder 2 and the upper surface of the lower lid 4.
The boat container 20 and the object to be processed 21 are further surrounded by a cylindrical partition wall 48 having a closed upper surface. Partition wall 48 is lower lid 4
And a processing chamber 49 is formed in the partition wall 48.
【００２４】圧力容器１への流体導入通路５１が上蓋３
を貫通するように設けられ、この流体導入通路５１の途
中に流体を加熱する加熱ヒータ５２が設けられており、
流体導入通路５１の流体は超臨界状態となって上蓋３か
ら圧力容器１の処理空間内に導入されている。流体導入
通路５１は、圧力容器１の処理空間内で主導入路５４と
副導入路５５に分岐しており、主導入路５４は、隔壁４
８の上壁部を貫通して隔壁４８内の処理室４９に連通さ
れており、主導入路５４から隔壁４８内の処理室４９に
流体が導入される。副導入路５５は圧力容器１内の隔壁
４８外部で終端し、圧力容器１の処理室４９に流入する
流体の一部を隔壁４８外にも流入するようになってい
る。従って、圧力容器１内に、被処理体２１を収納する
隔壁４８が設けられ、圧力容器１内に流入する流体の大
部分が隔壁４８内に流入するように、圧力容器１への流
体導入通路５１が設けられているのである。The fluid introduction passage 51 to the pressure vessel 1 is
Is provided so as to penetrate the fluid introduction passage 51, and a heater 52 for heating the fluid is provided in the middle of the fluid introduction passage 51.
The fluid in the fluid introduction passage 51 is in a supercritical state and is introduced from the upper lid 3 into the processing space of the pressure vessel 1. The fluid introduction passage 51 branches into a main introduction passage 54 and a sub introduction passage 55 in the processing space of the pressure vessel 1.
The fluid is introduced from the main introduction passage 54 into the processing chamber 49 in the partition 48 through the upper wall of the partition 8 and to the processing chamber 49 in the partition 48. The sub-introduction channel 55 terminates outside the partition 48 in the pressure vessel 1, and a part of the fluid flowing into the processing chamber 49 of the pressure vessel 1 also flows outside the partition 48. Therefore, a partition wall 48 for accommodating the object to be processed 21 is provided in the pressure vessel 1, and a fluid introduction passage to the pressure vessel 1 is provided so that most of the fluid flowing into the pressure vessel 1 flows into the partition wall 48. 51 is provided.
【００２５】圧力容器１への流体排出通路５７が下蓋４
を貫通するように設けられている。この流体排出通路５
７は、下蓋４部分で主排出路５８と副排出路５９とに分
岐しており、隔壁４８内外の流体がそれぞれ処理空間か
ら外部に排出可能になっている。前記流体導入通路５１
の途中の圧力容器１側ポートには超微粒子を補足するフ
ィルタ６０が設けられており、流体内部の微粒子が圧力
容器１の処理室４９内に入ることを防ぐことができるよ
うになっている。The fluid discharge passage 57 to the pressure vessel 1 is
Is provided so as to penetrate through. This fluid discharge passage 5
Reference numeral 7 denotes a lower lid 4 that is branched into a main discharge path 58 and a sub discharge path 59, so that the fluid inside and outside the partition wall 48 can be discharged from the processing space to the outside. The fluid introduction passage 51
A filter 60 for capturing ultra-fine particles is provided in the pressure vessel 1 side port in the middle of the above, so that particles in the fluid can be prevented from entering the processing chamber 49 of the pressure vessel 1.
【００２６】図３は他の実施の形態を示し、前記図１又
は図２の実施の形態の場合と同様に、圧力容器１は、容
器円筒２と上蓋３と下蓋４とにより処理空間を形成して
いる。圧力容器１の内部は、超臨界処理のため高圧雰囲
気に保たれている。圧力容器１の内部には、ウエハ等の
薄い円盤状の被処理体２１を設置するためのボート容器
２０が下蓋４上に載置固定されている。このボート容器
２０は前記実施の形態の場合と同様の構成であって、例
えば石英、或いはＳｉＣ等の材料で作成されている。ウ
エハ等の被処理体２１は、ボート容器２０にセットされ
ている。FIG. 3 shows another embodiment. As in the case of the embodiment of FIG. 1 or FIG. 2, the pressure vessel 1 has a processing space defined by a vessel cylinder 2, an upper lid 3 and a lower lid 4. Has formed. The inside of the pressure vessel 1 is kept in a high-pressure atmosphere for supercritical processing. Inside the pressure vessel 1, a boat vessel 20 for mounting a thin disk-shaped object 21 such as a wafer is mounted and fixed on the lower lid 4. The boat container 20 has the same configuration as that of the above-described embodiment, and is made of a material such as quartz or SiC. An object 21 such as a wafer is set in a boat container 20.
【００２７】圧力容器１の内圧を保持するために、上蓋
３及び下蓋４を容器円筒２に対して軸方向に押圧する押
圧手段が設けられている。そして、容器円筒２の上端部
内周面と上蓋３の下部外周面との間にシール部材６１が
設けられると共に、容器円筒２の下端面と下蓋４の上面
との間にシール部材６２が設けられている。前記シール
部材６１，６２は、例えばＯリング、Ｕパッキン、Ｖパ
ッキン等が使用可能である。圧力容器１内に高圧流体
（超臨界流体、亜臨界流体）を流すための流体導入通路
（配管）６４が、上蓋３に接続され、流体導入通路６４
の途中には超臨界状態にするために流体を加熱する加熱
手段である加熱ヒータ６５が設置されている。また、下
蓋４には、流体を流出するための流体排出通路（配管）
６６が設置されている。In order to maintain the internal pressure of the pressure vessel 1, a pressing means for pressing the upper lid 3 and the lower lid 4 against the container cylinder 2 in the axial direction is provided. A seal member 61 is provided between the inner peripheral surface of the upper end of the container cylinder 2 and the lower peripheral surface of the upper lid 3, and a seal member 62 is provided between the lower end surface of the container cylinder 2 and the upper surface of the lower lid 4. Have been. As the seal members 61 and 62, for example, an O-ring, U packing, V packing, or the like can be used. A fluid introduction passage (pipe) 64 for flowing a high-pressure fluid (supercritical fluid, subcritical fluid) into the pressure vessel 1 is connected to the upper lid 3, and a fluid introduction passage 64.
A heating heater 65 as heating means for heating the fluid in order to bring the fluid into a supercritical state is provided in the middle of the process. In addition, a fluid discharge passage (piping) for flowing out a fluid is provided in the lower lid 4.
66 are installed.
【００２８】被処理体２１と圧力容器１との間には雰囲
気を隔離するための隔壁６９が設置されている。この隔
壁６９は、流体導入通路６４を通して流入される超臨界
（或いは亜臨界）状態の流体の温度が低下しないため
に、石英、或いは熱伝導率の低いセラミックス、金属
（例えばアルミナ、Ｓｉ3Ｎ4、ＳＵＳなど）などで構成
されている。さらに、隔壁６９の流体が流入する側（図
３においては上方）には、ゴミなどを除去するためのフ
ィルタ７１が設置されている。フィルタ７１は、超臨界
（或いは亜臨界）状態とするための温度に耐え、かつ超
臨界（或いは亜臨界）状態で安定な材料を選択する必要
があり、金属製のものが望ましい。A partition 69 for isolating the atmosphere is provided between the object 21 and the pressure vessel 1. This partition wall 69 is made of quartz or ceramics or metals (for example, alumina, Si 3 N 4) having a low thermal conductivity so that the temperature of the supercritical (or subcritical) fluid flowing through the fluid introduction passage 64 does not decrease. , SUS, etc.). Further, a filter 71 for removing dust and the like is provided on the side of the partition wall 69 into which the fluid flows (upper in FIG. 3). For the filter 71, it is necessary to select a material that withstands a temperature for bringing the filter into a supercritical (or subcritical) state and is stable in the supercritical (or subcritical) state, and is preferably made of metal.
【００２９】前記図３の実施の形態では、上方（上蓋
３）から流体を流入し、下方（下蓋４）に流出するよう
にしているが、これに代え、下方（下蓋４）から流体を
流入し、上方（上蓋３）に流出するようにしてもよく、
或いは圧力容器１の横から流体を流入し、反対側に流出
することも可能である。これらの場合、前記フィルタ７
１は、下方から流入する場合は下側に、横方向から流入
する場合には横側の流体流入口の近傍に設置すればよ
い。いずれにしても、パーティクル除去の観点から、流
体の流れは一方向（上から下、或いは下から上、または
横から反対側横）とした方が良い。In the embodiment of FIG. 3, the fluid flows in from above (upper lid 3) and flows out below (lower lid 4). Instead, the fluid flows from below (lower lid 4). May flow in, and may flow out (upper lid 3),
Alternatively, the fluid can flow in from the side of the pressure vessel 1 and flow out to the opposite side. In these cases, the filter 7
1 may be installed on the lower side when flowing in from below, and near the fluid inlet on the lateral side when flowing in from the lateral direction. In any case, from the viewpoint of particle removal, it is preferable that the fluid flow is in one direction (from top to bottom, or from bottom to top, or from side to side on the opposite side).
【００３０】また、前記図３の実施の形態では、上から
下への一方向の流体流れとしており、隔壁６９の下部は
下蓋４と気密には接続されていないため、図４に示すよ
うに、一方向の流体流れとなるように、流体流量などに
気をつけ、更に構造物により（部分的にでも）流体が下
から上に流れないように設計する必要がある。図５は前
記図３の実施の形態の変形例を示し、前記図３の実施の
形態におけるような流体流れに対する問題を大幅に軽減
する方法を示すものである。即ち、図５の実施の形態で
は、下蓋４を、第一蓋部７５と第二蓋部７６とに分割し
た二重構造にし、第一蓋部７５と第二蓋部７６との間に
シール部材７７を介在している。隔壁６９は第二蓋部７
６に気密に固定され、下蓋４の第一蓋部７５に圧力容器
１内の隔壁６９内部に連通する第一流体排出通路７９が
設けられると共に、下蓋４の第二蓋部７６には、圧力容
器１内の隔壁６９の外側に連通する第二流体排出通路８
０が設けられている。Further, in the embodiment of FIG. 3, since the fluid flows in one direction from top to bottom, and the lower part of the partition wall 69 is not connected to the lower lid 4 in an airtight manner, as shown in FIG. In addition, it is necessary to pay attention to the fluid flow rate and the like so that the fluid flows in one direction, and to design the structure so that the fluid does not flow (even partially) from below to above. FIG. 5 shows a modification of the embodiment of FIG. 3 and shows a method of greatly reducing the problem with fluid flow as in the embodiment of FIG. That is, in the embodiment of FIG. 5, the lower lid 4 has a double structure divided into a first lid 75 and a second lid 76, and the lower lid 4 is provided between the first lid 75 and the second lid 76. A seal member 77 is interposed. The partition 69 is the second lid 7
6, a first fluid discharge passage 79 communicating with the inside of the partition wall 69 in the pressure vessel 1 is provided in the first lid portion 75 of the lower lid 4, and the second lid portion 76 of the lower lid 4 is provided in the first lid portion 75 of the lower lid 4. , The second fluid discharge passage 8 communicating with the outside of the partition wall 69 in the pressure vessel 1
0 is provided.
【００３１】従って、図６に示すように、流体導入通路
６４からフィルタ７１を通って隔壁６９内に入った流体
は、第一流体排出通路７９のみを通って外部に排出さ
れ、流体導入通路６４を通って圧力容器１の隔壁６９の
外側に入った流体は第二排出通路８０のみを通って外部
には排出されるため、圧力容器１内の被処理体２１は、
フィルタ７１を通して流入してくる清浄な流体（パーテ
ィクルを含んでいない流体）のみに接することになる。
なお、図５の実施の形態では、下蓋４を、第一蓋部７５
と第二蓋部７６とに分割した二重構造にしているが、こ
れに代え、下蓋４を分割せずに、隔壁６９を蓋体４に気
密に固定し、下蓋４に圧力容器１内の隔壁６９内部に連
通する第一流体排出通路７９と、圧力容器１内の隔壁６
９の外側に連通する第二流体排出路８０とを設けるよう
にしてもよい。Therefore, as shown in FIG. 6, the fluid that has entered the partition 69 from the fluid introduction passage 64 through the filter 71 is discharged to the outside only through the first fluid discharge passage 79, and the fluid introduction passage 64 Since the fluid that has passed through the outside of the partition wall 69 of the pressure vessel 1 is discharged to the outside only through the second discharge passage 80, the object 21 in the pressure vessel 1
Only the clean fluid (fluid containing no particles) flowing through the filter 71 comes into contact.
In the embodiment shown in FIG. 5, the lower cover 4 is
And the second lid 76 is divided into a double structure. Instead, the lower lid 4 is not divided and the partition 69 is airtightly fixed to the lid 4. A first fluid discharge passage 79 communicating with the inside of the partition wall 69 in the inside, and the partition wall 6 in the pressure vessel 1
9 and a second fluid discharge passage 80 communicating with the outside.
【００３２】なお、前記実施の形態では、本発明を、圧
力容器１内で被処理体２１を超臨界流体と接触させて処
理するようにした加圧処理装置について適用実施した場
合について説明したが、本発明はこれに限定されず、圧
力容器１内で被処理体２１を亜臨界流体又は液化ガスと
接触させて処理するようにした加圧処理装置について適
用実施するようにしてもよく、また被処理体２１はウエ
ハに限らず他のものであってもよい。In the above-described embodiment, the present invention has been described with respect to a case where the present invention is applied to a pressure processing apparatus in which the object to be processed 21 is brought into contact with a supercritical fluid in the pressure vessel 1 for processing. However, the present invention is not limited to this, and may be applied to a pressurized processing apparatus that performs processing by contacting the processing target 21 with a subcritical fluid or a liquefied gas in the pressure vessel 1, and The object to be processed 21 is not limited to a wafer and may be another object.
【００３３】[0033]
【発明の効果】本発明によれば、パーティクルフリーの
処理が可能な加圧処理装置を提供することができる。ま
た、生産性向上に不可欠な、温度制御精度や温度制御応
答性を向上させることができる。According to the present invention, it is possible to provide a pressure processing apparatus capable of performing particle-free processing. Further, it is possible to improve temperature control accuracy and temperature control responsiveness, which are essential for improving productivity.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明の一実施の形態を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.
【図２】他の実施の形態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment.
【図３】他の実施の形態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment.
【図４】同流体の流れを示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a flow of the fluid.
【図５】他の実施の形態を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing another embodiment.
【図６】同流体の流れを示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a flow of the fluid.
１ 圧力容器 ４ 下蓋（蓋体） ５ シリンダ １３ シール部材 １５ 隔壁 １７ 電気加熱ヒータ ２１ 被処理体 ２５ 流体導入通路 ２６ 流体排出通路 ２７ フィルタ ３９ 連通通路 ３７ 断熱層 ４０ フィルタ ４８ 隔壁 ５１ 流体導入通路 ６０ フィルタ ６４ 流体導入通路 ６９ 隔壁 ７１ フィルタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pressure container 4 Lower lid (lid) 5 Cylinder 13 Seal member 15 Partition 17 Electric heater 21 Object to be processed 25 Fluid introduction passage 26 Fluid discharge passage 27 Filter 39 Communication passage 37 Insulating layer 40 Filter 48 Partition 51 Fluid introduction passage 60 Filter 64 Fluid introduction passage 69 Partition 71 Filter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神田 剛 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 Ｆターム(参考） 3J046 AA20 BA05 BC15 DA04 4D056 AB01 AC24 BA16 CA21 CA36 CA37 CA40 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Tsuyoshi Kanda 2-3-1, Shinhama, Arai-machi, Takasago-shi, Hyogo F-term in Kobe Steel, Ltd. Takasago Works (reference) 3J046 AA20 BA05 BC15 DA04 4D056 AB01 AC24 BA16 CA21 CA36 CA37 CA40
Claims (10)
を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと接触させて
処理するようにした加圧処理装置において、 圧力容器（１）は、一端が閉塞されたシリンダ（６）と
シリンダ（６）の他端開口を塞ぐ蓋体（４）とを備え、
蓋体（４）をシリンダ（６）に対して該シリンダ（６）
の軸方向に押圧する押圧手段が設けられ、シリンダ
（６）の開口端面と、シリンダ（６）の開口端面（１
１）に対向する蓋体（４）の対向端面（１２）との間に
シール部材（１３）が設けられていることを特徴とする
加圧処理装置。1. An object to be processed (21) in a pressure vessel (1).
In which the pressure vessel (1) is brought into contact with a supercritical fluid, a subcritical fluid, or a liquefied gas, and the pressure vessel (1) comprises a cylinder (6) having one end closed, and a cylinder (6). A lid (4) for closing the end opening,
The lid (4) is attached to the cylinder (6) with respect to the cylinder (6).
A pressing means for pressing in the axial direction of the cylinder is provided, and an open end face of the cylinder (6) and an open end face (1) of the cylinder (6) are provided.
A pressure processing device, wherein a sealing member (13) is provided between the lid (4) and the facing end surface (12) facing the component (1).
するように隔壁（１５）が設けられ、該隔壁（１５）に
より形成した気密な空間内に、加熱手段（１７）が設け
られていることを特徴とする請求項１に記載の加圧処理
装置。2. A partition (15) is provided in the pressure vessel (1) so as to form an airtight space, and a heating means (17) is provided in the airtight space formed by the partition (15). The pressure processing apparatus according to claim 1, wherein the pressure processing apparatus is used.
５）と流体排出通路（２６とが、前記隔壁（１５）の内
側及び外側にそれぞれ連通するように、個別に設けられ
ていることを特徴とする請求項２に記載の加圧処理装
置。3. A fluid introduction passage (2) to a pressure vessel (1).
The pressure processing apparatus according to claim 2, wherein the fluid discharge passage (5) and the fluid discharge passage (26) are separately provided so as to communicate with the inside and the outside of the partition (15), respectively.
５）の途中に超微粒子を補足するフィルタ（２７）が設
けられていることを特徴とする請求項１に記載の加圧処
理装置。4. A fluid introduction passage (2) to a pressure vessel (1).
The pressure processing apparatus according to claim 1, wherein a filter (27) for capturing ultrafine particles is provided in the middle of the step (5).
７）が、この断熱層（３７）の内外を気密に隔絶するよ
うに設けられ、断熱層（３７）の内外を連通する連通通
路（３９）が設けられ、この連通通路（３９）の途中
に、超微粒子を補足するフィルタ（４０）が設けられて
いることを特徴とする請求項２に記載の加圧処理装置。5. A heat insulating layer (3) inside the pressure vessel (1).
7) is provided so as to airtightly isolate the inside and outside of the heat insulating layer (37), and a communication passage (39) communicating the inside and the outside of the heat insulating layer (37) is provided, and in the middle of the communication passage (39). The pressure processing apparatus according to claim 2, further comprising a filter (40) for capturing ultra-fine particles.
を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと接触させて
処理するようにした加圧処理装置において、 圧力容器（１）内に、被処理体（２１）を収納する隔壁
（４８）が設けられ、圧力容器（１）内に流入する流体
の大部分が隔壁（４８）内に流入するように、圧力容器
（１）への流体導入通路（５１）が設けられていること
を特徴とする加圧処理装置。6. An object (21) in a pressure vessel (1).
In a pressure treatment apparatus, which is brought into contact with a supercritical fluid, a subcritical fluid or a liquefied gas, in a pressure vessel (1), a partition (48) for accommodating the object (21) is provided. The fluid introduction passage (51) to the pressure vessel (1) is provided so that most of the fluid flowing into the pressure vessel (1) flows into the partition (48). Pressure treatment equipment.
１）の途中に、超微粒子を補足するフィルタ（６０）が
設けられていることを特徴とする請求項６に記載の加圧
処理装置。7. A fluid introduction passage (5) to a pressure vessel (1).
The pressure processing apparatus according to claim 6, wherein a filter (60) for capturing ultra-fine particles is provided in the middle of 1).
を、超臨界流体、亜臨界流体又は液化ガスと接触させて
処理するようにした加圧処理装置において、 被処理体（２１）と圧力容器（１）との間に断熱材から
なる隔壁（６９）が設けられ、該隔壁（６９）の流体の
流入してくる側に、超微粒子を補足するフィルタ（７
１）が設置されていることを特徴とする加圧処理装置。8. An object to be processed (21) in a pressure vessel (1).
In a pressure treatment apparatus, which is brought into contact with a supercritical fluid, a subcritical fluid or a liquefied gas, in which a partition wall (69) made of a heat insulating material is provided between the object (21) and the pressure vessel (1). ) Is provided, and a filter (7) for capturing ultrafine particles is provided on the side of the partition (69) where the fluid flows.
(1) A pressure treatment apparatus, wherein (1) is installed.
ｉ3Ｎ4、Ａｌ2Ｏ3などのセラミックス、熱伝導率の低い
金属のうち少なくとも１種、或いは前記材料の組み合わ
せで構成されていることを特徴とする請求項８に記載の
加圧処理装置。9. The partition (69) is made of quartz, SiC, S
i 3 N 4, Al 2 O 3 ceramics, such as at least one of a low thermal conductivity metal, or pressure treatment apparatus according to claim 8, characterized in that it is a combination of the materials .
ることを特徴とする請求項８に記載の加圧処理装置。10. Apparatus according to claim 8, wherein the filter (71) is made of metal.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27656599A JP4421028B2 (en) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | Pressure treatment device |
| US09/650,812 US6712081B1 (en) | 1999-08-31 | 2000-08-30 | Pressure processing device |
| TW089117660A TW510807B (en) | 1999-08-31 | 2000-08-30 | Pressure processing device |
| KR10-2000-0050990A KR100414723B1 (en) | 1999-08-31 | 2000-08-31 | Pressure processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27656599A JP4421028B2 (en) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | Pressure treatment device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001096103A true JP2001096103A (en) | 2001-04-10 |
| JP4421028B2 JP4421028B2 (en) | 2010-02-24 |
Family
ID=17571264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27656599A Expired - Fee Related JP4421028B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-09-29 | Pressure treatment device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4421028B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6895032B2 (en) | 2002-08-02 | 2005-05-17 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | High-pressure processing apparatus |
| JP2005288350A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Efficient heat insulating method and device for high-pressure device |
| CN100412422C (en) * | 2005-08-02 | 2008-08-20 | 中国海洋大学 | High-pressure container |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27656599A patent/JP4421028B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6895032B2 (en) | 2002-08-02 | 2005-05-17 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | High-pressure processing apparatus |
| JP2005288350A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | Efficient heat insulating method and device for high-pressure device |
| CN100412422C (en) * | 2005-08-02 | 2008-08-20 | 中国海洋大学 | High-pressure container |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4421028B2 (en) | 2010-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5290381A (en) | Plasma etching apparatus | |
| KR100414723B1 (en) | Pressure processing device | |
| US5833425A (en) | Semiconductor device manufacturing apparatus employing vacuum system | |
| WO2019036145A2 (en) | High pressure and high temperature anneal chamber | |
| US20020002947A1 (en) | Inductive coupling plasma processing apparatus | |
| JPH06158361A (en) | Plasma treating device | |
| KR101071603B1 (en) | Chamber and associated methods for wafer processing | |
| JPH01268030A (en) | Method and apparatus for plasma etching | |
| JP2001096103A (en) | Pressure treatment apparatus | |
| KR102616693B1 (en) | Substrate processing apparatus and method of purging gas supply pipes | |
| JP2017087188A (en) | Vacuum treatment device | |
| JP2001234346A (en) | Vacuum treating equipment utilizing reactive gas | |
| RU186568U1 (en) | Cell for studying the spectroscopic and microscopic characteristics of substances | |
| JP3075130B2 (en) | Microwave plasma processing equipment | |
| JP2786249B2 (en) | Vacuum processing equipment | |
| JPH0691053B2 (en) | Semiconductor wafer processing equipment | |
| KR102098557B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| JP3463785B2 (en) | Sealing device and processing device | |
| JPH01201131A (en) | Airtightness testing method | |
| JPH02146728A (en) | Plasma etching and device therefor | |
| JPS60102742A (en) | Controller for substrate temperature | |
| JP2006165475A5 (en) | ||
| KR20040079544A (en) | Wafer holder in vacuum atmosphere | |
| JPH07130715A (en) | Method and apparatus for plasma processing for semiconductor wafer | |
| KR20240007597A (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method and gas supply assembly |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060718 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091022 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091201 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091202 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |