JP2001093798A - ステージ装置 - Google Patents
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- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 37
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 238000013016 damping Methods 0.000 abstract description 4
- 230000009466 transformation Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Linear Motors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 座標系変換演算を行なうことなく、制振性能
を改善可能とする。 【解決手段】 除振台１上で移動するＹステージ２と、
該Ｙステージ２をＹ方向に駆動する２つのＹ軸リニアモ
ータ３ａ，３ｂと、該Ｙステージ２上で移動するＸステ
ージ４と、該Ｘステージ４をＸ方向に駆動するＸ軸リニ
アモータ５とを有し、除振台１に力を与えるための複数
のアクチュエータには２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３
ｂの駆動方向と同一直線上に配置されて除振台１を駆動
する２つのアクチュエータ６ａ，６ｂを含み、２つのＹ
軸リニアモータ３ａ，３ｂの駆動指令値の比率を２つの
アクチュエータ６ａ，６ｂの駆動指令値の比率と等しく
する。
を改善可能とする。 【解決手段】 除振台１上で移動するＹステージ２と、
該Ｙステージ２をＹ方向に駆動する２つのＹ軸リニアモ
ータ３ａ，３ｂと、該Ｙステージ２上で移動するＸステ
ージ４と、該Ｘステージ４をＸ方向に駆動するＸ軸リニ
アモータ５とを有し、除振台１に力を与えるための複数
のアクチュエータには２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３
ｂの駆動方向と同一直線上に配置されて除振台１を駆動
する２つのアクチュエータ６ａ，６ｂを含み、２つのＹ
軸リニアモータ３ａ，３ｂの駆動指令値の比率を２つの
アクチュエータ６ａ，６ｂの駆動指令値の比率と等しく
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置等
に適した除振手段を備えるステージ装置に関するもので
ある。
に適した除振手段を備えるステージ装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】除振台上に光学顕微鏡や半導体露光用Ｘ
Ｙステージ等が搭載された装置では、外部から伝達する
振動を極力除去する必要がある。さらに、露光用ＸＹス
テージの場合にはウエハ上の露光領域を切り替えるため
にステップ・アンド・リピートあるいはステップ・アン
ド・スキャンという間欠運転を駆動モードとして持ち、
繰り返しのステップまたはスキャン振動を自らが発生
し、これが除振台の揺れを発生させることにも注意せね
ばならない。この振動がおさまらない状態では露光をす
ることは不可能である。したがって、除振台には、外部
振動に対する除振と搭載された機器自身の運動に起因し
た強制振動に対する制振とをバランスよく実現すること
が求められる。
Ｙステージ等が搭載された装置では、外部から伝達する
振動を極力除去する必要がある。さらに、露光用ＸＹス
テージの場合にはウエハ上の露光領域を切り替えるため
にステップ・アンド・リピートあるいはステップ・アン
ド・スキャンという間欠運転を駆動モードとして持ち、
繰り返しのステップまたはスキャン振動を自らが発生
し、これが除振台の揺れを発生させることにも注意せね
ばならない。この振動がおさまらない状態では露光をす
ることは不可能である。したがって、除振台には、外部
振動に対する除振と搭載された機器自身の運動に起因し
た強制振動に対する制振とをバランスよく実現すること
が求められる。
【０００３】また、除振台は能動的除振台と受動的除振
台に分類され、除振台上の搭載機器に対する高精度位置
決め、高精度スキャン、高速移動等の要求に応えるた
め、最近は能動的除振台を用いる傾向が強い。除振台を
駆動するアクチュエータとしては、空気バネ、ボイスコ
イルモータ、圧電素子等がある。
台に分類され、除振台上の搭載機器に対する高精度位置
決め、高精度スキャン、高速移動等の要求に応えるた
め、最近は能動的除振台を用いる傾向が強い。除振台を
駆動するアクチュエータとしては、空気バネ、ボイスコ
イルモータ、圧電素子等がある。
【０００４】能動的除振台では、ステージを駆動したと
きの駆動反力による揺れを抑えるようにアクチュエータ
を駆動させる。しかし、ステージの移動速度が高速にな
ると駆動反力も大きくなるが、それを補正するために位
置制御ループゲインを高くすると、床振動が除振台に伝
わりやすくなってしまうという、除振性能と制振性能の
トレードオフが生じてしまう。
きの駆動反力による揺れを抑えるようにアクチュエータ
を駆動させる。しかし、ステージの移動速度が高速にな
ると駆動反力も大きくなるが、それを補正するために位
置制御ループゲインを高くすると、床振動が除振台に伝
わりやすくなってしまうという、除振性能と制振性能の
トレードオフが生じてしまう。
【０００５】そこで、特開平９−１３４８７６号公報に
記載されているように、駆動反力をアクチュエータ座標
系に変換する演算を行なって駆動反力補償を行なう方法
が考えられている。
記載されているように、駆動反力をアクチュエータ座標
系に変換する演算を行なって駆動反力補償を行なう方法
が考えられている。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】上記従来の方法で
は駆動反力をアクチュエータ座標系に変換するための演
算処理が必要であり、余分のアナログ回路が必要となっ
たり、あるいは、高速のＣＰＵを使用しなければならな
い、という問題がある。
は駆動反力をアクチュエータ座標系に変換するための演
算処理が必要であり、余分のアナログ回路が必要となっ
たり、あるいは、高速のＣＰＵを使用しなければならな
い、という問題がある。
【０００７】本発明は、このような座標系変換演算を行
なうことなく、制振性能を改善することができるステー
ジ装置を提供することを目的とする。
なうことなく、制振性能を改善することができるステー
ジ装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用】上記の課題を解
決するため、本発明では、除振台と、該除振台上で移動
するステージと、該ステージを駆動するための複数のス
テージ駆動機構と、該除振台に力を与えるための複数の
アクチュエータとを備え、該複数のステージ駆動機構へ
の指令信号に基いて、該アクチュエータの指令値を算出
することを特徴とする。本発明の実施の形態として、除
振台と、除振台を支持するマウントと、除振台上で移動
するＹステージと、ＹステージをＹ方向に駆動する２つ
のＹ軸リニアモータと、Ｙステージ上で移動するＸステ
ージと、ＸステージをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモー
タと、前記Ｙ軸リニアモータの駆動方向と同一直線上に
配置されて除振台を駆動する２つのアクチュエータとを
持ち、前記２つのＹ軸リニアモータの駆動指令値の比率
を前記２つのアクチュエータの駆動指令値の比率と等し
くすることが好ましい。
決するため、本発明では、除振台と、該除振台上で移動
するステージと、該ステージを駆動するための複数のス
テージ駆動機構と、該除振台に力を与えるための複数の
アクチュエータとを備え、該複数のステージ駆動機構へ
の指令信号に基いて、該アクチュエータの指令値を算出
することを特徴とする。本発明の実施の形態として、除
振台と、除振台を支持するマウントと、除振台上で移動
するＹステージと、ＹステージをＹ方向に駆動する２つ
のＹ軸リニアモータと、Ｙステージ上で移動するＸステ
ージと、ＸステージをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモー
タと、前記Ｙ軸リニアモータの駆動方向と同一直線上に
配置されて除振台を駆動する２つのアクチュエータとを
持ち、前記２つのＹ軸リニアモータの駆動指令値の比率
を前記２つのアクチュエータの駆動指令値の比率と等し
くすることが好ましい。
【０００９】これによれば、ステージの２つのＹ軸リニ
アモータの推力比率をそのまま駆動反力を補償する２つ
のアクチュエータの推力比率として用いるので、簡単な
演算によって制振性能を改善することができる。
アモータの推力比率をそのまま駆動反力を補償する２つ
のアクチュエータの推力比率として用いるので、簡単な
演算によって制振性能を改善することができる。
【００１０】また、除振台と、該除振台上で移動するス
テージと、該ステージを駆動するためのステージ駆動機
構と、該ステージの位置を計測するための計測器と、該
除振台に力を与えるための複数のアクチュエータとを備
え、該ステージ駆動機構への指令信号と、該ステージの
位置計測値とに基いて、該アクチュエータの指令値を算
出することにしてもよい。
テージと、該ステージを駆動するためのステージ駆動機
構と、該ステージの位置を計測するための計測器と、該
除振台に力を与えるための複数のアクチュエータとを備
え、該ステージ駆動機構への指令信号と、該ステージの
位置計測値とに基いて、該アクチュエータの指令値を算
出することにしてもよい。
【００１１】この場合の実施の形態として、除振台と、
除振台を支持するマウントと、除振台上で移動するＹス
テージと、ＹステージをＹ方向に駆動する２つのＹ軸リ
ニアモータと、Ｙステージ上で移動するＸステージと、
ＸステージをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモータと、前
記Ｙ軸リニアモータの駆動方向と同一直線上に配置され
て除振台を駆動する２つのアクチュエータとを持ち、該
２つのＹ軸アクチュエータの駆動指令値の比率を、前記
Ｘステージの位置計測値に基いて分配することが望まし
い。これによっても、簡単な演算により制振性能を改善
することができる。
除振台を支持するマウントと、除振台上で移動するＹス
テージと、ＹステージをＹ方向に駆動する２つのＹ軸リ
ニアモータと、Ｙステージ上で移動するＸステージと、
ＸステージをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモータと、前
記Ｙ軸リニアモータの駆動方向と同一直線上に配置され
て除振台を駆動する２つのアクチュエータとを持ち、該
２つのＹ軸アクチュエータの駆動指令値の比率を、前記
Ｘステージの位置計測値に基いて分配することが望まし
い。これによっても、簡単な演算により制振性能を改善
することができる。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明の一実施例に係る半導体露光
装置における除振手段を備えたステージ装置を上から見
たときの構成を示す。図１において、１は除振台、２は
Ｙステージ、３ａ，３ｂはＹ軸リニアモータ、４はＸス
テージ、５はＸ軸リニアモータ、６ａ，６ｂは除振台１
をＹ軸方向に駆動するＹ軸アクチュエータであり、７
ａ，７ｂは除振台１をＸ軸方向に駆動するＸ軸アクチュ
エータである。ステージ装置をＸ方向から見た時の構成
を図２に示す。８ａ，８ｂは除振台１を支持するマウン
ト、９はダンパである。
装置における除振手段を備えたステージ装置を上から見
たときの構成を示す。図１において、１は除振台、２は
Ｙステージ、３ａ，３ｂはＹ軸リニアモータ、４はＸス
テージ、５はＸ軸リニアモータ、６ａ，６ｂは除振台１
をＹ軸方向に駆動するＹ軸アクチュエータであり、７
ａ，７ｂは除振台１をＸ軸方向に駆動するＸ軸アクチュ
エータである。ステージ装置をＸ方向から見た時の構成
を図２に示す。８ａ，８ｂは除振台１を支持するマウン
ト、９はダンパである。
【００１３】除振台１は、Ｘ軸に垂直な受面１ａと、Ｙ
軸に垂直な受面１ｂとを有し、床Ｆ等の上に所定の姿勢
にて保持される。Ｙ軸リニアモータ３ａ，３ｂとＸ軸リ
ニアモータ５とは、それぞれ対応するＹステージ２とＸ
ステージ４とを駆動するための複数のステージ駆動機構
を構成している。
軸に垂直な受面１ｂとを有し、床Ｆ等の上に所定の姿勢
にて保持される。Ｙ軸リニアモータ３ａ，３ｂとＸ軸リ
ニアモータ５とは、それぞれ対応するＹステージ２とＸ
ステージ４とを駆動するための複数のステージ駆動機構
を構成している。
【００１４】Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂは、ダンパ
９を介して床Ｆ等の上に支持されており、図２に示すク
ランク状に曲がり除振台１の受面１ｂに係合する伝達部
材１２を介して該除振台１にＹ軸方向の力を与える。Ｘ
軸アクチュエータ７ａ，７ｂは、除振台１の受面１ａに
係合する伝達部材１４を介して該除振台１にＸ軸方向の
力を与える。
９を介して床Ｆ等の上に支持されており、図２に示すク
ランク状に曲がり除振台１の受面１ｂに係合する伝達部
材１２を介して該除振台１にＹ軸方向の力を与える。Ｘ
軸アクチュエータ７ａ，７ｂは、除振台１の受面１ａに
係合する伝達部材１４を介して該除振台１にＸ軸方向の
力を与える。
【００１５】次に、図１および図２に示したステージ装
置の動作について説明する。除振台１はマウント８ａ，
８ｂによって外部からの振動を伝達しないように支持さ
れている。除振台１上にはＸＹステージが搭載されてお
り、２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂはＸＹステージ
全体をＹ軸方向に駆動する。Ｙステージ２上にＸステー
ジ４とＸ軸リニアモータ５が搭載されており、Ｘ軸リニ
アモータ５はＸステージ４をＸ軸方向に駆動する。前記
２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂと同一直線上には、
対応するＹ軸アクチュエータ６ａ，６ｂが配置されてお
り、ＸＹステージのＹ方向駆動反力による揺れを抑える
ように除振台１を駆動する。Ｘ軸アクチュエータ７ａ，
７ｂはＸＹステージのＸ方向駆動反力による揺れを抑え
るように除振台１を駆動する。
置の動作について説明する。除振台１はマウント８ａ，
８ｂによって外部からの振動を伝達しないように支持さ
れている。除振台１上にはＸＹステージが搭載されてお
り、２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂはＸＹステージ
全体をＹ軸方向に駆動する。Ｙステージ２上にＸステー
ジ４とＸ軸リニアモータ５が搭載されており、Ｘ軸リニ
アモータ５はＸステージ４をＸ軸方向に駆動する。前記
２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂと同一直線上には、
対応するＹ軸アクチュエータ６ａ，６ｂが配置されてお
り、ＸＹステージのＹ方向駆動反力による揺れを抑える
ように除振台１を駆動する。Ｘ軸アクチュエータ７ａ，
７ｂはＸＹステージのＸ方向駆動反力による揺れを抑え
るように除振台１を駆動する。
【００１６】また、アクチュエータ６ｂの場合のみ図２
に示しているが、各アクチュエータはダンパ９によっ
て、除振台１の駆動反力を直接床Ｆ等に伝えないように
している。さらに、図示しないステージ制御器から前記
２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂの駆動指令値の比率
を、図示しないアクチュエータ制御器に対して伝えてい
る。アクチュエータ制御器は前記比率をそのまま２つの
Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂのＹ軸駆動反力補償用の
駆動指令値の比率として駆動を行なう。
に示しているが、各アクチュエータはダンパ９によっ
て、除振台１の駆動反力を直接床Ｆ等に伝えないように
している。さらに、図示しないステージ制御器から前記
２つのＹ軸リニアモータ３ａ，３ｂの駆動指令値の比率
を、図示しないアクチュエータ制御器に対して伝えてい
る。アクチュエータ制御器は前記比率をそのまま２つの
Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂのＹ軸駆動反力補償用の
駆動指令値の比率として駆動を行なう。
【００１７】上記実施例によって、効果的に制振性能を
高めることができ、半導体露光装置のスループットを向
上させることが可能となる。即ち、Ｙ軸リニアモータ３
ａ，３ｂの駆動指令値の比率を用いて駆動反力補償を行
なうことによって、駆動反力をアクチュエータ座標系に
変換するための演算処理が確実に不要となり、極めて簡
単な演算で制振性能を改善することができる。
高めることができ、半導体露光装置のスループットを向
上させることが可能となる。即ち、Ｙ軸リニアモータ３
ａ，３ｂの駆動指令値の比率を用いて駆動反力補償を行
なうことによって、駆動反力をアクチュエータ座標系に
変換するための演算処理が確実に不要となり、極めて簡
単な演算で制振性能を改善することができる。
【００１８】また、上記実施例に対し、さらにＸステー
ジ４のＸ方向およびＹ方向の位置を計測するためのＸ軸
用レーザ干渉計１６およびＹ軸用レーザ干渉計１７を設
け、これらのレーザ干渉計１６および１７によるステー
ジ位置計測値に基いて、Ｘ軸アクチュエータ７ａ，７
ｂ、Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂの駆動指令値の比率
を分配してもよい。例えば、Ｙ軸リニアモータ３ａ，３
ｂの駆動指令値の比率は、Ｘステージの位置情報に基い
て分配されるが、Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂまたは
Ｘ軸アクチュエータ７ａ，７ｂの駆動指令値の比率も同
様にＸステージの位置計測値に基いて分配する。
ジ４のＸ方向およびＹ方向の位置を計測するためのＸ軸
用レーザ干渉計１６およびＹ軸用レーザ干渉計１７を設
け、これらのレーザ干渉計１６および１７によるステー
ジ位置計測値に基いて、Ｘ軸アクチュエータ７ａ，７
ｂ、Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂの駆動指令値の比率
を分配してもよい。例えば、Ｙ軸リニアモータ３ａ，３
ｂの駆動指令値の比率は、Ｘステージの位置情報に基い
て分配されるが、Ｙ軸アクチュエータ６ａ，６ｂまたは
Ｘ軸アクチュエータ７ａ，７ｂの駆動指令値の比率も同
様にＸステージの位置計測値に基いて分配する。
【００１９】なお、除振台１を駆動するアクチュエータ
は、空気バネ、ボイスコイルモータ、圧電素子等からい
ずれを選定することも可能である。
は、空気バネ、ボイスコイルモータ、圧電素子等からい
ずれを選定することも可能である。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、除振台上で移動するステージ
を駆動するための複数のステージ駆動機構と、該除振台
に力を与えるための複数のアクチュエータとを備え、該
複数のステージ駆動機構への指令信号に基いて、該アク
チュエータの指令値を算出することにより、駆動反力を
アクチュエータ座標系に変換するための演算処理が不要
となり、簡単な演算で制振性能を改善することができ、
また、ステージの位置を計測するための計測器を備え、
該ステージ駆動機構への指令信号と、該ステージの位置
計測値とに基いて、アクチュエータの指令値を算出する
ことによっても、同様の効果を奏する。
を駆動するための複数のステージ駆動機構と、該除振台
に力を与えるための複数のアクチュエータとを備え、該
複数のステージ駆動機構への指令信号に基いて、該アク
チュエータの指令値を算出することにより、駆動反力を
アクチュエータ座標系に変換するための演算処理が不要
となり、簡単な演算で制振性能を改善することができ、
また、ステージの位置を計測するための計測器を備え、
該ステージ駆動機構への指令信号と、該ステージの位置
計測値とに基いて、アクチュエータの指令値を算出する
ことによっても、同様の効果を奏する。
【図１】 本発明の実施例に係わるステージ装置を上か
ら見た模式図である。
ら見た模式図である。
【図２】 図１のステージ装置をＸ方向から見た模式図
である。
である。
１：除振台、２：Ｙステージ、３ａ，３ｂ：Ｙ軸リニア
モータ、４：Ｘステージ、５：Ｘ軸リニアモータ、６
ａ，６ｂ：Ｙ軸アクチュエータ、７ａ，７ｂ：Ｘ軸アク
チュエータ、１６，１７：レーザ干渉計。
モータ、４：Ｘステージ、５：Ｘ軸リニアモータ、６
ａ，６ｂ：Ｙ軸アクチュエータ、７ａ，７ｂ：Ｘ軸アク
チュエータ、１６，１７：レーザ干渉計。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ｆ
Claims (9)
- 【請求項１】 除振台と、該除振台上で移動するステー
ジと、該ステージを駆動するための複数のステージ駆動
機構と、該除振台に力を与えるための複数のアクチュエ
ータとを備え、該複数のステージ駆動機構への指令信号
に基いて、該アクチュエータの指令値を算出することを
特徴とするステージ装置。 - 【請求項２】 前記ステージは、前記除振台上で移動す
るＹステージと、該Ｙステージ上で移動するＸステージ
とを有し、前記ステージ駆動機構は、該ＹステージをＹ
方向に駆動する２つのＹ軸リニアモータと、該Ｘステー
ジをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモータとを有すること
を特徴とする請求項１に記載のステージ装置。 - 【請求項３】 前記除振台に力を与えるための複数のア
クチュエータには前記２つのＹ軸リニアモータの駆動方
向と同一直線上に配置されて該除振台を駆動する２つの
Ｙ軸アクチュエータが含まれることを特徴とする請求項
２に記載のステージ装置。 - 【請求項４】 前記２つのＹ軸リニアモータの駆動指令
値の比率と前記２つのＹ軸アクチュエータの駆動指令値
の比率を等しくすることを特徴とする請求項３に記載の
ステージ装置。 - 【請求項５】 除振台と、該除振台上で移動するステー
ジと、該ステージを駆動するためのステージ駆動機構
と、該ステージの位置を計測するための計測器と、該除
振台に力を与えるための複数のアクチュエータとを備
え、該ステージ駆動機構への指令信号と、該ステージの
位置計測値とに基いて、該アクチュエータの指令値を算
出することを特徴とするステージ装置。 - 【請求項６】 前記ステージの位置計測値に基いて前記
複数の各アクチュエータへの指令値の比率を分配するこ
とを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。 - 【請求項７】 前記ステージは、前記除振台上で移動す
るＹステージと、該Ｙステージ上で移動するＸステージ
とを有し、前記ステージ駆動機構は、該ＹステージをＹ
方向に駆動する２つのＹ軸リニアモータと、該Ｘステー
ジをＸ方向に駆動するＸ軸リニアモータとを有すること
を特徴とする請求項５に記載のステージ装置。 - 【請求項８】 前記除振台に力を与えるための複数のア
クチュエータには前記２つのＹ軸リニアモータの駆動方
向と同一直線上に配置されて該除振台を駆動する２つの
Ｙ軸アクチュエータが含まれることを特徴とする請求項
７に記載のステージ装置。 - 【請求項９】 前記ステージの位置計測値として前記Ｘ
ステージの位置計測値を用いて前記２つのＹ軸アクチュ
エータの駆動指令値の比率を分配することを特徴とする
請求項８に記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26488899A JP2001093798A (ja) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26488899A JP2001093798A (ja) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | ステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001093798A true JP2001093798A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17409629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26488899A Pending JP2001093798A (ja) | 1999-09-20 | 1999-09-20 | ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001093798A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004273459A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Fei Co | 対象を照射するための粒子−光学装置 |
| CN103427586A (zh) * | 2012-05-18 | 2013-12-04 | 贾莉莉 | 直流永磁平面运动平台 |
| CN107866691A (zh) * | 2016-09-26 | 2018-04-03 | 发那科株式会社 | 具备机械振动抑制功能的驱动装置以及*** |
-
1999
- 1999-09-20 JP JP26488899A patent/JP2001093798A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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