JP2001083691A - 無発塵ペリクル - Google Patents
無発塵ペリクルInfo
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 輸送やハンドリング時、及びマスク貼り付け
後の輸送やハンドリング時の振動や衝撃によりペリクル
枠外側から異物が発塵することの無い、無発塵ペリクル
を提供する。 【解決手段】 ペリクル枠と、該ペリクル枠にペリクル
膜を接着剤を介して張着したペリクルにおいて、該ペリ
クル枠の内面及び外面に粘着性物質の薄膜を設けてなる
無発塵ペリクル。
後の輸送やハンドリング時の振動や衝撃によりペリクル
枠外側から異物が発塵することの無い、無発塵ペリクル
を提供する。 【解決手段】 ペリクル枠と、該ペリクル枠にペリクル
膜を接着剤を介して張着したペリクルにおいて、該ペリ
クル枠の内面及び外面に粘着性物質の薄膜を設けてなる
無発塵ペリクル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】半導体集積回路の製造や液晶
基板製造におけるフォトリソグラフィ工程で使用される
フォトマスクまたはレチクル（以下、共に「マスク」と
称す。）に固着して使用され、マスクに塵埃等の異物が
付着するのを防止するペリクルがある。本発明は、ペリ
クルに関し、特にペリクル自体及びペリクル周辺から発
生する塵埃のマスクへの付着を防止する無発塵ペリクル
に関する。
基板製造におけるフォトリソグラフィ工程で使用される
フォトマスクまたはレチクル（以下、共に「マスク」と
称す。）に固着して使用され、マスクに塵埃等の異物が
付着するのを防止するペリクルがある。本発明は、ペリ
クルに関し、特にペリクル自体及びペリクル周辺から発
生する塵埃のマスクへの付着を防止する無発塵ペリクル
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ペリクルは、一定幅を有するペリクル枠
に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着
されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離
（ペリクル枠高さ幅）をおいてマスク上に位置させ、マ
スク上に塵埃などの異物等が付着するのを防止するもの
である。すなわち、フォトリソグラフィ工程において、
異物等がペリクル上に付着したとしても、それらの像は
フォトレジストが塗布された半導体ウェハー上には結像
しない。従って、マスクをペリクルで保護することによ
り、異物等の像による半導体集積回路の短絡や断線等ま
た液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」と称す。）の欠
陥を防ぐことができ、フォトリソグラフィ工程での製造
歩留まりが向上する。さらに、マスクのクリーニング回
数が減少して、その寿命を延ばすなどの効果がペリクル
により奏せられる。
に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着
されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離
（ペリクル枠高さ幅）をおいてマスク上に位置させ、マ
スク上に塵埃などの異物等が付着するのを防止するもの
である。すなわち、フォトリソグラフィ工程において、
異物等がペリクル上に付着したとしても、それらの像は
フォトレジストが塗布された半導体ウェハー上には結像
しない。従って、マスクをペリクルで保護することによ
り、異物等の像による半導体集積回路の短絡や断線等ま
た液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」と称す。）の欠
陥を防ぐことができ、フォトリソグラフィ工程での製造
歩留まりが向上する。さらに、マスクのクリーニング回
数が減少して、その寿命を延ばすなどの効果がペリクル
により奏せられる。
【０００３】半導体用及びＬＣＤ用ペリクルにおいて
は、共に露光工程におけるスループット向上のために、
露光する光の透過率が高いことが要求される。そのため
に、透明薄膜の片面あるいは両面に反射防止層が設けら
れるようになってきている。反射防止層は単層あるいは
２層以上の層で構成されることもある。最外層に用いる
反射防止層の材料としては、テトラフルオロエチレン−
ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポ
リマー（特開昭６１−２０９４４９号公報に記載）、ポ
リフルオロアクリレート（特開平１−１００５４９号公
報に記載）、主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーで
あるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品名）（特開平
３−３９９６３号公報に記載）、旭硝子社製のサイトッ
プ（商品名）などが提案されている。
は、共に露光工程におけるスループット向上のために、
露光する光の透過率が高いことが要求される。そのため
に、透明薄膜の片面あるいは両面に反射防止層が設けら
れるようになってきている。反射防止層は単層あるいは
２層以上の層で構成されることもある。最外層に用いる
反射防止層の材料としては、テトラフルオロエチレン−
ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポ
リマー（特開昭６１−２０９４４９号公報に記載）、ポ
リフルオロアクリレート（特開平１−１００５４９号公
報に記載）、主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーで
あるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品名）（特開平
３−３９９６３号公報に記載）、旭硝子社製のサイトッ
プ（商品名）などが提案されている。
【０００４】最外層の反射防止層の材料の多くは、フッ
素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシ
ウムなどの無機フッ素系材料が用いられている。透明薄
膜層（中心層）材料の多くは、ニトロセルロースやセル
ロースアセテートプロピオネート、カーボネート化アセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、及びこれらの混
合物が用いられている。ＬＣＤでは、ＴＦＴ（薄膜トラ
ンジスタ）の実用化により大画面化、高精細化、大容量
化等が達成されつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用
されるペリクルもこれに対応し大型化及び面内の光透過
性の均一性が求められ、また半導体製造用のペリクルに
おいても均一な高光線透過率をもつペリクル膜が求めら
れているが、更にペリクル自身及びその周辺からミクロ
ンオーダーの塵埃などの異物の発生も許されないペリク
ルが求められている。
素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシ
ウムなどの無機フッ素系材料が用いられている。透明薄
膜層（中心層）材料の多くは、ニトロセルロースやセル
ロースアセテートプロピオネート、カーボネート化アセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、及びこれらの混
合物が用いられている。ＬＣＤでは、ＴＦＴ（薄膜トラ
ンジスタ）の実用化により大画面化、高精細化、大容量
化等が達成されつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用
されるペリクルもこれに対応し大型化及び面内の光透過
性の均一性が求められ、また半導体製造用のペリクルに
おいても均一な高光線透過率をもつペリクル膜が求めら
れているが、更にペリクル自身及びその周辺からミクロ
ンオーダーの塵埃などの異物の発生も許されないペリク
ルが求められている。
【０００５】このようなマスク保護装置としてのペリク
ルは、ペリクル枠及び該枠の一側面に接着剤を介して張
着されたペリクル膜とから構成されるものであるが、ペ
リクル枠には、一般にアルマイト処理されたアルミニウ
ムフレーム枠が用いられるが、その表面は精微に観察す
ると、微細な凹凸を有し、凹部の窪みに入り込んでいる
異物が振動や衝撃により、ときには飛び出して発塵する
恐れがある。特開昭６０−５７８４１号公報には、ぺリ
クル枠の内面に予め粘着性物質の薄膜を設けておき、ペ
リクル膜とマスクとの間に混入した微小な異物が浮遊し
た場合、この微小異物を前記の粘着性物質に付着せしめ
て固定し、該微小異物を無害化することを特徴とする異
物固定方法が開示されている。
ルは、ペリクル枠及び該枠の一側面に接着剤を介して張
着されたペリクル膜とから構成されるものであるが、ペ
リクル枠には、一般にアルマイト処理されたアルミニウ
ムフレーム枠が用いられるが、その表面は精微に観察す
ると、微細な凹凸を有し、凹部の窪みに入り込んでいる
異物が振動や衝撃により、ときには飛び出して発塵する
恐れがある。特開昭６０−５７８４１号公報には、ぺリ
クル枠の内面に予め粘着性物質の薄膜を設けておき、ペ
リクル膜とマスクとの間に混入した微小な異物が浮遊し
た場合、この微小異物を前記の粘着性物質に付着せしめ
て固定し、該微小異物を無害化することを特徴とする異
物固定方法が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ペリク
ル枠の内面だけに粘着性物質の薄膜を設けておくと、ペ
リクルの輸送やハンドリング、及びマスク貼り付け後の
輸送やハンドリング、の振動や衝撃によりペリクル枠外
側から異物が発塵するとともにペリクル枠外側に微小異
物が浮遊した場合、該微小異物を無害化することが出来
ない。本発明は、上記の問題を解消することを目的とし
てなされたものである。
ル枠の内面だけに粘着性物質の薄膜を設けておくと、ペ
リクルの輸送やハンドリング、及びマスク貼り付け後の
輸送やハンドリング、の振動や衝撃によりペリクル枠外
側から異物が発塵するとともにペリクル枠外側に微小異
物が浮遊した場合、該微小異物を無害化することが出来
ない。本発明は、上記の問題を解消することを目的とし
てなされたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決するため鋭意研究を行った結果、ペリクルに関し
て、それを構成するペリクル枠について、その表面は精
微に観察すると、微細な凹凸を有し、凹部の窪みに入り
込んでいる異物が振動や衝撃により、ときには飛び出し
て発塵する恐れがあることを見出し、更にペリクル枠に
ペリクル膜、特に反射防止層を有するペリクル膜を張着
するに用いる接着剤の紫外線硬化型接着剤又は熱硬化型
接着剤から塵埃などの微小浮遊物が発生し易いことを見
出し本発明をなすに至った。即ち本発明は、ペリクル枠
と、該ペリクル枠にペリクル膜を接着剤を介して張着し
たペリクルにおいて、該ペリクル枠の内面及び外面に粘
着性物質の薄膜を設けてなることを特徴とする無発塵ペ
リクルであり、その際、接着剤が紫外線硬化型接着剤又
は熱硬化型接着剤である前記の無発塵ペリクルであり、
更にペリクル膜が反射防止層を有するものである前記の
無発塵ペリクルである。
を解決するため鋭意研究を行った結果、ペリクルに関し
て、それを構成するペリクル枠について、その表面は精
微に観察すると、微細な凹凸を有し、凹部の窪みに入り
込んでいる異物が振動や衝撃により、ときには飛び出し
て発塵する恐れがあることを見出し、更にペリクル枠に
ペリクル膜、特に反射防止層を有するペリクル膜を張着
するに用いる接着剤の紫外線硬化型接着剤又は熱硬化型
接着剤から塵埃などの微小浮遊物が発生し易いことを見
出し本発明をなすに至った。即ち本発明は、ペリクル枠
と、該ペリクル枠にペリクル膜を接着剤を介して張着し
たペリクルにおいて、該ペリクル枠の内面及び外面に粘
着性物質の薄膜を設けてなることを特徴とする無発塵ペ
リクルであり、その際、接着剤が紫外線硬化型接着剤又
は熱硬化型接着剤である前記の無発塵ペリクルであり、
更にペリクル膜が反射防止層を有するものである前記の
無発塵ペリクルである。
【０００８】以下に本発明を詳細に説明する。図１に本
発明のペリクルの部分断面図を示す。１はペリクル枠で
あり、該枠にはペリクル用接着剤４を介してペリクル膜
２が張着されている。ペリクル枠には粘着性物質の薄膜
６がペリクル枠内側面３ａ及びペリクル枠外側面３ｂに
設けられている。５はマスクなどの透明基板にペリクル
を貼り付けるための貼り付け用接着剤である。図２は、
従来のペリクルの部分断面図であり、ペリクル枠外側面
３ｂには粘着性物質の薄膜が設けられてはいない。
発明のペリクルの部分断面図を示す。１はペリクル枠で
あり、該枠にはペリクル用接着剤４を介してペリクル膜
２が張着されている。ペリクル枠には粘着性物質の薄膜
６がペリクル枠内側面３ａ及びペリクル枠外側面３ｂに
設けられている。５はマスクなどの透明基板にペリクル
を貼り付けるための貼り付け用接着剤である。図２は、
従来のペリクルの部分断面図であり、ペリクル枠外側面
３ｂには粘着性物質の薄膜が設けられてはいない。
【０００９】本発明におけるペリクル枠としては、ペリ
クル膜を支持し得る枠であれば如何なるものであっても
よいが、表面をアルマイト処理したアルミフレームやク
ロムメッキ等を施した金属枠等の支持枠、更にはエンジ
ニアリングプラスチック等で製造した樹脂支持枠などが
用いられ、その形状も方形、円形など如何なる形状でも
よい。通常は、製造の容易さ、強度などの点から金属枠
が用いられる。本発明におけるペリクル膜は、透明薄膜
層（中心層）材料としては、ニトロセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、エチルセルロー
ス、カーボネート化アセチルセルロース等のセルロース
誘導体が使用できる。
クル膜を支持し得る枠であれば如何なるものであっても
よいが、表面をアルマイト処理したアルミフレームやク
ロムメッキ等を施した金属枠等の支持枠、更にはエンジ
ニアリングプラスチック等で製造した樹脂支持枠などが
用いられ、その形状も方形、円形など如何なる形状でも
よい。通常は、製造の容易さ、強度などの点から金属枠
が用いられる。本発明におけるペリクル膜は、透明薄膜
層（中心層）材料としては、ニトロセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、エチルセルロー
ス、カーボネート化アセチルセルロース等のセルロース
誘導体が使用できる。
【００１０】これらのセルロース誘導体はそれぞれ単独
で用いても良いが、２種以上のセルロース誘導体との混
合物を用いても良い。使用するセルロース誘導体は、高
分子量のものほど薄膜の形状保持性が良いため好まし
い。即ち、数平均分子量が３万以上、好ましくは５万以
上である。このような材料のうち、ニトロセルロースは
旭化成工業（株）から、また、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネートはイーストマン・コダック社から市販
されており、容易に入手することができる。セルロース
誘導体の溶媒としては、２−ブタノン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸イソブ
チル、乳酸エチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート等およびこれらの溶
媒の混合系が使用される。
で用いても良いが、２種以上のセルロース誘導体との混
合物を用いても良い。使用するセルロース誘導体は、高
分子量のものほど薄膜の形状保持性が良いため好まし
い。即ち、数平均分子量が３万以上、好ましくは５万以
上である。このような材料のうち、ニトロセルロースは
旭化成工業（株）から、また、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネートはイーストマン・コダック社から市販
されており、容易に入手することができる。セルロース
誘導体の溶媒としては、２−ブタノン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸イソブ
チル、乳酸エチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート等およびこれらの溶
媒の混合系が使用される。
【００１１】セルロース誘導体などの溶液は、予め異物
除去のための濾過をしてから、スピンコートする。透明
薄膜（中心層）の膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を
変化させることにより、適宜変化させることができる。
基板上に形成された薄膜に含まれている溶媒は、ホット
プレート、オーブンなどで揮発させる。反射防止層は単
層あるいは２層以上の層で構成されるが、単層の場合
（表裏に反射防止層を形成するとペリクルの層数は３
層）は、反射防止層の屈折率ｎ１が透明薄膜（中心層）
の屈折率ｎＣに対してｎ１＝（ｎＣ）1/2 の時に反射防
止効果は最大となり、この値に近い反射防止層材料を選
択するほど反射防止効果は大きくなる。反射防止層の厚
みｄは、反射防止すべき波長をλとするとｎ１・ｄ＝λ
／４とすればよい。
除去のための濾過をしてから、スピンコートする。透明
薄膜（中心層）の膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を
変化させることにより、適宜変化させることができる。
基板上に形成された薄膜に含まれている溶媒は、ホット
プレート、オーブンなどで揮発させる。反射防止層は単
層あるいは２層以上の層で構成されるが、単層の場合
（表裏に反射防止層を形成するとペリクルの層数は３
層）は、反射防止層の屈折率ｎ１が透明薄膜（中心層）
の屈折率ｎＣに対してｎ１＝（ｎＣ）1/2 の時に反射防
止効果は最大となり、この値に近い反射防止層材料を選
択するほど反射防止効果は大きくなる。反射防止層の厚
みｄは、反射防止すべき波長をλとするとｎ１・ｄ＝λ
／４とすればよい。
【００１２】また、２層反射防止の場合（前記と同様に
表裏に反射防止層を形成するとペリクルの層数は５層）
は、透明薄膜層に接する層が高屈折率反射防止層にし、
最外層が低屈折率反射防止層とするが、最外層の反射防
止層から順に屈折率と厚みをｎ１、ｄ１およびｎ２、ｄ
２とすると、ｎ２／ｎ１＝（ｎＣ）1/2 の時に反射防止
効果は最大となり、この値に近いｎ２／ｎ１の反射防止
層材料を選択するほど反射防止効果は大きくなる。反射
防止層の厚みｄ１、ｄ２は、反射防止すべき波長をλと
するとｎ１・ｄ１＝ｎ２・ｄ２＝λ／４とすればよい。
中心層には、セルロース誘導体、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルプロピオナール等を使用することがで
き、その場合にはこれらの屈折率は１．５前後であるか
ら、（ｎＣ） 1/2 が約１．２２となる。従って、反射防
止層材料の屈折率としては、単層反射防止の場合、ｎ２
／ｎ１が１．２２に近いほど反射防止効果が大きくな
り、好ましい。
表裏に反射防止層を形成するとペリクルの層数は５層）
は、透明薄膜層に接する層が高屈折率反射防止層にし、
最外層が低屈折率反射防止層とするが、最外層の反射防
止層から順に屈折率と厚みをｎ１、ｄ１およびｎ２、ｄ
２とすると、ｎ２／ｎ１＝（ｎＣ）1/2 の時に反射防止
効果は最大となり、この値に近いｎ２／ｎ１の反射防止
層材料を選択するほど反射防止効果は大きくなる。反射
防止層の厚みｄ１、ｄ２は、反射防止すべき波長をλと
するとｎ１・ｄ１＝ｎ２・ｄ２＝λ／４とすればよい。
中心層には、セルロース誘導体、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルプロピオナール等を使用することがで
き、その場合にはこれらの屈折率は１．５前後であるか
ら、（ｎＣ） 1/2 が約１．２２となる。従って、反射防
止層材料の屈折率としては、単層反射防止の場合、ｎ２
／ｎ１が１．２２に近いほど反射防止効果が大きくな
り、好ましい。
【００１３】最外層として用いる低屈折率反射防止層の
材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー、ポリ
フルオロアクリレート、主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）等のフッ素系
材料が使用できる。テフロンＡＦは、γ線、電子線、α
線等の放射線や、遠紫外線等の光を照射することによ
り、濾過性、制電性、ペリクル膜と支持枠体との接着性
が向上する。
材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー、ポリ
フルオロアクリレート、主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）等のフッ素系
材料が使用できる。テフロンＡＦは、γ線、電子線、α
線等の放射線や、遠紫外線等の光を照射することによ
り、濾過性、制電性、ペリクル膜と支持枠体との接着性
が向上する。
【００１４】本発明における粘着性物質は、種々のもの
が用いられるが、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコ
ーン系、ポリビニルエーテル系などの有機系、或いは無
機系があり、ゴム系等の有機系が一般的であるが、アク
リル系は耐熱性もあり、粘着力も大きく、ゴム系のよう
な酸化劣化がない。シリコーン系は耐熱性もよく、粘着
力も大きいが、価格が高いためゴム系、アクリル系が好
ましい。具体的には、例えば、天然ゴム、ブチルゴム、
ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢＲ、アクリル酸ブチル、ＰＭＭＡ、
シリコーン、ポリビニルブチルエーテル等が挙げられ
る。粘着剤は、粘着剤、粘着付与剤および副資材とから
構成され、粘着付与剤は、粘着性、塗布性、耐久性など
を向上させるために粘着剤の主要成分を構成するレジン
であり、ロジン系、テルペン系、合成石油系、フェノー
ル系、キシレン系などの樹脂が用いられる。副資材とし
ては、必要に応じて軟化剤、充填剤、酸化防止剤、架橋
剤、導電剤などが用いられる。
が用いられるが、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコ
ーン系、ポリビニルエーテル系などの有機系、或いは無
機系があり、ゴム系等の有機系が一般的であるが、アク
リル系は耐熱性もあり、粘着力も大きく、ゴム系のよう
な酸化劣化がない。シリコーン系は耐熱性もよく、粘着
力も大きいが、価格が高いためゴム系、アクリル系が好
ましい。具体的には、例えば、天然ゴム、ブチルゴム、
ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢＲ、アクリル酸ブチル、ＰＭＭＡ、
シリコーン、ポリビニルブチルエーテル等が挙げられ
る。粘着剤は、粘着剤、粘着付与剤および副資材とから
構成され、粘着付与剤は、粘着性、塗布性、耐久性など
を向上させるために粘着剤の主要成分を構成するレジン
であり、ロジン系、テルペン系、合成石油系、フェノー
ル系、キシレン系などの樹脂が用いられる。副資材とし
ては、必要に応じて軟化剤、充填剤、酸化防止剤、架橋
剤、導電剤などが用いられる。
【００１５】粘着剤を塗布するには、有機溶剤を用いる
方法、水系エマルジョン、ホットメルト及び反応系を用
いる方法などが挙げられ、これらを刷毛、ローラ、スプ
レー及び浸漬などで塗布し薄膜を形成する。粘着剤を塗
布することによりペリクル枠の窪みに入り込んでいる異
物を封じ込め外部に飛び出すことがないようにすること
ができると共に、ペリクル枠の内側及び外側に入り込ん
で枠内外面に付着した異物を強固に保持できるようにな
りマスク上及びペリクル外周辺に異物を落下させないよ
うにすることができる。用いる溶剤としては、例えば、
トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、塩化メチレン、
酢酸エチル、メチルエチルケトン、セロソルブ、イソプ
ロピルアルコール等が挙げられる。
方法、水系エマルジョン、ホットメルト及び反応系を用
いる方法などが挙げられ、これらを刷毛、ローラ、スプ
レー及び浸漬などで塗布し薄膜を形成する。粘着剤を塗
布することによりペリクル枠の窪みに入り込んでいる異
物を封じ込め外部に飛び出すことがないようにすること
ができると共に、ペリクル枠の内側及び外側に入り込ん
で枠内外面に付着した異物を強固に保持できるようにな
りマスク上及びペリクル外周辺に異物を落下させないよ
うにすることができる。用いる溶剤としては、例えば、
トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、塩化メチレン、
酢酸エチル、メチルエチルケトン、セロソルブ、イソプ
ロピルアルコール等が挙げられる。
【００１６】また、本発明の粘着性物質は導電性である
ことが好ましい。導電性を付与するには、粘着剤の副資
材として、導電物質、例えば導電性カーボンブラック、
金属分などを配合すればよい。粘着性物質が導電性であ
ると、帯電により塵埃が吸収され易く、何らかの拍子に
剥離する恐れが軽減される。本発明のペリクルにおいて
は、ペリクル枠の外側はペリクル収納ケースの位置決め
用ピン若しくは突起物に線乃至面接触するもの、さらに
ペリクル枠に付設しているハンドリング用穴を有するも
のが用いられるが、こうした場合のペリクルでは、必要
に応じて部分的に薄膜を設けなくてもよい。
ことが好ましい。導電性を付与するには、粘着剤の副資
材として、導電物質、例えば導電性カーボンブラック、
金属分などを配合すればよい。粘着性物質が導電性であ
ると、帯電により塵埃が吸収され易く、何らかの拍子に
剥離する恐れが軽減される。本発明のペリクルにおいて
は、ペリクル枠の外側はペリクル収納ケースの位置決め
用ピン若しくは突起物に線乃至面接触するもの、さらに
ペリクル枠に付設しているハンドリング用穴を有するも
のが用いられるが、こうした場合のペリクルでは、必要
に応じて部分的に薄膜を設けなくてもよい。
【００１７】また、本方法で用いる粘着材物質の一つで
ある塗料としては油性、水性、樹脂製塗料、顔料など金
属の表面保護や着色のために使用される一般的な塗料、
伝熱性や導電性或いは光線の吸収や反射の調節その他特
殊な用途に使用される塗料などが挙げられ、この中で
は、導電性物質が好ましい例として挙げられる．塗料が
帯電性物質であると、帯電により塵が吸収され易く、吸
収された物質が何らかの拍子で外れるおそれがあるのに
対し、導電性物質ではこうした問題を生じないからであ
る。以下に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明す
る。
ある塗料としては油性、水性、樹脂製塗料、顔料など金
属の表面保護や着色のために使用される一般的な塗料、
伝熱性や導電性或いは光線の吸収や反射の調節その他特
殊な用途に使用される塗料などが挙げられ、この中で
は、導電性物質が好ましい例として挙げられる．塗料が
帯電性物質であると、帯電により塵が吸収され易く、吸
収された物質が何らかの拍子で外れるおそれがあるのに
対し、導電性物質ではこうした問題を生じないからであ
る。以下に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明す
る。
【００１８】
【実施例】セルロースアセテートプロピオネート（イー
ストマンコダック社製、「ＣＡＰ４８２−２０」、以下
「ＣＡＰ」と略記）を、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートに溶解し、ＣＡＰ溶液を作製す
る。次に、反射防止層としての含フッ素樹脂を溶媒に溶
解した溶液を作製する。まず、塗布用基板をスピンコー
ターにセットして、調整したＣＡＰ溶液を、フィルター
で濾過し、その濾過液の適当量を上記塗布用基板上に滴
下し、その後、塗布用基板を１０００ｒｐｍで４５秒間
回転させ、次に、ホットプレートで溶媒を蒸発せしめ、
シリコンウェハー上にＣＡＰからなる厚さ１〜２μｍの
透明薄膜層（中心層）を形成した。
ストマンコダック社製、「ＣＡＰ４８２−２０」、以下
「ＣＡＰ」と略記）を、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートに溶解し、ＣＡＰ溶液を作製す
る。次に、反射防止層としての含フッ素樹脂を溶媒に溶
解した溶液を作製する。まず、塗布用基板をスピンコー
ターにセットして、調整したＣＡＰ溶液を、フィルター
で濾過し、その濾過液の適当量を上記塗布用基板上に滴
下し、その後、塗布用基板を１０００ｒｐｍで４５秒間
回転させ、次に、ホットプレートで溶媒を蒸発せしめ、
シリコンウェハー上にＣＡＰからなる厚さ１〜２μｍの
透明薄膜層（中心層）を形成した。
【００１９】次いで、上記で調整した含フッ素樹脂溶液
を、フィルターで濾過し、その濾過液を上記中心層の上
に数ｃｃ滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転させた
後、風乾し、さらにホットプレート上で乾燥し、反射防
止層を形成した。次に、２３℃、相対湿度５０％の条件
下で、塗布用基板より剥離し、さらに、含フッ素樹脂溶
液数ｃｃを上記基板から剥離した２層膜の中心層露出面
に滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転させた後、風乾
して反射防止層を形成し、３層膜を得た。次いで、上面
に紫外線硬化型接着剤を用いて、内外側面に粘着性物質
の薄膜を設けた表面アルマイト処理したアルミニウム製
の金属の枠に３層膜を接着した。得られたペリクルは、
輸送中及びハンドリング中も塵埃が発生することがな
く、無発塵ペリクルとして良好であった。なお、ペリク
ル枠の内面及び外面への粘着性物質の塗布順序は特に制
限されない。
を、フィルターで濾過し、その濾過液を上記中心層の上
に数ｃｃ滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転させた
後、風乾し、さらにホットプレート上で乾燥し、反射防
止層を形成した。次に、２３℃、相対湿度５０％の条件
下で、塗布用基板より剥離し、さらに、含フッ素樹脂溶
液数ｃｃを上記基板から剥離した２層膜の中心層露出面
に滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転させた後、風乾
して反射防止層を形成し、３層膜を得た。次いで、上面
に紫外線硬化型接着剤を用いて、内外側面に粘着性物質
の薄膜を設けた表面アルマイト処理したアルミニウム製
の金属の枠に３層膜を接着した。得られたペリクルは、
輸送中及びハンドリング中も塵埃が発生することがな
く、無発塵ペリクルとして良好であった。なお、ペリク
ル枠の内面及び外面への粘着性物質の塗布順序は特に制
限されない。
【００２０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば粘
着剤を塗布することによりペリクル枠の窪みに入り込ん
でいる異物を封じ込め外部に飛び出すことがないように
することができると共に、ペリクル枠の内側及び外側に
入り込んで枠内外面に付着した異物を強固に保持できる
ようになりマスク上及びペリクル外周辺に異物を落下さ
せないようにすることができる。
着剤を塗布することによりペリクル枠の窪みに入り込ん
でいる異物を封じ込め外部に飛び出すことがないように
することができると共に、ペリクル枠の内側及び外側に
入り込んで枠内外面に付着した異物を強固に保持できる
ようになりマスク上及びペリクル外周辺に異物を落下さ
せないようにすることができる。
【図１】本究明のペリクルの部分断面図である。
【図２】従来のペリクルの部分断面図である。
１ 金属枠 ２ ペリクル膜 ３ａ ペリクル枠内側面 ３ｂ ペリクル枠外側面 ４ ペリクル用接着剤 ５ マスク貼り付け用接着剤 ６ 粘着性物質の薄膜
Claims (3)
- 【請求項１】 ペリクル枠と、該ペリクル枠にペリクル
膜を接着剤を介して張着したペリクルにおいて、該ペリ
クル枠の内面及び外面に粘着性物質の薄膜を設けてなる
ことを特徴とする無発塵ペリクル。 - 【請求項２】 接着剤が紫外線硬化型接着剤又は熱硬化
型接着剤である請求項１記載の無発塵ペリクル。 - 【請求項３】 ペリクル膜が反射防止層を有するもので
ある請求項２記載の無発塵ペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25845499A JP2001083691A (ja) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | 無発塵ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25845499A JP2001083691A (ja) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | 無発塵ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001083691A true JP2001083691A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17320449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25845499A Withdrawn JP2001083691A (ja) | 1999-09-13 | 1999-09-13 | 無発塵ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001083691A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006178434A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-07-06 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル |
| JP2007010786A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型ペリクルの製造方法 |
| JP2011053603A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
| TWI497197B (zh) * | 2008-09-12 | 2015-08-21 | Asahi Kasei E Materials Corp | Mask mask film, mask mask and mask mask the use of the box |
| KR101578633B1 (ko) * | 2010-04-13 | 2015-12-17 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | 자립막, 자립 구조체, 자립막의 제조 방법 및 펠리클 |
| JP2020020984A (ja) * | 2018-08-01 | 2020-02-06 | 旭化成株式会社 | ペリクル及びその製造方法 |
| US20220214613A1 (en) * | 2019-04-16 | 2022-07-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Agglutinant for Pellicle, Pellicle, Exposure Original Plate with Pellicle, Method for Producing Semiconductor Device, Method for Producing Liquid Crystal Display Board, Method for Regenerating Exposure Original Plate, and Peeling Residue Reduction Method |
-
1999
- 1999-09-13 JP JP25845499A patent/JP2001083691A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006178434A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-07-06 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル |
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| US10578962B2 (en) | 2010-04-13 | 2020-03-03 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | Self-supporting film, self-supporting structure, method for manufacturing self-supporting film, and pellicle |
| JP2020020984A (ja) * | 2018-08-01 | 2020-02-06 | 旭化成株式会社 | ペリクル及びその製造方法 |
| JP7082546B2 (ja) | 2018-08-01 | 2022-06-08 | 旭化成株式会社 | ペリクル及びその製造方法 |
| US20220214613A1 (en) * | 2019-04-16 | 2022-07-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Agglutinant for Pellicle, Pellicle, Exposure Original Plate with Pellicle, Method for Producing Semiconductor Device, Method for Producing Liquid Crystal Display Board, Method for Regenerating Exposure Original Plate, and Peeling Residue Reduction Method |
| EP3958061A4 (en) * | 2019-04-16 | 2023-05-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | ADHESIVE FOR FILM, FILM, ORIGINAL EXPOSURE PLATE WITH FILM, METHOD FOR MAKING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MAKING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, METHOD FOR REGENERATING ORIGINAL EXPOSURE PLATE, AND METHOD REDUCTION OF PEEL RESIDUES |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050531 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061205 |