JP2007010786A - 大型ペリクルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 少なくともペリクル膜と、前記ペリクル膜が貼り付けられたペリクル枠と、前記ペリクル枠の他方の端面に設けられた粘着層とを有する、ペリクル面積が1500cm2以上の大型ペリクルにおいて、前記粘着層を前記ペリクル枠に構成する際に、前記粘着層の粘着剤を少なくとも1種類以上の液体と実質的に均一な混合物の状態で前記ペリクル枠に付着させることを特徴とする。前記粘着層の粘着剤と実質的に均一に混合される液体が炭素を含む液体であること、混合される液体の1気圧における沸点が25℃以上250℃以下であること、液体の表面張力が5mN/m以上80mN/m以下であることが、それぞれ好ましい。
【選択図】 図1
Description
ペリクルは、一般的に金属製又はセラミクス製枠等の一方の面に、光学的に透明な薄膜を設置し、その反対の面に、フォトマスクに貼り付けるための粘着層が設けられている。粘着層を介してペリクルをフォトマスクのパターン面に貼付け、異物のフォトマスクのパターン面への付着を防止している。
ペリクルはフォトマスクに均一な高さで貼り付けられることが求められており、粘着層もその厚さが均一で表面に凹凸が無いことが求められる。
従ってペリクル枠に粘着層を構成する際には、粘着剤をペリクル枠に均一な厚さで表面の凹凸無く付着させる必要がある。
粘着層の厚さの均一性、表面の平滑性は、ペリクルの性能を決める重要な要素の一つである。
従来は、厚さの均一性や表面の平滑性を向上させるために粘着剤の付着量を調整したりしたが、必ずしも十分ではなく、粘着層の厚さの不均一や表面の凹凸により粘着層のしていた。
その結果、フォトマスクに貼り付けたペリクルが時間を経て剥がれ落ち、フォトマスクの汚染や露光装置の破損の原因にもなっていた。
本発明に係る大型ペリクルの第3の発明の要旨は、前記粘着層の粘着剤と実質的に均一に混合される液体の1気圧における沸点が25℃以上250℃以下である大型ペリクルの製造方法である。
本発明に係る大型ペリクルの第4の発明の要旨は、前記粘着層基材を実質的に均一に分散あるいは可溶する液体の表面張力が5mN/m以上80mN/m以下である大型ペリクルの製造方法である。
その結果、ペリクルをフォトマスクに貼り付けた後に粘着層の粘着力が不足するために剥がれ落ちるといったことが無くなる。
この気体が、露光光源であるエキシマレーザーによりいわゆるヘイズと呼ばれるフォトマスクの汚染の原因になる可能性があることから、ペリクルは、粘着層から発生する気体を極めて少なくする必要がある。
このために、粘着基材と液体の混合物をペリクル枠に付着させた後に加熱し液体成分を気化し除去する。
該液体の沸点が250℃を超える場合、液体を気化させるために250℃以上にペリクルを加熱する必要が生じる。
また、フォトリソグラフィーによる大型LCD製造工程は極めて清浄度が高く、室温が一定のクリーンルームで行われている。その多くは装置精度への影響を考慮し、室温が25℃前後に保たれている。
前記液体の沸点が25℃未満の場合、粘着層基材と少なくとも1種類以上の液体との実質的に均一な混合物をペリクル枠に付着させた時点で混合物中の液体が直ちに急激に気化し、粘着層中あるいは粘着層の表面付近に残留すると粘着層表面に凹凸が発生しペリクルがフォトマスクに均一に貼り付かない原因になる。
前述の第4の発明による大型ペリクルにおいては、液体の表面張力が80mN/mより大きいと、粘着剤と液体の混合物をペリクル枠2に付着させた後の粘着層7の形状は図3のようになり、表面の凹凸が大きく、露光部分に粘着層がはみ出し正常な露光を妨げてしまう。
一方、表面張力が5mN/mより小さい場合、粘着層7の形状は図4のようになり、表面の凹凸は小さくなるが、粘着層に所望の厚みを付与するために付着量を増すと、粘着剤がペリクル枠から垂れ落ちてしまう。
従って、前記液体の表面張力は、5mN/m以上80mN/m以下が望ましい。
[実施例1]
シリコーン系粘着剤にn−デカンを均一に混合し、これを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。この時の粘着層の高さのばらつきは±0.02mmであった。
シリコーン系粘着剤にエチルメチルケトンCH3COC2H5;沸点=79.6℃、を均一に混合し、これを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。その後ペリクル全体を80℃まで加熱した。この時の粘着層には気泡は発生せず、表面の凹凸も見られなかった。またフォトマスクに貼り付け露光を行ったが、ヘイズの発生は見られなかった。
[実施例3]
シリコーン系粘着剤にヘキサンC6H14;表面張力=18.40mN/m、を均一に混合し、これを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。粘着層を所望の厚さ1.0mmまで厚くすることができた。
シリコーン系粘着剤のみを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。この時の粘着層の高さのばらつきは±0.15mmであった。
[比較例2]
シリコーン系粘着剤にネオペンタン(CH3)4C;沸点=9.5℃、を均一に混合し、これを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。その後ペリクル全体を80℃まで加熱した。この時粘着層内部、および表面近傍に気泡が多数発生し、粘着層の凹凸も大きく、製品として使用できなかった。
[比較例3]
シリコーン系粘着剤にビフェニルC6H5C6H5;沸点=254.9℃、を均一に混合し、これを公知の技術でペリクル枠に付着させ粘着層を形成した。その後ペリクル全体を255℃まで加熱した。この時のペリクル枠は酸化され変色、パーティクルの発生が見られた。さらに全体にゆがみが発生し、製品として使用できなかった。
この結果、粘着層の高さの均一性、および表面の平滑度が大きく向上し、粘着層の粘着力が十分増加することで、フォトマスクに貼り付けたペリクルの落下を防止できる。
また、本発明による大型ペリクルは、粘着剤と実質的に均一に混合される液体の1気圧における沸点が25℃以上250℃以下であることを特徴とする大型ペリクルの製造方法である。
この結果、ペリクル枠の変形、酸化を防止することができ、かつ粘着層表面が平滑なペリクルを得ることができ、フォトマスクへの貼り付きが均一になる。
また、本発明による大型ペリクルは、粘着層基材を実質的に均一に分散あるいは可溶する液体の表面張力が5mN/m以上80mN/m以下であることから、正常な露光を妨げることも無く、表面の凹凸が小さく、かつ粘着層に所望の厚みを付与することができる。
2:ペリクル枠
3:粘着剤
4:粘着層の内、ペリクル枠に接する粘着性を有する部分
5:粘着層の内、粘着性を持たない部分
6:粘着層の内、フォトマスクに接する粘着性を有する部分
7:粘着層
Claims (4)
- 少なくともペリクル膜と、前記ペリクル膜が貼り付けられたペリクル枠と、前記ペリクル枠の他方の端面に設けられた粘着層とを有する、ペリクル面積が1500cm2以上の大型ペリクルにおいて、前記粘着層を前記ペリクル枠に構成する際に、前記粘着層の粘着剤を少なくとも1種類以上の液体と実質的に均一な混合物の状態で前記ペリクル枠に付着させることを特徴とする大型ペリクルの製造方法。
- 前記粘着層の粘着剤と実質的に均一に混合される液体が炭素を含む液体である請求項1に記載の大型ペリクルの製造方法。
- 前記粘着層の粘着剤と実質的に均一に混合される液体の1気圧における沸点が25℃以上250℃以下である請求項1または請求項2に記載の大型ペリクルの製造方法。
- 前記粘着層基材を実質的に均一に分散あるいは可溶する液体の表面張力が5mN/m以上80mN/m以下である請求項1または請求項2に記載の大型ペリクルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005188724A JP2007010786A (ja) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | 大型ペリクルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007010786A true JP2007010786A (ja) | 2007-01-18 |
Family
ID=37749428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005188724A Pending JP2007010786A (ja) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | 大型ペリクルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2007010786A (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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