JP2001081445A - 表面処理剤組成物、および表面処理された基材 - Google Patents
表面処理剤組成物、および表面処理された基材Info
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Abstract
供。 【解決手段】F(CF2)8(CH2)2−等の含フッ素有
機基がケイ素原子に結合したオルガノシロキサン単位、
および−(CH2)Si(OCH3)3等の1価含ケイ素
有機基がケイ素原子に結合したオルガノシロキサン単位
を必須として構成されたシリコーン化合物、および、F
(CF2)8(CH2)2SiCl3等の化合物、または、
これらの部分共加水分解生成物を必須とする。
Description
び水滴転落性を基材表面に付与しうる表面処理剤組成
物、および該組成物で表面処理された基材に関する。
ス、金属の基材、および、表面が処理された該基材は広
く使用されている。基材表面に付着した汚れや水は、基
材表面の損傷、汚染、着色、腐食等を促し、基材の電気
的特性、機械的特性、光学的特性等を変化させる原因に
なる。
着を防ぎ(以下、防汚性という。)、水の付着を防ぐ
(以下、撥水性という)ために下記組成物を基材表面に
直接塗布する提案がなされている。
化合物とメタノールとからなるガラス表面処理用組成物
(特開平8−302020)、フルオロシリコーンと、
加水分解性基を有するシリコン化合物と、加水分解性基
を有する非フッ素系シリコーン化合物とからなるコーテ
ィング組成物(特開平2−283776)、加水分解性
基とトリフルオロメチル基とを有する含フッ素シリコー
ン化合物からなる繊維処理剤組成物またはコンクリート
表面処理剤組成物(特開平5−43698)、加水分解
性基を有する含フッ素シリコーン化合物を含む表面処理
剤組成物(特開平8−311403)。
理剤組成物は、塗布時にムラが発生しやすい問題や、撥
水性が長期間持続しない問題があった。また、処理され
た基材表面に撥水性が付与されても、水滴が基材表面に
留まる問題があった。また、すでに使用されている物品
に撥水性を付与する場合には、撥水処理剤組成物を常温
で直接塗布して撥水性を付与できる必要がある。しか
し、従来の撥水処理剤組成物を常温で直接塗布するだけ
では、充分な撥水性が得られない問題があった。
を解決する目的でなされたものであり、特定の化合物を
含有する表面処理剤組成物で基材表面を処理すると、基
材表面に撥水性、防汚性、水滴転落性、および水滴除去
性を付与できることをみいだした。また、付与されたこ
れらの性質が、耐久性に優れることをみいだした。
(A)と下記シリコン化合物(B)、および/または、
下記含フッ素シリコーン化合物(A1)と下式3で表さ
れるシリコン化合物(B1)との部分共加水分解生成
物、を必須として含むことを特徴とする表面処理剤組成
物を提供する。
る1価含フッ素有機基がケイ素原子に結合したオルガノ
シロキサン単位(a1)と下式2で表される1価含ケイ
素有機基がケイ素原子に結合したオルガノシロキサン単
位(a2)とを必須として構成された含フッ素シリコー
ン化合物(A1)、および、該含フッ素シリコーン化合
物(A1)の部分加水分解生成物(A2)、から選ばれる
1種以上の化合物。 シリコン化合物(B):下式3で表されるシリコン化合
物(B1)、および、該シリコン化合物(B1)の部分加
水分解生成物(B2)、から選ばれる1種以上の化合
物。 −X−Rf ・・・式1 −(CH2)aSi(R1)3-b(Y1)b・・・式2 (R20)4-jSi(Y2)j ・・・式3 ただし、式1〜3中の記号は以下の意味を示す。 Rf:1価ポリフルオロ炭化水素基、または、1価ポリ
フルオロ炭化水素基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸
素原子が挿入された基。 X:2価炭化水素基、または、2価炭化水素基の炭素−
炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基。 R1、R20:それぞれ独立に、1価有機基。 Y1、Y2:それぞれ独立に、1価加水分解性基、また
は、イソシアネート基。 a:1以上の整数。 b:1、2、または3。 j:1、2、3、または4。
炭素原子を含む基を意味する。また、本明細書における
「炭化水素基」とは、「エーテル性酸素原子を含む」等
の記載がないかぎりは、炭素原子と水素原子のみからな
る基をいう。炭化水素基は、芳香族炭化水素基であって
も脂肪族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基
が好ましい。
形成するケイ素原子に有機基が結合して形成されるオル
ガノシロキサン単位が、2個以上連なった化合物をい
う。そして本発明における含フッ素シリコーン化合物
(A1)とは、1価含フッ素有機基(式1)がケイ素原
子に結合したオルガノシロキサン単位(a1)と1価含
ケイ素有機基(式2)がケイ素原子に結合したオルガノ
シロキサン単位(a2)とを必須として構成された化合
物をいう。
fで表される基であり、該基におけるRfは、1価ポリフ
ルオロ炭化水素基、または、1価ポリフルオロ炭化水素
基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入され
た基を示す。1価ポリフルオロ炭化水素基とは、1価炭
化水素基の水素原子の2個以上がフッ素原子に置換され
た基をいい、ポリフルオロアルキル基が好ましい。1価
ポリフルオロ炭化水素基中のフッ素原子の割合は、(1
価ポリフルオロ炭化水素基中のフッ素原子数)/(1価
ポリフルオロ炭化水素基に対応する同一炭素原子数の炭
化水素基中の水素原子数)×100(%)で表現した場
合に60%以上であるのが好ましく、特には80%以上
が好ましく、さらには実質的に100%である場合、す
なわち1価炭化水素基の水素原子の実質的に全てがフッ
素原子に置換された「1価ペルフルオロ炭化水素基」で
あるのが好ましい。
鎖構造であっても、分岐構造であってもよく、直鎖構造
が好ましい。分岐構造である場合には、分岐部分の炭素
原子数1〜3程度の短鎖であるのが好ましい。また、分
岐部分は1価ポリフルオロ炭化水素基の末端部分に存在
するのが好ましい。1価ポリフルオロ炭化水素基の炭素
数は1〜18が好ましく、特に4〜12が好ましい。
アルキル基の水素原子の2個以上がフッ素原子に置換さ
れたポリフルオロアルキル基が好ましく、特にアルキル
基の水素原子の実質的に全てがフッ素原子に置換された
ペルフルオロアルキル基が好ましい。ポリフルオロアル
キル基およびペルフルオロアルキル基の炭素数は1〜1
8が好ましく、特に4〜12が好ましい。
ては以下に示す基が挙げられる。なお、以下の具体例中
には、それぞれの構造異性の基に相当する基も含まれ
る。C4F9−{ただし、F(CF2)4−、(CF3)2C
FCF2−、(CF3)3C−、CF3CF2CF(CF3)
−等の構造異性の基のいずれであってもよい}、C5F
11−{ただし、F(CF2)5−、(CF3)2CF(CF
2)2−、(CF3) 3CCF2−、F(CF2)3CF(C
F3)−等の構造異性の基のいずれであってもよい}、
C6F13−{ただし、F(CF2)3C(CF3)2−等の
構造異性の基のいずれであってもよい}、C8F17−、
C10F21−、C12F25−、C14F29−、C16F33−、C
18F37−、C20F41−、(CF3)2CF(CF2)s−
(sは1以上の整数)、HCtF2t−(tは1以上の整
数)。
−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基と
は、上記の1価ポリフルオロ炭化水素基中の炭素−炭素
結合間、または、上記の1価ポリフルオロ炭化水素基と
Xとの間にエーテル性酸素原子が挿入された基をいう。
結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基としては、
ポリフルオロオキシアルキレン部分を含む基が好まし
く、特にペルフルオロオキシアルキレン部分を含む基が
好ましく、とりわけ、ペルフルオロオキシアルキレン部
分を含み、かつ、末端がペルフルオロアルキル基である
基が好ましい。該ペルフルオロオキシアルキレンとして
は、ペルフルオロオキシメチレン、ペルフルオロオキシ
エチレン、ペルフルオロオキシプロピレン、ペルフルオ
ロオキシブチレン等が挙げられる。
結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基の具体例と
しては、以下に示す基が挙げられる。F(CF2)5OC
F(CF3)−、F[CF(CF3)CF2O]uCF(C
F3)CF2CF2−(uは1以上の整数)、F[CF
(CF3)CF2O]yCF(CF3)−(yは1以上の整
数)、F(CF2CF2CF2O)vCF2CF2−(vは1
以上の整数)、(CF2CF2O)wCF2CF2−(wは
1以上の整数)。
中のXは、2価炭化水素基、または、2価炭化水素基の
炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基
を示す。2価炭化水素基としては、アルキレン基が好ま
しく、該アルキレン基は直鎖構造であっても分岐構造で
あってもよいが、本発明においては−(CH2)i−(こ
こで、iは1〜20の整数、好ましくは2〜8の整数で
ある。)で表される直鎖構造のアルキレン基が好まし
い。分岐構造である場合には、分岐部分の炭素原子数が
1〜3程度の短鎖のものが好ましい。2価炭化水素基の
炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基
としては、上記アルキレン基の炭素−炭素結合間の1か
所にエーテル性酸素原子が挿入された基が好ましい。
a、下式1b、または下式1cで表される1価含フッ素
有機基であるのが好ましい。ただし、式1a、式1b、
および式1c中の記号は、下記の意味を示す。 Rf1、Rf3:それぞれ独立に、1価ポリフルオロ炭化水
素基。 Rf2:エーテル性酸素原子を含む1価ポリフルオロ炭化
水素基。 X1、X2、X3、X4、およびX5:それぞれ独立に、2
価炭化水素基。 Rf1−X1− ・・・式1a、 Rf2−X2−O−X3−・・・式1b、 Rf3−X4−O−X5−・・・式1c。
1価ポリフルオロ炭化水素基の例と同様の例が挙げら
れ、Rf2の例としては、上記の1価ポリフルオロ炭化水
素基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入さ
れた基と同様の例が挙げられる。X1、X2、X3、X4、
およびX5は、それぞれ独立に、−(CH2)h−(ここ
で、hは1〜10の整数であり、好ましくは2〜4の整
数である。)で表される直鎖アルキレン基が好ましい。
下式1a’、下式1b’、または下式1c’で表される
1価含フッ素有機基であるのが好ましい。ただし、式1
a’、式1b’、および式1c’中の記号は、下記の意
味を示す。 d:1〜18の整数、好ましくは6〜12の整数。 e:1〜10の整数、好ましくは1〜5の整数。 g:1〜18の整数、好ましくは4〜12の整数。 X1、X2、X3、X4、X5:それぞれ独立に、2価炭化
水素基、好ましくは直鎖アルキレン基。 CdF2d+1−X1−・・・式1a’、 F[CF(CF3)CF2O]eCF(CF3)−X2−O−X3−・・・式1b’ 、 CgF2g+1−X4−O−X5−・・・式1c’。
中のペルフルオロアルキル基は、直鎖構造であるのが好
ましい。C4F9−(CH2)2−、C4F9−(CH2)
3−、C4F9−(CH2)4−、C5F11−(CH2)2−、
C5F11−(CH2)3−、C6F13−(CH2)2−、C8
F17−(CH2)2−、C8F17−(CH2)3−、C8F17
−(CH2)4−、C9F19−(CH2)2−、C9F19−
(CH2)3−、C10F21−(CH2)2−。
F[CF(CF3)CF2O]2CF(CF3)CH2O
(CH2)3−、F[CF(CF3)CF2O]4CF(C
F3)CH2O(CH2)3−、F(CF2CF2CF2O)2
CF2CF2CH2O(CH2)3−。
中のペルフルオロアルキル基は直鎖構造であるのが好ま
しい。C4F9−(CH2)2−O−(CH2)3−、C6F
13−(CH2)2−O−(CH2)3−、C8F17−(C
H2)2−O−(CH2)3−、C8F17−(CH2)3−O
−(CH2)3−。
は1価炭化水素基が好ましく、特にアルキル基が好まし
い。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、特
に1〜4が好ましく、とりわけ1(すなわちR1はメチ
ル基)が好ましい。アルキル基は、直鎖構造が好まし
い。
るY1は1価加水分解性基、または、イソシアネート基
(−NCO)を示す。1価加水分解性基としては、塩素
原子、臭素原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基等が挙げられ、なかでもメトキシ基、エトキシ基が好
ましい。aは1〜4の整数が好ましく、2または3が特
に好ましい。bは2または3が好ましく、3が特に好ま
しい。
下に示す。 −(CH2)2Si(OCH3)3、 −(CH2)2Si(CH3)(OCH3)2、 −(CH2)2SiCl3、 −(CH2)3SiCl3、 −(CH2)3Si(CH3)Cl2、 −(CH2)3Si(OCH2CH3)3、 −(CH2)3Si(CH3)(OCH2CH3)2、 −(CH2)3Si(OCH3)3、 −(CH2)3Si(CH3)(OCH3)2、 −(CH2)2Si(NCO)3、 −(CH2)3Si(NCO)3、 −(CH2)2Si(CH3)(NCO)2、 −(CH2)3Si(CH3)(NCO)2。
るオルガノシロキサン単位(a1)としては、(R14)
(A10)SiO2/2、(A10)2SiO2/2、(A10)S
iO3/2、(A10)3SiO1/2、(R14)2(A10)Si
O1/2[ただし、A10は1価含フッ素有機基(式1)を
示し、R14は、1価有機基を示し、1価含フッ素有機基
(式1)および1価含ケイ素有機基(式2)以外の有機
基(以下、「他の1価有機基」と記す。)が好まし
い。]が挙げられる。
が好ましく、特にアルキル基が好ましい。該アルキル基
の炭素原子数は1〜10が好ましく、特に1〜4が好ま
しく、とりわけ1(すなわち、メチル基)が好ましい。
また、アルキル基は、直鎖の構造が好ましい。
るオルガノシロキサン単位(a2)としては、(R15)
(B10)SiO2/2、(B10)2SiO2/2、(B10)S
iO3/2、(B10)3SiO1/2、(R15)(R16)(B
10)SiO1/2、(R15)2(B10)SiO1/2[ただ
し、B10は1価含ケイ素有機基(式2)を示し、R15お
よびR16は、それぞれ独立に、1価有機基を示し、他の
1価有機基が好ましい。]が挙げられる。
は、オルガノシロキサン単位として、オルガノシロキサ
ン単位(a1)やオルガノシロキサン単位(a2)以外の
オルガノシロキサン単位[以下、オルガノシロキサン単
位(a3)という。]を含むのが好ましい。
1価有機基のみがケイ素原子に結合したオルガノシロキ
サン単位であり、(R17)2SiO2/2、(R17)SiO
3/2、(R17)3SiO1/2[ただし、R17は、他の1価
有機基。]が挙げられる。
ルガノシロキサン単位が、2個以上連なった化合物であ
る。オルガノシロキサン単位は、直鎖状または分岐状に
連なるのが好ましく、直鎖状に連なるのが特に好まし
い。含フッ素シリコーン化合物(A1)が直鎖構造であ
る場合、1価含フッ素有機基(式1)、および、1価含
ケイ素有機基(式2)の結合位置としては、SiO1/2
単位またはSiO2/2単位に結合するのが好ましく、S
iO2/2単位に結合するのが特に好ましい。また、含フ
ッ素シリコーン化合物(A1)が分岐構造である場合に
は、1価有機基がケイ素原子に直接結合しないシロキサ
ン単位(SiO4/2単位)を含んでいてもよい。
物(A1)としては、下記化合物が好ましい。ただし、
下記化合物におけるオルガノシロキサン単位の連なり方
は、ブロック状であっても、ランダム状であってもよ
い。下式における記号は、以下の意味を示す。 R5:式1で表される1価含フッ素有機基、 R7:式2で表される1価含ケイ素有機基、 R2、R3、R4、R6、R8、R9、R10、R11、R12、お
よびR13:それぞれ独立に1価有機基を示し、式1で表
される1価含フッ素有機基または式2で表される1価含
ケイ素有機基であってもよい。 n:1以上の整数、 m:1以上の整数、 k:0以上の整数。
(R8)O]m・[Si(R9)(R10)O]k・Si(R11)(R12)(R13)・・・式
4、 (R2)(R3)(R5)SiO・[Si(R7)(R8)O]m・[Si(R9)(R10)O]k・Si
(R11)(R12)(R13)、 (R2)(R3)(R7)SiO・[Si(R5)(R6)O]n・[Si(R9)(R10)O]k・Si
(R11)(R12)(R13)、 (R2)(R3)(R5)SiO・[Si(R9)(R10)O]k・Si(R7)(R12)(R13)。
は、特に式4で表される化合物が好ましい。さらに、式
4におけるR2、R3、R4、R6、R8、R9、R10、
R11、R 12、およびR13としては、他の1価有機基が好
ましく、特にメチル基が好ましい。また、nは1〜30
が好ましく、2〜20が特に好ましい。mは1〜10が
好ましく、1〜5が特に好ましい。kは0〜100が好
ましく、0〜80が特に好ましい。なお、kが0である
場合は、(R9)(R10)SiO2/2単位は存在しないこ
とを意味する。nとmとkとの比(n/m/k)は、目
的とする性能に応じたフッ素含有量とするために適宜変
更され、(50〜0.1)/1/(100〜1)が好ま
しく、特には(30〜0.1)/1/(50〜1)が好
ましい。
(A1)は、常温で流動状態にある化合物が好ましいた
め、分子量は4×102〜1×106程度が好ましく、1
×103〜1×104が特に好ましい。
ッ素含有量は5〜80重量%が好ましく、10〜50重
量%が特に好ましい。含フッ素シリコーン化合物
(A1)中の1価含ケイ素有機基(式2)は、1〜20
個が好ましく、1〜10個が特に好ましい。
(A1)の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
ただし、下式中、A11は、−(CH2)3OCH2CF
(CF3)[OCF2CF(CF3)]3Fを示す。
・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2Si(OCH3)3](CH3)O}・Si(CH3)
3、 [(CH3O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3(CF2)7CF3](CH
3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OCH3)3]、 (CH3)3SiO・[SiA11(CH3)O]5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2S
i(OCH3)3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [(CH3O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{SiA11(CH3)O}5・[Si(CH3)
2O]45・Si(CH3)2[(CH2) 2Si(OCH3)3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)
2O]45・{Si[(CH2)2Si(OCH 3)3](CH3)O}・Si(CH3)3。
(CF2)7CF3](CH3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si
(OCH3)3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)2(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・{Si[(CH2)2Si(OC2H 5)3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [(C2H5O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3(CF2)7CF3](C
H3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OC2H5)3]、 [(C2H5O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)3CF3](C
H3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OC2H5)3]、 (CH3)3SiO・[SiA11(CH3)O]5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2S
i(OC2H5)3](CH3)O}・Si(CH3)3。
H3)O}5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OC2H5)3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)
2O]45・{Si[(CH2)2Si(OC2H5)3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [(C2H5O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3]
(CH3)O]5・[Si(CH3)2O]4 5・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OC
2H5)3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)2(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・{Si[(CH2)2Si(NCO) 3](CH3)O}・Si(CH3)3、 (CH3)3SiO・[SiA11(CH3)O]5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2S
i(NCO)3](CH3)O}・Si(CH3)3。
5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2Si(NCO)3](CH3)O}・Si(CH3)
3、 [(OCN)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH
3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(NCO)3]、 [(OCN)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3(CF2)7CF3](C
H3)O}5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(NCO)3]、 [(OCN)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{SiA11(CH3)O}5・[Si(CH3)2
O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(NCO)3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)2(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・{Si[(CH2)2Si(NCO) 3](CH3)O}・Si(CH3)3。
・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3) 3、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)
2O]45・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [(OCN)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH
3)O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]、 (CH3)3SiO・[SiA11(CH3)O]5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2S
iCl3](CH3)O}・Si(CH3) 3、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{SiA11(CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]。
5・[Si(CH3)2O]45・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)
O}5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)2(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3(CF2)7CF3](CH3)O]
5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)3CF3](CH3)O]
5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]。
・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3) 3、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{SiA11(CH3)O}5・[Si(CH3)2O]
45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]、 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)O}5・[Si(CH3)
2O]45・{Si[(CH2)2SiCl3](CH3)O}・Si(CH3)3、 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)3O(CF2)7CF3](CH3)
O]5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]。
方法としては、公知の方法が採用できる。たとえば1価
含フッ素有機基(式1)が結合した環状ポリシロキサ
ン、1価含ケイ素有機基(式2)が結合した環状ポリシ
ロキサン、および必要に応じて他の1価有機基が結合し
た環状ポリシロキサンとを、ジシロキサンとともに共加
水分解する方法(特開平8−302020)が挙げられ
る。
した環状ポリシロキサン、水素原子が結合した環状ポリ
シロキサン、およびジシロキサンとを共加水分解する等
の方法で、ケイ素原子に直接結合した水素原子および1
価含ケイ素有機基(式2)を有するヒドロシリコーン化
合物とし、このヒドロシリコーン化合物に下式5で表さ
れる化合物等をヒドロシリル化する方法も採用できる。
の基であり、X6は、それぞれ独立して、単結合、2価
炭化水素基、または2価炭化水素基の炭素−炭素結合間
にエーテル性酸素原子が挿入された基を示し、単結合ま
たはアルキレン基が好ましい。 Rf−X6−CH2CH=CH2・・・式5 シリコーン化合物(A)は、含フッ素シリコーン化合物
(A1)および該含フッ素シリコーン化合物(A1)の部
分加水分解生成物(A2)、から選ばれる1種以上の化
合物である。
たは部分共加水分解生成物とは、1価加水分解性基また
はイソシアネート基を有する化合物(以下、加水分解性
化合物という。)と水とが部分加水分解して生成する化
合物をいう。また、部分加水分解生成物は、加水分解性
化合物の1種以上から生成する化合物をいい、部分共加
水分解生成物とは加水分解性化合物の2種以上から生成
する化合物をいう。なお、以下において部分加水分解生
成物と部分共加水分解生成物とを総称して、部分加水分
解生成物ともいう。
解性基またはイソシアネート基を有する化合物(以下、
加水分解性化合物という。)において、該基の一部が水
と反応してOH基に変化した化合物、該OH基に変化し
た化合物間で脱水縮合してSi−O−Si結合を形成す
ることにより生成した化合物、またはこれらの化合物の
混合物が挙げられ、通常は混合物である。部分加水分解
生成物の製造方法としては公知の方法が採用できる。た
とえば、加水分解性化合物と水とを単に混合する方法、
加水分解性化合物と水とを酸の存在下で混合する方法、
加水分解性化合物と水とをアルカリの存在下で混合する
方法等がある。
製する場合には、組成物の安定性、形成される被膜の物
性強度等の観点から、酸の存在下で加水分解するのが好
ましい。部分加水分解に必要な水の量は限定されず、1
価加水分解性基とイソシアネートとの合計モル数に対し
て、等モル以上が好ましく、500倍モル以下が特に好
ましい。また、酸は硝酸、塩酸、硫酸、メタンスルホン
酸、または酢酸が好ましい。酸の量は、水に対して0.
05〜10重量%が好ましい。酸の量を多くすると、製
造時の操作が難しくなる問題がある。部分加水分解生成
物の製造に用いた酸は、そのまま組成物中に残留してい
てもよく、また、中和および脱塩等の方法で除去しても
よい。組成物中に残留する酸の量は、組成物の安定性等
の点から0.05〜0.3重量%とするのが好ましい。
化合物、水、および酸のみで実施してもよく、さらに有
機溶剤の存在下で実施するのが好ましい。有機溶剤の量
は、加水分解性化合物の重量に対して9〜2000倍と
するのが好ましい。
ッ素系、炭化水素系、アルコール系、ケトン系の有機溶
剤が好ましく、特に酢酸エステル系、アルコール系が好
適である。有機溶剤の好ましい態様は、後述する組成物
中に含ませる有機溶剤の好ましい態様と同一である。
以上を用いてもよい。また、生成する部分加水分解生成
物は1種であっても2種以上であってもよく、通常は2
種以上からなり、該2種以上からなる部分加水分解生成
物をそのまま用いうる。
フッ素シリコーン化合物(A1)中の1価加水分解性基
またはイソシアネート基(Y1)の一部が水と反応して
OH基に変化した化合物、該OH基に変化した化合物間
で脱水縮合してSi−O−Si結合を形成することによ
り生成した化合物が挙げられ、通常は2種以上の混合物
である。また、部分加水分解生成物(A2)を生成させ
る含フッ素シリコーン化合物(A1)は、1種であって
も2種以上であってもよい。
コーン化合物(A1)と部分加水分解生成物(A2)から
選ばれる1種以上の化合物であり、含フッ素シリコーン
化合物(A1)のみであっても、部分加水分解生成物
(A2)のみであっても、含フッ素シリコーン化合物
(A1)と部分加水分解生成物(A2)とからなっていて
もよい。また、シリコーン化合物(A)が含フッ素シリ
コーン化合物(A1)と部分加水分解生成物(A2)とか
らなる場合には、それらの量比は特に限定されない。
る化合物である。シリコン化合物(B1)およびシリコ
ン化合物(B1)の部分加水分解生成物(B2)は、組成
物の耐磨耗性、耐薬品性、耐候性等を向上させうる。
し、Rf1は1価ポリフルオロアルキル基、または1価ポ
リフルオロアルキル基の炭素−炭素結合間にエーテル性
酸素原子が挿入された基、であり、式1におけるRfと
同様の基が好ましい。nは2〜4の整数である。)が好
ましい。Rf1としては、ペルフルオロアルキル基が好ま
しい。また、Y2としては、アルコキシ基、ハロゲン原
子、イソシアネート基が好ましく、特にメトキシ基、エ
トキシ基、または塩素原子が好ましい。jは、1〜3の
整数が好ましく、特に3が好ましい。
下記化合物が挙げられる。ただし、下記式中のペルフル
オロアルキル基は、直鎖構造のペルフルオロアルキル基
であるのが好ましい。Si(OCH3)4、Si(OCH
2CH3)4、Si(NCO)4、SiCl4、CH3Si
(OCH3)3、CH3Si(OCH2CH3)3、CH3S
i(NCO)3、CH3SiCl3、C8F17(CH2)2S
i(OCH3)3、C8F17(CH2)2Si(OCH2CH
3)3、C8F17(CH2)2Si(NCO)3、C8F
17(CH2)2SiCl3、C4F9(CH2)2Si(OC
H3)3、C4F9(CH2)2Si(OCH2CH3)3、C4
F9(CH2)2Si(NCO)3、C4F9(CH2)2Si
Cl3。
るシリコン化合物(B1)の部分加水分解生成物であ
る。具体的には、シリコン化合物(B1)中の1価加水
分解性基またはイソシアネート基の一部が水と反応して
OH基に変化した化合物、該OH基に変化した化合物間
で脱水縮合してSi−O−Si結合を形成することによ
り生成した化合物、またはこれらの化合物の混合物が挙
げられ、混合物であるのが好ましい。部分加水分解に用
いるシリコン化合物(B1)は、1種であっても2種以
上であってもよい。
物(B1)、および、該シリコン化合物(B1)の部分加
水分解生成物(B2)、から選ばれる1種以上の化合物
である。シリコン化合物(B)は、シリコン化合物(B
1)のみからなっていても、部分加水分解生成物(B2)
のみからなっていても、シリコン化合物(B1)と部分
加水分解生成物(B2)とからなっていてもよい。シリ
コン化合物(B)が、シリコン化合物(B1)と部分加
水分解生成物(B2)とからなる場合には、それらの量
比は、特に限定されない。
シリコーン化合物(A)とシリコン化合物(B)、およ
び/または、含フッ素シリコーン化合物(A1)とシリ
コン化合物(B1)との部分加水分解生成物、を必須と
して含む。
コン化合物(B)からなる組成物(以下、組成物1とも
いう)である場合、含フッ素シリコーン化合物(A1)
と部分加水分解物(A2)の総量を、組成物1中に0.
1〜50重量%とするのが好ましく、特に1〜10重量
%とするのが好ましい。また、シリコン化合物(B1)
とシリコン化合物(B2)との総量を、組成物1中に
0.1〜50重量%とするのが好ましく、特に1〜10
重量%とするのが好ましい。
合物(A1)とシリコン化合物(B1)との部分共加水分
解生成物を必須として含む場合(以下、組成物2ともい
う)、該部分共加水分解生成物としては、含フッ素シリ
コーン化合物(A1)とシリコン化合物(B1)中に存在
する、1価加水分解性基またはイソシアネート基、の一
部が水と反応してOH基に変化した化合物、該OH基に
変化した化合物間で脱水縮合してSi−O−Si結合を
形成することにより生成した化合物、またはこれらの化
合物の混合物が挙げられ、混合物であるのが好ましい。
合物(A1)に対してシリコン化合物(B1)を0.1〜
50重量%、好ましくは1〜10重量%用いて、部分共
加水分解した生成物、を含む組成物が好ましい。また、
組成物2中の部分共加水分解生成物量は、0.2〜10
0重量%であるのが好ましい。
ッ素シリコーン化合物(A1)とシリコン化合物(B1)
との部分共加水分解物を必須とする組成物が好ましい。
また、該組成物中には、含フッ素シリコーン化合物
(A)やシリコン化合物(B)が含まれていてもよい。
表面処理しても、必要に応じて他の化合物を含ませてか
ら表面処理してもよく、他の化合物を含ませてから表面
処理するのが好ましい。
有機溶剤としては、酢酸ブチル、酢酸エチル等の酢酸エ
ステル系の有機溶剤、ペルフルオロ(2−n−ブチルテ
トラヒドロフラン)、ペルフルオロ(トリ−n−ブチル
アミン)等の含フッ素系溶剤、イソプロピルアルコー
ル、エチルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系溶剤等が好ましい。さらに組成物の安定性の観点か
ら、Y1およびY2がそれぞれ1価加水分解性基である場
合の有機溶剤は、アルコール系溶剤とするのが好まし
く、Y1およびY2がイソシアネート基である場合の有機
溶剤は、酢酸エステル系の有機溶剤とするのが好まし
い。有機溶剤の量は、含フッ素シリコーン化合物
(A1)、シリコン化合物(B1)および部分共加水分解
生成物の合計重量に対して9〜2000倍重量が好まし
い。
含ませてもよい。添加剤は、シリコーン化合物(A)、
シリコン化合物(B)、および、部分共加水分解生成物
との反応性、相溶性を考慮して選択すればよく、たとえ
ば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化ス
ズ等の金属酸化物の微粒子、樹脂等が挙げられる。着色
が必要であれば、染料、顔料等を加えてもよい。この他
に、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加してもよく、導
電性、帯電防止性等を付与したい場合には、目的に応じ
た抵抗値の得られる材料[たとえば、酸化スズ、ITO
(In2O3−SnO2)、酸化亜鉛等]も添加できる。
添加剤は目的により、組成物中に0.01〜20重量%
とするのが好ましい。過剰な添加は、本発明の被膜の水
滴転落性、耐摩耗性を低下させるため、好ましくない。
処理し、基材表面に被膜を形成させる。処理方法として
は、基材表面に付着させ、つぎに乾燥することによる処
理方法が挙げられる。該処理にあたっては、特別な前処
理は必要ないが、目的に応じて行ってもよい。たとえ
ば、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等
によるアルカリ処理、フッ酸水溶液、塩酸水溶液による
酸処理、またはプラズマ照射、コロナ放電等による放電
処理、酸化セリウム、アルミナ等の各種研磨剤による研
磨処理/ブラスト処理を行うことができる。
の塗布方法が挙げられ、たとえば、はけ塗り、流し塗
り、回転塗布、浸漬塗布、スプレー塗布、スキージ塗
布、各種印刷塗布等の方法が好ましい。さらに、表面処
理された基材は、通常は乾燥させる。乾燥温度として
は、0℃〜50℃程度の通常の乾燥温度が採用でき、通
常の乾燥温度で優れた性能を発現しうることから、経済
的に有利である。さらに、乾燥速度を速める目的や効果
の持続性を高める目的で加熱処理してもよい。また、乾
燥は大気中で実施できる。加熱処理を行う場合の条件
は、基材の耐熱性を考慮して選択すればよく、温度は6
0〜400℃程度が好ましく、時間は1〜60分程度が
好ましい。
る被膜の厚さは特に限定されず、単分子膜厚以上かつ2
μm以下が好ましく、単分子膜厚以上0.1μm以下が
特に好ましい。被膜の厚さは、表面処理剤組成物の成分
濃度、塗布条件、加熱条件等により適宜制御できる。
れる被膜は、低屈折率であるため、被膜の膜厚を光学干
渉が生じる膜厚に制御すれば低反射性も付与できる。さ
らに、本発明の表面処理剤組成物より得られる被膜は、
表面滑り性にも優れるため、摩耗に対する耐久性が高
い。
チックス、金属、セラミックス、その他の無機材料や有
機材料またはその組み合わせ(複合材料、積層材料等)
等が挙げられる。また、基材表面は、塗装金属等の塗膜
表面や表面処理ガラスの表面処理層表面(たとえば、ゾ
ルゲル膜、スパッタ膜、CVD膜、蒸着膜等が設けられ
た表面)などであってもよい。基材の形状は、平面、全
面または部分的に曲率を有する形状等が挙げられる。
〜30℃程度)で処理できるため、加熱できない基材に
対しても処理ができ、幅広い範囲の基材に撥水性、水滴
残存性等の性能を付与できる。本発明において特に有効
な基材は、ガラス等の透明な材料からなる基材である。
表面処理された基材は、輸送機器用物品、または、建築
・建装用物品として用いるのが好ましい。
ス、鏡、視界確保用(CCD)レンズ、表示機器表面材
等の外装部材、計器盤表面材等の内装部材が挙げられ
る。本発明により得られる輸送機器用物品の表面には、
撥水性および水滴転落性が付与されるため、表面に付着
した水滴は、容易に排除されうる。また、表面に水滴が
氷結する環境下であっても氷結しにくく、氷結してもす
ぐに解凍する。そして、これらの性能は、従来の表面処
理剤組成物よりも顕著である。建築・建装用物品として
は、窓ガラス、屋根用ガラス、ドア用ガラス、間仕切り
用ガラス、温室用ガラス、鏡、陳列棚用ガラス等が挙げ
られる。
るが本発明はこれらに限定されない。実施例における各
種評価方法は以下のとおりである。また、実施例中の含
フッ素シリコーン化合物のシロキサン単位の連なり方
は、ランダム状であることを示す。
した。 [水滴転落性]水平(角度0度)に保持したサンプル基
板に50μlの水滴を滴下後、サンプル基板を傾け、水
滴が転がり始めたときの基板と水平面との角度を読み取
った(単位:度)。
して20cm離したノズルから、水を全面に1時間スプ
レーした後、サンプル表面に残存する水滴を肉眼で観察
し、次の基準で評価した。 A:サンプル表面に水滴がまったく残らない、 B:サンプル表面積の20%未満に水滴が残る、 C:サンプル表面積の20%〜70%に水滴が残る、 D:サンプル表面積の70%超に水滴が濡れ広がる。 [撥水耐久性の評価]沸騰水中に6時間浸漬した後の、
撥水性、水滴転落性、水滴残存性を評価した。
0mLの4つ口フラスコを、充分に窒素置換し、(CH
3)3SiO[SiH(CH3)O]5[Si(CH3)
2O]45Si(CH3)3を100g入れた。温度を90
℃に昇温した後、F(CF2)8CH2CH2CH=CH2
の49.9g、CH2=CHSiCl3の4.3gと塩化
白金酸(白金換算で2ppmになるように溶解)との混
合物を、4つ口フラスコ中へ滴下ロートから滴下した。
反応の進行とともに、内温が100℃にまで上昇した。
1時間撹拌後、IRによりH−Siピークの消失を確認
後、1時間後に反応を停止した。得られた生成物をNM
R、IRにより分析した結果、下式(a)で表される構
造であることを確認した。 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)4(CF2)8F](CH3)O}4・[Si(CH3)2O]45
・{Si[(CH2)2SiCl3](CH 3)O}・Si(CH3)3・・・式(a)。
0mLの4つ口フラスコを、充分に窒素置換し、H(C
H3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)4F](C
H3)O}5・[(CH3)2SiO]45・Si(CH3)2
Hを100g入れた。温度を90℃に昇温した後、CH
2=CHSiCl3の3.23gと塩化白金酸(白金換算
で2ppmになるように溶解)との混合物を、4つ口フ
ラスコ中に滴下ロートから滴下した。反応の進行ととも
に、内温が100℃にまで上昇したことが観察された。
1時間撹拌後、IRによりH−Siピークの消失を確認
後、1時間後に反応を停止した。得られた生成物をNM
R、IRにより分析した結果、下式(b)で表される構
造であることを確認した。 [Cl3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)4F](CH3)O}5・
[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2SiCl3]・・・式
(b)。
0mLの4つ口フラスコを、充分に窒素置換し、(CH
3)3SiO・[SiH(CH3)O]5・[(CH3)2S
iO]45・Si(CH3)3を100g入れた。温度を9
0℃に昇温した後、F(CF2)8CH2CH2CH=CH
2の49.9g、CH2=CHSi(OCH2CH3)3の
5gと塩化白金酸(白金換算で2ppmになるように溶
解)との混合物を、4つ口フラスコ中へ滴下ロートから
滴下した。反応の進行とともに、内温が100℃にまで
上昇した。1時間撹拌後、IRによりH−Siピークの
消失を確認後、1時間後に反応を停止した。得られた生
成物をNMR、IRにより分析した結果、下式(c)で
表される構造であることを確認した。 (CH3)3SiO・{Si[(CH2)4(CF2)8F](CH3)O]4・[Si(CH3)2O]45
・{Si[(CH2)2Si(OCH2CH 3)3](CH3)O}・Si(CH3)3・・・式
(c)。
0mLの4つ口フラスコを、充分に窒素置換し、H(C
H3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)8F](C
H3)O}5・[(CH3)2SiO]45・Si(CH3)2
Hを100g入れた。温度を90℃に昇温した後、CH
2=CHSi(OCH2CH3)3の6.3gと塩化白金酸
(白金換算で2ppmになるように溶解)との混合物
を、4つ口フラスコ中に滴下ロートから滴下した。反応
の進行とともに、内温が100℃にまで上昇した。1時
間撹拌後、IRによりH−Siピークの消失を確認後、
1時間後に反応を停止した。得られた生成物をNMR、
IRにより分析した結果、下式(d)で表される構造で
あることを確認した。 [(CH3CH2O)3Si(CH2)2](CH3)2SiO・{Si[(CH2)2(CF2)8F](C
H3)O}5・[Si(CH3)2O]45・Si(CH3)2[(CH2)2Si(OCH2CH3)3]
・・・式(d)。
スコに酢酸ブチル97.0g、式(a)で表される化合
物3.0gとF(CF2)8(CH2)2SiCl3の1.
5gを添加し、25℃で30分撹拌後、さらに25℃で
1昼夜撹拌して処理剤を得た。あらかじめ研磨洗浄した
ガラス基板(10cm×10cm、厚さ3.5mm)に
処理剤を0.5mL滴下し、ティッシュペーパーを用い
て自動車のワックス掛けの要領で塗り広げ、サンプル基
板を作成した。評価結果を表1に示す。
表される化合物を式(b)で表される化合物に変更して
サンプル基板を作成した。評価結果を表1に示す。
スコに2−プロパノール50.0g、酢酸ブチル44.
0g、式(c)で表される化合物3.0g、F(C
F2)8(CH2)2Si(OCH2CH3)3の1.5gを
添加し、25℃で30分撹拌した。ついで、0.6重量
%の硝酸水溶液を3.0g添加し、1昼夜、25℃で撹
拌して処理剤を得た。あらかじめ研磨洗浄したガラス基
板(10cm×10cm、厚さ3.5mm)に処理剤を
0.5mL滴下し、ティッシュペーパーを用いて自動車
のワックス掛けの要領で塗り広げ、サンプル基板を作成
した。得られたサンプル基板を200℃で30分加熱し
て評価した結果を表1に示す。
表される化合物を式(d)で表される化合物に変更して
サンプル基板を作成した。評価結果を表1に示す。
F2)8(CH2)2Si(OCH2CH3)3をCH3Si
(OCH3)3に変更してサンプル基板を作成した。評価
結果を表1に示す。
表される化合物を使用しないでサンプル基板を作成し
た。評価結果を表1に示す。
F2)8(CH2)2SiCl3を使用しないでサンプル基
板を作成した。評価結果を表1に示す。
5、比較例1〜2で得られたサンプル基板を下表2また
は表3に示す薬品に24時間浸漬し、浸漬後の撥水性、
水滴転落性、水滴残存性を評価した。結果を表2または
表3に示す。実施例1〜5、比較例1〜2で得られたサ
ンプルを荷重1kgでネル布にて1500回往復摩耗し
た。摩耗試験後の撥水性、水滴転落性、水滴残存性を評
価結果を表4に示す。
に、優れた撥水性、水滴転落性、水滴除去性を付与しう
る。また、基材表面に塗布むらなく均一に処理できる。
さらに、本発明の表面処理剤組成物により付与された効
果は、長期にわたって持続しうる。特に含フッ素シリコ
ーン化合物(A1)のみでは発揮しえない耐久性に優れ
た水滴残存性、を付与しうる。したがって、本発明の表
面処理剤組成物により処理された基材は、温水で洗浄し
たとしても、表面に摩擦を受けても、また、薬品が付着
した場合においても、表面に付着した水滴が容易に除か
れうる。
で処理した場合にも、加熱処理した場合にも、優れた性
能を発揮しうることから、汎用性の点においても優れ
る。さらに、常温処理が可能であるため、一度使用され
た基材に対しても容易に処理できることから、修復剤
(リペア剤)としても使用しうる。
Claims (7)
- 【請求項1】下記シリコーン化合物(A)と下記シリコ
ン化合物(B)、および/または、下記含フッ素シリコ
ーン化合物(A1)と下式3で表されるシリコン化合物
(B1)との部分共加水分解生成物、を必須として含む
ことを特徴とする表面処理剤組成物。シリコーン化合物
(A):下式1で表される1価含フッ素有機基がケイ素
原子に結合したオルガノシロキサン単位(a1)と下式
2で表される1価含ケイ素有機基がケイ素原子に結合し
たオルガノシロキサン単位(a2)とを必須として構成
された含フッ素シリコーン化合物(A1)、および、該
含フッ素シリコーン化合物(A1)の部分加水分解生成
物(A2)、から選ばれる1種以上の化合物。シリコン
化合物(B):下式3で表されるシリコン化合物
(B1)、および、該シリコン化合物(B1)の部分加水
分解生成物(B2)、から選ばれる1種以上の化合物。 −X−Rf ・・・式1 −(CH2)aSi(R1)3-b(Y1)b・・・式2 (R20)4-jSi(Y2)j ・・・式3 ただし、式1〜3中の記号は以下の意味を示す。 Rf:1価ポリフルオロ炭化水素基、または、1価ポリ
フルオロ炭化水素基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸
素原子が挿入された基。 X:2価炭化水素基、または、2価炭化水素基の炭素−
炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基。 R1、R20:それぞれ独立に、1価有機基。 Y1、Y2:それぞれ独立に、1価加水分解性基、また
は、イソシアネート基。 a:1以上の整数。 b:1、2、または3。 j:1、2、3、または4。 - 【請求項2】含フッ素シリコーン化合物(A1)と式3
で表されるシリコン化合物(B1)との部分共加水分解
生成物、を必須として含むことを特徴とする請求項1に
記載の表面処理剤組成物。 - 【請求項3】含フッ素シリコーン化合物(A1)が、下
式4で表される化合物である請求項1または2に記載の
表面処理剤組成物。ただし、式4中の記号は以下の意味
を示す。また、式4におけるオルガノシロキサン単位の
連なり方は、ブロックであってもランダムであってもよ
い。 R5:前記式1で表される1価含フッ素有機基。 R7:前記式2で表される1価含ケイ素有機基。 R2、R3、R4、R6、R8、R9、R10、R11、R12、お
よびR13:それぞれ独立に1価有機基を示し、前記式1
で表される1価含フッ素有機基または前記式2で表され
る1価含ケイ素有機基であってもよい。 n:1以上の整数。 m:1以上の整数。 k:0以上の整数。 (R2)(R3)(R4)SiO・[Si(R5)(R6)O]n・[Si(R7)(R8)O]m・[Si
(R9)(R10)O]k・Si(R11)(R12)(R13)・・・式4 - 【請求項4】有機溶剤を含有する請求項1、2、または
3に記載の表面処理剤組成物。 - 【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理
剤組成物から形成された被膜を基材表面に有する表面処
理された基材。 - 【請求項6】基材がガラス基材である請求項5に記載の
表面処理された基材。 - 【請求項7】請求項1〜4のいずれかに記載の表面処理
剤組成物を、基材表面に付着させ、つぎに、0℃〜40
0℃で乾燥させることを特徴とする、表面処理された基
材の製造方法。
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JP25627399A JP2001081445A (ja) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | 表面処理剤組成物、および表面処理された基材 |
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