JP2001072638A

JP2001072638A - αーブロモアルキルフェノン類の製造法

Info

Publication number: JP2001072638A
Application number: JP24721399A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Yoshikawa; 博好川; Takao Izawa; 孝夫伊沢; Yukio Tsukui; 幸雄筑井
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1999-09-01
Filing date: 1999-09-01
Publication date: 2001-03-21

Abstract

(57)【要約】【課題】有害性の少ない溶媒を用い連続した操作で、副
反応を抑え高収率および高品質のαーブロモアセトフェ
ノン類を得る。【解決手段】ベンズアルデヒド類を原料としてグリニャ
ール反応および相間移動触媒を用いた酸化反応により誘
導されるアルキルフェノン類の反応液に低級アルコール
存在下臭素を反応させることを特徴とするαーブロモア
セトフェノン類の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬等の中
間体等として有用な、αーブロモアルキルフェノン類の
製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】アルキルフェノン類を臭素化しαーブロ
モアルキルフェノン類を製造する際の溶媒として、酢酸
あるいはクロロホルム等の有機塩素系溶媒が一般的に使
用されている（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．７５
５８８４（１９５３）、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．３９
２５３（１９９６）、ｉｂｉｄ．１５９８９（１９
７２）、ｉｂｉｄ．１５９１８（１９７２），ＵＳＰ
３，７６３，１４８（１９７３））。また、１−（４
−トリフルオロメチルフェニル）−１−プロパノールに
ＭＸＯｎ（式中、Ｍはアルカリ金属あるいはアルカリ土
類金属を、Ｘはハロゲン原子を、ｎは１〜３の整数を示
す。）で表される酸化剤を作用させて１−（４−トリフ
ルオロメチルフェニル）−１−プロパノンを製造する方
法が知られている（特開平１−１９０３３）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】アルキルフェノン類を
臭素化しαーブロモアルキルフェノン類を製造する際の
問題点として、反応終期において臭素原子が２個付加し
たα、αージブロモアルキルフェノン類が不純物として
副生する。従って、従来の技術では、この副生物の増大
によって得量のみならず品質の低下をきたし、また、収
率を最大にするためには原料をかなり残存させた段階で
反応を終結させる必要があった。更に、従来使用されて
いる溶媒は環境に対する有害性を有するものが多く、廃
棄物の処理に大きな問題がある。そこで、収率および公
害等の問題点を解決できる上記αーブロモアルキルフェ
ノン類の製造法が期待される。

【０００４】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは種
々検討した結果、臭素化反応において溶媒として低級ア
ルコールを用いることにより従来の技術では認められた
副生物の生成が著しく抑制されること、酸化反応におい
て酸化剤と共に相間移動触媒を添加することにより収率
が著しく向上すること、有害性の少ない溶媒を用い単離
することなく進めることができる工業的に好ましい方法
であること、さらにはそれらの方法を組み合わせること
により、高品質の該αーブロモアルキルフェノン類を穏
和な条件で高収率且つ大量生産可能な方法となりうるこ
とを見い出し、本発明の完成に至った。

【０００５】即ち、本発明は次の１〜２０に関する。１.アルキルフェノン類を低級アルコ−ル中で臭素と反
応させ、得られた反応液を酸で処理することを特徴とす
るα−ブロモアルキルフェノン類の製造法。２.アルキルフェノン類が式（４）

【０００６】

【化１０】

【０００７】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハ
ロゲン置換低級アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数で
あり、ｎが２以上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる
置換基でもよく、またはＲ_１同士が結合してアルキレン
基を構成してもよい。Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。）で表されるアルキルフェノン類を低級ア
ルコール中で臭素と反応させ、反応液を酸で処理するこ
とを特徴とする式（５）

【０００８】

【化１１】

【０００９】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一で
ある。）で表されるαーブロモアルキルフェノン類の製
造法。３.Ｒ_１が炭素数の１〜３の低級アルキル基、炭素数１
〜３の低級アルコキシ基または炭素数１〜３のハロゲン
置換低級アルキル基である２記載の製造法。４.Ｒ_１がトリフルオロメチル基である２記載の製造
法。５.ｎが１又は２である２ないし４のいずれか１項に記
載の製造法。６.ｎが１であり、Ｒ_１の位置がｐ位である２ないし４
のいずれか１項に記載の製造法。７.Ｒ_２が水素原子又は炭素数１〜２の低級アルキル基
のである２ないし６のいずれか１項に記載の製造法。８.Ｒ_１がｐ位のトリフルオロメチル基であり、ｎが１
であり、Ｒ_２が水素原子である２記載の製造法。９.低級アルコールが炭素数１〜３のアルコールである
２ないし８のいずれか１項に記載の製造法。１０.低級アルコールがメタノールである９記載の製造
法。１１.酸が臭化水素酸またはｐートルエンスルホン酸で
ある２ないし１０のいずれか１項に記載の製造法。１２.式（１）

【００１０】

【化１２】

【００１１】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハ
ロゲン置換低級アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数で
あり、ｎが２以上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる置
換基でもよく、またはＲ_１同士が結合してアルキレン基
を構成してもよい。）で表されるベンズアルデヒド類と
式（２）Ｒ_２ＣＨ_２ＭｇＸ（２）（式中Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキル基、Ｘはハロ
ゲン原子を示す。）で表されるグリニヤール試薬を反応
させて式（３）

【００１２】

【化１３】

【００１３】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一
である。）で表される１ー（フェニル）ー１ーアルカノ
ール類を得、反応物を単離することなく、相間移動触媒
を添加し酸化剤を用いて酸化することを特徴とする式
（４）

【００１４】

【化１４】

【００１５】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一で
ある。）で表されるアルキルフェノン類の製造法。１３.Ｒ_１が炭素数１〜３の低級アルキル基、炭素数１
〜３の低級アルコキシ基または炭素数１〜３のハロゲン
置換低級アルキル基である１２記載の製造法。１４.Ｒ_１がトリフルオロメチル基である１３記載の製
造法。１５.ｎが１又は２である１２記載の製造法。１６.ｎが１であり、Ｒ_１の位置がｐ位である１５記載
の製造法。１７.Ｒ_２が水素原子又は炭素数１〜２の低級アルキル
基である１２記載の製造法。１８.Ｒ_１がｐ位のトリフルオロメチル基であり、ｎが
１であり、Ｒ_２が水素原子である１２記載の製造法。１９.相間移動触媒が四級アンモニウム塩である１２な
いし１８のいずれか１項に記載の製造法。２０.式（１）

【００１６】

【化１５】

【００１７】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハ
ロゲン置換低級アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数で
あり、ｎが２以上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる置
換基でもよく、またはＲ_１同士が結合してアルキレン基
を構成してもよい。）で表されるベンズアルデヒド類と
式（２）Ｒ_２ＣＨ_２ＭｇＸ（２）（式中Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキル基、Ｘはハロ
ゲン原子を示す。）で表されるグリニヤール試薬を反応
させて式（３）

【００１８】

【化１６】

【００１９】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一で
ある。）で表される１ー（フェニル）ー１ーアルカノー
ル類を得、反応物を単離することなく、相間移動触媒を
添加し酸化剤を用いて酸化して式（４）

【００２０】

【化１７】

【００２１】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一
である。）で表されるアルキルフェノン類を得、反応物
を単離することなく、低級アルコール中で臭素と反応さ
せ、その反応液を酸で処理することを特徴とする式
（５）

【００２２】

【化１８】

【００２３】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一
である。）で表されるαーブロモアルキルフェノン類の
製造法。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明のαーブロモアルキルフェ
ノン類の製造法は、アルキルフェノン類を低級アルコー
ル中で臭素と反応させ、得られた反応液を酸で処理する
ことを特徴とする。本発明方法で製造されるαーブロモ
アルキルフェノン類としては、例えば下記式（５）

【００２５】

【化１９】

【００２６】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一で
ある。）で表される化合物が挙げられる。具体的には、
例えば４ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェ
ノン、３ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェ
ノン、２ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェ
ノン、４ーメチルーαーブロモアセトフェノン、３ーメ
チルーαーブロモアセトフェノン、２ーメチルーαーブ
ロモアセトフェノン、４ーニトローαーブロモアセトフ
ェノン、３ーニトローαーブロモアセトフェノン、２ー
ニトローαーブロモアセトフェノン、４ーメトキシーα
ーブロモアセトフェノン、３ーメトキシーαーブロモア
セトフェノン、２ーメトキシーαーブロモアセトフェノ
ン、４ークロローαーブロモアセトフェノン、３ークロ
ローαーブロモアセトフェノン、２ークロローαーブロ
モアセトフェノン、４−トリフロオロメチル−α−ブロ
モプロピオフェノン、３−トリフロオロメチル−α−ブ
ロモプロピオフェノン、２−トリフロオロメチル−α−
ブロモプロピオフェノン等が挙げられる。本発明で使用
されるアルキルフェノン類としては、例えば下記式
（４）

【００２７】

【化２０】

【００２８】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一
である。）で表される化合物が挙げられる。アルキルフ
ェノン類の具体例としては、例えば４ートリフルオロメ
チルアセトフェノン、３ートリフルオロメチルアセトフ
ェノン、２ートリフルオロメチルアセトフェノン、４ー
メチルアセトフェノン、３ーメチルアセトフェノン、２
ーメチルアセトフェノン、４ーニトロアセトフェノン、
３ーニトロアセトフェノン、２ーニトロアセトフェノ
ン、４ーメトキシアセトフェノン、３ーメトキシアセト
フェノン、２ーメトキシアセトフェノン、４ークロロア
セトフェノン、３ークロロアセトフェノン、２ークロロ
アセトフェノン、４ートリフルオロメチルプロピオフェ
ノン、３ートリフルオロメチルプロピオフェノン、２ー
トリフルオロメチルプロピオフェノン等が挙げられる。
上記式（１）、（３）、（４）、（５）においてＲ
_１は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ニトロ基、ハロゲノ基またはハロゲン置換低級アルキル
基を示し、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハ
ロゲン置換低級アルキル基としては、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル等の炭素数１〜３のアルキ
ル基、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロ
ポキシ等の炭素数１〜３のアルコキシ基またはハロゲノ
メチル、ハロゲノエチル、ハロゲノ−ｎ−プロピル、ハ
ロゲノイソプロピル等の炭素数１〜３のハロゲン置換低
級アルキル基が挙げられる。ハロゲン置換低級アルキル
基としては特に好ましくはトリフルオロメチル基であ
る。ハロゲノ基としては塩素原子、臭素原子、フッ素原
子が挙げられ、特に好ましくは塩素原子またはフッ素原
子である。Ｒ_２は水素原子又は低級アルキル基を示
し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜２の低級アルキ
ル基を示し、より好ましくは水素原子を示す。

【００２９】本発明の目的物である式（５）の化合物は
上記のように第１工程）グリニヤール反応、第２工程）
酸化反応、および第３工程）ブロム化反応の３工程から
合成される。本発明の骨子は第１工程で使用した溶媒か
ら反応物をそれぞれ分離してもよいが、さらに工業的に
好ましくは、反応溶媒を分離することなく連続して第
２、３工程を実施すること、および第３工程で低級アル
コールを用いることを特徴としている。

【００３０】本発明で用いられるグリニヤール試薬Ｒ_２
ＣＨ_２ＭｇＸ（式中Ｒ_２は水素原子又は低級アルキ
ル基、Ｘはハロゲン原子を示す。）はハロゲン原子とし
て臭素原子または沃素原子が用いられるが、経済性から
臭素原子が好ましい。

【００３１】グリニヤール反応の溶媒として例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピル
エーテルおよびジグライム等のエ−テル系溶媒が用いら
れるが特にテトラヒドロフランが優れている。本発明で
は上記のように連続して後の工程を同一溶媒でおこなう
ことを目的としているために、テトラヒドロフランはグ
リニヤール試薬調製のための最小限度の使用で良く、第
２溶媒と混合されて用いられる。第２溶媒としては、基
質および反応物に対し溶解性があり、且つグリニヤール
反応に不活性な水不溶性の溶媒であれば良く、芳香族系
溶媒が好適に用いられる。芳香族系溶媒としてはベンゼ
ンまたは置換基として炭素数１〜４のアルキル基及び／
又はニトロ基を１〜３個有するベンゼンが挙げられ、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
プロピルベンゼン、ブチルベンゼン類、トリメチルベン
ゼン類、ニトロベンゼン、およびニトロトルエン類が挙
げられる。得に好ましくは、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼンからなる群から選ばれる溶媒である。

【００３２】テトラヒドロフランの使用量は特に規定は
されないが、式（１）で示される化合物に対して２〜２
０当量（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の範囲が好ましく、特に好ま
しくは２〜５当量である。芳香族系溶媒の使用量は式
（１）で示される化合物に対して２〜１０容量部（ｖ／
ｗ）の範囲が好ましく、特に好ましくは３〜５容量部で
ある。

【００３３】グリニヤ−ル反応の反応温度は、通常−５
０〜８０℃であり、好ましくは１５〜５５℃である。

【００３４】グリニヤール反応後、反応液は酸処理、水
洗される。この操作で反応液中のテトラヒドロフランは
実質的に水相に移行する。

【００３５】式（３）で示される化合物は上記のように
実質的に芳香族系溶媒の溶液になっているが、ジエチル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエ−テ
ル、ジグライム等のエ−テル系溶媒と芳香族系溶媒の混
合溶媒となっていてもよい。該化合物は単離されてもよ
いが、単離されることなく、酸化反応を行うことにより
式（４）で示される化合物が芳香族系溶媒の溶液又は上
記のエ−テル系溶媒と芳香族系溶媒の混合溶液として得
られる。しかしながら、このような場合の酸化反応にお
いては、反応系は有機相〜水相の２相を形成するため、
公知の方法、例えば特開平１ー１９０３３記載の方法に
て実施した場合式（４）で示される化合物は低収率でし
か得られない。一方、本発明者らの検討によれば、その
ような２相を形成する場合の酸化方法として、反応系に
相間移動触媒を添加することによって反応を円滑に進行
させ、高収率で式（４）で示される化合物を得ることが
出来る。

【００３６】使用する相間移動触媒としては、第四級ア
ンモニウム塩、例えばベンジルトリエチルアンモニウム
クロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラ
ブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、トリ
オクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメ
チルアンモニウムハイドロジェンサルフェート等が挙げ
られるが、より好ましくはテトラブチルアンモニウムハ
イドロジェンサルフェート、トリオクチルメチルアンモ
ニウムハイドロジェンサルフェートである。

【００３７】使用する酸化剤としては、例えば次亜塩素
酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム等の次亜ハロゲン
酸塩類、亜塩素酸ナトリウム、亜臭素酸ナトリウム等の
亜ハロゲン酸塩類、塩素酸ナトリウム、臭素酸ナトリウ
ム等のハロゲン酸塩類が挙げられ、次亜塩素酸ナトリウ
ム、次亜塩素酸カルシウム、亜塩素酸ナトリウム、亜臭
素酸ナトリウムが好ましく、次亜塩素酸ナトリウムが特
に好ましい。

【００３８】酸化反応の反応温度は、通常−５０℃〜８
０℃であり、好ましくは０〜５０℃である。

【００３９】式（４）で示される化合物は単離されても
良いが、単離されることなく、上記で得られたこの化合
物を含む溶液に低級アルコールおよび臭素を添加するこ
とにより臭素化反応をおこなうことが出来る。単離され
た場合は、溶媒として低級アルコールを用い、同様に低
級アルコールに溶解した臭素を添加することにより臭素
化反応を好適に行うことが出来る。特に臭素を添加する
際は、臭素の取り扱いが容易になること、また、種々の
副生物の生成が抑制されることから低級アルコールとの
混合物として加えるのが好ましい。

【００４０】低級アルコールは炭素数１〜３のアルコー
ルが好ましく、例えばメタノール、エタノールまたはプ
ロパノール等が挙げられる。特に好ましいのはメタノー
ルである。

【００４１】低級アルコールの使用量は式（４）の化合
物に対して０．５〜５０容量部（ｖ／ｗ）が好ましく、
特に１〜１０容量部が好ましい。

【００４２】臭素化反応時の臭素の使用量は式（１）の
化合物に対して、通常０．８〜２．０当量、好ましくは
０.９〜１．５当量程度である。この臭素化反応は発熱
反応であり、外部からの冷却により制御された反応温度
で実施される。反応温度は、通常０〜８０℃であり、好
ましくは１０〜５０℃である。また、反応時間は、通常
３０分〜２０時間であり、好ましくは３０分〜１０時間
で反応は終了する。

【００４３】ここで、本発明者等は臭素化反応液中の組
成の主成分が式（５）の化合物と用いた低級アルコール
との反応で生成したケタール化合物であることを見い出
した。即ち、この反応系中では、平衡組成は式（５）の
化合物よりもケタール化合物（８）側に大きく偏ってお
り（平衡式（６））、

【００４４】

【化２１】

【００４５】（式中Ａｌｋｙｌは低級アルキル基を示
す。）一方、原料である式（４）の化合物では、反対に、ケタ
ール化合物（９）側よりも式（４）の化合物側に偏って
いる（平衡式（７））ことが判明した。

【００４６】

【化２２】

【００４７】（式中Ａｌｋｙｌは低級アルキル基を示
す。）したがって、本発明の特徴の一つである臭素化反応にお
ける顕著な副生物の抑制効果は、式（４）の化合物は容
易に臭素化を受けるが、一旦生成した式（５）の化合物
はケタール化合物として存在するので臭素化を受けない
ためであると推定される。その結果として、α、αージ
ブロモアセトフェノン類の生成が著しく少ないことが説
明される。

【００４８】上記のように、臭素化反応液組成は主とし
て式（５）の化合物のジアルキルケタールからなる。こ
の反応液を酸を触媒として用いて脱ケタールすることに
より目的物の式（５）の化合物が得られる。用いる酸と
しては、反応を阻害するものでない限り一般的な鉱酸お
よび有機酸で良く、特に好ましくは、鉱酸としては臭化
水素酸、有機酸としてはｐ−トルエンスルホン酸であ
る。

【００４９】用いる酸の使用量は、式（４）で示される
化合物に対して０．０５〜５．０当量（ｍｏｌ／ｍｏ
ｌ）の範囲が好ましく、特に好ましくは０．１〜１．０
当量である。

【００５０】脱ケタール反応は、臭素化反応液にそのま
ま酸を添加して行うことが出来るが、水溶性溶媒を加え
混合溶媒として行うことによって穏和な条件で進行す
る。場合によっては、反応溶媒をすべて水溶性溶媒に置
換して行うことも可能である。その際の水溶性溶媒とし
てはアルコール類以外の溶媒が好ましく、例えばアセト
ン、アセトニトリル等が挙げられる。

【００５１】反応温度は、溶媒の種類によってそれぞれ
異なるが、通常１０〜１２０℃であり、好ましくは２０
〜８０℃である。また、反応時間は、通常３０分〜２０
時間であり、好ましくは３０分〜１０時間で反応は終了
する。

【００５２】反応液からのαーブロモアルキルフェノン
類の単離は、抽出、濃縮、再結晶などの常法により簡単
に行える。再結晶の溶媒としては、アセトン等のケトン
類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類およびそれらの混合溶媒が挙げられ、水溶
性溶媒を用いる場合には水と混合して用いても良い。

【００５３】

【実施例】次に本発明を実施例により更に具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。実施例１４ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェノン
（（式）５において（Ｒ_１）ｎ＝４ーＣＦ_３、Ｒ_２
＝Ｈ）の合成

【００５４】（１）１ー（４ートリフルオロメチルフェ
ニル）ー１ーエタノール（（式）３において（Ｒ_１）
ｎ＝４ーＣＦ_３、Ｒ_２＝Ｈ）の合成

【００５５】１Ｌ四つ口フラスコに窒素雰囲気下、マグ
ネシウム８．８ｇおよび乾燥トルエン２１０ｍｌを仕込
む。反応器に臭化メチル３１．４ｇとテトラヒドロフラ
ン５８．５ｍｌの混合溶液を徐々に添加した。添加後、
さらに３０分間撹拌した後、４ートリフルオロメチルー
ベンズアルデヒド（（式）１において（Ｒ_１）ｎ＝４
ーＣＦ_３）５２．２ｇを徐々に添加した。添加後、さ
らに３０分間撹拌した後、反応液を、１Ｌビーカーの８
％塩酸水溶液３１７．６ｇ中に徐々に添加した。添加
後、さらに５分間撹拌した後、有機相と水相を分離し、
有機相をさらに水洗した。有機相を高速液体クロマトグ
ラフィーで分析したところ１ー（４ートリフルオロメチ
ルフェニル）ー１ーエタノールが９７．８％（面積比）
含まれていた。

【００５６】（２）４ートリフルオロメチルーアセトフ
ェノン（（式）４において（Ｒ_１）ｎ＝４ーＣＦ_３、
Ｒ_２＝Ｈ）の合成

【００５７】上記の反応液にテトラブチルアンモニウム
ハイドロジェンサルフェート３．１ｇをリン酸２水素ナ
トリウム緩衝液３０ｍｌに溶解した溶液を添加した。次
に、１２％次亜塩素酸ナトリウム溶液２８０ｇを徐々に
加えた。添加後、さらに１時間撹拌し、過剰の次亜塩素
酸ナトリウムを亜硫酸ナトリウムで処理した後、重曹
水、および水で洗浄した。有機相を高速液体クロマトグ
ラフィーで分析したところ４ートリフルオロメチルーア
セトフェノンが９５．２％（面積比）含まれていた。

【００５８】（３）４ートリフルオロメチルーαーブロ
モアセトフェノン（（式）５において（Ｒ_１）ｎ＝４
ーＣＦ_３、Ｒ_２＝Ｈ）の合成

【００５９】上記反応液に臭素５０．４ｇをメタノール
８９ｍｌに溶解した溶液を徐々に添加した。反応液の内
温は２５℃以下に制御した。添加後、さらに３０分撹拌
し、反応液とほぼ同量の水で３回洗浄した。有機相を高
速液体クロマトグラフィーで分析したところ４ートリフ
ルオロメチルーαーブロモアセトフェノン１７．１％お
よび４ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェノ
ンジメチルケタール７５．２％（各面積比）含有してい
た。また、原料の４ートリフルオロメチルーアセトフェ
ノンは１．３％および副生成物の４ートリフルオロメチ
ルーα、αージブロモアセトフェノンは０．６％であっ
た。

【００６０】有機相にアセトニトリル５３ｍｌおよび４
７％臭化水素酸１０ｇを添加し、３０〜５０℃で２時間
処理した。残存する４ートリフルオロメチルーαーブロ
モアセトフェノンジメチルケタールは１．３５％であっ
た。有機相を水相が中性となるまで水洗した後、減圧濃
縮した。濃縮物をエタノール１６８ｍｌに溶解し、水７
２ｍｌを徐々に添加し４ートリフルオロメチルーαーブ
ロモアセトフェノン６３．４ｇ（出発原料からの収率：
７９．４％、純度９９．４％）の結晶を得た。

【００６１】実施例２（メタノ−ルを用いた臭素化反
応）４ートリフルオロメチルーアセトフェノン２．８２ｇを
メタノール５．６４ｍｌに溶解した溶液に、臭素２．４
ｇをメタノール１．４１ｍｌに溶解した溶液を徐々に添
加した。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ４ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフ
ェノン１５．４％および４ートリフルオロメチルーαー
ブロモアセトフェノンジメチルケタール８２．５％（各
面積比）含有していた。また原料の４ートリフルオロメ
チルーアセトフェノンは１．１％および副生成物の４ー
トリフルオロメチルーα、αージブロモアセトフェノン
は０．５％であった。反応液に水１４．１ｍｌを添加、
撹拌した後、上相をピペットで吸い出した。下相に４７
％臭化水素酸２．０ｇを添加し室温で１時間撹拌した。
反応物に水２０ｍｌ添加し、析出した結晶を濾過し、４
ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェノンの粗
結晶３．９０ｇを得た。粗結晶をｎ−へプタンで再結晶
し、精結晶３．３４ｇ（収率：８３．４％，純度９９．
９％）を得た。

【００６２】比較例１（クロロホルムを用いた臭素化反
応）４ートリフルオロメチルアセトフェノン０．９４ｇをク
ロロホルム３．７５ｍｌに溶解し、臭素０．８ｇをクロ
ロホルム１．５ｍｌに溶解した溶液を徐々に添加した。
添加後、３０分間撹拌した後、反応液を水１０ｍｌで３
回洗浄した。有機相を高速液体クロマトグラフィーで分
析したところ４ートリフルオロメチルーαーブロモアセ
トフェノン８０．６％（面積比）含有していた。また原
料の４ートリフルオロメチルーアセトフェノンは６．０
％および副生成物の４ートリフルオロメチルーα、αー
ジブロモアセトフェノンは１３．３％であった。

【００６３】比較例２（酢酸を用いた臭素化反応）４ートリフルオロメチルアセトフェノン０．９４ｇを酢
酸１０ｍｌに溶解し、臭素０．８ｇを酢酸１ｍｌに溶解
した溶液を徐々に添加した。添加後、３０分間撹拌した
後、反応液を水５０ｍｌに注ぎ込んだ。クロロホルム５
０ｍｌで抽出し、有機相を水５０ｍｌで３回洗浄した。
有機相を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ
４ートリフルオロメチルーαーブロモアセトフェノン８
１．６％（面積比）含有していた。また原料の４ートリ
フルオロメチルーアセトフェノンは３．８％および副生
成物の４ートリフルオロメチルーα、αージブロモアセ
トフェノンは１０．８％であった。

【００６４】

【発明の効果】本発明により、αーブロモアセトフェノ
ン類を高収率および高品質で得られる、穏和で且つ大量
生産可能な製法を提供することが出来た。更には、従来
使われている塩素系有機溶媒等の環境破壊物質を使用し
ない方法を見いだし、それらに起因する公害問題や作業
性等の諸問題を解決することが出来た。

【００６５】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルキルフェノン類を低級アルコール中で
臭素と反応させ、得られた反応液を酸で処理することを
特徴とするαーブロモアルキルフェノン類の製造法。
【請求項２】アルキルフェノン類が式（４）【化１】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハロゲン置換低級
アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数であり、ｎが２以
上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる置換基でもよく、
またはＲ_１同士が結合してアルキレン基を構成してもよ
い。Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキル基を示す。）で
表されるアルキルフェノン類を低級アルコール中で臭素
と反応させ、得られた反応液を酸で処理することを特徴
とする式（５）【化２】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で表
されるαーブロモアルキルフェノン類の製造法。
【請求項３】Ｒ_１が炭素数１〜３の低級アルキル基、炭
素数１〜３の低級アルコキシ基または炭素数１〜３のハ
ロゲン置換低級アルキル基である請求項２記載の製造
法。
【請求項４】Ｒ_１がトリフルオロメチル基である請求項
２記載の製造法。
【請求項５】ｎが１または２である請求項２ないし４の
いずれか１項に記載の製造法。
【請求項６】ｎが１であり、Ｒ_１の位置がｐ位である請
求項２ないし４のいずれか１項に記載の製造法。
【請求項７】Ｒ_２が水素原子または炭素数１〜２の低級
アルキル基である請求項２ないし６のいずれか１項に記
載の製造法。
【請求項８】Ｒ_１がｐ位のトリフルオロメチル基であ
り、ｎが１であり、Ｒ_２が水素原子である請求項２記載
の製造法。
【請求項９】低級アルコールが炭素数１〜３のアルコー
ルである請求項２ないし８のいずれか１項に記載の製造
法。
【請求項１０】低級アルコールがメタノールである請求
項９記載の製造法。
【請求項１１】酸が臭化水素酸またはｐートルエンスル
ホン酸である請求項２ないし１０のいずれか１項に記載
の製造法。
【請求項１２】式（１）【化３】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハロゲン置換低級
アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数であり、ｎが２以
上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる置換基でもよく、
またはＲ_１同士が結合してアルキレン基を構成してもよ
い。）で表されるベンズアルデヒド類と式（２）Ｒ_２ＣＨ_２ＭｇＸ（２）（式中Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキル基、Ｘはハロ
ゲン原子を示す。）で表されるグリニヤール試薬を反応
させて式（３）【化４】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で
表される１ー（フェニル）ー１ーアルカノール類を得、
反応物を単離することなく、相間移動触媒を添加し酸化
剤を用いて酸化することを特徴とする式（４）【化５】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で表
されるアルキルフェノン類の製造法。
【請求項１３】Ｒ_１が炭素数１〜３の低級アルキル基、
炭素数１〜３の低級アルコキシ基または炭素数１〜３の
ハロゲン置換低級アルキル基である請求項１２記載の製
造法。
【請求項１４】Ｒ_１がトリフルオロメチル基である請求
項１３記載の製造法。
【請求項１５】ｎが１又は２である請求項１２記載の製
造法。
【請求項１６】ｎが１であり、Ｒ_１の位置がｐ位である
請求項１５記載の製造法。
【請求項１７】Ｒ_２が水素原子又は炭素数１〜２の低級
アルキル基である請求項１２記載の製造法。
【請求項１８】Ｒ_１がｐ位のトリフルオロメチル基であ
り、ｎが１であり、Ｒ_２が水素原子である請求項１２記
載の製造法。
【請求項１９】相間移動触媒が四級アンモニウム塩であ
る請求項１２ないし１８のいずれか１項に記載の製造
法。
【請求項２０】式（１）【化６】（式中Ｒ_１は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ニトロ基、ハロゲノ基またはハロゲン置換低級
アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数であり、ｎが２以
上の場合Ｒ_１は同一置換基でも異なる置換基でもよく、
またはＲ_１同士が結合してアルキレン基を構成してもよ
い。）で表されるベンズアルデヒド類と式（２）Ｒ_２ＣＨ_２ＭｇＸ（２）（式中Ｒ_２は、水素原子又は低級アルキル基、Ｘはハ
ロゲン原子を示す。）で表されるグリニヤール試薬を反
応させて式（３）【化７】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で
表される１ー（フェニル）ー１ーアルカノール類を得、
反応物を単離することなく、相間移動触媒を添加し酸化
剤を用いて酸化して式（４）【化８】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で
表されるアルキルフェノン類を得、反応物を単離するこ
となく、低級アルコール中で臭素と反応させ、その反応
液を酸で処理することを特徴とする式（５）【化９】（式中Ｒ_１、n およびＲ_２は前記と同一である。）で表
されるαーブロモアルキルフェノン類の製造法。