JP2001060488A - スパークプラグの製造方法及びスパークプラグ - Google Patents

スパークプラグの製造方法及びスパークプラグ

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JP2001060488A
JP2001060488A JP11234692A JP23469299A JP2001060488A JP 2001060488 A JP2001060488 A JP 2001060488A JP 11234692 A JP11234692 A JP 11234692A JP 23469299 A JP23469299 A JP 23469299A JP 2001060488 A JP2001060488 A JP 2001060488A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スパークプラグ個体間で、レーザービームの
照射位置が電極軸線方向にずれて(ばらついて)も、レ
ーザー溶接部の電極軸線方向(溶接ビード幅方向)にお
ける成分分布や熱膨張率が大きく変動することなく、ク
ラックの発生・成長を抑制できるスパークプラグの製造
方法、及びスパークプラグを提供する。 【解決手段】 耐消耗性チップ33と被溶接部32cと
の間に、耐消耗性チップ33と被溶接部32cとの中間
の熱膨張率をもつ合金チップ34を積層状に重ね合わ
せ、耐消耗性チップ33、合金チップ34及び被溶接部
32cに跨るレーザー溶接部Bを外周面に沿って形成し
た。このことにより、スパークプラグ個体間で、レーザ
ービームの照射位置が電極軸線方向にずれた(ばらつい
た)場合でも、レーザー溶接部の電極軸線方向(溶接ビ
ード幅方向)における成分分布の変動幅が相対的に小さ
く抑えられる。これに伴い、レーザー溶接部と貴金属チ
ップ又は電極母材との境界付近における熱膨張率の変化
は相対的に小さくなり、クラックの発生・成長を抑制で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスパークプラグの製
造方法及びスパークプラグに関する。
【0002】
【従来の技術】内燃機関の点火用に使用されるスパーク
プラグにおいては、近年、耐火花消耗性向上のために、
電極の先端にPtやIr等を主体とする貴金属チップを
溶接して貴金属発火部を形成したタイプのものが使用さ
れている。例えば中心電極の先端面に貴金属チップを接
合する場合、その製造方法として、円板状又は円柱状の
貴金属チップを中心電極先端に重ね合わせ、中心電極を
回転させながら重ね合せ面の外周に沿ってレーザー光を
照射することにより、レーザー溶接部を形成する方法が
提案されている(例えば、特開平6−45050号、特
開平10−112374号の各公報)。
【0003】中心電極の先端面に貴金属チップを接合す
る場合、従来の製造方法の一例を図7に示す。Ni又は
Feを主成分とする耐熱合金によって、中心部の芯体3
1’を覆うように形成された電極母材32’の先端面
に、PtやIr等を主成分とする円板状又は円柱状の貴
金属チップ33’を重ね合わせる。そして、電極母材3
2’と貴金属チップ33’とを回転させながら貴金属チ
ップ33’と電極母材32’との境界位置に向けてレー
ザー光源LからレーザービームLBを照射する。これに
より、貴金属チップ33’と電極母材32’とが溶融・
凝固し、この両者に跨ってレーザー溶接部B’が形成さ
れ、貴金属発火部33a’を有する中心電極3’が得ら
れる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザービ
ームLBの照射位置を、貴金属チップ33’と電極母材
32’との境界位置付近(図5(a)のa位置)に選ぶ
ことによって、図5(a)に示すように、レーザー溶接
部B’の貴金属チップ33’との境界近傍における成分
分布は電極母材成分が低く貴金属チップ成分が高くな
る。また、電極母材32’との境界近傍における成分分
布は電極母材成分が高く貴金属チップ成分が低くなる。
これは、貴金属チップ33’と電極母材32’とが短時
間で溶融・凝固して、充分な拡散が行われずにレーザー
溶接部B’が形成されるためであると考えられる。しか
るに、レーザービームLBの照射位置が、例えば図5
(a)のb位置やc位置のように、スパークプラグ個体
間で電極軸線方向(溶接ビード幅方向)にばらついた
(上下動した)とき、レーザー溶接部B’における成分
分布は個体間で、貴金属チップ33’又は電極母材3
2’とレーザー溶接部B’との境界付近において、電極
軸線方向(溶接ビード幅方向)に著しく変動する傾向が
ある。
【0005】一方、熱膨張率は一般に、貴金属チップ3
3’>レーザー溶接部B’>電極母材32’である。ま
た、レーザー溶接部B’の合金層における熱膨張率は、
上記成分分布及びその変動幅に比例していると考えられ
る。したがって、レーザー溶接部B’における貴金属チ
ップ33’との境界近傍及び電極母材32’との境界近
傍は、熱膨張率等の物理的特性ができうる限り近いこと
が望ましい。レーザービームLBの照射位置を、貴金属
チップ33’と電極母材32’との境界位置付近(図5
(a)のa位置)に選ぶことによって、上述のような成
分分布を示すため、レーザー溶接部B’における貴金属
チップ33’との境界近傍及び電極母材32’との境界
近傍の熱膨張率等の物理的特性が近くなる。これに対
し、レーザービームLBの照射位置が個体間で上下動す
ると、レーザー溶接部B’における熱膨張率は、貴金属
チップ33’又は電極母材32’とレーザー溶接部B’
との境界付近において、電極軸線方向(溶接ビード幅方
向)に急激に変化することになる。即ち、レーザービー
ムLBの照射位置が、図5(a)のb位置に来たときに
は、電極軸線方向の下の方にまで貴金属チップ成分が多
く存在するため、レーザー溶接部B’と電極母材32’
との境界付近において、貴金属チップ成分が多く存在す
る部分が有る。また、逆に図5(a)のc位置に来たと
きには、電極軸線方向の上の方にまで電極母材成分が多
く存在するため、レーザー溶接部B’と貴金属チップ3
3’との境界付近において、電極母材成分が多く存在す
る部分が有る。したがって、このような部分では熱膨張
率等の物理的特性は大きく異なってくる。
【0006】このような状況下において、内燃機関のよ
うに冷熱サイクルに繰り返し晒されると、熱膨張率(熱
収縮率)の違いにより貴金属チップ33’又は電極母材
32’とレーザー溶接部B’との境界付近にクラック
K’が発生する恐れがある。クラックK’が成長すると
貴金属チップ33’が電極母材32’から脱落する場合
もある。
【0007】例えば、レーザー溶接部B’が電極母材3
2’の中心にまで達し、貴金属チップ33’をすべて溶
融して径方向中央部に未溶接領域を残さないときは、レ
ーザー溶接部B’のビードの幅や深さが大きくなるので
強固な溶着力が得られる。その反面、この構成では溶接
熱源からの入熱が大きいため、貴金属チップ33’に比
べて熱変化を起こし易い電極母材32’や芯体31’
は、過剰な熱吸収によりブローホールやクラックが発生
し易くなる問題がある。そこで、溶接に要する熱量を抑
えつつ、電極母材32’や芯体31’へ悪影響を及ぼさ
ないよう配慮して、図7の如く電極母材32’の少なく
とも径方向中央部に未溶接領域を残し、貴金属チップ3
3’は溶接接合後も一部が残存しているように溶接する
場合がある。しかし、この場合は、未溶接領域では電極
母材32と貴金属チップ33’とが未接合であるか、又
は精々抵抗溶接による仮止めが行われている程度である
から、貴金属チップ33’又は電極母材32’とレーザ
ー溶接部B’との境界に発生したクラックが未溶接領域
に到達すると、チップの脱落等が非常に起こりやすくな
る問題がある。
【0008】本発明の課題は、スパークプラグ個体間
で、レーザービームの照射位置が電極軸線方向にずれて
(ばらついて)も、レーザー溶接部の電極軸線方向(溶
接ビード幅方向)における成分分布や熱膨張率が大きく
変動することなく、クラックの発生・成長を抑制できる
スパークプラグの製造方法、及びスパークプラグを提供
することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段及び作用・効果】上記課題
を解決するために本発明のスパークプラグの製造方法
は、中心電極と、その中心電極の先端面に自身の側面が
対向して火花放電ギャップを形成するように配置された
接地電極とを備え、前記火花放電ギャップに対応する位
置においてそれら中心電極と接地電極との少なくとも一
方は、その電極母材に、Ir,Rh,Pt,Pd,R
u,Re,W,Os,Mo,Auのうちの少なくとも1
種を主成分とする耐火花消耗性金属チップ(以下、耐消
耗性チップという)をレーザー溶接によって接合するこ
とにより耐火花消耗性金属発火部が形成されたスパーク
プラグの製造方法であって、前記電極母材の、少なくと
も前記耐消耗性チップの被溶接部を耐熱合金にて構成
し、前記耐消耗性チップと前記被溶接部との間に、前記
耐消耗性チップと前記被溶接部との中間の熱膨張率をも
つ合金チップを積層状に重ね合わせて、前記耐消耗性チ
ップ、前記合金チップ及び前記被溶接部に跨るレーザー
溶接部を外周面に沿って形成することにより、前記耐消
耗性チップを前記被溶接部に固着することを特徴とす
る。
【0010】また、上記課題を解決するために本発明の
スパークプラグは、中心電極と、その中心電極の先端面
に自身の側面が対向して火花放電ギャップを形成するよ
うに配置された接地電極とを備え、前記火花放電ギャッ
プに対応する位置においてそれら中心電極と接地電極と
の少なくとも一方は、その電極母材に、耐消耗性チップ
をレーザー溶接によって接合することにより耐火花消耗
性金属発火部が形成されたスパークプラグであって、前
記電極母材の、少なくとも前記耐消耗性チップの被溶接
部を耐熱合金にて構成し、前記耐消耗性チップと前記被
溶接部との間に、前記耐消耗性チップと前記被溶接部と
の中間の熱膨張率をもつ合金チップが積層状に重ね合わ
され、前記耐消耗性チップ、前記合金チップ及び前記被
溶接部に跨るレーザー溶接部が外周面に沿って形成され
ていることを特徴とする。
【0011】本発明では、耐消耗性チップと被溶接部と
の間に、耐消耗性チップと被溶接部との中間の熱膨張率
をもつ合金チップを積層状に重ね合わせ、耐消耗性チッ
プ、合金チップ及び被溶接部に跨るレーザー溶接部を外
周面に沿って形成した。このことにより、スパークプラ
グ個体間で、レーザービームの照射位置が電極軸線方向
にずれた(ばらついた)場合でも、レーザー溶接部の電
極軸線方向(溶接ビード幅方向)における成分分布の変
動幅が相対的に小さく抑えられる。これに伴い、レーザ
ー溶接部と貴金属チップ又は電極母材との境界付近にお
ける熱膨張率の変化は相対的に小さくなり、クラックの
発生・成長を抑制できる。
【0012】なお、電極母材は、少なくとも被溶接部と
なる部分をFe又はNiを主体とする耐熱金属で構成で
きる。本明細書において「主成分」とは、最も重量含有
率の高い成分を意味し、必ずしも「50重量%以上を占
める成分」を意味するものではない。
【0013】さらに本発明の合金チップは、溶接接合時
に、被溶接部及び/又は耐消耗性チップに固定しておく
とよい。レーザー溶接前に、合金チップを抵抗溶接等に
よって耐消耗性チップ及び/又は被溶接部に仮止めした
り、又はレーザー溶接時に、耐消耗性チップの先端面を
押圧して、合金チップを耐消耗性チップ及び被溶接部に
保持固定したりすることによって、レーザービームによ
り溶融した合金の凝固時に合金チップが位置ズレや偏心
等を起こしにくくなり、電極が傾いたり(偏心)、レー
ザービームの照射位置にズレを生じにくくなる。これに
より、レーザー溶接部と貴金属チップ又は電極母材との
境界付近における熱膨張率の変化を極力抑えることがで
きる。
【0014】さらに本発明の合金チップは、被溶接部の
主成分を10〜50重量%含むものとすることができ
る。合金チップが、被溶接部すなわち電極母材の主成分
を所定量含有することにより、電極母材とレーザー溶接
部との境界付近において、レーザー溶接部と貴金属チッ
プ又は電極母材との境界付近における熱膨張率の変化は
さらに小さくなり、クラックの発生・成長を抑制でき
る。
【0015】さらに本発明の合金チップは、耐消耗性チ
ップ及び被溶接部の主成分原料を配合・溶解して形成し
たものが使用できる。合金チップの均質性が保たれるの
で、レーザー溶接部における熱膨張率の変化が相対的に
小さくなり、クラックの発生・成長の抑制に寄与する。
【0016】さらに本発明の合金チップは、耐消耗性チ
ップ及び被溶接部の主成分を含有する金属粉末を焼結し
たものが使用できる。この方法によっても、合金チップ
の均質性が保たれるので、レーザー溶接部における熱膨
張率の変化が相対的に小さくなり、クラックの発生・成
長の抑制が図れる。
【0017】さらに本発明は、溶接接合後のレーザー溶
接部に焼鈍処理を行うことができる。合金チップ、耐消
耗性チップ及び被溶接部の相互間の境界付近は成分分布
が不連続となり熱収縮率の違いによりクラックが発生す
る恐れが大きい。レーザー溶接部に焼鈍処理を行うこと
で、これらの境界付近に拡散層を生成させて、クラック
の発生を抑制できる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて説明する。図1に示す本発明の一例たるスパー
クプラグ100は、筒状の主体金具1、先端部21が突
出するようにその主体金具1の内側に嵌め込まれた絶縁
体2、先端に形成された耐火花消耗性金属発火部として
の貴金属発火部(以下、単に発火部ともいう)33aを
突出させた状態で絶縁体2の内側に設けられた中心電極
3、及び主体金具1に一端が溶接等により結合されると
ともに他端側が側方に曲げ返されて、その側面が中心電
極3の先端部と対向するように配置された接地電極4等
を備えている。また、接地電極4には上記発火部33a
に対向する、耐火花消耗性金属発火部としての貴金属発
火部(以下、単に発火部ともいう)43aが形成されて
おり、それら発火部33aと、対向する発火部43aと
の間の隙間が火花放電ギャップgとされている。
【0019】絶縁体2は、例えばアルミナあるいは窒化
アルミニウム等のセラミック焼結体により構成され、そ
の内部には自身の軸方向に沿って中心電極3を嵌め込む
ための孔部6を有している。また、主体金具1は、低炭
素鋼等の金属により円筒状に形成されており、スパーク
プラグ100のハウジングを構成するとともに、その外
周面には、プラグ100を図示しないエンジンブロック
に取り付けるためのねじ部7が形成されている。
【0020】なお、発火部33a及び対向する発火部4
3aのいずれか一方を省略する構成としてもよい。この
場合には、発火部33aと、発火部を有さない接地電極
4の側面との間、又は対向する発火部43aと、発火部
を有さない中心電極3の先端面との間で火花放電ギャッ
プgが形成されることとなる。以下、中心電極3に本発
明に係る発火部33aを設ける場合の実施形態について
説明するが、接地電極4に本発明に係る発火部43aを
設ける場合にも同様に実施できる。
【0021】中心電極3及び接地電極4のチップ被固着
面形成部位として図2(a)では電極部材32の小径部
32c、この実施例では少なくともその表層部としての
先端面32dが、Ni又はFeを主成分とする耐熱合金
にて構成されている。Ni又はFe主成分とする耐熱合
金としては、次のようなものが使用可能である。 Ni基耐熱合金:本明細書では、Niを40〜85重
量%含有し、残部の主体が、Cr、Co、Mo、W、N
b、Al、Ti及びFeの1種又は2種以上からなる耐
熱合金を総称する。具体的には、次のようなものが使用
できる(いずれも商品名;なお、合金組成については、
文献(改訂3版金属データブック(丸善);p138)
に記載されているので、詳細な説明は行わない):ASTR
OLOY、CABOT 214、D-979、HASTELLOY C22、HASTELLOY C
276、HASTELLOY G30、HASTELLOY S、HASTELLOY X、HAYN
ES 230、INCONEL 587、INCONEL 597、INCONEL 600、INC
ONEL 601、INCONEL 617、INCONEL 625、INCONEL 706、I
NCONEL 718、INCONEL X750、KSN、M-252、NIMONIC 75、
NIMONIC 80A、NIMONIC 90、NIMONIC 105、NIMONIC 11
5、NIMONIC 263、NIMONIC 942、NIMONIC PE11、NIMONIC
PE16、NIMONIC PK33、PYROMET 860、RENE 41、RENE 9
5、SSS 113MA、UDIMET 400、UDIMET 500、UDIMET 520、
UDIMET 630、UDIMET 700、UDIMET 710、UDIMET 720、UN
ITEP AF2-1 DA6、WASPALOY。
【0022】Fe基耐熱合金:本明細書では、Feを
20〜60重量%含有し、残部の主体が、Cr、Co、
Mo、W、Nb、Al、Ti及びNiの1種又は2種以
上からなる耐熱合金を総称する。具体的には、次のよう
なものが使用できる(いずれも商品名;なお、合金組成
については、文献(改訂3版金属データブック(丸
善)、p138)に記載されているので、詳細な説明は
行わない);A-286、ALLOY 901、DISCALOY、HAYNES 55
6、INCOLOY 800、INCOLOY 801、INCOLOY 802、INCOLOY
807、INCOLOY 825、INCOLOY 903、INCOLOY 907、INCOLO
Y 909、N-155、PYROMET CTX-1、PYROMET CTX-3、S-59
0、V-57、PYROMET CTX-1、16-25-6、17-14CuMo、19-9D
L、20-Cb3。
【0023】一方、上記発火部33a及び対向する発火
部43aは、Ir,Rh,Pt,Pd,Ru,Re,
W,Os,Mo,Auのうちの少なくとも1種を主成分
とする耐火花消耗性金属、この実施例では、Ir又はP
tのいずれかを主成分とする貴金属を主体に構成されて
いる。これらの貴金属の使用により、中心電極の温度が
上昇しやすい環境下においても、発火部の耐消耗性を良
好なものとすることができる。また、上記のような耐熱
合金に対する溶接性も良好である。例えばPtをベース
にした貴金属を使用する場合には、Pt単体の他、Pt
−Ni合金(例えばPt−1〜30重量%Ni合金)、
Pt−Ir合金、Pt−Ir−Ni合金等を好適に使用
できる。また、Irを主成分とするものとしては、Ir
−Pt合金、Ir−Rh合金等を使用できる。
【0024】なお、Ir系の貴金属材料を使用する場合
には、元素周期律表の3A族(いわゆる希土類元素)及
び4A族(Ti、Zr、Hf)に属する金属元素の酸化
物(複合酸化物を含む)を0.1〜15重量%の範囲内
で含有させることができる。これにより、Ir成分の酸
化・揮発による消耗が効果的に抑制できる。上記酸化物
としてはYが好適に使用されるが、このほかにも
La、ThO、ZrO等を好ましく使用する
ことができる。この場合、金属成分はIr合金のほか、
Ir単体を使用してもよい。
【0025】図2は、この発明に係るスパークプラグの
中心電極側発火部の製造工程を示す。図2(a)におい
て、中心電極3は、Ni又はFeを主成分とする耐熱合
金にて構成される円柱状の電極母材32と、電極母材3
2の中心部に埋め込まれ、Cu又はAgを主成分とする
良熱伝導性金属にて構成される芯体31とを含む。電極
母材32は、大径部32aから縮径部32bを経て先端
側の小径部32cに至るまで連続的に設けられ、切削又
は塑性加工により形成される。小径部32cの先端面3
2dに耐消耗性チップとしての貴金属チップ33を載置
し、小径部32cに貴金属チップ33をレーザー溶接に
より接合することにより、耐火花消耗性金属発火部とし
ての貴金属発火部33aを形成する。
【0026】次に、貴金属発火部33aを形成するまで
を説明する。図2(b)において、先端面32dと円板
状又は円柱状の貴金属チップ33(耐消耗性チップ)と
の間に、貴金属チップ33の主成分と小径部32c(被
溶接部)の主成分とを含み、円板状又は円柱状を呈する
合金チップ34を積層状に重ね合わせて重ね合せ組立体
Aを形成する。なお、この合金チップ34は貴金属チッ
プ33及び小径部32cの主成分を含むため、その熱膨
張率は両者の中間の値を有している。また、貴金属チッ
プ33は、上記発火部33aを構成する合金組成からな
る。さらに、小径部32cと合金チップ34(又は合金
チップ34と貴金属チップ33)との重ね合わせの際、
先端面32d(又は合金チップ34の上面)に凹部を設
けてこの凹部に合金チップ34(又は貴金属チップ3
3)の下面を載置しても良い。
【0027】図2(c)に示すように、この重ね合せ組
立体Aに対し、レーザー光源Lから発射されるYAG
(イットリウム、アルミニウム、ガーネット)レーザー
ビームLBを、貴金属チップ33と合金チップ34との
境界位置に向けて略水平方向に間欠的に照射する。この
とき、中心電極3を所定方向に回転させてその照射面が
互いに重なる間隔で全周にわたって照射が行われる。こ
れによって、重ね合せ組立体Aを構成する貴金属チップ
33、合金チップ34及び小径部32cに跨る全周レー
ザー溶接部B(レーザー溶接部)が外周面に沿って形成
され、貴金属チップ33は先端面32dに固着される。
このとき全周レーザー溶接部Bでは、電極母材32、貴
金属チップ33及び合金チップ34の各成分が溶融・凝
固した状態にある。
【0028】レーザービームLBに関して、照射方向
は、電極母材32、貴金属チップ33及び合金チップ3
4の形状等によっては、図2(c)の斜め上方から斜め
下方へ向かうように設定しても良い。中心電極3の代わ
りにレーザー光源Lを回転させたり、レーザー光源Lと
中心電極3とを互いに逆方向に回転させたりすることも
可能である。さらに、レーザー光源Lを複数設けても差
し支えない。
【0029】貴金属チップ33及び合金チップ34は、
それぞれ所定の組成となるように各合金成分を配合・溶
解することにより得られる溶解合金を熱間圧延により板
状に加工し、その板材を熱間打抜き加工により所定のチ
ップ形状に打ち抜いて形成したものや、合金を熱間圧延
又は熱間鍛造により線状あるいはロッド状の素材に加工
した後、これを長さ方向に所定長に切断して形成したも
のを使用できる。また、貴金属チップ33及び合金チッ
プ34は、それぞれ所定の組成となるように各金属粉末
を配合して加熱し、粉末粒子を焼結させて、体積収縮を
伴って緻密化した材料を使用できる。
【0030】特に、合金チップ34は、電極母材32及
び貴金属チップ33の主成分原料を配合・溶解して形成
したものを使用したり、また、電極母材32及び貴金属
チップ33の主成分を含有する金属粉末を焼結したもの
を使用するとよい。合金チップの均質性が保たれるの
で、全周レーザー溶接部Bにおける熱膨張率の変化が相
対的に小さくなり、クラックKの発生・成長の抑制に寄
与する。さらに合金チップ34は、電極母材32の主成
分を10〜50重量%含んでいるため、全周レーザー溶
接部Bと貴金属チップ33又は電極母材32との境界付
近における熱膨張率の変化がさらに小さくなり、クラッ
クKの発生・成長を抑制できる。
【0031】また、合金チップ34は、溶接接合時に、
貴金属チップ33及び/又は先端面32dに固定されて
いる。レーザービームLBにより溶融した合金の凝固時
に合金チップ34が位置ズレや偏心等を起こしやすく、
電極が傾いたり(偏心)、レーザービームLBの照射位
置にズレを生じて、全周レーザー溶接部Bの成分分布が
変動する。そこで、レーザー溶接前に、合金チップ34
を抵抗溶接等によって貴金属チップ33及び/又は先端
面32dに仮止めしたり、又はレーザー溶接時に、貴金
属チップ33の先端面を押圧して、合金チップ34を貴
金属チップ33及び先端面32dに保持固定したりする
ことによって、この成分分布の変動を極力抑えることが
できる。
【0032】さらに、溶接接合後の全周レーザー溶接部
Bに焼鈍処理を行っている。合金チップ34、貴金属チ
ップ33及び小径部32c(電極母材32)の相互間の
境界付近は成分分布が不連続となり熱収縮率の違いによ
りクラックが発生する恐れがある。全周レーザー溶接部
Bに焼鈍処理を行うことで、この境界付近に拡散層を生
成させて、クラックの発生を抑制している。なお、焼鈍
処理条件としては、例えば溶接後、10−5Torr以
下の真空中で、950±50℃に2時間加熱したのち徐
冷する方法がある。
【0033】図3は、中心電極側発火部の溶接接合前の
正面図を示す。図において、各部の寸法は次の通りであ
る。貴金属チップ33の外径をd、合金チップ34の
外径をd、小径部32cの外径をd、大径部32a
の外径をDとしたとき、 0.3≦d≦1.8 [mm] d≦d≦d≦d+0.3 [mm] 1.5≦D≦3 [mm] である。
【0034】貴金属チップ33の厚さをl、合金チッ
プ34の厚さをl、小径部32cの厚さをlとした
とき、 l≦0.5 [mm] 0.1≦l≦0.4 [mm] 0≦l≦0.3 [mm] 0.1≦(l+l)≦0.4 [mm] である。また、縮径部32bの開先角θは、 θ≦110゜ である。
【0035】図4は、中心電極側発火部の縦半断面図を
示し、貴金属チップ33と先端面32dとの間に、この
両者の主成分を含む合金チップ34を積層状に重ね合わ
せ、これら三層に跨る全周レーザー溶接部Bが、外周面
に沿って形成されている。その結果、スパークプラグ個
体間で、レーザービームLBの照射位置が電極軸線方向
にずれた(ばらついた)場合でも、全周レーザー溶接部
Bの電極軸線方向(溶接ビード幅方向)における成分分
布の変動幅が相対的に小さく抑えられる。これに伴い、
全周レーザー溶接部Bと貴金属チップ33又は電極母材
32との境界付近における熱膨張率の変化は相対的に小
さくなり、クラックKの発生・成長を抑制できる。
【0036】また、図3との対比から明らかなように、
この実施例の重ね合せ組立体Aには、少なくともその径
方向中央部に未溶接領域が存在するとともに、貴金属チ
ップ33、合金チップ34及び小径部32cは溶接接合
後もそれぞれ一部が残存している。仮に、全周レーザー
溶接部Bが重ね合せ組立体Aの中心にまで達し、合金チ
ップ34をすべて溶融して径方向中央部に未溶接領域を
残さないときは、全周レーザー溶接部Bのビードの幅や
深さが大きくなるので強固な溶着力が得られる。しかし
一方で、レーザー光源Lには多量の熱量(エネルギー)
を要し、また、貴金属チップ33や合金チップ34に比
べて熱変化を起こし易い電極母材32や芯体31がこの
熱を吸収し過ぎてブローホールやクラックが発生し易く
なる。そこで、溶接に要する熱量を抑えつつ、電極母材
32や芯体31へ悪影響を及ぼさないよう配慮して、重
ね合せ組立体Aの少なくとも径方向中央部に未溶接領域
を残すようにしている。重ね合せ組立体Aの未溶接領域
においては、貴金属チップ33、合金チップ34及び小
径部32c(電極母材32)の残存部分は溶接による影
響を全く受けていないか少なくともほとんど受けていな
いので、溶接接合前の成分分布をほぼそのままの状態で
保っていると考えられる。
【0037】図5は、全周レーザー溶接部Bの成分分布
を表し、図5(a)の従来例の場合にはレーザービーム
LBの照射位置aが電極軸線方向のb又はcに僅かにず
れただけで、全周レーザー溶接部Bの成分分布は電極軸
線方向に相対的に大きく変動する。しかし、図5(b)
の本実施例の場合にはレーザービームLBの照射位置a
が電極軸線方向のb又はcに多少ずれても、全周レーザ
ー溶接部Bの成分分布の変動幅は相対的に小さい。貴金
属チップ33は、電極母材32(本実施例ではNi又は
Feを主成分とする)に比べて一般に融点が高く溶けに
くいため、全周レーザー溶接部Bの合金層は溶融・凝固
の際混ざりにくく成分分布に変動を生じ易い。ここで
は、合金チップ34を両者の間に挟み、かつ、貴金属チ
ップ33と合金チップ34との境界位置にレーザービー
ムLBを照射することで、合金チップ34を媒介として
貴金属チップ33が溶け易くしかも電極母材32と混ざ
り易くなって、全周レーザー溶接部Bの成分分布の変動
幅は相対的に小さくなると考えられる。
【0038】そして、全周レーザー溶接部Bの成分分布
の変動幅が相対的に小さくなるとクラックKの発生・成
長が抑制されることを冷熱サイクルの繰り返し耐久試験
により確認した。図1のスパークプラグの中心電極側発
火部33aを950±20℃に二分間加熱し、その後一
分間徐冷する。この冷熱サイクルを1,000回繰り返
し、クラックの進展率を測定した。なお、クラックの進
展率は、図4において、全周レーザー溶接部Bの上端か
ら貴金属チップ33の下端までの軸線方向の距離をt、
クラックKの軸線方向の高さをtとしたとき、t
tで表される。
【0039】図6において、合金チップ34を用いない
とき100%近い値を示したクラック進展率は、合金チ
ップ34を貴金属チップ33と小径部32cとの間に挟
み、かつ、貴金属チップ33と合金チップ34との境界
位置にレーザービームLBを照射することで、半分以下
に減少した。全周レーザー溶接部Bの成分分布の変動幅
が相対的に小さくなって、クラックKの発生・成長が抑
制されたと考えられる。クラック進展率は、溶接接合後
の全周レーザー溶接部Bに焼鈍処理を行うことでさらに
低下した。焼鈍処理により、合金チップ34、貴金属チ
ップ33及び小径部32c(電極母材32)の相互間の
境界付近に拡散層が生成され、クラックKの発生・成長
がさらに抑制されると考えられる。
【0040】以上の実施例において、合金チップ34は
1個(1層)のみ用いたが、複数個(複層)としても良
い。その際、合金チップ34各層の成分組成に段階的な
差を設けておけば、全周レーザー溶接部Bの成分分布の
変動幅が一層小さくなることが期待できる。また、本発
明は中心電極3と共に、または、中心電極3に代えて、
接地電極4にも適用できる。なお、貴金属チップ33の
被溶接部は、小径部32cに限定されない。小径部32
cを設けないとき、貴金属チップ33の被溶接部は縮径
部32bとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスパークプラグの一実施例を示す縦断
面図及びその要部拡大図。
【図2】図1のスパークプラグの中心電極側発火部の製
造工程説明図。
【図3】中心電極側発火部の溶接接合前の正面図。
【図4】中心電極側発火部の縦半断面図。
【図5】全周レーザー溶接部の成分分布を表す概念説明
図。
【図6】クラック進展率の変化を表す説明図。
【図7】中心電極側発火部の従来の製造工程を示す説明
図。
【符号の説明】
3 中心電極 31 芯体 32 電極母材 32a 大径部 32b 縮径部 32c 小径部(被溶接部) 32d 先端面 33 貴金属チップ(耐火花消耗性金属チップ;耐消
耗性チップ) 33a 貴金属発火部(耐火花消耗性金属発火部;発火
部) 34 合金チップ 4 接地電極 A 重ね合せ組立体 B 全周レーザー溶接部(レーザー溶接部) L レーザー光源 LB レーザービーム g 火花放電ギャップ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心電極と、その中心電極の先端面に自
    身の側面が対向して火花放電ギャップを形成するように
    配置された接地電極とを備え、前記火花放電ギャップに
    対応する位置においてそれら中心電極と接地電極との少
    なくとも一方は、その電極母材に、Ir,Rh,Pt,
    Pd,Ru,Re,W,Os,Mo,Auのうちの少な
    くとも1種を主成分とする耐火花消耗性金属チップ(以
    下、耐消耗性チップという)をレーザー溶接によって接
    合することにより耐火花消耗性金属発火部が形成された
    スパークプラグの製造方法であって、 前記電極母材の、少なくとも前記耐消耗性チップの被溶
    接部を耐熱合金にて構成し、 前記耐消耗性チップと前記被溶接部との間に、前記耐消
    耗性チップと前記被溶接部との中間の熱膨張率をもつ合
    金チップを積層状に重ね合わせて、 前記耐消耗性チップ、前記合金チップ及び前記被溶接部
    に跨るレーザー溶接部を外周面に沿って形成することに
    より、前記耐消耗性チップを前記被溶接部に固着するこ
    とを特徴とするスパークプラグの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記合金チップは、溶接接合時に、前記
    被溶接部及び/又は前記耐消耗性チップに固定されてい
    る請求項1記載のスパークプラグの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記合金チップは、前記被溶接部の主成
    分を10〜50重量%含む請求項1又は2に記載のスパ
    ークプラグの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記合金チップは、前記耐消耗性チップ
    及び前記被溶接部の主成分原料を配合・溶解して形成し
    たものが使用される請求項1ないし3のいずれかに記載
    のスパークプラグの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記合金チップは、前記耐消耗性チップ
    及び前記被溶接部の主成分を含有する金属粉末を焼結し
    たものが使用される請求項1ないし3のいずれかに記載
    のスパークプラグの製造方法。
  6. 【請求項6】 溶接接合後の前記レーザー溶接部に焼鈍
    処理が行われる請求項1ないし5のいずれかに記載のス
    パークプラグの製造方法。
  7. 【請求項7】 中心電極と、その中心電極の先端面に自
    身の側面が対向して火花放電ギャップを形成するように
    配置された接地電極とを備え、前記火花放電ギャップに
    対応する位置においてそれら中心電極と接地電極との少
    なくとも一方は、その電極母材に、耐消耗性チップをレ
    ーザー溶接によって接合することにより耐火花消耗性金
    属発火部が形成されたスパークプラグであって、 前記電極母材の、少なくとも前記耐消耗性チップの被溶
    接部を耐熱合金にて構成し、 前記耐消耗性チップと前記被溶接部との間に、前記耐消
    耗性チップと前記被溶接部との中間の熱膨張率をもつ合
    金チップが積層状に重ね合わされ、 前記耐消耗性チップ、前記合金チップ及び前記被溶接部
    に跨るレーザー溶接部が外周面に沿って形成されている
    ことを特徴とするスパークプラグ。
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