JP2001038187A

JP2001038187A - 混合装置

Info

Publication number: JP2001038187A
Application number: JP11215609A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Tsunokake; 泰洋角掛; Kazumasa Kawasaki; 一政川嵜
Original assignee: Tokico Ltd
Current assignee: Tokico Ltd
Priority date: 1999-07-29
Filing date: 1999-07-29
Publication date: 2001-02-13

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明はタンクに成分の異なる液体を供給さ
せて混合する際の液補充回数に伴う混合液の濃度変化を
抑制することを課題とする。【解決手段】混合装置１０は、ＨＦタンク１１に貯留
された５０％フッ化水素酸と、純水製造装置２１により
生成された純水とを供給タンク１３に供給して所定の割
合で混合し、供給タンク１３において混合された混合液
を供給タンク１３の下流側に設置された半導体製造装置
４５に供給するように構成されている。制御部１９は、
供給タンク１３に各液体を所定の比率で混合させる液混
合処理を所定回数（例えば１０回）行った後、次回（例
えば１１回目）の液混合処理で液体の計量を所定回数の
累積誤差分だけ少なく行うため、薬液の供給を制御する
弁の応答遅れに伴う微少な誤差が累積されても液混合処
理を所定回数行う度に所定回数の累積誤差を補正するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の薬液を混合
することで半導体や液晶などフラットパネルディスプレ
イ製造プロセスに使用される混合液を供給する混合装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、成分の異なる薬液を混合する混合
装置では、薬液の原液を夫々の計量槽で一定量を計量
し、その後調合槽へ計量した各薬液を投下して混合した
後、純水で所定濃度まで希釈する。その後、貯留槽へ混
合・希釈した薬液（混合液）を投下し、所定の温度まで
加熱又は冷却した薬液（混合液）を半導体製造装置へと
供給している。

【０００３】また、従来の混合装置においては、薬液の
計量及び純水での希釈量は、各槽内の液面の高さにより
管理されている。さらに、薬液の混合比を変更する場合
は、光学式液面センサなどの液面検知手段の位置を手動
により移動させて調整していた。また、従来の混合装置
では、薬液の原液の補充に定量薬注ポンプを使用し、そ
の補充量の管理は、薬液の吐出回数（ポンプのプランジ
ャやダイヤフラムが押し出される回数）で行われている
タイプもある。例えば、１回の吐出量を１０ｍＬとした
場合、４０ｍＬの原液を補充するには、４回吐出を行え
ばよいこととなっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、例えば秤量
槽で薬液を計量後、調合槽に薬液を移して純水で希釈
し、その後貯留槽へ液を移してヒータ等で液温を調整
するという３段階の過程が必要であるため、構成部品の
点数が多くなって装置が大型化してしまう。

【０００５】また、薬液の秤量および希釈に用いる純水
の秤量および貯留槽への薬液補給の要求の検出には、液
面センサを用いているため、槽内で液が発泡したり液面
が波立ったりすると、センサが誤動作し薬液が所定の精
度の混合比で調合できなくなるといった問題がある。こ
のような問題を解決するため、各薬液の補充量を流量計
により計測し、この流量計からの出力信号に基づいて各
薬液の補充量を制御することが考えられている。しかし
ながら、このように流量計により薬液の補充量を計測し
て薬液の補充量を制御することにより混合液の濃度が所
定値となるようにする場合、以下のような問題が生じる
おそれがある。

【０００６】すなわち、流量計を用いて薬液の補充量を
制御するように構成した装置においては、流量計から出
力された流量パルスの積算値が目標値に達した時点で薬
液供給路の弁を閉弁させても、弁が閉弁動作する過程で
誤差を持った微少な薬液が供給されてしまう。そのた
め、弁の閉弁動作に伴う薬液の誤差量が液補充処理を行
う度に毎回累積されてしまい、液補充処理の回数が増え
る毎に、混合液の濃度が徐々に変化して設定された目標
濃度から外れてしまうといった問題が生じる。

【０００７】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。本発明は、成
分の異なる液体毎に設けられ計量手段及び弁手段を有し
て前記液体を供給タンクに補充する複数の補充ライン
と、前記各液体を所定の比率で前記供給タンクにて混合
させるために前記各補充ラインから所定量の液体を補充
させるべく、前記計量手段からの信号に基づき前記弁手
段を制御する制御手段と、を有する混合装置において、
前記制御手段は、前記供給タンクに所定量の各液体を補
充する液補充処理を所定回数行ううちの一回の液補充処
理が累積誤差分の補正を行うことを特徴とするものであ
る。

【０００９】従って、本発明によれば、供給タンクに所
定量の各液体を補充する液補充処理を所定回数行ううち
の一回の液補充処理が累積誤差分の補正を行うため、薬
液の供給を制御する弁の応答遅れに伴う微少な誤差が累
積されても液混合処理を所定回数行う度に所定回数の累
積誤差を補正することができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の一実施
例について説明する。図１は本発明になる混合装置の一
実施例の構成図である。図１に示されるように、混合装
置１０は、ＨＦタンク１１に貯留された５０％フッ化水
素酸と、純水製造装置２１により生成された純水とを供
給タンク１３に補充して所定の割合で混合し、供給タン
ク１３において混合された混合液を供給タンク１３の下
流側に設置された半導体製造装置４５に供給するように
構成されている。尚、フッ化水素酸は、フッ化水素（hy
drogen fluoride ）の水溶液であり、以下「ＨＦ液」と
記す。

【００１１】ＨＦタンク１１に貯留されたＨＦ液は、Ｈ
Ｆ補充路１２を介して供給タンク１３に補充される。こ
のＨＦ補充路１２の接液部の材質は、耐薬品性に優れ、
極めて不純物の溶出の少ないフッ素樹脂、例えばＰＦＡ
（バーフロロアルコキシ共重合体）などにより構成され
る。１４はＨＦ計量用超音波渦流量計であり、ＨＦ補充
路１２を送液されるＨＦ液の流量を計測する。また、Ｈ
Ｆ計量用超音波渦流量計１４の接液部は、上記ＰＦＡに
より形成されている。

【００１２】ＨＦ計量用超音波渦流量計１４の下流側に
は、流量調整機構付のＨＦ補充用エア駆動弁１５が設け
られている。このＨＦ補充用エア駆動弁１５を駆動する
圧縮空気は、エア供給路１６より約０．５〜０．７ＭＰ
ａ範囲内の圧力で流入し、減圧弁１７により０．３ＭＰ
ａまで減圧される。また、エア供給路１６から供給され
る圧縮空気は、三方電磁弁１８の切替え動作によりＨＦ
補充用エア駆動弁１５へ供給される。

【００１３】制御部１９は、ＨＦ計量用超音波渦流量計
１４及び三方電磁弁１８と接続されており、ＨＦ計量用
超音波渦流量計１４から出力される流量パルスを計数
し、そのパルス数に応じて三方電磁弁１８の吐出側流路
を排気路２０側または管路１６ｃ側に切替え制御を行っ
ている。また、三方電磁弁１８の吐出側流路が管路１６
ｃ側に切替えられると、ＨＦ補充用エア駆動弁１５は開
弁し、三方電磁弁１８の吐出側流路が排気路２０側に切
替えられると、ＨＦ補充用エア駆動弁１５は閉弁する。
そして、ＨＦ補充用エア駆動弁１５は、ＨＦ補充用管路
１２ｃを介して供給タンク１３と連通されている。

【００１４】純水製造装置２１により生成された純水
は、純水補充路２２を介して供給タンク１３に補充され
る。また、純水補充路２２には、純水計量用超音波渦流
量計２３と流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁２４
が配設されている。この純水補充用エア駆動弁２４を駆
動する圧縮空気は、エア供給路２５より約０．５〜０．
７ＭＰａ範囲内の圧力で流入し、減圧弁２６により０．
３ＭＰａまで減圧される。

【００１５】また、エア供給路２５から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁２７の切替え動作により純水補充用
エア駆動弁２４へ供給される。制御部１９は、純水計量
用超音波渦流量計２３及び三方電磁弁２７と接続されて
おり、純水計量用超音波渦流量計２３から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁２
７の吐出側流路を排気路２８側または管路２５ｃ側に切
替え制御を行っている。

【００１６】また、三方電磁弁２７の吐出側流路が管路
２５ｃ側に切替えられると、純水補充用エア駆動弁２４
は開弁し、三方電磁弁２７の吐出側流路が排気路２８側
に切替えられると、純水補充用エア駆動弁２４は閉弁す
る。そして、純水補充用エア駆動弁２４は、純水補充用
管路２２ｃを介して供給タンク１３と連通されている。

【００１７】供給タンク１３では、上記ＨＦ補充用エア
駆動弁１５の開弁によりＨＦ液が補充されると共に、上
記純水補充用エア駆動弁２４の開弁により純水が補充さ
れ、ＨＦ液と純水が所定の割合で混合された混合液が生
成される。また、供給タンク１３には、混合液の液面を
監視する第１、第２液面センサ３６，３７が挿入されて
いる。第１液面センサ３６は、混合液の上限位置を検知
するレベルゲージであり、第２液面センサ３７は、混合
液の下限位置を検知するレベルゲージである。

【００１８】供給タンク１３内で混合された混合液（薬
液）は、薬液供給ポンプ３３により圧送されて供給管路
３４を介して半導体製造装置４５へ送液される。また、
薬液供給ポンプ３３の下流側には、流量調整機構付きの
薬液供給用エア駆動弁３５が設けられている。また、薬
液供給ポンプ３３と薬液供給用エア駆動弁３５との間の
管路３４からは攪拌用リターン管路５２が分岐し、薬液
供給ポンプ３３から吐出された混合液（薬液）の一部を
供給タンク１３へ還流させることにより供給タンク１３
内の混合液を攪拌して濃度を均一にしている。

【００１９】また、供給タンク１３と半導体製造装置４
５との間には、半導体製造装置４５で余った余剰混合液
を供給タンク１３へ戻す回収管路６０が連通されてい
る。そのため、供給タンク１３では、ＨＦ補充用管路１
２ｃから補充されるＨＦ液と、純水補充用管路２２ｃか
ら補充される純水と、攪拌用リターン管路５２から還流
された混合液と、回収管路６０から回収された混合液と
が混合される。

【００２０】また、制御部１９は、ＬＥＤ表示付きの係
数設定器（図示せず）が付随しており、薬液の混合比等
の諸条件の設定や装置の運転状態等の表示を行うように
なっている。次に上記のように構成された混合装置１１
の薬液混合処理について説明する。尚、本実施の形態で
は、供給タンク１３の容量が２０Ｌ（リットル）の場合
で、ＨＦ：Ｈ₂Ｏ＝１：９９の比率で混合する場合につ
いて説明する。このとき、ＨＦ計量用超音波渦流量計１
４及び純水計量用超音波渦流量計２３からは０．２８ｍ
Ｌあたり１パルス出力されるものとする。その場合、Ｈ
Ｆ液と純水の混合比が１：９９であるから、供給タンク
１３内にはＨＦ液を２００ｍＬ（７１４パルスに相当す
る）補充し、純水を１９８００ｍＬ（７０７１４パルス
に相当する）補充しなければならない。

【００２１】図２乃至図４は制御部１９で実行される薬
液混合制御処理の手順を説明するためのフローチャート
である。図２に示されるように、制御部１９は、ステッ
プＳ１１（以下「ステップ」を省略する）でＨＦ補充用
エア駆動弁１５及び純水補充用エア駆動弁２４を開弁さ
せるように三方電磁弁１８，２７の吐出側流路を管路１
６ｃ，２５ｃ側に切替える。これにより、ＨＦタンク１
１に貯留された５０％フッ化水素酸及び純水製造装置２
１により生成された純水が供給タンク１３に補充され
る。

【００２２】次のＳ１２では、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルスのカウント値が７１４
かどうかをチェックする。このＳ１２において、ＨＦ計
量用超音波渦流量計１４から出力された流量パルスのカ
ウント値が７１４に達したときは、Ｓ１３に進み、三方
電磁弁１８の吐出側流路を排気管路２０側へ切り換えて
ＨＦ補充用エア駆動弁１５を閉弁させる。これにより、
供給タンク１３へのＨＦ液の補充が停止する。

【００２３】また、Ｓ１２において、ＨＦ計量用超音波
渦流量計１４から出力された流量パルスのカウント値が
７１４に達していないときは、Ｓ１４に進み、純水計量
用超音波渦流量計２３から出力された流量パルスのカウ
ント値が７０７１４かどうかをチェックする。このＳ１
４において、純水計量用超音波渦流量計２３から出力さ
れた流量パルスのカウント値が７０７１４に達していな
いときは、上記Ｓ１２に戻り、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、Ｓ１２でＨＦ計量用超音波渦流量計１４から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、Ｓ
１４で純水計量用超音波渦流量計２３から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。

【００２４】本実施の形態では、ＨＦ：Ｈ₂Ｏ＝１：９
９の比率で混合するため、供給タンク１３へのＨＦ液の
補充時間が純水の補充時間よりも短い。そのため、上記
Ｓ１３でＨＦ液の補充が停止された後も純水の補充が継
続される。そして、Ｓ１４において、純水計量用超音波
渦流量計２３から出力された流量パルスのカウント値が
７０７１４に達したときは、Ｓ１５に進み、三方電磁弁
２７の吐出側流路を排気管路２８側へ切り換えて純水補
充用エア駆動弁２４を閉弁させる。これにより、供給タ
ンク１３への純水の補充が停止する。そして、供給タン
ク１３には、ＨＦ：Ｈ₂Ｏ＝１：９９の比率で混合され
た混合液が貯留される。

【００２５】続いて、Ｓ１６に進み、タイマをスタート
させると共に、薬液供給ポンプ３３を起動させる。次の
Ｓ１７では、タイマスタートから５分経過したかどうか
をチェックする。タイマスタートから５分経過する間に
供給タンク１３に貯留された混合液の全量が薬液供給ポ
ンプ３３により吸引され、薬液供給ポンプ３３から吐出
された混合液は、攪拌用リターン管路５２を介して供給
タンク１３へ戻されて供給タンク１３全体の濃度を均一
にする。

【００２６】このＳ１７において、タイマスタートから
５分経過すると、薬液供給用エア駆動弁３５が開弁さ
れ、薬液供給ポンプ３３により吐出された混合液が半導
体製造装置４５に供給される。これにより、供給タンク
１３内で混合された混合液が半導体製造装置４５に供給
されるにつれて供給タンク１３内の液位が次第に低下す
る。次のＳ１９では、混合液の下限位置を検知する第２
液面センサ３７からの出力信号があることを確認する。

【００２７】Ｓ１９で第２液面センサ３７からの出力信
号があると、供給タンク１３に貯留された混合液の液面
が下限位置まで低下したものと判断し、図３に示すＳ２
０に進み、薬液の補充処理が行われる。尚、供給タンク
１３への補充量が５Ｌに設定されているものとする。こ
の場合、供給タンク１３内には５０ｍＬ（１７８パルス
に相当する）のＨＦ液が補充され、４９５０ｍＬ（１７
６７８パルスに相当する）の純水が補充される。

【００２８】Ｓ２０では、薬液補充動作回数が１０回目
かどうかをチェックする。このＳ２０において、薬液補
充動作回数が１０回目未満の場合、Ｓ２１に進み、ＨＦ
補充用エア駆動弁１５及び純水補充用エア駆動弁２４を
開弁させるように三方電磁弁１８，２７の吐出側流路を
管路１６ｃ，２５ｃ側に切替える。これにより、ＨＦタ
ンク１１に貯留された５０％フッ化水素酸及び純水製造
装置２１により生成された純水が再度供給タンク１３に
補充される。

【００２９】次のＳ２２では、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルスのカウント値が１７８
かどうかをチェックする。このＳ２２において、ＨＦ計
量用超音波渦流量計１４から出力された流量パルスのカ
ウント値が１７８に達したときは、Ｓ２３に進み、三方
電磁弁１８の吐出側流路を排気管路２０側へ切り換えて
ＨＦ補充用エア駆動弁１５を閉弁させる。これにより、
供給タンク１３へのＨＦ液の補充が停止する。

【００３０】また、Ｓ２２において、ＨＦ計量用超音波
渦流量計１４から出力された流量パルスのカウント値が
１７８に達していないときは、Ｓ２４に進み、純水計量
用超音波渦流量計２３から出力された流量パルスのカウ
ント値が１７６７８かどうかをチェックする。このＳ２
４において、純水計量用超音波渦流量計２３から出力さ
れた流量パルスのカウント値が１７９７８に達していな
いときは、上記Ｓ２２に戻り、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、Ｓ２２でＨＦ計量用超音波渦流量計１４から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、Ｓ
２４で純水計量用超音波渦流量計２３から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。

【００３１】そして、Ｓ２４において、純水計量用超音
波渦流量計２３から出力された流量パルスのカウント値
が１７６７８に達したときは、Ｓ２５に進み、三方電磁
弁２７の吐出側流路を排気管路２８側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁２４を閉弁させる。これにより、供給
タンク１３への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク１３には、ＨＦ：Ｈ₂Ｏ＝１：９９の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。

【００３２】次のＳ２６では、補充回数カウンタのカウ
ント値を１回加算した後、上記Ｓ１９に戻り、Ｓ１９以
降の薬液補充処理を繰り返す。そして、補充回数カウン
タのカウント値が１０回になった時点で、上記Ｓ２０か
ら図４に示すＳ２７に移行する。Ｓ２７では、ＨＦ補充
用エア駆動弁１５及び純水補充用エア駆動弁２４を開弁
させるように三方電磁弁１８，２７の吐出側流路を管路
１６ｃ，２５ｃ側に切替える。これにより、ＨＦタンク
１１に貯留された５０％フッ化水素酸及び純水製造装置
２１により生成された純水が再度供給タンク１３に補充
される。

【００３３】次のＳ２８では、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルスのカウント値が１５８
かどうかをチェックする。このＳ２８における流量パル
スのカウント値１５８は、上記薬液補充処理を１０回行
なった場合、１０回分の注入誤差を１回の薬液補充量
（カウント値１７８）のおよそ１０％として考えると、
１１回目の薬液補充処理では通常の薬液補充量のおよそ
９０％の量に減少させて注入するように算出された値で
ある。これにより、ＨＦ液の１０回分の注入誤差は、１
１回目の薬液補充処理で相殺される。

【００３４】そして、Ｓ２８において、ＨＦ計量用超音
波渦流量計１４から出力された流量パルスのカウント値
が１５８に達したときは、Ｓ２９に進み、三方電磁弁１
８の吐出側流路を排気管路２０側へ切り換えてＨＦ補充
用エア駆動弁１５を閉弁させる。これにより、供給タン
ク１３へのＨＦ液の補充が停止し、１０回分の注入誤差
が補正される。

【００３５】例えば、上記のようなＨＦ補充用エア駆動
弁１５及び純水補充用エア駆動弁２４の開閉動作遅れに
伴って１回の薬液補充処理で生じる注入誤差が計測でき
ない程度に微少である場合、所定回数（例えば１０回）
の薬液補充処理を行った後、所定回数分の累積誤差を相
殺して供給タンク１３に貯留される混合液の濃度変化を
抑制することができる。

【００３６】また、Ｓ２８において、ＨＦ計量用超音波
渦流量計１４から出力された流量パルスのカウント値が
１５８に達していないときは、Ｓ３０に進み、純水計量
用超音波渦流量計２３から出力された流量パルスのカウ
ント値が１７６７８かどうかをチェックする。このＳ３
０において、純水計量用超音波渦流量計２３から出力さ
れた流量パルスのカウント値が１７６７８に達していな
いときは、上記Ｓ２８に戻り、ＨＦ計量用超音波渦流量
計１４から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、Ｓ２８でＨＦ計量用超音波渦流量計１４から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、Ｓ
３０で純水計量用超音波渦流量計２３から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。

【００３７】そして、Ｓ３０において、純水計量用超音
波渦流量計２３から出力された流量パルスのカウント値
が１７６７８に達したときは、Ｓ３２に進み、三方電磁
弁２７の吐出側流路を排気管路２８側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁２４を閉弁させる。これにより、供給
タンク１３への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク１３には、ＨＦ：Ｈ₂Ｏ＝１：９９の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。

【００３８】次のＳ３２では、補充回数カウンタのカウ
ント値をクリアしてゼロにする。その後、上記Ｓ１９に
戻り、Ｓ１９以降の薬液補充処理を繰り返す。図５は従
来の注入誤差を補正しない場合の濃度変化を示すグラフ
である。また、図６は本発明のように所定回数毎に注入
誤差を補正する場合の濃度変化を示すグラフである。

【００３９】上記のような構成とされた混合装置で薬液
のプラス誤差を持った混合処理動作を継続して実施する
と、図５の混合薬液の濃度実測データ（グラフＩ）に示
すように徐々に薬液濃度が上昇してくる場合がある。こ
れはＨＦ計量用超音波渦流量計１４からの出力パルスが
薬液補充量の設定値に達してから実際にＨＦ補充用エア
駆動弁１５が完全に閉じるまでの間に応答遅れが生じて
おり、この遅れ分がプラス誤差となって積算されている
場合である。すなわち、ＨＦ液の補充時を例に説明する
と、供給タンク３内へ本来ＨＦ液５０ｍＬ（ＨＦ計量用
超音波渦流量計１４からの出力パルスで１７８カウン
ト）補充されるべきところをＨＦ計量用超音波渦流量計
１４からの出力パルスが１７８カウントに達したときに
ＨＦ補充用エア駆動弁１５が閉じ始まる。

【００４０】そのため、実際には、ＨＦ計量用超音波渦
流量計１４からの出力パルスが１〜３パルス行き過ぎた
ところでＨＦ補充用エア駆動弁１５が完全に閉じるよう
になっている。このため、設定値よりも０．２〜０．８
ｍＬ程度多くＨＦ液が供給タンク１３に補充されてい
る。この行き過ぎ量が補充動作が繰り返される毎に誤差
分として積算されることで供給タンク１３で混合された
混合液の薬液濃度が徐々に上昇する。このようなＨＦ液
の１回の補充量が５０ｍＬと微少であるので、ＨＦ液の
補充流量も微少である。そのため、ＨＦ補充用エア駆動
弁１５の閉弁動作に伴う１回の行き過ぎ量は、ＨＦ計量
用超音波渦流量計１４の計測範囲を下回る０．２〜０．
８ｍＬ程度の微少量である。

【００４１】従って、ＨＦ液を補充する度に毎回行き過
ぎ量を補正することは極めて難しい。そこで、本発明の
混合装置１０では、供給タンク１３への薬液補充処理を
１０回行った後、１１回目の薬液補充のときに１０回分
の累積誤差分をマイナスした量だけ補充するようにして
ＨＦ液の累積誤差分を相殺して供給タンク１３における
混合液の濃度変化を抑制する。

【００４２】これにより、混合装置１０は、図６の混合
薬液の濃度実測データ（グラフII）に示すように半導体
製造装置４５に供給される混合液の濃度を予め設定され
た設定値（目標濃度値）に保つように混合処理を行っ
て、設定濃度の混合液を安定的に供給することができ
る。尚、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水とを所
定の割合で混合させる場合を一例として挙げたが、他の
薬液を混合する場合にも本発明が適用できるのは勿論で
ある。

【００４３】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との２種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる２種以上の液体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。また、本実施
の形態では、１０回分の累積誤差分を１１回目の薬液補
充のときにマイナスすることにより累積誤差分を相殺す
る場合を用いて説明したが、これに限らず、薬液の供給
量に応じて所定回数に１回薬液補充量を補正することに
より累積誤差分を相殺できるので、例えば５回分の累積
誤差分を６回目の薬液補充のときにマイナスしても良い
し、あるいは１５回分の累積誤差分を１６回目の薬液補
充のときにマイナスすることもできる。

【００４４】また、本実施の形態では、所定回数の薬液
補充による累積プラス誤差を一回のマイナス補充で補正
したが、これに限らず、一回の薬液補充でマイナス誤差
を形成しておき、累積マイナス誤差を一回のプラス補充
で補正するようにしても良い。また、所定回数の薬液補
充による累積プラス誤差を一回のマイナス補充で補正す
ることを繰り返すうちにマイナス誤差となる場合がある
ため、所定回数の薬液補充による累積プラス誤差を一回
のマイナス補充で補正することを１サイクルとして、例
えば２サイクル行った後、つぎの１サイクルのマイナス
補充を行わないようにしても良い。

【００４５】

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、供給タン
クに所定量の各液体を補充する液補充処理を所定回数行
ううちの一回の液補充処理が累積誤差分の補正を行うた
め、薬液の供給を制御する弁の応答遅れに伴う微少な誤
差が累積されても液混合処理を所定回数行う度に所定回
数の累積誤差を補正することができる。そのため、流量
計で計測できないような微少な誤差が生じる場合でも、
所定回数の累積誤差が計測可能な量に達した時点で累積
誤差を相殺するように次回の計量値を変更して混合液の
濃度を目標値の所定範囲内に入るように調整することが
可能になる。これにより、予め設定された所定濃度の混
合液を下流側の装置に安定的に供給することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明になる混合装置の一実施例の構成図であ
る。

【図２】制御部１９で実行される薬液混合制御処理の手
順を説明するためのフローチャートである。

【図３】図２に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。

【図４】図３に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。

【図５】従来の注入誤差を補正しない場合の濃度変化を
示すグラフである。

【図６】本発明のように所定回数毎に注入誤差を補正す
る場合の濃度変化を示すグラフである。

【符号の説明】

１０混合装置１１ＨＦタンク１２ＨＦ供給路１３供給タンク１４ＨＦ計量用超音波渦流量計１５ＨＦ供給用エア駆動弁１８，２７三方電磁弁１９制御部２１純水製造装置２２純水供給路２３純水計量用超音波渦流量計２４純水供給用エア駆動弁３３薬液供給ポンプ３４供給管路３６第１液面センサ３７第２液面センサ３５薬液供給用エア駆動弁４５半導体製造装置５２攪拌用リターン管路６０回収管路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記弁手段を制御する制御手段と、を有する混合
装置において、前記制御手段は、前記供給タンクに所定量の各液体を補
充する液補充処理を所定回数行ううちの一回の液補充処
理が累積誤差分の補正を行うことを特徴とする混合装
置。