JP2001013309A - Reflection mirror - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射鏡に関し、具
体的には、照明器具に用いられる、高効率な反射鏡に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector, and more particularly, to a highly efficient reflector used for lighting equipment.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、ダウンライトやスポットライ
トや投光器等の各種照明器具に用いられる反射鏡とし
て、金属板を所定の形状に成形した反射鏡や、フェノー
ル樹脂、ポリエーテルイミド樹脂等の樹脂組成物の成形
品又は金属板等の基材の表面に、アルミニウム等の金属
を蒸着することにより光反射用の金属層を形成した反射
鏡等が使用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a reflecting mirror used for various lighting equipment such as a downlight, a spotlight and a floodlight, a reflecting mirror formed by molding a metal plate into a predetermined shape, or a resin such as a phenol resin or a polyetherimide resin. 2. Description of the Related Art A reflector having a metal layer for light reflection formed by evaporating a metal such as aluminum on a surface of a base material such as a molded product of a composition or a metal plate is used.
【０００３】なお、金属板を所定の形状に成形した反射
鏡の場合、反射率が低いという問題があり、また、基材
の表面にアルミニウム等の金属を蒸着して形成した反射
鏡の場合、基材と金属層の密着性が低く、金属層が剥が
れ落ちやすいという問題があった。そのため、図３に示
すような、基材１０の表面に、エポキシ樹脂系、アクリ
ルウレタン樹脂系、ポリブタジエン樹脂系等の有機塗料
を塗布することによって、密着性が優れたアンダーコー
ト層１２を形成した後、そのアンダーコート層１２の表
面にアルミニウムを蒸着することにより金属層１４を形
成することや、金属層１４の表面に、アクリルメラミン
樹脂系、シリコンアクリル樹脂系等の有機系や、二酸化
ケイ素等の無機系のオーバーコート層１６を形成するこ
とが行われている（例えば特開昭５５−１３０００６
号、特開昭５９−７９９０１号）。In the case of a reflector formed by molding a metal plate into a predetermined shape, there is a problem that the reflectivity is low. In the case of a reflector formed by depositing a metal such as aluminum on the surface of a base material, There is a problem that the adhesion between the base material and the metal layer is low, and the metal layer is easily peeled off. Therefore, as shown in FIG. 3, an undercoat layer 12 having excellent adhesion was formed by applying an organic paint such as an epoxy resin, an acrylic urethane resin, or a polybutadiene resin to the surface of the substrate 10. Thereafter, the metal layer 14 is formed by evaporating aluminum on the surface of the undercoat layer 12, or an organic material such as an acrylic melamine resin or a silicon acrylic resin, or silicon dioxide is formed on the surface of the metal layer 14. (For example, JP-A-55-130006).
No., JP-A-59-79901).
【０００４】近年、アルミニウムを蒸着することに代え
て、銀を蒸着することにより光反射性が優れた金属層を
形成することが検討されている（例えば実開平５−７３
８０９号）。銀は、アルミニウムより反射特性が優れる
ため、アルミニウムの金属層を形成した場合と比較し
て、１０〜５０％程度効率アップを図ることができ、高
効率な照明器具を提供することが可能になったり、特に
繰り返し反射での減衰が少ないため、深型ダウンライト
のような繰り返し反射が多い器具で顕著な効果を発揮す
るという特徴がある。In recent years, it has been studied to form a metal layer having excellent light reflectivity by depositing silver instead of depositing aluminum (for example, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-73).
No. 809). Since silver has better reflection characteristics than aluminum, efficiency can be increased by about 10 to 50% as compared with the case where a metal layer of aluminum is formed, and a highly efficient lighting device can be provided. In addition, since there is little attenuation due to repetitive reflection, there is a feature that a remarkable effect is exhibited in an instrument having many repetitive reflections such as a deep downlight.
【０００５】しかし銀は、化学的に不安定なため、空気
中の酸素、水分、亜硫酸ガス、硫化水素、アンモニアガ
ス等や、器具温度の上昇によって基材の内部からガス化
して流出してくる水分、未反応の樹脂等と容易に反応し
て、褐色や黒色の酸化銀や硫化銀等に変化しやすく、変
色しやすいという問題があった。そしてこの変色した反
射鏡は、反射率が劣るという問題があった。However, since silver is chemically unstable, it is gasified and flows out of oxygen, moisture, sulfurous acid gas, hydrogen sulfide, ammonia gas, etc. in the air and the inside of the base material due to an increase in equipment temperature. There is a problem that it easily reacts with moisture, unreacted resin, etc., and easily changes into brown or black silver oxide, silver sulfide, or the like, and easily discolors. The discolored reflecting mirror has a problem that the reflectance is inferior.
【０００６】そのため、オーバーコート層を形成する材
料として、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコン
アクリル樹脂系等の、比較的ガスバリア性の優れた有機
塗料を用いることにより、空気中の酸素等の影響を防
ぎ、反射率の低下を防ぐことが検討されている。しか
し、上記のようなガスバリア性の優れた有機塗料は、耐
熱性が低く、例えば１００℃程度までの環境でしか使用
できないという問題があった。Therefore, by using an organic coating material having relatively excellent gas barrier properties, such as an epoxy resin-based resin, an acrylic resin-based resin, or a silicon acrylic resin-based resin, as a material for forming the overcoat layer, the influence of oxygen in the air can be reduced. It has been studied to prevent the reflection and to prevent the reflectance from decreasing. However, such an organic coating having excellent gas barrier properties has a low heat resistance and has a problem that it can be used only in an environment up to about 100 ° C., for example.
【０００７】一方、二酸化ケイ素等の無機系のオーバー
コート層を形成した場合は、有機系のオーバーコート層
を形成した場合と比較して耐熱性は優れるが、金属層が
変色しやすく、反射率が低下しやすいという問題があっ
た。特に、高出力コンパクト蛍光灯や、白熱灯や、メタ
ルハライドランプ等に用いる反射鏡の場合、光源から出
る多量の紫外線によって変色しやすく、特に反射率が低
下しやすいという問題があった。そのため、無機系のオ
ーバーコート層を形成した場合であっても、金属層が変
色しにくく、反射率が低下しにくい反射鏡が望まれてい
る。On the other hand, when an inorganic overcoat layer such as silicon dioxide is formed, the heat resistance is excellent as compared with the case where an organic overcoat layer is formed, but the metal layer is easily discolored and the reflectance is low. However, there is a problem that is easily reduced. In particular, in the case of a reflector used for a high-output compact fluorescent lamp, an incandescent lamp, a metal halide lamp, or the like, there is a problem that a large amount of ultraviolet rays emitted from the light source is liable to be discolored, and in particular, the reflectivity is easily lowered. Therefore, even when an inorganic overcoat layer is formed, a reflecting mirror is desired in which the metal layer hardly discolors and the reflectance is hardly reduced.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を改善するために成されたもので、その目的とするとこ
ろは、基材の表面に金属層が形成され、その金属層の表
面にオーバーコート層が形成されてなる反射鏡であっ
て、金属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to form a metal layer on the surface of a base material, Another object of the present invention is to provide a reflecting mirror having an overcoat layer formed thereon, wherein the metal layer is hardly discolored and has excellent reflectance.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
反射鏡は、基材の表面に金属層が形成され、その金属層
の表面に無機系のオーバーコート層が形成されてなる反
射鏡において、オーバーコート層が、フッ化マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミ
ニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、
窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム
・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも１
種の無機物の層を介して、金属層の表面に形成されてな
ることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a reflecting mirror comprising a base material having a metal layer formed on a surface thereof and an inorganic overcoat layer formed on the surface of the metal layer. In the mirror, the overcoat layer is made of magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate,
At least one selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet
It is characterized in that it is formed on the surface of a metal layer via a layer of an inorganic material.
【００１０】上記オーバーコート層は、二酸化ケイ素又
はＤＬＣの層であると好ましく、また、上記金属層は、
二酸化ケイ素、ＤＬＣ、フッ化マグネシウム、酸化チタ
ン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれた少
なくとも１種の無機物の層を介して、基材の表面に形成
されてなると好ましく、また、上記金属層は、銀又は銀
合金の金属層であると好ましい。なお、ＤＬＣ（Diamon
d Like Carbon）は、例えば、炭化水素基を有する原料
ガス及びキャリアガスの存在下でプラズマＣＶＤするこ
とにより形成される、ラマン分光１６００〜１４００ｃ
ｍ-1程度の炭素の層である。Preferably, the overcoat layer is a layer of silicon dioxide or DLC, and the metal layer is
Preferably, the metal layer is formed on the surface of the substrate via at least one inorganic layer selected from the group consisting of silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium oxide and aluminum oxide. Is preferably a metal layer of silver or a silver alloy. In addition, DLC (Diamon
d Like Carbon) is, for example, Raman spectroscopy 1600-1400c formed by plasma CVD in the presence of a source gas having a hydrocarbon group and a carrier gas.
It is a carbon layer of about m-1.
【００１１】本発明の請求項２に係る反射鏡は、オーバ
ーコート層が、二酸化ケイ素又はＤＬＣの層であること
を特徴とする。[0011] The reflecting mirror according to claim 2 of the present invention is characterized in that the overcoat layer is a layer of silicon dioxide or DLC.
【００１２】本発明の請求項３に係る反射鏡は、金属層
が、二酸化ケイ素、ＤＬＣ、フッ化マグネシウム、酸化
チタン及び酸化アルミニウムからなる群の中から選ばれ
た少なくとも１種の無機物の層を介して、基材の表面に
形成されてなることを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the reflecting mirror, the metal layer is formed of at least one inorganic layer selected from the group consisting of silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium oxide and aluminum oxide. Characterized by being formed on the surface of the base material through the intermediary.
【００１３】本発明の請求項４に係る反射鏡は、基材の
表面に金属層が形成され、その金属層の表面にオーバー
コート層が形成されてなる反射鏡において、オーバーコ
ート層が、イットリウム、マグネシウム及びアルミニウ
ムからなる群の中から選ばれた少なくとも１種の元素を
含有する金属酸化物若しくは窒化物、又はＤＬＣの層で
あることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a reflector comprising a metal layer formed on a surface of a substrate and an overcoat layer formed on the surface of the metal layer, wherein the overcoat layer is formed of yttrium. , A metal oxide or nitride containing at least one element selected from the group consisting of magnesium and aluminum, or a DLC layer.
【００１４】上記オーバーコート層は、酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸
マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム
・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれ
た少なくとも１種の無機物の層であると好ましく、ま
た、上記金属層は、銀又は銀合金の金属層であると好ま
しい。The overcoat layer is a layer of at least one inorganic substance selected from the group consisting of magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet. Preferably, the metal layer is a silver or silver alloy metal layer.
【００１５】本発明の請求項５に係る反射鏡は、オーバ
ーコート層が、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、
酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化
アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネ
ットからなる群の中から選ばれた少なくとも１種の無機
物の層であることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in the reflecting mirror, the overcoat layer is made of magnesium oxide, aluminum oxide,
It is a layer of at least one inorganic substance selected from the group consisting of yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet.
【００１６】本発明の請求項６に係る反射鏡は、金属層
が、銀又は銀合金の金属層であることを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, in the reflector, the metal layer is a silver or silver alloy metal layer.
【００１７】本発明の請求項７に係る反射鏡は、金属層
とオーバーコート層との間に中間層が介在するようにし
て形成されていることを特徴とする。The reflecting mirror according to claim 7 of the present invention is characterized in that an intermediate layer is interposed between the metal layer and the overcoat layer.
【００１８】本発明の請求項８に係る反射鏡は、中間層
が、ＤＬＣ、フッ化マグネシウム、酸化マグネシウム、
酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化イットリウ
ム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及
びイットリウム・アルミニウム・ガーネットからなる群
の中から選ばれた少なくとも１種の無機物の層であるこ
とを特徴とする。[0018] In the reflecting mirror according to claim 8 of the present invention, the intermediate layer is formed of DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide,
It is a layer of at least one inorganic substance selected from the group consisting of aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide, and yttrium aluminum garnet.
【００１９】本発明の請求項９に係る反射鏡は、中間層
が、マグネシウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物
または窒化物の一方もしくは両者を含有するものである
ことを特徴とする。According to a ninth aspect of the present invention, in the reflector, the intermediate layer contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element.
【００２０】本発明の請求項１０に係る反射鏡は、基材
と金属層との間にアンダーコート層が介在するようにし
て形成されていることを特徴とする。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided the reflecting mirror, wherein the undercoat layer is formed between the base material and the metal layer.
【００２１】本発明の請求項１１に係る反射鏡は、アン
ダーコート層が、二酸化ケイ素、ＤＬＣ、フッ化マグネ
シウム、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミ
ニウム、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、
酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、窒化酸化
アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム・ガーネ
ットからなる群の中から選ばれた少なくとも１種の無機
物の層であることを特徴とする。According to the eleventh aspect of the present invention, in the reflecting mirror, the undercoat layer is made of silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride,
It is a layer of at least one inorganic substance selected from the group consisting of yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet.
【００２２】本発明の請求項１２に係る反射鏡は、アン
ダーコート層が、マグネシウム元素、アルミニウム元素
を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者を含有す
るものであることを特徴とする。A reflecting mirror according to a twelfth aspect of the present invention is characterized in that the undercoat layer contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element.
【００２３】本発明の請求項１３に係る反射鏡は、アン
ダーコート層の組成を基材側付近と金属層側付近とで変
えていることを特徴とする。A reflecting mirror according to a thirteenth aspect of the present invention is characterized in that the composition of the undercoat layer is changed near the base material side and near the metal layer side.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】本発明に係る反射鏡の実施形態を
図面に基づいて詳しく説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a reflector according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【００２５】図１及び図２は本発明の請求項１に係る反
射鏡の一実施の形態を説明する、破断して示した図であ
り、図３は本発明の請求項４に係る反射鏡の一実施の形
態を説明する破断して示した図である。FIGS. 1 and 2 are cutaway views for explaining an embodiment of the reflecting mirror according to the first aspect of the present invention, and FIG. 3 is a reflecting mirror according to the fourth aspect of the present invention. FIG. 2 is a cutaway view for explaining one embodiment.
【００２６】［本発明の請求項１に係る反射鏡］本発明
の請求項１に係る反射鏡の一実施の形態は、図２に示す
ような、反射鏡１の光源２側の面に、光を反射するため
の反射膜が設けられた照明器具３用の反射鏡１である。
この反射膜は、図１に示すように、基材１０の側から、
アンダーコート層１２、金属層１４、中間層１５、オー
バーコート層１６の４層構造となっている。[Reflecting Mirror According to Claim 1 of the Present Invention] One embodiment of the reflecting mirror according to claim 1 of the present invention is as shown in FIG. This is a reflecting mirror 1 for a lighting fixture 3 provided with a reflecting film for reflecting light.
As shown in FIG. 1, this reflection film is
It has a four-layer structure of an undercoat layer 12, a metal layer 14, an intermediate layer 15, and an overcoat layer 16.
【００２７】基材１０は、光源２から発生する熱に耐
え、光軸の変化を起こしにくい材料を用いて、所定の配
光が得られるような形状に形成されたものであり、例え
ば、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄合金、ス
テンレス等の金属板を用いて、プレス成形、ヘラ絞り成
形等により形成したものや、ガラスをプレス成形したも
のや、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファ
イド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリブチレン
テレフタレート樹脂、ナイロン樹脂等の樹脂組成物を、
射出成形等により成形したものや、セラミックを焼成し
たもの等が挙げられる。The base material 10 is made of a material that resists the heat generated from the light source 2 and hardly causes a change in the optical axis, and is formed into a shape capable of obtaining a predetermined light distribution. Using a metal plate of aluminum alloy, iron, iron alloy, stainless steel, etc., formed by press molding, spatula drawing or the like, or formed by pressing glass, polyetherimide resin, polyetheretherketone resin, Polyamide resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, polybutylene terephthalate resin, a resin composition such as nylon resin,
Examples thereof include those molded by injection molding and the like and those obtained by firing ceramics.
【００２８】アンダーコート層１２は、光源から発生す
る熱に耐える無機物等を用いて、基材１０の表面に形成
した層である。すなわち、基材１０と金属層１４との間
にアンダーコート層１２が介在するようにして形成され
ているものである。The undercoat layer 12 is a layer formed on the surface of the base material 10 using an inorganic material or the like that can withstand heat generated from a light source. That is, the undercoat layer 12 is formed between the base material 10 and the metal layer 14.
【００２９】なお、このアンダーコート層１２は、必ず
形成することに限定するものではないが、アンダーコー
ト層１２を形成すると、基材１０の表面に凹凸を有する
場合であっても、アンダーコート層１２の表面は平滑性
の良好な面となるため、基材１０の表面形状に影響され
ずに反射率が優れた反射鏡を形成することが可能となる
と共に、金属層１４との密着性が高くなり好ましい。The undercoat layer 12 is not necessarily limited to being formed. However, if the undercoat layer 12 is formed, even if the surface of the substrate 10 has irregularities, Since the surface of the substrate 12 has good smoothness, it is possible to form a reflecting mirror having excellent reflectance without being affected by the surface shape of the substrate 10 and to improve the adhesion to the metal layer 14. Higher is preferable.
【００３０】アンダーコート層１２の厚みとしては、基
材１０の表面の凹凸を吸収し、かつ、金属層１４との密
着性を高めることが可能な厚みであれば特に限定するも
のではないが、０．５〜２０μｍ程度が好ましい。な
お、基材１０が、ガラス板のように、表面の凹凸が小さ
く、かつ、内部から水分や未反応の樹脂等が流出しない
基材１０の場合には、アンダーコート層１２は形成しな
くても良い。The thickness of the undercoat layer 12 is not particularly limited as long as it can absorb irregularities on the surface of the base material 10 and enhance the adhesion to the metal layer 14. It is preferably about 0.5 to 20 μm. In the case where the substrate 10 is a substrate 10 such as a glass plate, the surface of which is small in unevenness and from which water, unreacted resin and the like do not flow out from the inside, the undercoat layer 12 is not formed. Is also good.
【００３１】なお、アンダーコート層１２を、二酸化ケ
イ素、ＤＬＣ（Diamond Like Carbon）、フッ化マグネ
シウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムからなる群の
中から選ばれた少なくとも１種の無機物で形成した場
合、これらは特に基材１０との密着性及び濡れ性が優れ
た無機物であるため、鏡面性と密着性に優れた金属層１
４を、アンダーコート層１２の表面に形成することがで
き好ましい。When the undercoat layer 12 is formed of at least one inorganic material selected from the group consisting of silicon dioxide, DLC (Diamond Like Carbon), magnesium fluoride, titanium oxide and aluminum oxide, Is an inorganic substance having particularly excellent adhesion and wettability with the substrate 10, and therefore, the metal layer 1 having excellent mirror-like properties and adhesion.
4 can be formed on the surface of the undercoat layer 12, which is preferable.
【００３２】特に、アンダーコート層１２が、二酸化ケ
イ素、ＤＬＣ、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウ
ム、窒化ケイ素、窒化チタン、酸化イットリウム、アル
ミン酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイット
リウム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から
選ばれた少なくとも１種の無機物の層であると、鏡面性
と密着性に優れた金属層１４を、アンダーコート層１２
の表面に確実に形成することができる点で好ましいもの
である。In particular, the undercoat layer 12 is made of silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium. When at least one kind of inorganic material selected from the group consisting of aluminum and garnet is used, the metal layer 14 having excellent specularity and adhesion can be formed on the undercoat layer 12.
This is preferable because it can be surely formed on the surface of the substrate.
【００３３】また、アンダーコート層１２が、マグネシ
ウム元素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物
の一方もしくは両者を含有するものであると、鏡面性と
密着性に優れた金属層１４を、アンダーコート層１２の
表面により一層確実に形成することができる点で好まし
いものとなる。When the undercoat layer 12 contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element, the metal layer 14 having excellent specularity and adhesion can be formed on the undercoat layer. This is preferable because it can be formed more reliably on the surface of the layer 12.
【００３４】そして、アンダーコート層１２の組成を基
材１０側付近と金属層１４側付近とで変えていると、鏡
面性と密着性に優れた金属層１４を、アンダーコート層
１２の表面により一層確実に形成することができる点で
好ましいものとなる。When the composition of the undercoat layer 12 is changed between the vicinity of the base material 10 and the vicinity of the metal layer 14, the metal layer 14 having excellent specularity and adhesion can be formed by the surface of the undercoat layer 12. This is preferable in that it can be formed more reliably.
【００３５】このアンダーコート層１２の形成方法して
は、特に限定するものではなく、蒸着法や、ＣＶＤ法
（化学的蒸着法）等が挙げられる。上記ＤＬＣの層を形
成する具体的方法としては、例えば、基材１０を真空槽
中に配置した後、その真空槽中にメタン、エタン、アセ
チレン、メタノール等の炭化水素基を有する原料ガス
と、水素、酸素等のキャリアガスとを供給し、プラズマ
ＣＶＤ法等により、ＤＬＣの層を形成する。The method for forming the undercoat layer 12 is not particularly limited, and examples thereof include a vapor deposition method and a CVD method (chemical vapor deposition method). As a specific method for forming the DLC layer, for example, after arranging the substrate 10 in a vacuum chamber, methane, ethane, acetylene, a raw material gas having a hydrocarbon group such as methanol in the vacuum chamber, A carrier gas such as hydrogen or oxygen is supplied, and a DLC layer is formed by a plasma CVD method or the like.
【００３６】なお、光源２から発生する熱に耐えるもの
であれば、エポキシ樹脂系、エポキシメラミンアクリル
樹脂系、シリコン変性アクリル樹脂系、シリコンアルキ
ッド樹脂系等の熱硬化性樹脂を用いて、スプレー法、浸
漬法、静電塗装法等により、アンダーコート層１２を形
成しても良い。In addition, as long as it can withstand the heat generated from the light source 2, a spray method using a thermosetting resin such as an epoxy resin type, an epoxy melamine acrylic resin type, a silicon modified acrylic resin type, and a silicon alkyd resin type is used. The undercoat layer 12 may be formed by a dipping method, an electrostatic coating method, or the like.
【００３７】また、金属板を用いて製造された基材１０
の表面にアンダーコート層１２を形成する場合には、基
材１０の表面を羽布研磨し、次いで化学研磨や電解研磨
等を行った後、アンダーコート層１２を形成すると、基
材１０とアンダーコート層１２との密着性が高まり好ま
しい。The base material 10 manufactured using a metal plate
When the undercoat layer 12 is formed on the surface of the base material 10, the surface of the base material 10 is polished with a cloth and then subjected to chemical polishing or electrolytic polishing, and then the undercoat layer 12 is formed. This is preferable because the adhesion to the coat layer 12 is enhanced.
【００３８】金属層１４は、銀、アルミニウム等を用い
て、所定の光学特性が得られるように形成したものであ
れば特に限定するものではないが、銀又は銀合金の金属
層１４の場合、特に反射率が優れた反射鏡となると共
に、特に本発明の金属層１４が変色しにくく、反射率が
優れる効果が大きく好ましい。この銀合金としては、銀
マグネシウム、銀パラジウム、銀白金、銀ロジウム等の
合金が挙げられる。また、この金属層１４の形成方法と
しては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等が挙げられる。The metal layer 14 is not particularly limited as long as it is formed using silver, aluminum or the like so as to obtain predetermined optical characteristics. In particular, the reflection mirror is excellent in reflectivity, and the metal layer 14 of the present invention is hardly discolored. Examples of the silver alloy include silver magnesium, silver palladium, silver platinum, silver rhodium and the like. In addition, examples of a method for forming the metal layer 14 include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.
【００３９】この金属層１４の厚みとしては、所定の光
学特性が得られる厚みであれば特に限定するものではな
いが、１００〜３００ｎｍ、より好ましくは１５０〜２
５０ｎｍ程度が好ましい。１００ｎｍ未満の場合、充分
な反射特性が得られない場合があり、３００ｎｍを越え
る場合、金属層１４の表面が白濁し、反射率が低下する
場合がある。The thickness of the metal layer 14 is not particularly limited as long as predetermined optical characteristics can be obtained, but is preferably 100 to 300 nm, more preferably 150 to 2 nm.
It is preferably about 50 nm. If the thickness is less than 100 nm, sufficient reflection characteristics may not be obtained, and if it exceeds 300 nm, the surface of the metal layer 14 may become cloudy and the reflectance may decrease.
【００４０】中間層１５としては、例えば、フッ化マグ
ネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシ
ウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミ
ニウム・ガーネット（ＹＡＧ）からなる群の中から選ば
れた少なくとも１種の無機物（以下、特定無機物Ａと記
す）の層であり、オーバーコート層１６は、この中間層
１５を介して、金属層１４の表面に形成されている。The intermediate layer 15 is selected from the group consisting of, for example, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide, and yttrium aluminum garnet (YAG). The overcoat layer 16 is formed on the surface of the metal layer 14 via the intermediate layer 15.
【００４１】この特定無機物Ａは、プラズマによる金属
層１４の変色を防止することが可能な無機物であると共
に、透明性を有する無機物であるため、金属層１４の表
面に中間層１５を形成して覆った場合、オーバーコート
層１６を形成する際に行うプラズマによる金属層１４の
変色を防いで高い反射率を維持することができ、金属層
１４が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。The specific inorganic substance A is an inorganic substance capable of preventing discoloration of the metal layer 14 due to plasma, and is an inorganic substance having transparency. Therefore, the intermediate layer 15 is formed on the surface of the metal layer 14. When it is covered, a high reflectance can be maintained by preventing discoloration of the metal layer 14 due to plasma performed when the overcoat layer 16 is formed, and the metal layer 14 is hardly discolored and has a high reflectance. Become.
【００４２】この中間層１５の厚みとしては、オーバー
コート層１６や金属層１４との密着性及び層の透明性等
により、１〜３００ｎｍ程度が好ましく、また、この中
間層１５の形成方法としては、真空蒸着法、電子銃蒸着
法（ＥＤ蒸着法）等が挙げられる。The thickness of the intermediate layer 15 is preferably about 1 to 300 nm in consideration of the adhesion to the overcoat layer 16 and the metal layer 14 and the transparency of the layer, and the like. , A vacuum evaporation method, an electron gun evaporation method (ED evaporation method) and the like.
【００４３】オーバーコート層１６は、光源２から発生
する熱に耐える無機物を用いて、中間層１５の表面に形
成した層であり、その厚みとしては、０．５〜３μｍ程
度が好ましい。なお、オーバーコート層１６を、二酸化
ケイ素又はＤＬＣ（DiamondLike Carbon）で形成した場
合、これらは特に耐熱性や透明性が優れているため、特
に反射率が優れた反射鏡となり好ましい。このオーバー
コート層１６の形成方法しては、高密度プラズマＣＶＤ
法や、高密度イオンプレーティング法等が挙げられる。The overcoat layer 16 is a layer formed on the surface of the intermediate layer 15 using an inorganic material that can withstand the heat generated from the light source 2, and preferably has a thickness of about 0.5 to 3 μm. In the case where the overcoat layer 16 is formed of silicon dioxide or DLC (Diamond Like Carbon), these are particularly excellent in heat resistance and transparency, and thus are preferable as a reflecting mirror having particularly excellent reflectance. As a method for forming the overcoat layer 16, high-density plasma CVD
And a high-density ion plating method.
【００４４】［本発明の請求項４に係る反射鏡］本発明
の請求項４に係る反射鏡の一実施の形態は、図２に示す
ような、反射鏡１の光源２側の面に、光を反射するため
の反射膜が設けられた照明器具３用の反射鏡１である。
この反射膜は、図３に示すように、基材１０の側から、
アンダーコート層１２、金属層１４、オーバーコート層
１６の３層構造となっている。[Reflecting Mirror According to Claim 4 of the Present Invention] One embodiment of the reflecting mirror according to claim 4 of the present invention is as follows: As shown in FIG. This is a reflecting mirror 1 for a lighting fixture 3 provided with a reflecting film for reflecting light.
As shown in FIG. 3, the reflective film is
It has a three-layer structure of an undercoat layer 12, a metal layer 14, and an overcoat layer 16.
【００４５】基材１０、アンダーコート層１２及び金属
層１４は、本発明の請求項１に係る反射鏡の場合と同様
の物、厚み、形成方法等が挙げられる。また、本発明の
請求項１に係る反射鏡の場合と同様に、アンダーコート
層１２は、必ず形成することに限定するものではなく、
又、金属層１４が、銀又は銀合金の金属層１４である場
合、特に金属層１４が変色しにくく、特に反射率が優れ
た反射鏡となる。The substrate 10, the undercoat layer 12, and the metal layer 14 may have the same material, thickness, and forming method as those of the reflector according to the first aspect of the present invention. Further, as in the case of the reflector according to claim 1 of the present invention, the undercoat layer 12 is not limited to being formed without fail.
Further, when the metal layer 14 is a silver or silver alloy metal layer 14, the metal layer 14 is particularly resistant to discoloration, resulting in a reflector having particularly excellent reflectance.
【００４６】オーバーコート層１６は、イットリウム、
マグネシウム及びアルミニウムからなる群の中から選ば
れた少なくとも１種の元素を含有する金属酸化物若しく
は窒化物、又はＤＬＣ（以下、これらを合わせて特定無
機物Ｂと記す）よりなる層である。The overcoat layer 16 is made of yttrium,
It is a layer made of a metal oxide or nitride containing at least one element selected from the group consisting of magnesium and aluminum, or DLC (hereinafter, these are collectively referred to as a specific inorganic substance B).
【００４７】この特定無機物Ｂは、ガスバリア性に優れ
ると共に、耐食性、耐候性、耐熱性に優れ、且つ、透明
性を有する無機物であるため、この特定無機物Ｂで金属
層１４の表面を覆った場合、金属層１４の変色を防いで
高い反射率を維持することができ、金属層１４が変色し
にくく、反射率が優れた反射鏡となる。Since the specific inorganic substance B is excellent in gas barrier properties, excellent in corrosion resistance, weather resistance and heat resistance and is transparent, the specific inorganic substance B covers the surface of the metal layer 14 with the specific inorganic substance B. In addition, a high reflectance can be maintained by preventing the metal layer 14 from being discolored, and the metal layer 14 is hardly discolored, so that the reflection mirror has an excellent reflectance.
【００４８】このオーバーコート層１６の厚みとして
は、反射率や防食性等より、０．５〜３μｍ程度が好ま
しく、また、このオーバーコート層１６の形成方法とし
ては、高密度プラズマイオンプレーティング法や、高密
度プラズマＣＶＤ法や、高密度イオンプレーティング法
等が挙げられる。The thickness of the overcoat layer 16 is preferably about 0.5 to 3 μm from the viewpoint of reflectance and anticorrosion, and the like. The overcoat layer 16 is formed by a high-density plasma ion plating method. And a high-density plasma CVD method and a high-density ion plating method.
【００４９】なお、特定無機物Ｂのうち、酸化マグネシ
ウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン
酸マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウ
ム・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ば
れた少なくとも１種の無機物でオーバーコート層１６を
形成した場合、これらは特にガスバリア性等が優れた無
機物であるため、特に反射率が優れた反射鏡となり好ま
しい。Of the specific inorganic substance B, at least one inorganic substance selected from the group consisting of magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet is overcoated. In the case where the layer 16 is formed, these are inorganic substances having particularly excellent gas barrier properties and the like, so that a reflection mirror having particularly excellent reflectance is preferable.
【００５０】なお、図１に示すように、金属層１４とオ
ーバーコート層１６との間に介在するように中間層１５
を形成すると、特に金属層が変色しにくく、特に反射率
が優れた反射鏡となり好ましい。As shown in FIG. 1, the intermediate layer 15 is interposed between the metal layer 14 and the overcoat layer 16.
Is formed, it is particularly preferable that the metal layer hardly discolors and becomes a reflecting mirror having particularly excellent reflectance.
【００５１】また、中間層１５が、ＤＬＣ、フッ化マグ
ネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシ
ウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミ
ニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なく
とも１種の無機物の層であると、金属層が確実に変色し
にくく、反射率が確実に優れた反射鏡となり好ましいも
のである。The intermediate layer 15 is selected from the group consisting of DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet. When the layer is at least one kind of inorganic substance, the metal layer is not easily discolored, and the reflection mirror is surely excellent in reflectance, which is preferable.
【００５２】そして、中間層１５が、マグネシウム元
素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方
もしくは両者を含有するものであると、金属層がより一
層確実に変色しにくく、反射率がより一層確実に優れた
反射鏡となり好ましいものである。When the intermediate layer 15 contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element, the metal layer hardly discolors more reliably and the reflectivity is further improved. It is surely an excellent reflecting mirror, which is preferable.
【００５３】[0053]
【実施例】以下、本発明の実施例および比較例を詳しく
説明する。EXAMPLES Examples of the present invention and comparative examples will be described in detail below.
【００５４】（実施例１）アルミニウム板をパラボラ状
に絞り加工して形成した基材の表面に、熱硬化シリコン
変性アクリル樹脂組成物［大日本インキ化学工業社製、
品番ＨＣ６２０８Ｋ］を用いてスプレー塗装した後、１
５０℃で４５分加熱して、厚み７μｍのアンダーコート
層を形成した。次いで、そのアンダーコート層の表面
に、スパッタリング法により銀の金属層を１５０ｎｍ形
成した。(Example 1) A thermosetting silicone-modified acrylic resin composition [Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.
Part number HC6208K]
Heating was performed at 50 ° C. for 45 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 7 μm. Next, a 150 nm-thick silver metal layer was formed on the surface of the undercoat layer by a sputtering method.
【００５５】次いで、その金属層の表面に、真空蒸着法
によりフッ化マグネシウムの層（中間層）を１００ｎｍ
形成した後、その中間層の表面に、２．５４ＧＨｚのマ
イクロ波プラズマＣＶＤ法により、二酸化ケイ素の層
（オーバーコート層）を１μｍ成して反射鏡を得た。Next, a layer (intermediate layer) of magnesium fluoride was formed on the surface of the metal layer by vacuum evaporation to a thickness of 100 nm.
After the formation, a silicon dioxide layer (overcoat layer) of 1 μm was formed on the surface of the intermediate layer by microwave plasma CVD at 2.54 GHz to obtain a reflecting mirror.
【００５６】（実施例２）中間層として、アルミン酸マ
グネシウムの層をスパッタリング法により１５０ｎｍ形
成したこと、及び、オーバーコート層を厚み１．３μｍ
形成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得
た。(Example 2) As an intermediate layer, a layer of magnesium aluminate was formed to a thickness of 150 nm by a sputtering method, and an overcoat layer was formed to a thickness of 1.3 µm.
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mirror was formed.
【００５７】（実施例３）中間層として、酸化イットリ
ウムの層を電子銃蒸着法により５０ｎｍ形成したこと、
及び、オーバーコート層として、ＤＬＣの層を高密度プ
ラズマＣＶＤ法により１μｍ形成したこと以外は実施例
１と同様にして反射鏡を得た。(Example 3) As an intermediate layer, a layer of yttrium oxide was formed to a thickness of 50 nm by an electron gun evaporation method.
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that a DLC layer was formed as a 1 μm layer by a high-density plasma CVD method as an overcoat layer.
【００５８】（実施例４）アンダーコート層として、Ｄ
ＬＣの層を高周波プラズマＣＶＤ法により８００ｎｍ形
成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得た。Example 4 As an undercoat layer, D
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1, except that the LC layer was formed to a thickness of 800 nm by a high-frequency plasma CVD method.
【００５９】（実施例５）アンダーコート層として、Ｄ
ＬＣの層を高周波プラズマＣＶＤ法により８００ｎｍ形
成したこと、及び、中間層として、酸化アルミニウムの
層を電子銃蒸着法により５０ｎｍ形成したこと、及び、
オーバーコート層として、ＤＬＣの層を高密度プラズマ
ＣＶＤ法により１μｍ形成したこと以外は実施例１と同
様にして反射鏡を得た。(Example 5) As an undercoat layer, D
That the LC layer was formed to 800 nm by a high frequency plasma CVD method, and that an aluminum oxide layer was formed to 50 nm as an intermediate layer by an electron gun evaporation method, and
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that a DLC layer was formed as a 1 μm layer by a high-density plasma CVD method as an overcoat layer.
【００６０】（実施例６）基材として、ポリエーテルイ
ミド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品名ウルテム
１０００−１０００］をパラボラ状に射出成形して形成
したものを用いたこと、及び、中間層として、酸化マグ
ネシウムの層を電子銃蒸着法により５０ｎｍ形成したこ
と以外は実施例１と同様にして反射鏡を得た。(Example 6) As a substrate, a polyetherimide resin (trade name: ULTEM 1000-1000, manufactured by GE Plastics Japan) was used by injection molding in a parabolic shape, and an intermediate layer was used. A mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that a layer of magnesium oxide was formed to a thickness of 50 nm by an electron gun evaporation method.
【００６１】（実施例７）基材として、ポリエーテルイ
ミド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品名ウルテム
１０００−１０００］をパラボラ状に射出成形して形成
したものを用いたこと、及び、アンダーコート層を形成
せずに、基材の表面に直接金属層を形成したこと、及
び、中間層として、イットリウム・アルミニウム・ガー
ネット（ＹＡＧ）の層を真空蒸着法により８０ｎｍ形成
したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得た。Example 7 As a substrate, a polyether imide resin (trade name: Ultem 1000-1000, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) formed by injection molding in a parabolic shape was used. Example 1 Except that a metal layer was formed directly on the surface of a substrate without forming a layer, and that a layer of yttrium aluminum garnet (YAG) was formed as an intermediate layer by a vacuum deposition method to a thickness of 80 nm. A reflector was obtained in the same manner as described above.
【００６２】（実施例８）基材として、ポリエーテルエ
ーテルケトン樹脂［住友化学工業社製、商品名ＶＩＣＴ
ＲＥＸ４５０Ｇ］をパラボラ状に射出成形して形成した
ものを用いたこと、及び、中間層として、酸化アルミニ
ウムの層を電子銃蒸着法により５０ｎｍ形成したこと、
及び、オーバーコート層として、ＤＬＣの層を高密度プ
ラズマＣＶＤにより１μｍ形成したこと以外は実施例１
と同様にして反射鏡を得た。Example 8 As a substrate, a polyetheretherketone resin [VICT, trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.]
REX450G] by injection molding into a parabolic shape, and that an aluminum oxide layer was formed to a thickness of 50 nm by an electron gun evaporation method as an intermediate layer.
Example 1 except that a DLC layer was formed as a 1 μm layer by high-density plasma CVD as an overcoat layer.
A reflector was obtained in the same manner as described above.
【００６３】（実施例９）基材として、ポリエーテルエ
ーテルケトン樹脂［住友化学工業社製、商品名ＶＩＣＴ
ＲＥＸ４５０Ｇ］をパラボラ状に射出成形して形成した
ものを用いたこと、及び、中間層として、窒化アルミニ
ウムの層を反応性スパッタリング法により５０ｎｍ形成
したこと、及び、オーバーコート層として、窒化酸化ア
ルミニウムの層を反応性スパッタリング法により１μｍ
形成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得
た。Example 9 As a substrate, a polyether ether ketone resin [VICT, trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.]
REX450G] was formed by injection molding in a parabolic shape, an aluminum nitride layer was formed as an intermediate layer by 50 nm by a reactive sputtering method, and an aluminum nitride oxide was formed as an overcoat layer. 1 μm layer by reactive sputtering
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mirror was formed.
【００６４】（実施例１０）基材として、ポリフェニレ
ンサルファイド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品
名スーペック］をパラボラ状に射出成形して形成したも
のを用いたこと、及び、中間層として、窒化酸化アルミ
ニウムの層を電子銃蒸着法により１００ｎｍ形成したこ
と以外は実施例１と同様にして反射鏡を得た。Example 10 A substrate formed by injection molding a polyphenylene sulfide resin (trade name: SPEC, manufactured by GE Plastics Japan) in a parabolic shape was used as a base material. A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that an aluminum layer was formed to a thickness of 100 nm by an electron gun evaporation method.
【００６５】（比較例１）中間層を形成せずに、金属層
の表面に直接オーバーコート層を形成したこと以外は実
施例１と同様にして反射鏡を得た。Comparative Example 1 A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the overcoat layer was formed directly on the surface of the metal layer without forming the intermediate layer.
【００６６】（比較例２）基材として、ポリフェニレン
オキサイド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品名ノ
リル］をパラボラ状に射出成形して形成したものを用い
たこと、及び、アンダーコート層として、熱硬化ウレタ
ン系樹脂組成物［藤倉化成社製、品番ＥＸＰ１４４０Ａ
／Ｂ／Ｃ］を用いてスプレー塗装した後、１４０℃で６
０分加熱して、厚み１３μｍのアンダーコート層を形成
したこと、及び、中間層を形成せずに、金属層の表面に
直接オーバーコート層を形成したこと、及び、オーバー
コート層として、常温硬化シリコン変性アクリル樹脂組
成物［大日本インキ化学工業社製、品番ＨＣ５８００／
ＨＣ５８００Ｃ］を用いてスプレー塗装した後、９０℃
で３０分加熱して、厚み１１μｍのオーバーコート層を
形成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得
た。(Comparative Example 2) A substrate formed by injection molding a polyphenylene oxide resin (trade name: Noryl, manufactured by GE Plastics Japan) in a parabolic shape was used as a base material. Cured urethane resin composition [Fujikura Kasei Co., Ltd., part number EXP1440A
/ B / C] at 140 ° C.
Heating for 0 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 13 μm, and forming an overcoat layer directly on the surface of the metal layer without forming an intermediate layer, and curing at room temperature as the overcoat layer Silicon-modified acrylic resin composition [Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd., product number HC5800 /
HC5800C], and then spray coated at 90 ° C.
For 30 minutes to form a 11 μm-thick overcoat layer, thereby obtaining a reflecting mirror in the same manner as in Example 1.
【００６７】（比較例３）基材として、ポリフェニレン
オキサイド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品名ノ
リル］をパラボラ状に射出成形して形成したものを用い
たこと、及び、アンダーコート層として、ポリブタジエ
ン系樹脂組成物［藤倉化成社製、品番ＶＢ９４５３Ｌ］
を用いてスプレー塗装した後、１２０℃で６０分加熱し
て、厚み１３μｍのアンダーコート層を形成したこと、
及び、中間層を形成せずに、金属層の表面に直接オーバ
ーコート層を形成したこと、及び、オーバーコート層と
して、常温硬化アクリル樹脂組成物［藤倉化成社製、品
番ＶＴ８０５２Ｌ］を用いてスプレー塗装した後、８０
℃で６０分加熱して、厚み１５μｍのオーバーコート層
を形成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得
た。(Comparative Example 3) A substrate formed by injection molding a polyphenylene oxide resin (trade name: Noryl, manufactured by GE Plastics Japan Co., Ltd.) into a parabolic shape was used as a base material. Polybutadiene was used as an undercoat layer. Resin composition [Fujikura Kasei Co., Ltd., product number VB9453L]
After being spray-painted using, heating at 120 ° C. for 60 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 13 μm,
And forming an overcoat layer directly on the surface of the metal layer without forming an intermediate layer, and spraying the overcoat layer using a room-temperature-curable acrylic resin composition [Fujikura Kasei Co., Ltd., product number VT8052L]. 80 after painting
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating was heated at 60 ° C. for 60 minutes to form an overcoat layer having a thickness of 15 μm.
【００６８】（比較例４）基材として、ポリブチレンテ
レフタレート樹脂［東レ社製、品番１４０１−Ｘ０６］
をパラボラ状に射出成形して形成したものを用いたこ
と、及び、アンダーコート層として、ウレタン系樹脂組
成物［東洋工業塗料社製、品番ＵＰＨ］を用いてスプレ
ー塗装した後、１２０℃で９０分加熱して、厚み１３μ
ｍのアンダーコート層を形成したこと、及び、中間層を
形成せずに、金属層の表面に直接オーバーコート層を形
成したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化
シリコン変性アクリル樹脂組成物［東洋工業塗料社製、
品番ＲＴ−１３０］を用いてスプレー塗装した後、７０
℃で６０分加熱して、厚み１１μｍのオーバーコート層
を形成したこと以外は実施例１と同様にして反射鏡を得
た。(Comparative Example 4) Polybutylene terephthalate resin [manufactured by Toray, part number 1401-X06] was used as a base material.
Was spray-formed using a urethane-based resin composition [manufactured by Toyo Kogyo Co., Ltd., part number UPH] as an undercoat layer. Heat for 13 minutes, thickness 13μ
m, an undercoat layer was formed, and an overcoat layer was formed directly on the surface of the metal layer without forming an intermediate layer. Toyo Kogyo Co., Ltd.
Part number RT-130]
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating was heated at 60 ° C. for 60 minutes to form an overcoat layer having a thickness of 11 μm.
【００６９】（実施例１１）アルミニウム板をパラボラ
状に絞り加工して形成した基材の表面に、熱硬化シリコ
ン変性アクリル樹脂組成物［大日本インキ化学工業社
製、品番ＨＣ６２０８Ｋ］を用いてスプレー塗装した
後、１５０℃で６０分加熱して、厚み７μｍのアンダー
コート層を形成した。次いで、そのアンダーコート層の
表面に、スパッタリング法により銀の金属層を１５０ｎ
ｍ形成した。次いで、その金属層の表面に、高密度プラ
ズマイオンプレーティング法により、厚み１μｍのイッ
トリウム・アルミニウム・ガーネット（ＹＡＧ）の層
（オーバーコート層）を形成して反射鏡を得た。Example 11 A thermosetting silicone-modified acrylic resin composition [Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd., product number HC6208K] was sprayed on the surface of a substrate formed by drawing an aluminum plate into a parabolic shape. After coating, the coating was heated at 150 ° C. for 60 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 7 μm. Next, a 150-nm silver metal layer was formed on the surface of the undercoat layer by a sputtering method.
m was formed. Next, a layer (overcoat layer) of yttrium aluminum garnet (YAG) having a thickness of 1 μm was formed on the surface of the metal layer by high-density plasma ion plating to obtain a reflecting mirror.
【００７０】（実施例１２）アンダーコート層を形成せ
ずに、基材の表面に直接金属層を形成したこと、及び、
オーバーコート層として、酸化イットリウムの層を高密
度プラズマイオンプレーティング法により１μｍ形成し
たこと以外は実施例１１と同様にして反射鏡を得た。Example 12 A metal layer was formed directly on the surface of a substrate without forming an undercoat layer.
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 11, except that a layer of yttrium oxide was formed as an overcoat layer to a thickness of 1 μm by a high-density plasma ion plating method.
【００７１】（実施例１３）基材として、ポリエーテル
エーテルケトン樹脂［住友化学工業社製、商品名ＶＩＣ
ＴＲＥＸ４５０Ｇ］をパラボラ状に射出成形して形成し
たものを用いたこと、及び、アンダーコート層の表面
に、中間層として、窒化アルミニウムの層を反応性スパ
ッタリング法により５０ｎｍ形成したこと、及び、オー
バーコート層として、窒化酸化アルミニウムの層を反応
性スパッタリング法により１μｍ形成したこと以外は実
施例１１と同様にして反射鏡を得た。Example 13 As a substrate, a polyetheretherketone resin [VIC, trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.]
TREX450G] was formed by injection molding in the form of a parabola, and an aluminum nitride layer was formed on the surface of the undercoat layer as an intermediate layer by a reactive sputtering method to a thickness of 50 nm. A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 11, except that a layer of aluminum nitride oxide was formed to a thickness of 1 μm by a reactive sputtering method.
【００７２】（実施例１４）アルミニウム板をパラボラ
状に絞り加工して形成した基材の表面に、アンダーコー
ト層として、窒化酸化アルミニウムの層を反応性スパッ
タリング法により０．５μｍ形成した。次いで、そのア
ンダーコート層の表面に、スパッタリング法により銀の
金属層を１８０ｎｍ形成した。Example 14 An aluminum nitride oxide layer having a thickness of 0.5 μm was formed as an undercoat layer by reactive sputtering on the surface of a substrate formed by drawing an aluminum plate in a parabolic shape. Next, a 180-nm silver metal layer was formed on the surface of the undercoat layer by a sputtering method.
【００７３】次いで、その金属層の表面に、中間層とし
て、アルミン酸マグネシウムの層をスパッタリング法に
より１５０ｎｍ形成した後、その中間層の表面に、オー
バーコート層として、２．５４ＧＨｚのマイクロ波プラ
ズマＣＶＤ法により、二酸化ケイ素の層を１．３μｍ形
成して反射鏡を得た。Next, a magnesium aluminate layer was formed as an intermediate layer on the surface of the metal layer by sputtering at a thickness of 150 nm, and then a 2.54 GHz microwave plasma CVD as an overcoat layer was formed on the surface of the intermediate layer. By a method, a silicon dioxide layer was formed to have a thickness of 1.3 μm to obtain a reflecting mirror.
【００７４】（実施例１５）基材として、ポリフェニレ
ンサルファイド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品
名スーペック］をパラボラ状に射出成形して形成したも
のを用いたこと、アンダーコート層として、窒化チタン
の層を電子銃蒸着法により０．７μｍ形成したこと、お
よび、中間層として、窒化酸化アルミニウムの層を電子
銃蒸着法により２００ｎｍ形成したこと以外は実施例１
４と同様にして反射鏡を得た。(Example 15) A substrate formed by injection molding a polyphenylene sulfide resin (trade name: SPEC, manufactured by GE Plastics Japan) in a parabolic shape was used as a base material. Example 1 except that the layer was formed with a thickness of 0.7 μm by an electron gun vapor deposition method, and that a layer of aluminum nitride oxide was formed as an intermediate layer to a thickness of 200 nm by an electron gun vapor deposition method.
A reflector was obtained in the same manner as in No. 4.
【００７５】（実施例１６）アンダーコート層として、
窒化アルミニウムの層を反応性スパッタリング法により
０．５μｍ形成したこと、中間層として、イットリウム
・アルミニウム・ガーネット（ＹＡＧ）の層を真空蒸着
法により８０ｎｍ形成したこと、および、オーバーコー
ト層として、ＤＬＣの層を高密度プラズマＣＶＤ法によ
り１μｍ形成したこと以外は実施例１４と同様にして反
射鏡を得た。(Example 16) As an undercoat layer,
A layer of aluminum nitride was formed to 0.5 μm by a reactive sputtering method, a layer of yttrium aluminum garnet (YAG) was formed to a thickness of 80 nm by a vacuum evaporation method as an intermediate layer, and a layer of DLC was formed as an overcoat layer. A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 14 except that the layer was formed to 1 μm by high-density plasma CVD.
【００７６】（実施例１７）基材として、ポリエーテル
イミド樹脂［日本ＧＥプラスチック社製、商品名ウルテ
ム１０００−１０００］をパラボラ状に射出成形して形
成したものを用いたこと、アンダーコート層として、窒
化ケイ素の層を反応性スパッタリング法により０．５μ
ｍ形成したこと、および、中間層として、酸化イットリ
ウムの層を電子銃蒸着法により５０ｎｍ形成したこと以
外は実施例１４と同様にして反射鏡を得た。Example 17 As a substrate, a polyetherimide resin (trade name: ULTEM 1000-1000, manufactured by GE Plastics Japan) was used by injection molding in a parabolic shape. , 0.5 μm of silicon nitride layer by reactive sputtering
A reflecting mirror was obtained in the same manner as in Example 14, except that m was formed, and that a layer of yttrium oxide was formed as an intermediate layer to a thickness of 50 nm by an electron gun evaporation method.
【００７７】（実施例１８）アンダーコート層として、
酸化イットリウムの層を高密度プラズマイオンプレーテ
ィング法により厚み１μｍ形成したこと、中間層を形成
しなかったこと、および、オーバーコート層として、酸
化イットリウムの層を高密度プラズマイオンプレーティ
ング法により厚み１μｍ形成したこと以外は実施例１４
と同様にして反射鏡を得た。(Example 18) As an undercoat layer,
The layer of yttrium oxide was formed to a thickness of 1 μm by high-density plasma ion plating, the intermediate layer was not formed, and the layer of yttrium oxide was formed to a thickness of 1 μm by high-density plasma ion plating as an overcoat layer. Example 14 except that it was formed
A reflector was obtained in the same manner as described above.
【００７８】（比較例５）アンダーコート層として、ポ
リブタジエン系樹脂組成物［藤倉化成社製、品番ＶＢ９
４５３Ｌ］を用いてスプレー塗装した後、１２０℃で６
０分加熱して、厚み１３μｍのアンダーコート層を形成
したこと、及び、オーバーコート層として、常温硬化シ
リコン変性アクリル樹脂組成物［大日本インキ化学工業
社製、品番ＨＣ５８００／ＨＣ５８００Ｃ］を用いてス
プレー塗装した後、９０℃で３０分加熱して、厚み１１
μｍのオーバーコート層を形成したこと以外は実施例１
１と同様にして反射鏡を得た。(Comparative Example 5) As an undercoat layer, a polybutadiene resin composition [manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., product number VB9
453L], and then spray coated at 120 ° C for 6 hours.
Heating for 0 minute to form an undercoat layer having a thickness of 13 μm, and spraying as an overcoat layer using a room-temperature-cured silicone-modified acrylic resin composition [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, product numbers HC5800 / HC5800C] After painting, heat at 90 ° C for 30 minutes to obtain a thickness of 11
Example 1 except that a μm overcoat layer was formed.
A reflector was obtained in the same manner as in Example 1.
【００７９】（比較例６）アンダーコート層として、ウ
レタン系樹脂組成物［東洋工業塗料社製、品番ＵＰＨ］
を用いてスプレー塗装した後、１２０℃で９０分加熱し
て、厚み１３μｍのアンダーコート層を形成したこと、
及び、オーバーコート層として、常温硬化シリコン変性
アクリル樹脂組成物［東洋工業塗料社製、品番ＲＴ−１
３０］を用いてスプレー塗装した後、７０℃で６０分加
熱して、厚み１１μｍのオーバーコート層を形成したこ
と以外は実施例１１と同様にして反射鏡を得た。(Comparative Example 6) As an undercoat layer, a urethane resin composition [manufactured by Toyo Kogyo Co., Ltd., part number UPH]
After spray-coating using, heated at 120 ℃ 90 minutes to form a 13μm thick undercoat layer,
And, as the overcoat layer, a room-temperature-cured silicone-modified acrylic resin composition [Toyo Kogyo Co., Ltd., product number RT-1
30], and heated at 70 ° C. for 60 minutes to obtain a reflecting mirror in the same manner as in Example 11, except that an overcoat layer having a thickness of 11 μm was formed.
【００８０】（評価、結果）各実施例及び各比較例で得
られた反射鏡の、金属層の変色性及び反射率の評価とし
て、耐硫化水素性試験と耐湿性試験と耐熱性試験を行っ
た。(Evaluation and Results) As the evaluation of the discoloration property and the reflectance of the metal layer of the reflector obtained in each of the examples and comparative examples, a hydrogen sulfide resistance test, a moisture resistance test and a heat resistance test were performed. Was.
【００８１】耐硫化水素性試験は、波長５５５ｎｍの反
射率を自記分光光度計（日立製作所社製、商品名Ｕ−４
０００）を用いて測定して、初期状態の反射率を求めた
後、硫化水素ガス濃度が２０ｐｐｍ、温度が２５℃に調
整されたデシケーター中に反射鏡を２４時間放置し、次
いで取り出した後、波長５５５ｎｍの反射率を同様に測
定した。そして、初期状態の反射率に対する処理後の反
射率の低下比率を求め、その低下が３％未満であり、変
色が認められなかった場合を◎、反射率の低下が３％を
越え１０％未満であり、変色が若干認められた場合を
○、反射率の低下が１０％を越え２０％未満であり、変
色が認められた場合を△、反射率の低下が２０％を越
え、変色が著しい場合を×とした。In the hydrogen sulfide resistance test, the reflectance at a wavelength of 555 nm was measured using a self-recording spectrophotometer (trade name U-4, manufactured by Hitachi, Ltd.).
000) to determine the reflectance in the initial state, then leave the reflector in a desiccator in which the concentration of hydrogen sulfide gas was adjusted to 20 ppm and the temperature was adjusted to 25 ° C. for 24 hours, and after taking out the mirror, The reflectance at a wavelength of 555 nm was measured in the same manner. Then, the reduction ratio of the reflectance after the treatment to the reflectance in the initial state was determined, and the reduction was less than 3%, and when no discoloration was observed, ◎: The reduction in the reflectance was more than 3% and less than 10% When the discoloration was slightly observed, ○ was observed, the decrease in reflectance was more than 10% and less than 20%, and when the discoloration was observed, Δ was observed. The decrease in reflectance exceeded 20% and the discoloration was remarkable. The case was evaluated as x.
【００８２】耐湿性試験は、耐硫化水素性試験と同様に
して初期状態の反射率を求めた後、ＭＩＬ規格ＳＴＤ
２０２Ｄに準拠して、１０６℃で２４時間サイクル試験
を７サイクル行い、次いで、耐硫化水素性試験の場合と
同様に波長５５５ｎｍの反射率を測定して、◎、○、
△、×の判定を行った。In the moisture resistance test, the reflectance in the initial state was determined in the same manner as in the hydrogen sulfide resistance test, and then the MIL standard STD
According to 202D, 7 cycles of a 24-hour cycle test were performed at 106 ° C., and then the reflectance at a wavelength of 555 nm was measured in the same manner as in the hydrogen sulfide resistance test.
The determinations of Δ and X were made.
【００８３】耐熱性試験は、耐硫化水素性試験と同様に
して初期状態の反射率を求めた後、温度が１６０℃に調
整された恒温槽に反射鏡を１６８時間放置し、次いで、
耐硫化水素性試験の場合と同様に波長５５５ｎｍの反射
率を測定して、◎、○、△、×の判定を行った。In the heat resistance test, after the reflectance in the initial state was determined in the same manner as in the hydrogen sulfide resistance test, the reflecting mirror was left in a thermostat adjusted to a temperature of 160 ° C. for 168 hours.
The reflectance at a wavelength of 555 nm was measured in the same manner as in the hydrogen sulfide resistance test, and judgments of ◎, △, Δ, and × were made.
【００８４】その結果は、表に示すように、実施例１〜
１０で得られた反射鏡は、比較例１〜４で得られた反射
鏡と比べ、又、実施例１１〜１８で得られた反射鏡は、
比較例５，６で得られた反射鏡と比べて、金属層が変色
しにくく、反射率が低下しにくいことが確認された。As shown in the table, the results are shown in Examples 1 to 3.
The reflecting mirror obtained in 10 is compared with the reflecting mirror obtained in Comparative Examples 1 to 4, and the reflecting mirror obtained in Examples 11 to 18 is
It was confirmed that the metal layer was less likely to be discolored and the reflectance was less likely to be lower than those of the reflectors obtained in Comparative Examples 5 and 6.
【００８５】[0085]
【表１】 [Table 1]
【００８６】[0086]
【発明の効果】本発明の請求項１に係る反射鏡は、オー
バーコート層が、上記特定無機物Ａの層を介して、金属
層の表面に形成されているため、金属層が変色しにく
く、反射率が優れた反射鏡となる。According to the reflector of the first aspect of the present invention, since the overcoat layer is formed on the surface of the metal layer via the layer of the specific inorganic substance A, the metal layer hardly discolors. It becomes a reflector with excellent reflectivity.
【００８７】本発明の請求項２に係る反射鏡は、特に金
属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。The reflecting mirror according to the second aspect of the present invention is a reflecting mirror having excellent reflectivity, in particular, in which the metal layer hardly discolors.
【００８８】本発明の請求項３に係る反射鏡は、上記の
効果に加え、鏡面性と密着性に優れた金属層が形成され
た反射鏡となる。The reflecting mirror according to claim 3 of the present invention is a reflecting mirror on which a metal layer having excellent specularity and adhesion is formed in addition to the above effects.
【００８９】本発明の請求項４に係る反射鏡は、オーバ
ーコート層が、上記特定無機物Ｂの層であるため、金属
層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。In the reflector according to claim 4 of the present invention, since the overcoat layer is a layer of the specific inorganic substance B, the metal layer is hardly discolored and the reflectance is excellent.
【００９０】本発明の請求項５に係る反射鏡は、特に金
属層が変色しにくく、反射率が優れた反射鏡となる。The reflecting mirror according to claim 5 of the present invention is a reflecting mirror having excellent reflectivity, in particular, in which the metal layer hardly discolors.
【００９１】本発明の請求項６ないし請求項１３に係る
反射鏡は、上記記載のものに加えて、金属層がより一層
確実に変色しにくくなり、反射率がより一層確実に優れ
た反射鏡となる。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a reflector according to the sixth aspect, wherein the metal layer is more resistant to discoloration and the reflectivity is more reliably improved. Becomes
【図１】本発明の請求項１に係る反射鏡の一実施の形態
を説明する、破断して示した図である。FIG. 1 is an exploded view for explaining an embodiment of a reflecting mirror according to claim 1 of the present invention.
【図２】本発明の請求項１に係る反射鏡の一実施の形態
を説明する、破断して示した図である。FIG. 2 is an exploded view for explaining an embodiment of the reflecting mirror according to claim 1 of the present invention.
【図３】本発明の請求項４に係る反射鏡の一実施の形
態、及び従来の反射鏡を説明する破断して示した図であ
る。FIG. 3 is an exploded view illustrating an embodiment of a reflecting mirror according to claim 4 of the present invention and a conventional reflecting mirror.
１ 反射鏡 ２ 光源 １０ 基材 １２ アンダーコート層 １４ 金属層 １５ 中間層 １６ オーバーコート層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reflector 2 Light source 10 Substrate 12 Undercoat layer 14 Metal layer 15 Intermediate layer 16 Overcoat layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 加津己 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA10 DA11 DA12 DA15 DA18 DB06 DC02 DC03 DC04 DE04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazumi Watanabe 1048 Kadoma Kadoma, Osaka Pref. Matsushita Electric Works Co., Ltd. F-term (reference)
Claims (13)
属層の表面に無機系のオーバーコート層が形成されてな
る反射鏡において、オーバーコート層が、フッ化マグネ
シウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化ア
ルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウ
ム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニ
ウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくと
も１種の無機物の層を介して、金属層の表面に形成され
てなることを特徴とする反射鏡。1. A reflector comprising a metal layer formed on a surface of a base material and an inorganic overcoat layer formed on the surface of the metal layer, wherein the overcoat layer is made of magnesium fluoride, magnesium oxide, It is formed on the surface of the metal layer via at least one inorganic layer selected from the group consisting of aluminum, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide, and yttrium aluminum garnet. A reflecting mirror, characterized in that:
ＤＬＣの層であることを特徴とする請求項１記載の反射
鏡。2. The reflector according to claim 1, wherein the overcoat layer is a layer of silicon dioxide or DLC.
化マグネシウム、酸化チタン及び酸化アルミニウムから
なる群の中から選ばれた少なくとも１種の無機物の層を
介して、基材の表面に形成されてなることを特徴とする
請求項１又は請求項２記載の反射鏡。3. The method according to claim 1, wherein the metal layer is formed on the surface of the substrate via at least one inorganic layer selected from the group consisting of silicon dioxide, DLC, magnesium fluoride, titanium oxide and aluminum oxide. The reflecting mirror according to claim 1, wherein the reflecting mirror comprises:
属層の表面にオーバーコート層が形成されてなる反射鏡
において、オーバーコート層が、イットリウム、マグネ
シウム及びアルミニウムからなる群の中から選ばれた少
なくとも１種の元素を含有する金属酸化物若しくは窒化
物、又はＤＬＣの層であることを特徴とする反射鏡。4. A reflecting mirror in which a metal layer is formed on a surface of a base material and an overcoat layer is formed on the surface of the metal layer, wherein the overcoat layer is selected from the group consisting of yttrium, magnesium and aluminum. A reflecting mirror comprising a metal oxide or nitride containing at least one selected element, or a DLC layer.
ム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、アルミン酸
マグネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム
・アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれ
た少なくとも１種の無機物の層であることを特徴とする
請求項４記載の反射鏡。5. The overcoat layer is a layer of at least one inorganic substance selected from the group consisting of magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet. 5. The reflector according to claim 4, wherein:
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記
載の反射鏡。6. The reflecting mirror according to claim 1, wherein the metal layer is a metal layer of silver or a silver alloy.
層が介在するようにして形成されていることを特徴とす
る請求項１から請求項６のいずれかに記載の反射鏡。7. The reflector according to claim 1, wherein an intermediate layer is formed between the metal layer and the overcoat layer.
ム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミ
ニウム、酸化イットリウム、アルミン酸マグネシウム、
窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・アルミニウム
・ガーネットからなる群の中から選ばれた少なくとも１
種の無機物の層であることを特徴とする請求項７記載の
反射鏡。8. An intermediate layer comprising DLC, magnesium fluoride, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate,
At least one selected from the group consisting of aluminum nitride oxide and yttrium aluminum garnet
8. A reflector according to claim 7, wherein said reflector is a layer of an inorganic material.
ウム元素を含む酸化物または窒化物の一方もしくは両者
を含有するものであることを特徴とする請求項７または
請求項８記載の反射鏡。9. The reflecting mirror according to claim 7, wherein the intermediate layer contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element.
層が介在するようにして形成されていることを特徴とす
る請求項１から請求項９のいずれかに記載の反射鏡。10. The reflector according to claim 1, wherein an undercoat layer is formed between the base material and the metal layer.
ＤＬＣ、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化
ケイ素、窒化チタン、酸化イットリウム、アルミン酸マ
グネシウム、窒化酸化アルミニウム及びイットリウム・
アルミニウム・ガーネットからなる群の中から選ばれた
少なくとも１種の無機物の層であることを特徴とする請
求項１０記載の反射鏡。11. An undercoat layer comprising: silicon dioxide;
DLC, magnesium fluoride, titanium dioxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, yttrium oxide, magnesium aluminate, aluminum nitride oxide and yttrium
The reflector according to claim 10, wherein the reflector is at least one inorganic layer selected from the group consisting of aluminum and garnet.
素、アルミニウム元素を含む酸化物または窒化物の一方
もしくは両者を含有するものであることを特徴とする請
求項１０または請求項１１記載の反射鏡。12. The reflector according to claim 10, wherein the undercoat layer contains one or both of an oxide or a nitride containing a magnesium element and an aluminum element.
と金属層側付近とで変えていることを特徴とする請求項
１０から請求項１２のいずれかに記載の反射鏡。13. The reflector according to claim 10, wherein the composition of the undercoat layer is changed between the vicinity of the base material side and the vicinity of the metal layer side.
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