JP2000512045A - 半導体チップの支持部材の製造方法 - Google Patents
半導体チップの支持部材の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
チップ(23)を載せる基板(15)と、そのチップ(23)を載せる基板(15)の側面上にチップ(23)及びその接続導線(24)を収容する凹部(14)を有しその縁に箔(10)と一体に形成されている枠(12)が設けられているラミネートされた補強箔(10)を有する、特にチップカードに取り付けるための半導体チップ(23)用支持部材。
Description
【発明の詳細な説明】
半導体チップの支持部材の製造方法
最近のチップカードでは、半導体チップは大抵非導電性の可撓性基板で形成さ
れた支持部材によって通常プラスチックから成るカードに挿入される。支持部材
上には半導体チップばかりでなく読取り装置の半導体チップと接触させることの
できる接触面も配設されている。それには一般に表面をメッキされた銅箔が非導
電性基板上にラミネートされ、例えばエッチングにより構造化される。この非導
電性基板にはラミネートする前に孔がパンチされ、それらの孔を通してチップが
例えばワイヤボンディング法で導線により接触面と導電接続される。半導体チッ
プ及び導線は次に保護の作用をする注型コンパウンドにより覆われる。
チップカードは使用者により設定された一定の曲げ負荷に耐えることができな
ければならない。しかしチップがカードの材料よりも著しく脆いので、この場合
に生じる曲げ力をチップから遠ざけるようにしなければならない。これは特に約
10mm2以上の大きさのチップに当てはまる。これに対して欧州特許第048
4353号明細書から可撓性基板上にこの可撓性基板よりも著しく曲げ剛性の大
きい補強枠を設けることが知られている。
図4は欧州特許第0484353号明細書による実施形態を示すものである。
この非導電性の可撓性支持基板1には凹部2が設けられている。金属箔3はこの
基板1上に接着剤4によりラミネートされている。金属箔3は溝5により互いに
電気的に絶縁されている接触面として構造化されている。半導体チップ6は基板
1上に接着され、導線7により接触面3と電気的に接続されている。可撓性基板
1を補強するために補強リング8が基板1上に接着されている。補強リング8の
内側はチップ6と導線7を保護するために注型コンパウンド9で満たされている
。
補強リングを施すことは、比較的高い位置公差が設定され、更にそのために経
費を要する特別な工具を必要とすることから問題である。全体として極めて困難
かつ高出費の処理工程となる。更にこの公知の補強リングにより支持部材をカー
ドに接着するのに必要な面が制限される。
米国特許第5147982号明細書は、接触面を構成するパンチされた金属格
子上に一体に形成された補強及び保護枠を有するプラスチック箔がラミネートさ
れる支持部材を示している。
本発明の課題は、支持部材を簡単に製造する方法を提供することにある。
この課題は、請求項1に記載の支持部材の製造方法により解決される。有利な
実施態様は従属請求項に記載されている。
本発明方法は、支持基板又は公知の支持部材を製造する場合と同じ又は類似の
処理工程を行うことができる利点を有する。即ちパンチもしくはラミネート処理
工程が行われる。更に補強箔が支持部材と同じ外寸を有するので、ラミネートに
は接触面を形成する銅箔をラミネートするのと同じ機械を使用することができる
。
支持部材は一般に極めて長いテープに形成され、その際複数の支持部材を並列
させることも可能である。このテープはその縁部に穿孔を有し、それにより製造
機械に更に送ることができる。補強箔もこのような孔を有していれば可撓性支持
基板又は接触面箔と同様に搬送及び加工することができる。
凹部の深絞りにより比較的大きな応力が発生し、この応力がテープが巻き付け
られるリールの巻き上げ、巻き戻し及び巻き付けの際の機械的負荷により少なく
とも部分的に放出され、それにより枠の露出する上方範囲の材料を損傷する恐れ
がある。本発明の実施態様においてはテープ内の後にパンチにより形成される支
持部材の範囲近くに、スリットとして形成することのできる応力を軽減する破口
が備えられている。応力を軽減する破口の縁部にミクロ大の亀裂を生じかねない
切欠き効果を回避するために稜の推移部は有利に丸味をつけられている。応力を
軽減する裂口はテープからパンチされた後の支持部材にはもはや見ることはでき
ず、従って接触面の外観はそれにより損なわれることはない。枠内の角のない深
絞りによりテープ全体の可撓性を付加的に更に高めることができる。
深絞り及びパンチにより補強箔内の凹部の縁に沿って形成された枠が銅箔自体
と同じ厚さを有しているだけなので、この枠の外側の範囲には支持部材をカード
に固定することができる十分な接看材用の部位が残る。補強箔の厚さは所望の全
曲げ剛性並びに使用された箔の材料特性に応じて選択することができる。
槽状部材の底部を完全にパンチせずに、枠の縁に曲げ剛性を付加的に高めるウ
ェブを残すと特に有利である。
本発明を図面を用いて実施例に基づき以下に詳述する。その際
図1a〜1dは本発明による補強箔の製造処理工程並びに完成された箔の平面
図、
図2a〜2cは可撓性支持基板、補強箔並びに両部材の接合部、
図3は本発明による支持部材の断面、
図4は従来技術による支持部材、及び
図5は応力を軽減する破口を備えた補強枠
をそれぞれ示している。
図1aには適当な厚さに圧延された金属製の補強箔の断面が示されている。図
1bには深絞り工程により形成された槽状部材11が示されている。パンチ工程
で槽状部材11の底部が除去され、その結果槽状部材11の壁面のみが補強箔1
0と一体に接続されて、もとの槽状部材11により画成された箔の凹部の縁に沿
って延びる枠12として残っている。槽状部材11の底部全体をパンチせずに付
加的に曲げ剛性を高めるウェブ17(破線により示されている)を残すと有利で
ある。
図1dは長いテープとして形成されている本発明による補強箔10の平面を示
している。テープの両側の縁部に沿って歯車によりテープの搬送を可能にするた
めの穿孔13が施されている。箔10は枠12がその縁部に沿って延びる凹部1
4を有している。図1cを形成する切断面は破線により示されている。
図2bにはこの本発明による補強箔が再度示されている。図2aはプラスチッ
ク(現在通常はガラス繊維で補強されたエポキシ樹脂が使用される)から形成さ
れる可撓性支持基板15を示している。この支持基板15も長いテープとして形
成されており、その縁部に搬送及び更なる加工時の精確な位置決めのための穿孔
13を有する。この支持基板15はパンチ部16を有しており、その中に図示さ
れていない半導体チップが挿入され、パンチ部を通してこの半導体チップは支持
基板15の裏側で図示されていない接触面と電気的に接続可能である。最後に図
2cには支持基板15と接合された補強箔10が示されている。支持基板15の
パンチ部は補強箔10と一体に接続されている枠12の内側にあり、従って図示
されていない半導体チップは問題なく中心部の凹部に装入可能であり、周辺部の
凹部を通って支持基板15の裏側に設けられている図示しない接触面と接続可能
である。
図3はテープからパンチされた支持部材の断面を示している。この場合非導電
性の可撓性支持基板15はパンチにより形成された周辺部の凹部16のみを有し
ている。その裏側には接触面内に溝22により構造化されている金属箔20が接
着剤21によりラミネートされている。支持基板15上にはボンド線24により
支持基板15の凹部16を通して接触面20と接続されている半導体チップ23
が配設されている。半導体チップ23を載せる支持基板15の前面には本発明に
よる補強箔10が接着剤によりラミネートされている。補強箔10と一体に接続
されている枠12の内側範囲は半導体チップ23及びボンド線24を保護するた
めの注型コンパウンド25で満たされている。
図4との比較により判るように、本発明による支持部材の場合支持部材の縁の
範囲に支持部材をプラスチックカードに一層良く接着することができるようによ
り大きな面が残されている。
図5は後にパンチにより形成された支持部材の範囲19(破線により暗示され
ている)の外側にある本発明による補強箔内の応力を軽減するための破口18を
示している。
図3及び4は接触面を形成する金属箔20又は3を有する非導電性の支持基板
15又は1を示している。しかし原理的には同様に例えば金属製の導電性支持基
板を使用することも可能である。
更に同様に補強箔10の材料にプラスチックを選択することも考えられる。そ
の場合深絞り及びパンチ以外の製造方法も考えられる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),BR,CN,JP,K
R,MX,RU,UA,US
(72)発明者 ホウドー、デトレフ
ドイツ連邦共和国 デー―84085 ラング
クアイト ブルーメンシュトラーセ 28
(72)発明者 フィシャー、ユルゲン
ドイツ連邦共和国 デー―93180 ドイエ
ルリング アム ハスラッハ 17アー
(72)発明者 ハイツァー、ヨーゼフ
ドイツ連邦共和国 デー―93090 バッハ
アレーシュトラーセ 6
(72)発明者 グラーフ、ヘルムート
ドイツ連邦共和国 デー―93051 レーゲ
ンスブルク シュトレンヴェーク 2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 補強箔(10)に深絞りにより槽状部材(11)を形成し、 槽状部材(11)の底部をパンチし、チップ(23)及びその接続導線(24 )を収容する凹部を補強箔(10)から一体に形成された囲み枠(12)を有す るようにし、 補強箔(10)をチップ(23)を載せる基板(15)の側面上にラミネート する 工程を有する、特にチップカードに取り付けるための半導体チップ(23)用支 持部材の製造方法。 2. 基板(15)が非導電性箔であり、この箔上にチップ(23)に対向する 側面上の接触面内に構造化された導電性箔(20)をラミネートすることを特徴 とする請求項1記載の方法。 3. 基板(15)が金属箔であることを特徴とする請求項1記載の方法。 4. 補強箔(10)が金属製であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれ か1つに記載の方法。 5. 補強箔(10)がプラスチック製であることを特徴とする請求項1乃至3 のいずれか1つに記載の方法。 6. 基板(15)が非導電性箔であり、この箔上に補強箔(10)に対向する 側面上の接触面内に構造化された導電性箔(20)をラミネートすることを特徴 とする請求項1乃至5のいずれか1つに記載の方法。 7. 箔(10)と接続されていない枠(12)の縁部に、枠(12)にほぼ垂 直に延び枠(12)と一体に形成されているウェブ(17)が残るように槽状部 材の底部全体は打ち抜かないことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1つに 記載の方法。 8. 後の支持部材範囲(19)の外側の補強箔(10)内に応力を軽減する破 口(18)を設置することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1つに記載の 方法。
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