JP2000509190A - Ｘ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも１つのパルスレーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させる方法を提供する。ターゲットは液体の噴流（１７）の形態で発生し、レーザビーム（３）は噴流（１７）の空間的に連続した部分に集光される。上記方法に従ってレーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための装置は、少なくとも１つのレーザビーム（３）を発生するための手段と、チャンバと、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生するための手段（１０）と、レーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させるための手段（１３）とを含む。ターゲット発生手段（１０）は、液体の噴流（１７）を発生する。集光手段（１３）は、レーザビーム（３）を噴流（１７）の空間的に連続した部分に集光させる。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｘ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置 本発明は、全体として、チャンバ内のターゲットとのレーザプラズマ相互作用 によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法および装置に関す る。パルスレーザを上記ターゲットに集光させることにより、強力なＸ線源を得 ることができる。このＸ線源は、例えば、リソグラフィー、顕微鏡検査、材料科 学、または他のＸ線の用途において使用することができる。 背景技術 強力な軟Ｘ線源は、多くの分野、例えば表面物理学、材料試験、結晶分析、原 子物理学、リソグラフィー、および顕微鏡検査に応用されている。陽極に向かう 電子ビームを使用する従来の軟Ｘ線源は、比較的弱いＸ線を発生する。シンクロ トロン光源等の大型の施設は、高い平均出力を発生する。しかしながら、平均出 力が比較的高いコンパクトでかつ小型のシステムを必要とする多くの用途がある 。コンパクトでかつ安価なシステムは、それらの応用分野のユーザにさらによく 受け入れられ、このため科学および社会にとって潜在的に大きな価値を持つ。特 に重要な用途の一例は、Ｘ線リソグラフィーである。 １９６０年代から、集積電子回路の基礎をなす構造の大きさが小型化し続けて きた。これにより得られる利点は、高速で、複雑で、かつ必要とされる電力が小 さい回路である。現在、線の幅が約０．３５μｍのこのような回路を産業的に製 造するため、フォトリソグラフィーが使用されている。この技術は、線の幅が約 ０．１８μｍまでは適用することができると考えられている。線の幅をさらに小 さくするためには、恐らくは他の方法が必要とされる。これらの方法のうち、Ｘ 線リソグラフィーが潜在的に有力な候補である。Ｘ線リソグラフィーは、約１０ 〜２０ｎｍの範囲の波長の減圧型極紫外線（ＥＵＶ）対物システムを使用する投 影リソグラフィー（例えば、ゼルナイキおよびアトウッド編、紫外線リソグラフ ィー、オプティカル・ソサイエティ・アメリカ第２３巻〔ワシントンＤＣ，１９ ９４年〕（Extreme Ultraviolet Lithography，Eds．Zernike and Attwood，Opt ical Soc．America Vol．23[Washington DC，1994]）を参照のこと）、および０ ．８〜１．７ｎｍの範囲の波長で行われる近接リソグラフィー（例えば、マルド ナドによるＸ線リソグラフィー、ジェイ・エレクトロニック・マテリアルズ１９ ，６９９〔１９９０年〕（Maldonado，X-ray Lithography，J．Electronic Mate rials 19，699[1990]）を参照のこと）の２つの方法で実施することができる。 本発明は、直接的な応用分野が近接リソグラフィーである新型のＸ線源に関する 。しかしながら、本発明は、他の範囲の波長でも使用することができ、極紫外線 リソグラフィー、顕微鏡検査および材料科学等の応用分野でも使用することがで きる。 レーザ発生プラズマ（ＬＰＰ）は、小型で、高光度で、かつ空間的安定性が大 きい優れたコンパクトな軟Ｘ線源である。この装置では、パルスレーザビームを ターゲットに当てることによりＸ線放射プラズマを形成する。しかしながら、従 来の固体ターゲットを使用するＬＰＰには重大な欠点、とりわけ、小さな粒子、 原子、およびイオン（デブリス）が放出され、例えばプラズマの近くに配置され た敏感なＸ線光学系またはリソグラフィーマスクを覆い、かつ破壊するという欠 点がある。このような技術は例えば、ＷＯ９４／２６０８０号に開示されている 。 この欠点は、ライメルおよびヘルツによるオプティカル・コミュニュケーショ ン１０３，１０５（１９９３年）（Rymell and Hertz，Opt．Coomun．103，105( 1993)）に開示されているように、小さくかつ空間的に輪郭のはっきりした液滴 をターゲットとして使用し、パルスレーザビームをターゲットに照射することに より、なくすことができる。この文献によれば、圧電効果によって振動させた小 さなノズルを通して加圧液体を圧送することによって液体の噴流を形成すること により液滴を発生する。このような液滴の発生方法は例えば、米国特許第３，４ １６，１５３号、およびハインツルおよびヘルツによる「電子工学および電子物 理学の発展」６５，９１（１９８５年）（Heinzl and Hertz，Advances in Elec tronics and Electron Physics 65，91(1985)）に記載されている。これによっ て非常に小さくかつ空間的に輪郭のはっきりした液滴が得られる。このようにし て、デブリスを少なくすることに加えて、このコンパクトなＸ線源においては、 極めて近付き易い幾何学的形態を有し、新たなターゲット材料が連続的に供給さ れるので中断なしに長期間に亘って作動させることができ、かつ繰返し数の多い レーザを使用することによって高い平均Ｘ線出力を得ることができる。同様の技 術は、ヘルツらによる「レーザプラズマ放射線の応用ＩI」、Ｍ．Ｃ．リチャー ドソン編のスピエ第２５２３巻（１９９５年第８８〜９３頁）（Hertz et al，i n Applications of Laser Plasma Radiation II，M.C．Richardsson，Ed.，SPIE Vol．2523(1995)，pp88-93）、欧州特許第１８６，４９１号、ライメルらによ るアプライド・フィジックス・レター６６，２０（１９９５年）（Rymel et al ，Appl．Phys．Lett 66，20(1995)）、ライメルらによるアプライド・フィジッ クス・レター６６，２６２５（１９９５年）（Rymell et al，Appl．Phys．Lett 66，2625(1995)）、および米国特許第５，４５９，７７１号に開示されている 。しかしながら、このような技術では、全ての液滴が空間的に十分に安定した微 小液滴を形成するわけではないので、レーザビームを案内して微小液滴に当てる のが困難であるという欠点がある。さらに、適当な液体においてレーザビームの 集光点に対して液滴の位置をゆっくりと変化させる場合には、レーザプラズマ発 生を同期させるための一時的な調節が必要とされる。 発明の概要 従って、本発明の目的は、チャンバ内のターゲットから、レーザプラズマ放射 により、安定しかつ単純なＸ線や極紫外線の発生のための方法および装置を提供 することである。本発明の装置は、上述したように、コンパクトでかつ安価であ り、発生する平均出力が比較的高く、デブリスの発生が最少でなければならない 。本発明の別の目的は、近接リソグラフィーに適したＸ線放射線を発生する方法 および装置を提供することである。本発明のさらに別の目的は、本発明の装置お よび方法を顕微鏡検査、リソグラフィー、および材料科学において使用できるよ うにすることである。 以下の説明から明らかになるこれらのおよび他の目的は、請求項１に記載の方 法および請求項６に記載の装置によって完全にまたは部分的に達成される。従属 項には好ましい実施の形態が記載されている。 本発明によれば、液体から発生された噴流の空間的に連続した部分にレーザビ ームを集光させる。これは、例えば、液体からなる空間的に完全に連続した噴流 として噴流を発生することにより、および実際の噴流が瞬間的に壊れて液滴にな る前にレーザ光をこの実際の噴流に集光させることにより行うことができる。ま た、直径よりもかなり大きい所定の長さをそれぞれが有する別々の空間的に連続 した部分からなる液滴のパルス噴流または半連続噴流の形態で噴流を発生するこ とも考えられる。 噴流の空間的に連続した部分でレーザプラズマを発生することによって、新た な液体をターゲットとして使用することができる。さらに、ゆっくりとした変化 がＸ線放射に影響を及ぼさないので、安定性が改善される。別々の液滴を照射す るために液滴の形成に合わせて一時的に同期させる必要がないレーザにより、取 り扱いがかなりの程度まで簡単化されるということもまた重要である。これによ り、多くの場合、最新型でないレーザを使用することができる。これらの利点は 、例えばデブリスが大幅に減少し、近付き易い幾何学的形態を有し、新たなター ゲット材料を液体の噴流によって連続的に提供することによって中断なしに長期 間 に亘って作動させることができ、ターゲット材料が低価格であり、繰返し数の高 いレーザを使用することができ、これにより平均Ｘ線出力を増大させるという、 導入部分に述べた液滴状のターゲットの利点の多くを維持したまま得られる。 本発明は、とりわけ、リソグラフィー、顕微鏡検査、および材料科学における コンパクトでかつ強力なＸ線源または極紫外線源の必要性に基づいてなされたも のである。このような用途と特に関連した波長の範囲は、リソグラフィーにおい ては０．８〜１．７ｎｍであり、顕微鏡検査においては２．３〜４．４ｎｍであ り、光電子分光法、Ｘ線螢光、または極紫外線リソグラフィ．等の材料科学にお いては０．１〜２０ｎｍである。このようなＸ線放射線は、レーザ発生プラズマ によって発生される。このような短い範囲の波長を高い変換効率で発生させるに は、約１０¹³〜１０¹⁵Ｗ／ｃｍ²の強さのレーザが必要とされる。例えば、この ような強さをコンパクトなレーザシステムで発生させるには、約１０〜１００μ ｍの直径に集光させることが必要である。従って、ターゲットは、空間的に安定 しているならば、微小であってよい。この小さな寸法は、ターゲット材料を効果 的に使用することに寄与する。これは、とりわけ、デブリスを大幅に減少させる 。 上述したＸ線源の特別の用途として、本発明は、０．８〜１．７ｎｍの範囲の 波長で照射を行うことを必要とする近接リソグラフィーに言及している。液体に よって生ぜしめられた微小なターゲットからの、この波長の範囲に集中した放射 は、従来は得られなかった。本発明によれば、例えば、弗素含有液体を使用する ことができる。液体の微小な噴流にパルスレーザ放射線を照射することによって 、イオン化された弗素（Ｆ VIIIおよびＦ IX）から１．２〜１．７ｎｍの範囲の 波長の強力なＸ線放射が発生する。この放射線は、適当なリソグラフィーマスク やＸ線フィルタ等によって構造に対して１００ｎｍ以下までのリソグラフィーを 施すのに使用することができる。 上述した液体および他の液体を使用することにより、適当なＸ線波長を、上述 した本発明を使用する多くの異なる用途のために発生させることができる。この ような用途の例は、Ｘ線顕微鏡検査、材料科学（例えば光電子分光法およびＸ線 螢光）、極紫外線投影リソグラフィー、または結晶分析である。本発明で使用す る液体は、液体の噴流の発生時の温度で通常は液状の媒体、または通常は液状で はない物質および適当なキャリア液体からなる溶液のいずれかであるのがよいと いうことを強調しなければならない。 図面の簡単な説明 次に、添付図面を参照して、現状における本発明の好ましい実施の形態を例示 の目的で説明する。 図１は、液体の薄い噴流が壊れて液滴になる前にこの薄い噴流によってプラズ マを発生することによりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生する、本発明の 装置の概略図であり、 図２は、Ｘ線を発生するための、特に近接リソグラフィー用の本発明の装置の 一実施の形態を示す図である。好ましい実施の形態の説明 本発明による方法および装置は、基本的には、図１および図２に示すものであ る。１つまたはそれ以上のパルスレーザビーム３は、ターゲットとしての液体の 噴流１７に対して１つまたはそれ以上の方向から集光される。明瞭化を図るため 、図１および図２にはレーザビームは１つしか示されていない。このようにして 形成されたプラズマは、所望のＸ線放射線を放出する。Ｘ線の実際の発生は通常 、真空中にて行われる。これにより、放出された軟Ｘ線放射線が吸収されること を防止している。特定の波長のＸ線または極紫外線については、レーザプラズマ の発生を気体環境中にて行うことができる。しかしながら、液体の噴流１７の前 方にてレーザ誘起分解を生じることを防止するためには、真空が好ましい。 微視的でかつ空間的に安定した液体の噴流を真空中で形成するため、本発明で は、空間的に連続した液体の噴流１７を使用し、これは図２から明らかなように 、真空チャンバ８内にて形成される。液体７は、ポンプまたは圧力容器１４から 小さなノズル１０を通して高圧（通常は５〜１００気圧）下で圧送される。ノズ ル１０の直径は通常約１００μｍ以下であり、代表的には１０μｍまたは２０μ ｍから最大で数十μｍである。このため、ノズル１０とほぼ同じ直径を持つ、速 度が約１０〜１００ｍ／ｓの安定した微視的な液体の噴流１７が形成される。液 体の噴流１７は、液滴形成点１５まで所定の方向に移動し、ここで自然に分離し 、液滴１２となる。液滴形成点１５までの距離は、本質的には、液体７の流体力 学的性質、ノズル１０の寸法、および液体７の速度によって決まる。この点につ いては例えば、ハインツルおよびヘルツによる「電子工学および電子物理学の発 展」６５，９１（１９８５年）（Heinzl and Hertz，Advances in Electronics and Electron Physics 65，91(1985)）を参照されたい。液滴形成の頻度はある 程度までランダムである。低粘度の液体については、乱流が発生すると、液体の 安定した噴流１７が得られないが、表面張力が低い液体については、液滴形成点 １５の位置をノズル１０から大きく離すことができる。 液体７は、ノズル１０を離れるときに気化によって冷却される。噴流１７が凍 結し、液滴１２が全く形成されないことも考えられる。集光させたレーザビーム １１は、本発明の範疇において、このようにして凍結された噴流の空間的に連続 した部分に集光させることができる。なお、この場合には、ノズル１０と仮想上 の液滴形成点との間の噴流上の点にレーザ光を集光させる。 十分なパルスエネルギーを提供する現存のコンパクトなレーザシステムの繰返 し数は、一般的には、１００〜１０００Ｈｚを越えていない。レーザビーム３は 、直径が約１０〜１００μｍの範囲に集光される。液体の噴流１７の速度によっ ては、液体７の主要部分がレーザプラズマ発生に使用されず、このため多くの液 体において、気化により真空チャンバ８内の圧力が上昇する。このような問題は 例 えば、図２から分かるように、使用されなかった液体を捕捉する冷却トラップ１ ６によって解決することができる。また、図示はしないが、主真空チャンバ８の 外側にノズル１０を位置決めし、非常に小さな孔を通して液体を注入するように してもよい。この場合には、所望量の液体のみを主真空チャンバ８に供給するた めに、主真空チャンバ８の外側に機械式チョッパーまたは電気偏向手段を配置し て使用することができる。気化の少ない液体については、ポンプの容量を増大す ることで十分である。 上述した種類の液体の連続作動噴流１７を使用すると、液体の噴流１７の直径 とほぼ同じ大きさに集光されたレーザビーム３によってレーザプラズマ発生を可 能にするための十分な空間的安定性（±数μｍ）が得られる。半連続的すなわち パルス状の液体の噴流は、本発明の範疇において、特別な場合に適用することが できる。このような噴流は、空間的に連続した別々の部分からなり、これらの部 分は、短い期間中に液体をノズルを通して噴出することによって発生する。しか しながら、液滴とは異なり、半連続的な噴流の空間的に連続した部分は、長さが 直径よりもかなり大きい。 図２に示す実施の形態においては、パルスレーザ１を、随意ではあるが、１つ またはそれ以上の鏡２を介して、レンズ１３または他の光学的集光手段により、 液体の噴流の空間的に連続した部分、より詳細にはノズル１０と液滴形成点１５ との間の液体の噴流１７の点１１に集光させることにより、レーザプラズマを発 生させる。ノズル１０から液滴形成点１５までの距離は、ノズル１０がプラズマ によって損傷しないようにするため、集光点１１にて発生したレーザプラズマを ノズル１０から所定の距離に置くことができるよう十分に長い（数ｍｍ程度）こ とが好ましい。約１〜５ｎｍの範囲の波長のＸ線放射においては、約１０¹³〜１ ０¹⁵Ｗ／ｃｍ²の強さのレーザが必要とされる。例えば、このような強さは、１ ００ｍＪ程度のパルスエネルギーおよび１００ｐｓ程度のパルス持続時間を持 つレーザパルスを約１０μｍの集光点に集光させることによって容易に得ること ができる。可視光波長範囲、紫外線波長範囲、および近赤外線波長範囲における このようなレーザは、１０〜２０Ｈｚの繰返し数のものが商業的に入手可能であ り、繰返し数がこれより高いシステムも現在開発されている。パルスエネルギー およびこれに伴うレーザの大きさを小さくしつつ高い強度を得るためには、パル スの持続時間を短くすることが重要である。 さらに、短いパルスは、形成されるプラズマの大きさを小さくする。パルスが 長いと、通常は約１×１０⁷〜３×１０⁷ｃｍ／ｓまでのプラズマが膨張するため 、プラズマが長くなる。長いプラズマでよい場合には、直径がさらに大きい液体 の噴流および僅かに長いパルスの持続時間と高いパルスエネルギーとを組み合わ せて使用することにより、さらに高い全Ｘ線束を得ることができる。さらに長い 波長を望む場合には、最大出力を下げるため、レーザパルスの持続時間を増大さ せなければならない。例えば数百ｍＪのパルスおよびナノ秒よりも長いパルスの 持続時間を使用することにより、０．５〜５ｎｍの範囲の波長の放射が少なくな る代わりに１０〜３０ｎｍの範囲の波長の放射が増大する。このことは、ＥＵＶ 投影リソグラフィーで重要である。 Ｘ線放射線を発生するための上述した方法は、とりわけ、近接リソグラフィー で使用することができる。この目的の装置を図２に示す。ここでは、液体をター ゲットとして使用する。弗素含有液体、例えば液体Ｃ_mＦ_n（ｎは５〜１０、ｍは １０〜２０）を使用すると、１．２〜１．７ｎｍの範囲の波長のＸ線放射が得ら れる。このような多くの液体の流体力学的性質は、本発明によれば、液体の噴流 の空間的に連続した部分をターゲットとして使用することを必要とする。露光ス テーション１８が、レーザの集光点１１のレーザプラズマから所定の距離のとこ ろに位置決めされている。露光ステーション１８は例えば、マスク１９、および レジストをコーティングした物質２０を含む。薄いＸ線フィルタ２１は、所望の 範囲の波長の放射線のみがマスク１９および物質２０に届くよう放射線にフィル タをかける。液体からなる微視的なターゲットを使用するため、デブリスの発生 が非常に少なく、このことは、露光ステーションとレーザプラズマとの間の距離 を小さくできることを意味する。リソグラフィーに関して必要であれば、距離を 数ｃｍ程度まで小さくできる。これにより、露光時間が短くなる。また、Ｘ線コ リメータを使用することもできる。 上述した液体以外の液体を使用することによって、新たなＸ線波長範囲の放射 を得ることができる。例えばエタノールまたはアンモニア等の液体の噴流による レーザプラズマは、２．３〜４．４ｎｍの範囲の波長のＸ線放射を発生する。こ れは、ライメルおよびヘルツによるオプティカル・コミュニュケーション１０３ ，１０５（１９９３年）（Rymell and Hertz，Opt．Commun．103，105(1993)） 、ライメル、ベルグランドおよびヘルツによるアプライド・フィジックス・レタ ー６６，２６２５（１９９５年）(Rymell，Berglund and Hertz，Appl．Phys．L ett 66，2625(1995)）で周知のように、Ｘ線顕微鏡検査に適している。ここでは 、炭素イオンおよび窒素イオンからの放射を使用する。投影リソグラフィーに適 した極紫外線放射線を発生するため、大量の酸素を含む水または水性の混合物を 、パルスのピーク出力が小さい１０〜２０ｎｍの範囲の波長のレーザと組み合わ せることができる。これは、Ｈ．Ｍ．ヘルツ、Ｌ．ライメル、Ｍ．ベルグランド 、およびＬ．マルムクヴィストによる「レーザプラズマ放射線の応用II」、Ｍ． Ｃ．リチャードソン編のスピエ第２５２３巻（ソサイエティ・フォトオプティカ ル・インストルメント・エンジニアズ、ベーリンガム、ワシントン、１９９５年 第８８〜９３頁）（H.M．Hertz，L．Rymell，M．Berglund and L．Malmqvist，i n Applications of Laser Plasma Radiation II，M.C．Richardsson，Ed.，SPIE Vol．2523(Soc．Photo-Optical Instrum．Engineers，Bellingham，Washington ，1995，pp88-93)）で周知である。重原子を含む液体を用いた場合 の放射は波長が短い。これは例えば、材料科学における光電子分光法およびＸ線 螢光に用いられる。さらに強力なレーザを使用できる場合には、さらに短い波長 を得ることができる。これは、Ｘ線結晶学で関心を引くであろう。さらに、通常 は液体の状態にない物質を適当なキャリア液体に溶解させることができ、これに より液体の噴流をレーザプラズマによるＸ線発生に使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＥ，ＤＫ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，Ｕ Ｚ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 マグヌス、ベルグルンド スウェーデン国ルンド、トレ、ヘガルス、 ベーク、34ビー

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生する ための方法であって、少なくとも１つのターゲット（１７）を発生させるととも に、少なくとも１つのパルスレーザビーム（３）を前記ターゲット（１７）に集 光させる方法において、 前記ターゲットは液体の噴流（１７）の形態で発生し、前記レーザビーム（３ ）は前記噴流（１７）の空間的に連続した部分に集光されることを特徴とする方 法。 ２． 前記噴流（１７）が分離して液滴（１２）となる液滴形成点（１５）に 向かって前記噴流（１７）が移動するよう、ノズル（１０）を通して液体を圧力 の作用で圧送することによって前記噴流（１７）を発生させ、前記レーザビーム （３）を前記ノズル（１０）と前記液滴形成点（１５）との間の前記噴流（１７ ）の空間的に連続した部分に集光させる、請求項１記載の方法。 ３． 前記レーザビーム（３）を前記ノズル（１０）から数ｍｍ程度の距離の ところに集光させる、請求項２記載の方法。 ４． 約１〜１００μｍの直径を持つ前記噴流（１７）を発生する、請求項１ 乃至３のいずれか記載の方法。 ５． 接触リソグラフィー用の０．８〜２ｎｍの範囲の波長のＸ線放射を発生 するよう、弗素含有液体を使用して前記噴流（１７）を発生する、請求項１乃至 ４のいずれか記載の方法。 ６． 少なくとも１つのレーザビーム（３）を発生するための手段（１）と、 少なくとも１つのターゲット（１７）を発生するための手段（７，１０，１４） と、前記レーザビーム（３）を前記ターゲット（１７）に集光させるための手段 （１３）とを備えた、レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射 線を発生するための装置において、 前記ターゲット発生手段（７，１０，１４）は液体の噴流（１７）を発生し、 前記集光手段（１３）は前記レーザビーム（３）を前記噴流（１７）の空間的に 連続した部分に集光させる、ことを特徴とする装置。 ７． 前記ターゲット発生手段（７，１０，１４）は、前記噴流（１７）が分 離して液滴（１２）となる液滴形成点（１５）に向かって移動する前記噴流（１ ７）を発生するため、ノズル（１０）を通して液体を圧力の作用で圧送し、前記 集光手段（１３）は、前記レーザビーム（３）を前記ノズル（１０）と前記液滴 形成点（１５）との間の前記噴流（１７）の空間的に連続した部分に集光させる 、請求項６記載の装置。 ８． 前記集光手段（１３）は、前記レーザビーム（３）を前記ノズル（１０ ）から数ｍｍ程度の距離のところに集光させる、請求項７記載の装置。 ９． 前記ターゲット発生手段（７，１０，１４）は、約１〜１００μｍの直 径を持つ前記噴流（１７）を発生する、請求項６乃至８のいずれか記載の装置。 １０．前記液体は接触リソグラフィー用の０．８〜２ｎｍの範囲の波長のＸ線 放射を発生するための弗素含有液体であり、前記噴流（１７）上での前記レーザ ビーム（３）の集光と関連して露光ステーション（１８）が配置されている、請 求項６乃至９のいずれか記載の装置。 １１．前記放射された放射線がＸ線顕微鏡検査に使用される、請求項６乃至９ のいずれか記載の装置の使用。 １２．前記放射された放射線が近接リソグラフィーに使用される、請求項６乃 至１０のいずれか記載の装置の使用。 １３．前記放射された放射線が極紫外線投影リソグラフィーに使用される、請 求項６乃至９のいずれか記載の装置の使用。 １４．前記放射された放射線が光電子分光法に使用される、請求項６乃至９の いずれか記載の装置の使用。 １５．前記放射された放射線がＸ線螢光に使用される、請求項６乃至９のいず れか記載の装置の使用。