JP2000356750A - 表示素子および表示装置 - Google Patents

表示素子および表示装置

Info

Publication number
JP2000356750A
JP2000356750A JP11169493A JP16949399A JP2000356750A JP 2000356750 A JP2000356750 A JP 2000356750A JP 11169493 A JP11169493 A JP 11169493A JP 16949399 A JP16949399 A JP 16949399A JP 2000356750 A JP2000356750 A JP 2000356750A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
display element
display
light
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11169493A
Other languages
English (en)
Inventor
Eirishi Kawanami
英利子 川浪
Ichiro Onuki
一朗 大貫
Shigeo Ogura
栄夫 小倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP11169493A priority Critical patent/JP2000356750A/ja
Priority to US09/594,134 priority patent/US6603444B1/en
Publication of JP2000356750A publication Critical patent/JP2000356750A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00Simple or compound lenses
    • G02B3/12Fluid-filled or evacuated lenses
    • G02B3/14Fluid-filled or evacuated lenses of variable focal length
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/004Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on a displacement or a deformation of a fluid
    • G02B26/005Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on a displacement or a deformation of a fluid based on electrowetting

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】エレクトロウエッティング現象を利用して、小
型化を図ることができ、簡単な構成で効率よく光量の変
化で表示を切り替えることができる表示素子および表示
装置を提供すること。 【解決手段】マスクを通過する光量の変化により表示の
切り替えを行う表示素子であって、第1と第2の支持体
と、前記第1と第2の支持体間に形成された空間内に密
閉され互いに混合することのない第1の液体及び導電性
または有極性の第2の液体とを有し、該第2の液体への
電圧の印加により前記第1の液体と前記第2の液体との
界面形状を変化させ、マスクを通過する光量の調節を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子および表
示装置に関し、特に、エレクトロウエッティング現象を
利用して、小型化を図ることができ、簡単な構成で効率
よく光量の変化で表示を切り替えることができる表示素
子および表示装置の実現を目指すものである。
【0002】
【従来の技術】従来、表示素子あるいは表示装置として
は、液晶を用いたものが広く用いられており、透明電極
基板間に印加する電界の状態に応じて、液晶分子のねじ
れ状態が変化し、それらが透過する光の偏光状態に影響
を与え、偏光板との関係で光の透過/不透過を制御し、
情報の表示を行っている。このような液晶表示装置で
は、基本的にはねじれ角が90度のツイステッドネマチ
ック型液晶セルを用いている。また、光の散乱を利用し
た表示方式が、いくつか提案されており、そうしたもの
として高分子樹脂中に液晶を分散させた、分散型液晶が
提案されており、公表特許昭和58−501631号公
報に開示されている、NCAP膜、あるいは公表特許昭
和63−501512号公報に開示されているPDLC
膜等がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来例の表示素子および表示装置は、つぎのような問
題を有している。例えば、液晶を用いた表示装置のう
ち、バックライト等を設けた透過型のものは、明るい表
示が可能であるが、バックライト等は体積的に大きく、
消費電力も大きいという課題がある。一方、反射型のも
のではそうした課題は生じないが、偏光板等での光の吸
収が大きいために、表示そのものが暗く、表示のコント
ラストも低いという点に問題がある。また、高分子分散
型液晶では、液晶表示装置の外部からPDLC膜等に入
射した光の後方散乱は小さく、前方散乱が大きい。この
ためにその白色度および白黒のコントラストはPDLC
膜とその背後の黒色体との距離に依存するためにコント
ラスト比が低い値にしかならないという点に問題を有し
ている。
【0004】ところで、液体に電圧を加えると界面張力
が変化して界面の移動変形が起こる現象として、エレク
トロウエッティング現象が知られている。これは電気毛
管ともいわれ、図5のように絶縁層502を形成した基
板電極501上に、導電性の液滴503があり、この液
滴503と基板電極501との間に電圧をかけると、一
種のコンデンサを形成し静電エネルギーが蓄積され、こ
の静電エネルギーにより、表面張力の釣り合いが変化
し、液滴503が変形するものである(図5(b))。
このようなエレクトロウエッティング現象は、これまで
可変焦点レンズ(WO99/18456)、電気毛管デ
ィスプレイシート(特開平09−311643号公報)
などにおいて、その利用が図られてきたが、エレクトロ
ウエッティング現象を利用して、光量の変化で表示を切
り替える表示素子あるいは表示装置は、未だ実現してい
ない。
【0005】そこで、本発明は、上記した課題を解決
し、従来のものとは異なる方式の表示素子および表示装
置を構成するため、上記のエレクトロウエッティング現
象を利用して、小型化を図ることができ、簡単な構成で
効率よく光量の変化で表示を切り替えることができる表
示素子および表示装置を提供することを目的とするもの
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、表示素子および表示装置を、つぎの(1)
〜(19)のように構成したことを特徴とするものであ
る。 (1)本発明の表示素子は、マスクを通過する光量の変
化により表示の切り替えを行う表示素子であって、第1
と第2の支持体と、前記第1と第2の支持体間に形成さ
れた空間内に密閉され互いに混合することのない第1の
液体及び導電性または有極性の第2の液体とを有し、該
第2の液体への電圧の印加により前記第1の液体と前記
第2の液体との界面形状を変化させ、マスクを通過する
光量の調節を行うことを特徴としている。 (2)本発明の表示素子は、前記第2の液体から絶縁さ
れた第1の電極と、前記第2の液体に導通された第2の
電極とを有し、前記第1の電極と前記第2の電極との間
の印加電圧を変化させることにより、前記第1の液体と
前記第2の液体との界面形状を変化させることを特徴と
している。 (3)本発明の表示素子は、前記第1の電極と、前記第
1の液体との間に絶縁層を有することを特徴としてい
る。 (4)本発明の表示素子は、前記絶縁層が、前記第1の
電極を介して第1の支持体上に形成されていることを特
徴としている。 (5)本発明の表示素子は、前記第1の液体と前記第2
の液体とを、該第2の液体を介して前記第2の支持体に
接触しないようにして前記空間内に密閉し、電圧の印加
により前記界面形状を変化させ、該界面を通過する光の
焦点距離を変化させて、マスクを通過する光量の調節を
行うことを特徴としている。 (6)本発明の表示素子は、前記マスクが、光透過部と
遮光部を有するマスクであることを特徴としている。 (7)本発明の表示素子は、前記マスクが、前記第1の
液体と前記第2の液体との界面における中心軸と略一致
した格子状の光透過部を有することを特徴としている。 (8)本発明の表示素子は、前記マスクが、前記第1の
液体と前記第2の液体との界面における中心軸と略一致
した格子状の光遮断部を有することを特徴としている。 (9)本発明の表示素子は、前記第1の電極手段が、第
1の支持体上に平行に形成されていることを特徴として
いる。 (10)本発明の表示素子は、前記第1の電極手段が、
第1の支持体上に垂直に形成されていることを特徴とし
ている。 (11)本発明の表示素子は、前記第1の液体と前記第
2の液体である電解質溶液は、比重が実質的に等しいこ
とを特徴としている。 (12)本発明の表示素子は、前記第1の液体の屈折率
と前記第2の液体である電解質溶液は、屈折率差が、
0.05以上あることを特徴としている。 (13)本発明の表示素子は、前記第1の液体は、屈折
率が前記第1と第2の支持体の屈折率より大きいことを
特徴としている。 (14)本発明の表示素子は、前記第1の液体は、屈折
率が前記第2の液体である電解質溶液の屈折率より大き
いことを特徴としている。 (15)本発明の表示素子は、前記第2の液体である電
解質溶液は、屈折率が前記第1と第2の支持体の屈折率
と実質的に等しいことを特徴としている。 (16)本発明の表示素子は、前記絶縁層の屈折率が、
前記第1と第2の支持体の屈折率と実質的に等しいこと
を特徴としている。 (17)本発明の表示素子は、前記第1の電極が、2つ
以上の電極を持ちそれぞれ独立に制御する手段を持つこ
とを特徴としている。 (18)本発明の表示装置は、光量を調節することがで
きる表示素子と表示素子に光を供給する光源とを少なく
とも備える表示装置において、前記表示素子が上記した
本発明のいずれかの表示素子で構成されていることを特
徴としている。 (19)本発明の表示装置は、前記表示素子と前記光源
の間にカラーフィルタ層を有することを特徴としてい
る。
【0007】
【発明の実施の形態】本実施形態で開示する表示素子お
よび表示装置は、上記した構成により、効率よく光量の
変化で表示を切り替えることができる小型で簡単な構成
の表示素子および表示装置を実現することができる。上
記(1)〜(6)のように構成することによって、光量
を変化させ表示のオン/オフを切り替えることが可能と
なり、また、表示切り替えに機械的な駆動機構が必要で
ないため、小型化することができる。また、上記(7)
のように、マスクが界面の中心軸と略一致した格子状の
光透過部を有する構成を採ることにより、入射光の焦点
位置がマスク上に一致する場合は、入射光は全透過し表
示をオンにすることができ、焦点位置がマスク上に一致
しない場合は、入射光はほぼ遮断され表示をオフにする
ことができ、表示のオン/オフを切り替えることが可能
となる。また、上記(8)のように、マスクが界面の中
心軸と略一致した格子状の光遮断部を有する構成を採る
ことにより、入射光の焦点位置がマスク上に一致する場
合は、入射光は全透過し表示をオフにすることができ、
焦点位置がマスク上に一致しない場合は、入射光はほぼ
遮断され表示をオンにすることができ、表示のオン/オ
フを切り替えることが可能となる。また、上記(9)の
ように、第1の電極手段が第1の支持体上に平行に形成
される構成を採ることにより、エレクトロウエッティン
グ現象を利用して、簡単な構成で表示を切り替えること
が可能となる。また、上記(10)のように、第1の電
極手段が第1の支持体上に垂直に形成さる構成を採るこ
とにより、入射光を効率よく利用することが可能とな
る。また、上記(11)のように、前記第1の液体と前
記第2の液体である電解質溶液の比重が実質的に等しい
構成を採ることによって、重力の影響を排除することが
可能となる。また、上記(12)のように、第1の液体
の屈折率と第2の液体である電解質溶液の屈折率差が、
0.05以上である構成を採ることによって、前記第1
の液体の屈折率と前記第2の液体である電解質溶液との
界面で入射光を偏向させることができる。また、上記
(13)〜(16)のように、第1および第2の液体の
屈折率、あるいは絶縁層の屈折率等を所定の屈折率に設
定することによって、より有効な表示素子を実現するこ
とができる。また、上記(17)のように、第1の電極
が2つ以上の電極を持ちそれぞれ独立に制御する手段を
持つように構成することによって、アレイ状に並んだ第
1の液体を1つ1つを独立して駆動することができる。
また、上記(18)のように、上記のいずれかの表示素
子によって表示装置を構成することにより、効率よく光
量の変化で表示を切り替えることができる小型で簡単な
構成の表示装置を実現することができる。また、上記
(19)のように、上記のいずれかの表示素子と光源の
間にカラーフィルタ層を有する構成を採ることによっ
て、カラー表示が可能な表示装置を実現することができ
る。
【0008】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する
が、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるも
のではない。 [実施例1]図1(a)および(b)は、本発明の実施
例1に関わる表示素子の断面図である。図1において、
本実施例の表示素子は、支持体である第1、第2の基板
101、102および、第1の電極であるアクティブ素
子アレイ基板103、絶縁層104、表面処理層105
および、基板101および102の間に形成された空間
に封入された第1の液体106、導電性の第2の液体で
ある電解質溶液107、および第2の電極である対向電
極108およびマスク109から形成されている。
【0009】屈折率nPの光学材料からなる基板10
1、102は1mm厚の透明ガラス基板であり、103
は、例えば従来の液晶表示装置で用いられているTFT
のようなスイッチング用アクティブ素子とこれに接続さ
れた画素電極および走査線および信号線が配設されたア
クティブ素子アレイ基板であり、基板101上に形成さ
れている。アクティブ素子アレイ基板103上にレプリ
カ樹脂(大日本印刷(株)製、型番C001)を滴下
し、ガラス板で押しつけた後、15分間UV照射を行
い、厚さ20μm程度の透明な絶縁層104を形成す
る。
【0010】絶縁層104の屈折率は、基板101およ
び102の屈折率nPと実質的に等しい事が望ましい。
絶縁層104上に、ディッピング法により、厚さ100
nm程度のサイトップ(旭硝子(株)製)によるモザイ
ク状にパターン化された表面処理層105を形成する。
アクティブ素子アレイ基板103、絶縁層104、表面
処理層105を形成した基板101の反対側の面上に、
タングステン(W)またはタングステンシリサイド(W
Si)をスパッタ法またはCVD法を用いて、厚さ0.
5μmとなるように形成した後、モザイク状にパターン
化された表面処理層105の格子の中心軸に一致した部
分をエッチングにより除去し、マスク109を形成す
る。
【0011】図1(c)は、この様にして形成されたマ
スクの平面図である。つまり、マスク109は、格子の
中心軸に一致した部分が光の透過部となる。アクティブ
素子アレイ基板103、絶縁層104、表面処理層10
5を形成した基板101、および基板102の間に、シ
リコーンオイルTSF437(東芝シリコーン(株)
製)から成る第1の液体106および第1の液体106
に比重が実質的に等しくなるように調整したNaCl水
溶液(3.0wt%)から成る電解質溶液107を封入
する。第1の液体106と電解質溶液107の比重は、
±10%以内の範囲で等しければよい。封入する際に
は、第1の液体106が基板102と接触しないように
する。封入した第1の液体106、電解質溶液107が
漏れないように、ニッケルからなる対向電極108とガ
ラス板等の封止物110で封止する。
【0012】また、電解質溶液107の屈折率nAは、
基板101、102の屈折率nPに対し、実質的に等し
いことが望ましい(nP≒nA)。また、第1の液体10
6は、シリコーンオイルのように電解質溶液107と混
合しない液体であり、その屈折率nBは、基板101、
102の屈折率nPより大きいことが望ましい(nB>>
P)。第1の液体106の屈折率は1.49であり、
電解質溶液107の屈折率は1.34であるため、入射
光は、第1の液体106と電解質溶液107の界面で屈
折するが、電解質溶液107に電圧を印加していない状
態、すなわち電解質溶液107アクティブ素子アレイ基
板103およびニッケルからなる対向電極108に電圧
を加えていない状態(図1(a))、つまりV=0で
は、第1の液体106のアクティブ素子アレイ基板10
3、絶縁層104、表面処理層105を形成した基板1
01に対する接触角θ0が小さいため光があまり集光せ
ず、ほとんどの光が、マスク109によりカットされ、
表示がオフの状態となる。
【0013】そして、アクティブアレイ素子基板103
および対向電極108に電圧を加えると(図1
(b))、つまりV=V0になると、第1の液体106
と電解質溶液107の界面張力が変化して界面が変形
し、第1の液体106のアクティブ素子アレイ基板10
3、絶縁層104、表面処理層105を形成した基板1
01に対する接触角θVが電圧をかけてないときの接触
角θ0より大きくなり(θV>θ0)、光がマスク109
の光が通過できる部分にほぼ1点に集光し、ほとんどの
光が、マスク109を通過するため、表示がオンの状態
となる。本実施例では、アクティブ素子アレイ基板10
3を使用しているため、走査線に逐次タイミングを合わ
せて、全ての信号線に電圧を印加していくことで、アレ
イ状に並んだ第1の液体106を1つ1つを独立して駆
動することができる。
【0014】また、基板101、102の材質は、ガラ
ス、またはテフロン、ポリカーボネートおよびアクリル
のようなプラスチックでもよい。絶縁層104の屈折率
は、基板101および102の屈折率nPと実質的に等
しい事が望ましく、絶縁層104は、紫外線硬化である
レプリカによって形成された膜でもよく、キャスト法に
よって形成された膜でもよく、さらにはスパッタリング
または化学蒸着処理法によって蒸着された膜でも良い。
【0015】紫外線硬化で使用できる樹脂としては、ア
クリレート系、不飽和ポリエステル/スチレン系、ポリ
エチレン/チオール系、エポキシ/ルイス酸系、などが
挙げられる。重合速度や粘度を調節する必要のある場合
は、異なった材料を混合するか、モノマーや重合度の異
なったオリゴマーを添加すればよい。光重合開始剤とし
ては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジル、ベ
ンゾイン、チオキサントンなどやそれらの誘導体、およ
びテトラメチルチウラムモノサルファイド(TSM)な
どがある。重合開始剤の濃度は、ポリマーに対して0.
3〜5.0%、望ましくは0.5〜3.0%がよい。
【0016】また、キャスト法で用いることのできる樹
脂としては、PMMAなどのアクリル系樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリ
アリレート、ポリエーテルサルフォン、シロキサン系樹
脂などが、各種溶媒に解けやすいために好ましいが、エ
ポキシ樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリエチレンおよびこれらの共重合体などでも溶媒
を工夫することによって使用可能である。スパッタリン
グまたは化学蒸着法で用いることのできる樹脂は、テフ
ロンまたは他のフッ素処理ポリマーであってもよい。
【0017】表面処理層105としては、サイトップを
ディッピング法により塗布したものでもよく、メチルト
リメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、N−(β
−アミノエチル)−γ−アミノプロピリメチルジメトキ
シシランの一種または二種以上のケイ素化合物を水で希
釈し得られる液を塗布してもよく、フルオロアルキルシ
ラン化合物、長鎖脂肪族シラン化合物およびケイ素イソ
シアネートのうち、少なくとも2種類以上の化合物と希
釈溶剤ならびに酸触媒でなる混合溶液を塗布したもので
も良い。基板101、102の間に封入してある電解質
溶液107は、NaCl、Na2SO4などのような電解
質を溶かした水溶液でもよく、水、アルコール、アセト
ン、ホルムアミド、エチレングリコールのような有極性
液体およびこれらと他の適当な液体との混合物でもよ
い。第1の液体106は、シリコーンオイルのように電
解質溶液107と混合しない液体である。また、第1の
液体106の屈折率は、電解質溶液106の屈折率より
大きいことが望ましい。
【0018】対向電極108は、金、白金、ステンレス
鋼、ニッケル、銀および酸化インジウム/すずのような
材料でできていてもよく、電解質溶液107と接してい
れば、平板でも棒状でもよい。マスク109は、タング
ステン(W)またはタングステンシリサイド(WSi)
をスパッタ法またはCVD法を用いて形成したものでも
よく、モリブデンおよびチタンのような高融点金属から
選ばれる少なくとも一つの金属膜であることが望まし
い。封止物110は、ガラス、アクリル、金属のような
材料でできていてもよく、封止することができれば、平
板でも円形でも棒状でも良い。また、図1では、一方を
対向電極108、もう一方をガラスの封止物110で封
止しているが、両方ともガラス板で封止しても良い。ま
た、実施例1では、マスク109を直接基板101上に
形成したが、実施例1の変形例として、遮光するものと
して遮光膜ではなく、金属等でできたモザイク状のパタ
ーン化された遮光基板を用いてもよい。
【0019】[実施例2]図2(a)および(b)は、
本発明の実施例2に関わる光学素子の断面図である。図
2において、本実施例の光学素子は、支持体である第
1、第2の基板201、202および、第1の電極であ
るアクティブ素子アレイ基板203、絶縁層204、表
面処理層205および、基板201および202の間に
形成された空間に封入された第1の液体206、導電性
の第2の液体である電解質溶液207、および第2の電
極である対向電極208およびマスク209から形成さ
れている。実施例1と同様に作成した、アクティブ素子
アレイ基板203、絶縁層204、表面処理層205を
形成した基板201のもう一方の面上にマスク209と
して、タングステン(W)またはタングステンシリサイ
ド(WSi)をスパッタ法またはCVD法を用いて、厚
さ0.5μmとなるように形成した後、モザイク状にパ
ターン化された表面処理層205の孔子の中心軸に一致
した部分を残すようにしてエッチングにより除去した。
【0020】図2(c)は、この様にして形成されたマ
スクの平面図である。つまり、マスク209は、格子の
中心軸に一致した部分が遮光部となる。実施例1と同様
に、アクティブ素子アレイ基板203、絶縁層204、
表面処理層205を形成した基板201、および基板2
02の間に、シリコーンオイルTSF437(東芝シリ
コーン(株)製)から成る第1の液体206および第1
の液体206に比重が実質的に等しくなるように調整し
たNaCl水溶液(3.0wt%)から成る電解質溶液
207を封入し、封入した第1の液体206、電解質溶
液207が漏れないように、ニッケルからなる対向電極
208とガラス板等の封止物210で封止する。
【0021】第1の液体206の屈折率は1.49であ
り、電解質溶液207の屈折率は1.34であるため、
入射光は、第1の液体206と電解質溶液207の界面
で屈折するが、アクティブ素子アレイ基板203および
対向電極208に電圧を加えていない状態(図2
(a))、つまりV=0では、第1の液体206のアク
ティブ素子アレイ基板203、絶縁層204、表面処理
層205を形成した基板201に対する接触角θ0が小
さいため光があまり集光せず、ほとんどの光がマスク2
09によりカットされず通過し、表示がオンの状態とな
る。
【0022】そして、アクティブ素子アレイ基板103
および対向電極208に電圧を加えると(図2
(b))、つまりV=V0になると、第1の液体206
と電解質溶液207の界面張力が変化して界面が変形
し、第1の液体206のアクティブ素子アレイ基板20
3、絶縁層204、表面処理層205を形成した基板2
01に対する接触角θVが電圧をかけてないときの接触
角θ0より大きくなり( θV>θ0)、光がマスク20
9の遮光部にほぼ1点に集光し、ほとんどの光が、マス
ク209によりカットされるため、表示がオフの状態と
なる。この際に、アクティブ素子アレイ基板203を使
用しているため、走査線に逐次タイミングを合わせて、
全ての信号線に電圧を印加していくことで、アレイ状に
並んだ第1の液体206を1つ1つを独立して駆動する
ことができる。実施例2で使用する材料は、実施例1と
同じものを用いても良い。
【0023】[実施例3]図3は、本発明の実施例3に
関わる表示素子の断面図である。図3において、本実施
例の表示素子は、第1、第2の基板301、302およ
び、第1の電極であるアクティブ素子アレイ基板30
3、表面処理層304、第2の電極である対向電極30
5および絶縁層306、基板301および302の間に
形成された空間に封入された第1の液体307および第
2の液体である電解質溶液308、マスク309から形
成されている。
【0024】屈折率nPの光学材料からなる基板30
1、302は1mm厚の透明ガラス基板であり、303
は、例えば従来の液晶表示装置で用いられているTFT
のようなスイッチング用アクティブ素子とこれに接続さ
れた画素電極および走査線および信号線が配設されたア
クティブ素子アレイ基板であり、基板302上に形成さ
れている。アクティブ素子アレイ基板303上にレプリ
カ樹脂(大日本印刷(株)製、型番C001)を滴下
し、ガラス板で押しつけた後、15分間UV照射を行
い、厚さ20μm程度の透明な絶縁層306aを形成す
る。基板301上に、ディッピング法により、厚さ10
0nm程度のサイトップ(旭硝子(株)製)によるモザ
イク状にパターン化された表面処理層304を形成す
る。
【0025】305は、アルミニウムよりなる円筒状の
対向電極(第2の電極、図3(c))であり、対向電極
305の内部に電着塗装により、10μm程度の絶縁層
306bを形成する。絶縁層306bを形成した対向電
極305を表面処理層304を形成した基板301に接
着する。基板301の対向電極305とは反対側の面上
にマスク309として、タングステン(W)またはタン
グステンシリサイド(WSi)をスパッタ法またはCV
D法を用いて、厚さ0.5μmとなるように形成した
後、モザイク状にパターン化された表面処理層304の
格子の中心軸に一致した部分をエッチングにより除去し
た。つまり、マスク309は、表面処理層304格子の
中心軸に一致した部分が光の透過部となる。
【0026】アクティブ素子アレイ基板303および絶
縁層306aを形成した基板302、および基板301
上に形成した対向電極305の各円筒の間に、シリコー
ンオイルTSF437(東芝シリコーン(株)製)から
成る第1の液体307および第1の液体307に比重が
実質的に等しくなるように調整したNaCl水溶液
(3.0wt%)から成る電解質溶液308を封入す
る。第1の液体307と電解質溶液308の比重は、±
10%以内の範囲で等しければよい。封入する際には、
第1の液体307が基板301と接触しないようにす
る。
【0027】また、電解質溶液308の屈折率nAは、
基板301、302の屈折率nPに対し、実質的に等し
いことが望ましい(nP≒nA)。また、第1の液体30
7は、シリコーンオイルのように電解質溶液308と混
合しない液体であり、その屈折率nBは、基板301、
302の屈折率nPより大きいことが望ましい(nB>>
P)。アクティブ素子アレイ基板303およびアルミ
ニウムから成る対向電極305に電圧を加えていない状
態(図3(a))、つまりV=0では、第1の液体30
7と表面処理層304を形成した基板301との接触角
θ0が小さいため光があまり集光せず、ほとんどの光
が、マスク309によりカットされ、表示がオフの状態
となる。
【0028】そして、アクティブ素子アレイ基板303
および対向電極305に電圧を加えると(図3
(b))、つまりV=V0になると、第1の液体307
と電解質溶液308の界面張力が変化して界面が変形
し、第1の液体307と表面処理層304を形成した基
板301との接触角θVが電圧をかけてないときの接触
角θ0より大きくなり (θV>θ0)、光がマスク30
9の光が通過できる部分にほぼ1点に集光し、ほとんど
の光が、マスク309を通過するため、表示がオンの状
態となる。この際に、アクティブ素子アレイ基板303
を使用しているため、走査線に逐次タイミングを合わせ
て、全ての信号線に電圧を印加していくことで、アレイ
状に並んだ第1の液体307を1つ1つを独立して駆動
することができる。
【0029】本実施例では、第1の電極であるアクティ
ブ素子アレイ基板303と第2の電極である対向電極3
05の配置が垂直であり、第1の液体307が、第2の
電極である対向電極305と接触することができるため
に、全ての光を有効に使えることができる。実施例3で
使用する材料は、実施例1と同じものを用いて良い。 [実施例4]図4は、本発明の実施例4に関わる表示装
置の断面図である。図4において、本発明の表示装置
は、光源であるランプ401、反射鏡402、導光板4
03、カラーフィルタ404、表示素子として、実施例
1もしくは実施例2もしくは実施例3における表示素子
405から構成されている。ランプ401から、発せら
れた光は、反射鏡402で反射されて導光板403を進
む。この導光板403より出射された白色光はカラーフ
ィルタ404により、赤、緑、青の3色の光に分光さ
れ、その後、表示素子405を通過し各光の光量が調節
し、出射される。
【0030】本実施例の表示装置では、電圧を印加する
ことで、表示素子内に封入してある第1の液体と第2の
液体である電解質溶液との界面形状を変化させることに
より、界面を通過する光の焦点距離を変化させ、マスク
を通過する光の光量を調節することで、各光の出射量を
変化させ表示をおこなっている(図4(b))。また出
射量を調節するために機械的な駆動機構が必要でないた
め、小型化することができる。本実施例の表示装置で
は、カラーフィルタ層を備えているが、カラーフィルタ
層がない場合は、白黒表示をすることができる。以上、
実施例1〜実施例4に示した表示素子あるいは表示装置
は、光量の調節を行う手段として機械的な駆動機構が必
要ないため装置の小型化を図ることができる。また、エ
レクトロウエッティング現象を利用して光量の調節を行
うようにしているので、効率よく光量の変化により表示
の切り替えを行うことができる。
【0031】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、エレクトロウエッティング現象を利用して、従来の
ものとは異なる方式の表示素子および表示装置を構成す
ることができ、小型化を図ることが可能となり、また簡
単な構成によって効率よく光量の変化で表示の切り替え
を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1に関わる表示素子の概要を示
す図である。
【図2】本発明の実施例2に関わる表示素子の概要を示
す図である。
【図3】本発明の実施例3に関わる表示素子の概要を示
す図である。
【図4】本発明の実施例4に関わる表示装置の概要を示
す図である。
【図5】エレクトロウエッティング現象を説明するため
の電圧の印加前、印加後の液滴の変化を示す図である。
【符号の説明】
101:第1の基板 102:第2の基板 103:アクティブ素子アレイ基板 104:絶縁層 105:表面処理層 106:第1の液体 107:第2の液体(電解質溶液) 108:対向電極 109:マスク 110:封止物(ガラス板) 201:第1の基板 202:第2の基板 203:アクティブ素子アレイ基板 204:絶縁層 205:表面処理層 206:第1の液体 207:第2の液体(電解質溶液) 208:対向電極 209:マスク 210:封止物(ガラス板) 301:第1の基板 302:第2の基板 303:アクティブ素子アレイ基板 304:表面処理層 305:対向電極 306a、306b:絶縁層 307:第1の液体 308:第2の液体(電解質溶液) 309:マスク 401:ランプ 402:反射鏡 403:導光板 404:カラーフィルタ 405:表示素子 406:マスク 501:絶縁層 502:基板電極 503:液滴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小倉 栄夫 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H041 AA01 AB24 AB32 AB38 AC10

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マスクを通過する光量の変化により表示の
    切り替えを行う表示素子であって、第1と第2の支持体
    と、前記第1と第2の支持体間に形成された空間内に密
    閉され互いに混合することのない第1の液体及び導電性
    または有極性の第2の液体とを有し、該第2の液体への
    電圧の印加により前記第1の液体と前記第2の液体との
    界面形状を変化させ、マスクを通過する光量の調節を行
    うことを特徴とする表示素子。
  2. 【請求項2】前記第2の液体から絶縁された第1の電極
    と、前記第2の液体に導通された第2の電極とを有し、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間の印加電圧を変
    化させることにより、前記第1の液体と前記第2の液体
    との界面形状を変化させることを特徴とする請求項1に
    記載の表示素子。
  3. 【請求項3】前記第1の電極と、前記第1の液体との間
    に絶縁層を有することを特徴とする請求項1に記載の表
    示素子。
  4. 【請求項4】前記絶縁層は、前記第1の電極を介して第
    1の支持体上に形成されていることを特徴とする請求項
    3に記載の表示素子。
  5. 【請求項5】前記第1の液体と前記第2の液体とを、該
    第2の液体を介して前記第2の支持体に接触しないよう
    にして前記空間内に密閉し、電圧の印加により前記界面
    形状を変化させ、該界面を通過する光の焦点距離を変化
    させて、マスクを通過する光量の調節を行うことを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の表示素子。
  6. 【請求項6】前記マスクが、光透過部と遮光部を有する
    マスクであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか
    1項に記載の表示素子。
  7. 【請求項7】前記マスクが、前記第1の液体と前記第2
    の液体との界面における中心軸と略一致した格子状の光
    透過部を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれ
    か1項に記載の表示素子。
  8. 【請求項8】前記マスクが、前記第1の液体と前記第2
    の液体との界面における中心軸と略一致した格子状の光
    遮断部を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれ
    か1項に記載の表示素子。
  9. 【請求項9】前記第1の電極手段が、第1の支持体上に
    平行に形成されていることを特徴とする請求項1〜8の
    いずれか1項に記載の表示素子。
  10. 【請求項10】前記第1の電極手段が、第1の支持体上
    に垂直に形成されていることを特徴とする請求項1〜8
    のいずれか1項に記載の表示素子。
  11. 【請求項11】前記第1の液体と前記第2の液体である
    電解質溶液は、比重が実質的に等しいことを特徴とする
    請求項1〜10のいずれか1項に記載の表示素子。
  12. 【請求項12】前記第1の液体の屈折率と前記第2の液
    体である電解質溶液は、屈折率差が、0.05以上ある
    ことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載
    の表示素子。
  13. 【請求項13】前記第1の液体は、その屈折率が前記第
    1と第2の支持体の屈折率より大きいことを特徴とする
    請求項1〜12のいずれか1項に記載の表示素子。
  14. 【請求項14】前記第1の液体は、その屈折率が前記第
    2の液体である電解質溶液の屈折率より大きいことを特
    徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の表示素
    子。
  15. 【請求項15】前記第2の液体である電解質溶液は、屈
    折率が前記第1と第2の支持体の屈折率と実質的に等し
    いことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記
    載の表示素子。
  16. 【請求項16】前記絶縁層の屈折率が、前記第1と第2
    の支持体の屈折率と実質的に等しいことを特徴とする請
    求項2〜15のいずれか1項に記載の表示素子。
  17. 【請求項17】前記第1の電極が、2つ以上の電極を持
    ちそれぞれ独立に制御する手段を持つことを特徴とする
    請求項2〜16のいずれか1項に記載の表示素子。
  18. 【請求項18】光量を調節することができる表示素子と
    表示素子に光を供給する光源とを少なくとも備える表示
    装置において、前記表示素子が請求項1〜17のいずれ
    か1項に記載の表示素子で構成されていることを特徴と
    する表示装置。
  19. 【請求項19】前記表示素子と前記光源の間にカラーフ
    ィルタ層を有することを特徴とする請求項18に記載の
    表示装置。
JP11169493A 1999-06-16 1999-06-16 表示素子および表示装置 Pending JP2000356750A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11169493A JP2000356750A (ja) 1999-06-16 1999-06-16 表示素子および表示装置
US09/594,134 US6603444B1 (en) 1999-06-16 2000-06-14 Display element and display device having it

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11169493A JP2000356750A (ja) 1999-06-16 1999-06-16 表示素子および表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000356750A true JP2000356750A (ja) 2000-12-26

Family

ID=15887558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11169493A Pending JP2000356750A (ja) 1999-06-16 1999-06-16 表示素子および表示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6603444B1 (ja)
JP (1) JP2000356750A (ja)

Cited By (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003071335A3 (en) * 2002-02-20 2003-11-13 Koninkl Philips Electronics Nv Display apparatus
WO2004051323A1 (en) * 2002-12-03 2004-06-17 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus for forming variable fluid meniscus configurations
JP2004252444A (ja) * 2003-01-31 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 表示装置
WO2004077124A1 (en) * 2003-02-26 2004-09-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. A passive matrix display with bistable electro-wetting cells
WO2004099845A1 (en) * 2003-05-06 2004-11-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electrowetting module
JP2005062864A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Lucent Technol Inc エレクトロウェッティング作動を有する光学ビームスプリッタ
WO2004088714A3 (en) * 2003-04-03 2005-04-28 Nokia Corp Direct view display based on light diffraction from a deformable layer
JP2005316473A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Samsung Electronics Co Ltd 光シャッタ及びそれを採用した光走査装置
JP2006500614A (ja) * 2002-09-19 2006-01-05 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 切り換え可能な光学的部品
KR100646810B1 (ko) 2005-11-30 2006-11-23 이미지랩(주) 발광형 전기습윤 디스플레이 장치
KR100646815B1 (ko) 2005-11-30 2006-11-23 이미지랩(주) 전기습윤 디스플레이 장치
JP2007508576A (ja) * 2003-10-08 2007-04-05 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ エレクトロウェッティング表示装置
JP2007086451A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Sony Corp 光学素子
CN1325944C (zh) * 2002-12-03 2007-07-11 皇家飞利浦电子股份有限公司 形成可变流体弯月面结构的装置
JP2007179044A (ja) * 2005-12-02 2007-07-12 Sony Corp 液体レンズ
JP2007206601A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Nikon Corp マイクロレンズアレイの製造方法、マイクロレンズの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP2007528009A (ja) * 2003-05-06 2007-10-04 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 切替え可能素子における駆動電圧の低減
WO2008007797A1 (fr) * 2006-07-10 2008-01-17 Sony Corporation Agencement de lentilles
JP2008040455A (ja) * 2006-07-10 2008-02-21 Sony Corp レンズアレイ
CN100373208C (zh) * 2003-05-22 2008-03-05 皇家飞利浦电子股份有限公司 显示设备
JP2008089752A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Sony Corp エレクトロウエッティング装置とこれを用いた可変焦点レンズ、光ピックアップ装置、光記録再生装置、液滴操作装置、光学素子、ズームレンズ、撮像装置、光変調装置及び表示装置
JP2008107826A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Sony Corp エレクトロウエッティング装置とこれを用いた可変焦点レンズ、光ピックアップ装置、光記録再生装置、液滴操作装置、光学素子、ズームレンズ、撮像装置、光変調装置及び表示装置
JP2008170962A (ja) * 2006-12-14 2008-07-24 Sony Corp ディスプレイ用光学シャッタ、画像表示装置、ディスプレイ用光学シャッタ製造装置および方法
CN100451724C (zh) * 2004-06-23 2009-01-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 双稳态电浸润光学元件及其驱动方法
KR100904310B1 (ko) 2006-06-12 2009-06-23 신병철 비전도성유체 내에서 밀도차에 의한 위치에너지를 갖는전도성액체의 이동을 일렉트로웨팅으로 통제하는 방법 및그에 따른 게이트 장치
US7558000B2 (en) 2005-03-08 2009-07-07 Sony Corporation Optical device
US7646545B2 (en) 2005-08-24 2010-01-12 Sony Corporation Optical element
CN1568624B (zh) * 2001-10-11 2010-06-23 皇家飞利浦电子股份有限公司 2d/3d显示装置
US7839555B2 (en) 2005-01-13 2010-11-23 Sharp Kabushiki Kaisha Display device and electric apparatus using the same
CN1979320B (zh) * 2002-02-19 2010-12-08 利奎阿维斯塔股份有限公司 显示器件
KR101057769B1 (ko) 2003-10-20 2011-08-19 엘지디스플레이 주식회사 화상변환용 렌즈 어레이와 이를 이용한 화상표시 장치 및방법
JP2012068332A (ja) * 2010-09-22 2012-04-05 Casio Comput Co Ltd 表示装置
US8172375B2 (en) 2004-12-17 2012-05-08 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Valve and actuator employing capillary electrowetting phenomenon
KR101272895B1 (ko) 2006-06-30 2013-06-11 엘지디스플레이 주식회사 일렉트로 웨팅 디스플레이 소자
WO2013109020A1 (ko) * 2012-01-20 2013-07-25 주식회사 나노브릭 광 투과 조절 방법, 광 투과 조절 장치 및 이를 제조하기 위한 방법
WO2014038360A1 (ja) * 2012-09-07 2014-03-13 富士フイルム株式会社 光学素子及び画像表示装置
US8873004B2 (en) 2010-02-04 2014-10-28 Samsung Electronics Co., Ltd. 2D/3D switchable image display device
JP2015141375A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 国立大学法人福井大学 界面制御機構及び界面制御方法
EP1629314B1 (en) * 2003-05-22 2015-10-21 Liquavista B.V. Display device
CN104749763B (zh) * 2013-12-30 2017-12-05 先进显示技术股份公司 带有存储通道的流体显示元件、特别是电流体显示元件
KR101826034B1 (ko) * 2011-08-29 2018-02-07 엘지디스플레이 주식회사 전기습윤표시장치
JP2018159748A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 スタンレー電気株式会社 光学素子
JP2020505644A (ja) * 2017-01-26 2020-02-20 エルジー イノテック カンパニー リミテッド 液体レンズ

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1253746C (zh) * 2001-04-20 2006-04-26 索尼株式会社 电调光器设备和其驱动方法
US20060152646A1 (en) * 2002-08-21 2006-07-13 Martin Schrader Switchable lens display
EP1599751A1 (en) * 2003-01-27 2005-11-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device
US8124423B2 (en) 2003-09-30 2012-02-28 Alcatel Lucent Method and apparatus for controlling the flow resistance of a fluid on nanostructured or microstructured surfaces
CN100449595C (zh) 2003-10-08 2009-01-07 伊英克公司 电润湿显示器
US8319759B2 (en) 2003-10-08 2012-11-27 E Ink Corporation Electrowetting displays
US6917456B2 (en) * 2003-12-09 2005-07-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Light modulator
KR100531796B1 (ko) * 2003-12-10 2005-12-02 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널용 광셔터 및 그 구동방법
US20070134560A1 (en) * 2003-12-22 2007-06-14 Koninklijke Philips Electronic, N.V. Lithography system using a programmable electro-wetting mask
US20070279538A1 (en) * 2004-03-04 2007-12-06 Alfred Thomas Display For Gaming Device
DE102004011660A1 (de) * 2004-03-10 2005-10-06 Daimlerchrysler Ag Linsenvorrichtung, Scheinwerfer und Beleuchtungseinrichtung
US7618746B2 (en) * 2004-03-18 2009-11-17 Alcatel-Lucent Usa Inc. Nanostructured battery having end of life cells
US7800816B2 (en) * 2004-04-05 2010-09-21 Liquavista B.V. Display device based on electrowetting effect
EP1751802B1 (en) * 2004-05-21 2012-11-07 University Of Cincinnati Liquid logic structures for electronic device applications
DE102004029056A1 (de) * 2004-06-16 2006-01-12 Carl Zeiss Variable Blende, Beleuchtungseinrichtung, optische Beobachtungseinrichtung sowie optisches Beobachtungsgerät
US20060132927A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-22 Yoon Frank C Electrowetting chromatophore
JP2006235476A (ja) * 2005-02-28 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 光学素子、光学ユニット、および撮像装置
JP4666531B2 (ja) * 2005-03-25 2011-04-06 シャープ株式会社 画像表示装置
JP2006285031A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Sony Corp 可変焦点レンズとこれを用いた光学装置、可変焦点レンズの製造方法
US7826125B2 (en) 2005-06-14 2010-11-02 California Institute Of Technology Light conductive controlled shape droplet display device
KR100714561B1 (ko) * 2005-08-23 2007-05-07 삼성전기주식회사 구동 특성이 안정화된 전기 습윤 장치
US7474470B2 (en) * 2005-12-14 2009-01-06 Honeywell International Inc. Devices and methods for redirecting light
US7382544B2 (en) * 2006-02-10 2008-06-03 Honeywell International Inc. Devices and related methods for light distribution
US7697187B2 (en) * 2006-09-29 2010-04-13 Sony Corporation Electrowetting device and varifocal lens, optical pickup device, optical recording/reproduction device, droplet operation device, optical element, zoom lens, imaging device, light modulating device, and display device using the same
US20080088551A1 (en) * 2006-10-12 2008-04-17 Honeywell International Inc. Microfluidic prism
US7791813B2 (en) * 2006-10-12 2010-09-07 Honeywell International Inc. Microfluidic imaging array
TW200819792A (en) * 2006-10-16 2008-05-01 Ind Tech Res Inst Liquid-control optical element and manuacturing method therefor and device therewith
GB0622899D0 (en) * 2006-11-16 2006-12-27 Liquavista Bv Driving of electro-optic displays
US20080123956A1 (en) * 2006-11-28 2008-05-29 Honeywell International Inc. Active environment scanning method and device
US7586681B2 (en) * 2006-11-29 2009-09-08 Honeywell International Inc. Directional display
TW201007321A (en) * 2008-08-08 2010-02-16 Wintek Corp Electro-wetting display device
WO2012078595A1 (en) * 2010-12-07 2012-06-14 Afshin Izadian Adaptive controllable lenses for solar energy collection
US9607537B2 (en) * 2010-12-23 2017-03-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Display region refresh

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5208648A (en) * 1991-03-11 1993-05-04 International Business Machines Corporation Apparatus and a method for high numerical aperture microscopic examination of materials
US5545367A (en) * 1992-04-15 1996-08-13 Soane Technologies, Inc. Rapid prototype three dimensional stereolithography
JPH06102509A (ja) * 1992-06-17 1994-04-15 Xerox Corp 光カップリング・レンズアレイ付きフルカラー表示装置
US6262706B1 (en) * 1995-07-20 2001-07-17 E Ink Corporation Retroreflective electrophoretic displays and materials for making the same
FR2769375B1 (fr) * 1997-10-08 2001-01-19 Univ Joseph Fourier Lentille a focale variable

Cited By (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1568624B (zh) * 2001-10-11 2010-06-23 皇家飞利浦电子股份有限公司 2d/3d显示装置
CN1979320B (zh) * 2002-02-19 2010-12-08 利奎阿维斯塔股份有限公司 显示器件
KR101230710B1 (ko) * 2002-02-19 2013-02-07 삼성 엘씨디 네덜란드 알앤디 센터 비.브이. 디스플레이 디바이스
JP2011034085A (ja) * 2002-02-20 2011-02-17 Koninkl Philips Electronics Nv 表示装置
KR100952184B1 (ko) * 2002-02-20 2010-04-09 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 디스플레이 장치
JP2005517991A (ja) * 2002-02-20 2005-06-16 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 表示装置
CN100430777C (zh) * 2002-02-20 2008-11-05 皇家飞利浦电子股份有限公司 显示设备
JP4739676B2 (ja) * 2002-02-20 2011-08-03 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 表示装置
WO2003071335A3 (en) * 2002-02-20 2003-11-13 Koninkl Philips Electronics Nv Display apparatus
JP2006500614A (ja) * 2002-09-19 2006-01-05 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 切り換え可能な光学的部品
JP4851089B2 (ja) * 2002-09-19 2012-01-11 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 切り換え可能な光学的部品
CN1325944C (zh) * 2002-12-03 2007-07-11 皇家飞利浦电子股份有限公司 形成可变流体弯月面结构的装置
WO2004051323A1 (en) * 2002-12-03 2004-06-17 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus for forming variable fluid meniscus configurations
JP4491252B2 (ja) * 2003-01-31 2010-06-30 富士フイルム株式会社 エレクトロウェッティング装置および表示装置
JP2004252444A (ja) * 2003-01-31 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 表示装置
CN100388048C (zh) * 2003-02-26 2008-05-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有双稳态电润湿盒的无源矩阵显示器
JP2006519412A (ja) * 2003-02-26 2006-08-24 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 双安定エレクトロウェッティングセルを有するパッシブマトリックスディスプレイ
WO2004077124A1 (en) * 2003-02-26 2004-09-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. A passive matrix display with bistable electro-wetting cells
US7561131B2 (en) 2003-02-26 2009-07-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Passive matrix display with bistable electro-wetting cells
WO2004088714A3 (en) * 2003-04-03 2005-04-28 Nokia Corp Direct view display based on light diffraction from a deformable layer
KR101101381B1 (ko) 2003-05-06 2012-01-02 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 전기습윤 모듈
WO2004099845A1 (en) * 2003-05-06 2004-11-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electrowetting module
JP2007528009A (ja) * 2003-05-06 2007-10-04 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 切替え可能素子における駆動電圧の低減
US8031168B2 (en) 2003-05-22 2011-10-04 Samsung Lcd Netherlands R&D Center B.V. Display device having an electrode partially covering a picture element
CN100373208C (zh) * 2003-05-22 2008-03-05 皇家飞利浦电子股份有限公司 显示设备
EP1629314B1 (en) * 2003-05-22 2015-10-21 Liquavista B.V. Display device
US9548018B2 (en) 2003-05-22 2017-01-17 Amazon Technologies, Inc. Display device having an electrode partially covering a picture element
JP2005062864A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Lucent Technol Inc エレクトロウェッティング作動を有する光学ビームスプリッタ
JP2007508576A (ja) * 2003-10-08 2007-04-05 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ エレクトロウェッティング表示装置
JP2011118431A (ja) * 2003-10-08 2011-06-16 Koninkl Philips Electronics Nv エレクトロウェッティング表示装置
KR101057769B1 (ko) 2003-10-20 2011-08-19 엘지디스플레이 주식회사 화상변환용 렌즈 어레이와 이를 이용한 화상표시 장치 및방법
JP2005316473A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Samsung Electronics Co Ltd 光シャッタ及びそれを採用した光走査装置
CN100451724C (zh) * 2004-06-23 2009-01-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 双稳态电浸润光学元件及其驱动方法
US8172375B2 (en) 2004-12-17 2012-05-08 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Valve and actuator employing capillary electrowetting phenomenon
US8348391B2 (en) 2004-12-17 2013-01-08 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Valve and actuator employing capillary electrowetting phenomenon
US7839555B2 (en) 2005-01-13 2010-11-23 Sharp Kabushiki Kaisha Display device and electric apparatus using the same
US7558000B2 (en) 2005-03-08 2009-07-07 Sony Corporation Optical device
US7646545B2 (en) 2005-08-24 2010-01-12 Sony Corporation Optical element
US8064141B2 (en) 2005-08-24 2011-11-22 Sony Corporation Optical element
JP2007086451A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Sony Corp 光学素子
KR100646810B1 (ko) 2005-11-30 2006-11-23 이미지랩(주) 발광형 전기습윤 디스플레이 장치
KR100646815B1 (ko) 2005-11-30 2006-11-23 이미지랩(주) 전기습윤 디스플레이 장치
JP2007179044A (ja) * 2005-12-02 2007-07-12 Sony Corp 液体レンズ
JP2007206601A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Nikon Corp マイクロレンズアレイの製造方法、マイクロレンズの製造方法、及び表示装置の製造方法
KR100904310B1 (ko) 2006-06-12 2009-06-23 신병철 비전도성유체 내에서 밀도차에 의한 위치에너지를 갖는전도성액체의 이동을 일렉트로웨팅으로 통제하는 방법 및그에 따른 게이트 장치
KR101272895B1 (ko) 2006-06-30 2013-06-11 엘지디스플레이 주식회사 일렉트로 웨팅 디스플레이 소자
JP2008040455A (ja) * 2006-07-10 2008-02-21 Sony Corp レンズアレイ
WO2008007797A1 (fr) * 2006-07-10 2008-01-17 Sony Corporation Agencement de lentilles
US7952809B2 (en) 2006-07-10 2011-05-31 Sony Corporation Lens array
JP2008089752A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Sony Corp エレクトロウエッティング装置とこれを用いた可変焦点レンズ、光ピックアップ装置、光記録再生装置、液滴操作装置、光学素子、ズームレンズ、撮像装置、光変調装置及び表示装置
JP2008107826A (ja) * 2006-09-29 2008-05-08 Sony Corp エレクトロウエッティング装置とこれを用いた可変焦点レンズ、光ピックアップ装置、光記録再生装置、液滴操作装置、光学素子、ズームレンズ、撮像装置、光変調装置及び表示装置
JP2008170962A (ja) * 2006-12-14 2008-07-24 Sony Corp ディスプレイ用光学シャッタ、画像表示装置、ディスプレイ用光学シャッタ製造装置および方法
US9207459B2 (en) 2010-02-04 2015-12-08 Samsung Electronics Co., Ltd. 2D/3D switchable image display device
US8873004B2 (en) 2010-02-04 2014-10-28 Samsung Electronics Co., Ltd. 2D/3D switchable image display device
JP2012068332A (ja) * 2010-09-22 2012-04-05 Casio Comput Co Ltd 表示装置
KR101826034B1 (ko) * 2011-08-29 2018-02-07 엘지디스플레이 주식회사 전기습윤표시장치
WO2013109020A1 (ko) * 2012-01-20 2013-07-25 주식회사 나노브릭 광 투과 조절 방법, 광 투과 조절 장치 및 이를 제조하기 위한 방법
US9176315B2 (en) 2012-01-20 2015-11-03 Nanobrick Co., Ltd. Method for controlling optical transmissions, device for controlling optical transmissions, and method for manufacturing same
WO2014038360A1 (ja) * 2012-09-07 2014-03-13 富士フイルム株式会社 光学素子及び画像表示装置
JP2014052561A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Fujifilm Corp 光学素子及び画像表示装置
CN104749763B (zh) * 2013-12-30 2017-12-05 先进显示技术股份公司 带有存储通道的流体显示元件、特别是电流体显示元件
JP2015141375A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 国立大学法人福井大学 界面制御機構及び界面制御方法
JP2020505644A (ja) * 2017-01-26 2020-02-20 エルジー イノテック カンパニー リミテッド 液体レンズ
US11347127B2 (en) 2017-01-26 2022-05-31 Lg Innotek Co., Ltd. Liquid lens
JP7260473B2 (ja) 2017-01-26 2023-04-18 エルジー イノテック カンパニー リミテッド 液体レンズ
JP2018159748A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 スタンレー電気株式会社 光学素子
JP7048215B2 (ja) 2017-03-22 2022-04-05 スタンレー電気株式会社 光学素子

Also Published As

Publication number Publication date
US6603444B1 (en) 2003-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000356750A (ja) 表示素子および表示装置
JP5068353B2 (ja) 表示装置
US8289476B2 (en) Substrate structure of liquid crystal display and fabrication method thereof
US6917456B2 (en) Light modulator
US7826125B2 (en) Light conductive controlled shape droplet display device
US7274416B2 (en) Display device
US9086565B2 (en) Display device
KR101766878B1 (ko) 전기 영동 표시 장치 및 그 제조 방법
JPH09189869A (ja) 光変調装置及びディスプレイ装置
JP2002236290A (ja) 液晶表示装置及び照明装置
JP2000356751A (ja) 光スイッチ
US8896792B2 (en) Liquid crystal display device comprising a reactive mesogen that fixes liquid crystal molecules to form a liquid crystal domain
CN110989159A (zh) 一种基于介电润湿效应的液体光学调相装置
CN113204142A (zh) 液晶单元
JP2005062545A (ja) 露光処理用マスク、液晶配向用基板及び液晶配向用基板の製造方法
JP4499218B2 (ja) 反射型表示素子及び反射型表示装置
KR20030059818A (ko) 액정-디스플레이 디바이스를 위한 개구 프레임
KR100658081B1 (ko) 박막 트랜지스터 액정표시장치의 제조방법
JPH11264967A (ja) 液晶表示装置
KR970003458B1 (ko) 투사형화상표시장치용 거울의 제조방법
KR101294855B1 (ko) 액정표시장치용 보상 필름, 이의 제조 방법 및 이를구비하는 액정표시장치
JPH06180446A (ja) 液晶表示装置
KR980003760A (ko) 고분자 분산형 액정 표시 소자 및 그 응용 광 투사 장치
KR20030067944A (ko) 반도체 노광 장치
KR20050070471A (ko) 반사투과형 액정표시장치 및 그의 제조방법