JP2000269523A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JP2000269523A
JP2000269523A JP11070806A JP7080699A JP2000269523A JP 2000269523 A JP2000269523 A JP 2000269523A JP 11070806 A JP11070806 A JP 11070806A JP 7080699 A JP7080699 A JP 7080699A JP 2000269523 A JP2000269523 A JP 2000269523A
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semiconductor laser
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conversion device
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Toshihisa Hamano
利久 浜野
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Fuji Xerox Co Ltd
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成で受発光素子への電流注入を行う
ことができ、2次元アレイ化が容易な、光電変換素子を
提供する。 【解決手段】 受発光素子と該受発光素子と光ファイバ
ーとの結合を行う結合部とを有する光電変換装置におい
て、受発光素子が導電性基板のアレイ状に設けられた凹
部に保持されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光電変換装置に関
し、詳しくは、アレイ状に配置された受発光素子と光フ
ァイバーとの光結合を簡易な構成で効率よく行うための
光電変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光電変換装置では、図9
に示すように、透明樹脂基板411に受発光素子単体4
12とリードフレーム413とがを埋め込まれており、
透明樹脂基板411の上方にこれに接触するように光フ
ァイバー414が配置されている。この装置では、樹脂
中に埋め込まれた受発光素子412へ電流注入を行うた
めには、個別に電極端子を引き出すしかなく、電流注入
系が複雑化するという問題があった。
【0003】また、特開平4−21653号公報や特開平5−1
90908号公報には、保持基板に受発光素子単体を保持す
るような構造の光電変換装置が提案されている。この装
置は、より効率的にファイバー側に光を結合させるため
に、受発光素子の周囲を透明ではなく白色の樹脂にして
より集光効率を高めたものであり、受発光素子とファイ
バーとの結合方式については詳細な記載があるが、受発
光素子への電流注入の方法に関しては明確に記載されて
いない。
【0004】さらに、特開平8−271765号公報には、2
次元ファイバーリンクへの応用を考慮し、ファイバーと
受発光部との間に半円柱状のレンズ群を持つ2次元構成
が提案されている。このようなアレイ構成では、電流注
入系がさらに複雑化することが予想されるが、受発光素
子への電流注入の方法には言及されていない。
【0005】一方、電流注入系を簡素化するために、例
えば面発光レーザーアレイ等の共通下部電極が設けられ
た集積化素子をそのまま使用することも考えられる。し
かしながら、光ファイバーと受発光素子との結合部に
は、通常安価なプラスチックファイバーが使用されその
ピッチは通常250μm程度と大きい。従って、受発光素
子のピッチをプラスチックファイバーのピッチに合せる
とすれば、集積化素子を作製するのに結果として大きな
サイズの基板が必要になり、ロス部分も多くコスト高に
なってしまう。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであり、本発明の目的
は、簡易な構成で受発光素子への電流注入を行うことが
でき、2次元アレイ化が容易な、光電変換素子を提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、下記手段により上記課題が解決されることを見出
した。すなわち、本発明の光電変換装置は、受発光素子
と該受発光素子と光ファイバーとの結合を行う結合部と
を有する光電変換装置において、前記受発光素子が、導
電性基板のアレイ状に設けられた凹部に保持されること
を特徴とする。
【0008】本発明の光電変換装置においては、前記導
電性基板の裏面に電極を設け、各受発光素子についての
共通電極として使用することが好ましい。また、前記凹
部がテーパ状であることが好ましく、前記受発光素子は
その凹部に半田等の導電性材料により固着されているこ
とが好ましい。さらに、受発光素子を保持する前記凹部
は、異方性エッチングにより形成されることが好まし
い。
【0009】本発明においては、受発光素子を保持する
基板を導電性基板としたことにより、従来、受発光素子
の裏面で取られた接地電位を素子保持基板全面でとるよ
うにすることができ、ここに共通電極を設けることで電
流注入系の構成を簡素化することができる。また、接地
面積も広く、確実に接地を行うことができる。
【0010】また、導電性基板に深さ方向に狭くなるテ
ーパ状の凹部を設けることで、受発光素子の垂直方向
(Z方向)の位置制御を容易に行うことができ、また、
この凹部に半田を流し込み、受発光素子を側壁から浮か
せた状態で半田との接触面積を大きくして固定すること
により、電流注入効率を高めることができる。
【0011】さらに、導電性基板上に、フォトリソグラ
フィーあるいはスクリーン印刷などの高精度での位置決
めが可能な方法で凹部を形成することで、受発光素子と
光ファイバーとの水平方向(XY方向)での位置合わせ
の精度を上げることができ、また、凹部側壁の鏡面性が
確保される。
【0012】また、アレイ化した場合にも、装置全体の
コストアップを抑えるため、直接2次元状のレーザーア
レイを使用して全体を作製するのではなく、割高な化合
物半導体の基板の使用量を極力抑制し、単体のレーザー
あるいは1次元状に作ったレーザーを基板の上に並べて
形成し、材料及び加工上からも安価である2次元状の光
電変換装置を提供することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の光電変換装置について詳細に説明する。図1は、本発
明の第1の実施形態に係る光電変換装置の斜視図であ
り、図2は、図1に示す光電変換装置における発光素子
と光ファイバーの結合部分のAA断面図である。
【0014】図1及び図2に示すように、本発明の第1
の実施形態に係る光電変換装置は、面発光型半導体レー
ザ素子10と、面発光型半導体レーザ素子10を保持す
るためのSi導電性基板12と、面発光型半導体レーザ
素子10と光ファイバー14との結合を行う結合部とし
ての透明マイクロレンズ16とから構成されている。
【0015】Si導電性基板12には、深さ方向に狭く
なるテーパ状の凹部18がアレイ状に設けられ、面発光
型半導体レーザ素子10がこの凹部18に保持され、半
田21によりSi導電性基板12に固着されている。透
明マイクロレンズ16は、凹部18の内部を埋め、凹部
18の開口部を半球状に覆い、かつ光ファイバー14の
端面と接触する様に設けられている。Si導電性基板1
2表面の凹部18以外の部分はSiO2からなる絶縁膜
20で覆われている。絶縁膜20上の一部には上部電極
22が設けられ、上部電極22は面発光型半導体レーザ
素子10の上側電極11とワイヤボンディング24によ
り接続されている。
【0016】この光電変換装置においては、上部電極2
2からワイヤボンディング24を介して電流が注入さ
れ、凹部18に保持された面発光型半導体レーザ素子1
0が発光する。この発光光は透明マイクロレンズ16に
よって光ファイバー14の端面に集光される。この際、
各面発光型半導体レーザ素子10はSi導電性基板12
側から共通電極をとることができるので、各面発光型半
導体レーザ素子10の電位をSi導電性基板12全体の
電位と同一にすることができる。また、Si導電性基板
12の加工面は鏡面仕上げとなっているために光源のパ
ワーはロスすることなく反射して光ファイバー14側へ
送られることになる。さらに、半田の量を定量すること
で、チップの高さ方向の位置決めが正確に行えるように
なり、透明マイクロレンズ16による光ファイバー14
との結合を正確に行うことができ、優れた光利用効率を
発揮することができる。
【0017】次に、本発明の第1の実施形態に係る光電
変換装置の製造工程を、図3〜図6を参照しながら説明
する。
【0018】図3に示すように、高濃度のリンをドープ
した(100)のSi導電性基板12を加熱し、基板表
面全面にSiO2からなる絶縁膜20を形成する。引き
続いてSi導電性基板12上に上部電極22のパターン
を通常のフォトリソグラフィー技術を用いて予め形成し
ておく。
【0019】次に、図4に示すように、Si導電性基板
12に、SiO2絶縁膜20をマスクとして、異方性エ
ッチングにより面発光型半導体レーザ素子10を落とし
込む四角錘状の凹部18を形成する。エチレンジアミン
・ピロカテコール・水の混合液を循環系にして薬液の成
分を変えないようにしてエッチングを行い、深さ方向に
先が尖った四角錐の凹部18が得られた。なお、異方性
エッチングでは、表面の正方形の1辺(円ならばその直
径)から深さが決まるので、この深さがSi導電性基板
12より浅くなるように設定する。
【0020】その後、図5に示すように、Si導電性基
板12を加熱しながら一定量の半田21を凹部18に流
し込む。流動状態にある半田21は表面張力によりその
表面積がほぼ一定に保たれている。ここに裏面をAu−
Geを約100nmの厚さで塗布してオーミックコンタ
クトをとった面発光型半導体レーザ素子10を入れる。
面発光型半導体レーザ素子10は半田21の量に応じて
決まった高さに浮くような状態で凹部18中の所定の位
置に保持され、これを冷却することにより固定される。
【0021】図6に示すように、基板側に共通電極26
を形成し、面発光型半導体レーザ素子10の上側電極1
1と上部電極22とをワイヤボンディング24により接
続した後、透明樹脂を各凹部18に入れて固化し、透明
マイクロレンズ16を形成する。
【0022】最後に、光ファイバー14を、透明マイク
ロレンズ16に密着させるようにしたまま固定し結合を
完成させることにより、図1及び図2に示す光電変換装
置が得られる。
【0023】図7は、本発明の第2の実施形態に係る光
電変換装置の断面図であり、図8は、図7に示す光電変
換装置を上から見た平面図である。
【0024】本発明の第2の実施形態に係る光電変換装
置は、面発光型半導体レーザ素子を素子単体ではなく、
化合物半導体基板上に作製した複数の面発光型半導体レ
ーザ素子(以下、面発光レーザアレイと称する。)を基
板ごと凹部に固定した以外は、第1の実施形態に係る光
電変換装置と同様であるため、同様の構成部分について
は同一符号を付して説明を省略する。
【0025】図7及び図8に示すように、面発光レーザ
アレイ30には、4つの面発光型半導体レーザ素子10
が長方形の化合物半導体基板32上に直線状に並ぶよう
に作製されている。Si導電性基板12には、底部に長
方形の平面領域を有し深さ方向に狭くなるテーパ状の凹
部18が2本平行に設けられ、面発光レーザアレイ30
がこの凹部18に保持され、半田21によりSi導電性
基板12に固着されている。透明マイクロレンズ16
は、凹部18の内部を埋め、凹部18の開口部をかまぼ
こ状に覆い、かつ光ファイバー14の端面と接触する様
に設けられている。絶縁膜20上の一部に設けられた上
部電極22は面発光レーザアレイ30上に設けられた4
つの面発光型半導体レーザ素子10のそれぞれとワイヤ
ボンディング24により接続されている。
【0026】この光電変換装置においても、第1の実施
形態に係る光電変換装置と同様に、上部電極22からワ
イヤボンディング24を介して電流が注入され、凹部1
8に保持された面発光型半導体レーザ素子10が発光す
る。この発光光は透明マイクロレンズ16によって光フ
ァイバー14の端面に集光される。また、各面発光型半
導体レーザ素子10はSi導電性基板12側から共通電
極をとることができるので、各面発光型半導体レーザ素
子10の電位をSi導電性基板12全体の電位と同一に
することができる。また、この実施形態では、第1の実
施形態よりも集光の性能は悪くなるが、Si導電性基板
12内面のミラー効果により十分な集光性能を得ること
ができる。
【0027】なお、第2の実施形態では、4つの面発光
型半導体レーザ素子10を長方形の化合物半導体基板3
2上に直線状(1次元)に並べた面発光レーザアレイの
例を示しているが、面発光型半導体レーザ素子10は2
次元に配置されていてもよく、また1次元の面発光レー
ザアレイを複数本並べて2次元にしてもよい。
【0028】第1及び第2の実施形態では、受発光素子
として面発光型半導体レーザ素子を用いたが、これに限
定されることなく、裏面に共通電極を有するLEDやL
Dを逆バイアスで使った受光素子、つまり受発光集積化
素子にも適用することができる。
【0029】第1の実施形態では、光ファイバーと光学
素子間の光結合をとるための透明マイクロレンズ16と
して、特開平5−190908号公報に記載されているよう
に、透明樹脂によるマイクロレンズを一素子ずつ作製
し、また、第2の実施形態では、特開平8−271765号公
報に記載されているように、上部にかまぼこ状の半円柱
型のレンズを作製したが、透明マイクロレンズ16の形
状はこれに限られず、受発光素子の形態に応じて適宜変
更することができる。たとえば、特開平9−90162号公報
に記載されているような2次元状のマイクロレンズアレ
イを使用することもできる。
【発明の効果】本発明によれば、簡易な構成で受発光素
子への電流注入を行うことができ、2次元アレイ化が容
易な、光電変換素子が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置の
斜視図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置に
おける発光素子と光ファイバーの結合部分のAA断面図
である。
【図3】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置の
製造工程を説明するための概略断面図である。
【図4】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置の
製造工程を説明するための概略断面図である。
【図5】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置の
製造工程を説明するための概略断面図である。
【図6】本発明の第1の実施形態に係る光電変換装置の
製造工程を説明するための概略断面図である。
【図7】本発明の第2の実施形態に係る光電変換装置の
断面図である。
【図8】本発明の第2の実施形態に係る光電変換装置の
平面図である。
【図9】従来の光電変換装置の構成を示す概略断面図で
ある。
【符号の説明】
10 面発光型半導体レーザ素子 11 半導体レーザ素子の上側電極 12 Si導電性基板 14 光ファイバー 16 透明マイクロレンズ 18 凹部 20 絶縁膜 21 半田 22 上部電極 24 ワイヤボンディング 26 共通電極 30 面発光レーザアレイ 32 化合物半導体基板

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 受発光素子と該受発光素子と光ファイバ
    ーとの結合を行う結合部とを有する光電変換装置におい
    て、 前記受発光素子が、導電性基板のアレイ状に設けられた
    凹部に保持されることを特徴とする光電変換装置。
  2. 【請求項2】 前記導電性基板は、その裏面に電極が設
    けられている請求項1に記載の光電変換装置。
  3. 【請求項3】 前記凹部がテーパ状である請求項1また
    は2に記載の光電変換装置。
  4. 【請求項4】 前記受発光素子は、導電性材料により凹
    部に固着されている請求項1から3までのいずれか1項
    に記載の光電変換装置。
  5. 【請求項5】 前記凹部は、異方性エッチングにより形
    成される請求項1から4までのいずれか1項に記載の光
    電変換装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100360892B1 (ko) * 2000-12-15 2002-11-13 엘지전자 주식회사 광섬유 정렬소자 및 그 제조방법
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KR100437231B1 (ko) * 2000-09-21 2004-06-23 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 커플링 장치 및 방법
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KR100984126B1 (ko) 2009-03-30 2010-09-28 서울대학교산학협력단 발광소자 코팅 방법, 광커플러 및 광커플러 제조 방법

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