JP2000260072A - 光ディスクの貼り合わせ方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 二枚の基板を接着剤によって貼り合わせてな
る光ディスクにおいて、硬化接合での基板の反り量を記
録範囲全面にわたり高精度に確保することが可能な光デ
ィスクの貼り合わせ方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 紫外光照射時に第１基板及び第２基板を
保持・位置決めして基板の反りを矯正すると共に、硬化
時の反りを抑制する。また、紫外光の照度を緩やかに接
着剤に作用させ、硬化収縮による基板の歪みと輻射熱の
影響を減らして貼り合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１枚に
情報を記録した２枚の樹脂成形した円板やガラス基板を
対向配置して、これらを紫外光硬化接着剤などで接合固
着する貼り合わせタイプの光ディスクの貼り合わせ方
法、及び貼り合わせ方法を実行する貼り合わせ装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】樹脂材にて円盤状に成形されかつ情報記
録した２枚の光ディスクをそれぞれの厚み方向に貼り合
わせる方法として、図５（Ａ）〜（Ｄ）に示す方法がよ
く知られている。即ち、上記光ディスクを構成する一方
の第１基板２の情報記録側５１の面に、紫外光反応硬化
型の接着剤４を、矢印ＰＩ方向に回転させながらノズル
５にて適量塗布した後、他方の第２基板３を矢印ＰＩＩ
の方向に落下させ、上記塗布された接着剤４を介して第
１基板２に対向させる。次に、第１基板２と第２基板３
とを矢印ＰＩの方向に高速で回転させることにより、第
１基板２と第２基板３の間に未硬化の接着剤４Ａを形成
する。次に、第１基板２及び第２基板３の一方若しくは
両方から、紫外光５４を照射することで、上記接着剤４
Ａが硬化して第１基板２と第２基板３との貼り合わせが
完了する。

【０００３】上記接着剤４Ａを固化させ貼り合わせる装
置は、図６に示すように、基板を位置決めする基準ピン
６０を埋設した保持部材６１と、上記保持部材６１を矢
印ＰＩＩＩ方向に搬送する例えばインデックス機構にて
なる搬送装置６２と、紫外光発生装置６３と、上記搬送
装置６２と、上記紫外光発生装置６３のオン／オフを制
御する制御装置６４とを備える貼り合わせ装置にて実行
される。また、その生産形態は図７に示すように、未硬
化の接着剤４Ａを形成した第１基板２と第２基板３は矢
印ＰＩＶ方向より基板供給装置（図示せず）により供給
され、複数個からなる保持部材６１に自然状態で位置決
め設置される。上記保持部材６１に設置された第１基板
２と第２基板３はインデックス機構６２により矢印ＰＩ
ＩＩ方向に順次繰り出され、紫外光５４の照射出力をそ
れぞれに制御した複数台の紫外光発生装置６３内を矢印
ＰＶ方向に速度一定に通過する。上記紫外光発生装置６
３の斜線で示された集光位置６５を通過させると、紫外
線照射により接着剤４Ａが硬化して第１基板２と第２基
板３とが貼り合わせられる。貼り合わされた基板は矢印
ＰＶＩ方向に更に繰り出され、検査工程（図示せず）を
経て上記保持部材６１から基板取り出し装置（図示せ
ず）によって矢印ＰＶＩＩ方向に取り出される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】光ディスクの内、例え
ば図８に示すようなＤＶＤ（デジタルバーサタイルディ
スク）の片面再生二層式ディスクの光ディスクは、当該
光ディスク１の厚み方向に二層に形成された記録情報６
Ａ，６Ｂのそれぞれを当該光ディスク１の片面から投射
するレーザー光７で正確に読みとる必要があり、レーザ
ー光の入射及び反射を阻害することがないように、貼り
合わせた第１基板２と第２基板３の傾きθ量を記録範囲
全面にわたり所定規格内に確保しなければならない。
尚、第１基板２における情報記録範囲には反射膜８が形
成され、第２基板３における情報記録範囲には半透明膜
９が形成されている。

【０００５】しかしながら、図６で上述した未硬化の接
着剤４Ａを形成した第１基板２と第２基板３を保持部材
６１に自然状態で位置決め設置し、複数台の紫外光発生
装置６３の紫外光照射出力や通過速度を一定条件で制御
するのみでは、貼り合わせた基板の鉛直方向及び円周方
向に反りが発生し、その量を記録範囲全面にわたり所定
規格内に押さえることは困難である。

【０００６】上記反りが発生する現象について図９
（Ａ）〜（Ｃ）を用いて説明する。

【０００７】第１基板２と第２基板３とが接着剤層４を
介して貼り合わされ静止した状態において、未硬化の接
着剤４Ａを紫外光５４の作用位置に近付けると、接着剤
４Ａは順次反応硬化するが、図９（Ａ）に示すように、
紫外光５４の集光位置は接着剤４Ａに対してライン状９
０に作用するため、硬化する体積は、基板の面９１上に
おいて、例えば〜の進行の順に伴い変化する。ま
た、図９（Ｂ）に示すように、紫外光５４による未硬化
の接着剤４Ａの反応硬化時の発熱部９３と、紫外光発生
装置６３の輻射熱９２により第２基板３が矢印ＰＶＩＩ
Ｉ方向に一旦膨張し、下方向に反りを発生させつつ硬化
する。更に、図９（Ｃ）に示すように、冷却と共に矢印
ＰＩＸ方向に収縮が進行して、最終的に上方向に不均一
な反りを発生させた状態となる。即ち、紫外光５４によ
る接着剤４Ａの硬化時にディスク１を著しく不定形に変
形させることとなる。

【０００８】図１０は上記紫外光発生装置６３の紫外線
照射出力が７０％時の貼り合わせ実験におけるディスク
１の変形量の結果で、横軸をディスク１の中心からの半
径（ｍｍ）、縦軸をディスク１の変位量（μｍ）で示し
ており、著しく不定形にディスク１が変形していること
が明らかである。

【０００９】また、高温で基板を形成する射出成形過程
において、金型精度や成形条件により第１基板２や第２
基板３の精度が決定されるが、直径１２０ｍｍに対して
厚みが０．６ｍｍと薄い為、成形時の各条件に敏感に影
響を受け、成形品内部に歪みが発生し易い事は周知の事
実である。更に、金型より取り出された後、大気中での
自然冷却過程で表裏の温度勾配も生じるため、貼り合わ
せ前に既に半径方向９４及び円周方向９５共に不均一で
繰り返し性の無い反りを有した形状となっている。

【００１０】また、上記の図８で述べたように、第１基
板２における情報記録範囲には反射膜８が形成され、第
２基板３における情報記録範囲には半透明膜９が形成さ
れるが、膜付けによる表面層の歪みにより反りが発生す
ることも周知の事実である。

【００１１】即ち、前述のような内部歪みと不均一な反
りを有した２枚の基板を、熱変形と硬化収縮を伴う紫外
光にて貼り合わせる事から、硬化接合での基板の反り量
を記録範囲全面にわたりねらい通りに確保し、長時間維
持する事が非常に困難とされた。

【００１２】従って、本発明の目的は、上記問題を解決
することにあって、２枚の基板を接着剤によって貼り合
わせてなる光ディスクにおいて、硬化接合での基板の反
り量を記録範囲全面にわたり規格内に確保することが可
能な光ディスクの貼り合わせ方法、及びその装置を提供
することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は以下のように構成する。

【００１４】本発明の第１態様によれば、紫外光反応硬
化接着剤を介して厚み方向に重ねた円板状の第１基板及
び第２基板に、紫外光集光位置で紫外光を照射して上記
接着剤を固化させて光ディスクを形成する光ディスクの
貼り合わせ方法であって、上記紫外光照射時に、上記第
１基板及び上記第２基板を保持しながら、上記第１基板
及び上記第２基板を円弧軌跡をたどりつつ上記紫外光集
光位置に徐々に近づけて上記紫外光集光位置を通過させ
ることにより、上記接着剤に対する上記紫外光の照度を
緩やかに作用させながら上記接着剤を固化することを特
徴とする光ディスクの貼り合わせ方法を提供する。

【００１５】本発明の第２態様によれば、上記紫外光照
射時に上記第１基板の下面と上記第２基板の上面の距離
を一定に保ちつつ、上記第１基板及び上記第２基板を円
弧軌跡をたどりつつ上記紫外光集光位置に徐々に近づけ
て上記紫外光集光位置を通過させることにより、上記第
１基板及び上記第２基板の反りを矯正しながら上記接着
剤に上記紫外光を照射して上記接着剤を固化する第１態
様記載の光ディスクの貼り合わせ方法を提供する。

【００１６】本発明の第３態様によれば、上記紫外光照
射時に上記第１基板の下面を吸引により吸着し、上記第
１基板の下面を吸着した状態で上記光ディスクが上記円
弧軌跡をたどりつつ上記紫外光集光位置に徐々に近づけ
て上記紫外光集光位置を通過させることにより、上記第
１基板及び上記第２基板の反りを矯正しながら上記接着
剤に上記紫外光を照射して上記接着剤を固化する第１又
は２態様記載の光デイスクの貼り合わせ方法を提供す
る。

【００１７】本発明の第４態様によれば、上記接着剤の
固化後の上記第１基板の反り量を見込んだ吸着形状を持
つ吸着面により上記第１基板の下面を吸着し、上記紫外
光集光位置に円弧軌跡をたどりつつ徐々に近づけて上記
紫外光集光位置を通過させることにより、上記第１基板
及び上記第２基板の反りを矯正しながら上記接着剤に上
記紫外光を照射して上記接着剤を固化する第３態様に記
載の光ディスクの貼り合わせ方法を提供する。

【００１８】本発明の第５態様によれば、上記紫外光集
光位置の中心部分で上記ディスクを上記紫外光の照射側
に上昇させる一方、上記紫外光集光位置の中心部分に到
達するまでの領域と到達後の領域では上記ディスクを上
記紫外光の照射側から離れるように下降させるようにし
た第１〜４のいずれかの態様に記載の光デイスクの貼り
合わせ方法を提供する。

【００１９】本発明の第６態様によれば、紫外光反応硬
化接着剤を介して厚み方向に重ねた円板状の第１基板及
び第２基板に、紫外光集光位置で紫外光を照射して上記
接着剤を固化させ光ディスクを形成する光ディスクの貼
り合わせ装置であって、上記第１基板を保持する保持装
置と、し、上記保持装置に保持された上記第１基板に対
して開閉することにより、上記第２基板側から上記第１
基板に向けて上記第２基板の押圧又は位置決めを行う押
圧位置決め装置と、上記保持装置に保持された上記第１
基板の中心から上記保持装置外の所定位置までを半径と
した円弧軌跡の周方向に沿って上記ディスクが移動する
ように、上記保持装置と上記押圧位置決め装置を連続又
は間欠に移動して、上記紫外光の上記紫外光集光位置で
上下動しながら上記円弧軌跡をたどりつつ上記紫外光集
光位置を通過させる回転昇降装置と、上記円弧軌跡上の
上記紫外光集光位置で上記紫外光を上記ディスクに向け
て照射させる紫外光照射装置と、を備えたことを特徴と
する光ディスクの貼り合わせ装置を提供する。

【００２０】本発明の第７態様によれば、上記回転昇降
装置に接続され、上記接着剤の固化後の反り量を最小で
均一にするため紫外光集光位置到達軌跡及び到達速度
と、紫外光集光位置回避軌跡及び回避速度を制御して、
上記紫外光の照度を緩やかに作用させる制御装置を備え
た第６態様に記載の光ディスクの貼り合わせ装置を提供
する。

【００２１】本発明の第８態様によれば、上記制御装置
は、上記紫外光集光位置の中心部分で上記ディスクを上
記紫外光の照射側に上昇させる一方、上記紫外光集光位
置の中心部分に到達するまでの領域である上記紫外光集
光位置到達軌跡と到達後の領域である上記紫外光集光位
置回避軌跡では上記ディスクを上記紫外光の照射側から
離れるように下降させるようにした第７態様に記載の光
デイスクの貼り合わせ装置を提供する。

【００２２】本発明の第９態様によれば、上記保持装置
と、上記押圧位置決め装置に接続され、上記接着剤の固
化後の反りを最小で均一にするため、上記第１基板の吸
引力の大きさと吸引維持時間及び上記第２基板の押圧力
の大きさと吸引維持時間を制御して、上記紫外光照射時
に矯正力を作用させる制御装置を備えた第６態様に記載
の光ディスクの貼り合わせ装置を提供する。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明にかかる実施の形
態を図面に基づいて詳細に説明する。

【００２４】本発明の実施形態における光ディスクの貼
り合わせ方法、及び該貼り合わせ方法を実行する光ディ
スク貼り合わせ装置について図を参照しながら以下に説
明する。尚、各図において同じ構成部分については同じ
符号を付している。

【００２５】図１に示す本発明の一実施形態にかかる光
ディスクの貼り合わせ装置は、基本的に上述した従来の
光ディスクの貼り合わせ装置と同様に、紫外光反応硬化
接着剤４を介して厚み方向に重ねた円板状の第１基板２
及び第２基板３に、紫外光５４を接着剤４に照射して接
着剤４を固化させてディスク１を形成する装置である。
上記実施形態にかかる上記光ディスクの貼り合わせ装置
は、大別して、ディスク１の一部を構成する第１基板２
を保持する保持装置１０と、ディスク１の残りの一部を
構成する第２基板３を第１基板２に対して所定の押圧位
置に位置決め保持する押圧位置決め装置１１と、上記デ
ィスク１の回転装置１２と、上記保持装置１０の昇降装
置１３と、上記ディスク１に対して紫外光を照射する紫
外光照射装置１４と、上記各装置の動作を制御する制御
装置１５とを備える。尚、このディスク１は、一例とし
て、上述のように、第１基板２における情報記録範囲に
は反射膜が形成され、第２基板３における情報記録範囲
には半透明層が形成されている。即ち、上記ディスク１
は第２基板３側より接着剤４に紫外光５４を受けるもの
である。

【００２６】上記保持装置１０は、本実施形態では吸着
動作により上記第１基板２の下面（裏面）２Ａを吸着し
て上記第１基板２を保持し、かつ、上記第１基板２の裏
面２Ａより強制的に吸着することにより、上記第１基板
２の成形や膜付けで生じた歪みを矯正して上記第１基板
２の上面すなわち接着面を高精度に平坦に維持する装置
である。この保持装置１０は、上記第１基板２を吸着保
持するための後述の吸着プレート２０と、該吸着プレー
ト２０を支持するアーム２２と、該アーム２２に接続さ
れ上記吸着動作を行わせる吸引装置１００とを備える。
尚、本実施形態では、上記吸引装置１００として、真空
ポンプ２３と制御用開閉弁２４を使用しており、その真
空圧力は一例として約−１５０ｍｍＨｇである。なお、
上記保持装置１０は、後述するように、回転装置１２の
主軸４７を中心として公転する。

【００２７】上記吸着プレート２０は、第１基板２の直
径寸法にほぼ等しい外径寸法を有する円形板であって、
下方の裏面に円形の彫り込みの空気室２５が設けられ、
上記空気室２５内に上記吸着動作により空気が通過可能
なように、半径方向と円周方向にほぼ一定距離で複数の
小径穴から成る通気孔２６を設けている。また、その中
心部には凸設した基準ピン２１を有する。第１基板２及
び第２基板３の中心部には一例として直径１５．０８ｍ
ｍの貫通穴がそれぞれ形成されており、上記基準ピン２
１は上記貫通穴にそれぞれ嵌合され且つ貫通し、第１基
板２及び第２基板３の吸着プレート２０に対する位置決
めを行う。第１基板２が吸着プレート２０上に載置され
て、上記吸引装置１００の真空ポンプ２３を駆動して制
御用開閉弁２４を開くことによる上記吸着プレート２０
の上記吸着動作により、第１基板２を吸着プレート２０
に吸着保持するようにしている。第１基板２を吸着保持
する吸着プレート２０の吸着面２７は高精度（例えば１
／２００［ｍｍ］＝８μｍ程度の精度）に平面加工が施
され、その吸着面２７の素材は蓄熱対策のため放熱性に
優れたアルミ合金を一例として用いている。

【００２８】上記吸着プレート２０の裏面にシール材２
８を塗布した後、アーム２２に上記吸着プレート２０を
固着すると、上記吸着プレート２０の上記円形の彫り込
みは上記空気室２５として機能する。また、アーム２２
には、一端（上端）が上記空気室２５に開口し他端（下
端）が第１チューブ２９に連結される空気通路３０を設
けている。上記空気通路３０の上記他端に連結された上
記第１チューブ２９は、後述の回転装置１２の回転用部
材１２Ａに連結されて該回転用部材１２Ａの空気通路５
８を経由した後、更に、第２チューブ３１に連結した真
空経路から、真空圧力計が付属した上記制御用開閉弁２
４を経由して上記真空ポンプ２３に連結される。よっ
て、上記空気室２５内は上記吸引装置１００によって負
圧に設定される。また、上記空気室２５は、吸着プレー
ト２０に備わるすべての通気孔２６における空気体積の
例えば５〜８倍の容積とすることにより、上記真空ポン
プ２３の脈動の影響なく、すべての通気孔２６において
均一な吸着圧力で第１基板２を吸着することができる。
尚、上記アーム２２は、その基端が、後述する回転装置
１２の回転用部材１２Ａの主軸４７の上端部に挿通され
て固着され、主軸４７と一体的に回転可能となってい
る。

【００２９】上記押圧位置決め装置１１は、本実施形態
では押圧動作により、第２基板３の成形や膜付けで生じ
た歪みを、第２基板３の上面３２側より、押圧矯正し又
は押圧矯正しつつ位置決めし、第１基板２の接着面と第
２基板３の接着面の隙間を例えば６０μｍ前後に維持す
る装置である。上記押圧位置決め装置１１は、押圧プレ
ート３３と、該押圧プレート３３を保持する保持部材３
４と、該保持部材３４を開閉駆動する開閉駆動部材３５
と、その開閉駆動力を発生させる開閉動力発生部材３６
とを備える。尚、本実施形態では、上記開閉動力発生部
材３６としてエアー圧力にて作動する制御用開閉弁付き
ロータリアクチュエータを使用している。そのエアー圧
力は一例として約４ｋｇ／ｍｍ²である。

【００３０】上記押圧プレート３３は、第２基板３の直
径寸法よりも例えば約２０ｍｍ大きい外径寸法で、その
中心部には上記吸着プレート２０の中心部に設けた基準
ピン２１の逃げ穴３７を有している。また、上記押圧プ
レート３３は、紫外光５４による劣化防止と拡散防止と
紫外光５４を高率で透過させる目的で、表裏に平面加工
を施し高精度に研磨した石英ガラス材で構成し、後述の
保持部材３４に固着される。

【００３１】上記保持部材３４の素材は、軽量化と蓄熱
対策のため放熱性に優れたアルミ合金を一例として用
い、且つ、紫外光透過のため、上記押圧プレート３３を
保持する上記保持部材３４の固着部３８の内径寸法より
も例えば約１０ｍｍ小さい内径寸法の貫通穴又は透過部
３４ａ（図２参照）を備えている。また、上記保持部材
３４の固着部３８の押圧プレート３３と接触する面は高
精度に平面加工が施されている。上記保持部材３４の端
部には、後述のシャフト４１が挿通する貫通穴３９が設
けられ、上記吸着プレート２０の中心を起点として上記
保持部材３４が回転開閉可能な位置に配置した後述の開
閉駆動部材３５に上記保持部材３４の端部が連結されて
いる。

【００３２】上記開閉駆動部材３５は、上記保持装置１
０のアーム２２と締結固着され、ベアリング（図示せ
ず）を内蔵したべース４０とシャフト４１と該シャフト
４１の一端に締結したプーリー４２とタイミングベルト
４３とより構成する。

【００３３】上記開閉動力発生部材３６のロータリアク
チュエーターの端部にはプーリー４４が固定され、該プ
ーリー４４は上記タイミングベルト４３により上記プー
リー４２に連結される。上記開閉動力発生部材３６を作
動させると、プーリー４４が正逆回転するとともにタイ
ミングベルト４３により上記プーリー４２も正逆回転
し、上記押圧プレート３３を固着した保持部材３４が、
図２に示すように、シャフト４１の中心軸回りに矢印Ｉ
方向に正逆回転しながら上記保持装置１０に対して開閉
する。

【００３４】紫外光集光位置の中心と一致させる必要が
あるため、上記回転装置１２は、その回転用部材１２Ａ
の回転中心から上記保持装置１０の中心すなわち上記保
持装置１０の吸着プレート２０の吸着面２７の中心（実
際には基準ピン２１の中心軸）までの距離を最大半径Ｒ
（図１参照）とし、上記保持装置１０と上記押圧位置決
め装置１１により矯正されつつ保持されたディスク１の
中心が上記最大半径Ｒの円周の周方向ＩＩＩ沿いに円軌
跡、少なくとも円弧軌跡に沿って、移動するように、上
記矯正されつつ保持されたディスク１を連続又は間欠に
回転移動して後述の紫外光発生装置１４の下面を通過さ
せる装置であり、上記回転用部材１２Ａと保持部材１２
Ｂとより構成する。

【００３５】上記回転用部材１２Ａの主軸４７は異径
（上端部の外周部の一部を切り欠いて平坦な部分を形成
して、該平坦な部分が存在することにより上記アーム２
２と一体的に回転するような形状、すなわち、上記アー
ム２２は、その基端が、後述する回転装置１２の回転用
部材１２Ａの主軸４７の上端部に挿通されて固着され、
主軸４７と一体的に回転可能となるような形状）であ
り、ローラーベアリング４８を内蔵した上記保持部材１
２Ｂのホルダー４９に回転可能に、かつローラーベアリ
ング４８を挟む上下一対のスラストベアリング５０と下
側のスラストベアリング５０の下端側に配置されたナッ
ト５２で支持されている。よって、ホルダー４９は、上
記保持装置１０が上記ディスク１の回転方向沿いに平行
に動作するように作用する。また、主軸４７の下部には
プーリー５３が軸方向には摺動可能にかつ相対的回転不
可に嵌合され、モータ５５に連結されたプーリー５６と
主軸４７のプーリー５３との間にタイミングベルト５７
が掛け回されている。よって、主軸４７は、モータ５５
の回転駆動によりプーリー５６とタイミングベルト５７
とプーリー５３とを介して回転可能となる。尚、プーリ
ー５３とプーリー５６の回転比は１／４〜１／６として
いる。また、主軸４７には、一端が上記第１チューブ２
９に他端が第２チューブ３１に連結する上記空気通路５
８を延在方向に沿って形成しており、主軸４７の回転に
より上記第２チューブ３１がねじれないよう回転式チュ
ーブフィット５９を用いている。

【００３６】上記昇降装置１３は、上記保持装置１０と
上記押圧位置決め装置１１により矯正されつつ保持され
たディスク１を上記回転装置１２にて上記周方向ＩＩＩ
に連続又は間欠に回転移動して、後述の紫外光発生装置
１４の下面を通過させる過程において上記紫外光発生装
置１４までの上下方向の距離を変化させる装置で、取付
部材１３Ａと昇降動力発生部材１３Ｂとより構成する。

【００３７】上記取付部材１３Ａは、ベアリング（図示
せず）内蔵のスライダ７０と、機器を配置したベース７
１と、上記スライダ７０とべース７１を連結するガイド
レール７２とより構成され、スライダ７０を上下に軽快
に移動可能としている。また、スライダ７０は矢印ＩＩ
の真直方向下面から昇降動力発生部材１３Ｂと連結され
る。尚、本実施形態では、上記昇降動力発生部材１３Ｂ
として、エアー圧力にて作動するエアーシリンダー４５
と制御用開閉弁４６を使用している。そのエアー圧力は
一例として約４ｋｇ／ｍｍ²である。

【００３８】上記回転装置１２のホルダー４９は昇降装
置１３のスライダ７０に固着される。この結果、上記エ
アーシリンダー４５の駆動により、スライダ７０を上下
に移動させると、スライダ７０に連結された上記回転装
置１２のホルダー４９も上下方向に昇降移動する。よっ
て、回転装置１２の回転動作と昇降装置１３の上下動作
により、上記保持装置１０と押圧位置決め装置１１は、
図３において矢印ＩＩＩ方向の回転移動と矢印ＩＶ方向
の昇降移動が可能となる。

【００３９】また、上記ホルダー４９の昇降移動により
プーリー５３の位置変化を防止するため、プーリーガイ
ド７３が上記ベース７１に締結されている。よって、上
記ホルダー４９が昇降移動しても、プーリーガイド７３
により、上記ホルダー４９に連結されたプーリー５３が
上記ホルダー４９とともに昇降するのを規制されるが、
回転運動はプーリー５３からホルダー４９に伝達できる
ようにしている。

【００４０】上記紫外光発生装置１４は、一定の波長を
有する紫外光を安定に効率よく発生させて上記接着剤４
を硬化させる装置であり、電源部７４と発光ランプ７５
と反射板７６と筐体７７とより構成されている。筐体７
７内には、冷却用エアーの吸気口７８と排気口７９を設
けて、輻射熱による蓄熱を押さえている。上記ディスク
１は、上記したように上記回転装置１２の主軸４７の中
心から上記保持装置１０の吸着プレート２０の吸着面２
７の中心を最大半径Ｒとして回転移動するので、上記発
光ランプ７５の長手方向照度のばらつきを考慮して、発
光ランプ７５の中心を上記保持装置１０の中心にほぼ一
致させるように配置している。このことを図示するた
め、図３の参照番号７５Ｆは、上記保持装置１０の吸着
プレート２０上における、上記発光ランプ７５を投影し
た領域を示している。

【００４１】上記制御装置１５は、上記保持装置１０の
吸着のオン及びオフ及び吸着力と、押圧位置決め装置１
１の開閉のオン及びオフ及び開閉圧力と、回転装置１２
の回転のオン及びオフ及び回転速度と、昇降装置１３の
昇降のオン及びオフ及び昇降速度と、紫外光発生装置１
４の発光のオン及びオフを制御する装置であり、第１基
板２の吸引力の大きさと吸引維持時間、第２基板３の押
圧力の大きさと押圧維持時間及び紫外光５４の集光位置
への到達・回避軌跡や到達・回避速度についても比較的
自由に設定できるようにしている。それぞれの動作の制
御については後述する。

【００４２】上記本実施形態の貼り合わせ方法及び装置
を用いたディスク１の生産形態を図３に示す。未硬化の
接着剤４Ａを間に形成した第１基板２と第２基板３とよ
り構成されるディスク１は、矢印Ｉ方向より基板供給装
置（図に示さず）により、上記保持装置１０の吸着プレ
ート２０上に基準ピン２１で位置決められ載置される。
載置されると同時に真空ポンプ２３が上記制御装置１５
によりオン制御されて駆動され（言い換えれば、上記基
板供給装置の真空オフ信号を受け取ると同時に真空ポン
プ２３がオン制御されて駆動され）、第１基板２を矢印
ＩＩ方向へ吸着する。さらに、開閉動力発生部材３６が
オン制御されて駆動され、第２基板３の上面から押圧プ
レート３３により、ディスク１が押圧され、又はディス
ク１の第１基板２と第２基板３との厚み方向の隙間寸法
が一定になるように押圧位置決めされる。すなわち、場
合により、押圧のみの動作を行う場合（たとえぱ、膜厚
が規定されて隙間寸法を一定にする場合）と、押圧位置
決め動作を行う場合とがある。開閉動力発生部材３６が
オン制御されたことに基づき上記制御装置１５により、
ディスク１の載置の進行と同時に回転装置１２のモータ
５５がオンされて駆動されると、回転装置１２の回転用
部材１２Ａが上記保持部材１２Ｂにより保持されつつ主
軸４７の中心軸回りに回転して上記保持装置１０の吸着
プレート２０とともに上記押圧位置決め装置１１の押圧
プレート３３も回転して、吸着プレート２０と押圧プレ
ート３３との間に保持されたディスク１の中心が上記最
大半径Ｒの円周沿いに矢印ＩＩＩ方向に比較的高速に速
度制御（例：５００ｍｍ／ｓｅｃ）されつつ回転移動す
る。この回転移動により、ディスク１の中心が紫外光発
生装置１４の上記発光ランプ７５の照射領域に近づく。
紫外光発生装置１４の紫外光５４の集光位置を最大照度
（例：６００ｍＷ）とすると、この最大照度の少なくと
も１／４〜１／５の照度分布位置（図３のの状態）直
前から上記モータ５５を上記制御装置１５により減速制
御（例：１００ｍｍ／ｓｅｃ）して、紫外光５４が上記
保持部材３４の貫通穴又は透過部３４ａを透過してディ
スク１の第２基板３を通して接着剤４Ａを照射して、紫
外光５４による接着剤４Ａの硬化を開始する。

【００４３】ここで、上記減速制御とほぼ同じタイミン
グで、上記制御装置１５により昇降装置１３のエアーシ
リンダー４５をオン制御して上昇駆動すると、スライダ
７０とともに上記回転装置１２のホルダー４９が上昇
し、ホルダー４９に連結された主軸４７、主軸４７に連
結されたアーム２２が上昇する。よって、アーム２２を
介して吸着プレート２０と押圧プレート３３との間に保
持されたディスク１は、紫外光発生装置１４の紫外光５
４の集光位置（図３のの状態）に向けて図３の矢印Ｉ
Ｖ方向に上昇しながら紫外光５４を浴びることとなる。
そして、上記制御装置１５により上記モータ５５を制御
することにより、集光位置（図３のの状態）でのディ
スク１の移動速度を制御（例：１００〜２００ｍｍ／ｓ
ｅｃ）しつつディスク１が集光位置（図３のの状態）
を通過させる。ディスク１が集光位置（図３のの状
態）を通過したことを上記モータ５５の回転信号などか
ら上記制御装置１５が検出すると、上記制御装置１５に
より上記昇降装置１３のエアーシリンダー４５をオフ制
御して下降駆動させたのち停止させると、ディスク１は
紫外光５４の集光位置を最大照度（例：６００ｍＷ）と
すると、この最大照度の少なくとも１／４〜１／５の照
度分布位置（図３のの状態）に向け矢印Ｖ方向にディ
スク１が下降しながら紫外光５４を浴びることとなるの
で、紫外光５４が第２基板３と接着剤４Ａに緩やかに作
用しながら接着剤４Ａを硬化して第１基板２と第２基板
３とが貼り合わせられる。上記制御装置１５により上記
モータ５５が駆動制御されて、貼り合わされたディスク
１は矢印ＩＩＩ方向に比較的高速に（例：５００ｍｍ／
ｓｅｃ以上）速度制御され、更に上記制御装置１５によ
り開閉動力発生部材３６がオフ制御されると押圧プレー
ト３３を開いて第２基板３の上面を解放する。また、同
時に上記制御装置１５により真空ポンプ２３がオフ制御
されて駆動停止されて第１基板２の吸着を解放する。更
に、上記制御装置１５により、上記モータ５５を駆動し
てディスク１を回転移動して検査工程（図に示さず）を
経て、保持装置１０の吸着プレート２０から取り出し装
置（図に示さず）によって矢印ＶＩ方向に取り出され
る。尚、紫外光発生装置１４は照度の安定まで数十秒を
要するため、通常は、上記制御装置１５により、紫外光
発生装置１４の自動運転起動と同時にオン制御されて駆
動されるが、ディスク１が矢印Ｉ方向より一定時間供給
されない（例：２０ｓｅｃ）と、上記制御装置１５によ
りオフ制御されて駆動停止されるような省エネルギー対
策を行っている。

【００４４】上記したように、本発明の上記実施形態に
かかる光ディスクの貼り合わせ方法によれば、基本的に
上述した従来の光ディスクの貼り合わせ方法と同様に、
紫外光反応硬化接着剤４を介して厚み方向に重ねた円板
状の第１基板２及び第２基板３に、紫外光５４を照射し
て固化させディスク１を形成する方法であるが、上記実
施形態では、上記第１基板２と未硬化の接着剤４Ａを介
して第２基板３とを有するディスク１を保持装置１０に
保持して吸着力を作用させず（一旦保持のため吸着した
のちに、真空吸着力の過上昇による通気孔（吸着用吸引
穴）の局部変形を防止するために吸着力を作用させず）
に、ディスク１とともに保持装置１０が紫外光集光位置
を通過する円軌跡、少なくとも円弧軌跡をたどりつつ徐
々に上記紫外光５４の集光位置に近づき該集光位置を通
過するように回転装置１２と昇降装置１３とによりディ
スク１の移動速度と高さ位置とを制御することにより、
上記紫外光５４の照度を緩やかに未硬化の接着剤４Ａに
作用させることができ、接着剤４Ａの硬化収縮による基
板２，３の歪みと輻射熱の影響を減らして基板２，３を
貼り合わせることができる。

【００４５】また、上記実施形態によれば、第１基板２
と接着剤４Ａを介して第２基板３とを有するディスク１
を保持装置１０で保持し、吸着力を作用させず（一旦保
持のため吸着したのちに、真空吸着力の過上昇による通
気孔（吸着用吸引穴）の局部変形を防止するために吸着
力を作用させず）に、押圧位置決め装置１１で第２基板
３を押圧しつつ基板２，３間を位置決めし、回転装置１
２と昇降装置１３とによりディスクの移動速度及び高さ
位置を制御しつつ、円軌跡をたどりつつ徐々に上記紫外
光５４の集光位置に近づき該集光位置を通過するように
制御することにより、第２基板３の基板形状の改善（例
えば、円周方向や半径方向の成形そりを矯正するような
改善）と、基板２，３間での接着剤４Ａの厚みを所定値
に確保しつつ、上記紫外光５４の照度を緩やかに接着剤
４に作用させることができ、硬化収縮による基板２，３
の歪みと輻射熱の影響を減らして基板２，３貼り合わせ
ることができる。

【００４６】また、上記実施形態は、上記第１基板２及
び接着剤４Ａを介して第２基板３を有するディスク１を
保持装置１０に保持し、上記第１基板２の裏面２Ａを吸
引により吸着し、回転装置１２と昇降装置１３とにより
ディスクの移動速度及び高さ位置を制御しつつ、円軌跡
をたどりつつ徐々に上記紫外光５４の集光位置に近づき
該集光位置を通過するように制御することにより、第１
基板２の形状改善と（例えば、円周方向や半径方向の成
形そりを矯正するような改善）、上記紫外光５４の照度
を緩やかに接着剤４に作用させることにより、硬化収縮
による基板２，３の歪みと輻射熱の影響を減らして基板
２，３を貼り合わせることができる。

【００４７】また、上記実施形態は、上記第１基板２及
び接着剤４Ａを介して第２基板３を有するディスク１を
保持装置１０に保持し、上記第１基板２の裏面２Ａを吸
引により吸着し、更に押圧位置決め装置１１で第２基板
３を押圧しつつ基板２，３間を位置決めし、回転装置１
２と昇降装置１３とによりディスクの移動速度及び高さ
位置を制御しつつ、円軌跡をたどりつつ徐々に上記紫外
光５４の集光位置に近づき該集光位置を通過するよう制
御することにより、第１基板２及び第２基板３の形状改
善（例えば、円周方向や半径方向の成形そりを矯正する
ような改善）と、基板２，３間の接着剤４Ａの厚みを所
定値に確保しつつ、上記紫外光５４の照度を緩やかに接
着剤４に作用させることにより、硬化収縮による基板の
歪みと輻射熱の影響を減らして基板２，３を貼り合わせ
ることができる。

【００４８】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではなく、その他種々の態様で実施できる。例え
ば、上記第１基板２と接着剤４Ａを介して第２基板３と
を有するデイスク１を保持装置１０に保持し、上記第１
基板２の裏面２Ａを吸引により吸着し、更に押圧位置決
め装置１１で第２基板３を押圧しつつ基板２，３間を位
置決めする上記実施形態にかかる方法において、図４
（ここでは簡略化のため通気孔、空気室等詳細は図示せ
ず。）に示すように、吸着形状即ち基板を吸着する吸着
プレート２０の吸着面２７と基板を押圧する押圧プレー
ト３３を、それぞれ、硬化後の反り量を見込んだ形状と
し、回転装置１２と昇降装置１３をディスクの移動速度
及び高さ位置を制御しつつ、円軌跡をたどりつつ徐々に
上記紫外光５４の集光位置に近づき該集光位置を通過す
るように制御することにより、第１基板２と第２基板３
の形状改善（例えば、円周方向や半径方向の成形そりを
矯正するような改善や、形状を意図的に変えて矯正する
改善）と、上記紫外光５４の照度を緩やかに接着剤４に
作用させることにより、硬化収縮による基板２，３の歪
みと輻射熱の影響を減らして基板２，３を貼り合わせる
ことができる。上記吸着プレート２０の吸着面２７と押
圧プレート３３を硬化後の反り量を見込んだ形状とする
とは、例えば、図４に示すように、上記吸着プレート２
０の吸着面２７は中心部分が上向きに凸の円錐面とし、
上記押圧プレート３３の下面がこの円錐面に対応して中
心部分が下向きに凹の円錐面とする。

【００４９】なお、上記保持装置１０を２対用意して、
回転装置を中心として対向配置するようにしてもよい。

【００５０】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の光ディス
クの貼り合わせ方法によれば、接着剤を介して重ね合わ
せて光ディスクを構成する２枚の基板を、両面より矯正
・位置決めして、紫外光の照度を緩やかに接着剤に作用
させるように２枚の基板の位置と移動速度を制御できる
ようにしている。このように構成、動作することで上記
２枚の基板の成形や膜付けで生じた歪みを矯正でき、基
板間の流動する接着剤の厚みも安定に確保でき、また、
紫外光の照度を緩やかに接着剤に作用させ急激な硬化収
縮による基板の歪みと、輻射熱の影響を減らして貼り合
わせる事ができる。よって、基板の製造精度に左右され
ることなく、ディスクの反り量を記録範囲全面にわたり
高精度に確保することができる。

【００５１】また、本発明の光ディスクの貼り合わせ装
置によれば、保持装置、押圧位置決め装置、回転装置、
昇降装置、紫外光発生装置とこれらを制御する制御装置
を備えて、接着剤を介して重ね合わせて光ディスクを構
成する２枚の基板を、両面より矯正・位置決めして、紫
外光の照度を緩やかに接着剤に作用させるように２枚の
基板の位置と移動速度を制御できるようにしている。こ
のように構成、動作することで上記２枚の基板の成形や
膜付けで生じた歪みを矯正でき基板間の流動する接着剤
の厚みも安定に確保でき、また、紫外光の照度を緩やか
に接着剤に作用させ急激な硬化収縮による基板の歪み
と、輻射熱の影響を減らして貼り合わせる事ができる。
よって、基板の製造精度に左右されることなく、ディス
クの反り量を記録範囲全面にわたり高精度に確保するこ
とができる。

【００５２】より具体的には、本発明の上記態様にかか
る光ディスクの貼り合わせ方法及び装置によれば、紫外
光反応硬化接着剤を介して厚み方向に重ねた円板状の第
１基板及び第２基板に、紫外光を照射して固化させディ
スクを形成する方法及び装置において、上記第１基板と
未硬化の接着剤を介して第２基板とを有するディスクを
保持して吸着力を作用させず（一旦保持のため吸着した
のちに、真空吸着力の過上昇による通気孔（吸着用吸引
穴）の局部変形を防止するために吸着力を作用させず）
に、ディスクが紫外光集光位置を通過する円軌跡、少な
くとも、円弧軌跡をたどりつつ徐々に上記紫外光の集光
位置に近づき該集光位置を通過するようにディスクの移
動速度及び高さ位置を制御することにより、上記紫外光
の照度を緩やかに未硬化の接着剤に作用させることがで
き、接着剤の硬化収縮による基板の歪みと輻射熱の影響
を減らして基板を貼り合わせることができる。

【００５３】また、上記別の形態によれば、第１基板と
接着剤を介して第２基板とを有するディスクを保持し、
吸着力を作用させず（一旦保持のため吸着したのちに、
真空吸着力の過上昇による通気孔（吸着用吸引穴）の局
部変形を防止するために吸着力を作用させず）に、第２
基板を押圧しつつ基板間を位置決めし、ディスクの移動
速度及び高さ位置を制御しつつ円弧軌跡をたどりつつ徐
々に上記紫外光の集光位置に近づき該集光位置を通過す
るように制御することにより、第２基板の基板形状の改
善（例えば、円周方向や半径方向の成形そりを矯正する
ような改善）と、基板間での接着剤の厚みを所定値に確
保しつつ、上記紫外光の照度を緩やかに接着剤に作用さ
せることができ、硬化収縮による基板の歪みと輻射熱の
影響を減らして基板貼り合わせることができる。

【００５４】また、上記さらに別の形態によれば、上記
第１基板及び接着剤を介して第２基板を有するディスク
を保持し、上記第１基板の裏面を吸引により吸着し、デ
ィスクの移動速度及び高さ位置を制御しつつ、円弧軌跡
をたどりつつ徐々に上記紫外光の集光位置に近づき該集
光位置を通過するように制御することにより、第１基板
の形状改善（例えば、円周方向や半径方向の成形そりを
矯正するような改善）と、上記紫外光の照度を緩やかに
接着剤に作用させることにより、硬化収縮による基板の
歪みと輻射熱の影響を減らして基板を貼り合わせること
ができる。

【００５５】また、上記別の形態によれば、上記第１基
板及び接着剤を介して第２基板を有するディスクを保持
し、上記第１基板の裏面を吸引により吸着し、更に第２
基板を押圧しつつ基板間を位置決めし、ディスクの移動
速度及び高さ位置を制御しつつ、円弧軌跡をたどりつつ
徐々に上記紫外光の集光位置に近づき該集光位置を通過
するよう制御することにより、第１基板及び第２基板の
形状改善（例えば、円周方向や半径方向の成形そりを矯
正するような改善）と、基板間の接着剤の厚みを所定値
に確保しつつ、上記紫外光の照度を緩やかに接着剤に作
用させることにより、硬化収縮による基板の歪みと輻射
熱の影響を減らして基板を貼り合わせることができる。

【００５６】また、上記別の形態によれば、上記第１基
板と接着剤を介して第２基板とを有するデイスクを保持
し、上記第１基板の裏面を吸引により吸着し、更に第２
基板を押圧しつつ基板間を位置決めする方法及び装置に
おいて、基板を吸着する吸着面と基板を押圧する押圧面
とをそれぞれ硬化後の反り量を見込んだ形状とし、ディ
スクの移動速度及び高さ位置を制御しつつ、円弧軌跡を
たどりつつ徐々に上記紫外光の集光位置に近づき該集光
位置を通過するように制御することにより、第１基板と
第２基板の形状改善（例えば、円周方向や半径方向の成
形そりを矯正するような改善や、形状を意図的に変えて
矯正する改善）と、上記紫外光の照度を緩やかに接着剤
に作用させることにより、硬化収縮による基板の歪みと
輻射熱の影響を減らして基板を貼り合わせることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施形態の光ディスク貼り合わせ
装置の構成を示す一部断面図である。

【図２】 図１に示す光ディスク貼り合わせ装置の一部
の構成及びその動作を詳細に説明するための一部断面図
である。

【図３】 （Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明の上記実施
形態の光ディスク貼り合わせ方法の概念を説明するため
の図側面図及び平面図である。

【図４】 図３に示す光ディスク貼り合わせ方法の一部
について本発明の他の実施形態を説明するための図であ
る。

【図５】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）は、それぞ
れ、従来の光ディスクの製造工程を説明するための斜視
図である。

【図６】 従来の光ディスクの貼り合わせ装置の構成を
示す図である。

【図７】 従来の光ディスク貼り合わせ方法の概念を説
明するための図である。

【図８】 光ディスクの品質の要点を説明するための図
である。

【図９】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）はそれぞれ紫外光を
用いた光ディスク貼り合わせにおける課題を説明するた
めの図である。

【図１０】 従来の光ディスク貼り合わせ方法及び装置
におけるディスクの反り量を示すグラフである。

【符号の説明】

１…ディスク、２…第１基板、３…第２基板、４…接着
剤、１０…保持装置、１１…押圧位置決め装置、１２…
回転装置、１２Ａ…回転用部材、１２Ｂ…保持部材、１
３…昇降装置、１３Ａ…取付部材、１３Ｂ…昇降動力発
生部材、１４…紫外光発生装置、１５…制御装置、２０
…吸着プレート、２１…基準ピン、２２…アーム、２３
…真空ポンプ、３３…押圧プレート、３６…開閉動力発
生部材、４０…ベース、４１…シャフト、４７…主軸、
５４…紫外光、５５…モータ、５７…タイミングベル
ト、７０…スライダ、７１…ベース、７５…発光ラン
プ、７６…反射板、９２…輻射熱、１００…吸引装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 檜垣 典秀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5D121 AA07 FF03 FF11 GG02

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 紫外光反応硬化接着剤を介して厚み方向
   に重ねた円板状の第１基板及び第２基板に、紫外光集光
   位置で紫外光を照射して上記接着剤を固化させて光ディ
   スクを形成する光ディスクの貼り合わせ方法であって、 上記紫外光照射時に、上記第１基板及び上記第２基板を
   保持しながら、上記第１基板及び上記第２基板を円弧軌
   跡をたどりつつ上記紫外光集光位置に徐々に近づけて上
   記紫外光集光位置を通過させることにより、上記接着剤
   に対する上記紫外光の照度を緩やかに作用させながら上
   記接着剤を固化することを特徴とする光ディスクの貼り
   合わせ方法。
2. 【請求項２】 上記紫外光照射時に上記第１基板の下面
   と上記第２基板の上面の距離を一定に保ちつつ、上記第
   １基板及び上記第２基板を円弧軌跡をたどりつつ上記紫
   外光集光位置に徐々に近づけて上記紫外光集光位置を通
   過させることにより、上記第１基板及び上記第２基板の
   反りを矯正しながら上記接着剤に上記紫外光を照射して
   上記接着剤を固化する請求項１記載の光ディスクの貼り
   合わせ方法。
3. 【請求項３】 上記紫外光照射時に上記第１基板の下面
   を吸引により吸着し、上記第１基板の下面を吸着した状
   態で上記光ディスクが上記円弧軌跡をたどりつつ上記紫
   外光集光位置に徐々に近づけて上記紫外光集光位置を通
   過させることにより、上記第１基板及び上記第２基板の
   反りを矯正しながら上記接着剤に上記紫外光を照射して
   上記接着剤を固化する請求項１又は２記載の光デイスク
   の貼り合わせ方法。
4. 【請求項４】 上記接着剤の固化後の上記第１基板の反
   り量を見込んだ吸着形状を持つ吸着面により上記第１基
   板の下面を吸着し、上記紫外光集光位置に円弧軌跡をた
   どりつつ徐々に近づけて上記紫外光集光位置を通過させ
   ることにより、上記第１基板及び上記第２基板の反りを
   矯正しながら上記接着剤に上記紫外光を照射して上記接
   着剤を固化する請求項３に記載の光ディスクの貼り合わ
   せ方法。
5. 【請求項５】 上記紫外光集光位置の中心部分で上記デ
   ィスクを上記紫外光の照射側に上昇させる一方、上記紫
   外光集光位置の中心部分に到達するまでの領域と到達後
   の領域では上記ディスクを上記紫外光の照射側から離れ
   るように下降させるようにした請求項１〜４のいずれか
   に記載の光デイスクの貼り合わせ方法。
6. 【請求項６】 紫外光反応硬化接着剤を介して厚み方向
   に重ねた円板状の第１基板及び第２基板に、紫外光集光
   位置で紫外光を照射して上記接着剤を固化させ光ディス
   クを形成する光ディスクの貼り合わせ装置であって、 上記第１基板を保持する保持装置と、 し、上記保持装置に保持された上記第１基板に対して開
   閉することにより、上記第２基板側から上記第１基板に
   向けて上記第２基板の押圧又は位置決めを行う押圧位置
   決め装置と、 上記保持装置に保持された上記第１基板の中心から上記
   保持装置外の所定位置までを半径とした円弧軌跡の周方
   向に沿って上記ディスクが移動するように、上記保持装
   置と上記押圧位置決め装置を連続又は間欠に移動して、
   上記紫外光の上記紫外光集光位置で上下動しながら上記
   円弧軌跡をたどりつつ上記紫外光集光位置を通過させる
   回転昇降装置と、 上記円弧軌跡上の上記紫外光集光位置で上記紫外光を上
   記ディスクに向けて照射させる紫外光照射装置と、 を備えたことを特徴とする光ディスクの貼り合わせ装
   置。
7. 【請求項７】 上記回転昇降装置に接続され、上記接着
   剤の固化後の反り量を最小で均一にするため紫外光集光
   位置到達軌跡及び到達速度と、紫外光集光位置回避軌跡
   及び回避速度を制御して、上記紫外光の照度を緩やかに
   作用させる制御装置を備えた請求項６に記載の光ディス
   クの貼り合わせ装置。
8. 【請求項８】 上記制御装置は、上記紫外光集光位置の
   中心部分で上記ディスクを上記紫外光の照射側に上昇さ
   せる一方、上記紫外光集光位置の中心部分に到達するま
   での領域である上記紫外光集光位置到達軌跡と到達後の
   領域である上記紫外光集光位置回避軌跡では上記ディス
   クを上記紫外光の照射側から離れるように下降させるよ
   うにした請求項７に記載の光デイスクの貼り合わせ装
   置。
9. 【請求項９】 上記保持装置と、上記押圧位置決め装置
   に接続され、上記接着剤の固化後の反りを最小で均一に
   するため、上記第１基板の吸引力の大きさと吸引維持時
   間及び上記第２基板の押圧力の大きさと吸引維持時間を
   制御して、上記紫外光照射時に矯正力を作用させる制御
   装置を備えた請求項６に記載の光ディスクの貼り合わせ
   装置。