JP2000258777A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

液晶表示素子の製造方法

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JP2000258777A
JP2000258777A JP11058556A JP5855699A JP2000258777A JP 2000258777 A JP2000258777 A JP 2000258777A JP 11058556 A JP11058556 A JP 11058556A JP 5855699 A JP5855699 A JP 5855699A JP 2000258777 A JP2000258777 A JP 2000258777A
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liquid crystal
pressure
crystal display
sealant
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JP11058556A
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English (en)
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Yuka Yamada
由夏 山田
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶セル内の気泡の発生を防止するよう、減
圧下にて基板の貼り合わせを行う際に、保持手段による
基板の真空吸着を可能にする事により、滴下法による液
晶組成物の封入を実現可能とし、液晶表示素子の生産性
を向上してコストの低減を図る。 【解決手段】 先ず、減圧装置内の気圧を10〜10
Paと比較的高く保持する一方、保持部材17、18
及び基板11、12間の真空度を1〜10Paとし
て、保持部材17、18により基板11、12を確実に
保持して、両基板11、12の位置合わせをし更にアレ
イ基板11及び対向基板12の約半分の領域のシール剤
13を貼り合わせる。この後、減圧装置内の気圧を1〜
10Paに低減してアレイ基板11及び対向基板12
のすき間から空気を排気した後、基板11、12の全領
域のシール剤13を貼り合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電極を有する一対の基板間に液晶組成物
を封入して成る液晶表示素子にあっては、液晶組成物を
封入する方法として、従来一般には基板対をシール剤に
より貼り合わせ液晶セルを組み立てた後、シール剤に形
成される注入口から液晶組成物を注入し更に接着剤等で
注入口を封止する注入法が採用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記注入
法にあっては、基板を貼り合わせ液晶セルを形成して、
狭い注入口から液晶組成物を注入するため、シール剤の
硬化から液晶組成物の注入完了に至るまでに極めて長時
間を要し、生産性に著しく劣ると言う問題を有してい
た。又、液晶組成物注入後に封止材により注入口を封止
しているため液晶表示素子内に特異点を生じ、これが白
ズミの原因に成り表示品位を低下するという問題も生じ
ていた。更に、封止材の接着性が悪い場合には剥がれを
生じたり、あるいは封止時に気泡を生じ易いという問題
も有していた。
【0004】このため近年、基板に注入口を有しないシ
ール剤を配置し、そのシール剤により囲繞される領域に
液晶組成物を滴下して、当初より液晶組成物を介在した
状態で一対の基板を対向し、貼り合わせるという滴下法
による液晶組成物の封入も検討されている。
【0005】しかしながらこの滴下法は、基板の貼り合
わせ時にセル内に気泡が残らないよう減圧下で組み立て
る必要がある。一方基板の対向位置合わせ操作は、一般
には、少なくともいずれか一方の基板を保持手段にて真
空吸着し移動させて行うが、滴下法における減圧下で
は、基板を真空吸着出来ず位置合わせ不能になるという
問題を生じてしまい実用化されずにいた。
【0006】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、減圧下においても保持手段による基板の真空吸着を
可能とし、封入時間の短縮を図る滴下法での液晶組成物
の封入を実現可能にする液晶表示素子の製造方法を提供
することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、減圧下で、シール剤及びこのシ
ール剤に囲繞される領域に設けられる液晶組成物を介し
て対向配置される2枚の基板を位置合わせした後、前記
シール剤にて貼り合わせる液晶表示素子の製造方法にお
いて、前記2枚を貼り合わせる間に、前記減圧下の気圧
を変動するものである。
【0008】このような構成により本発明は、基板の貼
り合わせ時、減圧下においても保持手段による基板の真
空吸着を可能とし、生産性が高く且つ良好な表示品位を
得られる滴下法での液晶組成物の封入を実現可能にす
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下本発明を、図1乃至図3に示
す実施の形態を参照して説明する。図1は、液晶表示素
子10を示す構成図であり、例えば、サイズ150mm
×200mmのガラス基板上に画素電極(図示せず)、
対向電極(図示せず)をそれぞれ設けてなるアレイ基板
11及び対向基板12は、熱硬化樹脂等からなるシール
剤13にて、図示しないスペーサにより所定の間隙を隔
てて張り合わされ、シール剤13に囲繞される領域に液
晶組成物14を封入して成っている。
【0010】次に液晶表示素子10の製造方法について
述べる。ガラス基板上に成膜技術及びフォトリソグラフ
ィ技術を繰り返し、画素電極を有するアレイ基板11と
対向電極を有する対向基板12を形成後、夫々に配向膜
(図示せず)を塗布しラビング処理した後、図2に示す
フロー図に従い、液晶組成物14を介在した状態でアレ
イ基板11と対向基板12を貼り合わせ、液晶表示素子
10を組み立てる。先ずステップ1にて、図3(a)に
示すように、大気圧(10Pa)中で、アレイ基板1
1の画素電極周囲にディスペンサ又は印刷等の手段によ
り熱硬化樹脂からなるシール剤13を塗布する。次いで
ステップ2にて図3(b)に示すように、大気圧(10
Pa)中で、シール剤13に囲繞された領域に液晶組
成物14を滴下する。
【0011】次にステップ3で、図3(c)に示すよう
に減圧装置(図示せず)内にてアレイ基板11を下側保
持部材17に真空吸着する一方、対向基板12を上側保
持部材18に真空吸着し、両基板11、12を離間した
状態で上下保持部材17、18を移動して位置合わせを
行う。この時、両保持部材17、18が基板11、12
を確実に真空吸着出来るよう、減圧装置内の気圧を10
〜10Paと比較的高く設定する一方、両保持部材
17、18及び基板11、12間の気圧をその1/10
〜1/100の1〜10Paとする。次いで両基板1
1、12の貼り合わせを行うが、この貼り合わせ時、保
持部材17、18により基板11、12を真空吸着する
必要がある間は、少なくとも両保持部材17、18及び
基板11、12間の気圧より高くなるよう、減圧装置内
の気圧を比較的高く設定する。そして保持部材17、1
8による基板11、12の吸着が不要となった時点で減
圧装置内の気圧をより低く設定するというように、減圧
装置内の気圧を2段階に調整する。
【0012】即ち先ずステップ4では、ステップ3の位
置合わせ時と同様、減圧装置内の気圧を10〜10
Paと比較的高く保持する一方、保持部材17、18及
び基板11、12間の真空度を1〜10Paとして、
保持部材17、18による基板11、12の真空吸着を
確実にした状態で、一部貼り合わせのためにアレイ基板
11上に対向基板12を載置する。この時図3(d)に
示すように両基板11、12の一辺が1mm程度のすき
間を保よう、両基板11、12間にメカストッパ20を
挿通する。一方、これに対向する辺は、両基板11、1
2が接触した状態とする。これにより、アレイ基板11
及び対向基板12の約半分の領域のシール剤13が貼り
合わされる。
【0013】次にステップ5で、減圧装置内の更なる排
気を行い、気圧を1〜10Paに低減する。これによ
りメカストッパー20で支えられているすき間から空気
が排気され、両基板11、12のすき間は、液晶セル内
に気泡が発生しない充分な真空度とされる。尚この減圧
装置内の真空度の増大により、保持部材17、18は基
板11、12を真空吸着出来なくなるが、この時点で
は、両基板の領域の半分程度がシール剤13で貼り合わ
されているので、両基板11、12間で位置ずれを生じ
るおそれが無い。
【0014】この後、両基板11、12のすき間が充分
に排気された後、ステップ6にてメカストッパー20を
取り去り、アレイ基板11及び対向基板12の全領域の
シール剤13を完全に貼り合わせる。次いでステップ7
で、両基板11、12を大気中(10Pa)に取り出
すと、大気圧により基板面は一様に加圧され、基板間の
間隙が均一に保持される。更にステップ8でシール剤1
3を加熱硬化して液晶表示素子10を完成する。このよ
うにして製造された液晶表示素子10を用い、表示試験
を行ったところ白ズミによる表示不良が見られず、良好
な表示品位を得られた。
【0015】このような製造方法によれば、全域にわた
り均質なシール剤にて液晶組成物14を封入でき、且つ
均一な間隙を得られることから液晶表示素子10の表示
品位の向上を図れる。また、液晶組成物14の封入を滴
下法で行うことから従来の注入法に比しその製造時間を
著しく短縮出来製造コストの低減を得られる。しかも、
減圧下での封入工程にかかわらず、アレイ基板11及び
対向基板12を保持手段17、18により確実に吸着保
持して位置合わせ出来、位置合わせ精度の向上を得られ
る一方、位置合わせ終了後は両基板11、12間のすき
間の真空度を高めて、液晶セル内の気泡の発生を確実に
防止出来、液晶表示素子10の表示品位をより向上でき
る。
【0016】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
でなく、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば製造工程における減圧装置内の真空度は必要
に応じて任意であり、位置合わせ時に保持手段が基板を
吸着出来、更に貼り合わせ時に基板間の排気を確実に行
える範囲であれば良い。又、基板上へのシール剤の塗布
時あるいは液晶組成物の滴下時の気圧も、限定されず、
これらに続く位置合わせ工程等と同じ装置内で行う場合
は、後続の工程と同等の減圧下で行っても良い。又、シ
ール剤も紫外線照射により硬化されるものである等任意
である。更に本発明は、液晶表示素子複数個分の面積を
有するマザー基板を用いて複数個の液晶表示素子を同時
に形成するマルチ製法においても適用可能である。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、長
時間を要する注入口からの液晶組成物の注入工程を不要
とし、液晶表示素子の製造時間を短縮出来、生産性向上
によりコストの低減を得られる。しかも基板を高精度に
位置合わせ出来る一方、液晶セル内の気泡の発生を確実
に防止出来、液晶表示素子の表示品位向上を図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の液晶表示素子を示す構成
図である。
【図2】本発明の実施の形態の液晶表示素子退く見立て
工程を示すフロー図である。
【図3】本発明の実施の形態のアレイ基板及び対向基板
を貼り合わせる工程を示し、(a)はそのシール剤塗布
を示す説明図、(b)はその液晶組成物の滴下を示す説
明図、(c)はその位置合わせを示す説明図、(d)は
その基板の貼り合わせ途中を示す説明図、(e)はその
基板を完全に貼り合わせた状態を示す説明図である。
【符号の説明】 10…液晶表示素子 11…アレイ基板 12…対向基板 13…シール剤 14…液晶組成物 17…下側保持部材 18…上側保持部材 20…メカストッパ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 減圧下で、シール剤及びこのシール剤に
    囲繞される領域に設けられる液晶組成物を介して対向配
    置される2枚の基板を位置合わせした後、前記シール剤
    にて貼り合わせる液晶表示素子の製造方法において、 前記2枚の基板を貼り合わせる間に、前記減圧下の気圧
    を変動する事を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
  2. 【請求項2】 位置合わせ時、2枚の基板を保持手段に
    て夫々真空吸着して対向配置することを特徴とする請求
    項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 2枚の基板の位置合わせから前記2枚の
    基板の一部を貼り合わせるまでの間の気圧より、前記2
    枚の基板の一部を貼り合わせてから前記2枚の基板の全
    面を貼り合わせるまでの間の気圧を低減する事を特徴と
    する請求項1または請求項2のいずれかに記載の液晶表
    示素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 2枚の基板の位置合わせから前記2枚の
    基板の一部を貼り合わせるまでの間の気圧を10〜1
    Paとし、前記2枚の基板の一部を貼り合わせてか
    ら前記2枚の基板の全面を貼り合わせるまでの間の気圧
    を1から10Paとする事を特徴とする請求項3に記
    載の液晶表示素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 2枚の基板の位置合わせから前記2枚の
    基板の一部を貼り合わせるまでの間の減圧下の気圧を、
    保持手段の真空吸着の真空度より高く設定する事を特徴
    とする請求項2に記載の液晶表示素子の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7012001B2 (en) 1999-12-22 2006-03-14 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device for use in a memory cell that includes forming a composite layer of tantalum oxide and titanium oxide over a bottom capacitor electrode

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7012001B2 (en) 1999-12-22 2006-03-14 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device for use in a memory cell that includes forming a composite layer of tantalum oxide and titanium oxide over a bottom capacitor electrode

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