JP2000208797A - Surface protecting sheet therefor solar battery module and solar battery module using it - Google Patents

Surface protecting sheet therefor solar battery module and solar battery module using it

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JP2000208797A
JP2000208797A JP11006504A JP650499A JP2000208797A JP 2000208797 A JP2000208797 A JP 2000208797A JP 11006504 A JP11006504 A JP 11006504A JP 650499 A JP650499 A JP 650499A JP 2000208797 A JP2000208797 A JP 2000208797A
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solar cell
resin
vapor
sheet
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泰 山田
Yasuki Suzuura
泰樹 鈴浦
Hiroshi Yamamoto
浩 山本
Katsutoshi Konno
克俊 今野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a damp-proof characteristic and suppress performance deterioration by providing a contamination preventing layer consisting of an applied film of a composed material containing photo-catalyst powder and/or an ultraviolet ray absorbing agent layer on one and/or both sides of a laminated body of a fluorine resin sheet and a vapor-deposited film of an inorganic oxide. SOLUTION: A resin film 3 of a vapor-deposited film 2 of an inorganic oxide is laminated on one surface of a fluorine resin sheet 1. Further, a contamination preventing layer 5 and/or an ultraviolet ray absorbing agent layer 6 are/is provided on either or both sides of a laminated body 4 of the resin film 3 having the vapor-deposited film 2 of the inorganic oxide, and the contamination preventing layer 5 forms the outermost surface. As the fluorine resin film or sheet, one or more fluorine resins are used, and the fluorine resin is formed alone into a film through an extrusion process, etc. As the vapor-deposited film 2 of the inorganic oxide, a thin film vapor-deposited with a metal oxide can be used. The laminated body 4 is laminated via a laminating adhesive layer or laminated via a fused extrusion resin layer with a fused extrusion adhesive resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。
The present invention relates to a solar cell module.
More specifically, the present invention relates to a surface protection sheet for solar cells and a solar cell module using the same, and more specifically, a solar cell module excellent in light resistance, heat resistance, water resistance, moisture resistance, stain resistance, etc. and having extremely high protection ability. And a solar cell module using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。そして、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一般
的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等の
樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進められ
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to solar cells as a clean energy source due to increasing awareness of environmental issues. Currently, solar cell modules of various forms have been developed and proposed. . Thus, the above-mentioned solar cell module usually includes a surface protection sheet layer, a filler layer,
It is manufactured by laminating a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like in that order, vacuum-sucking and heat-compressing, for example, using a lamination method. At present, a glass plate or the like is most commonly used as a surface protection sheet layer constituting the above-mentioned solar cell module. Is also attracting attention, and its development is proceeding rapidly.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、入射する太陽光を全て透過する性質を有すると共に
耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優れ、かつ、水
分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、更に、表面
硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止
し、その保護能力性が高いこと、その他等の条件が挙げ
られるものである。しかしながら、太陽電池モジュ−ル
を構成する表面保護シ−ト層として、現在、最も一般的
に使用されているガラス板等は、太陽光の透過性に優
れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優
れ、また、防湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、ま
た、防汚性等にも優れ、その保護能力性が高い等の利点
を有するが、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更
に、その加工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等
に欠けるという問題点がある。また、上記の太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系
樹脂等の樹脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と
比較して、可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に
富むものではあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅
牢性に劣り、特に、防湿性等に欠けるという問題点があ
る。更に、上記のフッ素系樹脂シ−トを使用する場合に
は、その表面にゴミ等が蓄積し、防汚性等に欠けるとい
う問題点もある。そこで本発明は、太陽電池モジュ−ル
を構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂シ−
トを使用するも、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の
諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化を最小限に
抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性等にも優れ、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−トを安定的に提供することである。
By the way, a solar cell generally absorbs sunlight and generates photovoltaic power.
The surface protective sheet layer constituting the solar cell module has a property of transmitting all the incident sunlight, and is excellent in various fastnesses such as light resistance, heat resistance, water resistance, and the like. It has excellent moisture-proof properties to prevent intrusion of the like, and further has a high surface hardness, and prevents accumulation of dirt, dust and the like on the surface, has a high protective ability, and other conditions. . However, a glass plate or the like which is currently most commonly used as a surface protective sheet layer constituting a solar cell module has excellent sunlight permeability, light resistance, heat resistance, and water resistance. It has the advantages of being excellent in various fastnesses such as properties, and also excellent in moisture proofness, hard surface hardness, excellent in antifouling properties, etc., and high in protection ability, but has plasticity, There is a problem that it lacks in impact properties, weight reduction, etc., and is inferior in its workability, workability, etc., and lacks in cost reduction, etc. When a resin sheet such as a fluororesin is used as a surface protection sheet layer constituting the solar cell module, plasticity, impact resistance, Although it is rich in weight reduction, cost reduction, etc., it is inferior in various fastnesses such as light resistance, heat resistance, water resistance, and the like, and in particular, lacks moisture resistance. Furthermore, when the above-mentioned fluorine-based resin sheet is used, there is a problem that dusts and the like accumulate on the surface thereof and lack antifouling properties. Accordingly, the present invention provides a fluorine-based resin sheet as a surface protection sheet layer constituting a solar cell module.
Even with the use of heat resistance, the moisture resistance that prevents intrusion of moisture, oxygen, etc. is remarkably improved, and furthermore, with respect to the robustness such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc., long-term performance deterioration is minimized. An object of the present invention is to stably provide a low-cost and safe surface protection sheet constituting a solar cell module which is excellent in suppressing, protecting ability, and also excellent in antifouling property.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸収剤等に着
目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−トとして使
用し、他方、その片面に、酸化珪素、あるいは、酸化ア
ルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化物の
蒸着薄膜を有する樹脂フィルムを使用し、而して、上記
のフッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する
樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ素系樹脂シ−ト
と無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムとからな
る積層体のいずれかの一方の面および/または両面に、
光触媒粉末を含む組成物による塗布膜からなる防汚層お
よび/または紫外線吸収剤を含む組成物による塗布膜か
らなる紫外線吸収剤層を設けて太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、
その防汚層を最表面とし、その他方の面に、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これ
らを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション
法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造したところ、
水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上さ
せ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性につい
ても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力
性に優れ、また、ゴミ等が蓄積してその表面を汚染する
汚染性等を防止し、より低コストで安全な太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池
モジュ−ルを製造し得ることを見出して本発明を完成し
たものである。
The inventor of the present invention has conducted various studies to solve the problems with respect to the surface protective sheet layer constituting the solar cell module as described above. Focusing on the properties of the glass plate used as the surface protection sheet layer constituting the above, photocatalyst powder, ultraviolet absorber, etc., first, use a fluororesin sheet as a base sheet, On one surface thereof, a resin film having a transparent thin film of inorganic oxide made of glass, such as silicon oxide or aluminum oxide, is used. A resin film having a vapor-deposited thin film of the above, and further on one and / or both surfaces of a laminate comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide,
A surface protection sheet for a solar cell module is manufactured by providing an antifouling layer composed of a coating film composed of a composition containing a photocatalyst powder and / or an ultraviolet absorbent layer composed of a coating film composed of a composition containing an ultraviolet absorbent. This is used as a surface protection sheet layer,
With the antifouling layer as the outermost surface, the other side, a filler layer,
A lamination method is used in which a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like are sequentially laminated, and then these are integrally vacuum-evacuated and heated and pressed. To manufacture the solar cell module
It significantly improves the moisture resistance to prevent the intrusion of moisture, oxygen, etc., and also minimizes the long-term performance degradation of light resistance, heat resistance, water resistance, etc. A surface protection sheet for a photovoltaic module which is excellent and prevents dust from accumulating on the surface by accumulating dust and the like, and a safer and lower cost photovoltaic module and a photovoltaic module using the same. The inventors have found that the present invention can be manufactured and completed the present invention.

【0005】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂シ−ト
と無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムとを積層
し、更に、該フッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄
膜を有する樹脂フィルムとからなる積層体のいずれかの
一方の面あるいは両面に、防汚層および/または紫外線
吸収剤層を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ
−ルに関するものである。
That is, the present invention provides a method of laminating a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide thereon, and further comprising a resin having the fluororesin sheet and a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. A surface protection sheet for a solar cell module, characterized in that an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer is provided on one or both surfaces of a film laminate. The present invention relates to a solar cell module as described above.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。なお、本発明におい
て、シ−トとは、フィルムあるいはシ−トのいずれの場
合も意味するものであり、また、本発明において、フィ
ルムとは、フィルムあるいはシ−トのいずれの場合も意
味するものである。本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ
−ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的に
説明すると、図1、図2、図3および図4は、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの層構成に
ついてその二三例を例示する概略的断面図であり、図5
は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルの
層構成についてその一例を例示する概略的断面図であ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The above-mentioned present invention will be described below in more detail with reference to the drawings and the like. In the present invention, the term "sheet" means either a film or a sheet. In the present invention, the term "film" means either a film or a sheet. Things. The layer structure of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the solar cell module using the same will be described more specifically with reference to the drawings and the like. 4 and FIG. 4 are schematic cross-sectional views illustrating a few examples of the layer configuration of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a solar cell module manufactured using the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention shown in FIG. 1.

【0007】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂シ−ト1と、その片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を
有する樹脂フィルム3とを積層し、更に、該フッ素系樹
脂シ−ト1と無機酸化物の蒸着薄膜2を有する樹脂フィ
ルム3とからなる積層体4のいずれかの一方の面または
両面に、防汚層5および/または紫外線吸収剤層6を設
け、かつ、該防汚層5が最表面を形成する構成からなる
ことを基本構造とするものである。本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、具体例を例
示すると、図2に示すように、フッ素系樹脂シ−ト1
と、その片面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜2aの1層、または、その2層以上の多層膜(図
示せず)を有する樹脂フィルム3とを積層し、更に、該
フッ素系樹脂シ−ト1と無機酸化物の蒸着薄膜2aを有
する樹脂フィルム3とからなる積層体4を構成するフッ
素系樹脂シ−ト1面に、防汚層5と紫外線吸収剤層6と
を設け、該防汚層5を最表面とすることを特徴とする太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トA1を挙げることが
できる。更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トについて、別の具体例を例示すると、図3
に示すように、フッ素系樹脂シ−ト1と、その片面に、
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2bの1
層、または、その2層以上の多層膜(図示せず)を有す
る樹脂フィルム3とを積層し、更に、該フッ素系樹脂シ
−ト1と無機酸化物の蒸着薄膜2bを有する樹脂フィル
ム3とからなる積層体4を構成するフッ素系樹脂シ−ト
1面に、防汚層5を設け、また、該積層体4を構成する
無機酸化物の蒸着薄膜2bを有する樹脂フィルム3面
に、紫外線吸収剤層6を設け、該防汚層5を最表面とす
ることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トA2 を挙げることができる。また、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、更に別の
具体例を例示すると、図4に示すように、フッ素系樹脂
シ−ト1と、その片面に、化学気相成長法による無機酸
化物の蒸着薄膜2bを設け、次に、該無機酸化物の蒸着
薄膜2bの上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜2aを設けて該無機酸化物の蒸着薄膜2a、2b
とからなる2層以上の多層膜7を有する樹脂フィルム3
とを積層し、更に、該フッ素系樹脂シ−ト1と無機酸化
物の蒸着薄膜2a、2bとからなる2層以上の多層膜7
を有する樹脂フィルム3とからなる積層体4を構成する
フッ素系樹脂シ−ト1面に、防汚層5を設け、また、該
積層体4を構成する無機酸化物の蒸着薄膜2a、2bと
からなる2層以上の多層膜7を有する樹脂フィルム3面
に、紫外線吸収剤層6を設け、該防汚層5を最表面とす
ることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トA3 を挙げることができる。上記の例示は、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについてそ
の二三例を例示するものであり、本発明はこれにより限
定されるものではないことは言うまでもないことであ
る。例えば、図示しないが、上記において、フッ素系樹
脂シ−ト1と無機酸化物の蒸着薄膜2を有する樹脂フィ
ルム3との両者を積層するに際しては、フッ素系樹脂シ
−ト1の面と無機酸化物の蒸着薄膜2の面、あるいは、
フッ素系樹脂シ−ト1の面と樹脂フィルム3の面とのい
ずれの面を対向させて積層してもよい。また、上記にお
いて、紫外線吸収剤層は、フッ素系樹脂シ−ト1側、あ
るいは、樹脂フィルム3側等のいずれの位置に設けても
よい。
First, as shown in FIG. 1, a surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention comprises a fluorine resin sheet 1 and a thin film 2 of inorganic oxide deposited on one surface thereof. And a resin film 3 having a fluorine-containing resin sheet 1 and a resin film 3 having a vapor-deposited thin film 2 of an inorganic oxide. The basic structure is that the antifouling layer 5 and / or the ultraviolet absorber layer 6 are provided, and the antifouling layer 5 has a configuration forming the outermost surface. As a specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG.
And a resin film 3 having one layer of a vapor-deposited thin film 2a of an inorganic oxide formed by physical vapor deposition or a multilayer film (not shown) of two or more layers on one surface thereof. An antifouling layer 5, an ultraviolet absorber layer 6, and an antifouling layer 5 are formed on the surface of the fluororesin sheet 1 constituting a laminate 4 comprising a fluororesin sheet 1 and a resin film 3 having an inorganic oxide vapor-deposited thin film 2a. the provided-proof solar cell module, characterized in that the proofing layer 5 uppermost surface - le for surface protective sheet - can be exemplified bets a 1. Further, another specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention is shown in FIG.
As shown in the figure, a fluororesin sheet 1 and one surface thereof
1 of evaporated thin film 2b of inorganic oxide by chemical vapor deposition
Layers or a resin film 3 having a multilayer film (not shown) of two or more layers, and a resin film 3 having the fluorine-based resin sheet 1 and a vapor-deposited thin film 2b of an inorganic oxide. An antifouling layer 5 is provided on the surface of the fluorine-based resin sheet 1 constituting the laminate 4 made of the resin, and the surface of the resin film 3 having the vapor-deposited thin film 2b of the inorganic oxide constituting the laminate 4 is exposed to ultraviolet light. A surface protection sheet for a solar cell module, wherein an absorbent layer 6 is provided and the antifouling layer 5 is the outermost surface.
Mention may be made of the door A 2. Further, as another specific example of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, as shown in FIG. 4, as shown in FIG. The vapor-deposited thin film 2b of the inorganic oxide is provided by the phase growth method, and then the vapor-deposited thin film 2a of the inorganic oxide is provided on the vapor-deposited thin film 2b of the inorganic oxide by the physical vapor deposition method. Evaporated thin film 2a, 2b
Resin film 3 having a multilayer film 7 of two or more layers consisting of
And a multilayer film 7 composed of two or more layers of the fluororesin sheet 1 and the evaporated thin films 2a and 2b of inorganic oxide.
An antifouling layer 5 is provided on the surface of a fluorine-based resin sheet 1 constituting a laminate 4 composed of a resin film 3 having: a) a deposited thin film 2a, 2b of an inorganic oxide constituting the laminate 4; An ultraviolet absorber layer 6 provided on the surface of the resin film 3 having a multilayer film 7 composed of two or more layers, the antifouling layer 5 being the outermost surface.
Mention may be made of the door A 3. The above examples illustrate only a few examples of the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and it goes without saying that the present invention is not limited thereto. . For example, although not shown, when laminating both the fluororesin sheet 1 and the resin film 3 having the vapor-deposited thin film 2 of inorganic oxide, the surface of the fluororesin sheet 1 and the inorganic oxide The surface of the deposited thin film 2 of the object, or
Any of the surface of the fluororesin sheet 1 and the surface of the resin film 3 may be laminated so as to face each other. Further, in the above, the ultraviolet absorbent layer may be provided at any position such as the side of the fluororesin sheet 1 or the side of the resin film 3.

【0008】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図5
に示すように、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トAに、その防汚層5を最
表面とし、その他方の面に、順次に、充填剤層11、光
起電力素子としての太陽電池素子12、充填剤層13、
および、裏面保護シ−ト層14等を積層し、次いで、こ
れらを一体として、真空吸引しながら加熱圧着するラミ
ネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を
一体成形体として成形して、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ルTを製造することができる。なお、図中、1、
2、3、4、6等は、前述と同じ意味である。上記の例
示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてそ
の一例を例示するものであり、本発明はこれにより限定
されるものではない。例えば、図示しないが、上記の太
陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収性、補強、
その他等の目的の基に、更に、他の基材を任意に加えて
積層することができるものである。
Next, in the present invention, an example of a solar cell module manufactured by using the above-mentioned surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention is illustrated in FIG. The solar cell module according to the present invention shown
FIG. 5 shows an example in which the surface protection sheet A for a tool is used.
As shown in FIG. 1, the surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention shown in FIG. Layer 11, a solar cell element 12 as a photovoltaic element, a filler layer 13,
Then, the back protective sheet layers 14 and the like are laminated, and then these are integrally formed by using a normal molding method such as a lamination method in which heat and pressure are applied while vacuum suction is applied to form each of the above layers as an integrally molded body. By molding, the solar cell module T according to the present invention can be manufactured. In the figure, 1,
2, 3, 4, 6, etc. have the same meaning as described above. The above example is an example of a solar cell module manufactured using the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and the present invention is not limited thereto. is not. For example, although not shown, in the above-described solar cell module, solar light absorption, reinforcement,
Other bases can be added and arbitrarily added to the base for other purposes.

【0009】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂シ−トとしては、例えば、ポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロ
エチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共
重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PF
A)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピ
レンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチレンと
ペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオロエチ
レンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ET
FE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCT
FE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコ
ポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系樹脂(P
VDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PVF)等の
フッ素系樹脂からなる透明なフッ素系樹脂のフィルムな
いしシ−トを使用することができる。なお、本発明にお
いて、フッ素系樹脂シ−トのシ−トとは、フィルム状物
あるいはシ−ト状物等のいずれのものでもよいものであ
る。また、本発明においては、上記のフッ素系樹脂シ−
トの中でも、特に、フッ化ビニル系樹脂(PVF)、ま
たは、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピ
レンとのコポリマ−(ETFE)からなるフッ素系樹脂
シ−トが、透明性を有し、太陽光の透過性等の観点から
好ましいものである。而して、本発明において、上記の
ようなフッ素系樹脂シ−トを使用することにより、該フ
ッ素系樹脂シ−トが有する優れた特性、特に、機械的特
性、化学的特性、光学的特性等、更には、耐光性、耐熱
性、耐水性、その他等の超耐候性、耐汚染性、耐薬品性
等の諸特性を利用し、太陽電池を構成する表面保護シ−
トとするものであり、これにより、従来のガラス板等と
同等の光学特性、耐久性等を有し、また、そのフレキシ
ブル性や機械的特性等からガラス板等よりも軽く、か
つ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易い等の利点
を有するものである。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention and the material constituting the solar cell module using the same, the manufacturing method, and the like will be described in more detail. Examples of the fluorine resin sheet constituting the surface protection sheet for a solar cell module, the solar cell module and the like according to the present invention include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene and perfluoroethylene. Perfluoroalkoxy resin (PF) consisting of a copolymer with alkyl vinyl ether
A), tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether and hexafluoropropylene copolymer (EPE), copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ET
FE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCT)
FE), a copolymer of ethylene and chlorotrifluoroethylene (ECTFE), a vinylidene fluoride resin (P
VDF) or a transparent fluororesin film or sheet made of a fluororesin such as a vinyl fluoride resin (PVF) can be used. In the present invention, the sheet of the fluororesin sheet may be any one of a film-like material and a sheet-like material. Further, in the present invention, the above-mentioned fluorine-based resin
Among them, a vinyl fluoride resin (PVF) or a fluororesin sheet made of a copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ETFE) has transparency, It is preferable from the viewpoint of permeability and the like. Thus, in the present invention, by using the above-mentioned fluorine-based resin sheet, excellent properties of the fluorine-based resin sheet, particularly, mechanical properties, chemical properties, and optical properties are obtained. And other properties such as light resistance, heat resistance, water resistance, etc., such as super weather resistance, contamination resistance, chemical resistance, etc. to make use of the surface protection sheet constituting a solar cell.
As a result, it has the same optical properties and durability as conventional glass plates, etc., and is lighter and more workable than glass plates due to its flexibility and mechanical properties. And has advantages such as easy handling.

【0010】ところで、本発明において、上記のフッ素
系樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記
のフッ素系樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押し出
し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−
ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記のフッ素
系樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の
フッ素系樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方
法、更には、2種以上のフッ素系樹脂を使用し、製膜化
する前に混合して製膜化する方法等により、フッ素系樹
脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、
例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等
を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなるフッ素系
樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、フッ素系樹脂シ−トの膜厚としては、
12〜200μm位、より好ましくは、25〜150μ
m位が望ましい。また、本発明において、フッ素系樹脂
シ−トとしては、可視光透過率が、90%以上、好まし
くは、93%以上であって、入射する太陽光を全て透過
する性質を有することが望ましいものである。なお、上
記において、フッ素系樹脂の製膜化に際して、例えば、
フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法
安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ
性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的で、種
々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することがで
き、その添加量としては、太陽光の透過に影響しない程
度の極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意
に添加することができる。また、上記において、一般的
な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用
樹脂等も使用することがてきる。本発明においては、上
記の添加剤の中でも、紫外線吸収剤および/または酸化
防止剤を練り込み加工してなるフッ素系樹脂シ−トを使
用することが好ましいものである。
In the present invention, as the fluororesin film or sheet, for example, one or more of the above fluororesins is used, and is extruded, cast molded, T-die-processed. , Cutting method, inflation
A method of forming a film of the above-mentioned fluororesin alone, or a method of forming a multi-layer co-extrusion film using two or more kinds of fluororesins, Furthermore, by using two or more kinds of fluorine-based resins, a method of mixing and forming a film before forming a film to produce a film or sheet of a fluorine-based resin, and further, if necessary,
For example, a fluororesin film or sheet stretched in a uniaxial or biaxial direction using a tenter method or a tuber method can be used.
In the present invention, the thickness of the fluororesin sheet is
About 12 to 200 μm, more preferably 25 to 150 μm
The m-th position is desirable. In the present invention, the fluororesin sheet preferably has a visible light transmittance of 90% or more, preferably 93% or more, and has a property of transmitting all incident sunlight. It is. In addition, in the above, at the time of film formation of the fluororesin, for example,
Improve and improve film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slip properties, mold release properties, flame retardancy, mold resistance, electrical properties, etc. Various plastic compounding agents, additives, etc. can be added for the purpose, and the amount of the additive may be from a very small amount that does not affect the transmission of sunlight to several tens%, depending on the purpose. Can be added. Further, in the above, common additives include, for example, lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents, antistatic agents, flame retardants, flame retardants , Foaming agent, fungicide,
Pigments, others, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned additives, it is preferable to use a fluororesin sheet obtained by kneading and processing an ultraviolet absorber and / or an antioxidant.

【0011】また、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トの表面は、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、
オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温
プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処
理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことが
できる。上記の表面前処理は、フッ素系樹脂シ−トと無
機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムとの密着性を
改善するため、その他として実施するものであるが、上
記の密着性を改善する方法として、その他、例えば、フ
ッ素系樹脂シ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤
層、アンダ−コ−ト剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−
ト剤層等を任意に形成することもできる。上記の前処理
のコ−ト剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、
ポリウレタン系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とす
る樹脂組成物を使用することができる。また、上記にお
いて、コ−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、
水性型、あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用
し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ
−ト法、その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることが
でき、そのコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの
製膜後、あるいは、2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、製膜、あるいは、2軸延伸処理のインライン処
理等で実施することができる。
Further, in the present invention, the fluororesin sheath
If necessary, the surface of the substrate, for example, corona discharge treatment,
Pretreatment such as ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like, and the like can be arbitrarily performed. The above-mentioned surface pretreatment is carried out as others in order to improve the adhesion between the fluorine-based resin sheet and the resin film having the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide. In addition, for example, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, or a vapor deposition anchor coat may be previously formed on the surface of the fluororesin sheet.
The agent layer can be arbitrarily formed. As the coating agent layer of the above pretreatment, for example, polyester resin,
A resin composition containing a polyurethane resin or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method of forming the coating agent layer, for example, a solvent type,
Using a coating agent such as an aqueous type or an emulsion type, coating is performed by using a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, and the like. The coating may be performed after the film formation of the fluorine-based resin sheet, as a post-process after the biaxial stretching treatment, or in the film forming or in-line treatment of the biaxial stretching treatment. Can be implemented.

【0012】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィ
ルムについて説明すると、まず、無機酸化物の蒸着薄膜
としては、例えば、物理気相成長法、または、化学気相
成長法、あるいは、その両者を併用して、無機酸化物の
蒸着薄膜の1層あるいは2層以上からなる多層膜を形成
して、製造することができるものである。上記の物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に詳し
く説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物
の蒸着薄膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法
(Physical Vapor Depositio
n法、PVD法)を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形成
することができる。本発明において、具体的には、金属
の酸化物を原料とし、これを加熱して樹脂フィルムの上
に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または
金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて樹脂
フィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応
をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法
等を用いて蒸着膜を形成することができる。本発明にお
いて、物理気相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形
成する方法について、その具体例を挙げると、図6は、
巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図であ
る。図6に示すように、巻き取り式真空蒸着装置21の
真空チャンバ−22の中で、巻き出しロ−ル23から繰
り出す樹脂フィルむム3は、ガイドロ−ル24、25を
介して、冷却したコ−ティングドラム26に案内され
る。而して、上記の冷却したコ−ティングドラム26上
に案内された樹脂フィルム3の上に、るつぼ27で熱せ
られた蒸着源28、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口29より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク30、30を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜化
し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム
等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成した樹脂フィルム3
を、ガイドロ−ル25′、24′を介して送り出し、巻
き取りロ−ル31に巻き取ることによって、本発明にか
かる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を形成
することができる。
Next, in the present invention, a surface protection sheet for a solar cell module and a solar cell module according to the present invention.
A resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide constituting a metal or the like will be described. First, as a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, for example, physical vapor deposition, or chemical vapor deposition, or both. Can be used to form a multilayer film composed of one layer or two or more layers of a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. The inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the above-mentioned physical vapor deposition method will be described in further detail. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Physical Vapor Deposition
n method, PVD method) to form a deposited thin film of an inorganic oxide. In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and a vacuum evaporation method in which the metal oxide is heated and vapor-deposited on a resin film, or a metal or a metal oxide is used as a raw material, and oxygen is introduced. Then, the deposited film can be formed by using an oxidation reaction deposition method of depositing on a resin film by oxidizing the film, and further using a plasma-assisted oxidation reaction deposition method of promoting the oxidation reaction by plasma. In the present invention, a specific example of a method of forming a thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method is shown in FIG.
It is a schematic structure figure showing an example of a winding type vacuum evaporation system. As shown in FIG. 6, the resin film 3 unwound from the unwinding roll 23 in the vacuum chamber 22 of the take-up type vacuum evaporation apparatus 21 is cooled via the guide rolls 24 and 25. It is guided to the coating drum 26. Thus, on the resin film 3 guided on the cooled coating drum 26, the evaporation source 28 heated by the crucible 27, for example, metal aluminum or aluminum oxide is evaporated. If necessary, oxygen gas or the like is spouted from the oxygen gas outlet 29 and supplied, for example, through the masks 30, 30.
Forming a thin film of a vapor-deposited inorganic oxide such as aluminum oxide, and then forming a thin film of the inorganic oxide such as aluminum oxide on the resin film 3
Is fed through guide rolls 25 'and 24' and wound up on a take-up roll 31, whereby a vapor-deposited inorganic oxide thin film can be formed by the physical vapor deposition method according to the present invention.

【0013】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。また、本発明
においては、無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化
物の蒸着薄膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以
上を積層した積層体の状態でもよく、また、使用する金
属、または金属の酸化物としては、1種または2種以上
の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の
薄膜を構成することもできる。
In the above description, any thin film formed by depositing a metal oxide can be used as the inorganic oxide deposited thin film. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) can be used. , Calcium (C
a), potassium (K), tin (Sn), sodium (N
a) A vapor-deposited thin film of a metal oxide such as boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), and yttrium (Y) can be used. Thus, preferred are silicon (Si), aluminum (A
1) and the like. Thus, the vapor-deposited thin film of the above-described metal oxide can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide.
For example, SiO X, AlO X, as such as MgO X MO
X (wherein, M represents a metal element, and the value of X is
The range differs depending on the metal element. ). The range of the value of X is silicon (S
i) is 0-2, and aluminum (Al) is 0-1.
5. Magnesium (Mg) is 0-1, calcium (C
a) is 0-1, potassium (K) is 0-0.5, tin (Sn) is 0-2, and sodium (Na) is 0-0.
5, boron (B) is 0-1,5, titanium (Ti) is
0-2, lead (Pb): 0-1, zirconium (Zr)
Can have a value in the range of 0 to 2 and yttrium (Y) can have a value in the range of 0 to 1.5. In the above, when X = 0,
It is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all, and the upper end of the range of X is a fully oxidized value. In the present invention, generally, except for silicon (Si) and aluminum (Al), examples used are scarce. Silicon (Si) is 1.0 to 2.0, aluminum (A)
For l), a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the thin film of the inorganic oxide as described above varies depending on the type of the metal or the metal oxide to be used.
It is desirable to arbitrarily select and form it within the range of 0 °, preferably 100 to 1000 °. In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide vapor-deposited thin film, but may be a laminate of two or more layers. Alternatively, as the metal oxide, one kind or a mixture of two or more kinds may be used to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0014】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
樹脂フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用
モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更
に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プ
ラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長
法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着
薄膜を形成することができる。上記において、低温プラ
ズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パル
ス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用
することがてき、而して、本発明においては、高活性の
安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式
による発生装置を使用することが望ましい。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of inorganic oxide by the above-mentioned chemical vapor deposition method will be further described. Chemical vapor deposition (Chemical Vapor Deposition) such as vapor phase epitaxy, thermochemical vapor phase epitaxy, and photochemical vapor phase epitaxy
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide can be formed using an n method, a CVD method, or the like. In the present invention, specifically,
On one surface of the resin film, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas, and an oxygen gas is used as an oxygen supply gas. By using a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition (CVD) method using a low-temperature plasma generator or the like, a deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed. In the above description, as the low-temperature plasma generator, for example, a generator such as a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, or a microwave plasma can be used. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【0015】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図7は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図7に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43から樹脂フ
ィルム3を繰り出し、更に、該樹脂フィルム3を、補助
ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ドラム45
周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガス供
給装置46、47および、原料揮発供給装置48等から
酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノ
マ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混
合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル49を通し
て真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス組成物を導
入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45周面上に搬
送された樹脂フィルム3の上に、グロ−放電プラズマ5
0によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム45
は、チャンバ−外に配置されている電源51から所定の
電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム45の
近傍には、マグネット52を配置してプラズマの発生が
促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した樹脂フィルム3は、補助ロ−ル
53を介して巻き取りロ−ル54に巻き取って、本発明
にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜を製造することができるものである。なお、図
中、55は、真空ポンプを表す。上記の例示は、その一
例を例示するものであり、これによって本発明は限定さ
れるものではないことは言うまでもないことである。図
示しないが、本発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜
としては、無機酸化物の蒸着薄膜の1層だけではなく、
2層あるいはそれ以上を積層した積層体の状態でもよ
く、また、使用する材料も1種または2種以上の混合物
で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸
着薄膜を構成することもできる。
More specifically, an example of a method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by the above-described low-temperature plasma chemical vapor deposition method will be described. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a vapor-deposited thin film of an oxide. As shown in FIG. 7, in the present invention, the resin film 3 is unwound from an unwinding roll 43 disposed in a vacuum chamber 42 of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 41. Is cooled at a predetermined speed via an auxiliary roll 44 to a cooling / electrode drum 45.
Convey on the peripheral surface. In the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 46 and 47 and the raw material volatile supply device 48 and the like. While adjusting the mixed gas composition for vapor deposition, the mixed gas composition for vapor deposition was introduced into the vacuum chamber -42 through the raw material supply nozzle 49, and was conveyed onto the peripheral surface of the cooling / electrode drum 45 described above. Glow discharge plasma 5 on resin film 3
A plasma is generated by 0, and this is irradiated to form a deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide, thereby forming a film.
In the present invention, the cooling / electrode drum 45
A predetermined power is applied from a power source 51 disposed outside the chamber, and a magnet 52 is disposed near the cooling / electrode drum 45 to promote the generation of plasma. The above-mentioned resin film 3 on which a deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide is formed is wound up on a winding roll 54 via an auxiliary roll 53, and the plasma chemical vapor deposition method according to the present invention is carried out. To produce an inorganic oxide vapor-deposited thin film. In the figure, 55 represents a vacuum pump. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby. Although not shown, in the present invention, the inorganic oxide deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide deposited thin film,
It may be in the form of a laminate in which two or more layers are laminated, and the material used is one or more of a mixture thereof, and constitutes a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide mixed with different materials. You can also.

【0016】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
In the above, a monomer for vapor deposition of an organic silicon compound or the like forming a vapor deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide.
As the gas, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its properties and the like. In the above, for example, an argon gas, a helium gas, or the like can be used as the inert gas.

【0017】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が樹脂フィル
ムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成
することができ、通常、一般式SiOX (ただし、X
は、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とす
る連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般
式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として
有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、
または、その両者の元素を微量構成元素として含有する
酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å
〜2000Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素
と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的
に変化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、そ
の膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少している
ことを特徴とするものである。而して、本発明におい
て、上記の酸化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線
光電子分光装置(Xray Photoelectro
n Spectroscopy、XPS)、二次イオン
質量分析装置(Secondary Ion Mass
Spectroscopy、SIMS)等の表面分析
装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分
析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析
を行うことより、上記のような物性を確認することがで
きるものである。また、本発明において、上記の酸化珪
素の蒸着薄膜の膜厚としては、膜厚50Å〜2000Å
位であることが望ましく、具体的には、その膜厚として
は、より好ましくは、100〜1000Å位が望まし
く、而して、上記において、1000Å、更には、20
00Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易
くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、5
0Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難
になることから好ましくないものである。上記のおい
て、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分
析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファン
ダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。ま
た、上記において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚を
変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくする
こと、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする
方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うこと
ができる。
In the present invention, the silicon oxide vapor-deposited thin film formed as described above undergoes a chemical reaction between a monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas, and the reaction product adheres tightly to the resin film. dense, it is possible to form a thin film rich in flexibility or the like, usually, the general formula SiO X (provided that, X
Represents a number of 0 to 2). Thus, the above-mentioned silicon oxide vapor-deposited thin film is represented by a general formula SiO X (where X represents a number of 1.3 to 1.9) in terms of transparency, barrier properties, and the like. It is preferable to use a thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film. In the above, the value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, etc. In general, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself has It has a yellow color and poor transparency. Further, the above-described deposited silicon oxide thin film has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and further has one of carbon (C) and hydrogen (H);
Alternatively, it is composed of a deposited film of silicon oxide containing both elements as trace constituent elements and has a thickness of 50 °.
2,000 [deg.], And the composition ratio of the essential constituent elements and the trace constituent elements changes continuously in the film thickness direction. Further, when the above-mentioned vapor-deposited silicon oxide thin film contains a compound composed of carbon, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness. Thus, in the present invention, for the above-mentioned evaporated silicon oxide thin film, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron)
n Spectroscopy, XPS), Secondary Ion Mass Spectrometer (Secondary Ion Mass)
The physical properties as described above were confirmed by performing elemental analysis of the deposited thin film of silicon oxide using a method of analyzing the surface by ion etching in the depth direction using a surface analyzer such as Spectroscopy (SIMS). Is what you can do. In the present invention, the film thickness of the silicon oxide vapor-deposited thin film is 50 to 2000 mm.
And more specifically, the film thickness is more preferably in the range of about 100 to 1000 °.
When the thickness is more than 00 °, cracks and the like are easily generated in the film, which is not preferable.
If it is less than 0 °, it is not preferable because it is difficult to exhibit the effect of the barrier property. In the above description, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as means for changing the thickness of the deposited silicon oxide thin film, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or the rate of the deposition. It can be performed by a method of slowing down.

【0018】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、樹脂フィルムの上に、化学気相成
長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラック
の発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次い
で、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上の多層膜
からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成することが望まし
いものである。なお、本発明においては、上記の無機酸
化物の蒸着薄膜面は、例えば、他の基材との密接着性、
親和性等を向上させるために、プラズマ放電処理、ある
いは、コロナ放電処理等を行い、プラズマ処理面、ある
いは、コロナ処理面等を形成することもできる。
Incidentally, in the present invention, as a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide constituting a surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module or the like according to the present invention, for example, a physical vapor deposition method can be used. When forming a multilayer film composed of two or more layers of vapor-deposited inorganic oxide thin films by using both of the chemical vapor deposition methods together, first, on a resin film, dense, An inorganic oxide vapor-deposited thin film which is rich in flexibility and can relatively prevent the occurrence of cracks is provided, and then an inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by physical vapor deposition is formed on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. It is desirable to provide a deposited thin film of inorganic oxide composed of two or more multilayer films. In the present invention, the surface of the deposited thin film of the inorganic oxide is, for example, a close adhesive property with another base material,
In order to improve the affinity and the like, a plasma discharge treatment, a corona discharge treatment, or the like may be performed to form a plasma treatment surface, a corona treatment surface, or the like.

【0019】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィ
ルムにおいて、その樹脂フィルムとしては、例えば、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹
脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レ−ト等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポ
リカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニ
ルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化
部等のポリビニルアルコ−ル系樹脂、ポリアクリルニト
リル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアセタ
−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、フッ素系樹
脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。而して、本発明において、上記の
樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の
樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、インフレ−ション
法、Tダイ法、その他等の製膜化法を用いて、上記の樹
脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の異な
る樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更に
は、2種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して
製膜化する方法等により、樹脂のフィルムないしシ−ト
を製造し、更に、例えば、テンタ−方式、あるいは、チ
ュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸
してなる樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが
できる。本発明において、樹脂フィルムの膜厚として
は、5〜200μm位、より好ましくは、10〜50μ
m位が望ましい。なお、上記において、樹脂の製膜化に
際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、
機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、
難燃性、抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質
する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添
加することができ、その添加量としては、太陽光の透過
に影響しない極く微量から数十%まで、その目的に応じ
て、任意に添加することができる。また、上記におい
て、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填剤、強化剤、補強剤、
帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔
料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹
脂等も使用することがてきる。
Next, in the present invention, the surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention.
In a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide constituting a resin or the like, examples of the resin film include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, and polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. , Polyamide-based resin, polycarbonate-based resin, polystyrene-based resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol-based resin such as saponified portion of ethylene-vinyl acetate copolymer, polyacrylonitrile-based resin, polychlorinated resin Films or sheets of various resins such as vinyl resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, fluorine resin and others can be used. Thus, in the present invention, as the film or sheet of the above resin, for example, one or more of the above resins are used, and a film forming method such as an inflation method, a T-die method, and the like is used. Using the method, a method of forming the above resin alone into a film, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more different resins, further using two or more resins, A resin film or sheet is manufactured by, for example, a method of mixing and forming a film before forming a film, and further, for example, using a tenter method or a tuber method to form a uniaxial film. Alternatively, a resin film or sheet stretched in a biaxial direction can be used. In the present invention, the thickness of the resin film is about 5 to 200 μm, more preferably 10 to 50 μm.
The m-th position is desirable. In the above, at the time of film formation of the resin, for example, the workability of the film, heat resistance, weather resistance,
Mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness, mold release,
Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying the flame retardancy, mold resistance, electrical properties, etc. It can be added arbitrarily according to the purpose from a very small amount to several tens% without affecting. Further, in the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent,
Antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents,
An antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, a fungicide, a pigment, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used.

【0020】また、本発明において、樹脂フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、樹脂フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム等
の2軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム等の2軸延伸ポリエ
ステル系樹脂フィルム、または、2軸延伸ナイロンフィ
ルム等の2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用する
ことが望ましいものである。
In the present invention, the resin film comprises:
If necessary, for example, corona discharge treatment, ozone treatment,
Pretreatment such as low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like can be arbitrarily performed. The above-mentioned surface pretreatment may be performed in a separate step before forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.For example, in the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, As a pretreatment for forming a vapor-deposited thin film of an oxide, pretreatment can be performed by in-line treatment. In such a case, there is an advantage that the production cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is to be carried out as a method for improving the adhesion between the resin film and the deposited thin film of the inorganic oxide. On the surface of the film, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, a vapor-deposited anchor coat agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance. As the coating agent layer for the above pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method of forming the coating agent layer, for example, a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is used, and a roll coating method, a gravure roll coating is used. The coating can be performed by using a coating method such as a coating method, a kiss coating method, or the like. It can be carried out by in-line processing of axial stretching processing or the like. In the present invention, as the substrate film, specifically, a biaxially oriented polypropylene resin film such as a biaxially oriented polypropylene film, a biaxially oriented polyester resin film such as a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, Alternatively, it is desirable to use a biaxially stretched polyamide resin film such as a biaxially stretched nylon film.

【0021】次に、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムとを積
層し、その両者からなる積層体を製造する方法について
説明すると、かかる積層体の積層法としては、例えば、
ラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層を介し
て積層するドライラミネ−ション法、あるいは、溶融押
し出し接着性樹脂による溶融押し出し樹脂層を介して積
層する押し出しラミネ−ション法等で行うことができ
る。上記において、ラミネ−ト用接着剤としては、例え
ば、1液、あるいは、2液型の硬化ないし非硬化タイプ
のビニル系、(メタ)アクリル系、ポリアミド系、ポリ
エステル系、ポリエ−テル系、ポリウレタン系、エポキ
シ系、ゴム系、その他等の溶剤型、水性型、あるいは、
エマルジョン型等のラミネ−ト用接着剤を使用すること
ができる。而して、上記のラミネ−ト用接着剤のコ−テ
ィング法としては、例えば、ダイレクトグラビアロ−ル
コ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、リ
バ−スロ−ルコ−ト法、フォンテン法、トランスファ−
ロ−ルコ−ト法、その他等の方法で塗布することがで
き、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m
2 (乾燥状態)位、より好ましくは、1〜5g/m
2 (乾燥状態)位が望ましい。なお、本発明において
は、上記のラミネ−ト用接着剤には、例えば、シランカ
ップリング剤等の接着促進剤を任意に添加することがで
きる。次にまた、上記において、溶融押し出し接着性樹
脂としては、低〜高密度ポリエチレン、エチレン−酢酸
ビニル共重合体、サ−リン樹脂、エチレン−アクリル酸
またはメタクリル酸共重合体、ポリエチレンあるいはポ
リプロピレンをアクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変
性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリプロピレン、
その他等を使用することができ、特に、線状低密度ポリ
エチレン、酸変性ポリエチレンを使用することが好まし
いものである。上記の溶融押し出し接着性樹脂による溶
融押し出し樹脂層の膜厚としては、5〜100μm位、
より好ましくは、10〜50μm位が望ましい。なお、
本発明において、上記の積層を行う際に、より強固な接
着強度を得る必要がある場合には、必要ならば、例え
ば、アンカ−コ−ト剤等の接着改良剤等をコ−トするこ
ともできる。上記のアンカ−コ−ト剤としては、具体的
には、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系ア
ンカ−コ−ト剤、イソシアネ−ト系アンカ−コ−ト剤、
ポリエチレンイミン系アンカ−コ−ト剤、ポリブタジエ
ン系アンカ−コ−ト剤、その他等の水性あるいは油性等
の各種のアンカ−コ−ト剤を使用することができる。而
して、本発明においては、上記のアンカ−コ−ト剤を、
例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−
ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティ
ング法でコ−ティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥して、
アンカ−コ−ト剤層を形成することができる。上記のお
いて、アンカ−コ−ト剤の塗布量としては、0.1〜5
g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
Next, in the present invention, a fluorine-based resin
And a method of manufacturing a laminate comprising both of them by laminating a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.
Dry lamination using a laminating adhesive via a laminating adhesive layer, or extruding laminating using a melt-extruding adhesive resin via a melt-extruded resin layer. Can be. In the above description, examples of the laminating adhesive include one-component or two-component curable or non-curable vinyl, (meth) acrylic, polyamide, polyester, polyether, and polyurethane. System, epoxy type, rubber type, etc. solvent type, aqueous type, or
An adhesive for a laminate such as an emulsion type can be used. Examples of the coating method of the above-mentioned adhesive for laminating include direct gravure roll coating, gravure roll coating, kiss coating, reverse roll coating, and the like. Method, Fonten method, transfer
It can be applied by a roll coating method or other methods, and the coating amount is 0.1 to 10 g / m 2.
2 (dry state), more preferably 1 to 5 g / m
2 (dry state) is desirable. In the present invention, for example, an adhesion promoter such as a silane coupling agent can be optionally added to the adhesive for laminating. Next, in the above, as the melt-extruded adhesive resin, low to high-density polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, surin resin, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, polyethylene or polypropylene Acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, acid-modified polyolefin resin modified with unsaturated carboxylic acid such as itaconic acid, polypropylene,
Others can be used, and it is particularly preferable to use linear low-density polyethylene and acid-modified polyethylene. The thickness of the melt-extruded resin layer of the melt-extruded adhesive resin is about 5 to 100 μm,
More preferably, about 10 to 50 μm is desirable. In addition,
In the present invention, when it is necessary to obtain a stronger adhesive strength when performing the above-mentioned lamination, if necessary, for example, coat an adhesive improving agent such as an anchor coat agent. Can also. As the above-mentioned anchor coating agent, specifically, for example, organic titanium-based anchor coating agents such as alkyl titanate, isocyanate-based anchor coating agents,
Various kinds of aqueous or oily anchor coating agents such as polyethyleneimine anchor coating agent, polybutadiene anchor coating agent, and others can be used. Thus, in the present invention, the above-mentioned anchor coating agent is
For example, roll coat, gravure coat, knife coat
Coating with a coating method such as coating, dip coating, spray coating, or other coating method, and drying the solvent, diluent, etc.
An anchor coat agent layer can be formed. In the above, the coating amount of the anchor coating agent is 0.1 to 5
g / m 2 (dry state) is desirable.

【0022】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する防
汚層について説明すると、かかる防汚層は、表面保護シ
−トの最表面に形成するものである。すなわち、本発明
においては、太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを構
成するフッ素系樹脂シ−トの他方の片面(最表面)に、
ゴミ等の蓄積を防止する防汚層を形成するものである。
而して、上記の防汚層としては、光触媒粉末または光触
媒ゾルを含む組成物による塗布膜から構成されるもので
ある。上記において、光触媒粉末または光触媒ゾルを含
む組成物による塗布膜としては、例えば、光触媒粉末ま
たは光触媒ゾルの1種ないし2種以上に、ビヒクルとし
ての結合剤の1種ないし2種以上を添加し、更に、必要
ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止
剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他
等の添加剤の1種ないし2種以上を太陽光の透過に影響
しない範囲内で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で
十分に混練して、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、
エマルジョン型等の組成物を調整し、次いで、該組成物
を、例えば、フロ−ティングナイフコ−ト法、ナイフオ
−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティドナイフコ−ト
法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト
法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ
−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト法、エクストル−
ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等の
コ−ティング法、あるいは、グラビア印刷、オフセット
印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印刷、その他等の印
刷法を用いて、塗布ないし印刷することにより塗布膜を
形成することができる。上記において、塗布膜の膜厚と
しては、0.1〜10g/m2 位(乾燥状態)、より好
ましくは、0.5〜1g/m2 位が望ましい。
Next, a description will be given of a surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module and the like according to the present invention. It is formed on the outermost surface. That is, in the present invention, the other surface (outermost surface) of the fluororesin sheet constituting the surface protection sheet for a solar cell module is
It forms an antifouling layer for preventing accumulation of dust and the like.
Thus, the above-mentioned antifouling layer is formed of a coating film of a composition containing a photocatalyst powder or a photocatalyst sol. In the above, as a coating film of a composition containing a photocatalyst powder or a photocatalyst sol, for example, one or more of the photocatalyst powder or the photocatalyst sol, and one or more of a binder as a vehicle, Further, if necessary, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, a fungicide , One or more additives such as pigments and others are arbitrarily added within a range that does not affect the transmission of sunlight, and further kneaded sufficiently with a solvent, a diluent, etc., for example, a solvent type, Aqueous type, or
A composition such as an emulsion type is prepared, and then the composition is subjected to, for example, a floating knife coating method, a knife over roll coating method, an inverted knife coating method, a squeeze coating method. Roll coat method, reverse roll coat method, roll coat method, gravure roll coat method, kiss roll coat method, air blade coat method, extruder
Using a coating method such as a John coat method, a curtain flow method, or the like, or a printing method such as gravure printing, offset printing, silk screen printing, transfer printing, or the like, By printing, a coating film can be formed. In the above description, the thickness of the coating film is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (in a dry state), more preferably about 0.5 to 1 g / m 2 .

【0023】上記において、光触媒粉末または光触媒ゾ
ルとしては、太陽光等の光の作用により、例えば、樹脂
が、酸化等により劣化、破壊、あるいは、分解し、また
は、低分子化し、防汚層の表面に付着した塵埃等を、そ
の粘着性を破壊し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を
清掃に保持することを容易にする作用を有する化学物質
を使用することができる。具体的には、例えば、光触媒
粉末または光触媒ゾルとしては、例えば、TiO 2 、Z
nO、SrTiO3 、CdS、CaP、InP、GaA
s、BaTiO2、K2 TiO3 、K2 NbO3 、Fe
2 3 、Ta2 3 、WO3 、SnO2 、Bi2 8
NiO、Cu2 O、SiC、SiO2 、MoS2 、In
Pb、RuO2 、CeO2 等、あるいは、これらにP
t、Rh、RuO2 、Nb、Cu、Sn、Ni、Fe等
の金属および/またはこれらの金属酸化物とを混合した
組成物を使用することができる。上記の組成物におい
て、光触媒粉末または光触媒ゾルの含有量としては、そ
の粒子形状、密度等によって異なるが、約0.1〜30
重量%位が好ましい。また、上記において、防汚層とし
ては、酸化チタンを主成分とする光触媒粉末、若しくは
ゾルに含まれる微粒子からなる組成物による塗布膜から
なるものが望ましいものである。
In the above, the photocatalyst powder or photocatalyst
For example, a resin such as a resin
Degrades, breaks down or decomposes due to oxidation, etc.
Removes dust, etc., that has become low molecular and adhered to the surface of the stainproof layer.
Destroy the adhesiveness, wash and remove with wind and rain, etc.
Chemicals that act to facilitate retention in cleaning
Can be used. Specifically, for example, a photocatalyst
As the powder or the photocatalytic sol, for example, TiO Two, Z
nO, SrTiOThree, CdS, CaP, InP, GaAs
s, BaTiOTwo, KTwoTiOThree, KTwoNbOThree, Fe
TwoOThree, TaTwoOThree, WOThree, SnOTwo, BiTwoO8,
NiO, CuTwoO, SiC, SiOTwo, MoSTwo, In
Pb, RuOTwo, CeOTwoEtc., or P
t, Rh, RuOTwo, Nb, Cu, Sn, Ni, Fe, etc.
And / or mixed with these metal oxides
The composition can be used. The above composition smells
Therefore, the content of the photocatalyst powder or photocatalyst sol
About 0.1 to 30 depending on the particle shape, density, etc.
% By weight is preferred. In the above, the antifouling layer
A photocatalyst powder containing titanium oxide as a main component, or
From a coating film made of a composition consisting of fine particles contained in a sol
Is desirable.

【0024】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末ま
たは光触媒ゾルの光活性に影響を受けない結合剤を使用
することができ、具体的には、例えば、ポリエチレン系
樹脂、ポリプロピレン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチ
ル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸
共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹
脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アク
リル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS
系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共
重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアル
コ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化
物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹
脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル
系樹脂、アミノプラスト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニ
トロセルロ−ス、無機系ポリマ−、その他等の公知の樹
脂、あるいは、その変性樹脂、その他等の1種ないし2
種以上を使用することができる。而して、本発明におい
ては、光触媒粉末または光触媒ゾルの影響を受けない結
合剤としては、上記のような結合剤の中でも、特に、低
融点ガラス、アルカリ金属シリケ−ト、ホスフェ−ト、
または、コロイダルシリカ、その他等の無機系ポリマ−
の1種ないしそれ以上を使用することが好ましいもので
ある。
In the above, the binder as a vehicle has film-forming properties, and further has light resistance, heat resistance,
Uses a binder that is not affected by the photoactivity of photocatalyst powders or photocatalyst sols.Excellent robustness such as water resistance, increases the hardness of the coating film, and excels in scratch resistance and abrasion resistance. Specifically, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer Coalesce, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, Acrylonitrile-styrene copolymer (AS
Resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene-vinyl acetate copolymer Compound, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenol resin, aminoplast resin, silicone resin, nitrocellulose, inorganic polymer, A known resin such as others, or a modified resin thereof;
More than one species can be used. Thus, in the present invention, among the above-mentioned binders, particularly, low-melting glass, alkali metal silicate, phosphate,
Or, inorganic polymers such as colloidal silica and others
It is preferred to use one or more of the following.

【0025】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末または光触媒ゾルの
光活性が、該防汚層の下層に位置する、例えば、フッ素
系樹脂シ−ト等に影響を与え、その劣化、分解、あるい
は、破壊等に起こさないように、その相互の接触を遮断
する無機質膜等からなる光触媒粉末または光触媒ゾルの
活性を遮断する活性遮断層を設けることができる。上記
の活性遮断層は、通常、防汚層の下層に設けるものであ
る。上記の活性遮断層を構成する無機質膜としては、例
えば、前述の透明性を有する酸化珪素、あるいは、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜等を使用すること
ができる。上記の無機酸化物の蒸着膜の形成は、前述と
同様にして製膜化して、活性遮断層を形成することがで
き、その膜厚としては、100〜3000Å位、より好
ましくは、100〜1500Å位が望ましい。
In the present invention, the photoactivity of the photocatalyst powder or the photocatalytic sol in the coating film constituting the antifouling layer is located below the antifouling layer, for example, a fluorine resin sheet. It is necessary to provide an activity blocking layer for blocking the activity of the photocatalyst powder or the photocatalyst sol made of an inorganic film or the like that blocks the mutual contact so as not to cause deterioration, decomposition, or destruction, etc. it can. The above-mentioned activity blocking layer is usually provided below the antifouling layer. As the inorganic film constituting the above-mentioned activity blocking layer, for example, the above-mentioned vapor-deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide can be used. The above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited film can be formed into a film in the same manner as described above to form an active cutoff layer, and the thickness thereof is about 100 to 3000 °, more preferably 100 to 1500 °. Position is desirable.

【0026】また、本発明においては、上記の防汚層の
密接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触
媒粉末または光触媒ゾルを含む組成物による塗布膜を設
けるに際し、必要ならば、接着用プライマ−層等を設け
ることができる。上記のプライマ−層を構成する材料と
しては、例えば、防汚層中の光触媒粉末または光触媒ゾ
ルの光活性等によって分解されない無機系のプライマ−
層を構成する材料を使用することができ、具体的には、
有機チタン化合物として代表的なテトライソプロピルチ
タネ−ト、テトラブチルチタネ−ト、テトラステアリル
チタネ−ト等のアルキルチタネ−トやチタンキレ−ト等
の加水分解による生成物等を使用することができ、その
他、無機ポリシラザン(ペルヒドロポリシラザラン)等
も使用することができる。本発明において、特に、加水
分解の速度が極めて早く、溶液を塗工後に分解できるテ
トライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−ト
が好ましい材料である。
In the present invention, in order to strengthen the close adhesion of the antifouling layer, it is necessary to provide a coating film made of a composition containing a photocatalyst powder or a photocatalytic sol constituting the antifouling layer. Then, a primer layer for bonding or the like can be provided. Examples of the material constituting the primer layer include, for example, an inorganic primer which is not decomposed by the photoactivity of the photocatalyst powder or the photocatalyst sol in the antifouling layer.
The materials that make up the layers can be used, and specifically,
Typical organic titanium compounds include alkyl titanates such as tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate and tetrastearyl titanate, and products produced by hydrolysis of titanium chelate and the like. In addition, inorganic polysilazane (perhydropolysilazaran) and the like can also be used. In the present invention, particularly preferred are tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate, which have a very high rate of hydrolysis and can be decomposed after coating the solution.

【0027】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する紫
外線吸収剤層について説明すると、かかる紫外線吸収剤
層としては、例えば、紫外線吸収剤の1種ないし2種以
上に、ビヒクルとしての結合剤の1種ないし2種以上を
添加し、更に、必要ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、
補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ
剤、顔料、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を太
陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、
溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水
性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調整し、
次いで、該組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ
−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティ
ドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−
スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ
−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷するこ
とにより塗布膜を形成することができる。上記におい
て、塗布膜の膜厚としては、0.1〜10g/m2
(乾燥状態)、より好ましくは、1.0〜5g/m2
が望ましい。
Next, a description will be given of an ultraviolet absorbent layer constituting a surface protection sheet for a solar cell module, a solar cell module and the like according to the present invention. One or more kinds of binders are added to one or more kinds of absorbers, and if necessary, further, if necessary, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer Agents, fillers, reinforcing agents,
One or more additives such as a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, a fungicide, a pigment, and other additives are arbitrarily added within a range that does not affect sunlight transmission. Furthermore,
Solvent, sufficiently kneaded with a diluent, for example, a solvent type, aqueous type, or, to prepare a composition such as an emulsion type,
Subsequently, the composition is subjected to, for example, a floating knife coating method, a knife over roll coating method, an inverted knife coating method, a squeeze roll coating method, and a reverse coating method.
Roll coat method, roll coat method, gravure roll coat method, kiss roll coat method, air blade coat method, extrude coat method, curtain coat method
Coating method such as gravure printing, offset printing, silk screen printing, transfer printing, etc. to form a coating film by applying or printing. it can. In the above description, the thickness of the coating film is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state), more preferably about 1.0 to 5 g / m 2 .

【0028】上記において、紫外線吸収剤としては、例
えば、太陽光中の有害な紫外線を吸収し、分子内で無害
な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活
性種が励起されるのを防止するものであり、具体的に
は、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチ
レ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−
ドアミン系、超微粒子酸化チタン(粒径、0.01〜
0.06μm)、超微粒子酸化亜鉛( 粒径、0.01
〜0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種な
いしそれ以上を使用することができる。上記の組成物に
おいて、紫外線吸収剤の含有量としては、約0.1〜2
0重量%位が好ましい。また、上記において、上記の組
成物には、例えば、高分子の光劣化、あるいは、熱劣化
等を防止するものであり、具体的には、フェノ−ル系、
アミン系、硫黄系、りん酸系、その他等の酸化防止剤の
1種ないしそれ以上を使用することが望ましいものであ
る。更に、上記において、ビヒクルとしての結合剤とし
ては、前述の防汚層を構成する際に例示した結合剤を同
様に使用することができる。
In the above, as the ultraviolet absorber, for example, harmful ultraviolet rays in sunlight are absorbed and converted into harmless heat energy in the molecule, and the active species of the polymer which initiates photodegradation are excited. Specifically, benzophenone-based, benzotriazole-based, saltyl-based, acrylonitrile-based, metal complex-based, and
Doamine-based, ultrafine titanium oxide (particle size, 0.01 ~
0.06 μm), ultrafine zinc oxide (particle size, 0.01
One or more UV absorbers such as inorganic UV absorbers such as .about.0.04 .mu.m) can be used. In the above composition, the content of the ultraviolet absorber is about 0.1 to 2
About 0% by weight is preferable. Further, in the above, for example, the above composition is intended to prevent photodeterioration of a polymer or thermal deterioration, and specifically, a phenol-based compound,
It is desirable to use one or more of antioxidants such as amine-based, sulfur-based, phosphoric-based and others. Further, in the above description, as the binder as a vehicle, the binder exemplified when forming the above-mentioned antifouling layer can be used in the same manner.

【0029】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、より好ましくは、3
50〜600μm位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module constituting the solar cell module will be described. The filler layer is transparent because sunlight enters, transmits and absorbs sunlight. It is necessary to have a property to adhere to the surface protection sheet, and also to function to maintain the smoothness of the surface of the solar cell element as a photovoltaic element. Having thermoplasticity for
Further, since the solar cell element as a photovoltaic element is protected, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption, and the like. Specifically, as the filler layer, for example, a fluororesin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, Acrylic acid, itaconic acid, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene,
Acid-modified polyolene fin-based resin modified with unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid, polyvinyl butyral
Resin, silicone resin, epoxy resin, (meth)
A mixture of one or more resins such as acrylic resins and other resins can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the filler layer, as long as the transparency is not impaired, for example, crosslinking may be performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and others can be arbitrarily added and mixed. Thus, in the present invention, as the filler on the incident side of sunlight, in consideration of light resistance, heat resistance, and weather resistance such as water resistance, a fluororesin or an ethylene-vinyl acetate resin is a desirable material. is there. In addition, the thickness of the above-mentioned filler layer is about 200 to 1000 μm, more preferably about 3 μm.
About 50 to 600 μm is desirable.

【0030】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファスシリコン太陽電池素子
とのハイブリット素子、その他等を使用することができ
る。
Next, in the present invention, the solar cell module
A solar cell element as a photovoltaic element constituting a cell will be described. As such a solar cell element, a conventionally known solar cell element, for example, a crystalline silicon solar cell element, a polycrystalline silicon solar cell element, an amorphous silicon solar cell element , A copper indium selenide solar cell element, a compound semiconductor solar cell element, and the like can be used.
Furthermore, in the present invention, a thin-film polycrystalline silicon solar cell element, a thin-film microcrystalline silicon solar cell element, a hybrid element of a thin-film crystalline silicon solar cell element and an amorphous silicon solar cell element, and the like can be used.

【0031】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. The filler layer is the same as the filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module. In addition, it is necessary to have an adhesive property with a back surface protection sheet, and further, to have a function of maintaining the smoothness of the back surface of the solar cell element as a photovoltaic element, and to have thermoplasticity. In order to protect a solar cell element as a photovoltaic element, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. However, the filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module is different from the filler layer laminated below the surface protection sheet for the solar cell module. ,
It is not necessary to have transparency. Specifically, as the above-mentioned filler layer, for example, as in the case of the above-mentioned filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module, for example, a fluorine-based resin, ethylene-vinyl acetate copolymer may be used. Coalesced, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or polyolefin-based resin such as methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene or polypropylene, etc., with acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. One or more resins such as an acid-modified polyolefin resin modified with a saturated carboxylic acid, a polyvinyl butyral resin, a silicone resin, an epoxy resin, a (meth) acrylic resin, and the like. Mixtures can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the filler layer, as long as the transparency is not impaired, for example, crosslinking may be performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and others can be arbitrarily added and mixed. The thickness of the filler layer is 200 to
About 1000 μm, more preferably 350 to 600 μm
Position is desirable.

【0032】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ま
しい。
Next, in the present invention, the solar cell module
The backside protective sheet layer constituting the sheet will be described. As the backside protective sheet, an insulating resin film or sheet can be used, and further, heat resistance, light resistance, and water resistance With weather resistance such as, physical or chemical strength, excellent in toughness, etc., furthermore, from the protection of the solar cell element as a photovoltaic element, scratch resistance,
It is necessary to be excellent in shock absorption and the like. Specific examples of the back surface protection sheet include polyamide resins (various nylons), polyester resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, and the like. Films or sheets of various resins such as an acetal-based resin, a cellulose-based resin, a (meth) acrylic resin, and others can be used. As the above resin film or sheet, for example, a biaxially stretched resin film or sheet can also be used. The film thickness of the resin film or sheet is 12 to 20.
About 0 μm, more preferably about 25 to 150 μm is desirable.

【0033】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
In the present invention, when the solar cell module according to the present invention is manufactured, in order to improve its various strengths such as strength, weather resistance, scratch resistance, etc. Material, for example, low density polyethylene,
Medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic Acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, poly Acrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin , Polyvinyl alcohol tree , Ethylene - saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal - Le resins, polyurethane resins, nitrocellulose -
And any other known resin film or sheet. In the present invention, the above-mentioned film or sheet can be used in any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of several μm to about 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film or a coating film.

【0034】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その一方の面を内側
にし、順次に、充填剤層、光起電力素子としての太陽電
池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等を積層
し、更に、必要ならば、各層間に、その他の素材を任意
に積層し、次いで、これらを、真空吸引等により一体化
して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を
利用し、上記の各層を一体成形体として加熱圧着成形し
て、太陽電池モジュ−ルを製造することができる。上記
において、必要ならば、各層間の接着性等を高めるため
に、(メタ)アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ビニ
ル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクルの主成分とする加
熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬化型接着剤、その
他等を使用することができる。
Next, in the present invention, a method for manufacturing a solar cell module using the above-mentioned materials will be described. Such a manufacturing method is a known method, for example, the present invention described above. The surface protection sheet for a solar cell module according to the above is used, and one surface thereof is placed inside, and a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and A lamination method in which a backside protective sheet layer and the like are laminated, and if necessary, any other material is laminated between the respective layers, and then these are integrated by vacuum suction or the like and heated and pressed. The solar cell module can be manufactured by using a conventional molding method such as that described above and heat-press-molding each of the above-mentioned layers as an integral molded body. In the above, if necessary, a heat-melt adhesive containing a resin such as a (meth) acrylic resin, an olefin-based resin, a vinyl-based resin, or the like as a main component of the vehicle, in order to enhance adhesion between the layers, Solvent-based adhesives, photo-curable adhesives, and others can be used.

【0035】[0035]

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り
式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、こ
れをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件
で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しな
がら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応
真空蒸着法により、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの易接着処理面に、膜厚300Åの酸
化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄
膜を形成した後、その蒸着直後に、その酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用
し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O2 ):ア
ルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガスを使用
し、混合ガス圧6X10-5Toor、処理速度420m
/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行っ
た。 (2).次に、基材として、厚さ50μmのポリフッ化
ビニル樹脂フィルム(PVF)を使用し、その一方の面
に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μm
に溶融押し出ししながら、上記の2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルムの酸化アルミニウムの蒸着薄膜
のプラズマ処理面を対向させて、上記のポリフッ化ビニ
ル樹脂フィルムと2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルムとを押し出しラミネ−トして積層体を製造し
た。次に、上記で製造した積層体の2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルム面に、0.03μmの酸化チ
タン超微粒子5重量部とエチレン−ビニルアルコ−ル共
重合体液(固形分20%溶液)95重量部からなる紫外
線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−
ティングし、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)の紫外線
吸収剤層を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを
製造した。 (3).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PVF)の
代わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレンとエ
チレンとのコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(E
TFE)を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太
陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Example 1 (1). A 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film was used as a base material, which was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the following conditions, the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is easily bonded by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating system while supplying oxygen gas while using aluminum as a deposition source. An aluminum oxide deposited thin film having a thickness of 300 ° was formed on the surface. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Next, after forming a thin film of aluminum oxide having a film thickness of 300 ° as described above, immediately after the deposition, a glow-discharge plasma generator was used to apply a plasma output of 1500 W to the surface of the thin film of aluminum oxide. A mixed gas consisting of gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 19: 1 was used, the mixed gas pressure was 6 × 10 −5 Toor, and the processing speed was 420 m.
/ Min oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed. (2). Next, a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm was used as a base material, and low-density polyethylene was used on one side of the film, and the thickness was reduced to 20 μm.
The above-mentioned polyvinyl fluoride resin film and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film are extruded while the plasma-treated surfaces of the evaporated aluminum oxide thin film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film are opposed to each other while being melted and extruded. The laminate was manufactured by lamination. Next, 5 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles of 0.03 μm and 95 parts by weight of an ethylene-vinyl alcohol copolymer solution (20% solid content solution) were placed on the biaxially stretched polyethylene terephthalate film surface of the laminate produced above. Part of the ultraviolet absorbent composition comprising a gravure roll coating method.
Then, an ultraviolet absorber layer having a thickness of 0.5 g / m 2 (dry state) was formed to produce a surface protection sheet according to the present invention. (3). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (4). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) as the base material, a fluorine-based resin sheet (E) having a 50 μm-thick copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene was used.
The same surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced in the same manner as described above except for using TFE).

【0036】実施例2 (1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの易接着処理面
に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 次に、上記で膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成
した後、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、蒸着薄膜面の表面張力を35dy
neより60dyneに向上させた。 (2)、基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、その一方の面に、低
密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μmに溶融
押し出ししながら、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面
を対向させて、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムと
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムとを押し
出しラミネ−トして積層体を製造した。次に、上記で製
造した積層体の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルム面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤1重量部と
熱硬化型アクリル系樹脂液(固形分20%溶液)99重
量部からなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−
ト法を用いてコ−ティングし、膜厚2.0g/m2 (乾
燥状態)の紫外線吸収剤層を形成して、本発明にかかる
表面保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PVF)の
代わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレンとエ
チレンとのコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(E
TFE)を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太
陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 2 (1). As a base material, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, which was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a silicon oxide thin film having a thickness of 300 mm was formed under the following conditions. Was formed on the surface of the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film which had been subjected to easy adhesion. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.0 × 10 −2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 20 kW Film transfer speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface Next, a 300 mm thick silicon oxide evaporated thin film was formed as described above. Then, immediately after the deposition, a corona discharge treatment was performed on the deposited silicon oxide thin film surface at an output of 10 kW and at a processing speed of 100 m / min, and the surface tension of the deposited thin film surface was 35 dy.
ne to 60 dyne. (2) As a substrate, a polyvinyl fluoride resin film (PVF) having a thickness of 50 μm is used, and on one surface thereof, low-density polyethylene is used. The above-mentioned polyvinyl fluoride resin film and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film are extruded and laminated, with the corona-treated surfaces of the deposited silicon oxide thin film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film facing each other. Manufactured. Next, an ultraviolet ray comprising 1 part by weight of a benzophenone-based ultraviolet absorber and 99 parts by weight of a thermosetting acrylic resin liquid (20% solid content solution) is applied to the biaxially stretched polyethylene terephthalate film surface of the laminate produced above. Sorbent composition
A UV-absorbing layer having a thickness of 2.0 g / m 2 (dry state) was formed by coating using a coating method, thereby producing a surface protective sheet according to the present invention. (3). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (4). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) as the base material, a fluorine-based resin sheet (E) having a 50 μm-thick copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene was used.
The same surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced in the same manner as described above except for using TFE).

【0037】実施例3 (1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、上記の実
施例2と同じ蒸着条件で厚さ300Åの酸化珪素の蒸着
薄膜を上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムの易接着処理面形成した。次に、上記で形成した膜
厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜に、上記の実施例2と
全く同様にしてコロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着薄膜を形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングド
ラムの上に繰り出して、上記の実施例1と同じ蒸着条件
で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しな
がら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応
真空蒸着法により、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面
に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成
した。次に、上記で形成した膜厚300Åの酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜面に、上記の実施例1と全く同様にし
てプラズマ処理面を形成した。 (3).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、その一方の面に、低
密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μmに溶融
押し出ししながら、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラ
ズマ処理面を対向させて、上記のポリフッ化ビニル樹脂
フィルムと2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ムとを押し出しラミネ−トして積層体を製造した。更
に、上記で製造した積層体を構成するポリフッ化ビニル
樹脂フィルムの他方の面(最表面)に、粒径0.03μ
mの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシ
ラン液90重量部(固形分20%)とからなる光触媒塗
工液をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚1
g/m2 (乾燥状態)の防汚層を形成した。他方、上記
で製造した積層体を構成する2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルム面に、0.03μmの酸化チタン超
微粒子5重量部とエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
液(固形分20%溶液)95重量部からなる紫外線吸収
剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティン
グし、膜厚0.5g/m2 (乾燥状態)の紫外線吸収剤
層を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PVF)の
代わりに、厚さ50μmのテトラフルオロエチレンとエ
チレンとのコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(E
TFE)を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太
陽電池モジュ−ルを製造することができた。
Embodiment 3 (1). A 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus. Was formed on the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film with an easily adhered surface. Next, a corona-treated surface was formed in the same manner as in Example 2 above on the deposited silicon oxide thin film having a thickness of 300 ° formed as described above. (2). Next, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a silicon oxide vapor-deposited thin film subjected to the above corona treatment was formed was used, and this was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum vapor deposition apparatus. Is fed onto a coating drum, and under the same vapor deposition conditions as in Example 1 described above, using aluminum as a vapor deposition source and supplying an oxygen gas, a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method. Thus, a 300 ° -thick aluminum oxide vapor-deposited thin film was formed on the corona-treated surface of the silicon oxide vapor-deposited thin film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. Next, a plasma-treated surface was formed on the 300-nm-thick aluminum oxide vapor-deposited thin film surface formed in the same manner as in Example 1 above. (3). As the base material, a 50 μm thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) is used, and on one surface thereof, low-density polyethylene is used, and the above-mentioned biaxially stretched polyethylene is melt-extruded to a thickness of 20 μm. The above-mentioned polyvinyl fluoride resin film and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film were extruded and laminated with the plasma-treated surface of the evaporated aluminum oxide thin film of the terephthalate film facing each other, to produce a laminate. Further, the other surface (the outermost surface) of the polyvinyl fluoride resin film constituting the laminate produced above had a particle size of 0.03 μm.
A photocatalyst coating solution comprising 10 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles of 90 m and 90 parts by weight of a tetraethoxysilane solution (solid content: 20%) was applied by a gravure roll coating method to give a film thickness of 1
g / m 2 (dry state) of an antifouling layer was formed. On the other hand, on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film constituting the laminate produced above, 5 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles of 0.03 μm and an ethylene-vinyl alcohol copolymer liquid (20% solid content solution) 95 The ultraviolet absorbent composition consisting of parts by weight is coated by a gravure roll coating method to form an ultraviolet absorbent layer having a thickness of 0.5 g / m 2 (in a dry state). A surface protection sheet was manufactured. (4). Next, a 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on the surface of the ultraviolet absorbent layer of the surface protection sheet manufactured as described above, The photovoltaic module according to the present invention was manufactured by laminating the photovoltaic cell elements with an acrylic resin adhesive layer facing each other. (5). In the above, instead of the above-mentioned 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) as the base material, a fluorine-based resin sheet (E) having a 50 μm-thick copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene was used.
The same surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be produced in the same manner as described above except for using TFE).

【0038】実施例4 上記の実施例1の(2)において、紫外線吸収剤層を形
成した後、更に、積層体を構成するポリフッ化ビニル樹
脂フィルムの他方の面(最表面)に、粒子径0.03μ
mの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシ
ラン液(固形分15%)90重量部からなる光触媒組成
物を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚
1.0g/m2 (乾燥状態)塗布、乾燥して防汚層を形
成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。そ
れ以外は、上記の実施例1と全く同様にして、同様な太
陽電池モジュ−ルを製造した。
Example 4 In (2) of Example 1 described above, after forming the ultraviolet absorbent layer, the other surface (the outermost surface) of the polyvinyl fluoride resin film constituting the laminate was further provided with a particle diameter. 0.03μ
A photocatalyst composition comprising 10 parts by weight of titanium oxide ultrafine particles of 90 m and 90 parts by weight of a tetraethoxysilane solution (solid content: 15%) was used, and a film thickness of 1.0 g / m 2 was obtained by a gravure roll coating method. (Dry state) Coating and drying to form an antifouling layer, thereby producing a surface protection sheet according to the present invention. Otherwise, a solar cell module similar to that of Example 1 was manufactured.

【0039】実施例5 上記の実施例2の(2)において、紫外線吸収剤層を形
成した後、更に、積層体を構成するポリフッ化ビニル樹
脂フィルムの他方の面(最表面)に、粒子径0.03μ
mの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシ
ラン液(固形分15%)90重量部からなる光触媒組成
物を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚
1.0g/m2 (乾燥状態)塗布、乾燥して防汚層を形
成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。そ
れ以外は、上記の実施例2と全く同様にして、同様な太
陽電池モジュ−ルを製造した。
Example 5 In (2) of Example 2 described above, after forming the ultraviolet absorber layer, the other surface (the outermost surface) of the polyvinyl fluoride resin film constituting the laminate was further subjected to particle size analysis. 0.03μ
A photocatalyst composition comprising 10 parts by weight of titanium oxide ultrafine particles of 90 m and 90 parts by weight of a tetraethoxysilane solution (solid content: 15%) was used, and a film thickness of 1.0 g / m 2 was obtained by a gravure roll coating method. (Dry state) Coating and drying to form an antifouling layer, thereby producing a surface protection sheet according to the present invention. Otherwise, a solar cell module similar to that of Example 2 was manufactured.

【0040】実施例6 上記の実施例1の(2)において、積層体を形成した
後、該積層体を構成するポリフッ化ビニル樹脂フィルム
の他方の面(最表面)に、粒子径0.03μmの酸化チ
タン超微粒子10重量部とテトラエトキシシラン液(固
形分15%)90重量部からなる光触媒組成物を使用
し、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚1.0g/
2 (乾燥状態)塗布、乾燥して防汚層を形成して、本
発明にかかる表面保護シ−トを製造した(紫外線吸収剤
層は、形成しなかった。)。それ以外は、上記の実施例
1と全く同様にして、同様な太陽電池モジュ−ルを製造
した。
Example 6 In Example 2 (2) above, after forming a laminate, the other surface (outermost surface) of the polyvinyl fluoride resin film constituting the laminate had a particle diameter of 0.03 μm. Using a photocatalyst composition comprising 10 parts by weight of ultrafine titanium oxide particles and 90 parts by weight of a tetraethoxysilane solution (solid content: 15%), a film thickness of 1.0 g /
m 2 (dry state) was applied and dried to form an antifouling layer, thereby producing a surface protection sheet according to the present invention (no ultraviolet absorber layer was formed). Otherwise, a solar cell module similar to that of Example 1 was manufactured.

【0041】比較例1 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−トとし、
その片面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素
子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池
素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して
積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
Comparative Example 1 A 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used as a substrate, and this was used as a surface protection sheet.
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel on one surface thereof, and an adhesive layer of an acrylic resin with the solar cell element surfaces facing each other. To produce a solar cell module.

【0042】比較例2 基材として、厚さ50μmのポリテトラフルオロエチレ
ン−エチレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂フィルム
(ETFE)を使用し、これを表面保護シ−トとし、そ
の片面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素
子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積
層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
Comparative Example 2 A fluorine-based resin film (ETFE) made of polytetrafluoroethylene-ethylene copolymer having a thickness of 50 μm was used as a substrate, and this was used as a surface protection sheet. A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light-receiving surface) in which solar cell elements made of are arranged in parallel is laminated with the solar cell element surfaces facing each other with an acrylic resin adhesive layer interposed therebetween. A solar cell module was manufactured.

【0043】比較例3 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、その表裏両面に、上記の実施
例3と同様にして、防汚層と紫外線吸収剤層を形成して
表面保護シ−トとし、その片面に、アモルファスシリコ
ンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光
面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを
製造した。
Comparative Example 3 A 50 μm-thick polyvinyl fluoride resin film (PVF) was used as a substrate, and an antifouling layer and an ultraviolet absorber layer were formed on both front and back surfaces in the same manner as in Example 3 above. The surface protection sheet was formed to have a thickness of 38 μm in which solar cell elements made of amorphous silicon were arranged in parallel on one surface.
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light receiving surface) was laminated with an adhesive layer of an acrylic resin facing the solar cell element surface to produce a solar cell module.

【0044】比較例4 基材として、厚さ50μmのポリテトラフルオロエチレ
ン−エチレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂フィルム
(ETFE)を使用し、その表裏両面に、上記の実施例
3と同様にして、防汚層と紫外線吸収剤層とを形成して
表面保護シ−トとし、その片面に、アモルファスシリコ
ンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム(受光
面)を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを
製造した。
Comparative Example 4 A fluororesin film (ETFE) made of polytetrafluoroethylene-ethylene copolymer having a thickness of 50 μm was used as a base material. An antifouling layer and an ultraviolet absorber layer are formed to form a surface protection sheet, and a solar cell element made of amorphous silicon is arranged in parallel on one surface of the sheet and has a thickness of 38 μm.
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film (light receiving surface) was laminated with an adhesive layer of an acrylic resin facing the solar cell element surface to produce a solar cell module.

【0045】実験例 上記の実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例1〜4にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜6
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜4で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材シ−トを基準とし、実施例1〜6で製造し
た本発明にかかる表面保護シ−トと比較例1〜4にかか
る表面保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−により
全光線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜6で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例1〜4にかかる表面保護シ−
トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米
国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23
℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCO
N)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRA
N)〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
1に示す。
Experimental Example The total light transmittance of the surface protective sheets according to the present invention produced in Examples 1 to 6 and the surface protective sheets according to Comparative Examples 1 to 4 was measured. Examples 1 to 6
A solar cell module evaluation test was performed on the solar cell modules manufactured in the above section and the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 to 4. (1). Measurement of Total Light Transmittance This is based on the base sheet and the color of the surface protection sheets according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheets according to Comparative Examples 1 to 4. -The total light transmittance (%) was measured by a computer. (2). Solar cell module evaluation test This is based on JIS standard C8917-1989.
An environmental test of the solar cell module was performed, and the output of the photovoltaic power before and after the test was measured and compared. (3). Measurement of Water Vapor Permeability and Oxygen Permeability The water vapor permeability was determined by the surface protection sheet according to the present invention manufactured in Examples 1 to 6 and the surface protection sheet according to Comparative Examples 1 to 4.
Under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH, a measuring instrument manufactured by MOCON, USA [model name, part
MATTRAN (PERMATRAN)]
Oxygen permeability was measured at a temperature of 23 for the same object as described above.
C., humidity 90% RH, USA, MOCON (MOCO
N) [Model name, OXTRA
N)]. The above measurement results are shown in Table 1 below.

【0046】[0046]

【表1】 上記の表1において、水蒸気透過度は、〔g/m2 /d
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素透過度は、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
[Table 1] In Table 1 above, the water vapor permeability is [g / m 2 / d
ay.40 ° C. · 100% RH], and the oxygen permeability is [cc / m 2 / day · 23 ° C. · 90% RH].
H].

【0047】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜6にかかる表面保護シ−トは、全光線
透過率が高く、また、水蒸気バリア性、酸素バリア性に
優れていた。また、実施例1〜6にかかる表面保護シ−
トを使用した太陽電池モジュ−ルは、その出力低下率も
低いものであった。これに対し、比較例1〜4にかかる
表面保護シ−トは、全光線透過率が高いものの、水蒸気
バリア性、酸素バリア性にに劣り、そのため、これを使
用した太陽電池モジュ−ルは、その出力低下率が高いと
いう問題点があった。
As is clear from the measurement results shown in Table 1 above, the surface protection sheets according to Examples 1 to 6 have high total light transmittance and are excellent in water vapor barrier property and oxygen barrier property. Was. Further, the surface protection seal according to Examples 1 to 6 was used.
The solar cell module using the solar cell had a low output reduction rate. On the other hand, although the surface protection sheets according to Comparative Examples 1 to 4 have high total light transmittance, they are inferior in water vapor barrier property and oxygen barrier property. Therefore, solar cell modules using the same have the following problems. There is a problem that the output reduction rate is high.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸
収剤等に着目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−
トとして使用し、他方、その片面に、酸化珪素、あるい
は、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無
機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムを使用し、而
して、上記のフッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄
膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ素系
樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィル
ムとからなる積層体のいずれかの一方の面および/また
は両面に、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜からな
る防汚層および/または紫外線吸収剤を含む組成物によ
る塗布膜からなる紫外線吸収剤層を設けて太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−
ト層とし、その防汚層を最表面とし、その他方の面に、
充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤
層、および、裏面保護シ−ト層等を順次に積層し、次い
で、これらを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ
−ション法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造した
ところ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく
向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
についても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保
護能力性に優れ、また、ゴミ等が蓄積してその表面を汚
染する汚染性等を防止し、より低コストで安全な太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルを製造し得ることができるというもの
である。
As is apparent from the above description, the present invention
Focusing on the properties of the glass plate used as the surface protection sheet layer constituting the solar cell module, the photocatalyst powder, the ultraviolet absorber, etc., first, a fluororesin sheet is used as the base sheet.
On the other hand, a resin film having a transparent, glassy inorganic oxide vapor-deposited thin film such as silicon oxide or aluminum oxide on one surface thereof is used. A sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide are laminated, and further, any one of a laminate comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide A surface for a solar cell module having a surface and / or both surfaces provided with an antifouling layer composed of a coating film of a composition containing a photocatalyst powder and / or an ultraviolet absorbent layer composed of a coating film of a composition containing an ultraviolet absorbent. A protective sheet is manufactured, and this is
Layer, the antifouling layer is the outermost surface, and on the other side,
Lamination in which a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protection sheet layer, and the like are sequentially laminated, and then these are integrally vacuum-evacuated and heated and pressed. When the solar cell module was manufactured using the method and the like, the moisture-proof property for preventing intrusion of moisture, oxygen, etc. was remarkably improved, and further, the light fastness, heat resistance, and various robustness such as water resistance were also improved. For low-cost and safe solar cell modules, minimizing long-term performance deterioration, excellent protection ability, and preventing contamination that accumulates dust and contaminates the surface. A surface protection sheet and a solar cell module using the same can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図4】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図5】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
FIG. 5 is a solar cell module manufactured using the surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of the structure.

【図6】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum evaporation apparatus showing an outline of a method of forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method.

【図7】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A1 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A2 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A3 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 1 フッ素系樹脂シ−ト 2 無機酸化物の蒸着薄膜 2a 無機酸化物の蒸着薄膜 2b 無機酸化物の蒸着薄膜 3 樹脂フィルム 4 積層体 5 防汚層 6 紫外線吸収剤層 7 多層膜 T 太陽電池モジュ−ル 11 充填剤層 12 太陽電池素子 13 充填剤層 14 裏面保護シ−トA solar cell module - le for surface protective sheet - DOO A 1 solar cell module - le for surface protective sheet - DOO A 2 solar cell module - le for surface protective sheet - DOO A 3 solar cell module - le surface protective sheet - G 1 Fluorine-based resin sheet 2 Vapor-deposited thin film of inorganic oxide 2a Vapor-deposited thin film of inorganic oxide 2b Vapor-deposited thin film of inorganic oxide 3 Resin film 4 Laminate 5 Antifouling layer 6 Ultraviolet absorber layer 7 Multilayer film T Solar cell Module 11 Filler layer 12 Solar cell element 13 Filler layer 14 Backside protection sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 27/36 B32B 27/36 C23C 14/08 C23C 14/08 N 16/40 16/40 // H01M 14/00 H01M 14/00 P (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4F100 AA17B AA19 AA21D AA21H AK01C AK04A AK04J AK06 AK07C AK17A AK18A AK18J AK41C AK42 AK46C AK69 AL01A AR00D AR00E BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA10E BA13 CA07E DE01D DE01H EH46D EH46E EH66B EJ38C GB41 JB07 JD03 JD04 JD09E JJ03 JL06D JL08D JL08H JL09 JM01D JM02B JN01A YY00A 4K029 AA11 AA25 BA43 BA44 BA46 BB02 BD00 BD01 CA02 DB03 DB21 GA02 JA10 KA03 4K030 AA06 AA09 AA14 AA16 BA42 BA43 BA44 BB13 CA07 CA12 DA02 DA08 FA03 GA14 HA03 LA11 LA16 5F051 AA05 EA18 GA05 GA06 5H032 AA00 AS16 CC14 EE02 EE05 EE13 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 27/36 B32B 27/36 C23C 14/08 C23C 14/08 N 16/40 16/40 // H01M 14 / 00 H01M 14/00 P (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Katsutoshi Konno 1-1, Ichigaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. F-term (reference) 4F100 AA17B AA19 AA21D AA21H AK01C AK04A AK04J AK06 AK07C AK17A AK18A AK18J AK41C AK42 AK46C AK69 AL01A AR00D AR00E BA10 BA10 BA10 BA01 BA10 BA10 BA10 BA01 BA10 JB07 JD03 JD04 JD09E JJ03 JL06D JL08D JL08H JL09 JM01D JM02B JN01A YY00A 4K029 AA11 AA25 BA43 BA44 BA46 BB02 BD00 BD01 CA02 DB03 DB21 GA02 JA10 KA03 4K0 30 AA06 AA09 AA14 AA16 BA42 BA43 BA44 BB13 CA07 CA12 DA02 DA08 FA03 GA14 HA03 LA11 LA16 5F051 AA05 EA18 GA05 GA06 5H032 AA00 AS16 CC14 EE02 EE05 EE13

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着
薄膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ素
系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィ
ルムとからなる積層体のいずれかの一方の面あるいは両
面に、防汚層および/または紫外線吸収剤層を設けたこ
とを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
1. A laminate comprising a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide laminated thereon, and further comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. A surface protection sheet for a solar cell module, wherein an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer is provided on one or both surfaces of the laminate.
【請求項2】 フッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着
薄膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ素
系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィ
ルムとからなる積層体を構成するフッ素系樹脂シ−ト面
に、防汚層と紫外線吸収剤層を設け、該防汚層を最表面
とすることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−ト。
2. A laminate comprising a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, and further comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. A surface protection sheet for a solar cell module, characterized in that an antifouling layer and an ultraviolet absorber layer are provided on the surface of a fluorine-based resin sheet constituting the laminate, and the antifouling layer is the outermost surface. .
【請求項3】 フッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着
薄膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ素
系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィ
ルムとからなる積層体を構成するフッ素系樹脂シ−ト面
に、防汚層を設け、また、該積層体を構成する無機酸化
物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルム面に、紫外線吸収剤
層を設け、該防汚層を最表面とすることを特徴とする太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
3. A laminate comprising a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, and further comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. An antifouling layer is provided on the surface of the fluorine-containing resin sheet constituting the laminate, and an ultraviolet absorber layer is provided on the surface of the resin film having a vapor-deposited thin film of inorganic oxide constituting the laminate. A surface protection sheet for a solar cell module, wherein a dirt layer is the outermost surface.
【請求項4】 フッ素系樹脂シ−トが、可視光透過率が
90%以上である透明フッ素系樹脂シ−トからなること
を特徴とする上記の請求項1〜3に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−ト。
4. The solar cell module according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a transparent fluororesin sheet having a visible light transmittance of 90% or more. -Surface protection sheet for steel.
【請求項5】 フッ素系樹脂シ−トが、フッ化ビニル系
樹脂、または、テトラフルオロエチレン−エチレンとの
コポリマ−からなる透明フッ素系樹脂シ−トであること
を特徴とする上記の請求項1〜4に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−ト。
5. The transparent resin sheet according to claim 1, wherein the fluororesin sheet is a vinyl fluoride resin or a transparent fluororesin sheet comprising a copolymer with tetrafluoroethylene-ethylene. 4. A surface protection sheet for a solar cell module according to any one of 1 to 4.
【請求項6】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法による無機酸化物の1層ないし2層以上の多層膜から
なることを特徴とする上記の請求項1〜5に記載する太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
6. The solar cell according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film comprises a multilayer film of one or more inorganic oxide layers formed by physical vapor deposition. Surface protection sheet for battery module.
【請求項7】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の1層ないし2層以上の多層膜から
なることを特徴とする上記の請求項1〜5に記載する太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
7. The solar cell according to claim 1, wherein the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide comprises one or more multilayer films of the inorganic oxide formed by a chemical vapor deposition method. Surface protection sheet for battery module.
【請求項8】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法および化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の
2層以上の多層膜からなることを特徴とする上記の請求
項1〜5に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト。
8. The method according to claim 1, wherein the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide comprises two or more multilayer films of the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by physical vapor deposition and chemical vapor deposition. Surface protection sheets for solar cell modules as described in the above items 5 to 5
G.
【請求項9】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
物の蒸着薄膜を設けた2層以上の多層膜からなることを
特徴とする上記の請求項8に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。
9. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, wherein a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided by a chemical vapor deposition method, and then the inorganic oxide is deposited on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide by a physical vapor deposition method. 9. The solar cell module according to claim 8, comprising a multilayer film of two or more layers provided with a deposited thin film of an object.
Surface protection sheet for
【請求項10】 樹脂フィルムが、二軸延伸ポリエステ
ル系樹脂フィルム、二軸延伸ポリアミド系樹脂フィル
ム、または、二軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルムか
らなることを特徴とする上記の請求項1〜9に記載する
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
10. The resin film according to claim 1, wherein the resin film is made of a biaxially stretched polyester resin film, a biaxially stretched polyamide resin film, or a biaxially stretched polypropylene resin film. Protection sheet for solar cell module.
【請求項11】 防汚層が、酸化チタンを主成分とする
光触媒粉末、またはゾルに含まれる微粒子からなる組成
物による塗布膜からなることを特徴とする上記の請求項
1〜10に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト。
11. The antifouling layer according to claim 1, wherein the antifouling layer comprises a coating film made of a photocatalyst powder containing titanium oxide as a main component or a composition comprising fine particles contained in a sol. Surface protection sheet for solar cell module
G.
【請求項12】 紫外線吸収剤層が、紫外線吸収剤を含
む組成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の
請求項1〜10に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−ト。
12. The surface protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the ultraviolet absorbent layer comprises a coating film of a composition containing the ultraviolet absorbent.
【請求項13】 フッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸
着薄膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、該フッ
素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フ
ィルムとからなる積層体のいずれかの一方の面または両
面に、防汚層および/または紫外線吸収剤層を設けた太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの片面に、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、裏面保護シ−ト層を順次に積層し、これらを真空
吸引して加熱圧着ラミネ−ション法等により一体成形体
としたことを特徴とする太陽電池モュジュ−ル。
13. A laminate comprising a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide laminated thereon, and further comprising the fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. As a filler layer and a photovoltaic element on one side of a solar cell module surface protection sheet provided with an antifouling layer and / or an ultraviolet absorber layer on one or both sides of the laminate. A solar cell module characterized by sequentially laminating a solar cell element, a filler layer, and a backside protective sheet layer, vacuum-suctioning them, and forming them into an integrated body by a heat-compression lamination method or the like. -
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