JP2001196621A - Backside protective sheet for solar cell modules and solar cell module using same - Google Patents

Backside protective sheet for solar cell modules and solar cell module using same

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JP2001196621A
JP2001196621A JP2000003642A JP2000003642A JP2001196621A JP 2001196621 A JP2001196621 A JP 2001196621A JP 2000003642 A JP2000003642 A JP 2000003642A JP 2000003642 A JP2000003642 A JP 2000003642A JP 2001196621 A JP2001196621 A JP 2001196621A
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film
solar cell
cell module
vapor
resin
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JP2000003642A
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Japanese (ja)
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Yasushi Yamada
泰 山田
Yasuki Suzuura
泰樹 鈴浦
Kojiro Okawa
晃次郎 大川
Atsuro Tsuzuki
淳朗 續木
Kazuyuki Takazawa
和幸 高澤
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a backside protective sheet for solar cell modules which is superior in strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemicals resistance, moisture proof, contamination proofing, light reflectivity, light dispersion, designing and other various characteristics, especially greatly improves the moisture proofing for preventing the penetration of water content, oxygen, etc., to most suppress its long-period deterioration, has a lot of durability, is superior in its protection ability, and constituted a safety solar cell module at a low cost and stably provide a solar cell module using the same. SOLUTION: A light shield film is provided on one surface of a base film, a deposit film of an inorganic oxide is provided on one surface of another base film, and the base film having the light shield film and the base film having the deposit film of the inorganic oxide are laminated to from a backside protective film for solar cell modules, and a solar cell module using the same is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関するものであり、更に詳しくは、強度に優
れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧
性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、光反射性、
光拡散性、意匠性、その他等の諸特性に優れ、極めて耐
久性に富み、保護能力性に優れた太陽電池モジュ−ル用
裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルに関するものである。The present invention relates to a solar cell module.
More specifically, the present invention relates to a solar cell module using the same, and more specifically, has excellent strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, and hail resistance. , Chemical resistance, moisture resistance, stain resistance, light reflection,
A backside protection sheet for a solar cell module which is excellent in various properties such as light diffusion property, design property, etc., extremely durable and excellent in protection ability, and a solar cell module using the same.
It is about the file.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。一般に、上記の太陽電池モジ
ュ−ルは、例えば、結晶シリコン太陽電池素子あるいは
アモルファスシリコン太陽電池素子等を製造し、そのよ
うな太陽電池素子を使用し、表面保護シ−ト層、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されて
いる。而して、上記の太陽電池モジュ−ルは、当初、電
卓への適用を始めとし、その後、各種の電子機器等に応
用され、民生用の利用として、その応用範囲は急速に広
まりつつあり、更に、今後、最も重要な課題として、大
規模集中型太陽電池発電の実現であるとされている。と
ころで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護
シ−ト層としては、現在、強度に優れたプラスチック基
材等が、最も一般的に使用され、その他、金属板等も使
用されている。而して、一般に、太陽電池モジュ−ルを
構成する裏面保護シ−ト層としては、例えば、強度に優
れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧
性、耐降雹性、耐薬品性、光反射性、光拡散性、意匠性
等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止
する防湿性に優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面
の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて
耐久性に富み、その保護能力性が高いこと、その他等の
条件を充足することが必要とされいる。2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to solar cells as a clean energy source due to increasing awareness of environmental issues. At present, solar cell modules of various forms have been developed and proposed. . In general, the above solar cell module produces, for example, a crystalline silicon solar cell element or an amorphous silicon solar cell element, and uses such a solar cell element to form a surface protective sheet layer, a filler layer, It is manufactured by laminating a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, a backside protective sheet layer, and the like in that order, vacuum-sucking, and heat-compressing, for example, using a lamination method. Thus, the above-mentioned solar cell module is first applied to calculators and thereafter applied to various electronic devices and the like, and its application range is rapidly expanding for consumer use. Furthermore, it is said that the most important issue in the future is to realize large-scale centralized solar cell power generation. By the way, as a back surface protective sheet layer constituting the above-mentioned solar cell module, a plastic substrate or the like having excellent strength is most commonly used at present, and a metal plate or the like is also used. . Thus, in general, the backside protective sheet layer constituting the solar cell module has, for example, excellent strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, Excellent in various fastnesses such as chemical resistance, light reflectivity, light diffusion, design, etc., in particular, excellent in moisture proofness to prevent the invasion of moisture, oxygen, etc., and also high in surface hardness and surface dirt It is required to satisfy conditions such as excellent antifouling property for preventing accumulation of dust and the like, extremely high durability, high protection ability, and others.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例え
ば、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層と
して、現在、最も一般的に使用されている強度に優れた
プラスチック基材等を使用する場合には、可塑性、軽量
性、加工性、施工性、低コスト化等に富むものではある
が、強度、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品
性、光反射性、光拡散性、耐衝撃性、その他等の諸堅牢
性に劣り、特に、防湿性、防汚性、意匠性等に欠けると
いう問題点がある。また、太陽電池モジュ−ルを構成す
る裏面保護シ−ト層として、金属板等を使用する場合に
は、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光
性、耐薬品性、耐突き刺し性、耐衝撃性、その他等の諸
堅牢性に優れ、また、防湿性等にも優れ、更に、表面硬
度が硬く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する
防汚性に優れ、その保護能力性が極めて高い等の利点を
有するが、可塑性、軽量性、光反射性、光拡散性、意匠
性等に欠け、更に、その加工性、施工性等に劣り、か
つ、低コスト化等に欠けるという問題点がある。そこで
本発明は、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水
性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、
防汚性、光反射性、光拡散性、意匠性、その他等の諸特
性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
を著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑
え、極めて耐久性に富み、その保護能力性に優れ、か
つ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成す
る裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ
−ルを安定的に提供することである。However, for example, a plastic substrate having excellent strength, which is most commonly used at present, is used as a backside protective sheet layer constituting a solar cell module. In the case, it is rich in plasticity, lightness, workability, workability, cost reduction, etc., but strength, weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, chemical resistance, light reflection, light diffusion Inferior in various fastnesses such as water resistance, impact resistance, and others, and in particular, lacks moisture resistance, stain resistance, and design. Further, when a metal plate or the like is used as the back surface protective sheet layer constituting the solar cell module, it is excellent in strength, and has weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, chemical resistance, Excellent in stab resistance, impact resistance, and other robustness, and also excellent in moisture resistance, etc. In addition, the surface hardness is hard and the antifouling property to prevent the accumulation of surface dirt and dust etc. It has the advantages of excellent and extremely high protection ability, but lacks plasticity, lightness, light reflection, light diffusion, design, etc., and further has poor workability, workability, etc., and low There is a problem that the cost is low. Therefore, the present invention is excellent in strength, and weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemical resistance, moisture resistance,
Excellent in various properties such as antifouling property, light reflection property, light diffusing property, design property, etc., and in particular, significantly improves moisture resistance to prevent moisture and oxygen from entering, and minimizes long-term performance deterioration. The backside protection sheet which constitutes a solar cell module which is extremely durable, has excellent protection ability, is lower in cost and is safer, and a solar cell module using the same is stable. It is to provide.

【０００４】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層について、上記の
ような問題点を解決すべく種々研究の結果、まず、基材
フィルムの一方の面に、アルミニウム等の金属による遮
光性蒸着膜、あるいは、遮光性着色膜等からなる遮光性
膜を設け、他方、別の基材フィルムの一方の面に、酸化
珪素、あるいは、酸化アルミニウム等のガラス質からな
る透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア性等に優
れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記で遮光性膜
を設けた基材フィルムと、無機酸化物の蒸着膜を設けた
基材フィルムとを、ラミネ−ト用接着剤層等を介して、
積層して太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造
し、而して、該太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを
使用し、例えば、ガラス板等からなる通常の太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子と
しての太陽電池素子、充填剤層、および、上記の太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その無機酸化物の蒸
着膜面側の面を対向させて順次に積層し、次いで、それ
らを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション
法等を利用して一体化成形して太陽電池モジュ−ルを製
造したところ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、耐
水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防汚
性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等の侵
入を防止する防湿性に優れ、また、光反射性、光拡散
性、意匠性等についても著しく向上させ、その長期的な
性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護能
力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジ
ュ−ルを安定的に製造し得ることを見出して本発明を完
成したものである。The present inventor has conducted various studies on the back surface protective sheet layer constituting the solar cell module in order to solve the above-mentioned problems. On one surface, a light-shielding vapor-deposited film made of a metal such as aluminum or a light-shielding film made of a light-shielding colored film or the like is provided. On the other hand, silicon oxide or oxidized A base film provided with a transparent film made of a vitreous material such as aluminum and provided with an inorganic oxide deposited film having excellent water vapor barrier properties and oxygen barrier properties, and further provided with a light-shielding film as described above, And a base film provided with a vapor-deposited film through a laminating adhesive layer or the like,
Lamination is performed to produce a backside protection sheet for a solar cell module, and the backside protection sheet for a solar cell module is used. A surface protection sheet for a solar cell, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module, by evaporation of an inorganic oxide. The solar cell module was manufactured by laminating layers sequentially with the film side facing each other, and then integrally forming them by using a lamination method or the like in which they were integrally vacuum suctioned and heated and pressed. However, it is excellent in strength, and further, it is excellent in various properties such as weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemical resistance, antifouling property, etc. It has excellent moisture-proof properties to prevent intrusion, and also has light reflection, light diffusion, design, etc. To minimize the long-term performance degradation of the solar cell module and to produce a highly durable, highly protective, and low-cost and safe solar cell module. The present invention has been found and completed.

【０００５】すなわち、本発明は、基材フィルムの一方
の面に、遮光性膜を設け、他方、別の基材フィルムの一
方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記の遮
光性膜を設けた基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜を設
けた基材フィルムとを積層することを特徴とする太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルに関するものである。That is, according to the present invention, a light-shielding film is provided on one surface of a base film, and an inorganic oxide vapor-deposited film is provided on one surface of another base film. A backside protection sheet for a solar cell module comprising a base film provided with a light-shielding film and a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film, and a solar cell module using the same. Related to rules.

【０００６】[0006]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。なお、本発明におい
て、シ−トとは、シ−ト状物ないしフィルム状物のいず
れの場合も意味するものであり、また、フィルムとは、
フィルム状物ないしシ−トシ−ト状物のいずれの場合も
意味するものである。本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的
に説明すると、図１、図２、図３、図４および図５は、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トの
層構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
り、図６および図７は、本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用裏面保護シ−トを構成する無機酸化物の蒸着膜の
層構成についてその他の例を例示する概略的断面図であ
り、図８は、図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジ
ュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面
図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The above-mentioned present invention will be described below in more detail with reference to the drawings and the like. In the present invention, a sheet means any of a sheet-like material and a film-like material.
This means any of a film-like material and a sheet-like material. Solar cell module according to the present invention
The layer structure of the back sheet for solar cell and the solar cell module using the same will be described more specifically with reference to the drawings and the like. FIGS. 1, 2, 3, 4 and 5 show FIG.
FIGS. 6 and 7 are schematic cross-sectional views illustrating a few examples of the layer structure of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. FIGS. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating another example of the layer structure of the deposited film of the inorganic oxide constituting the back surface protection sheet. FIG. 8 is a back surface for a solar cell module according to the present invention shown in FIG. It is a schematic sectional drawing which illustrates an example about the layer structure of the solar cell module manufactured using the protection sheet.

【０００７】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トＡは、図１に示すように、基材フィル
ム１の一方の面に、遮光性膜２を設け、他方、別の基材
フィルム３の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜４を設
け、更に、上記の遮光性膜２を設けた基材フィルム１と
無機酸化物の蒸着膜４を設けた基材フィルム３とを積層
した構成からなることを基本構造とするものである。な
お、本発明においては、図２に示すように、上記の図１
に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ
−トＡにおいて、遮光性膜２を設けた基材フィルム１と
無機酸化物の蒸着膜４を設けた基材フィルム３とを積層
するに際して、遮光性膜２を設けた基材フィルム１と無
機酸化物の蒸着膜４を設けた基材フィルム３とを、その
遮光性膜２の面と、無機酸化物の蒸着膜４の面とを対向
させ、次いで、それらを積層した太陽電池モジュ−ル用
裏面保護シ−トＡ1 を構成することができるものであ
る。First, as shown in FIG. 1, a back surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention is provided with a light-shielding film 2 on one surface of a base film 1 and another surface. A base film 1 provided with an inorganic oxide vapor-deposited film 4 on one surface of the base film 3 and a base film 1 provided with the above-mentioned light-shielding film 2 and a base film 1 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 4 3 as a basic structure. In the present invention, as shown in FIG.
In the back surface protection sheet A for a solar cell module according to the present invention, a base film 1 provided with a light-shielding film 2 and a base film 3 provided with a deposited film 4 of an inorganic oxide are laminated. At this time, the base film 1 provided with the light-shielding film 2 and the base film 3 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 4 are combined with the surface of the light-shielding film 2 and the surface of the inorganic oxide vapor-deposited film 4. It was opposed, then they were laminated solar cell module - is capable to configure the door a 1 - for the backside Le protective sheet.

【０００８】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トについてその具体例を例示すると、図
３に示すように、基材フィルム１の一方の面に、遮光性
膜２を設け、他方、別の基材フィルム３の一方の面に、
無機酸化物の蒸着膜４を設け、更に、上記の遮光性膜２
を設けた基材フィルム１と無機酸化物の蒸着膜４を設け
た基材フィルム３とを、ラミネ−ト用接着剤層５を介し
て、ドライラミネ−ト法により積層した構成からなる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トＡ2 を例示すること
ができる。また、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
裏面保護シ−トについて別の具体例を例示すると、図４
に示すように、基材フィルム１の一方の面に、遮光性膜
２を設け、他方、別の基材フィルム３の一方の面に、無
機酸化物の蒸着膜４を設け、更に、上記の遮光性膜２を
設けた基材フィルム１と無機酸化物の蒸着膜４を設けた
基材フィルム３とを、プライマ−剤層６とラミネ−ト用
接着剤層５とを介して、ドライラミネ−ト法により積層
した構成からなる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト
Ａ3 を例示することができる。更に、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについて別の具体例
を例示すると、図５に示すように、基材フィルム１の一
方の面に、遮光性膜２を設け、他方、別の基材フィルム
３の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜４を設け、更に、
上記の遮光性膜２を設けた基材フィルム１と無機酸化物
の蒸着膜４を設けた基材フィルム３とを、溶融押し出し
樹脂層７を介して、溶融押し出しラミネ−ト法により積
層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
トＡ4 を例示することができる。Next, a specific example of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention will be described. As shown in FIG. On the other hand, on one surface of another substrate film 3,
An inorganic oxide vapor-deposited film 4 is provided.
A solar cell module having a configuration in which a base film 1 provided with a base film 3 and a base film 3 provided with an inorganic oxide vapor-deposited film 4 are laminated via a lamination adhesive layer 5 by a dry lamination method. - can be exemplified bets a 2 - for the backside Le protective sheet. FIG. 4 shows another specific example of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
As shown in FIG. 2, a light-shielding film 2 is provided on one surface of a base film 1, and a vapor-deposited film 4 of an inorganic oxide is provided on one surface of another base film 3. The base film 1 provided with the light-shielding film 2 and the base film 3 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 4 are dry-laminated through the primer agent layer 6 and the laminating adhesive layer 5. solar cell module consisting formed by laminating by preparative method - for the backside Le protected - can be exemplified preparative a 3. Further, another specific example of the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention is illustrated. As shown in FIG. 5, a light-shielding film 2 is provided on one surface of a base film 1. On the other hand, on one surface of another base film 3, a deposited film 4 of an inorganic oxide is provided.
A structure in which the base film 1 provided with the light-shielding film 2 and the base film 3 provided with the inorganic oxide vapor-deposited film 4 are laminated by a melt-extrusion laminating method via a melt-extrusion resin layer 7. Protection module for solar cell module
It can be exemplified preparative A 4.

【０００９】上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トについてその二三例を例示す
るものであり、本発明は、これによって限定されるもの
ではないことは勿論である。例えば、上記の図１〜５に
示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トにおいて、無
機酸化物の蒸着膜としては、図６、図７等に示すよう
に、後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
の２層以上、あるいは、化学気相成長法による無機酸化
物の蒸着膜の２層以上のように、無機酸化物の蒸着膜
４、４の２層以上を重層した多層膜４ａ（図６）、ある
いは、後述する理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
４ｂと、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜４ｃ
との異種の無機酸化物の蒸着膜４ｂ、４ｃの２層以上を
重層した複合膜４ｄ（図７）等で構成することができる
ものである。The above examples illustrate only a few examples of the backside protection sheet for a solar cell module according to the present invention, and the present invention is of course not limited thereto. It is. For example, in the back surface protection sheet for a solar cell module shown in FIGS. 1 to 5, as a vapor deposition film of an inorganic oxide, as shown in FIGS. And two or more layers of inorganic oxide vapor deposited films 4 and 4 were laminated as in the case of two or more layers of inorganic oxide vapor deposited films by the chemical vapor deposition method. A multilayer film 4a (FIG. 6) or an inorganic oxide deposited film 4b formed by a physical vapor deposition method described later and an inorganic oxide deposited film 4c formed by a chemical vapor deposition method
And a composite film 4d (FIG. 7) in which two or more layers of inorganic oxide vapor deposition films 4b and 4c of different types are laminated.

【００１０】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製
造する太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用裏面保護シ−トＡを使用した例で説明すると、図８
に示すように、まず、通常の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−ト１１、充填剤層１２、光起電力素子としての
太陽電池素子１３、充填剤層１４、および、上記の太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト１５（Ａ）を、その無
機酸化物の蒸着膜４面側の面を対向させて順次に積層
し、次いで、これらを真空吸引して加熱圧着するラミネ
−ション法等の通常の成形法を利用して一体化成形し
て、上記の各層を一体化成形体とした太陽電池モジュ−
ルＴを製造することができるものである。上記の例示
は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその
一例を例示するものであり、本発明はこれにより限定さ
れるものではない。例えば、図示しないが、上記の図２
〜図５等に示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを
使用し、上記と同様にして、種々の形態からなる太陽電
池モジュ−ルを製造することができ、また、上記の太陽
電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収性、補強、そ
の他等の目的のもとに、更に、他の層を任意に加えて積
層することができるものである。Next, in the present invention, an example of a solar cell module manufactured by using the above-mentioned back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention will be described with reference to FIG. The solar cell module according to the present invention shown
FIG. 8 shows an example in which the back surface protection sheet A for
As shown in FIG. 1, first, a normal surface protection sheet 11 for a solar cell module, a filler layer 12, a solar cell element 13 as a photovoltaic element, a filler layer 14, and the above-described solar cell module. A lamination method in which a back protective sheet 15 (A) is sequentially laminated with the inorganic oxide vapor-deposited film 4 side facing each other, and then these are vacuum-sucked and heated and pressed. The solar cell module formed integrally by using a normal molding method such as
Can be manufactured. The above example is a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.
This is an example of a solar cell module manufactured by using a solar cell module, and the present invention is not limited thereto. For example, although not shown, FIG.
5 and the like can be used to manufacture solar cell modules of various forms in the same manner as described above, and the above-described solar cell In the module, other layers can be arbitrarily added and laminated for the purpose of absorbing sunlight, reinforcing and the like.

【００１１】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、遮光性膜、または、無
機酸化物の蒸着膜を設ける基材フィルムとしては、基本
的には、遮光性膜、または、無機酸化物の蒸着膜等を形
成する際の蒸着等の形成条件、その他等に耐え、かつ、
それらの遮光性膜、または、無機酸化物の蒸着膜等との
密接着性に優れ、それらの膜の特性を損なうことなく良
好に保持し得ることができ、また、強度に優れ、かつ、
耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹
性、耐薬品性等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性に優れ、また、表面硬度が高
く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性
に優れ、極めて耐久性に富み、その保護能力性が高いこ
と等の特性を有する各種の樹脂のフィルムないしシ−ト
を使用することができる。具体的には、上記の各種の樹
脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、ポリエチ
レン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−ス
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ
−トまたはポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル
系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフ
タレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹
脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエ−テルス
ルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィル
ムないしシ−トを使用することができる。本発明におい
ては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、フ
ッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアミド
系樹脂、または、ポリエステル系樹脂のフィルムないし
シ−トを使用することが好ましいものである。Next, in the present invention, the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention, the material constituting the solar cell module using the same, the manufacturing method, and the like will be described in more detail. As a base film on which a light-shielding film or an inorganic oxide vapor-deposited film is provided, basically, a light-shielding film, or deposition conditions for forming an inorganic oxide vapor-deposited film or the like, Withstand other, etc., and
Their light-shielding films, or, have excellent close-adhesion with inorganic oxide vapor-deposited films, etc., can be held well without impairing the properties of those films, and have excellent strength, and
Excellent in various robustness such as weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemical resistance, etc.In particular, it is excellent in moisture resistance to prevent moisture, oxygen etc. Films or sheets of various resins that have high antifouling properties and have excellent antifouling properties to prevent accumulation of dirt and dust on the surface, are extremely durable, and have high protection ability. Can be used. Specifically, examples of the film or sheet of the above various resins include polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile -Butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, etc. Polyester resins, various polyamide resins such as nylon, polyimide resins, polyamide imide resins, polyaryl phthalate resins, silicone resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyethersulfone resins Resin, polyurethane resin, aceta Le resins, cellulose - scan resin, film or sheet of various resins other like - can be used and. In the present invention, among the above resin films or sheets, a fluorine resin, a cyclic polyolefin resin, a polycarbonate resin, a poly (meth) acrylic resin, a polyamide resin, or a polyester resin It is preferable to use a resin film or sheet.

【００１２】更に、本発明においては、上記のような各
種の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、例え
ば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラ
フルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テ
ルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂
（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチ
レンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフ
ルオロプロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、テトラフルオ
ロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−
（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂
（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレ
ンとのコポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系
樹脂（ＰＶＤＦ）、または、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶ
Ｆ）等のフッ素系樹脂の１種ないしそれ以上からなるフ
ッ素系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好
ましいものである。なお、本発明においては、上記のフ
ッ素系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、ポ
リフッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）、または、テトラフル
オロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ
−（ＥＴＦＥ）からなるフッ素系樹脂のフィルムないし
シ−トが、強度等の観点から特に好ましいものである。Further, in the present invention, among the various resin films or sheets as described above, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), a mixture of tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether, Perfluoroalkoxy resin (PFA) comprising a copolymer, tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether and hexafluoropropylene copolymer (EPE), tetrafluoroethylene and ethylene Or a copolymer with propylene
(ETFE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCTFE), copolymer of ethylene and chlorotrifluoroethylene (ECTFE), vinylidene fluoride resin (PVDF), or vinyl fluoride resin (PV
It is preferred to use a fluororesin film or sheet comprising one or more fluororesins such as F). In the present invention, among the above-mentioned fluororesin films or sheets, in particular, it comprises a polyvinyl fluoride resin (PVF) or a copolymer of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ETFE). A fluororesin film or sheet is particularly preferred from the viewpoint of strength and the like.

【００１３】また、本発明においては、上記のような各
種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例
えば、シクロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロ
ペンタジエンおよびその誘導体、シクロヘキサジエンお
よびその誘導体、ノルボルナジエンおよびその誘導体、
その他等の環状ジエンを重合させてなるポリマ−、ある
いは、該環状ジエンとエチレン、プロピレン、４−メチ
ル−１−ペンテン、スチレン、ブタジエン、イソプレ
ン、その他等のオレフィン系モノマ−の１種ないしそれ
以上とを共重合させてなるコポリマ−等からなる環状ポ
リオレフィン系樹脂のフィルムないしシ−トを使用する
ことが好ましいものである。なお、本発明においては、
上記の環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムないしシ−
トの中でも、特に、シクロペンタジエンおよびその誘導
体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、または、
ノルボルナジエンおよびその誘導体等の環状ジエンのポ
リマ−ないしコポリマ−からなる環状ポリオレフィン系
樹脂のフィルムないしシ−トが、強度等の観点から好ま
しいものである。而して、本発明において、上記のよう
なフッ素系樹脂あるいは環状ポリオレフィン系樹脂から
なるフィルムないしシ−トを使用することにより、該フ
ッ素系樹脂あるは環状ポリオレフィン系樹脂が有する機
械的特性、化学的特性、物理的特性等の優れた特性、具
体的には、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐防湿
性、耐汚染性、耐薬品性、その他等の諸特性を利用して
太陽電池を構成する裏面保護シ−トとするものであり、
これにより、耐久性、保護機能性等を有し、また、その
フレキシブル性や機械的特性、化学的特性等から軽く、
かつ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易い等の利
点を有するものである。In the present invention, among the various resin films or sheets as described above, particularly, for example, cyclopentadiene and its derivatives, dicyclopentadiene and its derivatives, cyclohexadiene and its derivatives, Norbornadiene and its derivatives,
A polymer obtained by polymerizing a cyclic diene such as another, or one or more of a cyclic diene and an olefin-based monomer such as ethylene, propylene, 4-methyl-1-pentene, styrene, butadiene, isoprene and others; It is preferred to use a cyclic polyolefin resin film or sheet made of a copolymer or the like obtained by copolymerizing the above. In the present invention,
Film or sheet of the above-mentioned cyclic polyolefin resin
Among them, in particular, cyclopentadiene and its derivatives, dicyclopentadiene and its derivatives, or
A cyclic polyolefin-based resin film or sheet made of a cyclic diene polymer or copolymer such as norbornadiene or a derivative thereof is preferred from the viewpoint of strength and the like. Thus, in the present invention, by using a film or sheet made of the above-mentioned fluorine-based resin or cyclic polyolefin-based resin, the mechanical properties and chemical properties of the fluorine-based resin or the cyclic polyolefin-based resin are improved. Utilizing excellent properties such as physical properties, physical properties, etc., specifically, various properties such as weather resistance, heat resistance, water resistance, light resistance, moisture resistance, stain resistance, chemical resistance, etc. It is a backside protection sheet that constitutes a solar cell,
Due to this, it has durability, protective function, etc., and it is light due to its flexibility, mechanical properties,
Further, it has advantages such as excellent workability and easy handling.

【００１４】本発明において、上記の各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂
の１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト
成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−ション法、その
他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用
して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上
の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方
法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造
し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるい
は、チュ−ブラ−方式等を利用して１軸ないし２軸方向
に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。本発明において、各種の樹脂のフ
ィルムないしシ−トの膜厚としては、１２〜３００μｍ
位、より好ましくは、２０〜２００μｍ位が望ましい。In the present invention, as the film or sheet of the above-mentioned various resins, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and are extruded, cast-molded, T-die-processed, and cut. A method of forming the above various resins alone using a film forming method such as an inflation method, an inflation method, or the like, or a multi-layer coextrusion film forming using two or more kinds of various resins. A film or sheet of various resins is manufactured by a method of forming two or more resins, and a method of mixing and forming a film before forming a film. For example, various resin films or sheets stretched in a uniaxial or biaxial direction using a tenter method or a tuber method can be used. In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is 12 to 300 μm.
And more preferably about 20 to 200 μm.

【００１５】なお、上記において、上記の各種の樹脂の
１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例
えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性
質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、
抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的
で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加するこ
とができ、その添加量としては、極く微量から数十％ま
で、その目的に応じて、任意に添加することができる。
また、上記において、一般的な添加剤としては、例え
ば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定
剤、充填剤、強化繊維、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、
耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用する
ことができ、更には、改質用樹脂等も使用することがて
きる。本発明においては、上記の添加剤の中でも、特
に、紫外線吸収剤、あるいは、酸化防止剤等を練れ込み
加工してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用
することが好ましいものである。In the above, one or more of the above-mentioned various resins are used, and when forming the film, for example, the processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, Antioxidant, slippery, mold release, flame retardant,
Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving or modifying the antifungal property, electric properties, etc., and the amount of addition can be from a very small amount to several tens%. They can be arbitrarily added according to the purpose.
In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing fiber, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant,
Flameproofing agents, foaming agents, mildewproofing agents, pigments, and the like can be used, and furthermore, modifying resins and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned additives, it is particularly preferable to use films or sheets of various resins obtained by kneading and processing an ultraviolet absorber or an antioxidant.

【００１６】上記の紫外線吸収剤としては、太陽光中の
有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−
へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起され
るのを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリル
ニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒
子酸化チタン（粒子径、０．０１〜０．０６μｍ）ある
いは超微粒子酸化亜鉛（０．０１〜０．０４μｍ）等の
無機系等の紫外線吸収剤の１種ないしそれ以上を使用す
ることができる。また、上記の酸化防止剤としては、高
分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであり、
例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、そ
の他等の酸化防止剤を使用することができる。更に、上
記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、例え
ば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記のベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェノ−
ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−型の
紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用することがで
きる。上記の紫外線吸収剤および／または酸化防止剤の
含有量としては、その粒子形状、密度等によって異なる
が、約０．１〜１０重量％位が好ましい。The above-mentioned ultraviolet absorber absorbs harmful ultraviolet rays in sunlight and has harmless heat energy in the molecule.
To prevent excitation of the active species that initiates photodegradation in the polymer, for example, benzophenone, benzotriazole, saltyl, acrylonitrile, metal complex salts, One or more inorganic UV absorbers such as hindered amine-based, ultra-fine titanium oxide (particle size, 0.01 to 0.06 μm) or ultra-fine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm) Can be used. Further, as the above antioxidant, it is one that prevents light deterioration or heat deterioration of the polymer,
For example, phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphoric-based, and other antioxidants can be used. Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned benzophenone-based ultraviolet absorber or the above-mentioned phenol
A polymer-type ultraviolet absorber or an antioxidant obtained by chemically bonding an antioxidant such as toluene or the like can also be used. The content of the ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density and the like, but is preferably about 0.1 to 10% by weight.

【００１７】また、本発明において、各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トの表面は、遮光性膜、または、無機酸
化物の蒸着膜等との密接着性等を向上させるために、必
要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることがで
きる。本発明において、上記の表面処理層としては、例
えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは
窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処
理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の
前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処
理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成し
て設けることができる。上記の表面前処理は、別工程で
実施してもよく、また、例えば、低温プラズマ処理やグ
ロ−放電処理等による表面前処理の場合は、上記の遮光
性膜、または、無機酸化物の蒸着膜等を形成する前処理
としてインライン処理により前処理で行うことができ、
このような場合は、その製造コストを低減することがで
きるという利点がある。In the present invention, the surface of the film or sheet of various resins is optionally used to improve the tight adhesion with a light-shielding film or an inorganic oxide vapor-deposited film. Thus, a desired surface treatment layer can be provided in advance. In the present invention, as the surface treatment layer, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using a chemical, etc., Pretreatment such as others can be arbitrarily performed, and for example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, and the like can be formed and provided. The above-mentioned surface pretreatment may be performed in a separate step. For example, in the case of a surface pretreatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow-discharge treatment, the above-mentioned light-shielding film or inorganic oxide is deposited. As a pre-process for forming a film or the like, it can be performed in a pre-process by an in-line process,
In such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced.

【００１８】上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィル
ムないしシ−トと遮光性膜、または、無機酸化物の蒸着
膜等との密接着性を改善するための方法として実施する
ものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、
その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの
表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト
剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、蒸着
アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面処理層と
することもできる。上記の前処理のコ−ト剤層として
は、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹
脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィ
ン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ
−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物を使用することができる。The above-mentioned surface pretreatment is carried out as a method for improving the tight adhesion between a film or sheet of various resins and a light-shielding film or a deposited film of an inorganic oxide. However, as a method of improving the tight adhesion described above,
In addition, for example, a primer-coat agent layer, an undercoat agent layer, an anchor-coat agent layer, an adhesive layer, or a vapor-deposited film may be previously formed on the surface of various resin films or sheets. An anchor coating agent layer or the like may be arbitrarily formed to form a surface treatment layer. As the coating agent layer of the above pretreatment, for example, polyester-based resin, polyamide-based resin,
Polyurethane resin, epoxy resin, phenol resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl acetate resin,
A resin composition containing, as a main component of the vehicle, a polyolefin resin such as polyethylene aliha polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like can be used.

【００１９】なお、上記の樹脂組成物には、密接着性を
向上させるために、エポキシ系のシランカップリング
剤、あるいは、基材フィルムのブロッキング等を防止す
るために、ブロッキング防止剤、その他等の添加剤を任
意に添加することができる。その添加量は、０．１重量
％〜１０重量％位が好ましいものである。また、本発明
において、上記の樹脂組成物中には、耐光性等を向上さ
せるために、例えば、紫外線吸収剤および／または酸化
防止剤を添加することができる。上記の紫外線吸収剤と
しては、前述に例示した紫外線吸収剤の１種ないしそれ
以上を使用することができ、また、酸化防止剤として
は、前述に例示した酸化防止剤等を同様に使用すること
ができる。更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止
剤としては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側
鎖に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるい
は上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させて
なるポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も
使用することができる。上記の紫外線吸収剤および／ま
たは酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度
等によって異なるが、約０．１〜１０重量％位が好まし
い。また、上記において、コ−ト剤層の形成法として
は、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ
−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法を用
いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期としては、
フッ素系樹脂シ−トの製膜後、あるいは、２軸延伸処理
後の後工程として、あるいは、製膜、あるいは、２軸延
伸処理のインライン処理等で実施することができる。The above resin composition may contain an epoxy-based silane coupling agent for improving the tight adhesion, an anti-blocking agent for preventing blocking of the substrate film, and the like. Can be arbitrarily added. The addition amount is preferably about 0.1% by weight to 10% by weight. In the present invention, for example, an ultraviolet absorber and / or an antioxidant can be added to the resin composition in order to improve light resistance and the like. As the above-mentioned ultraviolet absorber, one or more of the above-described ultraviolet absorbers can be used, and as the antioxidant, the above-described antioxidants and the like can be used similarly. Can be. Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned ultraviolet absorber such as benzophenone or the above antioxidant such as phenol is added to the main chain or side chain constituting the polymer. A polymer-type ultraviolet absorber or an antioxidant obtained by chemically bonding may also be used. The content of the ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density and the like, but is preferably about 0.1 to 10% by weight. In the above, as a method for forming the coating agent layer, for example, a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is used, and a roll coating method, a gravure roll coating is used. The coating can be performed using a coating method such as a method, a kiss coating method, or the like.
It can be carried out after the film formation of the fluororesin sheet or as a post-process after the biaxial stretching treatment, or by film formation or in-line treatment of the biaxial stretching treatment.

【００２０】なお、本発明においては、上記の基材フィ
ルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を製膜化する際
の蒸着条件等に対し該基材フィルムを保護し、例えば、
その黄変、劣化ないし収縮、あるいは、フィルム表層な
いし内層等における凝集破壊等を抑制し、更に、基材フ
ィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜が良好に製膜
化され、かつ、該基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜と
の密接着性等を向上させるために、予め、基材フィルム
の一方の面に、表面前処理層として、例えば、後述する
プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気
相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａ
ｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）、あるい
は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レ−ティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を
用いて、無機酸化物の蒸着薄膜を形成することにより、
耐蒸着保護膜を設けることができる。なお、本発明にお
いて、上記の酸化珪素等からなる耐蒸着保護膜の膜厚と
しては、薄膜であり、更に、水蒸気ガス、酸素ガス等に
対するバリア性を有しない非バリア性膜で十分であり、
具体的には、膜厚１５０Å未満であることが望ましく、
具体的には、その膜厚としては、１０〜１００Å位、好
ましくは、２０〜８０Å位、更に、より好ましくは、３
０〜６０Å位が望ましい。而して、上記において、１５
０Å以上、具体的には、１００Å、更に、８０Å、更に
は、６０Åより厚くなると、良好な耐蒸着保護膜を形成
することが困難になるので好ましくなく、また、１０
Å、更に、２０Å、更には、３０Å未満であると、耐蒸
着保護層としての機能を喪失し、その効果を奏すること
が困難になることから好ましくないものである。In the present invention, the base film is protected on one side of the base film against the vapor deposition conditions when an inorganic oxide vapor deposition film is formed.
Its yellowing, deterioration or shrinkage, or suppresses cohesive failure and the like in the film surface layer or inner layer, and further, on one surface of the base film, a vapor-deposited film of an inorganic oxide is successfully formed into a film, and In order to improve the tight adhesion between the base film and the inorganic oxide vapor-deposited film, etc., in advance, on one surface of the base film, as a surface pretreatment layer, for example, a plasma chemical vapor deposition method described later , Thermal chemical vapor deposition, photochemical vapor deposition and other chemical vapor deposition methods (Chemical Va
por deposition method, CVD method) or a physical vapor deposition method (Physical) such as, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.
By forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide using a Vapor Deposition method (PVD method),
An anti-evaporation protective film can be provided. Note that, in the present invention, the thickness of the deposition-resistant protective film made of silicon oxide or the like is a thin film, and further, a non-barrier film having no barrier property against water vapor gas, oxygen gas, or the like is sufficient.
Specifically, it is desirable that the film thickness is less than 150 °,
Specifically, the film thickness is about 10 to 100 °, preferably about 20 to 80 °, and more preferably about 3 °.
A range of 0 to 60 ° is desirable. Thus, in the above, 15
When the thickness is 0 ° or more, specifically, 100 °, further 80 °, or more than 60 °, it becomes difficult to form a good evaporation-resistant protective film.
If the angle is less than Å, 20 °, or even 30 °, the function as a deposition-resistant protective layer is lost, and it is difficult to achieve the effect.

【００２１】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する遮光性膜について説明すると、かかる遮
光性膜としては、例えば、アルミニウム等の金属を用い
て、物理気相成長法等により形成される遮光性蒸着膜等
を使用することができるものである。上記の物理気相成
長法による金属等による遮光性蒸着膜について更に詳し
く説明すると、かかる物理気相成長法による金属の遮光
性蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−
ム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏ
ｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて形成
することができる。具体的には、アルミニウム等の金属
を原料とし、これを、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘
導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等に
て加熱して蒸気化し、その蒸気を基材フィルムの上に蒸
着する真空蒸着法等により、金属の遮光性蒸着膜を形成
することができる。Next, in the present invention, the back surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention.
For example, a light-shielding deposited film formed by a physical vapor deposition method using a metal such as aluminum can be used as the light-shielding film. Things. The light-shielding vapor-deposited film made of a metal or the like by the above-mentioned physical vapor deposition method will be described in more detail. , Ion cluster bee
Physical vapor deposition method such as a physical vapor deposition method.
r Deposition method, PVD method). Specifically, a metal such as aluminum is used as a raw material, and this is heated and vaporized by, for example, a resistance heating method, a high-frequency induction heating method, an electron beam heating method (EB), and the vapor is used as a base material. A metal light-shielding vapor-deposited film can be formed by a vacuum vapor deposition method or the like that vapor-deposits on the film.

【００２２】本発明において、物理気相成長法による金
属の遮光性蒸着膜の形成法について、その具体例を挙げ
ると、図９は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概
略的構成図である。図９に示すように、巻き取り式真空
蒸着装置２１の真空チャンバ−２２の中で、巻き出しロ
−ル２３から基材フィルム１を繰り出し、更に、基材フ
ィルム１を、ガイドロ−ル２４、２５を介して、冷却し
たコ−ティングドラム２６に案内する。他方、るつぼ２
７中にあるアルミニウム等の金属２８を加熱して蒸気化
し、その蒸気を、上記の冷却したコ−ティングドラム２
６上に案内された基材フィルム１の上に、マスク２９、
２９を介して、蒸着してアルミニウムの遮光性蒸着膜を
成膜化し、次いで、上記において、アルミニウムの遮光
性蒸着膜を形成した基材フィルム１を、ガイドロ−ル２
５′、２４′を介して送り出し、巻き取りロ−ル３０に
巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法
による金属の遮光性蒸着膜を形成することができる。な
お、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸
着装置を用いて、まず、第１層の金属の遮光性蒸着膜を
形成し、次いで、同様にして、該遮光性蒸着膜の上に、
更に、金属の遮光性蒸着膜を形成するか、あるいは、上
記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを２
連に連接し、連続的に、金属の遮光性蒸着膜を形成する
ことにより、２層以上の多層膜からなる金属の遮光性蒸
着膜を形成することができる。In the present invention, a specific example of a method for forming a light-shielding vapor-deposited film of metal by physical vapor deposition is shown in FIG. 9. FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing an example of a roll-up type vacuum vapor deposition apparatus. is there. As shown in FIG. 9, in the vacuum chamber 22 of the take-up type vacuum evaporation apparatus 21, the base film 1 is fed out from the unwinding roll 23, and the base film 1 is further transferred to the guide roll 24, It is guided to a cooled coating drum 26 via 25. On the other hand, crucible 2
7 is heated to vaporize a metal 28 such as aluminum, and the vapor is discharged to the above-mentioned cooled coating drum 2.
On the base film 1 guided on 6, a mask 29,
29, a light-shielding vapor-deposited film of aluminum is formed to form a film.
By feeding the film through 5 'and 24' and winding it on a take-up roll 30, a light-shielding vapor-deposited film of metal can be formed by the physical vapor deposition method according to the present invention. In the present invention, first, a light-shielding vapor-deposited film of metal of the first layer is formed using the above-mentioned roll-up type vacuum vapor-deposition device, and then, similarly, To
Further, a metal light-shielding vapor-deposited film is formed, or this is rolled-up using a roll-up vacuum vapor-deposition apparatus as described above.
By forming a metal light-shielding vapor-deposited film continuously and continuously, a metal light-shielding vapor-deposited film composed of two or more multilayer films can be formed.

【００２３】上記において、金属としては、基本的に
は、加熱により溶融し、蒸気化し、蒸着膜を形成し得る
ものであればよく例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウ
ム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジ
ルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属を使
用することができる。而して、好ましいものとしては、
アルミニウム（Ａｌ）等の金属を挙げることができる。
本発明において、上記の金属の遮光性蒸着膜の膜厚とし
ては、使用する金属の種類等によって異なるが、例え
ば、１００〜４０００Å位、好ましくは、１５０〜１０
００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ま
しい。また、本発明においては、使用する金属として
は、２種以上の混合物で使用し、異種の金属を混合した
金属の遮光性蒸着膜を構成することもできる。In the above, basically, any metal can be used as long as it can be melted by heating and vaporized to form a deposited film. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) , Calcium (C
a), tin (Sn), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y), and other metals can be used. Thus, preferably,
Metals such as aluminum (Al) can be given.
In the present invention, the thickness of the above-mentioned metal light-shielding vapor-deposited film varies depending on the type of metal used and the like, but is, for example, about 100 to 4000 °, preferably 150 to 1010.
It is desirable to arbitrarily select and form within the range of about 00 °. In the present invention, as a metal to be used, a mixture of two or more kinds may be used to form a light-shielding vapor-deposited film of a metal in which different kinds of metals are mixed.

【００２４】また、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する遮光性膜としては、例えば、樹脂の１種
ないし２種以上をビヒクルの主成分とし、これに、光遮
光性、光反射性あるいは光拡散性、更には、意匠性等を
付与する染料・顔料等の着色剤の１種ないし２種以上を
添加し、更に、必要ならば、可塑剤、光安定剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、架橋剤、硬化剤、充
填剤、滑剤、強化繊維、補強剤、難燃剤、耐炎剤、発泡
剤、防カビ剤、その他等の添加剤の１種ないし２種以上
を任意に添加し、更に、要すれば、溶剤、希釈剤等を添
加し、十分に混練して着色樹脂組成物を調製し、次に、
本発明においては、上記で調製した着色樹脂組成物を使
用し、これを、前述の基材フィルムの一方の面に、例え
ば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−
ト、その他等の塗布法で塗布し、あるいは、グラビア印
刷方式、オフセット印刷方式、シルクスクリ−ン印刷方
式、その他等の印刷法で印刷し、上記の着色樹脂組成物
による塗布膜ないし印刷膜を形成して、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを構成する遮光性
膜を形成することができるものである。なお、上記の遮
光性膜の厚さとしては、５〜１００μｍ位、より好まし
くは、１０〜６０μｍ位が望ましい。Further, in the present invention, the back protection sheet for a solar cell module according to the present invention, the solar cell module
As a light-shielding film constituting a film or the like, for example, one or two or more resins are used as a main component of a vehicle, and a light-shielding property, a light-reflecting property or a light-diffusing property, and further, a design property, etc. One or more colorants such as dyes and pigments to be added are added, and if necessary, a plasticizer, a light stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a crosslinking agent, a curing agent Optionally, one or more additives such as fillers, lubricants, reinforcing fibers, reinforcing agents, flame retardants, flame retardants, foaming agents, fungicides, etc., and, if necessary, solvents. Add a diluent, etc., knead well to prepare a colored resin composition,
In the present invention, the above-prepared colored resin composition is used, and is applied to one surface of the above-mentioned base film, for example, by roll coat, gravure roll coat, kisco-coat.
Or a printing method such as a gravure printing method, an offset printing method, a silk screen printing method, or the like, and a coating film or a printing film of the above colored resin composition. It is possible to form a light-shielding film constituting the back protection sheet for a solar cell module according to the present invention. The thickness of the light-shielding film is preferably about 5 to 100 μm, more preferably about 10 to 60 μm.

【００２５】上記において、樹脂としては、光起電力素
子としての太陽電池素子の裏面の平滑性を保持する機能
を果たすために熱可塑性を有すること、更には、光起電
力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐
スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れている樹脂の１種な
いし２種以上を使用することができるものである。具体
的には、上記の樹脂としては、例えば、フッ素系樹脂、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エ
チレン−アクリル酸、または、メタクリル酸共重合体、
ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチ
レンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂
をアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ−ル酸等
の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレンフィン
系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリ
ル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン
−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ（メタ）アクリル
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フ
ェノ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリコ−
ン系樹脂、エポキシ系樹脂、その他等の樹脂の１種ない
し２種以上を使用することができる。なお、本発明にお
いては、上記の樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性等の
耐候性等を向上させるために、例えば、架橋剤、熱酸化
防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その
他等の添加剤を任意に添加し、混合することができるも
のである。In the above, the resin has thermoplasticity to fulfill the function of maintaining the smoothness of the back surface of the solar cell element as a photovoltaic element, and further has a solar cell element as a photovoltaic element. , One or more resins having excellent scratch resistance, shock absorption and the like can be used. Specifically, as the above resin, for example, a fluorine-based resin,
Ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer,
Acid-modified polyolene fin resin, polyacrylonitrile resin obtained by modifying polyethylene resin, polypropylene resin, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene with unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. Resin, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyvinyl acetate resin, polyester resin, polyamide resin, poly (meth) acrylic resin, polystyrene resin, polyurethane resin, phenol resin Resin, polyvinyl butyral resin, silicone
One or more resins such as resin, epoxy resin, and others can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, and the like, for example, a crosslinking agent, a thermal oxidation inhibitor, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, Additives such as a photooxidation inhibitor and others can be arbitrarily added and mixed.

【００２６】また、上記において、着色剤としては、太
陽電池モジュ−ルにおいて透過した太陽光を遮光、光反
射あるいは光拡散させて再利用するために遮光性、光反
射性、光拡散性等を付与し、更に、意匠性等を付与する
ことを目的とし添加するものであり、例えば、白色、黒
色、青色、赤色、その他等の各種の染料、顔料等の着色
剤を使用することができる。而して、本発明において
は、塩基性炭酸鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性けい酸鉛、亜
鉛華、硫化亜鉛、リトポン、三酸化アンチモン、アナタ
ス形酸化チタン、ルチル形酸化チタン、その他等の白色
顔料の１種ないし２種以上を使用することが特に好まし
いものである。その使用量としては、上記の樹脂組成物
において、０．１重量％〜３０重量％位、好ましくは、
０．５重量％〜１０重量％位添加して使用することが望
ましいものである。In the above description, the colorant has a light-shielding property, a light-reflecting property, a light-diffusing property, etc. in order to recycle the sunlight transmitted through the solar cell module by shading, reflecting or diffusing light. It is added for the purpose of imparting design properties and the like, and for example, coloring agents such as various dyes and pigments such as white, black, blue, red and others can be used. Thus, in the present invention, basic lead carbonate, basic lead sulfate, basic lead silicate, zinc white, zinc sulfide, lithopone, antimony trioxide, anatas-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, and the like It is particularly preferred to use one or more white pigments. The amount used is, in the above resin composition, about 0.1% to 30% by weight, preferably
It is desirable to add about 0.5% by weight to 10% by weight for use.

【００２７】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、物理
気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、その
両者を併用して、無機酸化物の蒸着膜の１層からなる単
層膜あるいは２層以上からなる多層膜または複合膜を形
成して製造することができるものである。上記の物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく
説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム
法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて形成す
ることができる。本発明において、具体的には、金属の
酸化物を原料とし、これを加熱して基材フィルムの上に
蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金
属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フ
ィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応を
プラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等
を用いて蒸着膜を形成することができる。上記におい
て、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方
式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式
（ＥＢ）等にて行うことができる。Next, in the present invention, the back surface protection sheet for a solar cell module and the solar cell module according to the present invention.
Explained about the deposited film of the inorganic oxide constituting the metal and the like, as the deposited film of the inorganic oxide, for example, a physical vapor deposition method, or a chemical vapor deposition method, or a combination thereof, It can be manufactured by forming a single layer film composed of one layer of an inorganic oxide vapor-deposited film or a multilayer film or composite film composed of two or more layers. The vapor-deposited film of an inorganic oxide formed by the above-described physical vapor deposition method will be described in more detail. Examples of the vapor-deposited film of an inorganic oxide formed by the physical vapor deposition method include, for example, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, Physical vapor growth method such as ion cluster beam method (Physical Vapor)
Deposition method, PVD method) can be used. In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and a vacuum evaporation method in which the metal oxide is heated and vapor-deposited on a base film, or a metal or a metal oxide is used as a raw material, and oxygen is used. The vapor deposition film can be formed by an oxidation reaction vapor deposition method of introducing and oxidizing and vapor-depositing on the substrate film, and a plasma-assisted oxidation reaction vapor deposition method of promoting the oxidation reaction by plasma. In the above, as a heating method of the evaporation material, for example, a resistance heating method, a high-frequency induction heating method, an electron beam heating method (EB), or the like can be used.

【００２８】本発明において、物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を形成する方法について、その具体例
を挙げると、前述で図示した図９と同様に、図１０は、
巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図であ
る。図１０に示すように、巻き取り式真空蒸着装置２１
の真空チャンバ−２２の中で、巻き出しロ−ル２３から
基材フィルム１を繰り出し、更に、基材フィルム１をガ
イドロ−ル２４、２５を介して、冷却したコ−ティング
ドラム２６の上に案内する。他方、るつぼ２７中で、金
属アルミニウムあるいは酸化アルミニウム等の蒸着源２
８を加熱、溶融して蒸気化し、更に、必要ならば、酸素
ガス吹出口２９より酸素ガス等を供給し、次いで、その
蒸気を、上記の冷却したコ−ティングドラム２６上に案
内された基材フィルム１の上に、マスク３０、３０を介
して、蒸着して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸
化物の蒸着膜を成膜化する。しかる後、上記で酸化アル
ミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィル
ム１を、ガイドロ−ル２５′、２４′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル３１に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を
形成することができる。なお、本発明においては、上記
のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第１
層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にし
て、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の
蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り
式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的
に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、２層以
上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成すること
ができる。In the present invention, a specific example of a method of forming a deposited film of an inorganic oxide by physical vapor deposition will be described with reference to FIG.
It is a schematic structure figure showing an example of a winding type vacuum evaporation device. As shown in FIG.
The base film 1 is unwound from the unwinding roll 23 in the vacuum chamber 22 and the base film 1 is further placed on the cooled coating drum 26 via the guide rolls 24 and 25. invite. On the other hand, in the crucible 27, a deposition source 2 of metal aluminum or aluminum oxide, etc.
8 is heated and melted to be vaporized, and if necessary, oxygen gas or the like is supplied from an oxygen gas blow-out port 29. Then, the vapor is supplied to the substrate guided on the cooled coating drum 26. On the material film 1, a vapor deposition film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed by vapor deposition via the masks 30 and 30, for example. Thereafter, the base film 1 on which the deposited film of the inorganic oxide such as aluminum oxide is formed is sent out through the guide rolls 25 'and 24' and wound up on the take-up roll 31 so as to form a book. An inorganic oxide deposited film can be formed by the physical vapor deposition method according to the present invention. In the present invention, first, using the above-mentioned winding type vacuum evaporation apparatus, the first
Forming a layer of inorganic oxide on the layer, and then forming a layer of inorganic oxide on the layer of inorganic oxide, Forming an inorganic oxide vapor deposition film consisting of two or more multilayer films by connecting these in series using a vacuum evaporation system and forming an inorganic oxide vapor deposition film continuously. Can be.

【００２９】上記において、無機酸化物の蒸着膜として
は、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用
可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム
（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎ
ａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジ
ルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸
化物の蒸着膜を使用することができる。而して、好まし
いものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化
物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のよう
に金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例え
ば、ＳｉＯX 、ＡｌＯX 、ＭｇＯX 等のようにＭＯ
X （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表され
る。また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓ
ｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．
５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃ
ａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ
（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．
５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、
０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）
は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の
値をとることができる。上記において、Ｘ＝０の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、ア
ルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａ
ｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の
酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜４０
００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内
で任意に選択して形成することが望ましい。また、本発
明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する
金属、または金属の酸化物としては、１種または２種以
上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物
の蒸着膜を構成することもできる。In the above, as the inorganic oxide deposited film, any thin film obtained by basically depositing a metal oxide can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) , Calcium (C
a), potassium (K), tin (Sn), sodium (N
a), a vapor-deposited film of an oxide of a metal such as boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), and yttrium (Y) can be used. Thus, preferred are silicon (Si), aluminum (A
1) and the like.
Thus, the above-mentioned vapor-deposited film of a metal oxide can be referred to as a metal oxide, such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide. The notation is, for example, SiO x , AlO x MO such as MgO X
X (wherein, M represents a metal element, and the value of X is
The range differs depending on the metal element. ). The range of the value of X is silicon (S
i) is 0-2, and aluminum (Al) is 0-1.
5. Magnesium (Mg) is 0-1, calcium (C
a) is 0-1, potassium (K) is 0-0.5, tin (Sn) is 0-2, and sodium (Na) is 0-0.
5, boron (B) is 0-1,5, titanium (Ti) is
0-2, lead (Pb): 0-1, zirconium (Zr)
Can have a value in the range of 0 to 2 and yttrium (Y) can have a value in the range of 0 to 1.5. In the above, when X = 0,
It is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all, and the upper end of the range of X is a fully oxidized value. In the present invention, generally, except for silicon (Si) and aluminum (Al), examples used are scarce. Silicon (Si) is 1.0 to 2.0, aluminum (A)
For l), a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited film varies depending on the type of the metal or the metal oxide used, and is, for example, 50 to 40.
It is desirable to arbitrarily select and form it within the range of about 00 °, preferably about 100 to 1000 °. Further, in the present invention, as the deposited metal film of the inorganic oxide, the metal to be used, or as the oxide of the metal, used in one kind or a mixture of two or more kinds, and the inorganic oxide mixed with different materials is used. A vapor deposition film can also be formed.

【００３０】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明す
ると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気
相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、
ＣＶＤ法）等を用いて形成することができる。本発明に
おいては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有
機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャ
リヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不
活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガ
ス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温
プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着膜を形成することができる。上記において、低
温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。Next, in the present invention, the inorganic oxide deposited film formed by the above-described chemical vapor deposition method will be further described. Chemical vapor deposition methods (Ch, such as vapor phase epitaxy, thermochemical vapor phase epitaxy, photochemical vapor phase epitaxy)
electrical Vapor Deposition method,
(CVD method) or the like. In the present invention, specifically, on one surface of the base film, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas. Further, a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed by using a low-temperature plasma chemical vapor deposition method using an oxygen gas or the like as an oxygen supply gas and a low-temperature plasma generator or the like. . In the above, as the low-temperature plasma generator, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma, it is possible to use a generator such as microwave plasma, in the present invention,
In order to obtain highly active and stable plasma, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【００３１】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一
例を例示して説明すると、図１１は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法につい
てその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略
的構成図である。上記の図１１に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置４１の真空チャン
バ−４２内に配置された巻き出しロ−ル４３から基材フ
ィルム１を繰り出し、更に、該基材フィルム１を、補助
ロ−ル４４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム４５
周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガス供
給装置４６、４７および、原料揮発供給装置４８等から
酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノ
マ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混
合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル４９を通し
て真空チャンバ−４２内に該蒸着用混合ガス組成物を導
入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４５周面上に搬
送された基材フィルム１の上に、グロ−放電プラズマ５
０によってプラズマを発生させ、プラズマ雰囲気中で蒸
着用混合ガス組成物中の蒸着モノマ−ガス等を反応させ
て、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し、製膜化
する。本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム
４５は、チャンバ−外に配置されている電源５１から所
定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム４
５の近傍には、マグネット５２を配置してプラズマの発
生が促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機
酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム１は、補助ロ−
ル５３を介して巻き取りロ−ル５４に巻き取って、本発
明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の
蒸着膜を製造することができるものである。なお、図
中、５５は、真空ポンプを表す。上記の例示は、その一
例を例示するものであり、これによって本発明は限定さ
れるものではないことは言うまでもないことである。な
お、本発明においては、上記のような低温プラズマ化学
気相成長装置を用いて、まず、第１層の無機酸化物の蒸
着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸
着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、
あるいは、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置
を用いて、これを２連に連接し、連続的に、無機酸化物
の蒸着膜を形成することにより、２層以上の多層膜から
なる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。Specifically, a method of forming a deposited film of an inorganic oxide by the above-described low-temperature plasma chemical vapor deposition method will be described with reference to an example. FIG. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a deposited oxide film. As shown in FIG. 11 described above, in the present invention, the base film 1 is unwound from an unwinding roll 43 disposed in a vacuum chamber -42 of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 41. The film 1 is cooled at a predetermined speed through an auxiliary roll 44 at a cooling / electrode drum 45.
Convey on the peripheral surface. Thus, in the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 46 and 47 and the raw material volatile supply device 48 and the like. While adjusting the mixed gas composition for vapor deposition, the mixed gas composition for vapor deposition was introduced into the vacuum chamber -42 through the raw material supply nozzle 49, and was conveyed onto the peripheral surface of the cooling / electrode drum 45 described above. Glow discharge plasma 5 on base film 1
0, plasma is generated, and a vaporized monomer gas or the like in the mixed gas composition for vapor deposition is reacted in a plasma atmosphere to form a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide, thereby forming a film. In the present invention, at this time, a predetermined power is applied to the cooling / electrode drum 45 from the power source 51 disposed outside the chamber.
5, the generation of plasma is promoted by disposing a magnet 52. Next, the base film 1 on which the deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide is formed is an auxiliary roller.
The film is wound around a take-up roll 54 via a roll 53 to produce a deposited film of an inorganic oxide by the plasma enhanced chemical vapor deposition method according to the present invention. In the figure, 55 represents a vacuum pump. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby. In the present invention, a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus as described above is used to first form a first layer of an inorganic oxide vapor-deposited film, and then deposit the inorganic oxide in the same manner. On top of the film, further form an inorganic oxide deposited film,
Alternatively, using a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus as described above, these are connected in series, and an inorganic oxide vapor deposition film is continuously formed to form an inorganic film composed of a multilayer film of two or more layers. An oxide deposited film can be formed.

【００３２】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
スとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメ
チルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシ
ラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を
使用することができる。本発明において、上記のような
有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチ
ルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを
原料として使用することが、その取り扱い性、形成され
た蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。ま
た、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。In the above description, as a monomer gas for vapor deposition of an organic silicon compound or the like for forming a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane Siloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane,
Phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its properties and the like. In the above, for example, an argon gas, a helium gas, or the like can be used as the inert gas.

【００３３】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素
ガス等とが化学反応し、その反応生成物が基材フィルム
の上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成す
ることができ、通常、一般式ＳｉＯX （ただし、Ｘは、
０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連
続状の蒸着膜である。而して、上記の酸化珪素の蒸着膜
としては、透明性、バリア性等の点から、一般式ＳｉＯ
X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表
される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが
好ましいものである。上記において、Ｘの値は、モノマ
−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等に
より変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス
透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性
が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、珪素
（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）を必須構成元素として有し、更
に、炭素（Ｃ）と水素（Ｈ）のいずれが一方、または、
その両者の元素を微量構成元素として含有する酸化珪素
の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、５０Å〜４００
０Å位、好ましくは、１００Å〜１０００Åの範囲であ
り、更に、上記の必須構成元素と微量構成元素の構成比
率が、膜厚方向において連続的に変化しているものであ
る。更に、上記の酸化珪素の蒸着膜は、炭素からなる化
合物を含有する場合には、その膜厚の深さ方向において
炭素の含有量が減少していることを特徴とするものであ
る。In the present invention, in the silicon oxide vapor-deposited film formed above, a monomer gas such as an organic silicon compound and an oxygen gas chemically react, and the reaction product is closely adhered to the substrate film. and dense, it is possible to form a thin film rich in flexibility or the like, usually, the general formula SiO X (provided that, X is
(Representing a number from 0 to 2). Thus, from the viewpoint of transparency, barrier properties, and the like, the silicon oxide deposited film of the general formula SiO
X (where X represents a number from 1.3 to 1.9) is preferably a thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film. In the above, the value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, etc. In general, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself has It has a yellow color and poor transparency. Further, the above-described deposited film of silicon oxide has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, one of carbon (C) and hydrogen (H), or
It consists of a deposited film of silicon oxide containing both of these elements as trace constituent elements, and has a thickness of 50 ° to 400 °.
It is in the range of 0 °, preferably in the range of 100 ° to 1000 °, and the composition ratio of the essential constituent elements and the trace constituent elements continuously changes in the film thickness direction. Further, when the silicon oxide vapor-deposited film contains a compound composed of carbon, the content of carbon is reduced in the depth direction of the film thickness.

【００３４】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒ
ａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓ
ｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃ
ｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃ
ｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向
にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記
のような物性を確認することができる。また、本発明に
おいて、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚
５０Å〜４０００Å位であることが望ましく、具体的に
は、その膜厚としては、１００〜１０００Å位が望まし
く、而して、上記において、１０００Å、更には、４０
００Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易
くなるので好ましくなく、また、１００Å、更には、５
０Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難
になることから好ましくないものである。上記のおい
て、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分
析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファン
ダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。ま
た、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変
更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくするこ
と、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方
法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことが
できる。According to the present invention, the above-mentioned silicon oxide deposited film may be, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xr
ay Photoelectron Spectros
copy, XPS), secondary ion mass spectrometer (Sec.)
onion Ion Mass Spectrosc
The above physical properties are confirmed by performing elemental analysis of a deposited silicon oxide film using a method of performing analysis by ion etching in the depth direction or the like using a surface analysis device such as O.I. can do. In the present invention, the thickness of the deposited silicon oxide film is preferably about 50 to 4000 °, and specifically, about 100 to 1000 °. Then, in the above, 1000 °, furthermore, 40
When the thickness is more than 00 °, cracks and the like are easily generated in the film, which is not preferable.
If it is less than 0 °, it is not preferable because it is difficult to exhibit the effect of the barrier property. In the above description, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as a means for changing the thickness of the deposited film of silicon oxide, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or the rate of the deposition. It can be performed by a method of slowing down.

【００３５】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を
形成して使用することもできるものである。而して、上
記の異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合
膜としては、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長
法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの
発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、
該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜か
らなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいも
のである。勿論、本発明においては、上記とは逆くに、
基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法により、無
機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法によ
り、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を
防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上から
なる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成すること
もできるものである。In the present invention, as a vapor-deposited film of an inorganic oxide constituting a back protective sheet for a solar cell module, a solar cell module, etc. according to the present invention, for example, a physical vapor deposition method is used. By using both of the chemical vapor deposition methods together, a composite film composed of two or more vapor deposited films of different kinds of inorganic oxides can be formed and used. Thus, as a composite film composed of two or more layers of the above-mentioned vapor-deposited films of different types of inorganic oxides, first, a dense, flexible film is formed on a base film by a chemical vapor deposition method. Provision of a deposited film of an inorganic oxide capable of preventing the occurrence of cracks,
On the inorganic oxide vapor deposited film, it is desirable to provide an inorganic oxide vapor deposited film by physical vapor deposition to form an inorganic oxide vapor deposited film composed of a composite film composed of two or more layers. is there. Of course, in the present invention, contrary to the above,
First, a vapor-deposited inorganic oxide film is formed on the base film by physical vapor deposition, and then dense, flexible, and relatively cracked by chemical vapor deposition. It is also possible to provide an inorganic oxide vapor deposition film composed of a composite film composed of two or more layers by providing an inorganic oxide vapor deposition film capable of preventing the above.

【００３６】次に、本発明において、上記で基材フィル
ムの一方の面に、遮光性膜、または、無機酸化物の蒸着
膜を形成した後、該遮光性膜を設けた基材フィルムと無
機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムとを積層して、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トの
形成法について説明すると、その形成法としては、例え
ば、前述で基材フィルムの一方の面に設けた遮光性膜の
面に、例えば、ラミネ−ト用接着剤等によるラミネ−ト
用接着剤層、あるいは、プライマ−剤層とラミネ−ト用
接着剤層等を形成し、次いで、上記で無機酸化物の蒸着
膜を設けた基材フィルムを、上記のラミネ−ト用接着剤
層、あるいは、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層
等介して、ドライラミネ−ト法等を用いてドライラミネ
−ト積層することにより、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用裏面保護シ−トを製造することができるもので
ある。あるいは、本発明においては、前述で基材フィル
ムの一方の面に設けた遮光性膜の面に、例えば、アンカ
−コ−ト剤等による接着助剤等のアンカ−コ−ト剤層、
あるいは、プライマ−剤層とアンカ−コ−ト剤層等を形
成し、次に、該のアンカ−コ−ト剤層の面、あるいは、
プライマ−剤層とアンカ−コ−ト剤層の面に、例えば、
ポリオレフィン系樹脂等を、例えば、押出機、Ｔダイ押
出機、その他等を使用し、加熱溶融押し出ししながら、
前述の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムを溶融
押し出してラミネ−トすることにより、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造することが
できるものである。Next, in the present invention, after forming a light-shielding film or a vapor-deposited film of an inorganic oxide on one surface of the substrate film as described above, the substrate film provided with the light-shielding film is mixed with an inorganic film. By laminating a substrate film provided with an oxide deposition film,
The method of forming the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention will be described. For example, the method for forming the back surface protection sheet may include, for example, , A laminating adhesive layer with a laminating adhesive or the like, or a primer layer and a laminating adhesive layer, etc., and then a base on which an inorganic oxide vapor-deposited film is provided as described above. By laminating a material film by dry lamination using a dry laminating method or the like via the above-mentioned laminating adhesive layer, or a primer agent layer and a laminating adhesive layer, etc. The back protection sheet for a solar cell module according to the above item can be manufactured. Alternatively, in the present invention, on the surface of the light-shielding film provided on one surface of the base film as described above, for example, an anchor-coat agent layer such as an adhesion aid using an anchor-coat agent,
Alternatively, a primer agent layer and an anchor coat agent layer are formed, and then the surface of the anchor coat agent layer, or
On the surface of the primer agent layer and the anchor coating agent layer, for example,
While extruding a polyolefin resin, for example, using an extruder, a T-die extruder, etc., while heating and extruding,
By melting and extruding the base film provided with the above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited film and laminating the same, it is possible to manufacture the back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【００３７】上記において、ラミネ−ト用接着剤層を構
成するラミネ−ト用接着剤としては、例えば、ポリ酢酸
ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、２−エ
チルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、こ
れらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレ
ン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系
接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸
ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸
等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体
系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着
剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹
脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、
フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレ
タン系接着剤、反応型（メタ）アクリル系接着剤、クロ
ロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴ
ム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アル
カリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接
着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。上記
の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン
型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、そ
の性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のい
ずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学
反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形
態でもよいものである。而して、上記の接着剤は、例え
ば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ
−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によ
って施すことができ、そのコ−ティング量としては、
０．１〜１０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）位が望ましい。In the above description, examples of the laminating adhesive constituting the laminating adhesive layer include polyvinyl acetate-based adhesives, homopolymers such as ethyl, butyl and 2-ethylhexyl esters of acrylic acid, and the like. Alternatively, a polyacrylate adhesive, a cyanoacrylate adhesive, ethylene and vinyl acetate, an ethyl acrylate, an acrylic acid, a methacrylic acid, etc. comprising a copolymer or the like of these with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc. Ethylene copolymer adhesives, such as copolymers with monomers of the above, cellulose-based adhesives, polyester-based adhesives, polyamide-based adhesives, polyimide-based adhesives, amino resins such as urea resins or melamine resins Adhesive,
Phenol resin adhesive, epoxy adhesive, polyurethane adhesive, reactive (meth) acrylic adhesive, rubber adhesive composed of chloroprene rubber, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, etc., silicone-based adhesive Adhesives, inorganic adhesives made of alkali metal silicate, low-melting glass, and the like, and other adhesives can be used. The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the properties thereof include a film sheet, a powder, and a solid. Any form may be used, and the bonding mechanism may be any form such as a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a heat pressure type. The above adhesive can be applied by a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, or the like, or a printing method. As the coating amount,
0.1 to 10 g / m 2 (dry state) is desirable.

【００３８】なお、上記のラミネ−ト用接着剤中には、
紫外線劣化等を防止するために、紫外線吸収剤および／
または酸化防止剤等を任意に添加することができる。上
記の紫外線吸収剤としては、太陽光中の有害な紫外線を
吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高
分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止する
ものであり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリア
ゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属
錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン（粒
子径、０．０１〜０．０６μｍ）あるいは超微粒子酸化
亜鉛（０．０１〜０．０４μｍ）等の無機系等の紫外線
吸収剤の１種ないしそれ以上を使用することができる。
また、上記の酸化防止剤としては、高分子の光劣化ある
いは熱劣化等を防止するものであり、例えば、フェノ−
ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、その他等の酸化防止
剤を使用することができる。更に、上記の紫外線吸収剤
あるいは酸化防止剤としては、例えば、ポリマ−を構成
する主鎖または側鎖に、上記のベンゾフェノン系等の紫
外線吸収剤あるいは上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤
を化学結合させてなるポリマ−型の紫外線吸収剤あるい
は酸化防止剤等も使用することができる。上記の紫外線
吸収剤および／または酸化防止剤の含有量としては、そ
の粒子形状、密度等によって異なるが、約０．１〜１０
重量％位が好ましい。The above-mentioned adhesive for laminating includes:
UV absorbers and / or
Alternatively, an antioxidant or the like can be optionally added. As the above-mentioned ultraviolet absorber, it absorbs harmful ultraviolet rays in sunlight, converts it into harmless heat energy in the molecule, and prevents excitation of the active species that initiates photodegradation in the polymer. For example, benzophenone-based, benzotriazole-based, saltylate-based, acrylonitrile-based, metal complex-based, hindered amine-based, ultrafine titanium oxide (particle diameter: 0.01 to 0.06 μm) or One or more ultraviolet absorbers such as inorganic fine particles such as ultrafine zinc oxide (0.01 to 0.04 μm) can be used.
Further, the above antioxidant is for preventing photodeterioration or thermal deterioration of the polymer, and is, for example, phenol-free.
Antioxidants such as phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphoric-acid-based, and others can be used. Further, as the above-mentioned ultraviolet absorber or antioxidant, for example, the above-mentioned ultraviolet absorber such as benzophenone or the above antioxidant such as phenol is added to the main chain or side chain constituting the polymer. A polymer-type ultraviolet absorber or an antioxidant obtained by chemically bonding may also be used. The content of the above-mentioned ultraviolet absorber and / or antioxidant varies depending on the particle shape, density and the like.
% By weight is preferred.

【００３９】また、上記において、アンカ−コ−ト剤と
しては、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン
系、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプ
タジエン系、その他等の水性ないし油性の各種のアンカ
−コ−ト剤を使用することができる。上記のアンカ−コ
−ト剤は、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−
ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ
−ティングすることができ、そのコ−ティング量として
は、０．１〜５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）位が望ましい。In the above, examples of the anchor coating agent include various aqueous or oily anchors such as organic titanium-based such as alkyl titanate, isocyanate-based, polyethyleneimine-based, polybutadiene-based, and others. -Coating agents can be used. Examples of the above-mentioned anchor coating agent include roll coat and gravure roll coat.
Coating can be performed by using a coating method such as coating, kiss coating, or the like, and the coating amount is preferably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

【００４０】なお、本発明においては、遮光性金属蒸着
膜を設けた基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜を設けた
基材フィルムとの密接着性を改善するために、更に、例
えば、予め、プライマ−コ−ト剤層等を任意に形成し
て、表面処理層とすることもできる。上記のプライマ−
コ−ト剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸
ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変
性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成
分とする樹脂組成物を使用することができる。なお、本
発明においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−
ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用
いてコ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成する
ことができ、而して、そのコ−ティング量としては、
０．１〜５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）位が望ましい。In the present invention, in order to improve the tight adhesion between the substrate film provided with the light-shielding metal vapor-deposited film and the substrate film provided with the inorganic oxide vapor-deposited film, for example, the following method is used. Alternatively, a primer-coating agent layer or the like may be arbitrarily formed to form a surface-treated layer. The above primer
As the coating agent, for example, polyester resin, polyamide resin, polyurethane resin, epoxy resin,
Phenol-based resin, (meth) acrylic-based resin, polyvinyl acetate-based resin, polyolefin-based resin such as polyethylene or polypropylene, or copolymers or modified resins thereof, cellulose-based resin, etc. The resin composition to be used can be used. In the present invention, for example, roll coat, gravure roll
A primer coating agent layer can be formed by coating using a coating method such as coating, kiss coating, or the like, and the coating amount is as follows:
It is desirably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

【００４１】また、上記において、ポリオレフィン系樹
脂としては、押出機等で加熱溶融押し出しして相互に溶
着し得るものを使用することができ、例えば、高密度ポ
リエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレ
ン、線状（直鎖状）低密度ポリエチレン、メタロセン系
触媒（シングルサイト系触媒）を使用して重合したエチ
レン−α・オレフィン共重合体等のポリエチレン系樹
脂、プロピレンの単独重合体、あるいは、プロピレンと
α−オレフィン、その他等の他のモノマ−との共重合体
等のポリプロピレン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタ
クリル酸共重合体、エチレン−メタクリレ−ト共重合
体、アイオノマ−樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、ポ
リブテン系樹脂、ポリエチレン系樹脂またはポリプロピ
レン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
フマ−ル酸、マレイン酸、その他等の不飽和カルボン酸
で変成した酸変成ポリエチレン系樹脂またはポリプロピ
レン系樹脂、その他等を使用することができる。なお、
本発明においては、上記のポリオレフィン系樹脂の中で
も、特に、線状低（直鎖状）密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、あるいは、メタロセン系触媒（シングルサイト
系触媒）を使用して重合したエチレン−α・オレフィン
共重合体等のポリエチレン系樹脂を使用することが好ま
しいものである。In the above, as the polyolefin-based resin, those which can be melted and extruded by an extruder or the like and welded to each other can be used. For example, high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, Linear (linear) low-density polyethylene, polyethylene resins such as ethylene-α-olefin copolymers polymerized using metallocene catalysts (single-site catalysts), propylene homopolymers, or propylene α-olefins, polypropylene resins such as copolymers with other monomers such as other, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid Copolymer, ionomer resin, polymethylpentene resin, polybutene resin, polyethylene Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid,
An acid-modified polyethylene-based resin or polypropylene-based resin modified with an unsaturated carboxylic acid such as fumaric acid, maleic acid, or the like, or the like can be used. In addition,
In the present invention, among the above-mentioned polyolefin resins, in particular, linear low (linear) density polyethylene (LLD)
It is preferable to use PE) or a polyethylene resin such as an ethylene-α-olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst (single-site catalyst).

【００４２】なお、本発明においては、上記のポリオレ
フィン系樹脂中には、例えば、前述の太陽光中の有害な
紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へと変
換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを
防止する紫外線吸収剤の１種ないし２種以上を添加する
ことができる。上記の紫外線吸収剤としては、前述の、
例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サ
ルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒン
ダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン（粒子径、０．０
１〜０．０６μｍ）あるいは超微粒子酸化亜鉛（０．０
１〜０．０４μｍ）等の無機系等の紫外線吸収剤の１種
ないしそれ以上を使用することができる。その使用量と
しては、ポリプロピレン系樹脂組成物において、０．１
重量％〜１０重量％位、好ましくは、０．３重量％〜１
０重量％位添加して使用することが望ましいものであ
る。In the present invention, the above-mentioned polyolefin resin absorbs, for example, the above-mentioned harmful ultraviolet rays in sunlight, converts it into harmless heat energy in the molecule, One or two or more UV absorbers for preventing the active species that initiate photodegradation from being excited therein can be added. As the above ultraviolet absorber, the aforementioned,
For example, benzophenone-based, benzotriazole-based, saltylate-based, acrylonitrile-based, metal complex-based, hindered amine-based, ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.0
1 to 0.06 μm) or ultrafine zinc oxide (0.0
One or more UV absorbers such as inorganic UV absorbers (1 to 0.04 μm) can be used. The amount used is 0.1% in the polypropylene resin composition.
Wt% to 10 wt%, preferably 0.3 wt% to 1 wt%
It is desirable to use it by adding about 0% by weight.

【００４３】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トについて説明すると、かかる表面保護シ−トとして
は、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、更に、耐候性、
耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品
性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性を有し、物理的
あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、極めて耐久性
に富み、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保
護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優
れていることが必要である。上記の表面保護シ−トとし
ては、具体的には、例えば、公知のガラス板等は勿論の
こと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリアミド系樹脂
（各種のナイロン）、ポリエステル系樹脂、ポリエチレ
ン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セル
ロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないし
シ−トを使用することができる。上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トとしては、例えば、２軸延伸した樹脂のフ
ィルムないしシ−トも使用することができる。また、上
記の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚と
しては、１２〜２００μｍ位、より好ましくは、２５〜
１５０μｍ位が望ましい。Next, in the present invention, the solar cell module
Protection module for ordinary solar cell module
Explaining about the sheet, such a surface protection sheet has sunlight permeability, insulation property, etc., and furthermore, weather resistance,
Has various properties such as heat resistance, light resistance, water resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemical resistance, moisture resistance, antifouling property, etc., and has excellent physical or chemical strength, toughness, etc. It is required to be extremely durable and to be excellent in scratch resistance, shock absorption and the like because of its protection of a solar cell element as a photovoltaic element. Specific examples of the above surface protection sheet include, for example, a known glass plate and the like, and further, for example, a fluorine resin, a polyamide resin (various nylons), a polyester resin, and a polyethylene resin. Films of various resins such as resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, acetal resin, cellulose resin, and others. Alternatively, a sheet can be used. As the above resin film or sheet, for example, a biaxially stretched resin film or sheet can also be used. Further, in the above resin film or sheet, the film thickness is about 12 to 200 μm, more preferably 25 to 200 μm.
About 150 μm is desirable.

【００４４】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、シリコ−ン系樹脂、エチレン
−酢酸ビニル系樹脂が望ましい素材である。なお、上記
の充填剤層の厚さとしては、２００〜１０００μｍ位、
好ましくは、３５０〜６００μｍ位が望ましい。Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module constituting the solar cell module will be described. The filler layer is transparent because sunlight enters and transmits and absorbs sunlight. It is necessary that the photovoltaic element has an adhesive property with a surface protection sheet, and has a function of maintaining the smoothness of the surface of a solar cell element as a photovoltaic element. Having thermoplasticity for
Further, since the solar cell element as a photovoltaic element is to be protected, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. Specifically, as the filler layer, for example, a fluorine resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, an ionomer resin, an ethylene-acrylic acid, or a methacrylic acid copolymer, a polyethylene resin, a polypropylene resin, Acrylic acid, itaconic acid, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene
Acid-modified polyolene fin resin modified with unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid, polyvinyl butyral
Resin, silicone resin, epoxy resin, (meth)
A mixture of one or more resins such as acrylic resins and other resins can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the above-mentioned filler layer, in a range where the transparency is not impaired, for example, crosslinking is performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and the like can be arbitrarily added and mixed. Thus, in the present invention, as the filler on the incident side of sunlight, in consideration of weather resistance such as light resistance, heat resistance, and water resistance, fluorine-based resin, silicone-based resin, ethylene-vinyl acetate, etc. A base resin is a desirable material. The thickness of the filler layer is about 200 to 1000 μm,
Preferably, about 350 to 600 μm is desirable.

【００４５】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、単結晶シリコン型太陽電池素子、多結
晶シリコン型太陽電池素子等の結晶シリコン太陽電子素
子、シングル接合型あるいはタンデム構造型等からなる
アモルファスシリコン太陽電池素子、ガリウムヒ素（Ｇ
ａＡｓ）やインジウム燐（ＩｎＰ）等のIII −V 族化合
物半導体太陽電子素子、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）
や銅インジウムセレナイド（ＣｕＩｎＳｅ2 ）等のII−
VI族化合物半導体太陽電子素子、その他等を使用するこ
とができる。更に、薄膜多結晶性シリコン太陽電池素
子、薄膜微結晶性シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファスシリコン太陽電池素子
とのハイブリット素子等も使用することができる。而し
て、本発明において、太陽電池素子は、例えば、ガラス
基板、プラスチック基板、金属基板、その他等の基板の
上に、ｐｎ接合構造等の結晶シリコン、ｐ−ｉ−ｎ接合
構造等のアモルファスシリコン、化合物半導体等の起電
力部分が形成されて太陽電池素子を構成するものであ
る。Next, in the present invention, the solar cell module
The solar cell element as a photovoltaic element constituting the solar cell element will be described. As such a solar cell element, a conventionally known one, for example, a crystalline silicon such as a single-crystal silicon-type solar cell element, a polycrystalline silicon-type solar cell element, etc. Solar electronic devices, single-junction or tandem-structure amorphous silicon solar cell devices, gallium arsenide (G
III-V compound semiconductor solar devices such as aAs) and indium phosphide (InP), cadmium telluride (CdTe)
And copper indium selenide (CuInSe 2 )
Group VI compound semiconductor solar electronic devices and others can be used. Further, a thin-film polycrystalline silicon solar cell element, a thin-film microcrystalline silicon solar cell element, a hybrid element of a thin-film crystalline silicon solar cell element and an amorphous silicon solar cell element, and the like can also be used. Thus, in the present invention, a solar cell element is formed, for example, on a substrate such as a glass substrate, a plastic substrate, a metal substrate, or the like, by forming crystalline silicon such as a pn junction structure or amorphous silicon such as a pin junction structure. An electromotive force portion such as silicon or a compound semiconductor is formed to constitute a solar cell element.

【００４６】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、２００〜
１０００μｍ位、より好ましくは、３５０〜６００μｍ
位が望ましい。Next, in the present invention, the solar cell module
The filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module will be described. The filler layer is the same as the filler layer laminated below the solar cell module surface protection sheet. In addition, it is necessary to have an adhesive property with a back surface protection sheet, and further, to have a function of maintaining the smoothness of the back surface of the solar cell element as a photovoltaic element, and to have thermoplasticity. In order to protect a solar cell element as a photovoltaic element, it is necessary to have excellent scratch resistance, shock absorption and the like. However, the filler layer laminated below the photovoltaic element constituting the solar cell module is different from the filler layer laminated below the surface protection sheet for the solar cell module. ,
It is not necessary to have transparency. Specifically, as the above-mentioned filler layer, for example, as in the case of the above-mentioned filler layer laminated below the surface protection sheet for a solar cell module, for example, a fluorine-based resin, ethylene-vinyl acetate copolymer may be used. A polyolefin resin such as coalesced, ionomer resin, ethylene-acrylic acid, or methacrylic acid copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, polyethylene or polypropylene can be mixed with acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc. One or more resins such as an acid-modified polyolefin resin modified with a saturated carboxylic acid, a polyvinyl butyral resin, a silicone resin, an epoxy resin, a (meth) acrylic resin, and the like. Mixtures can be used. In the present invention, in order to improve the heat resistance, light resistance, weather resistance such as water resistance, etc. of the resin constituting the above-mentioned filler layer, in a range where the transparency is not impaired, for example, crosslinking is performed. Additives such as an agent, a thermal antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a photooxidant, and the like can be arbitrarily added and mixed. The thickness of the filler layer is 200 to
About 1000 μm, more preferably 350 to 600 μm
Position is desirable.

【００４７】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。In the present invention, when the solar cell module according to the present invention is manufactured, in order to improve its various strengths such as strength, weather resistance, scratch resistance, etc. Material, for example, low density polyethylene,
Medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic Acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, poly Acrylic nitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin , Polyvinyl alcohol tree , Ethylene - saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal - Le resins, polyurethane resins, nitrocellulose -
And any other known resin film or sheet. In the present invention, the above-mentioned film or sheet may be any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from the range of several μm to 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film, or a coating film.

【００４８】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
トを使用し、例えば、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池
素子、充填剤層、および、上記の本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その無機酸化物の蒸
着膜面側の面を対向させて、順次に積層し、更に、必要
ならば、各層間に、その他の素材を任意に積層し、次い
で、これらを、真空吸引等により一体化して加熱圧着す
るラミネ−ション法等の通常の一体化成形法を利用し、
上記の各層を一体成形体として加熱圧着成形して、太陽
電池モジュ−ルを製造することができる。上記におい
て、必要ならば、各層間の接着性等を高めるために、
（メタ）アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ビニル系
樹脂、その他等の樹脂をビヒクルの主成分とする加熱溶
融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬化型接着剤、その他等
を使用することができる。Next, a method of manufacturing a solar cell module using the above-mentioned materials in the present invention will be described. The manufacturing method includes a known method, for example, a solar cell according to the present invention. Backside protection sheet for module
For example, the above-mentioned surface protection sheet for a solar cell module, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and a solar cell module according to the present invention are used. -A backside protective sheet for the metal layer is sequentially laminated with the surface of the inorganic oxide on the side of the vapor-deposited film side, and if necessary, other materials are optionally laminated between the layers, Then, using a normal integrated molding method such as a lamination method in which these are integrated by vacuum suction or the like and heat-pressed,
The solar cell module can be manufactured by heat-press molding each of the above-mentioned layers as an integrally molded body. In the above, if necessary, in order to improve the adhesiveness between the respective layers,
It is possible to use a heat-melt adhesive, a solvent adhesive, a photo-curable adhesive, or the like whose main component is a resin such as a (meth) acrylic resin, an olefin resin, a vinyl resin, and the like. it can.

【００４９】また、上記の積層において、各積層対向面
には、密接着性を向上させるために、必要に応じて、例
えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは
窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処
理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の
前処理を任意に施すことができる。更に、上記の積層に
おいては、各積層対向面に、予め、プライマ−コ−ト剤
層、アンダ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、アンカ
−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面前処理を行うこ
ともできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチ
レンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂
あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹
脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使
用することができる。また、上記において、コ−ト剤層
の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、あるい
は、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−
ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他
等のコ−ト法を用いてコ−トすることができる。In the above-mentioned lamination, if necessary, for example, a corona discharge treatment, an ozone treatment, a low-temperature treatment using an oxygen gas or a nitrogen gas or the like may be applied to each of the facing surfaces of the laminates in order to improve the tight adhesion. A pretreatment such as a plasma treatment, a glow discharge treatment, an oxidation treatment using a chemical agent, or the like can be optionally performed. Further, in the above-mentioned lamination, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an adhesive layer, an anchor coat agent layer, or the like is arbitrarily formed on each of the laminated opposing surfaces in advance. Then, surface pretreatment can be performed. Examples of the coating agent layer for the above pretreatment include polyester resin, polyamide resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenol resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl acetate resin, A resin composition containing, as a main component of the vehicle, a polyolefin resin such as polyethylene aliha polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like can be used. In the above, as a method of forming the coating agent layer, for example, a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is used, and a roll coating is used.
The coating can be performed by using a coating method such as a coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method and others.

【００５０】更にまた、本発明においては、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用
し、その太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トの無機酸
化物の蒸着膜面側の面に、上記の充填剤層を積層して、
予め、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと充填剤層
とが積層した積層体を製造し、しかる後、上記の積層体
を構成する充填剤層の面に、光起電力素子としての太陽
電池素子、充填剤層、太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トを順次に積層して、更に、必要ならば、その他の素
材を任意に積層し、次いで、それらを真空吸引等により
一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成
形法を利用し、上記の各層を一体成形体として加熱圧着
成形して、太陽電池モジュ−ルを製造することができ
る。Furthermore, in the present invention, the backside protective sheet for a solar cell module according to the present invention is used, and the surface of the backside protective sheet for a solar cell module is coated with an inorganic oxide. On the side surface, laminating the above filler layer,
A laminate in which the backsheet for solar cell module and the filler layer are laminated in advance is manufactured, and then, the surface of the filler layer constituting the laminate is provided with a photovoltaic element. The solar cell element, the filler layer, and the surface protection sheet for the solar cell module are sequentially laminated, and if necessary, other materials are optionally laminated, and then they are integrated by vacuum suction or the like. The solar cell module can be manufactured by using a normal molding method such as a lamination method in which the above-mentioned layers are formed into an integrally formed body by thermocompression bonding.

【００５１】[0051]

【実施例】以下に本発明について実施例を挙げて更に具
体的に本発明を説明する。 実施例１ （１）．厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル系樹脂シ−ト
（ＰＶＦ）を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の
送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティング
ドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウム
を蒸着源に用い、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式
による真空蒸着法により、上記のポリフッ化ビニル系樹
脂シ−トの片面に、膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着
膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着膜を形
成した直後に、そのアルミニウムの蒸着膜面に、グロ−
放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５０
０Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１
９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０
-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴ
ン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面
を形成した。 （２）．次に、上記で形成した膜厚８００Åのアルミニ
ウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、ポリウレタン系樹脂
の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤
（８．０重量％）とブロッキング防止剤（１．０重量
％）を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成
物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜
厚０．５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるようにコ−ティン
グしてプライマ−層を形成した。更に、上記で形成した
プライマ−層の面に、紫外線吸収剤として、ベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤（２．０重量％）を含有する２液硬
化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これ
を、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜
厚５．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるようにコ−ティン
グしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。 （３）．他方、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気
相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、該２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下
記の条件で厚さ８００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
た。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
た直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラ
ズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５００Ｗ、酸
素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１９：１から
なる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-5Ｔｏｏ
ｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガ
スによるプラズマ処理を行って、蒸着膜面の表面張力を
３５ｄｙｎｅより６０ｄｙｎｅに向上させてたプラズマ
処理面を形成した。 （４）．次に、上記の（２）で形成したラミネ−ト用接
着剤層の面に、上記の（３）で形成した膜厚８００Åの
酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面を対向させて、その
アルミニウムの蒸着膜を設けたポリフッ化ビニル系樹脂
シ−トと、酸化珪素の蒸着膜を設けた２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムとをドライラミネ−ト積層
して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ
−トを製造した。 （５）．次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トを使用し、厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４
００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモ
ルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置し
た厚さ３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重
合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを、その酸化珪素の蒸着膜面側の面を対向さ
せ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリ
ル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ルを製造した。EXAMPLES The present invention will be described below more specifically with reference to examples. Example 1 (1). A polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) having a thickness of 50 μm was used, mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the following conditions, an aluminum vapor deposition film having a thickness of 800 ° is formed on one surface of the polyvinyl fluoride resin sheet by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method, using aluminum as a vapor deposition source. Formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after forming the above-mentioned aluminum vapor-deposited film having a thickness of 800 °, the surface of the aluminum vapor-deposited film was glowed.
Using a discharge plasma generator, plasma output, 150
0 W, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 1
Use a mixed gas consisting of 9: 1 and a mixed gas pressure of 6 × 10
Plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at -5 Tool and a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treated surface. (2). Next, an epoxy silane coupling agent (8.0% by weight) and an antiblocking agent (1 And a well-kneaded primer-resin composition, which is gravure roll-coated so as to have a film thickness of 0.5 g / m 2 (dry state). Coating was performed to form a primer layer. Further, a two-part curable urethane-based laminating adhesive containing a benzophenone-based ultraviolet absorber (2.0% by weight) is used as an ultraviolet absorber on the surface of the primer layer formed above, This was coated by a gravure roll coating method so as to have a film thickness of 5.0 g / m 2 (in a dry state) in the same manner as described above to form a laminating adhesive layer. (3). On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus. Under the following conditions, a deposited film of silicon oxide having a thickness of 800 ° was formed. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.0 × 10 −2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 20 kW Film transport speed: 80 m / min Next, immediately after forming the above-described 800 nm-thick silicon oxide deposited film, the silicon oxide Using a glow discharge plasma generator, a plasma output of 1500 W, a mixed gas consisting of oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 19: 1, and a mixed gas pressure of 6 × 10 -5 Too
r, a plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treatment surface in which the surface tension of the vapor deposition film surface was increased from 35 dyne to 60 dyne. (4). Next, the plasma-treated surface of the silicon oxide vapor-deposited film having a thickness of 800 ° formed in (3) is opposed to the surface of the laminating adhesive layer formed in (2) above, and the aluminum And a biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with a silicon oxide vapor-deposited film and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with a silicon oxide vapor-deposited film. Back protective sheet for use was manufactured. (5). Next, a glass plate having a thickness of 3 mm and a thickness of 4
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel with a 00 μm ethylene-vinyl acetate copolymer sheet, and a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet And the backside protection sheet for a solar cell module, the surface of the silicon oxide film on the vapor-deposited film side is opposed to the backside protection sheet. The solar cell module according to the present invention was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【００５２】実施例２〜６ 上記の実施例１において、厚さ５０μｍのポリフッ化ビ
ニル系樹脂シ−ト（ＰＶＦ）を使用する代わりに、下記
に示す基材フィルムを使用し、その他は、上記の実施例
１と全く同様に行って、上記の実施例１と同様に、同様
な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モ
ジュ−ルを製造することができた。 実施例２．厚さ２０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム 実施例３．厚さ１００μｍのポリジシクロペンタジエン
樹脂シ−ト 実施例４．厚さ５０μｍのポリカ−ボネ−ト樹脂シ−ト 実施例５．厚さ５０μｍのポリアクリル系樹脂シ−ト 実施例６．厚さ２０μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムExamples 2 to 6 In the above Example 1, instead of using a 50 μm thick polyvinyl fluoride resin sheet (PVF), the following base film was used. In the same manner as in Example 1, the same back surface protection sheet and solar cell module according to the present invention could be manufactured as in Example 1. Embodiment 2. FIG. Biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm. Polydicyclopentadiene resin sheet having a thickness of 100 μm. Polycarbonate resin sheet having a thickness of 50 μm. Polyacrylic resin sheet having a thickness of 50 μm. Biaxially stretched nylon 6 film with a thickness of 20 μm

【００５３】実施例７ （１）．厚さ１００μｍのポリジシクロペンタジエン樹
脂シ−トを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングド
ラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを
蒸着源に用い、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式に
よる真空蒸着法により、上記のポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−トの片面に、膜厚８００Åのアルミニウムの
蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着膜を形
成した直後に、そのアルミニウムの蒸着膜面に、グロ−
放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５０
０Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１
９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０
-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴ
ン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面
を形成した。 （２）．次に、上記で形成した膜厚８００Åのアルミニ
ウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、ポリウレタン系樹脂
の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤
（８．０重量％）とブロッキング防止剤（１．０重量
％）を添加し、十分に混練してなるプライマ−樹脂組成
物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜
厚０．５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるようにコ−ティン
グしてプライマ−層を形成した。更に、上記で形成した
プライマ−層の面に、紫外線吸収剤として、超微粒子酸
化チタン（粒子径、０．０１〜０．０６μｍ、３重量
％）を含有する２液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接
着剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ル
コ−ト法により、膜厚５．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にな
るようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成
した。 （３）．他方、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−
トフィルムのコロナ処理面に、膜厚８００Åの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面
に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出
力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａ
ｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧
６×１０-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素
／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズ
マ処理面を形成した。 （４）．次に、上記の（２）で形成したラミネ−ト用接
着剤層の面に、上記の（３）で形成した膜厚８００Åの
酸化アルミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面とを対向さ
せて、アルミニウムの蒸着膜を設けたポリジシクロペン
タジエン樹脂シ−トと、酸化アルミニウムの蒸着膜を設
けた２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムとを
ドライラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。 （５）．次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トを使用し、厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４
００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモ
ルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置し
た厚さ３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重
合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを、その酸化アルミニウムの蒸着膜面側の面
を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。Embodiment 7 (1). A polydicyclopentadiene resin sheet having a thickness of 100 μm was used, and the sheet was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then was fed out onto a coating drum under the following conditions. Then, an aluminum vapor-deposited film having a film thickness of 800 ° was formed on one surface of the polydicyclopentadiene resin sheet by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method, using aluminum as a vapor deposition source. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after forming the above-mentioned aluminum vapor-deposited film having a thickness of 800 °, the surface of the aluminum vapor-deposited film was glowed.
Using a discharge plasma generator, plasma output, 150
0 W, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 1
Use a mixed gas consisting of 9: 1 and a mixed gas pressure of 6 × 10
Plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at -5 Tool and a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treated surface. (2). Next, an epoxy silane coupling agent (8.0% by weight) and an antiblocking agent (1 And a well-kneaded primer-resin composition, which is gravure roll-coated so as to have a film thickness of 0.5 g / m 2 (dry state). Coating was performed to form a primer layer. Further, on the surface of the primer layer formed above, a two-part curable urethane-based laminating material containing ultrafine titanium oxide (particle size, 0.01 to 0.06 μm, 3% by weight) as an ultraviolet absorber. The adhesive for laminating is coated by a gravure roll coating method so as to have a film thickness of 5.0 g / m 2 (dry state) in the same manner as described above. An agent layer was formed. (3). On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm was used, mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the conditions, while using aluminum as the evaporation source and supplying oxygen gas,
The above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate was prepared by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method.
An aluminum oxide deposited film having a thickness of 800 ° was formed on the corona-treated surface of the film. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after the above-described 800-nm-thick aluminum oxide vapor-deposited film was formed, a plasma output of 1500 W and oxygen gas (O 2) were applied to the aluminum oxide vapor-deposited film surface using a glow discharge plasma generator. ): Argon gas (A
r) = 19: 1, a plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Tool and a processing speed of 420 m / min to form a plasma treated surface. (4). Next, the surface of the laminating adhesive layer formed in the above (2) was made to face the plasma-treated surface of the 800 .ANG. And a biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with an aluminum oxide vapor-deposited film are laminated by dry lamination to form a solar cell module according to the present invention. A back protection sheet was manufactured. (5). Next, a glass plate having a thickness of 3 mm and a thickness of 4
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which solar cell elements made of an amorphous silicon are arranged in parallel, and a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet And the backside protection sheet for a solar cell module, the surface on the side of the aluminum oxide vapor-deposited film is opposed to the backside protection sheet for the solar cell module. The solar cell module according to the present invention was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【００５４】実施例８〜１２ 上記の実施例７において、厚さ１００μｍのポリジシク
ロペンタジエン樹脂シ−トを使用する代わりに、下記に
示す基材フィルムを使用し、その他は、上記の実施例７
と全く同様に行って、上記の実施例７と同様に、同様な
本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジ
ュ−ルを製造することができた。 実施例８．厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル系樹脂シ−
ト（ＰＶＦ） 実施例９．厚さ２０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム 実施例１０．厚さ５０μｍのポリカ−ボネ−ト樹脂シ−
ト 実施例１１．厚さ５０μｍのポリアクリル系樹脂シ−ト 実施例１２．厚さ２５μｍの２軸延伸ナイロン６フィル
ムExamples 8 to 12 Instead of using the polydicyclopentadiene resin sheet having a thickness of 100 μm in Example 7 described above, the following base film was used.
In the same manner as in Example 7, similar back surface protection sheets and solar cell modules according to the present invention could be manufactured. Embodiment 8 FIG. 50μm thick polyvinyl fluoride resin screen
Example 9 (PVF) Example 10: Biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 µm 50μm thick polycarbonate resin sheet
G. Embodiment 11 FIG. Example 12 Polyacrylic resin sheet having a thickness of 50 μm 25 μm thick biaxially oriented nylon 6 film

【００５５】実施例１３ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出
しロ−ルに装着し、該２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で膜厚５０
Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設
けた。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝５：５：５（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：７．０×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：３．８×１０-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：１５ｋＷ シ−トの搬送速度：１００ｍ／分 次に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施
例１と同様にして、膜厚８００Åの酸化珪素の蒸着膜を
形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処理
面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜を設けた２軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そ
れ以外は、上記の実施例１と全く同様に行って、上記の
実施例１と同様に、同様な本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ル
を製造することができた。Embodiment 13 (1). Example of manufacturing a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used. A film having a thickness of 50 on the corona-treated surface of the polyethylene terephthalate film under the following conditions.
A vapor-deposited thin film of silicon oxide was formed to provide a vapor deposition-resistant protective film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 5: 5: 5 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Vacuum degree: 3.8 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 15 kW Sheet transfer speed: 100 m / min Next, the above-mentioned Example 1 Similarly, an evaporated silicon oxide film having a thickness of 800 ° was formed, and a plasma-treated surface was formed on the deposited silicon oxide film. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the silicon oxide vapor-deposited film produced as described above was used. It was possible to manufacture a solar cell module back protection sheet and a solar cell module according to the present invention.

【００５６】実施例１４ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、
これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着
し、次いで、コ−ティングドラムの上に繰り出して、下
記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを
供給しながら、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式に
よる反応真空蒸着法により、上記の２軸延伸ナイロンフ
ィルムのコロナ処理面に、膜厚５０Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：２０ＫＷ フィルム搬送速度：５００ｍ／分 更に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施
例７と同様にして、膜厚８００Åの酸化アルミニウムの
蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面
に、プラスマ処理面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化アルミニウムの蒸着膜を設
けた２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、それ以外
は、上記の実施例７と全く同様に行って、上記の実施例
７と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、お
よび、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。Embodiment 14 (1). Production Example of Base Film Provided with Inorganic Oxide Evaporated Film Using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm,
This was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the following conditions, aluminum was used as an evaporation source, and an electron beam was supplied while supplying oxygen gas. A vapor-deposited thin film of aluminum oxide having a thickness of 50 ° was formed on the corona-treated surface of the biaxially stretched nylon film by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating method (EB) to provide a vapor-deposited protective film. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 20 KW Film transport speed: 500 m / Further, an aluminum oxide deposited film having a film thickness of 800 ° was formed on the above deposited anti-evaporation protective film in the same manner as in Example 7 above. A treated surface was formed. (2). The biaxially stretched nylon 6 film provided with the aluminum oxide vapor-deposited film produced above was used. Except for the above, the same procedure was performed as in Example 7 above, and the same book as in Example 7 was used. The back surface protection sheet and the solar cell module according to the present invention could be manufactured.

【００５７】実施例１５ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、そのコロナ処理面に、１×１０-4Ｔｏ
ｒｒの真空下、高周波誘電加熱方式で純度９９．９％の
一酸化珪素（ＳｉＯ）を加熱蒸発させ、５００Åの酸化
珪素の蒸着膜を形成した。次に、上記で膜厚５００Åの
酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸
着膜面に、出力、１０ｋＷ、処理速度１００ｍ／ｍｉｎ
でコロナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を３５
ｄｙｎｅより６０ｄｙｎｅに向上させてたコロナ処理面
を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜を設けた２軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そ
れ以外は、上記の実施例１と全く同様に行って、上記の
実施例１と同様に、同様な本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用裏面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ル
を製造することができた。Embodiment 15 (1). Example of manufacturing a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and the corona-treated surface was 1 × 10 −4 To.
Under a vacuum of rr, silicon monoxide (SiO) having a purity of 99.9% was heated and evaporated by a high-frequency dielectric heating method to form a vapor-deposited silicon oxide film of 500 °. Next, immediately after forming the above-mentioned silicon oxide vapor deposition film having a film thickness of 500 °, an output of 10 kW and a processing speed of 100 m / min were applied to the silicon oxide vapor deposition film surface.
To perform a corona discharge treatment to reduce the surface tension of the deposited film surface to 35.
A corona-treated surface improved from dyne to 60 dyne was formed. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the silicon oxide vapor-deposited film produced as described above was used. It was possible to manufacture a solar cell module back protection sheet and a solar cell module according to the present invention.

【００５８】実施例１６ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、上記の実施例１と同様にして、膜厚５
００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪素
の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。次に、上記
で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の上に、
上記の実施例７と同様にして、膜厚５００Åの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウム
の蒸着膜面に、プラスマ処理面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜と酸化アルミ
ニウムの蒸着膜を設けた２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを使用し、それ以外は、上記の実施例７
と全く同様に行って、上記の実施例７と同様に、同様な
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、
および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。Embodiment 16 (1). Production Example of Base Film Provided with Vapor Inorganic Oxide Film A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used in the same manner as in Example 1 described above.
A deposited film of silicon oxide having a thickness of 00 ° was formed, and a plasma-treated surface was formed on the deposited film of silicon oxide. Next, on the plasma-treated surface of the deposited silicon oxide film formed above,
In the same manner as in Example 7, an aluminum oxide deposited film having a thickness of 500 ° was formed, and a plasma-treated surface was formed on the aluminum oxide deposited film surface. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the deposited silicon oxide film and the aluminum oxide deposited film produced above was used.
In the same manner as in Example 7 described above, a similar back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention,
And a solar cell module was able to be manufactured.

【００５９】実施例１７ （１）．厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル系樹脂シ−ト
（ＰＶＦ）を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の
送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティング
ドラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウム
を蒸着源に用い、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式
による真空蒸着法により、上記のポリフッ化ビニル系樹
脂シ−トの片面に、膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着
膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着膜を形
成した直後に、そのアルミニウムの蒸着膜面に、グロ−
放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５０
０Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１
９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０
-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴ
ン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面
を形成した。 （２）．次に、上記で形成した膜厚８００Åのアルミニ
ウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、２液硬化型のウレタ
ン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様
に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．１ｇ／ｍ
2 （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてアンカ−
コ−ト剤層を形成した。 （３）．他方、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気
相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、該２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、下
記の条件で厚さ８００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
た。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
た直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラ
ズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５００Ｗ、酸
素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１９：１から
なる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０-5Ｔｏｒ
ｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガ
スによるプラズマ処理を行って、蒸着膜面の表面張力を
３５ｄｙｎｅより６０ｄｙｎｅに向上させたプラズマ処
理面を形成した。 （４）．次に、上記の（２）で形成したアンカ−コ−ト
剤層の面と、上記の（３）で形成した膜厚８００Åの酸
化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面とを対向させ、その層
間に、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α
・オレフィン共重合体７５重量部に、紫外線吸収剤とし
ての超微粒子酸化チタン（粒子径、０．０１〜０．０６
μｍ、３重量％）とを添加し、その他、所要の添加剤を
添加し、十分に混練して樹脂組成物を調製し、次いで、
上記で調製した樹脂組成物を使用し、これらを、Ｔダイ
押出機を使用して溶融押し出して、アルミニウムの蒸着
膜を設けたポリフッ化ビニル系樹脂シ−トと、酸化珪素
の蒸着膜を設けた２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム溶融押し出しラミネ−ト積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。 （５）．次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トを使用し、厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４
００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモ
ルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置し
た厚さ３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重
合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを、その酸化珪素の蒸着膜面側の面を対向さ
せ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向けて、アクリ
ル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ルを製造した。Embodiment 17 (1). A polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) having a thickness of 50 μm was used, mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the following conditions, an aluminum vapor deposition film having a thickness of 800 ° is formed on one surface of the polyvinyl fluoride resin sheet by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method, using aluminum as a vapor deposition source. Formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after forming the above-mentioned aluminum vapor-deposited film having a thickness of 800 °, the surface of the aluminum vapor-deposited film was glowed.
Using a discharge plasma generator, plasma output, 150
0 W, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 1
Use a mixed gas consisting of 9: 1 and a mixed gas pressure of 6 × 10
Plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at -5 Tool and a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treated surface. (2). Next, on the plasma-treated surface of the deposited aluminum film having a film thickness of 800 ° formed above, an initial condensate of a two-component curable polyurethane-based resin, an epoxy-based silane coupling agent (8.0% by weight) were added. A primer resin composition obtained by adding an antiblocking agent (1.0% by weight) and kneading well is used, and this is subjected to a gravure roll coating method to form a film having a thickness of 0.5 g / m 2 (dry state). ) To form a primer layer. Further, on the surface of the primer layer formed as described above, a two-part curable urethane-based anchor coating agent was used. 1g / m
2 Anchor by coating so that it is (dry)
A coating agent layer was formed. (3). On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus. Under the following conditions, a deposited film of silicon oxide having a thickness of 800 ° was formed. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.0 × 10 −2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 20 kW Film transport speed: 80 m / min Next, immediately after forming the above-described 800 nm-thick silicon oxide deposited film, the silicon oxide Using a glow discharge plasma generator, a plasma output of 1500 W, a mixed gas consisting of oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 19: 1, and a mixed gas pressure of 6 × 10 -5 Tor
r, plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treated surface in which the surface tension of the vapor-deposited film surface was improved from 35 dyne to 60 dyne. (4). Next, the surface of the anchor coating agent layer formed in the above (2) and the plasma-treated surface of the 800 .ANG.-thick silicon oxide deposited film formed in the above (3) are opposed to each other. Ethylene-α polymerized using a metallocene catalyst
Ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06) as an ultraviolet absorber is added to 75 parts by weight of the olefin copolymer.
μm, 3% by weight), and other necessary additives, kneading well to prepare a resin composition,
Using the resin compositions prepared above, they are melt-extruded using a T-die extruder to provide a polyvinyl fluoride resin sheet provided with an aluminum deposited film and a silicon oxide deposited film. The resulting biaxially stretched polyethylene terephthalate film was melt-extruded and laminated to produce a backside protective sheet for a solar cell module according to the present invention. (5). Next, a glass plate having a thickness of 3 mm and a thickness of 4
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which solar cell elements made of amorphous silicon are arranged in parallel with a 00 μm ethylene-vinyl acetate copolymer sheet, and a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet And the backside protection sheet for a solar cell module, the surface of the silicon oxide film on the vapor-deposited film side is opposed to the backside protection sheet. The solar cell module according to the present invention was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【００６０】実施例１８ （１）．厚さ１００μｍのポリジシクロペンタジエン樹
脂シ−トを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングド
ラムの上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを
蒸着源に用い、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式に
よる真空蒸着法により、上記のポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−トの片面に、膜厚８００Åのアルミニウムの
蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åのアルミニウムの蒸着膜を形
成した直後に、そのアルミニウムの蒸着膜面に、グロ−
放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、１５０
０Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝１
９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧６×１０
-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴ
ン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズマ処理面
を形成した。 （２）．次に、上記で形成した膜厚８００Åのアルミニ
ウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、２液硬化型のウレタ
ン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様
に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．１ｇ／ｍ
2 （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてアンカ−
コ−ト剤層を形成した。 （３）．他方、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−
トフィルムのコロナ処理面に、膜厚８００Åの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面
に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出
力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａ
ｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧
６×１０-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素
／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズ
マ処理面を形成した。 （４）．次に、上記の（２）で形成したアンカ−コ−ト
剤層の面と、上記の（３）で形成した膜厚８００Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面とを対向さ
せ、その層間に、線状（直鎖状）低密度ポリエチレン５
０重量部に、紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン
（粒子径、０．０１〜０．０６μｍ、３重量％）とを添
加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練して
樹脂組成物を調製し、次いで、上記で調製した樹脂組成
物を使用し、これらを、Ｔダイ押出機を使用して溶融押
し出して、アルミニウムの蒸着膜を設けたポリジシクロ
ペンタジエン樹脂シ−トと、酸化アルミニウムの蒸着膜
を設けた２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
溶融押し出しラミネ−ト積層して、本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを製造した。 （５）．次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トを使用し、厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４
００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモ
ルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置し
た厚さ３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重
合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを、その酸化アルミニウムの蒸着膜面側の面
を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。Embodiment 18 (1). A polydicyclopentadiene resin sheet having a thickness of 100 μm was used, and the sheet was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then was fed out onto a coating drum under the following conditions. Then, an aluminum vapor-deposited film having a film thickness of 800 ° was formed on one surface of the polydicyclopentadiene resin sheet by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method, using aluminum as a vapor deposition source. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after forming the above-mentioned aluminum vapor-deposited film having a thickness of 800 °, the surface of the aluminum vapor-deposited film was glowed.
Using a discharge plasma generator, plasma output, 150
0 W, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 1
Use a mixed gas consisting of 9: 1 and a mixed gas pressure of 6 × 10
Plasma treatment was performed with an oxygen / argon mixed gas at -5 Tool and a treatment speed of 420 m / min to form a plasma treated surface. (2). Next, on the plasma-treated surface of the deposited aluminum film having a film thickness of 800 ° formed above, an initial condensate of a two-component curable polyurethane-based resin, an epoxy-based silane coupling agent (8.0% by weight) were added. A primer resin composition obtained by adding an antiblocking agent (1.0% by weight) and kneading well is used, and this is subjected to a gravure roll coating method to form a film having a thickness of 0.5 g / m 2 (dry state). ) To form a primer layer. Further, on the surface of the primer layer formed as described above, a two-part curable urethane-based anchor coating agent was used. 1g / m
2 Anchor by coating so that it is (dry)
A coating agent layer was formed. (3). On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm was used, mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the conditions, while using aluminum as the evaporation source and supplying oxygen gas,
The above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate was prepared by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method.
An aluminum oxide deposited film having a thickness of 800 ° was formed on the corona-treated surface of the film. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after the above-described 800-nm-thick aluminum oxide vapor-deposited film was formed, a plasma output of 1500 W and oxygen gas (O 2) were applied to the aluminum oxide vapor-deposited film surface using a glow discharge plasma generator. ): Argon gas (A
r) = 19: 1, using a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Torr and a processing speed of 420 m / min to perform a plasma treatment with an oxygen / argon mixed gas to form a plasma treated surface. (4). Next, the surface of the anchor coating agent layer formed in the above (2) and the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide film having a thickness of 800 ° formed in the above (3) are opposed to each other. In addition, linear (linear) low density polyethylene 5
Ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm, 3% by weight) as an ultraviolet absorber is added to 0 parts by weight, and other necessary additives are added and kneaded well. A resin composition was prepared, and then the resin composition prepared above was melt-extruded using a T-die extruder to obtain a polydicyclopentadiene resin sheet provided with a deposited aluminum film. Then, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with a vapor-deposited film of aluminum oxide was melt-extruded and laminated to produce a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention. (5). Next, a glass plate having a thickness of 3 mm and a thickness of 4
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which solar cell elements made of an amorphous silicon are arranged in parallel, and a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet And the backside protection sheet for a solar cell module, the surface on the side of the aluminum oxide vapor-deposited film is opposed to the backside protection sheet for the solar cell module. The solar cell module according to the present invention was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【００６１】実施例１９ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出
しロ−ルに装着し、該２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムのコロナ処理面に、下記の条件で膜厚５０
Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設
けた。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝５：５：５（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：７．０×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：３．８×１０-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：１５ｋＷ シ−トの搬送速度：１００ｍ／分 次に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施
例１７と同様にして、膜厚８００Åの酸化珪素の蒸着膜
を形成し、更に、該酸化珪素の蒸着膜面に、プラズマ処
理面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜を設けた２軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そ
れ以外は、上記の実施例１７と全く同様に行って、上記
の実施例１７と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護
シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することが
できた。Embodiment 19 (1). Example of manufacturing a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used. A film having a thickness of 50 on the corona-treated surface of the polyethylene terephthalate film under the following conditions.
A vapor-deposited thin film of silicon oxide was formed to provide a vapor deposition-resistant protective film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 5: 5: 5 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.0 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 3.8 × 10 −2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 15 kW Sheet conveyance speed: 100 m / min Next, the above Example 17 Similarly, an evaporated silicon oxide film having a thickness of 800 ° was formed, and a plasma-treated surface was formed on the deposited silicon oxide film. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the silicon oxide vapor-deposited film produced as described above was used. It was possible to manufacture a back protection sheet and a solar cell module according to the present invention.

【００６２】実施例２０ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、
これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着
し、次いで、コ−ティングドラムの上に繰り出して、下
記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを
供給しながら、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式に
よる反応真空蒸着法により、上記の２軸延伸ナイロンフ
ィルムのコロナ処理面に、膜厚５０Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸着保護膜を設けた。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：２０ＫＷ フィルム搬送速度：５００ｍ／分 更に、上記で形成した耐蒸着保護膜の上に、上記の実施
例１８と同様にして、膜厚８００Åの酸化アルミニウム
の蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜
面に、プラズマ処理面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化アルミニウムの蒸着膜を設
けた２軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、それ以外
は、上記の実施例１８と全く同様に行って、上記の実施
例１８と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護シ−
ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することができ
た。Embodiment 20 (1). Production Example of Base Film Provided with Inorganic Oxide Evaporated Film Using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm,
This was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the following conditions, aluminum was used as an evaporation source, and an electron beam was supplied while supplying oxygen gas. A vapor-deposited thin film of aluminum oxide having a thickness of 50 ° was formed on the corona-treated surface of the biaxially stretched nylon film by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating method (EB) to provide a vapor-deposited protective film. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 20 KW Film transport speed: 500 m / Further, an aluminum oxide deposited film having a film thickness of 800 ° was formed on the deposited anti-evaporation protective film in the same manner as in Example 18 above. A treated surface was formed. (2). The biaxially stretched nylon 6 film provided with the vapor-deposited film of aluminum oxide produced above was used. Backside protection sheet according to the invention
And a solar cell module could be manufactured.

【００６３】実施例２１ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、そのコロナ処理面に、１×１０-4Ｔｏ
ｒｒの真空下、高周波誘電加熱方式で純度９９．９％の
一酸化珪素（ＳｉＯ）を加熱蒸発させ、５００Åの酸化
珪素の蒸着膜を形成した。次に、上記で膜厚５００Åの
酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸
着膜面に、出力、１０ｋＷ、処理速度１００ｍ／ｍｉｎ
でコロナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を３５
ｄｙｎｅより６０ｄｙｎｅに向上させてたコロナ処理面
を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜を設けた２軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、そ
れ以外は、上記の実施例１７と全く同様に行って、上記
の実施例１７と同様に、同様な本発明にかかる裏面保護
シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造することが
できた。Embodiment 21 (1). Example of manufacturing a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, and the corona-treated surface was 1 × 10 −4 To.
Under a vacuum of rr, silicon monoxide (SiO) having a purity of 99.9% was heated and evaporated by a high-frequency dielectric heating method to form a vapor-deposited silicon oxide film of 500 °. Next, immediately after forming the above-mentioned silicon oxide vapor deposition film having a film thickness of 500 °, an output of 10 kW and a processing speed of 100 m / min were applied to the silicon oxide vapor deposition film surface.
To perform a corona discharge treatment to reduce the surface tension of the deposited film surface to 35.
A corona-treated surface improved from dyne to 60 dyne was formed. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the silicon oxide vapor-deposited film produced as described above was used. It was possible to manufacture a back protection sheet and a solar cell module according to the present invention.

【００６４】実施例２２ （１）．無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの製
造例 厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムを使用し、上記の実施例１７と同様にして、膜厚
５００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該酸化珪
素の蒸着膜面に、プラズマ処理面を形成した。次に、上
記で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の上
に、上記の実施例１８と同様にして、膜厚５００Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、該酸化アルミ
ニウムの蒸着膜面に、プラスマ処理面を形成した。 （２）．上記で製造した酸化珪素の蒸着膜と酸化アルミ
ニウムの蒸着膜とを設けた２軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムを使用し、それ以外は、上記の実施例
１８と全く同様に行って、上記の実施例１８と同様に、
同様な本発明にかかる裏面保護シ−ト、および、太陽電
池モジュ−ルを製造することができた。Embodiment 22 (1). Example of manufacturing a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film A 500-mm-thick silicon oxide vapor-deposited film was formed in the same manner as in Example 17 using a biaxially oriented polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm. Was formed, and a plasma-treated surface was formed on the surface of the deposited silicon oxide film. Next, on the plasma-treated surface of the silicon oxide deposited film formed above, an aluminum oxide deposited film having a thickness of 500 ° was formed in the same manner as in Example 18 above. A plasma treated surface was formed on the film surface. (2). The biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with the silicon oxide vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film produced above was used. As in Example 18,
A similar backside protection sheet and solar cell module according to the present invention could be manufactured.

【００６５】実施例２３ （１）．まず、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂に、
白色顔料としての酸化チタン（８重量％）と紫外線吸収
剤としての超微粒子酸化チタン（粒子径、０．０１〜
０．０６μｍ、３重量％）とを添加し、その他、所要の
添加剤を添加し、十分に混練して着色樹脂組成物を調製
した。次に、上記で調製した着色樹脂組成物を使用し、
これをカレンダ−方式により、厚さ５０μｍのポリフッ
化ビニル系樹脂シ−ト（ＰＶＦ）の一方の面に、押し出
して、膜厚４０μｍの着色膜を形成した。 （２）．次に、上記で形成した膜厚４０μｍの着色膜の
面に、２液硬化型のポリウレタン系樹脂の初期縮合物
に、エポキシ系のシランカップリング剤（８．０重量
％）とブロッキング防止剤（１．０重量％）を添加し、
十分に混練してなるプライマ−樹脂組成物を使用し、こ
れをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．５ｇ／ｍ
2 （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてプライマ
−層を形成した。更に、上記で形成したプライマ−層の
面に、２液硬化型のウレタン系アンカ−コ−ト剤を使用
し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法に
より、膜厚０．１ｇ／ｍ2 （乾燥状態）になるようにコ
−ティングしてアンカ−コ−ト剤層を形成した。 （３）．他方、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−
トフィルムのコロナ処理面に、膜厚８００Åの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚８００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面
に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出
力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａ
ｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧
６×１０-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素
／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行ってプラズ
マ処理面を形成した。 （４）．次に、上記の（２）で形成したアンカ−コ−ト
剤層の面と、上記の（３）で形成した膜厚８００Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面とを対向さ
せ、その層間に、線状（直鎖状）低密度ポリエチレン７
５重量部に、紫外線吸収剤としての超微粒子酸化チタン
（粒子径、０．０１〜０．０６μｍ、３重量％）とを添
加し、その他、所要の添加剤を添加し、十分に混練して
樹脂組成物を調製し、次いで、上記で調製した樹脂組成
物を使用し、これらを、Ｔダイ押出機を使用して溶融押
し出して、着色膜を設けたポリフッ化ビニル系樹脂シ−
トと、酸化アルミニウムの蒸着膜を設けた２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム溶融押し出しラミネ−
ト積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを製造した。 （５）．次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トを使用し、厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４
００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモ
ルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置し
た厚さ３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重
合体シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−トを、その酸化アルミニウムの蒸着膜面側の面
を対向させ、更に、上記の太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。Embodiment 23 (1). First, ethylene-vinyl acetate copolymer resin,
Titanium oxide (8% by weight) as a white pigment and ultrafine titanium oxide (particle size, 0.01 to
0.06 μm, 3% by weight), and other necessary additives, and kneaded well to prepare a colored resin composition. Next, using the colored resin composition prepared above,
This was extruded by a calendar method onto one surface of a polyvinyl fluoride resin sheet (PVF) having a thickness of 50 μm to form a colored film having a thickness of 40 μm. (2). Next, on the surface of the colored film having a thickness of 40 μm formed above, an initial condensate of a two-component curable polyurethane-based resin, an epoxy-based silane coupling agent (8.0% by weight) and an anti-blocking agent ( 1.0% by weight)
A sufficiently kneaded primer-resin composition is used, and this is applied to a film thickness of 0.5 g / m by a gravure roll coating method.
2 (dry state) to form a primer layer. Further, a two-part curable urethane-based anchor coating agent was used on the surface of the primer layer formed as described above, and was coated with a gravure roll coating method to form a film having a film thickness of 0.1%. Coating was performed so as to be 1 g / m 2 (dry state) to form an anchor coating agent layer. (3). On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm was used, mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out onto a coating drum. Under the conditions, while using aluminum as the evaporation source and supplying oxygen gas,
The above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate was prepared by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method.
An aluminum oxide deposited film having a thickness of 800 ° was formed on the corona-treated surface of the film. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Immediately after the above-described 800-nm-thick aluminum oxide vapor-deposited film was formed, a plasma output of 1500 W and oxygen gas (O 2) were applied to the aluminum oxide vapor-deposited film surface using a glow discharge plasma generator. ): Argon gas (A
r) = 19: 1, using a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Torr and a processing speed of 420 m / min to perform a plasma treatment with an oxygen / argon mixed gas to form a plasma treated surface. (4). Next, the surface of the anchor coating agent layer formed in the above (2) and the plasma-treated surface of the deposited aluminum oxide film having a thickness of 800 ° formed in the above (3) are opposed to each other. In addition, linear (linear) low density polyethylene 7
5 parts by weight of ultrafine titanium oxide (particle diameter, 0.01 to 0.06 μm, 3% by weight) as an ultraviolet absorber, and other necessary additives are added, and the mixture is sufficiently kneaded. A resin composition was prepared, and then the resin composition prepared above was melt-extruded using a T-die extruder to obtain a polyvinyl fluoride resin screen provided with a colored film.
And a biaxially stretched polyethylene terephthalate film provided with a deposited film of aluminum oxide.
Then, a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention was manufactured. (5). Next, a glass plate having a thickness of 3 mm and a thickness of 4
A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which solar cell elements made of an amorphous silicon are arranged in parallel, and a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet And the backside protection sheet for a solar cell module, the surface on the side of the aluminum oxide vapor-deposited film is opposed to the backside protection sheet for the solar cell module. The solar cell module according to the present invention was manufactured by laminating through a resin adhesive layer.

【００６６】比較例１ 厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ４００μ
ｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚
さ５０μｍの白色の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−
トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジ
ュ−ルを製造した。Comparative Example 1 A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate having a 3 mm-thick glass plate, a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet, and a solar cell element made of amorphous silicon arranged in parallel. -Film, thickness 400μ
m-ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and 50 μm thick white biaxially stretched polyethylene terephthalate
The solar cell module was manufactured by laminating a photo film with the solar cell element surface facing upward through an adhesive layer of an acrylic resin.

【００６７】比較例２ 厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ４００μ
ｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚
さ５０μｍの白色のポリフッ化ビニル樹脂シ−トを対向
させて、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジ
ュ−ルを製造した。COMPARATIVE EXAMPLE 2 A 38 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate having a 3 mm-thick glass plate, a 400 μm-thick ethylene-vinyl acetate copolymer sheet, and a solar cell element made of amorphous silicon arranged in parallel. -Film, thickness 400μ
m of an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and a 50 μm-thick white polyvinyl fluoride resin sheet are opposed to each other, and the solar cell element surface thereof faces upward. The solar cell module was manufactured by laminating through an adhesive layer.

【００６８】実験例 上記の実施例１〜２３で製造した本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−トと比較例１〜２にかかる
裏面保護シ−トについて、反射率を測定し、また、上記
の実施例１〜２３で製造した太陽電池モジュ−ルと比較
例１〜２で製造した太陽電池モジュ−ルについて太陽電
池モジュ−ル評価試験を行った。 （１）．反射率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例１〜２３で製
造した本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ
−トと比較例１〜２にかかる裏面保護シ−トについて、
分光光度計により、波長５５０ｎｍの光線に対する反射
率（％）を測定した。 （２）．太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、ＪＩＳ規格Ｃ８９１７−１９８９に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 （３）．水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例１〜２３で製造した本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと比較例１〜
２にかかる裏面保護シ−トについて、温度４０℃、湿度
９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製
の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡ
Ｎ）〕にて測定し、更に、酸素透過度は、上記と同様の
対象物について、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件
で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種
名、オクストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕にて測定した。 （４）．積層強度の測定 これは、裏面保護シ−トを１５ｍｍ巾に裁断し、引っ張
り試験機〔エ−・アンド・デ−（Ａ＆Ｄ）株式会社製
機種名 テンシロン）を用いて、裏面保護シ−トを構成
する積層体の剥離強度を測定した。上記の測定結果につ
いて下記の表１に示す。EXPERIMENTAL EXAMPLES The reflectances of the backside protection sheets for solar cell modules according to the present invention manufactured in Examples 1 to 23 and the backside protection sheets according to Comparative Examples 1 and 2 were measured. Further, a solar cell module evaluation test was performed on the solar cell modules manufactured in Examples 1 to 23 and the solar cell modules manufactured in Comparative Examples 1 and 2. (1). Measurement of reflectivity This is based on the base film, which is the back protection sheet for the solar cell module according to the present invention manufactured in Examples 1 to 23 and the back protection sheet according to Comparative Examples 1 and 2. about,
The reflectance (%) with respect to a light having a wavelength of 550 nm was measured with a spectrophotometer. (2). Solar cell module evaluation test This is based on JIS standard C8917-1989.
An environmental test of the solar cell module was performed, and the output of the photovoltaic power before and after the test was measured and compared and evaluated. (3). Measurement of Water Vapor Permeability and Oxygen Permeability The water vapor permeability was determined by comparing the back surface protection sheet for solar cell modules according to the present invention produced in Examples 1 to 23 with Comparative Examples 1 to 3.
2 under a condition of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% [model name, PERMATRA (PERMATRA)]
N)], and the oxygen permeability was measured using the same object as described above under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH. OXTRAN]. (4). Measurement of lamination strength This is to cut the back protection sheet into a width of 15 mm and use a tensile tester [A & D (A & D) Co., Ltd.]
(Model name: Tensilon), the peel strength of the laminate constituting the back surface protection sheet was measured. The results of the above measurements are shown in Table 1 below.

【００６９】 上記の表１において、光線反射率の単位は、〔％〕であ
り、水蒸気バリア性の単位は、〔ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ・４
０℃・１００％ＲＨ〕であり、酸素バリア性の単位は、
〔ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ・２３℃・９０％ＲＨ〕であり、
出力低下率の単位は、〔％〕であり、積層強度の単位
は、〔ｋｇ／１５ｍｍ巾〕である。[0069] In Table 1 above, the unit of the light reflectance is [%], and the unit of the water vapor barrier property is [g / m 2 / day · 4.
0 ° C./100% RH], and the oxygen barrier unit is
[Cc / m 2 / day · 23 ° C. · 90% RH]
The unit of the output reduction rate is [%], and the unit of the lamination strength is [kg / 15 mm width].

【００７０】上記の表１に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例１〜２３にかかる太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−トは、反射率が高く、また、水蒸気バリア
性、酸素バリア性、および、積層強度に優れていた。更
に、上記の実施例１〜２３にかかる太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トを用いた太陽電池モジュ−ルは、出力
低下率も低いものであった。これに対し、比較例１〜２
にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トは、反射率
は、高いものの、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低
く、そのために、それを用いて製造した太陽電池モジュ
−ルは、出力低下率が高い等の問題点がある。As is clear from the measurement results shown in Table 1 above, the back protective sheets for solar cell modules according to Examples 1 to 23 have a high reflectance, a water vapor barrier property and an oxygen barrier property. Excellent in properties and lamination strength. Furthermore, the solar cell module using the back surface protection sheet for solar cell modules according to Examples 1 to 23 described above also had a low output reduction rate. On the other hand, Comparative Examples 1 and 2
Although the solar cell module protection sheet according to the present invention has a high reflectance, it has low water vapor barrier properties and oxygen barrier properties. Is high.

【００７１】[0071]

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
基材フィルムの一方の面に、アルミニウム等の金属によ
る遮光性金属蒸着膜、あるいは、遮光性着色膜等からな
る遮光性膜を設け、他方、別の基材フィルムの一方の面
に、酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等のガラス
質からなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア
性等に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記で
遮光性膜を設けた基材フィルムと、無機酸化物の蒸着膜
を設けた基材フィルムとを、ラミネ−ト用接着剤層等を
介して、積層して太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト
を製造し、而して、該太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ
−トを使用し、例えば、ガラス板等からなる通常の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力
素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、上記の
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、その無機酸化
物の蒸着膜面側を対向させて順次に積層し、次いで、こ
れらを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等を利用して一体化成形して太陽電池モジュ−ルを
製造したところ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、
耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防汚
性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等の侵
入を防止する防湿性に優れ、また、光反射性、光拡散
性、意匠性等についても著しく向上させ、その長期的な
性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護能
力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジ
ュ−ルを安定的に製造し得ることができるというもので
ある。As is apparent from the above description, the present invention provides:
On one surface of the base film, a light-shielding metal vapor-deposited film of a metal such as aluminum, or a light-shielding film made of a light-shielding colored film is provided. On the other hand, silicon oxide is formed on one surface of another base film. Or, or a transparent glass made of glass such as aluminum oxide, and provided a vapor-deposited film of an inorganic oxide excellent in water vapor barrier properties, oxygen barrier properties, and the like, and a base film provided with a light-shielding film as described above. And a base film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide, laminated via an adhesive layer for lamination, etc., to produce a back surface protection sheet for a solar cell module. Using the back protection sheet for a solar cell module, for example, a normal surface protection sheet for a solar cell module made of a glass plate or the like, a filler layer, and a solar cell element as a photovoltaic element , A filler layer, and the solar cell module described above. Back protective sheets are sequentially laminated with the inorganic oxide vapor-deposited film surfaces facing each other, and then integrated using a lamination method or the like in which these are integrally vacuum-sucked and heated and pressed. When the solar cell module was manufactured by chemical molding, the strength was excellent, and the weather resistance, heat resistance,
Excellent properties such as water resistance, light resistance, wind pressure resistance, hail resistance, chemical resistance, antifouling property, etc. , Light diffusing properties, design properties, etc. are significantly improved, and long-term performance deterioration is minimized, and the solar cell module is extremely durable, has excellent protection ability, and is lower in cost and safer. Can be manufactured stably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図２】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図３】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図４】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図５】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a back surface protection sheet for a solar cell module according to the present invention.

【図６】無機酸化物の蒸着膜について、他の例の層構成
を示す概略を示す概略的断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of another example of a deposited film of an inorganic oxide.

【図７】無機酸化物の蒸着膜について、他の例の層構成
を示す概略を示す概略的断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of another example of a deposited film of an inorganic oxide.

【図８】図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。FIG. 8 is a photovoltaic module manufactured using the solar cell module back protection sheet according to the present invention shown in FIG.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of the structure.

【図９】巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構
成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a take-up type vacuum evaporation apparatus.

【図１０】巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的
構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing an example of a take-up type vacuum evaporation apparatus.

【図１１】プラズマ化学蒸着装置の一例を示す概略的構
成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a plasma chemical vapor deposition apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Ａ 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト Ａ1 〜Ａ4 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト １ 基材フィルム ２ 遮光性膜 ３ 別の基材フィルム ４ 無機酸化物の蒸着膜 ４ａ 多層膜 ４ｂ 無機酸化物の蒸着膜 ４ｃ 無機酸化物の蒸着膜 ４ｄ 複合膜 ５ ラミネ−ト用接着剤層 ６ プライマ−剤層 ７ 溶融押し出し樹脂層 Ｔ 太陽電池モジュ−ル １１ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト １２ 充填剤層 １３ 太陽電池素子 １４ 充填剤層 １５（Ａ） 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トA solar cell module - for the backside Le protective sheet - DOO A 1 to A 4 solar cell module - for the backside Le protective sheet - deposition of sheet 1 substrate film 2 light-shielding film 3 by a substrate film 4 inorganic oxide film 4a Multilayer film 4b Vapor-deposited film of inorganic oxide 4c Vapor-deposited film of inorganic oxide 4d Composite film 5 Laminate adhesive layer 6 Primer agent layer 7 Melt extruded resin layer T Solar cell module 11 Solar cell module Surface protection sheet 12 Filler layer 13 Solar cell element 14 Filler layer 15 (A) Backside protection sheet for solar cell module

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大川 晃次郎 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 續木 淳朗 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 高澤 和幸 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4F100 AA20C AA20E AB10B AH02 AK17A AK17D AK25A AK25D AK41A AK41D AK42 AK45A AK45D AK46A AK46D AK51 AK51G AK52 AK80A AK80D AR00B AT00A AT00D BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA07G EH232 EH66C EH66E EJ17 EJ61 EJ65 GB90 JB01 JB07 JD04 JJ03 JK01 JL06 JL09 JL10B JN02B JN06 YY00B YY00C YY00E 5F051 AA02 AA03 AA05 AA08 AA09 AA10 BA04 BA05 BA18 DA03 DA04 DA15 EA18 GA02 GA03 JA04 JA05 JA20  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kojiro Okawa 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Atsuro Suzuki Ichigaya-cho, Ichigaya 1-1-1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Kazuyuki Takasawa 1-1-1 Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term (reference) 4F100 AA20C AA20E AB10B AH02 AK17A AK17D AK25A AK25D AK41A AK41D AK42 AK45A AK45D AK46A AK46D AK51 AK51G AK52 AK80A AK80D AR00B AT00A AT00D BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA07G EH232 EH66C EH66E EJ17 EJ61 EJ65 GB90 JB01 JB07 JD04 JJ03 JK01 JL06 JL09 JL10B JN02B JN06 YY00B YY00C YY00E 5F051 AA02 AA03 AA05 AA08 AA09 AA10 BA04 BA05 BA18 DA03 DA04 DA15 EA18 GA02 GA03 JA04 JA05 JA20

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基材フィルムの一方の面に、遮光性膜を
設け、他方、別の基材フィルムの一方の面に、無機酸化
物の蒸着膜を設け、更に、上記の遮光性膜を設けた基材
フィルムと無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムと
を積層することを特徴とする太陽電池モジュ−ル用裏面
保護シ−ト。1. A light-shielding film is provided on one surface of a base film, and a vapor-deposited film of an inorganic oxide is provided on one surface of another base film. A backside protection sheet for a solar cell module, comprising laminating the provided base film and a base film provided with an inorganic oxide deposition film. 【請求項２】 基材フィルム、または、別の基材フィル
ムが、フッ素系樹脂フィルム、環状ポリオレフィン系樹
脂フィルム、ポリカ−ボネ−ト系樹脂フィルム、ポリ
（メタ）アクリル系樹脂フィルム、ポリアミド系樹脂フ
ィルム、または、ポリエステル系樹脂フィルムからなる
ことを特徴とする上記の請求項１に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−ト。2. The base film or another base film is a fluororesin film, a cyclic polyolefin resin film, a polycarbonate resin film, a poly (meth) acrylic resin film, a polyamide resin. 2. The back protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the back protection sheet is made of a film or a polyester resin film. 【請求項３】 遮光性膜が、アルミニウムの遮光性蒸着
膜からなることを特徴とする上記の請求項１〜２に記載
する太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト。3. The back protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the light-shielding film comprises a light-shielding vapor-deposited film of aluminum. 【請求項４】 アルミニウムの遮光性蒸着膜が、膜厚１
００Å以上〜４０００Å以下からなることを特徴とする
上記の請求項３に記載する太陽電池モジュ−ル用裏面保
護シ−ト。4. A light-shielding deposited film of aluminum having a thickness of 1
The back protection sheet for a solar cell module according to claim 3, wherein the back protection sheet has a thickness of not less than 00 ° and not more than 4000 °. 【請求項５】 遮光性膜が、遮光性着色膜からなること
を特徴とする上記の請求項１〜２に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−ト。5. The back protective sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the light-shielding film comprises a light-shielding colored film. 【請求項６】 無機酸化物の蒸着膜が、無機酸化物の蒸
着膜の１層若しくは２層以上の多層膜、または、異種の
無機酸化物の蒸着膜の２層以上の複合膜からなることを
特徴とする上記の請求項１〜５に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用裏面保護シ−ト。6. The inorganic oxide vapor-deposited film is composed of one or more multilayer films of inorganic oxide vapor-deposited films, or a composite film of two or more inorganic oxide vapor-deposited films. The back surface protection sheet for a solar cell module according to any one of claims 1 to 5, characterized in that: 【請求項７】 無機酸化物の蒸着膜が、膜厚５０Å以上
〜４０００Å以下からなることを特徴とする上記の請求
項１〜６に記載する太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
ト。7. The back protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited film has a thickness of not less than 50 ° and not more than 4000 °.
G. 【請求項８】 遮光性膜を設けた基材フィルムと無機酸
化物の蒸着膜を設けた基材フィルムとが、遮光性膜の面
と、無機酸化物の蒸着膜の面とを対向させて積層される
ことを特徴とする上記の請求項１〜７に記載する太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−ト。8. A substrate film provided with a light-shielding film and a substrate film provided with a vapor-deposited inorganic oxide film, with the surface of the light-shielding film and the surface of the vapor-deposited inorganic oxide film facing each other. The back surface protection sheet for a solar cell module according to any one of claims 1 to 7, wherein the back surface protection sheet is laminated. 【請求項９】 遮光性膜を設けた基材フィルムと無機酸
化物の蒸着膜を設けた基材フィルムとが、ラミネ−ト用
接着剤層、または、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着
剤層を介して、ドライラミネ−ト法により積層されるこ
とを特徴とする上記の請求項１〜８に記載する太陽電池
モジュ−ル用裏面保護シ−ト。9. A laminating adhesive layer, or a primer agent layer and a laminating adhesive, wherein a substrate film provided with a light-shielding film and a substrate film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film are provided. 9. The back protection sheet for a solar cell module according to claim 1, wherein the back protection sheet is laminated by a dry lamination method via an agent layer. 【請求項１０】 ラミネ−ト用接着剤層が、紫外線吸収
剤を含むことを特徴とする上記の請求項９に記載する太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト。10. The back protective sheet for a solar cell module according to claim 9, wherein the laminating adhesive layer contains an ultraviolet absorber. 【請求項１１】 遮光性膜を設けた基材フィルムと無機
酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムとが、溶融押し出
し樹脂層を介して、溶融押し出しラミネ−ト法により積
層されることを特徴とする上記の請求項１〜８に記載す
る太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト。11. A method in which a base film provided with a light-shielding film and a base film provided with an inorganic oxide vapor-deposited film are laminated by a melt-extrusion laminating method via a melt-extrusion resin layer. The back surface protection sheet for a solar cell module according to any one of claims 1 to 8, which is characterized in that: 【請求項１２】 溶融押し出し樹脂層が、紫外線吸収剤
を含むことを特徴とする上記の請求項１１に記載する太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト。12. The backsheet for a solar cell module according to claim 11, wherein the melt-extruded resin layer contains an ultraviolet absorber. 【請求項１３】 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充
填剤層、および、基材フィルムの一方の面に、遮光性膜
を設け、他方、別の基材フィルムの一方の面に、無機酸
化物の蒸着膜を設け、更に、上記の遮光性膜を設けた基
材フィルムと無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルム
とを積層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用裏面保
護シ−トを、その無機酸化物の蒸着膜面側の面を対向さ
せて順次に積層し、それらを真空吸引して加熱圧着ラミ
ネ−ション法等により一体化成形体としたことを特徴と
する太陽電池モジュ−ル。13. A surface protection seal for a solar cell module.
G, a filler layer, a solar cell element as a photovoltaic element, a filler layer, and a light-shielding film provided on one surface of the base film, and on the other surface of another base film, A backside protection for a solar cell module, comprising a structure in which a vapor-deposited inorganic oxide film is provided, and a substrate film provided with the above-described light-shielding film and a substrate film provided with a vapor-deposited inorganic oxide film are laminated. The sheet is formed by sequentially laminating the sheets so that the surfaces on the side of the vapor-deposited film of the inorganic oxide are opposed to each other, and vacuum-suctioning them to form an integrated molded body by a heat-compression lamination method or the like. Battery module.
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