JP2000205758A - 誘導溶解炉及び誘導溶解方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶解時における溶解効率を低下させず、溶湯
中の流動パターンを改善して脱ガス効率を改良すること
により、溶解性能を向上させた誘導溶解炉を提供する。 【解決手段】 複数の誘導コイル１６Ａ、１６Ｂと、こ
の誘導コイル１６Ａ、１６Ｂに交流電流を通電する交流
電源１２、１４と、被溶解金属を収容する坩堝１８とを
備え、誘導電流Ｊｅにより発生する熱で被溶解金属を溶
解し、溶解した被溶解金属から脱ガスを行うようにした
誘導溶解炉１０において、交流電源として、被溶解金属
の溶解時に使用する高周波電源１４と、被溶解金属の脱
ガス時に使用する低周波電源１２を用いる構成とした。
この場合、低周波電源１２は、２相又は３相であり、か
つ、５０Ｈｚ又は６０Ｈｚの交流電源であるようにする
と、工場等や製鉄所においては、通常の商用電力が使用
でき、別途特別に低周波電源を用いる必要がなくなるの
で、誘導溶解炉１０の構造が簡単になり、製造コストを
低減することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コイルに高周波電
流を通電させて被溶解金属に誘導電流を発生させ、ジュ
ール熱により炉内の金属を溶解するようにした誘導溶解
炉の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の誘導溶解炉には、通常の誘導溶解
炉と、この通常の誘導溶解炉を改良したＵ．Ｄ．Ｓ（UN
I-DIRECTIONAL-STIRRING)システムによる誘導溶解炉
（以下、「Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉」とい
う。）が実用に供されている。この通常の誘導溶解炉と
Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉について、以下、順次
説明を行う。

【０００３】先ず、通常の誘導溶解炉について、図４及
び図５を用いて説明する。図４は、通常の誘導溶解炉５
０の概略構成を示す概念図、図５は、誘導溶解炉５０の
温度及び供給電力と、経過時間との関係を示す特性図で
ある。図４に示すように、通常の誘導溶解炉５０の主要
構成は、高周波電源５２、高周波電源５２により高周波
電流が通電される単一のコイル５４、被溶融金属を収容
しておく坩堝５６である。なお、図４において、Ｙは溶
解された金属の溶湯、Ｓは、溶湯Ｙを高周波電源５２で
加熱する加熱回路５８のスイッチである。また、同図で
は垂直方向をＺ軸、半径方向をＲ軸とする円柱座標を用
いているが、以降の説明で用いる座標系は、同様に総て
円柱座標とする。

【０００４】以上の構成で、通常の誘導溶解炉５０の基
本動作を図４を用い、図５を参照して説明する。コイル
５４に、高周波電源５２により単相の高周波電流を流す
と、坩堝５６中の被溶解金属に誘導電流が発生し、この
ジュール熱により被溶解金属が溶解し、溶湯Ｙとなる。
総ての被溶解金属を溶解した後は、溶湯Ｙから発生する
ガスを脱ガスするための脱ガスモードに切り替わる。な
お、この際、コイル５４に通電するための高周波電源と
しては、被溶解金属の溶解効率を上げるために、通常は
５００Ｈｚ以上の周波数のものが用いられる。

【０００５】また、図５に示すように、時間０→ｔ１の
被溶融金属の溶解モードでは、大電力をコイル５４に供
給するので、誘導溶解炉５０の溶解温度は、経過時間に
ほぼ比例して上昇する。一方、被溶解金属の溶融が終了
する時間ｔ１以降の時間ｔ１→ｔ２の脱ガスモードで
は、溶解温度を一定に保つために電力を制御して溶解温
度を調節し、被溶解金属から発生するガスの脱ガスを行
う。なお、脱ガスモードにおいては、溶湯Ｙの余分な温
度上昇は、冶金的な見地及び炉材に与える悪影響の点か
ら好ましくないので、スイッチＳをオンオフすることに
よりスポット的に電力を供給し、溶湯Ｙの温度をほぼ一
定に保つようにしている。

【０００６】ところで、溶湯Ｙに発生する誘導電流をＪ
ｅとし、溶湯Ｙ中に発生する磁界をＢとすると、溶湯Ｙ
には、誘導電流Ｊｅと磁界Ｂによるローレンツ力Ｆ＝Ｊ
ｅ×Ｂが働く。このローレンツ力Ｆは、図４に矢印で示
すように、誘導溶解炉５０の中心軸方向に向かう力であ
り、その大きさは、コイル５４の両端で最小値、コイル
５４の中間位置で最大値となる山形の分布となる。その
ために、溶湯Ｙの流動パターンは、図４の破線矢印で示
すように、コイル５４の中間位置において、坩堝５６の
周縁部から坩堝５６の中心軸に向かう流れが発生し、坩
堝５６の中心軸では溶湯Ｙの流れは坩堝５６の上部に向
かうものと、坩堝５６の下部に向かうものと２つの方向
に分流する。

【０００７】一方、通常の誘導溶解炉５０では、溶解の
際に発生するガスの脱ガスは、溶湯Ｙの上面でのみ行わ
れるために、溶湯Ｙの流れが坩堝５６の中心軸（Ｚ軸）
近辺でこのように２方向に分かれると溶湯Ｙの撹拌効率
が悪く、下層部の被溶融金属が坩堝５６の上面に出るに
は長時間を要し、その結果、誘導溶解炉５０の溶解性能
を阻害しているという問題があった。

【０００８】この通常の誘導溶解炉の有する問題を解決
するために開発されたＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉
について、図６を用い、図５を参照して説明する。図６
は、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０の概略構成を
示す側面図である。

【０００９】図６に示すように、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム
誘導溶解炉６０の主要構成は、高周波電源６２、高周波
電源６２により高周波電流が通電される２つのコイル６
４Ａ、６４Ｂ、被溶融金属を収容しておく坩堝６６であ
る。なお、図６において、Ｙは溶解された金属の溶湯、
Ｓ３、Ｓ４は、溶湯Ｙを高周波電源６２で加熱する加熱
回路６８のスイッチである。なお、図６に示すように、
Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０の特徴は、上述し
た通常の誘導溶解炉５０とは異なりコイルを複数（図示
のものでは２つ）に分割している点である。

【００１０】以上の構成で、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導
溶解炉６０の基本動作を図６を用い、図５を参照して説
明する。先ず、図５に示す溶解モード区間（区間：０→
ｔ１）では、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０によ
り被溶解金属を溶解する場合は、図６に示すスイッチＳ
３を閉じ、スイッチＳ４を開いたままとすることによ
り、コイル６４Ａとコイル６４Ｂを直列に接続し、上述
した通常の誘導溶解炉５０と同様に、高周波電源６２に
より単相の高周波電流を流し、２分割したコイル６４
Ａ、６４Ｂを中心に磁場を誘導し、坩堝６６中の被溶解
金属に誘導電流を発生させて、このジュール熱により被
溶解金属が溶解し、溶湯Ｙとする。

【００１１】次に、図５に示す脱ガスモード区間（区
間：ｔ１→ｔ２）では、スイッチＳ３を閉じたままスイ
ッチＳ４を閉じ、コイル６４Ｂを短絡する。すると、コ
イル６４Ｂでは、コイル６４Ａの作る磁界により電圧が
誘起され、コイル６４Ａに流れる交流電流よりもほぼπ
／２の位相遅れの交流電流が流れる。このように、コイ
ル６４Ｂには、コイル６４Ａよりもπ／２だけ位相が遅
れた電流が発生するために、溶湯Ｙ中には進行磁界が生
じ、図６に示すように溶湯Ｙに上向き又は下向きのロー
レンツ力を発生させる。

【００１２】このようにして、溶湯Ｙには、図６の破線
に示すように、溶湯Ｙの周縁部では概ね上方に進行し、
坩堝６６の中心軸（Ｚ軸）近辺では下向きに進行する流
動パターンが生じる。これにより、坩堝６６底部近辺の
溶解金属も溶湯Ｙの上面に出やすく撹拌効率が良くな
り、脱ガス機能が高まることにより、溶解炉の溶解機能
が著しく向上する。即ち、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶
解炉６０は、単一電源で、複数コイル６４Ａ、６４Ｂに
所定の位相差の交流電流を流して進行磁界を生成し、一
方向流動パターンを作ることを特徴としている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、通常の誘導
溶解炉、及び、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉の脱ガ
スモードにおいて、磁界解析シミュレーションを行った
結果の磁束分布とローレンツ力分布を図７乃至図９に示
す。なお、この解析は、高周波電流の位相速度をω、時
間をｔとした場合、ωｔ＝０、電流値を一定、周波数を
５００Ｈｚとした条件で行っている。

【００１４】図７は、上記条件における通常の誘導溶解
炉５０の磁束ＦＸの分布とローレンツ力Ｆの分布の解析
結果を示す側面図である。図８乃び図９は、同様に、
Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０、６０′の磁束Ｆ
Ｘの分布とローレンツ力Ｆの分布の解析結果の右半分を
示す側面図で、図８はコイルを２分割とし、夫々コイル
６４Ａ、コイル６４Ｂとした場合のＵ．Ｄ．Ｓ．システ
ム誘導溶解炉６０、図９はコイルを４分割とし、夫々コ
イル６４Ａ、コイル６４Ｂ、コイル６４Ｃ、コイル６４
Ｄとした場合のＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０′
である。なお、図７乃至図９において、７０は誘導磁場
の強度を増大すると共に、外部への磁束ＦＸの漏洩を防
止するために取り付けた背面鉄心である。

【００１５】図７に示すように、通常の誘導溶解炉５０
では、ローレンツ力Ｆはコイル５４の中間部で高くなる
山形の分布となっており、これは上述したように、図４
に示す、２方向の流動パターンの原動力となっている。
従って、磁界解析シミュレーションにより、通常の誘導
溶解炉５０における流動パターンが裏付けられている。

【００１６】一方、図８、図９に示すように、Ｕ．Ｄ．
Ｓ．システム誘導溶解炉６０、６０′では、２分割コイ
ル６４Ａ、６４Ｂ、４分割コイル６４Ａ〜６４Ｄの場合
双方で、従来より説明されていたものとは異なり、上
（下）方向のローレンツ力Ｆは、その成分が半径Ｒ方向
が大半を占め、Ｚ軸方向にはほとんど働いていないこと
が分かる。即ち、高周波（５００Ｈｚ）の単一電源を用
い、コイルを複数分割することにより上下方向の力を発
生させて一定方向の流動パターンを作るという従来から
の説明には誤りがあることが、この磁界解析シミュレー
ション結果から分かる。

【００１７】以下、従来のＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶
解炉で説明されていた上下方向にローレンツ力が発生す
るということが誤りであることを図１０を用いて説明す
る。図１０は、Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０の
右半分のみを示した側面図である。図１０に示すよう
に、コイル６４Ａ、６４Ｂに流す電流の周波数が大きい
と、磁束Ｆは溶湯Ｙに発生する誘導電流Ｊｅによるダン
ピング効果のために、溶湯Ｙの内部深くにはほとんど発
生せず、溶湯Ｙ表面に沿って多数分布する。なお、同図
においてＩはコイル６４Ａ、６４Ｂに流す位相差をπ／
２としたときの交流電流であり、電流の向きはある時点
での瞬間的な方向を示している。

【００１８】ここで、磁界浸透深さをδとすると、δは
次の（１）式で与えられる。 なお、ρは溶湯Ｙの抵抗率、μは溶湯Ｙの透磁率、ｆは
高周波電流の周波数である。式（１）に示すように、磁
界浸透深さδは、周波数ｆの１／２乗に反比例すること
が分かる。即ち、溶湯Ｙに発生するローレンツ力Ｆは、
溶湯Ｙの中心軸方向に向かう分布となり、従来のＵ．
Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉６０で説明されていたよう
に、溶湯Ｙの上下方向のローレンツ力Ｆは発生しないの
が示される。従って、従来のＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導
溶解炉６０も、脱ガスモードにおいて、脱ガス効率の改
善が不十分であるという問題を含んでいる。

【００１９】本発明は、上記課題（問題点）を解決し、
溶解時における溶解効率を低下させず、溶湯中の流動パ
ターンを改善して脱ガス効率を改良することにより、溶
解性能を向上させた誘導溶解炉を提供することを目的と
する。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明の誘導溶解炉は、
上記課題を解決するために、請求項１に記載のもので
は、複数の誘導コイルと、この誘導コイルに交流電流を
通電する交流電源と、被溶解金属を収容する坩堝とを備
え、誘導電流により発生する熱で被溶解金属を溶解し、
溶解した被溶解金属から脱ガスを行うようにした誘導溶
解炉において、前記交流電源として、前記被溶解金属の
溶解時に使用する高周波電源と、被溶解金属の脱ガス時
に使用する低周波電源とを用いる構成とした。このよう
に構成すると、溶解時には高周波電源を用いることによ
り溶解効率の低下を防止でき、また、脱ガス時では低周
波電源を用いることにより溶湯中の流動パターンが改善
されて脱ガス効率が改良され、溶解性能を向上させた誘
導溶解炉とすることができる。

【００２１】請求項２に記載の誘導溶解炉は、上記低周
波電源は単相交流電源であり、誘導溶解炉の加熱回路
は、この単相交流電源に上記複数の誘導コイルの内の１
又は２以上の誘導コイルを接続するか、或いは、所定の
静電容量のコンデンサを接続することにより、各誘導コ
イルに通電する交流電流に夫々所定の位相差が生じる回
路構成とした。このように構成すると、溶湯中におい
て、一方向流動パターンが生成されるので、脱ガス効率
が改善され、溶解性能が一層向上する。

【００２２】請求項３に記載の誘導溶解炉は、上記低周
波電源は、２相以上の低周波交流電源であるように構成
した。このように構成すると、最も簡単な構成で所定の
位相差が生じる低周波電源とすることができる。

【００２３】請求項４に記載の誘導溶解炉は、上記低周
波電源は、２相又は３相であり、かつ、５０Ｈｚ又は６
０Ｈｚの交流電源であるように構成した。このように構
成すると、工場等や製鉄所においては、通常の商用電力
が使用でき、別途特別に低周波電源を用いる必要がなく
なるので、誘導溶解炉の構造が簡単になり、誘導溶解炉
の製造コストを低減することができる。

【００２４】請求項５に記載の誘導溶解方法では、請求
項１乃至４のいずれかに記載の誘導溶解炉において、被
溶解金属の溶解時は上記複数の誘導コイル及び上記高周
波電源を直列に接続して被溶解金属を溶解し、溶解した
被溶解金属の脱ガス時は、上記誘導コイルに低周波電源
を接続し、かつ、上記複数の各誘導コイルには所定の位
相差を有する交流電流を夫々通電するようにした。この
ようにすると、溶解効率の低減を抑え、脱ガス効率を改
善し、誘導溶解炉の溶解性能を向上させた誘導溶解方法
とすることができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明の誘導溶解炉の一実施の形
態を図１乃至図３を用い、図５を参照して説明する。図
１は、本実施の形態の誘導溶解炉１０の概略構成及び作
動原理を示す、右半分を示した側面図、図２及び図３
は、本実施の形態の誘導溶解炉１０の磁場解析結果の右
半分を示す側面図で、図２はコイルを２分割とし、夫々
コイル１６Ａ、コイル１６Ｂとした場合の誘導溶解炉１
０、図３はコイルを４分割とし、夫々コイル１６Ａ、コ
イル１６Ｂ、コイル１６Ｃ、コイル１６Ｄとした場合の
誘導溶解炉１０′である。

【００２６】図１に示すように、本発明の誘導溶解炉１
０の主要構成は、高周波電源１４、低周波電源１２と、
高周波電源１４及び低周波電源１２により交流電流が通
電される２つのコイル１６Ａ、１６Ｂ、被溶融金属を収
容しておく坩堝１８である。なお、図１において、Ｙは
溶解された金属の溶湯、Ｓ１、Ｓ２は、溶湯Ｙを加熱す
る加熱回路２０のスイッチで、ａ、ｂは加熱回路２０の
端子である。また、同図においてＩはコイル１６Ａ、１
６Ｂに流す位相差をπ／２としたときの交流電流であ
り、電流の向きはある時点での瞬間的な方向を示してい
る。

【００２７】以上の構成で、本発明の誘導溶解炉１０を
用いて、被溶解金属を溶解する方法について図１を用
い、図５を参照して説明する。先ず、図５に示す溶解モ
ード区間（区間：０→ｔ１）では、図１に示すようにス
イッチＳ２を開放し、スイッチＳ１を端子ａ側に投入す
ることにより、コイル１６Ａ及びコイル１６Ｂを直列に
接続し、この２つのコイル１６Ａ、１６Ｂを高周波電源
（例えば５００Ｈｚ）１４に接続することにより、コイ
ル１６Ａ、１６Ｂに高周波電流を供給する。

【００２８】このとき、図５に示すように、コイル１６
Ａ、１６Ｂには大電力が供給されるために、誘導溶解炉
１０の温度は経過時間に比例する形で上昇して行く。こ
れは上述した従来のＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉の
溶解時と同様であり、従って、高周波電流により被溶解
金属を溶解することにより、従来の誘導溶解炉が備えて
いる溶解効率を維持できる。

【００２９】一方、図５に示す脱ガスモード区間（区
間：ｔ１→ｔ２）では、スイッチＳ１をｂ側に切り替
え、スイッチＳ２を閉じ、コイル１６Ａ、１６Ｂには共
に低周波電源１２に接続する。このとき、例えば低周波
電源１２の周波数を５０Ｈｚとすると、式（１）に示し
たように、磁界の浸透深さδは周波数の１／２乗に反比
例するために、従来の誘導溶解炉のときのように５００
Ｈｚの高周波電源を用いていたのに比べて、約３．３倍
の値になり、低周波電源１２で発生する磁界は溶湯深く
まで浸透し、図２（或いは、コイルを４分割しコイル１
６Ａ〜１６Ｄとした場合は図３）に示すように磁束ＦＸ
は溶湯Ｙの中心軸方向まで広く分布するようになる。ま
た、スイッチＳ２を閉ざすことにより、Ｕ．Ｄ．Ｓ．シ
ステム誘導溶解炉と同様に、コイル１６Ｂには、コイル
１６Ａとの位相差が最大でπ／２の交流電流が流れるよ
うになる。

【００３０】このため、ローレンツ力Ｆは上述したよう
に、誘導電流Ｊｅと磁束Ｂとのベクトル積（外積）で与
えられるために、溶湯Ｙの中心軸方向に至るまで広い範
囲でローレンツ力Ｆが発生し、その向きも図２及び図３
に示すようにＺ軸方向の成分が増加する。また、コイル
１６Ａとコイル１６Ｂには最大で位相差がπ／２の交流
電流が流れることにより、溶湯Ｙ中には底部から上面に
かけて進行磁界が発生する。その結果、溶湯内には溶融
金属を溶湯表面に押しやる一方向の流れとなり、この結
果、溶湯Ｙ底部の溶融金属が溶湯Ｙの表面に浮揚しやす
くなり、脱ガス効率が改善し、誘導溶解炉１０の溶解性
能を向上させることが可能となる。

【００３１】更に、低周波電源の周波数を単相の５０Ｈ
ｚ又は６０Ｈｚとするようにすると、工場や製鉄所等に
おいては、商業電力をそのまま使用できるようになるの
で、誘導溶解炉１０の構成が簡単で、製造コストを大幅
に低減することができる。

【００３２】本発明の誘導溶解炉は上記実施の形態には
限定されず、種々の変更が可能である。例えば、上記実
施の形態では、低周波電源として、単相の交流電源を用
い、２つのコイルに所定の位相差が生じるような回路構
成で説明したが、これに代わり２相交流電源を用いるよ
うにしても良い。また、上記実施の形態では、コイルを
２分割した例で説明したが、コイルを３分割し、３相交
流電源を用いるようにしても良い。

【００３３】

【発明の効果】本発明の誘導溶解炉は、上述のように構
成したために以下のような優れた効果を有する。 （１）請求項１に記載したように、交流電源として、被
溶解金属の溶解時に使用する高周波電源と、被溶解金属
の脱ガス時に使用する低周波電源とを用いるようにする
と、溶解時には高周波電源を用いることにより溶解効率
の低下を防止でき、また、脱ガス時では低周波電源を用
いることにより溶湯中の流動パターンが改善されて脱ガ
ス効率が改良され、溶解性能を向上させた誘導溶解炉と
することができる。

【００３４】（２）請求項２に記載したように、低周波
電源は単相交流電源であり、誘導溶解炉の加熱回路は、
この単相交流電源に上記複数の誘導コイルの内の１又は
２以上の誘導コイルを接続するか、或いは、所定の静電
容量のコンデンサを接続することにより、各誘導コイル
に通電する交流電流に夫々所定の位相差が生じる回路構
成とすると、溶湯中において、一方向流動パターンが生
成されるので、脱ガス効率が改善され、溶解性能が一層
向上する。

【００３５】（３）請求項３に記載したように、低周波
電源は、２相以上の低周波交流電源であるようにする
と、最も簡単な構成で所定の位相差が生じる低周波電源
とすることができる。

【００３６】（４）請求項４に記載したように、低周波
電源は、２相又は３相であり、かつ、５０Ｈｚ又は６０
Ｈｚの交流電源であるようにすると、工場等や製鉄所に
おいては、通常の商用電力が使用でき、別途特別に低周
波電源を用いる必要がなくなるので、誘導溶解炉の構造
が簡単になり、誘導溶解炉の製造コストを低減すること
ができる。

【００３７】また、本発明の誘導溶解方法は、上述のよ
うに構成したために以下のような優れた効果を有する。 （５）請求項５に記載したように、被溶解金属の溶解時
は複数の誘導コイル及び高周波電源を直列に接続して被
溶解金属を溶解し、溶解した被溶解金属の脱ガス時は、
誘導コイルに低周波電源を接続し、かつ、複数の各誘導
コイルには所定の位相差を有する交流電流を夫々通電す
るようにすると、溶解効率の低減を抑え、脱ガス効率を
改善し、誘導溶解炉の溶解性能を向上させた誘導溶解方
法とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の誘導溶解炉の概略構成及び作動原理を
説明するため、右半分を示した側面図である。

【図２】コイルを２分割とした場合の、本発明の誘導溶
解炉の磁場解析結の右半分を示した側面図である。

【図３】コイルを４分割とした場合の、本発明の誘導溶
解炉の磁場解析結果の右半分を示した側面図である。

【図４】従来の通常の誘導溶解炉の概略構成を示す概念
図である。

【図５】従来の誘導溶解炉の温度及び供給電力と、経過
時間との関係を示す特性図である。

【図６】従来のＵ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉の概略
構成を示す概念図である。

【図７】従来の誘導溶解炉の磁場解析結果を示す右半分
を示した側面図である。

【図８】コイルを２分割とした場合の、従来のＵ．Ｄ．
Ｓ．システム誘導溶解炉の磁場解析結果の右半分を示し
た側面図である。

【図９】コイルを４分割とした場合の、従来のＵ．Ｄ．
Ｓ．システム誘導溶解炉の磁場解析結果の右半分を示し
た側面図である。

【図１０】Ｕ．Ｄ．Ｓ．システム誘導溶解炉の右半分を
示した側面図である。

【符号の説明】

１０、１０′：誘導溶解炉 １２：低周波電源 １４：高周波電源 １６Ａ〜１６Ｄ：コイル １８：坩堝 ２０：加熱回路 Ｙ：溶湯 Ｊｅ：電流

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の誘導コイルと、この誘導コイルに
   交流電流を通電する交流電源と、被溶解金属を収容する
   坩堝とを備え、誘導電流により発生する熱で被溶解金属
   を溶解し、溶解した被溶解金属から脱ガスを行うように
   した誘導溶解炉において、 前記交流電源として、前記被溶解金属の溶解時に使用す
   る高周波電源と、被溶解金属の脱ガス時に使用する低周
   波電源とを用いるようにしたことを特徴とする誘導溶解
   炉。
2. 【請求項２】 上記低周波電源は単相交流電源であり、
   誘導溶解炉の加熱回路は、この単相交流電源に上記複数
   の誘導コイルの内の１又は２以上の誘導コイルを接続す
   るか、或いは、所定の静電容量のコンデンサを接続する
   ことにより、各誘導コイルに通電する交流電流に夫々所
   定の位相差が生じる回路構成であることを特徴とする請
   求項１に記載の誘導溶解炉。
3. 【請求項３】 上記低周波電源は、２相以上の低周波交
   流電源であることを特徴とする請求項１に記載の誘導溶
   解炉。
4. 【請求項４】 上記低周波電源は、２相又は３相であ
   り、かつ、５０Ｈｚ又は６０Ｈｚの交流電源であること
   を特徴とする請求項３に記載の誘導溶解炉。
5. 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかに記載の誘導
   溶解炉において、 被溶解金属の溶解時は上記複数の誘導コイル及び上記高
   周波電源を直列に接続して被溶解金属を溶解し、 溶解した被溶解金属の脱ガス時は、上記誘導コイルに低
   周波電源を接続し、かつ、上記複数の各誘導コイルには
   所定の位相差を有する交流電流を夫々通電するようにし
   たことを特徴とする誘導溶解方法。