JP2000167484A - ガラス溶射方法および装置 - Google Patents
ガラス溶射方法および装置Info
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Classifications
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- C23D—ENAMELLING OF, OR APPLYING A VITREOUS LAYER TO, METALS
- C23D5/00—Coating with enamels or vitreous layers
- C23D5/04—Coating with enamels or vitreous layers by dry methods
-
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- C23D5/005—Coating with enamels or vitreous layers by a method specially adapted for coating special objects
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属基材に対するガラス材料の溶射を効果的
かつ効率的に行うことを主たる目的とするものである。
また、ガラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、
ガラス被膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく
向上するガラス溶射方法を提案するものである。さら
に、金属ロール基材、殊に大型の金属ロール基材に対す
る有用なガラス溶射装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 金属基材１０を全体加熱する予熱工程
と、前記予熱された基材表面にガラス材料を予備溶射し
てガラス予備被膜１３を形成する予備溶射工程と、前記
工程で形成されたガラス予備被膜を追加加熱しその表面
に同種のガラス材料を本溶射してガラス被膜１４を形成
する本溶射工程とを含むことを特徴とする。
かつ効率的に行うことを主たる目的とするものである。
また、ガラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、
ガラス被膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく
向上するガラス溶射方法を提案するものである。さら
に、金属ロール基材、殊に大型の金属ロール基材に対す
る有用なガラス溶射装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 金属基材１０を全体加熱する予熱工程
と、前記予熱された基材表面にガラス材料を予備溶射し
てガラス予備被膜１３を形成する予備溶射工程と、前記
工程で形成されたガラス予備被膜を追加加熱しその表面
に同種のガラス材料を本溶射してガラス被膜１４を形成
する本溶射工程とを含むことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、金属表面にガラ
スの被膜を形成するガラス溶射方法とその装置に関す
る。
スの被膜を形成するガラス溶射方法とその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば印刷用のロールあるいは製紙もし
くは製鉄等に用いられる工業用ロールとして従来から金
属製のものが多用されている。これらの金属製ロール
は、強い酸性あるいはアルカリ性を有する印刷インク、
洗浄液、紙もしくは金属製品等と接触するので、腐食等
によって経時的に表面の劣化が促進される。また、この
種ロールは高温多湿の過酷な条件下で使用されることが
多く、ロール表面の汚れによる表面劣化が早く耐久性に
劣るという問題があった。さらに、通常の物品搬送用ロ
ールあるいは案内用ロールにあっては、近年電子機器類
とともに使用されることが多いので電気絶縁性があるこ
とが好ましく、またロール表面に汚れが付着しにくく、
汚れが付着した場合でも簡単容易に除去できるものであ
ることが望ましい。
くは製鉄等に用いられる工業用ロールとして従来から金
属製のものが多用されている。これらの金属製ロール
は、強い酸性あるいはアルカリ性を有する印刷インク、
洗浄液、紙もしくは金属製品等と接触するので、腐食等
によって経時的に表面の劣化が促進される。また、この
種ロールは高温多湿の過酷な条件下で使用されることが
多く、ロール表面の汚れによる表面劣化が早く耐久性に
劣るという問題があった。さらに、通常の物品搬送用ロ
ールあるいは案内用ロールにあっては、近年電子機器類
とともに使用されることが多いので電気絶縁性があるこ
とが好ましく、またロール表面に汚れが付着しにくく、
汚れが付着した場合でも簡単容易に除去できるものであ
ることが望ましい。
【０００３】上の技術的課題を解決することを目的とし
て、表面にガラス被膜を有するロールが提案される。本
発明者は、先に、ガラス表面を有するロール基材および
その製法を特開平４−９９２５９号公報として開示し、
またガラス被膜を形成するに有用な溶射装置の溶射ガン
を特許第２５６２８０１号公報にて開示した。なお、特
開昭６４−１３３２４号公報にも金属製ロール表面にガ
ラス溶射被膜する技術が開示される。
て、表面にガラス被膜を有するロールが提案される。本
発明者は、先に、ガラス表面を有するロール基材および
その製法を特開平４−９９２５９号公報として開示し、
またガラス被膜を形成するに有用な溶射装置の溶射ガン
を特許第２５６２８０１号公報にて開示した。なお、特
開昭６４−１３３２４号公報にも金属製ロール表面にガ
ラス溶射被膜する技術が開示される。
【０００４】ところで、金属基材にガラス材料を溶射し
てガラス被膜を形成するに際しては、その金属基材の温
度管理が重要であることはいうまでもない。本発明者の
研究によれば、溶射時に金属基材をガラスの軟化点以上
の約６００〜１０００℃という高い温度に加熱すること
が良質のガラス被膜を形成するのに重要なポイントとな
る。しかしながら、小さいものであればいざしらず、例
えば前記したような工業用ロールにあっては直径２００
〜３００ｍｍ、長さが１０００ｍｍ以上の大型ロールも
決して珍しくなく、このような大きな金属基材全体を６
００ないし１０００℃に加熱するには長い時間と膨大な
燃費を必要とする。
てガラス被膜を形成するに際しては、その金属基材の温
度管理が重要であることはいうまでもない。本発明者の
研究によれば、溶射時に金属基材をガラスの軟化点以上
の約６００〜１０００℃という高い温度に加熱すること
が良質のガラス被膜を形成するのに重要なポイントとな
る。しかしながら、小さいものであればいざしらず、例
えば前記したような工業用ロールにあっては直径２００
〜３００ｍｍ、長さが１０００ｍｍ以上の大型ロールも
決して珍しくなく、このような大きな金属基材全体を６
００ないし１０００℃に加熱するには長い時間と膨大な
燃費を必要とする。
【０００５】一方において、金属基材をこのような高温
条件下で長時間保つと、例えばＳＳ４１の鉄材などで
は、基材の劣化を招くおそれがあり、また、マルテンサ
イト系ステンレスなどは、熱膨張係数が大きく変化し、
ガラス被膜の形成上大きな問題が生ずる。さらに、溶射
によって形成されたガラス被膜が高温状態で長時間（成
分にもよるが概ね６０分以上）曝されると、今度はこの
ガラス層が再結晶してガラス質が変質するという問題が
生ずる。
条件下で長時間保つと、例えばＳＳ４１の鉄材などで
は、基材の劣化を招くおそれがあり、また、マルテンサ
イト系ステンレスなどは、熱膨張係数が大きく変化し、
ガラス被膜の形成上大きな問題が生ずる。さらに、溶射
によって形成されたガラス被膜が高温状態で長時間（成
分にもよるが概ね６０分以上）曝されると、今度はこの
ガラス層が再結晶してガラス質が変質するという問題が
生ずる。
【０００６】また、金属基材の表面に直接高温のガラス
材料を溶射すると、基材の表面が酸化され酸化皮膜（通
称黒サビと呼ばれる）が形成され、ガラス被膜の金属基
材への密着強度が低下してしまう。これを防止するため
に、例えば前記した特開平４−９９２５９号公報ではス
テンレスからなるアンダーコート層、あるいは特開昭６
４−１３３２４号公報ではＮｉ−Ｃｒ等の合金からなる
アンダーコート層を設けることが提案される。
材料を溶射すると、基材の表面が酸化され酸化皮膜（通
称黒サビと呼ばれる）が形成され、ガラス被膜の金属基
材への密着強度が低下してしまう。これを防止するため
に、例えば前記した特開平４−９９２５９号公報ではス
テンレスからなるアンダーコート層、あるいは特開昭６
４−１３３２４号公報ではＮｉ−Ｃｒ等の合金からなる
アンダーコート層を設けることが提案される。
【０００７】ところが、これらのステンレスや合金の金
属アンダーコート層を形成する場合には、金属基材の表
面との間に空気が介在し、この空気がガラス材料の溶射
の際の高温により加熱されガラス被膜中に気泡として閉
じこめられてしまうことがある。この気泡は小さいもの
で直径１０〜４４μ、大きいものでは直径６６μの大き
さを有し、研磨後のガラス被膜表面に微細なピンホール
として現出し、その商品価値を低下させる。また、ステ
ンレスや合金の金属アンダーコート層とガラス被膜との
密着性は必ずしも良好とは言い難い。加えて、ステンレ
スや合金を溶射して金属アンダーコート層を付着形成す
る場合、その付着率は約６０〜７０％であるため材料の
利用効率が良くない。
属アンダーコート層を形成する場合には、金属基材の表
面との間に空気が介在し、この空気がガラス材料の溶射
の際の高温により加熱されガラス被膜中に気泡として閉
じこめられてしまうことがある。この気泡は小さいもの
で直径１０〜４４μ、大きいものでは直径６６μの大き
さを有し、研磨後のガラス被膜表面に微細なピンホール
として現出し、その商品価値を低下させる。また、ステ
ンレスや合金の金属アンダーコート層とガラス被膜との
密着性は必ずしも良好とは言い難い。加えて、ステンレ
スや合金を溶射して金属アンダーコート層を付着形成す
る場合、その付着率は約６０〜７０％であるため材料の
利用効率が良くない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、このよう
な状況に鑑みて提案されたものであって、金属基材に対
するガラス材料の溶射を効果的かつ効率的に行うことを
主たる目的とするものである。また、この発明では、ガ
ラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、ガラス被
膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく向上する
ガラス溶射方法を提案するものである。さらに、この発
明は、金属ロール基材、殊に大型の金属ロール基材に対
する有用なガラス溶射装置を提供することを目的とす
る。
な状況に鑑みて提案されたものであって、金属基材に対
するガラス材料の溶射を効果的かつ効率的に行うことを
主たる目的とするものである。また、この発明では、ガ
ラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、ガラス被
膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく向上する
ガラス溶射方法を提案するものである。さらに、この発
明は、金属ロール基材、殊に大型の金属ロール基材に対
する有用なガラス溶射装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上の目的を達成する手段
として、請求項１に記載のガラス溶射方法に係る発明が
提案される。この請求項１の発明は、金属基材を全体加
熱する予熱工程と、前記予熱された基材表面にガラス材
料を予備溶射してガラス予備被膜を形成する予備溶射工
程と、前記工程で形成されたガラス予備被膜を追加加熱
しその表面に同種のガラス材料を本溶射してガラス被膜
を形成する本溶射工程とを含むことを特徴とする。
として、請求項１に記載のガラス溶射方法に係る発明が
提案される。この請求項１の発明は、金属基材を全体加
熱する予熱工程と、前記予熱された基材表面にガラス材
料を予備溶射してガラス予備被膜を形成する予備溶射工
程と、前記工程で形成されたガラス予備被膜を追加加熱
しその表面に同種のガラス材料を本溶射してガラス被膜
を形成する本溶射工程とを含むことを特徴とする。
【００１０】また、請求項２の発明は、請求項１におい
て、前記本溶射工程に続いて、本溶射されたガラス被膜
を後加熱する後加熱工程を有するガラス溶射方法に係
る。
て、前記本溶射工程に続いて、本溶射されたガラス被膜
を後加熱する後加熱工程を有するガラス溶射方法に係
る。
【００１１】請求項３の発明は、請求項１または２にお
いて、前記予備溶射工程において５０ないし２００ミク
ロンの厚みのを形成するガラス溶射方法に係る。
いて、前記予備溶射工程において５０ないし２００ミク
ロンの厚みのを形成するガラス溶射方法に係る。
【００１２】請求項４の発明は、請求項１ないし３のい
ずれかにおいて、前記金属基材が金属ロール基材よりな
り、該金属ロール基材が円周方向に回転自在に保持さ
れ、金属ロール基材を回転しつつ前記各工程が行われる
ガラス溶射方法に係る。
ずれかにおいて、前記金属基材が金属ロール基材よりな
り、該金属ロール基材が円周方向に回転自在に保持さ
れ、金属ロール基材を回転しつつ前記各工程が行われる
ガラス溶射方法に係る。
【００１３】請求項５の発明は、請求項４において、予
備溶射工程及び本溶射工程ならびに後加熱工程が金属ロ
ール基材の軸線方向に沿って連続的に移動する装置によ
って行われるガラス溶射方法に係る。
備溶射工程及び本溶射工程ならびに後加熱工程が金属ロ
ール基材の軸線方向に沿って連続的に移動する装置によ
って行われるガラス溶射方法に係る。
【００１４】さらに、請求項６の発明は上の方法発明を
金属ロール基材について実現するガラス溶射装置に係
り、金属ロール基材を円周方向に回転保持する回転保持
装置と、前記ロール基材の軸線方向に配置され、該ロー
ル基材全体を加熱する全体加熱装置と、前記ロール基材
の軸線方向に沿って移動して、ロール基材表面に順次ガ
ラス材料を溶射してガラス予備被膜を形成する予備溶射
装置と、前記ロール基材の軸線方向に沿って移動して、
前記ガラス予備被膜を局部的にかつ連続的に追加加熱す
る追加加熱装置と、前記追加加熱装置の進行方向後部に
配置され、前記追加加熱されたガラス予備被膜表面に順
次ガラス材料を溶射する本溶射装置とを有することを特
徴とする。
金属ロール基材について実現するガラス溶射装置に係
り、金属ロール基材を円周方向に回転保持する回転保持
装置と、前記ロール基材の軸線方向に配置され、該ロー
ル基材全体を加熱する全体加熱装置と、前記ロール基材
の軸線方向に沿って移動して、ロール基材表面に順次ガ
ラス材料を溶射してガラス予備被膜を形成する予備溶射
装置と、前記ロール基材の軸線方向に沿って移動して、
前記ガラス予備被膜を局部的にかつ連続的に追加加熱す
る追加加熱装置と、前記追加加熱装置の進行方向後部に
配置され、前記追加加熱されたガラス予備被膜表面に順
次ガラス材料を溶射する本溶射装置とを有することを特
徴とする。
【００１５】請求項７の発明は、請求項６において、前
記本溶射装置の進行方向後部に配置され、本溶射された
ガラス被膜を後加熱する後加熱装置を有するガラス溶射
装置に係る。
記本溶射装置の進行方向後部に配置され、本溶射された
ガラス被膜を後加熱する後加熱装置を有するガラス溶射
装置に係る。
【００１６】さらに請求項８の発明は、請求項６または
７において、前記追加加熱装置と本溶射装置と後加熱装
置とが一体に同時に移動するように配置されたガラス溶
射装置に係る。
７において、前記追加加熱装置と本溶射装置と後加熱装
置とが一体に同時に移動するように配置されたガラス溶
射装置に係る。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下添付の図面に従ってこの発明
を詳細に説明する。図１はこの発明のガラス溶射方法を
示す概略工程図、図２はその予熱工程を表すガラス溶射
装置の縦断面図、図３は予備溶射工程を表す同じ装置の
横断面図、図４は図３の４―４線で切断した状態を表す
断面図、図５は本溶射工程を表す同じ装置の横断面図、
図６は図５の６−６線で切断した状態を表す断面図、図
７は同じく図５の７−７線で切断した状態を表す断面
図、図８は同じく図５の８−８線で切断した状態を表す
断面図である。
を詳細に説明する。図１はこの発明のガラス溶射方法を
示す概略工程図、図２はその予熱工程を表すガラス溶射
装置の縦断面図、図３は予備溶射工程を表す同じ装置の
横断面図、図４は図３の４―４線で切断した状態を表す
断面図、図５は本溶射工程を表す同じ装置の横断面図、
図６は図５の６−６線で切断した状態を表す断面図、図
７は同じく図５の７−７線で切断した状態を表す断面
図、図８は同じく図５の８−８線で切断した状態を表す
断面図である。
【００１８】先ず、請求項１に記載のガラス溶射方法に
係る発明について説明する。図１の工程図に図示したよ
うに、請求項１の発明に係るガラス溶射方法は、金属基
材を全体加熱する予熱工程と、前記予熱された基材表面
にガラス材料を予備溶射してガラス予備被膜を形成する
予備溶射工程と、前記工程で形成されたガラス予備被膜
を追加加熱しその表面に同種のガラス材料を本溶射して
ガラス被膜を形成する本溶射工程とを含む。
係る発明について説明する。図１の工程図に図示したよ
うに、請求項１の発明に係るガラス溶射方法は、金属基
材を全体加熱する予熱工程と、前記予熱された基材表面
にガラス材料を予備溶射してガラス予備被膜を形成する
予備溶射工程と、前記工程で形成されたガラス予備被膜
を追加加熱しその表面に同種のガラス材料を本溶射して
ガラス被膜を形成する本溶射工程とを含む。
【００１９】予熱工程は、常温の金属基材全体を一定の
温度に全体加熱するための工程で、図２に関して後述す
るように、例えば加熱チャンバ１５内の全体加熱装置３
０の加熱バーナー同３１によって加熱される。この予熱
工程では、金属基材の表面に酸化皮膜が生じにくい１０
０〜４００℃（基材表面温度）の温度範囲で行われる。
なお、予熱工程に先立って、金属基材のブラスト処理が
通常行われる。
温度に全体加熱するための工程で、図２に関して後述す
るように、例えば加熱チャンバ１５内の全体加熱装置３
０の加熱バーナー同３１によって加熱される。この予熱
工程では、金属基材の表面に酸化皮膜が生じにくい１０
０〜４００℃（基材表面温度）の温度範囲で行われる。
なお、予熱工程に先立って、金属基材のブラスト処理が
通常行われる。
【００２０】予備溶射工程は、前記予熱工程によって所
定温度に加熱された金属基材の表面に、ガラス材料を溶
射装置によって予備溶射してガラス材料による予備被膜
を形成する工程である。予備溶射は上のように金属基材
の表面に酸化皮膜が生じにくい１００〜４００℃の温度
範囲で行われるので、このときのガラス予備被膜は不完
全溶融状態の鱗（うろこ）状となって金属基材表面に付
着する。この予備溶射工程において形成されるガラス予
備被膜は、請求項３の発明として規定したように、５０
ないし２００ミクロンの厚みとすることが好ましい。
定温度に加熱された金属基材の表面に、ガラス材料を溶
射装置によって予備溶射してガラス材料による予備被膜
を形成する工程である。予備溶射は上のように金属基材
の表面に酸化皮膜が生じにくい１００〜４００℃の温度
範囲で行われるので、このときのガラス予備被膜は不完
全溶融状態の鱗（うろこ）状となって金属基材表面に付
着する。この予備溶射工程において形成されるガラス予
備被膜は、請求項３の発明として規定したように、５０
ないし２００ミクロンの厚みとすることが好ましい。
【００２１】本溶射工程は、予備溶射工程によって形成
されたガラス予備被膜を追加加熱し、その表面に同種の
ガラス材料を高温で本溶射して前記ガラス予備被膜と一
体にガラス被膜を形成する工程である。すなわち、追加
加熱によってガラス予備被膜の表面を６００ないし１０
００℃に加熱し、当該ガラス予備被膜を完全に溶融しつ
つ該ガラス予備被膜と同種のガラス材料を溶射する。こ
の本溶射によって、前記ガラス予備被膜は本溶射のガラ
ス材料と一体になってガラス被膜を形成し、酸化皮膜の
発生を防止しつつかつ気泡のないガラス被膜を形成する
ことができる。
されたガラス予備被膜を追加加熱し、その表面に同種の
ガラス材料を高温で本溶射して前記ガラス予備被膜と一
体にガラス被膜を形成する工程である。すなわち、追加
加熱によってガラス予備被膜の表面を６００ないし１０
００℃に加熱し、当該ガラス予備被膜を完全に溶融しつ
つ該ガラス予備被膜と同種のガラス材料を溶射する。こ
の本溶射によって、前記ガラス予備被膜は本溶射のガラ
ス材料と一体になってガラス被膜を形成し、酸化皮膜の
発生を防止しつつかつ気泡のないガラス被膜を形成する
ことができる。
【００２２】請求項１の発明は、上記のような工程によ
り、金属基材に対するガラス材料の溶射を効果的かつ効
率的に行うことができ、特に、ガラス被膜におけるピン
ホールの発生を防止し、ガラス被膜の強度および密着度
ならびに外観性を大きく向上することが可能である。
り、金属基材に対するガラス材料の溶射を効果的かつ効
率的に行うことができ、特に、ガラス被膜におけるピン
ホールの発生を防止し、ガラス被膜の強度および密着度
ならびに外観性を大きく向上することが可能である。
【００２３】請求項２の発明は、さらに、前記請求項１
の本溶射工程に続いて、本溶射されたガラス被膜を後加
熱する後加熱工程を有するものである。この後加熱工程
は、ガラス材料の本溶射に引き続いて、ガラス被膜を４
００ないし８００℃に降温（徐冷）するもので、これに
よりガラス材料の本溶射後における急激な温度低下を防
ぐとともに、ガラス材料のより完全な溶融を可能にす
る。実際の作業工程では、本溶射中のガラス被膜温度は
１５００℃以上に達し、本溶射後の１，２分で５００〜
６００℃に急激に低下し、ヒートショック等による問題
が生ずることがある。この問題を避けるために、後加熱
により、本溶射後５，６分かけて５００〜６００℃に降
温（徐冷）することが効果的である。なお、本溶射完了
直前のガラス材料には完全に溶融しない半溶融部分が存
在する場合があり、後加熱によりこれを完全に溶融する
ことができるので、特に大型製品にあっては徐冷も兼ね
て後加熱をすることが好ましく薦められる。
の本溶射工程に続いて、本溶射されたガラス被膜を後加
熱する後加熱工程を有するものである。この後加熱工程
は、ガラス材料の本溶射に引き続いて、ガラス被膜を４
００ないし８００℃に降温（徐冷）するもので、これに
よりガラス材料の本溶射後における急激な温度低下を防
ぐとともに、ガラス材料のより完全な溶融を可能にす
る。実際の作業工程では、本溶射中のガラス被膜温度は
１５００℃以上に達し、本溶射後の１，２分で５００〜
６００℃に急激に低下し、ヒートショック等による問題
が生ずることがある。この問題を避けるために、後加熱
により、本溶射後５，６分かけて５００〜６００℃に降
温（徐冷）することが効果的である。なお、本溶射完了
直前のガラス材料には完全に溶融しない半溶融部分が存
在する場合があり、後加熱によりこれを完全に溶融する
ことができるので、特に大型製品にあっては徐冷も兼ね
て後加熱をすることが好ましく薦められる。
【００２４】請求項４および５の発明は前記金属基材を
金属ロール基材として実施する方法に関し、請求項４の
発明では、該金属ロール基材が円周方向に回転自在に保
持され、金属ロール基材を回転しつつ前記各工程が行わ
れるガラス溶射方法である。この請求項４の発明によれ
ば、金属ロール基材を円周方向に回転させながら前記各
工程を行うため、各工程の作業が前記基材のガラス被膜
の形成予定位置全周に均一に行き渡りムラがなく効果的
かつ効率的に行うことができる。
金属ロール基材として実施する方法に関し、請求項４の
発明では、該金属ロール基材が円周方向に回転自在に保
持され、金属ロール基材を回転しつつ前記各工程が行わ
れるガラス溶射方法である。この請求項４の発明によれ
ば、金属ロール基材を円周方向に回転させながら前記各
工程を行うため、各工程の作業が前記基材のガラス被膜
の形成予定位置全周に均一に行き渡りムラがなく効果的
かつ効率的に行うことができる。
【００２５】また、請求項５の発明は、請求項４におい
て、さらに、予備溶射工程及び本溶射工程ならびに後加
熱工程が金属ロール基材の軸線方向に沿って連続的に移
動する装置によって行われるガラス溶射方法である。こ
の請求項５の発明によれば、予備溶射工程、本溶射工程
および後加熱工程を連続した一連の作業として行うこと
ができ、これらの工程をより効果的かつ効率的に実施で
きる。
て、さらに、予備溶射工程及び本溶射工程ならびに後加
熱工程が金属ロール基材の軸線方向に沿って連続的に移
動する装置によって行われるガラス溶射方法である。こ
の請求項５の発明によれば、予備溶射工程、本溶射工程
および後加熱工程を連続した一連の作業として行うこと
ができ、これらの工程をより効果的かつ効率的に実施で
きる。
【００２６】前記ガラス被膜形成後、必要により当該ガ
ラス被膜表面が研磨され、または必要な上面層が形成さ
れて製品とされる。場合によっては、そのままで製品と
されることもある。
ラス被膜表面が研磨され、または必要な上面層が形成さ
れて製品とされる。場合によっては、そのままで製品と
されることもある。
【００２７】次に、請求項６以下に記載する金属ロール
のガラス溶射装置について説明する。図２ないし図８に
図示の装置は、上記したガラス溶射方法を金属ロール基
材に対して実用的かつ効果的に実施するためのガラス溶
射装置に関する。図示のように、請求項６の発明に係る
ガラス溶射装置は、金属ロール基材１０を保持する回転
保持装置２０と、該ロール基材１０全体を加熱する全体
加熱装置３０と、ロール基材１０表面に順次ガラス材料
を溶射してガラス予備被膜１３を形成する予備溶射装置
４０と、前記ガラス予備被膜１３を局部的にかつ連続的
に追加加熱する追加加熱装置５０と、追加加熱されたガ
ラス予備被膜１３表面に順次ガラス材料を溶射する本溶
射装置６０の各部を含む。図の符号１５は加熱チャンバ
を表し、この加熱チャンバ１５は、図４に示したよう
に、ロール基材１０の出し入れのために開閉部１６を介
して上側部分１５ａを開閉自在としてもよい。
のガラス溶射装置について説明する。図２ないし図８に
図示の装置は、上記したガラス溶射方法を金属ロール基
材に対して実用的かつ効果的に実施するためのガラス溶
射装置に関する。図示のように、請求項６の発明に係る
ガラス溶射装置は、金属ロール基材１０を保持する回転
保持装置２０と、該ロール基材１０全体を加熱する全体
加熱装置３０と、ロール基材１０表面に順次ガラス材料
を溶射してガラス予備被膜１３を形成する予備溶射装置
４０と、前記ガラス予備被膜１３を局部的にかつ連続的
に追加加熱する追加加熱装置５０と、追加加熱されたガ
ラス予備被膜１３表面に順次ガラス材料を溶射する本溶
射装置６０の各部を含む。図の符号１５は加熱チャンバ
を表し、この加熱チャンバ１５は、図４に示したよう
に、ロール基材１０の出し入れのために開閉部１６を介
して上側部分１５ａを開閉自在としてもよい。
【００２８】まず、金属ロール基材１０は、ステンレス
等の金属よりなり、ロール本体１１と両端部の軸部１２
とからなる。回転保持装置２０は、この金属ロール基材
１０を円周方向に回転保持するもので、駆動モーター２
１、駆動軸部２２および軸受部２３を有する。図２のよ
うに、ロール基材１０は、その両端の軸部１２が駆動軸
部２２および軸受部２３によって保持されて駆動モータ
２１によって図の矢印Ｒ方向に回転される。
等の金属よりなり、ロール本体１１と両端部の軸部１２
とからなる。回転保持装置２０は、この金属ロール基材
１０を円周方向に回転保持するもので、駆動モーター２
１、駆動軸部２２および軸受部２３を有する。図２のよ
うに、ロール基材１０は、その両端の軸部１２が駆動軸
部２２および軸受部２３によって保持されて駆動モータ
２１によって図の矢印Ｒ方向に回転される。
【００２９】全体加熱装置３０は、前記ロール基材１０
の軸線方向に配置されていて、回転するロール基材１０
全体を加熱する。実施例では、全体加熱装置３０は金属
ロール基材１０の下方に配置された複数の加熱バーナー
３１，３１からなる。各バーナー３１はロール基材１０
の軸線方向に均等に配置され、ロール基材１０の回転に
よって、該ロール基材１０全体を均一に加熱する。全体
加熱装置３０は、前記したように、ガラス溶射のための
予熱温度、つまり基材表面を概ね１００ないし４００℃
に加熱するものである。
の軸線方向に配置されていて、回転するロール基材１０
全体を加熱する。実施例では、全体加熱装置３０は金属
ロール基材１０の下方に配置された複数の加熱バーナー
３１，３１からなる。各バーナー３１はロール基材１０
の軸線方向に均等に配置され、ロール基材１０の回転に
よって、該ロール基材１０全体を均一に加熱する。全体
加熱装置３０は、前記したように、ガラス溶射のための
予熱温度、つまり基材表面を概ね１００ないし４００℃
に加熱するものである。
【００３０】予備溶射装置４０は、図３および図４に示
すように、予熱温度に加熱された金属ロール基材１０の
表面に順次ガラス材料を溶射してガラス予備被膜１３を
形成するものである。この予備溶射装置４０は、レール
８０上を所定速度で走行するように構成されていてロー
ル基材１０の軸線方向に移動する。前記したように、金
属ロール基材１０は、回転保持装置２０によってその円
周方向に回転保持されているものであるから、この予備
溶射装置４０がロール基材１０の軸線方向に移動するこ
とによって該ロール基材１０の全周面に対して順次ガラ
ス材料が溶射されていく。なお、図示しないが、ロボッ
ト等によって、移動自在とすることもできる。
すように、予熱温度に加熱された金属ロール基材１０の
表面に順次ガラス材料を溶射してガラス予備被膜１３を
形成するものである。この予備溶射装置４０は、レール
８０上を所定速度で走行するように構成されていてロー
ル基材１０の軸線方向に移動する。前記したように、金
属ロール基材１０は、回転保持装置２０によってその円
周方向に回転保持されているものであるから、この予備
溶射装置４０がロール基材１０の軸線方向に移動するこ
とによって該ロール基材１０の全周面に対して順次ガラ
ス材料が溶射されていく。なお、図示しないが、ロボッ
ト等によって、移動自在とすることもできる。
【００３１】予備溶射装置４０で使用されるガラス溶射
材料は、溶射によってガラス（予備）被膜を形成するこ
とができる粉末材料であって、所定成分比に調整された
フリットが好ましく用いられる。
材料は、溶射によってガラス（予備）被膜を形成するこ
とができる粉末材料であって、所定成分比に調整された
フリットが好ましく用いられる。
【００３２】追加加熱装置５０は、図５に示すように、
ロール基材１０の表面に形成されたガラス予備被膜１３
をさらに局部的にかつ連続的に追加加熱するものであ
る。追加加熱装置５０は、レール８０上を所定速度で走
行し、あるいはロボット等によってロール基材１０の軸
線方向に移動するように構成されている。金属ロール基
材１０は、回転保持装置２０によってその円周方向に回
転保持されており、追加加熱装置５０がロール基材１０
の軸線方向に移動することによって、該ロール基材１０
の全周面を順次加熱していく。この追加加熱装置５０に
よる追加加熱によって、ロール基材１０に溶射されたガ
ラス材料がガラス被膜として形成されるに好ましい温度
までに高められる。この追加加熱装置５０による追加加
熱温度（表面温度）は、概ね６００ないし１０００℃で
ある。
ロール基材１０の表面に形成されたガラス予備被膜１３
をさらに局部的にかつ連続的に追加加熱するものであ
る。追加加熱装置５０は、レール８０上を所定速度で走
行し、あるいはロボット等によってロール基材１０の軸
線方向に移動するように構成されている。金属ロール基
材１０は、回転保持装置２０によってその円周方向に回
転保持されており、追加加熱装置５０がロール基材１０
の軸線方向に移動することによって、該ロール基材１０
の全周面を順次加熱していく。この追加加熱装置５０に
よる追加加熱によって、ロール基材１０に溶射されたガ
ラス材料がガラス被膜として形成されるに好ましい温度
までに高められる。この追加加熱装置５０による追加加
熱温度（表面温度）は、概ね６００ないし１０００℃で
ある。
【００３３】本溶射装置６０は、前記追加加熱装置５０
によって局部的にかつ連続的に追加加熱されたロール基
材１０表面に形成されたガラス予備被膜１３表面に順次
ガラス材料を溶射してガラス被膜を形成するものであ
る。この本溶射装置６０はレール８０上を所定速度で走
行し、あるいはロボット等によってロール基材１０の軸
線方向に移動するように構成されている。前記したよう
に、金属ロール基材１０は、回転保持装置２０によって
円周方向に保持されているものであるから、この本溶射
装置６０がロール基材１０表面のガラス予備被膜１３表
面全面に対して順次ガラスが溶射されていく。
によって局部的にかつ連続的に追加加熱されたロール基
材１０表面に形成されたガラス予備被膜１３表面に順次
ガラス材料を溶射してガラス被膜を形成するものであ
る。この本溶射装置６０はレール８０上を所定速度で走
行し、あるいはロボット等によってロール基材１０の軸
線方向に移動するように構成されている。前記したよう
に、金属ロール基材１０は、回転保持装置２０によって
円周方向に保持されているものであるから、この本溶射
装置６０がロール基材１０表面のガラス予備被膜１３表
面全面に対して順次ガラスが溶射されていく。
【００３４】本溶射装置６０で使用されるガラス溶射材
料は、予備溶射装置４０で使用されるものと同種のもの
で、前記したように、好ましくは所定成分比に調整され
たフリットである。予備溶射と同じ材料を用いることに
よって、ガラス予備被膜１３とガラス被膜１４が一体化
され、良質のガラス被膜１４とすることができる。
料は、予備溶射装置４０で使用されるものと同種のもの
で、前記したように、好ましくは所定成分比に調整され
たフリットである。予備溶射と同じ材料を用いることに
よって、ガラス予備被膜１３とガラス被膜１４が一体化
され、良質のガラス被膜１４とすることができる。
【００３５】図５に図示の装置には、後加熱装置７０が
配置されている。この後加熱装置７０は、請求項７の発
明として規定したように、本溶射装置６０によるガラス
材料の本溶射後、この本溶射装置６０の進行方向後部に
配置されるものである。この後加熱は、既に述べたよう
に、ガラス材料の本溶射に引き続いてガラス被膜１４を
４００ないし８００℃に徐冷加熱するもので、これによ
りガラス材料の本溶射後における急激な温度低下を防ぐ
とともに、ガラス材料のより完全な溶融を可能にするも
のである。
配置されている。この後加熱装置７０は、請求項７の発
明として規定したように、本溶射装置６０によるガラス
材料の本溶射後、この本溶射装置６０の進行方向後部に
配置されるものである。この後加熱は、既に述べたよう
に、ガラス材料の本溶射に引き続いてガラス被膜１４を
４００ないし８００℃に徐冷加熱するもので、これによ
りガラス材料の本溶射後における急激な温度低下を防ぐ
とともに、ガラス材料のより完全な溶融を可能にするも
のである。
【００３６】なお、図５の例では、請求項８の発明とし
て規定したように、追加加熱装置５０の後部に本溶射装
置６０、さらにその後部に後加熱装置７０が配置され、
前記各装置５０，６０，７０がロール基材１０の軸線方
向に沿って一体に同時に移動するように構成されてい
る。このような構成とすることにより、追加加熱装置５
０によって追加加熱されたロール基材１０部分に対し
て、効果的に本溶射装置６０によってガラス溶射を行う
ことができ、さらに本溶射されたガラス被膜部分に対し
て効果的に後加熱するこことができる。なお、各装置の
間隔は、実施例では５〜１０ｃｍである。
て規定したように、追加加熱装置５０の後部に本溶射装
置６０、さらにその後部に後加熱装置７０が配置され、
前記各装置５０，６０，７０がロール基材１０の軸線方
向に沿って一体に同時に移動するように構成されてい
る。このような構成とすることにより、追加加熱装置５
０によって追加加熱されたロール基材１０部分に対し
て、効果的に本溶射装置６０によってガラス溶射を行う
ことができ、さらに本溶射されたガラス被膜部分に対し
て効果的に後加熱するこことができる。なお、各装置の
間隔は、実施例では５〜１０ｃｍである。
【００３７】
【実施例】次に、実施例を具体的に記す。 （実施例１）金属ロール基材は直径３００ｍｍ、長さ１
５００ｍｍのマルテンサイト系ステンレスよりなり、ス
チールグリッドブラストにより表面ブラスト処理が施さ
れている。前記金属ロール基材をチャンバ内において回
転保持装置に保持し、ロールの周速３．５ｍ／分で回転
する。この回転保持されたロール基材をＬＰＧガス燃料
の全体加熱装置によって４００℃に加熱する。
５００ｍｍのマルテンサイト系ステンレスよりなり、ス
チールグリッドブラストにより表面ブラスト処理が施さ
れている。前記金属ロール基材をチャンバ内において回
転保持装置に保持し、ロールの周速３．５ｍ／分で回転
する。この回転保持されたロール基材をＬＰＧガス燃料
の全体加熱装置によって４００℃に加熱する。
【００３８】全体加熱装置でロール基材の温度を４００
℃に保ちながら、金属ロール基材の部分表面に対して予
備溶射装置によって、ガラス材料の溶射を順次行う。こ
の例の予備溶射装置は、燃料として酸素およびアセチレ
ンを使用し、前記部分加熱装置と同じように、１２０ｍ
ｍ／分の速度でロール基材の軸線方向に前進する。ガラ
ス材料の供給量は１２０ｇ／分である。この予備溶射に
より、１５０ミクロンの厚みのガラス予備被膜を得る。
次に、ＬＰＧガス燃料の追加加熱装置によってさらにの
表面を局部的に追加加熱してその部分の表面温度を８０
０℃に高める。この部分加熱装置は１２０ｍｍ／分の速
度でロール基材の軸線方向に前進する。
℃に保ちながら、金属ロール基材の部分表面に対して予
備溶射装置によって、ガラス材料の溶射を順次行う。こ
の例の予備溶射装置は、燃料として酸素およびアセチレ
ンを使用し、前記部分加熱装置と同じように、１２０ｍ
ｍ／分の速度でロール基材の軸線方向に前進する。ガラ
ス材料の供給量は１２０ｇ／分である。この予備溶射に
より、１５０ミクロンの厚みのガラス予備被膜を得る。
次に、ＬＰＧガス燃料の追加加熱装置によってさらにの
表面を局部的に追加加熱してその部分の表面温度を８０
０℃に高める。この部分加熱装置は１２０ｍｍ／分の速
度でロール基材の軸線方向に前進する。
【００３９】追加加熱装置による追加加熱によって表面
温度が８００℃にされたガラス予備被膜の表面に対し
て、該追加加熱装置の後部に配置されている本溶射装置
によってガラス材料の本溶射を順次行う。この例の本溶
射装置は、予備溶射装置と同様に、燃料として酸素およ
びアセチレンを使用し、前記追加加熱装置と同じよう
に、１２０ｍｍ／分の速度でロール基材の軸線方向に前
進する。ガラス材料の供給量は１２０ｇ／分である。ガ
ラス材料の本溶射後、後加熱装置によりガラス被膜を徐
々に５００℃となるように後加熱する。このようにし
て、回転保持されたロール基材の全表面に約１ｍｍのガ
ラス被膜を形成する。
温度が８００℃にされたガラス予備被膜の表面に対し
て、該追加加熱装置の後部に配置されている本溶射装置
によってガラス材料の本溶射を順次行う。この例の本溶
射装置は、予備溶射装置と同様に、燃料として酸素およ
びアセチレンを使用し、前記追加加熱装置と同じよう
に、１２０ｍｍ／分の速度でロール基材の軸線方向に前
進する。ガラス材料の供給量は１２０ｇ／分である。ガ
ラス材料の本溶射後、後加熱装置によりガラス被膜を徐
々に５００℃となるように後加熱する。このようにし
て、回転保持されたロール基材の全表面に約１ｍｍのガ
ラス被膜を形成する。
【００４０】この実施例で使用されたガラス材料の成分
組成（重量％）を示すと、次の通りである。 ＳｉＯ２ ： ５２％ Ｂ２Ｏ３ ： １５％ Ａｌ２Ｏ３ ： ４％ Ｌｉ２Ｏ ： ７％ ＣａＯ ： ２％ ＺｒＯ２ ： １０％ ＳｒＯ ： ５％ ＺｎＯ ： ５％
組成（重量％）を示すと、次の通りである。 ＳｉＯ２ ： ５２％ Ｂ２Ｏ３ ： １５％ Ａｌ２Ｏ３ ： ４％ Ｌｉ２Ｏ ： ７％ ＣａＯ ： ２％ ＺｒＯ２ ： １０％ ＳｒＯ ： ５％ ＺｎＯ ： ５％
【００４１】（実施例２）金属ロール基材として直径４
００ｍｍ，長さ１８００ｍｍのオーステナイト系ステン
レスを用い、追加加熱までは上記実施例１と同様の方法
による。
００ｍｍ，長さ１８００ｍｍのオーステナイト系ステン
レスを用い、追加加熱までは上記実施例１と同様の方法
による。
【００４２】実施例２では、次の成分組成（重量％）か
らなるガラス材料を使用した。 ＳｉＯ２ ： ７２％ Ｂ２Ｏ３ ： １％ Ａｌ２Ｏ３ ： ３％ Ｌｉ２Ｏ ： ２２％ ＳｒＯ ： ２％
らなるガラス材料を使用した。 ＳｉＯ２ ： ７２％ Ｂ２Ｏ３ ： １％ Ａｌ２Ｏ３ ： ３％ Ｌｉ２Ｏ ： ２２％ ＳｒＯ ： ２％
【００４３】本溶射にはプラズマ溶射装置（Ｆ４−ＭＢ
プラズマダイン社製）を用い、特にガラス被膜を厚く
するために、該本溶射装置を２機並設した。このプラズ
マ溶射装置の溶射条件は、プラズマガスとしてアルゴン
４０Ｌ／分、水素１０Ｌ／分が用いられ、プラズマ電流
６５０Ａ、電流６５Ｖである。ガラス材料の供給量は１
１０ｇ／分、ロール基材の周速（回転速度）は４ｍ／分
である。その後、後加熱装置によりガラス被膜温度が徐
々に５５０℃となるように後加熱を行った。なお、この
場合の追加加熱装置、本溶射装置及び後加熱装置の移動
速度は１０ｍｍ／分とした。この例のガラス溶射によっ
て形成されたガラス被膜の厚みは１．８ｍｍであった。
プラズマダイン社製）を用い、特にガラス被膜を厚く
するために、該本溶射装置を２機並設した。このプラズ
マ溶射装置の溶射条件は、プラズマガスとしてアルゴン
４０Ｌ／分、水素１０Ｌ／分が用いられ、プラズマ電流
６５０Ａ、電流６５Ｖである。ガラス材料の供給量は１
１０ｇ／分、ロール基材の周速（回転速度）は４ｍ／分
である。その後、後加熱装置によりガラス被膜温度が徐
々に５５０℃となるように後加熱を行った。なお、この
場合の追加加熱装置、本溶射装置及び後加熱装置の移動
速度は１０ｍｍ／分とした。この例のガラス溶射によっ
て形成されたガラス被膜の厚みは１．８ｍｍであった。
【００４４】上記で説明したガラス溶射方法およびその
装置によって形成されたガラス被膜は、その後冷却がな
される。この冷却は自然冷却も可能であるが、徐冷をお
こなうことが好ましい。徐冷は公知の徐冷炉等で、一時
間あたり約５０℃の割合で冷却される。冷却後、金属ロ
ール基材表面を平滑にするために仕上げ研磨を行う。研
磨は、公知のダイアモンド研磨等によって、所定厚みと
なるように行う。
装置によって形成されたガラス被膜は、その後冷却がな
される。この冷却は自然冷却も可能であるが、徐冷をお
こなうことが好ましい。徐冷は公知の徐冷炉等で、一時
間あたり約５０℃の割合で冷却される。冷却後、金属ロ
ール基材表面を平滑にするために仕上げ研磨を行う。研
磨は、公知のダイアモンド研磨等によって、所定厚みと
なるように行う。
【００４５】金属ロール基材に対するガラス材料の溶射
は、その全面または部分的に行なわれる。製品の用途に
応じて、例えば通電部分が必要な時には、絶縁体である
ガラス被膜の形成を部分的に行わない部分溶射を行う。
なお、この場合、ロール基材の全面に溶射を行なった後
に、所定部分のガラス被膜を削り取ってもよい。
は、その全面または部分的に行なわれる。製品の用途に
応じて、例えば通電部分が必要な時には、絶縁体である
ガラス被膜の形成を部分的に行わない部分溶射を行う。
なお、この場合、ロール基材の全面に溶射を行なった後
に、所定部分のガラス被膜を削り取ってもよい。
【００４６】また、ガラス材料の溶射後、研磨をしまた
はせずして、ガラス被膜の上面にさらに他のセラミック
類または金属類の上面層（溶射被膜）を形成することも
可能である。例えば、アルミナ（酸化アルミニウム）、
アルミナ化合物・ジルコニア（酸化ジルコニウム）、ジ
ルコニア化合物・酸化クロムおよび酸化クロム化合物、
あるいはこれらの混合物や化合物のセラミック類、タン
グステンカーバイド、クロムカーバイド等の金属類が、
ロールの用途、機能に応じて、溶射される。
はせずして、ガラス被膜の上面にさらに他のセラミック
類または金属類の上面層（溶射被膜）を形成することも
可能である。例えば、アルミナ（酸化アルミニウム）、
アルミナ化合物・ジルコニア（酸化ジルコニウム）、ジ
ルコニア化合物・酸化クロムおよび酸化クロム化合物、
あるいはこれらの混合物や化合物のセラミック類、タン
グステンカーバイド、クロムカーバイド等の金属類が、
ロールの用途、機能に応じて、溶射される。
【００４７】
【発明の効果】以上図示し説明したように、この発明の
ガラス溶射方法によれば、金属基材に対するガラス材料
の溶射を効果的かつ効率的に行うことができるようにな
った。特に、この発明では、ガラス材料からなるガラス
予備被膜を金属基材とガラス被膜の間に設けることによ
り、ガラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、ガ
ラス被膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく向
上させることができる。
ガラス溶射方法によれば、金属基材に対するガラス材料
の溶射を効果的かつ効率的に行うことができるようにな
った。特に、この発明では、ガラス材料からなるガラス
予備被膜を金属基材とガラス被膜の間に設けることによ
り、ガラス被膜におけるピンホールの発生を防止し、ガ
ラス被膜の強度および密着度ならびに外観性を大きく向
上させることができる。
【００４８】また、この発明によれば、金属ロール基
材、殊に大型の金属ロール基材に対する有用なガラス溶
射装置を提供することができる。特に、この発明のガラ
ス溶射装置によれば、金属ロール基材が回転保持装置に
よって円周方向に回転保持されており、全体加熱装置に
より予備加熱されたこの金属ロール基材に対して、その
軸線方向に移動するよび溶射装置によって該予備加熱さ
れた基材表面に順次ガラス材料を溶射してガラス予備被
膜を形成し、さらに追加加熱装置によってガラス予備被
膜を追加加熱し、該追加加熱したガラス予備被膜表面に
本溶射装置によて順次ガラス材料を本溶射してガラス被
膜を形成するものであるから、およびガラス材料の被膜
形成が連続的にかつ効率よく行うことができる。
材、殊に大型の金属ロール基材に対する有用なガラス溶
射装置を提供することができる。特に、この発明のガラ
ス溶射装置によれば、金属ロール基材が回転保持装置に
よって円周方向に回転保持されており、全体加熱装置に
より予備加熱されたこの金属ロール基材に対して、その
軸線方向に移動するよび溶射装置によって該予備加熱さ
れた基材表面に順次ガラス材料を溶射してガラス予備被
膜を形成し、さらに追加加熱装置によってガラス予備被
膜を追加加熱し、該追加加熱したガラス予備被膜表面に
本溶射装置によて順次ガラス材料を本溶射してガラス被
膜を形成するものであるから、およびガラス材料の被膜
形成が連続的にかつ効率よく行うことができる。
【図１】この発明のガラス溶射方法を示す概略工程図で
ある。
ある。
【図２】その予熱工程を表すガラス溶射装置の縦断面図
である。
である。
【図３】予備溶射工程を表す同じ装置の横断面図であ
る。
る。
【図４】図３の４―４線で切断した状態を表す断面図で
ある。
ある。
【図５】本溶射工程を表す同じ装置の横断面図である。
【図６】図５の６−６線で切断した状態を表す断面図で
ある。
ある。
【図７】図５の７−７線で切断した状態を表す断面図で
ある。
ある。
【図８】図５の８−８線で切断した状態を表す断面図で
ある。
ある。
１０ 金属ロール基材 １３ ガラス予備被膜 １４ ガラス被膜 ２０ 回転保持部 ３０ 全体加熱装置 ４０ 予備溶射装置 ５０ 追加加熱装置 ６０ 本溶射装置 ７０ 後加熱装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D075 AA01 AA68 BB03Z BB04X BB22X BB22Z BB34X BB34Y BB49X BB49Y BB49Z BB83X BB83Y BB83Z CA13 DA10 DB01 DB04 DC16 DC27 EA02 EB01 EB05 4K031 AA02 AB03 AB08 AB09 BA07 CB47 CB48 EA01 EA03 FA01
Claims (8)
- 【請求項１】 金属基材を全体加熱する予熱工程と、 前記予熱された基材表面にガラス材料を予備溶射してガ
ラス予備被膜を形成する予備溶射工程と、 前記工程で形成されたガラス予備被膜を追加加熱しその
表面に同種のガラス材料を本溶射してガラス被膜を形成
する本溶射工程とを含むことを特徴とするガラス溶射方
法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記本溶射工程に続
いて、本溶射されたガラス被膜を後加熱する後加熱工程
を有するガラス溶射方法。 - 【請求項３】 請求項１または２において、前記予備溶
射工程において５０ないし２００ミクロンの厚みのガラ
ス予備被膜を形成するガラス溶射方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記金属基材が金属ロール基材よりなり、該金属ロール
基材が円周方向に回転自在に保持され、金属ロール基材
を回転しつつ前記各工程が行われるガラス溶射方法。 - 【請求項５】 請求項４において、予備溶射工程及び本
溶射工程ならびに後加熱工程が金属ロール基材の軸線方
向に沿って連続的に移動する装置によって行われるガラ
ス溶射方法。 - 【請求項６】 金属ロール基材を円周方向に回転保持す
る回転保持装置と、 前記ロール基材の軸線方向に配置され、該ロール基材全
体を加熱する全体加熱装置と、 前記ロール基材の軸線方向に沿って移動して、ロール基
材表面に順次ガラス材料を溶射してガラス予備被膜を形
成する予備溶射装置と、 前記ロール基材の軸線方向に沿って移動して、前記ガラ
ス予備被膜を局部的にかつ連続的に追加加熱する追加加
熱装置と、 前記追加加熱装置の進行方向後部に配置され、前記追加
加熱されたガラス予備被膜表面に順次ガラス材料を溶射
する本溶射装置とを含むことを特徴とするガラス溶射装
置。 - 【請求項７】 請求項６において、前記本溶射装置の進
行方向後部に配置され、本溶射されたガラス被膜を後加
熱する後加熱装置を有するガラス溶射装置。 - 【請求項８】 請求項６または７において、前記追加加
熱装置と本溶射装置と後加熱装置とが一体に同時に移動
するように配置されたガラス溶射装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10340389A JP2000167484A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | ガラス溶射方法および装置 |
| EP99118644A EP1006216A3 (en) | 1998-11-30 | 1999-09-21 | Glass spraying method and apparatus |
| US09/401,802 US6193800B1 (en) | 1998-11-30 | 1999-09-22 | Glass spraying method and apparatus |
| US09/705,948 US6474103B1 (en) | 1998-11-30 | 2000-11-06 | Glass spraying method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10340389A JP2000167484A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | ガラス溶射方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000167484A true JP2000167484A (ja) | 2000-06-20 |
Family
ID=18336490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10340389A Withdrawn JP2000167484A (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | ガラス溶射方法および装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6193800B1 (ja) |
| EP (1) | EP1006216A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000167484A (ja) |
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| JP2004295052A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Tokai Rubber Ind Ltd | 電子写真装置用ロールの製造方法 |
| JP2008104995A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Mitsubishi Polyester Film Copp | バーホルダ及びそれを備える塗布装置 |
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| KR101588174B1 (ko) | 2007-05-17 | 2016-01-27 | 엑사테크 엘.엘.씨. | 공통 플라즈마 코팅 구역에서 복수의 코팅 재료를 침착시키기 위한 장치 및 방법 |
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| CN108057582A (zh) * | 2018-03-01 | 2018-05-22 | 苏州维洛克电子科技有限公司 | 一种聚酯薄膜试剂喷淋涂刷装置 |
| CN111036526B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-04-29 | 丹阳双峰玻璃有限公司 | 一种安全覆硅胶膜玻璃奶瓶生产工艺 |
| EP4143267A1 (en) | 2020-04-30 | 2023-03-08 | Société BIC | Water-based ink composition with color-changing by evaporation |
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| CN1018292B (zh) * | 1989-10-17 | 1992-09-16 | 王理泉 | 一种复合防腐管道及其制造方法 |
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-
1998
- 1998-11-30 JP JP10340389A patent/JP2000167484A/ja not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-09-21 EP EP99118644A patent/EP1006216A3/en not_active Withdrawn
- 1999-09-22 US US09/401,802 patent/US6193800B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-11-06 US US09/705,948 patent/US6474103B1/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1006216A2 (en) | 2000-06-07 |
| US6193800B1 (en) | 2001-02-27 |
| EP1006216A3 (en) | 2004-12-22 |
| US6474103B1 (en) | 2002-11-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060207 |