JP2000151112A - 配線基板及びその製造方法 - Google Patents

配線基板及びその製造方法

Info

Publication number
JP2000151112A
JP2000151112A JP10319159A JP31915998A JP2000151112A JP 2000151112 A JP2000151112 A JP 2000151112A JP 10319159 A JP10319159 A JP 10319159A JP 31915998 A JP31915998 A JP 31915998A JP 2000151112 A JP2000151112 A JP 2000151112A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring pattern
insulating layer
synthetic resin
electronic component
bumps
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10319159A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Ito
健志 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP10319159A priority Critical patent/JP2000151112A/ja
Publication of JP2000151112A publication Critical patent/JP2000151112A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は電子部品の実装密度を向上させる
ことができるようにした配線基板の製造方法を提供する
ことにある。 【解決手段】 少なくとも一方の面に配線パータン6が
形成される配線基板の製造方法において、一対の合成樹
脂シート2の間にチップ部品1を設ける工程と、上記一
対の合成樹シートの少なくとも一方に金属シート4をそ
の板面に形成されたバンプ3を接触させて重合し、この
重合体を加熱加圧して一対の合成樹脂シートを一体化し
て基板本体5を形成するとともに上記バンプを基板本体
に埋め込んで上記チップ部品の電極1aに接続する工程
と、上記金属シートをパターニングして上記バンプと電
気的に接続された配線パターン6を形成する工程とを具
備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は電子部品が実装さ
れる配線基板およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、パソコンなどのデジタル機器
には従来からノイズ対策としてコンデンサや抵抗が使用
されている。近年では実装技術の発達に伴い、抵抗やコ
ンデンサなどの電子部品はそのほとんどがチップ部品に
置き換わっている。
【0003】デジタル機器の動作周波数の向上ととも
に、ノイズ対策部品が増加しており、配線基板に占める
チップ部品の面積が問題になっている。
【0004】また、携帯電話のようにアナログ回路を有
する機器では、個別の抵抗、コンデンサ、インダクタが
必要になる。携帯電話のように、小型化が著しい機器に
おいては、LSIの統合、チップサイズパッケージの採
用だけでは必ずしも十分でなくなってきている。
【0005】そこで、チップ部品を小型化する傾向にあ
るものの、小型化によって接続信頼性が確保し難くなる
ため、実用化には問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、配線基板
の実装密度を向上させるために、電子部品を小型化する
ようにしたのでは、その電子部品の接続信頼性が低下す
るということがあり、また電子部品の小型化には限界が
ある。
【0007】この発明は、電子部品を小型化しなくとも
実装密度を向上させることができるようにした配線基板
及びその製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、少な
くとも一方の面に配線パータンが形成される配線基板に
おいて、第1の電子部品が内蔵された電気絶縁性の基板
本体と、一端が上記第1の電子部品の電極に接続され他
端に上記配線パターンが電気的に接続された導電性のバ
ンプとを具備したことを特徴とする。
【0009】請求項1の発明により、基板に内蔵された
第1の電子部品は基板本体の実装可能面積を減少させる
ことがないから、その分、つまり第1の電子部品が占有
する面積分だけ実装密度を向上させることができる。
【0010】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、上記配線パターンには第2の電子部品が実装される
ことを特徴とする。
【0011】請求項2の発明により、基板の表面に、第
1の電子部品に関わりなく第2の電子部品を実装できる
から、第2の電子部品の実装密度を向上させることがで
きる。
【0012】請求項3の発明は、請求項1の発明におい
て、上記基板本体の配線パターンが形成された面には、
少なくとも一層の合成樹脂製の絶縁層が接合され、この
絶縁層には上層配線パターンが形成されるとともに、こ
の上層配線パターンと上記絶縁層によって覆われた配線
パターンとは上記絶縁層に貫通して設けられた導電性の
層間バンプによって電気的に接続されていることを特徴
とする。
【0013】請求項3の発明により、基板本体と絶縁層
に配線パターンが形成されることで、配線パターンの高
密度化を計ることができる。
【0014】請求項4の発明は、請求項3の発明におい
て、最も外側に位置する絶縁層の配線パターンには、第
2の電子部品が実装されることを特徴とする。
【0015】請求項4の発明により、電子部品の実装密
度を向上できるばかりか、配線パターンの高密度化を計
ることができることで、最も外側に位置する絶縁層の配
線パターンには端子数の多い第2の電子部品を実装する
ことが可能となる。
【0016】請求項5の発明は、少なくとも一方の面に
配線パータンが形成される配線基板の製造方法におい
て、一対の合成樹脂シートの間に第1の電子部品を設け
る工程と、上記一対の合成樹脂シートの少なくとも一方
に金属シートをその板面に形成されたバンプを接触させ
て重合し、この重合体を加熱加圧して一対の合成樹脂シ
ートを一体化して基板本体を形成するとともに上記バン
プを基板本体に埋め込んで上記第1の電子部品の電極に
接続する工程と、上記金属シートをパターニングして上
記バンプと電気的に接続された配線パターンを形成する
工程とを具備したことを特徴とする。
【0017】請求項5の発明により、第1の電子部品が
基板本体に埋設されることで、この基板本体に対する実
質的な実装密度を向上させることができる。
【0018】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、上記配線パターンに第2の電子部品を実装する工程
を備えていることを特徴とする。
【0019】請求項6の発明により、基板本体に対する
電子部品の実装密度を向上させることができる。
【0020】請求項7の発明は、請求項5の発明におい
て、上記基板本体の配線パターンが形成された板面に絶
縁層を接合する工程と、この絶縁層に上層金属シートを
その板面に形成された層間バンプを接触させて重合し、
上記上層金属シートを介して上記絶縁層を加熱加圧して
この絶縁層を上記基板本体と一体化するとともに上記層
間バンプを上記絶縁層に埋め込んで上記基板本体の配線
パターンに電気的に接続する工程と、上記金属シートを
パターニングして上記バンプと電気的に接続された上層
配線パターンを形成する工程とを具備したことを特徴と
する。
【0021】請求項7の発明により、基板本体と絶縁層
にそれぞれ配線パターンが形成されることで、配線パタ
ーンの高密度化を計ることができる。
【0022】請求項8の発明は、請求項5の発明におい
て、請求項7に記載された工程を複数回繰り返すことを
特徴とする。
【0023】請求項8の発明により、基板本体と複数の
絶縁層に配線パターンが形成されることで、配線パター
ンの高密度化を計ることができる。
【0024】請求項9の発明は、請求項7または請求項
8の発明において、最も外側に位置する絶縁層に形成さ
れた上層配線パターンに第2の電子部品を実装する工程
を備えたことを特徴とする。
【0025】請求項9の発明により、電子部品の実装密
度を向上できるばかりか、配線パターンの高密度化を計
ることが可能となり、最も外側に位置する絶縁層の配線
パターンには端子数の多い第2の電子部品を実装するこ
とが可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
【0027】図1乃至図3はこの発明の第1の実施形態
の配線基板Aの製造方法を示す。まず、図1(a)に示
すように第1の電子部品であるチップ部品1を一対の合
成樹脂シート2の内面間に挟み込み、同図(b)に示す
ように上記チップ部品1を上記合成樹脂シート2間で位
置決めする。
【0028】上記チップ部品1としては抵抗やコンデン
サなどで、通常そのサイズによって1005(1mm×
0.5mmサイズ)や0603と(0.6mm×0.3
mmサイズ)呼ばれる小型のものが用いられることが多
い。
【0029】上記合成樹脂シート2としては熱硬化性合
成樹脂や熱可塑性合成樹脂が用いられ、たとえばBT樹
脂やPPE樹脂が用いられる。合成樹脂シート2は上記
チップ部品1の厚さの2分の1以上の厚さを有すること
が望ましく、この実施の形態ではチップ部品1の厚さと
ほぼ同じ厚さの合成樹脂シート2が用いられている。
【0030】それによって、後述するごとく一対の合成
樹脂シート2を加熱軟化(熱硬化性樹脂の場合)あるい
は加熱溶融(熱可塑性樹脂の場合)してチップ部品1を
これら合成樹脂シート2に埋設したときに、そのチップ
部品1が外部に露出するのを防止することができる。
【0031】つぎに、図2(a)に示すように一対の合
成樹脂シート2の外面にそれぞれ一方の板面に円錐状あ
るいは角錐状のバンプ3が形成された金属シート4を、
そのバンプ3が形成された面を対向させて重合してか
ら、この重合体を加熱しながら同図(b)に矢印Xで示
す方向に加圧する。
【0032】重合体が加圧されることで、合成樹脂シー
ト2は溶融して図2(a)に示すチップ部品1間の隙間に
入り込んで合成樹脂とチップ部品1とが一体化されると
ともに、上記金属シート4に形成されたバンプ3は上記
基板本体5内に埋め込まれて上記チップ部品1の電極1
aに電気的に接続される。その結果、図2(b)に示す
ように合成樹脂シート2と金属シート4とが一体化され
た基板本体5が形成される。
【0033】上記金属シート4は銅やアルミニウムなど
の電気抵抗の少ない金属が用いられ、この実施の形態で
は通常の配線基板の配線パターンに用いられる厚さ18
μmの電解銅箔が用いられている。
【0034】上記バンプ3は上記金属シート4にポリマ
ータイプの銀系ペーストを印刷して形成される。印刷を
行うにはマスクが用いられる。マスクとしては厚さ10
0μmのステンレス鋼板の所定の位置に数10μm以下
の径の孔が開けられたメタルマスクが用いられる。
【0035】このようにして金属シート4を合成樹脂シ
ート2と一体化したならば、図2(c)に示すように上
記金属シート4をパターニングして配線パターン6を形
成する。金属シート4のパターニングは、この金属シー
ト4にエッチングレジストを印刷してエッチング加工を
行い、ついでそのレジストをアルカリ水溶液で剥離除去
すれば、図2(c)に示すように基板本体5の両面に配
線パターン6が形成された配線基板Aを得ることができ
る。
【0036】図3(a)〜(c)は図2(c)に示す配
線基板Aから多層配線基板Bを製造する工程を示してお
り、同図(a)は基板本体5の配線パターン6が形成さ
れた両面に絶縁層である層間合成樹脂シート11および
板面の所定の位置に層間バンプ12が形成された上層金
属シート13を順次対向させる。
【0037】つぎに、同図(b)に示すように、基板本
体5に対して上記層間合成樹脂シート13と上層金属シ
ート13とを重合し、この重合体を加熱しながら同図
(b)に矢印Yで示す方向に加圧する。
【0038】その結果、上記層間合成樹脂シート13は
溶融して基板本体5と一体化されるとともに、層間バン
プ12は層間合成樹脂シート13内に入り込み、基板本
体5の配線パターン6と電気的に接続される。
【0039】層間バンプ12を配線パターン6に電気的
に接続したならば、上記上層金属シート13をエッチン
グ加工することで、上層配線パターン14を形成するか
ら、配線パターン6,14が4層構造の多層配線基板B
を構成することができる。
【0040】そして、この多層配線基板Bの上層配線パ
ターン14には図3(c)に鎖線で示すように第2の電
子部品としてたとえばボールグリッドアレイパッケージ
15が実装される。
【0041】なお、上層金属シート13に層間バンプ1
2を形成する方法や上層金属シート13をパターニング
する方法は配線基板Aを形成するときと同じ方法で行え
ばよい。
【0042】このように、基板本体5の内部に第1の電
子部品であるチップ部品1を埋め込むようにしたこと
で、多層配線基板Bの上層配線パターン14が形成され
た面に上記チップ部品1を実装せずにすむ。そのため、
多層配線基板Bの板面全体を第2の電子部品を実装する
ために利用することができるから、多層配線基板B全体
としての実装密度を向上させることができる。
【0043】しかも、チップ部品1の電極1aと配線パ
ターン6とは、基板本体5を形成する際に、金属シート
4に形成されたバンプ3によって電気的に接続すること
ができる。つまり、チップ部品1の電極1aと配線パタ
ーン6とを、基板本体5を製造する過程で接続すること
ができ、接続のための専用の作業を行う必要がないか
ら、チップ部品1の実装作業の能率向上を計ることがで
きる。
【0044】配線パターン6,14を4層構造とした多
層配線基板Bとすることで、配線密度を向上させること
ができる。それによって、第2の電子部品が端子数の多
いボールグリッドアレイパッケージ15などであって
も、その多層配線基板Bに実装することが可能となる。
【0045】図4はこの発明の第2の実施形態の多層配
線基板Cを示す。この実施の形態の多層配線基板Cは基
板本体5に埋設されたチップ部品1は、たとえばデカッ
プリング・コンデンサであって、この基板本体5の一方
の面に形成された配線パターン6aはグランド層31と
して使用され、他方の面に形成された配線パターン6a
が電源層32として使用される。
【0046】基板本体5の上下両面には、それぞれ第1
の上層合成樹脂シート21、第1の上層金属シート(図
示せず)および第2の合成樹脂シート23及び第2の上
層金属シート(図示せず)が順次積層される。上記第
1、第2の上層金属シートは、エッチング加工されるこ
とで、配線パターン6b,6cに形成される。
【0047】それによって、この多層配線基板Cは上下
にそれぞれ3層の配線パターン6a,6b,6cが形成
された6層構成となっていて、図面における下側の配線
パターン6cには第2の電子部品としてのフラットパッ
ケージ25が実装され、上面には第1の電子部品である
チップ部品1や第2の電子部品であるボールグリッドア
レイパッケージ15などが実装される。
【0048】なお、上記各層間金属シートには層間バン
プ22,24が設けられ、これら層間バンプ22,24
によって3層の配線パターン6a,6b,6cが互いに
電気的に接続されるようになっている。
【0049】このような構成の配線基板Cによれば、基
板本体5に埋設されたデカップリング・コンデンサであ
るチップ部品1を、グランド層31となる配線パターン
6a及び電源層32となる配線パターン6aに対して十
分に近づけて配置することができるから、これらの間の
インダクタンスが小さくなり、チップ部品1のデカップ
リング・コンデンサとしての機能を効果的に発揮させる
ことができる。
【0050】図5はこの発明の第3の実施の形態の多層
配線基板Dを示す。この実施の形態の多層配線基板Dは
第2の実施の形態と同様、配線パターンが上下に3層ず
つ形成された6層構造であり、基板本体5の上面側の配
線パターン6aはグランドパターン33として利用さ
れ、同じく上面側の第3層の配線パターン6cは信号線
34として利用される。
【0051】基板本体5に埋設される複数のチップ部品
1のうちの1つは終端抵抗であって、この終端抵抗1は
上記グランドパターン33となる配線パターン6cと、
信号線34となる配線パターン6cとの間に接続され
る。
【0052】終点抵抗である上記チップ部品1を基板本
体5に埋設したことで、このチップ部品1の一方の電極
1aはグランドパターン33となる配線パターン6aに
バンプ3を介して直接的に接続することができる。
【0053】そのため、上記チップ部品1に対しては信
号線34となる配線パターン6cを接続するだけでよい
から、上記チップ部品1に対する接続が容易となるばか
りか、チップ部品1とグランドパターン33となる配線
パターン6aとの接続長さをほとんどなくすことができ
るから、電気的特性の向上を計ることが可能となる。
【0054】なお、第3の実施の形態において、図4に
示す第2の実施の形態と同一部分には同一記号を付して
説明を省略する。
【0055】この発明は上記各実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、上記各実施の形態
では基板本体の上下両面に配線パターンを形成したが、
いずれか一方の面だけに配線パターンを形成する構成で
あっても差し支えない。そのような基板本体をもとにし
て多層配線基板を形成する場合、配線パターンが形成さ
れた一方の面につぎの絶縁層と配線パターンとを順次形
成すればよいこと勿論である。
【0056】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、合成樹
脂製の基板本体内に電子部品を埋設するようにしたか
ら、電子部品を基板の表面だけに実装する場合に比べて
その実装密度を向上させることができる。
【0057】しかも、基板本体を製造する過程で、配線
パターンと、その基板本体に埋設される電子部品とを電
気的に接続することができるため、生産性の向上を計る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b)はこの発明の第1の実施の形態
の基板本体の製造工程を示す説明図。
【図2】同じく(a)〜(c)はこの発明の第1の実施
の形態の基板本体の製造工程を示す説明図。
【図3】同じく(a)〜(c)はこの発明の第1の実施
の形態の多層配線基板の製造工程を示す説明図。
【図4】この発明の第2の実施の形態の多層配線基板を
示す断面図。
【図5】この発明の第3の実施の形態の多層配線基板を
示す断面図。
【符号の説明】
1…チップ部品(第1の電子部品) 1a…電極 2…合成樹脂シート 3…バンプ 4…金属シート 5…基板本体 6…配線パターン 11…層間合成樹脂シート 12…層間バンプ 13…上層金属シート 15…ボールグリッドアレイパッケージ(第2の電子部
品)

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方の面に配線パータンが形
    成される配線基板において、 第1の電子部品が内蔵された電気絶縁性の基板本体と、 一端が上記第1の電子部品の電極に接続され他端に上記
    配線パターンが電気的に接続された導電性のバンプとを
    具備したことを特徴とする配線基板。
  2. 【請求項2】 上記配線パターンには第2の電子部品が
    実装されることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
  3. 【請求項3】 上記基板本体の配線パターンが形成され
    た面には、少なくとも一層の合成樹脂製の絶縁層が接合
    され、この絶縁層には上層配線パターンが形成されると
    ともに、この上層配線パターンと上記絶縁層によって覆
    われた配線パターンとは上記絶縁層に貫通して設けられ
    た導電性の層間バンプによって電気的に接続されている
    ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。
  4. 【請求項4】 最も外側に位置する絶縁層の配線パター
    ンには、第2の電子部品が実装されることを特徴とする
    請求項3記載の配線基板。
  5. 【請求項5】 少なくとも一方の面に配線パータンが形
    成される配線基板の製造方法において、 一対の合成樹脂シートの間に第1の電子部品を設ける工
    程と、 上記一対の合成樹脂シートの少なくとも一方に金属シー
    トをその板面に形成されたバンプを接触させて重合し、
    この重合体を加熱加圧して一対の合成樹脂シートを一体
    化して基板本体を形成するとともに上記バンプを基板本
    体に埋め込んで上記第1の電子部品の電極に接続する工
    程と、 上記金属シートをパターニングして上記バンプと電気的
    に接続された配線パターンを形成する工程とを具備した
    ことを特徴とする配線基板の製造方法。
  6. 【請求項6】 上記配線パターンに第2の電子部品を実
    装する工程を備えていることを特徴とする請求項5記載
    の配線基板の製造方法。
  7. 【請求項7】 上記基板本体の配線パターンが形成され
    た板面に絶縁層を接合する工程と、 この絶縁層に上層金属シートをその板面に形成された層
    間バンプを接触させて重合し、上記上層金属シートを介
    して上記絶縁層を加熱加圧してこの絶縁層を上記基板本
    体と一体化するとともに上記層間バンプを上記絶縁層に
    埋め込んで上記基板本体の配線パターンに電気的に接続
    する工程と、 上記金属シートをパターニングして上記バンプと電気的
    に接続された上層配線パターンを形成する工程とを具備
    したことを特徴とする請求項5記載の配線基板の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載された工程を複数回繰り
    返すことを特徴とする請求項5記載の配線基板の製造方
    法。
  9. 【請求項9】 最も外側に位置する絶縁層に形成された
    上層配線パターンに第2の電子部品を実装する工程を備
    えたことを特徴とする請求項7または請求項8記載の配
    線基板の製造方法。
JP10319159A 1998-11-10 1998-11-10 配線基板及びその製造方法 Pending JP2000151112A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10319159A JP2000151112A (ja) 1998-11-10 1998-11-10 配線基板及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10319159A JP2000151112A (ja) 1998-11-10 1998-11-10 配線基板及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000151112A true JP2000151112A (ja) 2000-05-30

Family

ID=18107101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10319159A Pending JP2000151112A (ja) 1998-11-10 1998-11-10 配線基板及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000151112A (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002134189A (ja) * 2000-10-23 2002-05-10 Ibiden Co Ltd 接続材,接続構造およびそれらの製造方法
JP2002151846A (ja) * 2000-02-09 2002-05-24 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板およびその製造方法
EP1267597A3 (en) * 2001-06-13 2004-10-13 Denso Corporation Printed wiring board with embedded electric device and method for manufacturing printed wiring board with embedded electric device
JP2005135995A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Matsushita Electric Works Ltd 回路部品内蔵モジュール、回路部品内蔵モジュールの製造方法、および多層構造回路部品内蔵モジュール、多層構造回路部品内蔵モジュールの製造方法
US7644497B2 (en) 2002-10-08 2010-01-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Component built-in wiring board and manufacturing method of component built-in wiring board
JP2010103559A (ja) * 2010-01-25 2010-05-06 Kyocera Corp 電気素子内蔵配線基板の製法
KR100996914B1 (ko) 2008-06-19 2010-11-26 삼성전기주식회사 칩 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR100997880B1 (ko) 2008-08-08 2010-12-02 대덕전자 주식회사 칩 내장 기판의 패드와 기판을 접속 제조하는 방법 및 이를적용한 다기능 인쇄회로기판
JP2010278380A (ja) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd 配線基板の製造方法および配線基板
JP2013118298A (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 Dainippon Printing Co Ltd 部品内蔵配線基板、及びその製造方法
JP2013171926A (ja) * 2012-02-20 2013-09-02 Denso Corp 電子部品
JP2020021951A (ja) * 2012-02-24 2020-02-06 日本テキサス・インスツルメンツ合同会社 システムインパッケージ及びその製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151846A (ja) * 2000-02-09 2002-05-24 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板およびその製造方法
JP2002134189A (ja) * 2000-10-23 2002-05-10 Ibiden Co Ltd 接続材,接続構造およびそれらの製造方法
EP1267597A3 (en) * 2001-06-13 2004-10-13 Denso Corporation Printed wiring board with embedded electric device and method for manufacturing printed wiring board with embedded electric device
US7165321B2 (en) 2001-06-13 2007-01-23 Denso Corporation Method for manufacturing printed wiring board with embedded electric device
US7644497B2 (en) 2002-10-08 2010-01-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Component built-in wiring board and manufacturing method of component built-in wiring board
JP2005135995A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Matsushita Electric Works Ltd 回路部品内蔵モジュール、回路部品内蔵モジュールの製造方法、および多層構造回路部品内蔵モジュール、多層構造回路部品内蔵モジュールの製造方法
KR100996914B1 (ko) 2008-06-19 2010-11-26 삼성전기주식회사 칩 내장 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR100997880B1 (ko) 2008-08-08 2010-12-02 대덕전자 주식회사 칩 내장 기판의 패드와 기판을 접속 제조하는 방법 및 이를적용한 다기능 인쇄회로기판
JP2010278380A (ja) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd 配線基板の製造方法および配線基板
JP2010103559A (ja) * 2010-01-25 2010-05-06 Kyocera Corp 電気素子内蔵配線基板の製法
JP2013118298A (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 Dainippon Printing Co Ltd 部品内蔵配線基板、及びその製造方法
JP2013171926A (ja) * 2012-02-20 2013-09-02 Denso Corp 電子部品
JP2020021951A (ja) * 2012-02-24 2020-02-06 日本テキサス・インスツルメンツ合同会社 システムインパッケージ及びその製造方法
JP7132467B2 (ja) 2012-02-24 2022-09-07 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテッド システムインパッケージ及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3610339B2 (ja) 高密度電子パッケージおよびその製造方法
WO2001026147A1 (fr) Dispositif a semi-conducteur, son procede de fabrication, carte de circuit imprime et dispositif electronique
JP4806356B2 (ja) 単一のバイアにより固定されたパッドをもつ多層セラミック基板
WO2004112135A1 (ja) 半導体装置用基板および半導体装置
JP2001332866A (ja) 回路基板及びその製造方法
JP4143609B2 (ja) 配線基板の製造方法
KR20080026028A (ko) 반도체 장치의 제조방법
JP2000151112A (ja) 配線基板及びその製造方法
US7135377B1 (en) Semiconductor package substrate with embedded resistors and method for fabricating same
US7323762B2 (en) Semiconductor package substrate with embedded resistors and method for fabricating the same
JP3930222B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP5202878B2 (ja) 配線基板
JP3246502B2 (ja) 部品内蔵両面配線板の製造方法、及び電子回路構成体の製造方法
WO2004017689A1 (ja) 多層プリント配線板及びその製造方法
CN101241901A (zh) 内埋式芯片封装结构及其制作方法
JP2008182039A (ja) 多層配線板およびその製造方法
JP4638657B2 (ja) 電子部品内蔵型多層基板
JPH1041631A (ja) チップ埋め込み構造高密度実装基板の製造方法
JP2002151853A (ja) 多層配線基板とその製造方法
JP3881193B2 (ja) 電子部品実装済部品の製造方法、電子部品実装済部品、電子部品実装済完成品の製造方法及び電子部品実装済完成品
JP2001298274A (ja) 電子回路構成体
JP4814129B2 (ja) 部品内蔵配線基板、配線基板内蔵用部品
JP4207654B2 (ja) コンデンサ内蔵プリント配線板
TWI293236B (en) Method for manufacturing a substrate embedded with an electronic component and device from the same
JP3880921B2 (ja) 金属ベース配線基板及びその基板を使った高周波装置