JP2000143688A - ゼアキサンチンモノ−β−グルコシドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ゼアキサンチンモノ−β−グルコシドを選択
的に得ることができる方法を提供する。 【解決手段】 下記の反応スキームに従い、３−ヒドロ
キシ−β−イオノンをグリコシル化し、得られた化合物
の側鎖を延長してカロテノイド骨格を形成することから
なる、式（１）で示されるゼアキサンチンモノ−β−グ
ルコシドの製造方法。 【化１】 （上記式中、Ｘ¹、Ｘ²およびＸ³はそれぞれハロゲン原
子を表し、Ｚはホルミル基またはアセタール型に保護さ
れたホルミル基を表す。また、Ｙはアシル基を表し、Ｙ
¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は、それぞれアシル基または水素
原子を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、生体細胞膜の安定
化に寄与するとされている、下記の式（１）

【０００２】

【化９】

【０００３】で示されるゼアキサンチンモノ−β−グル
コシドの製造方法に関する。

【０００４】

【従来の技術】ゼアキサンチンモノ−β−グルコシドの
製造方法としては、ゼアキサンチンとグルコースを原料
として製造する方法が知られている〔Helv. Chim. Act
a, 57,1641 (1974) 参照〕。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の方法で
は、ゼアキサンチンの水酸基が２つともグリコシド化さ
れた化合物が副生し、選択的に目的とするモノグルコシ
ド体を得ることは困難である。本発明は、このような従
来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、選択的
にゼアキサンチンモノ−β−グルコシドを製造すること
のできる方法を提供することを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、水酸基を１つ有する化
合物である３−ヒドロキシ−β−イオノンをグリコシル
化し、得られた化合物の側鎖を延長してカロテノイド骨
格を形成するという方法により、選択的に目的化合物が
得られることを見出し、さらに検討した結果、本発明を
完成させるに至った。

【０００７】すなわち、本発明は、以下の工程１〜４か
らなる、上記の式（１）で示されるゼアキサンチンモノ
−β−グルコシドの製造方法である。

【０００８】工程１：３−ヒドロキシ−β−イオノンと
下記の式（２）

【０００９】

【化１０】

【００１０】（式中、Ｘ¹はハロゲン原子を表し、Ｙは
アシル基を表す）で示されるグルコース誘導体を反応さ
せて、下記の式（３）

【００１１】

【化１１】

【００１２】（式中、Ｙは上記定義のとおりである）で
示される化合物を製造する工程、

【００１３】工程２：工程１で得られた式（３）で示さ
れる化合物に、下記の式（４）

【００１４】

【化１２】

【００１５】で示されるイミン塩を反応させる（ただ
し、該反応の副反応としてアシル基で保護された水酸基
の脱保護反応が起きた場合には、所望により、該脱保護
反応によって生成した水酸基を保護してもよい）ことに
よって、下記の式（５）

【００１６】

【化１３】

【００１７】（式中、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は、それ
ぞれアシル基または水素原子を表す）で示される化合物
を製造する工程、

【００１８】工程３： ｉ）工程２で得られた化合物を示す上記の式（５）にお
いてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴の少なくとも１つがアシル
基である場合、該式（５）で示される化合物に塩基性物
質を作用させることによってアシル基で保護された水酸
基を脱保護し、さらにアルカリ金属アルコキシドの存在
下、下記の式（６）

【００１９】

【化１４】

【００２０】（式中、Ｘ²はハロゲン原子を表し、Ｚは
ホルミル基またはアセタール型に保護されたホルミル基
を表す）で示されるホスホニウム塩Ｉを作用させること
によって、 また、ｉｉ）工程２で得られた化合物を示す上記の式
（５）においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴がすべて水酸基
である場合、該式（５）で示される化合物にアルカリ金
属アルコキシドの存在下、上記の式（６）で示されるホ
スホニウム塩Ｉを作用させることによって、下記の式
（７）

【００２１】

【化１５】

【００２２】で示される化合物を製造する工程、

【００２３】工程４：工程３で得られた式（７）で示さ
れる化合物に、アルカリ金属アルコキシドの存在下、下
記の式（８）

【００２４】

【化１６】

【００２５】（式中、Ｘ³はハロゲン原子を表す）で示
されるホスホニウム塩ＩＩを作用させて、上記の式
（１）で示されるゼアキサンチンモノ−β−グルコシド
を製造する工程。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を工程順に説明す
る。

【００２７】工程１ この工程では、３−ヒドロキシ−β−イオノンに、上記
の式（２）で示されるグルコース誘導体を反応させて、
上記の式（３）で示される化合物を製造する。

【００２８】式（２）において、Ｘ¹が表すハロゲン原
子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられる。また、式（２）にお
いて、Ｙが表すアシル基としては、例えば、アセチル
基、プロピオニル基、イソブチリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基、ベンゾイル基、４−メチルベンゾイ
ル基などが挙げられるが、炭素数が８以下のものが好ま
しい。

【００２９】一方、式（２）で示されるグルコース誘導
体と反応させる、３−ヒドロキシ−β−イオノンは公知
物質であり、例えば、文献〔Helv. Chim. Acta., 63, 1
377(1980)〕などに記載された方法によって製造するこ
とができる。また、文献〔J.Chem. Soc., Perkin Trans
1, 2569 (1998)〕に記載された方法に従って、水酸基
がトリアルキルシリル基で保護された３−ヒドロキシ−
β−イオノンを製造し、該化合物におけるトリアルキル
シリル基を常法（フッ化水素で処理する方法など）に従
って脱保護することによって製造することも可能であ
る。なお、３−ヒドロキシ−β−イオノンとしては、
（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−β−イオノンや（３Ｓ）−
３−ヒドロキシ−β−イオノンなどの光学活性体を使用
してもよい。以下、本明細書では、このような光学活性
体を包含して、「３−ヒドロキシ−β−イオノン」とい
う名称を使用する。

【００３０】本工程において、式（２）で示されるグル
コース誘導体の使用量は、３−ヒドロキシ−β−イオノ
ン１モルに対し、通常、１〜３モルの範囲である。

【００３１】式（２）で示されるグルコース誘導体と３
−ヒドロキシ−β−イオノンの反応は、通常、溶媒の存
在下に実施される。使用可能な溶媒としては、例えば、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。溶媒の使用量
は、特に制限されるものではないが、一般に、３−ヒド
ロキシ−β−イオノンに対し、０．５〜１０００倍重量
である。

【００３２】式（２）で示されるグルコース誘導体と３
−ヒドロキシ−β−イオノンの反応は、通常、−３０〜
５０℃、好ましくは−２０〜２０℃の温度範囲で行われ
る。また、式（２）で示されるグルコース誘導体と３−
ヒドロキシ−β−イオノンの反応は、窒素、アルゴン等
の不活性ガス雰囲気下に実施することが好ましい。

【００３３】式（２）で示されるグルコース誘導体と３
−ヒドロキシ−β−イオノンの反応に際しては、銀化合
物または水銀化合物を併用することにより、目的化合物
の収率を向上させ、しかも反応時間を短縮させることが
できる。銀化合物としては、例えば、塩化銀、臭化銀、
トリフルオロ酢酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀
（銀トリフレート）などが挙げられ、また、水銀化合物
としては、例えば、塩化水銀（Ｉ）、塩化水銀（Ｉ
Ｉ）、臭化水銀（Ｉ）、ヨウ化水銀（Ｉ）などが挙げら
れるが、いずれもハロゲン原子を含有する化合物が好ま
しい。銀化合物または水銀化合物の使用量は、式（２）
で示されるグルコース誘導体１モルに対して、１〜４グ
ラム当量であることが好ましい。

【００３４】また、式（２）で示されるグルコース誘導
体と３−ヒドロキシ−β−イオノンの反応は、各種のモ
レキュラーシーブの存在下に実施してもよい。

【００３５】反応終了後、生成物である式（３）で示さ
れる化合物は、常法に従って、反応混合物を処理するこ
とによって分離取得することができる。反応混合物の処
理方法としては、例えば、反応混合物に水を加え、遊離
した有機層を取得する方法が挙げられる。この際、例え
ば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素溶媒；酢酸エチル等のエステル系
溶剤などを利用して抽出してもよい。なお、不溶物によ
って有機層の分離が困難となった場合には、セライトな
どを用いて不溶物を濾別するとよい。このようにして得
られた有機層から、必要に応じて、重曹水、食塩水など
による洗浄操作を施した後、溶剤を留去することによ
り、式（３）で示される化合物を得ることができる。

【００３６】このようにして得られた、式（３）で示さ
れる化合物は、そのまま次の工程２における原料として
使用することができるが、所望により、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−等の手段により純度を高めてから
次の工程２における原料として使用してもよい。

【００３７】工程２ この工程では、工程１で得られた式（３）で示される化
合物に、上記の式（４）で示されるイミン塩を反応させ
て、上記の式（５）で示される化合物を製造する。ここ
で、生成物を表す式（５）において、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³お
よびＹ⁴が表すアシル基としては、Ｙと同様に、アセチ
ル基、プロピオニル基、イソブチリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基、ベンゾイル基、４−メチルベンゾイ
ル基などが挙げられるが、炭素数が８以下のものが好ま
しい。

【００３８】本工程で使用する式（４）で示されるイミ
ン塩は、例えば、アセトアルデヒドのα−トリエチルシ
リル−ｔ−ブチルイミン〔すなわち、２−メチル−Ｎ−
［２−（トリエチルシリル）エチニリデン］−２−プロ
パンアミン〕を、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
媒中で、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ
−ブチルリチウム等の有機リチウムと反応させることに
よって調製することができる。この際、有機リチウムの
使用量は、アセトアルデヒドのα−トリエチルシリル−
ｔ−ブチルイミン１モルに対して、通常１〜１．２モ
ル、好ましくは１〜１．０５モルである。また、溶媒の
使用量は、通常、アセトアルデヒドのα−トリエチルシ
リル−ｔ−ブチルイミンに対して、１〜１００倍重量で
ある。式（４）で示されるイミン塩の調製は、一般に−
８０〜０℃の温度で実施される。また、式（４）で示さ
れるイミン塩の調製は、窒素、アルゴン等の不活性ガス
雰囲気下で実施することが好ましい。

【００３９】式（４）で示されるイミン塩の使用量は、
式（３）で示される化合物１モルに対し、通常０．９〜
１０モルの範囲である。

【００４０】式（４）で示されるイミン塩と式（３）で
示される化合物の反応は、通常、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒の存在下に実施される。溶媒の使用量
は、特に制限されるものではないが、一般に、式（３）
で示される化合物に対し、０．５〜１０００倍重量であ
る。なお、式（４）で示されるイミン塩と式（３）で示
される化合物の反応は、上記の方法等によって調製した
式（４）で示されるイミン塩の溶液に、式（３）で示さ
れる化合物を添加するという手法で実施することが好ま
しい。

【００４１】式（４）で示されるイミン塩と式（３）で
示される化合物の反応は、通常、−８０〜０℃の温度範
囲で行われる。反応時間は、通常、５分〜５時間程度で
ある。また、式（４）で示されるイミン塩と式（３）で
示される化合物の反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガ
ス雰囲気下に実施することが好ましい。

【００４２】反応終了後、生成物である式（５）で示さ
れる化合物は、常法に従って、反応混合物を処理するこ
とによって分離取得することができる。反応混合物の処
理方法としては、例えば、反応混合物に、酢酸、シュウ
酸、クエン酸などの有機酸の水溶液を加えて反応を停止
させた後、酢酸エチル等のエステル系溶媒；ジエチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素系溶媒などの有機溶媒を用いて式
（５）で示される化合物を有機層に抽出する方法が挙げ
られる。このようにして得られた有機層から、必要に応
じて、重曹水、食塩水などによる洗浄操作を施した後、
有機溶媒を留去することにより、式（５）で示される化
合物を得ることができる。

【００４３】このようにして得られた、式（５）で示さ
れる化合物は、そのまま次の工程３における原料として
使用することができるが、所望により、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−等の手段により純度を高めてから
次の工程３における原料として使用してもよい。

【００４４】なお、本工程において、グルコシド部分に
含まれる保護された水酸基の少なくとも一部が加水分解
されて水酸基となっている場合がある。この場合には、
必要に応じて、該水酸基を常法に従って再度エステル化
することも可能である。エステル化の方法としては、例
えば、塩化ベンゾイル、塩化アセチル、臭化アセチル等
の酸ハロゲン化物を、ピリジン、トリエチルアミンなど
の塩基性物質の存在下に反応させる方法が挙げられる。

【００４５】工程３ この工程では、ｉ）工程２で得られた化合物を示す上記
の式（５）においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴の少なくと
も１つがアシル基である場合、該式（５）で示される化
合物に塩基性物質を作用させることによってアシル基で
保護された水酸基を脱保護し、さらにアルカリ金属アル
コキシドの存在下、上記の式（６）で示されるホスホニ
ウム塩Ｉを作用させることによって、また、ｉｉ）工程
２で得られた化合物を示す上記の式（５）において
Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴がすべて水酸基である場合、該
式（５）で示される化合物にアルカリ金属アルコキシド
の存在下、上記の式（６）で示されるホスホニウム塩Ｉ
を作用させることによって、上記の式（７）で示される
化合物を製造する。

【００４６】なお、本工程において、水酸基の脱保護に
際して塩基性物質としてアルカリ金属アルコキシドを使
用することができるが、その場合には、水酸基の脱保護
とホスホニウム塩Ｉとの反応を同時に行うことも可能で
ある。

【００４７】以下、水酸基の脱保護を行った後にホスホ
ニウム塩Ｉとの反応を行う方法について説明する。式
（５）で示される化合物の水酸基の脱保護（以下、「脱
保護反応」と略称する）において、使用する塩基性物質
としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムメト
キシド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド
等のアルカリ金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩などが挙
げられる。塩基性物質の使用量は、式（５）で示される
化合物１モルに対して、通常、０．０１〜２０モル、好
ましくは０．１〜１５モルの範囲である。

【００４８】脱保護反応は、通常溶媒の存在下に実施さ
れる。使用可能な溶媒としては、例えば、メタノール、
エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブ
タノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコ
ール；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエー
テル類などが挙げられる。溶媒の使用量は、特に制限さ
れるものではないが、一般に、式（５）で示される化合
物に対し、０．５〜１０００倍重量である。

【００４９】脱保護反応は、通常、０〜１００℃、好ま
しくは１０〜３０℃の温度範囲で実施される。反応時間
は、通常、１０分〜５時間程度である。また、脱保護反
応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下に実施す
ることが好ましい。

【００５０】脱保護反応によって得られた化合物（以
下、「脱保護体」と略称する）は、常法に従って、反応
混合物を処理することによって分離取得することができ
る。反応混合物の処理方法としては、例えば、反応に使
用した式（５）で示される化合物に対して１〜１０倍重
量の酸性型イオン交換樹脂を反応混合物に加え、１０〜
５０℃で５分〜２時間程度撹拌した後、固体状物をろ過
などの方法により分離し、得られたろ液を濃縮すること
によって、脱保護体を取得する方法が挙げられる。この
ようにして得られた、脱保護体は、そのままホスホニウ
ム塩Ｉとの反応に使用することができるが、所望によ
り、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−等の手段によ
り純度を高めてからホスホニウム塩Ｉとの反応に使用し
てもよい。

【００５１】脱保護体と反応させるホスホニウム塩Ｉを
表す式（６）において、Ｘ²が表すハロゲン原子として
は、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙
げられる。また、同式において、Ｚがアセタール型に保
護されたホルミル基を表す場合、Ｚは式 −ＣＨ（Ｏ
Ｒ）₂〔式中Ｒはアルキル基を示す〕で表すことができ
る。ここで、Ｒが表す炭化水素基としては、例えば、メ
チル基、エチル基、イソプロピル基などが挙げられる
が、炭素数が６以下のものが好ましい。

【００５２】ホスホニウム塩Ｉのうち、式（６）におい
てＺがホルミル基である場合に対応する化合物は、文献
〔Helv. CHim. Acta., 63, 1473 (1980) 参照〕記載の
方法に従って調製することができる。また、ホスホニウ
ム塩Ｉのうち、式（６）においてＺがアセタール型に保
護されたホルミル基である場合に対応する化合物は、上
記の式（６）においてＺがホルミル基である場合に対応
する化合物のホルミル基を常法に従ってアセタール化す
ることによって調製することができる。アセタール化の
方法としては、メタノール、エタノール等のアルコール
中で、ｐ−トルエンスルホン酸およびリン酸の存在下、
トリメチルオルトフォルメートあるいはトリエチルオル
トフォルメートなどを反応させる方法が挙げられる。な
お、ホスホニウム塩Ｉとしては、式（６）においてＺが
アセタール型に保護されたホルミル基である場合に対応
する化合物を使用することが、式（７）で示される化合
物の収率の観点から好ましい。

【００５３】ホスホニウム塩Ｉの使用量は、脱保護体の
前駆体である式（５）で示される化合物に換算して示せ
ば、式（５）で示される化合物１モルに対し、通常０．
８〜１０モル、好ましくは１〜１０モルの範囲である。

【００５４】ホスホニウム塩Ｉとの反応に際して使用さ
れるアルカリ金属アルコキシドは、上記した脱保護反応
において例示したものと同様のものを例示することがで
きる。アルカリ金属アルコキシドの使用量は、式（６）
で示されるホスホニウム塩Ｉの１モルに対して、通常、
１〜３モル、好ましくは１〜１．５モルの範囲である。

【００５５】脱保護体と式（６）で示されるホスホニウ
ム塩Ｉとの反応は、通常溶媒の存在下に実施される。使
用可能な溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノー
ル、２−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール；
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類
などが挙げられる。溶媒の使用量は、特に制限されるも
のではないが、一般に、式（６）で示されるホスホニウ
ム塩Ｉに対し、０．５〜１０００倍重量である。

【００５６】脱保護体と式（６）で示されるホスホニウ
ム塩Ｉの反応は、ホスホニウム塩Ｉの溶液に、脱保護体
およびアルカリ金属アルコキシドを添加するという手法
で実施することが好ましい。なお、式（６）で示される
ホスホニウム塩Ｉとして、式（６）におけるＺがアセタ
ール型に保護されたホルミル基である化合物を使用する
場合、ホルミル基をアセタール型に保護する際に使用し
た酸が残存していることがあるので、脱保護体およびア
ルカリ金属アルコキシドを添加する前に、該残存する酸
を中和できる程度にアルカリ金属アルコキシドを添加す
ることが望ましい。

【００５７】脱保護体と式（６）で示されるホスホニウ
ム塩Ｉの反応は、通常、−１０〜２０℃の範囲の温度で
１０分〜１時間程度実施される。その後、反応を完結さ
せるために、反応混合物の温度を２０〜５０℃に昇温
し、１０分〜５時間程度撹拌することが好ましい。な
お、脱保護体とホスホニウム塩Ｉの反応は、窒素、アル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下に実施することが好まし
い。

【００５８】反応終了後、生成物である式（７）で示さ
れる化合物は、常法に従って、反応混合物を処理するこ
とによって分離取得することができる。反応混合物の処
理方法としては、例えば、反応に使用したアルカリ金属
アルコキシドの１〜１００倍重量の酸性型イオン交換樹
脂を反応混合物に加え、１０〜５０℃で５分〜２時間程
度撹拌した後、固体状物を濾過などの方法により分離
し、得られた濾液を濃縮することによって、式（７）で
示される化合物を取得する方法が挙げられる。

【００５９】このようにして得られた、式（７）で示さ
れる化合物は、そのまま次の工程４における原料として
使用することができるが、所望により、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−等の手段により純度を高めてから
工程４における原料として使用してもよい。

【００６０】また、本工程では、工程２で得られた化合
物を示す上記の式（５）においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³および
Ｙ⁴がすべて水酸基である場合、該式（５）で示される
化合物にアルカリ金属アルコキシドの存在下、上記の式
（６）で示されるホスホニウム塩Ｉを作用させることに
よって、上記の式（７）で示される化合物を製造する。
この場合、上記説明における「脱保護体」を「式（５）
で示される化合物」と読み替えればよく、反応条件、生
成物の分離取得等は上記説明と同様である。

【００６１】工程４ この工程では、工程３で得られた式（７）で示される化
合物に、アルカリ金属アルコキシドの存在下、上記の式
（８）で示されるホスホニウム塩ＩＩを作用させて、上
記の式（１）で示されるゼアキサンチンモノ−β−グル
コシドを製造する。

【００６２】本工程において使用するホスホニウム塩Ｉ
Ｉを表す式（８）において、Ｘ³が表すハロゲン原子と
しては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
が挙げられる。

【００６３】ホスホニウム塩ＩＩは、例えば、文献〔He
lv. Chim. Acta., 63, 1377 (1980)〕などに記載された
方法によって製造することができる。ホスホニウム塩Ｉ
Ｉの使用量は、式（７）で示される化合物１モルに対
し、通常０．８〜５モル、好ましくは２〜５モルの範囲
である。

【００６４】式（７）で示される化合物と式（８）で示
されるホスホニウム塩ＩＩとの反応に際して使用される
アルカリ金属アルコキシドは、工程３の説明において例
示したものと同様のものを例示することができる。アル
カリ金属アルコキシドの使用量は、式（８）で示される
ホスホニウム塩ＩＩの１モルに対して、通常、１〜４モ
ル、好ましくは１〜２モルの範囲である。

【００６５】式（７）で示される化合物と式（８）で示
されるホスホニウム塩ＩＩとの反応は、通常溶媒の存在
下に実施される。使用可能な溶媒としては、例えば、メ
タノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパ
ノール、ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール
等のアルコール；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム等の
ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。溶媒の使用量
は、特に制限されるものではないが、一般に、式（８）
で示されるホスホニウム塩ＩＩに対し、０．５〜１００
０倍重量である。

【００６６】なお、式（７）で示される化合物と式
（８）で示されるホスホニウム塩ＩＩとの反応は、ホス
ホニウム塩ＩＩの溶液に、式（７）で示される化合物お
よびアルカリ金属アルコキシドを添加するという手法で
実施することが好ましい。

【００６７】式（７）で示される化合物と式（８）で示
されるホスホニウム塩ＩＩとの反応は、通常、−１０〜
５℃の範囲の温度で１０分〜１時間程度実施される。そ
の後、反応を完結させるために、反応混合物の温度を１
０〜５０℃に昇温し、１０分〜７時間程度撹拌すること
が好ましい。なお、式（７）で示される化合物と式
（８）で示されるホスホニウム塩ＩＩとの反応は、窒
素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下に実施することが
好ましい。

【００６８】反応終了後、生成物であるゼアキサンチン
モノ−β−グルコシドは、常法に従って、反応混合物を
処理することによって分離取得することができる。反応
混合物の処理方法としては、例えば、反応に使用したア
ルカリ金属アルコキシドの１〜１００倍重量の酸性型イ
オン交換樹脂を反応混合物に加え、１０〜５０℃で５分
〜２時間程度撹拌した後、固体状物をろ過などの方法に
より分離し、得られたろ液を濃縮することによって、ゼ
アキサンチンモノ−β−グルコシドを取得する方法が挙
げられる。

【００６９】このようにして得られた、ゼアキサンチン
モノ−β−グルコシドは、所望により、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−等の手段によりさらに純度を高め
ることができる。

【００７０】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は、これらの実施例に限定されるものでは
ない。

【００７１】実施例１ 工程１ 内容積２００ｍｌの三口フラスコに、２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−ベンゾイル−α−Ｄ−グルコピラノシルブ
ロミドの８．０８ｇ（１２．２６ミリモル）および（３
Ｒ)−３−ヒドロキシ−β−イオノン １．５０ｇ（７．
２１ミリモル）を十分に乾燥した１，２−ジクロロエタ
ン７５ｍｌに溶解してなる溶液を仕込み、窒素雰囲気
下、モレキュラーシーブズ４Ａを２５ｇ添加し、得られ
た混合物に、氷冷下、銀トリフレート３．７０ｇ（１
４．４ミリモル）を加え、氷冷下で２時間攪拌した。得
られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、セライトを用
いて濾過した。得られた濾液を飽和重曹水、飽和食塩水
で順次洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、溶
媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔展開溶媒：塩化メチレンとｎ−ヘキサン
とジエチルエーテルの混合溶媒（体積比；塩化メチレ
ン：ｎ−ヘキサン：ジエチルエーテル＝５：４：０．
７）〕で精製して、（３Ｒ）−３−（２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシルオ
キシ）−β−イオノン３．７４ｇ（収率：６６％）を無
色あわ状物質として得た。

【００７２】得られた化合物の物性値を以下に示す。ＩＲ ν_max（ｃｍ^-1）：１７３２、１６６８、１６０３ ¹Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、３００ＭＨｚ）： ０．９９
（３Ｈ，ｓ；１−ｇｅｍ−Ｍｅ）、１．００（３Ｈ，
ｓ；１−ｇｅｍ−Ｍｅ）、１．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
２Ｈｚ；２ａｘ−Ｈ）、１．５８（３Ｈ，ｓ；５−Ｍ
ｅ）、１．８８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，３．５
Ｈｚ，２Ｈｚ；２ｅｑ−Ｈ）、２．００（１Ｈ，ｂｒ
ｄｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ，９Ｈｚ；４ａｘ−Ｈ）、２．
２５（３Ｈ，ｓ；ＣＯＭｅ）、２．２９（１Ｈ；４ｅｑ
−Ｈ）、４．０３（１Ｈ，ｍ；３−Ｈ）、４．２１（１
Ｈ，ｍ；５’−Ｈ）、４．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２
Ｈｚ，６Ｈｚ；６’−Ｈ）、４．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ，３Ｈｚ；６’−Ｈ）、４．９９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；１’−Ｈ）、５．５２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１０Ｈｚ，８Ｈｚ；２’−Ｈ）、５．６４（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ；４’−Ｈ）、５．９３（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝１０Ｈｚ；３’−Ｈ）、６．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１６．５Ｈｚ；８−Ｈ）、７．１１（１Ｈ，ｂｒ ｄ，
Ｊ＝１６．５Ｈｚ；７−Ｈ）、７．２−８．１（２０
Ｈ，ｍ；Ａｒ−Ｈ）高分解能マススペクトル 測定値：〔Ｍ＋Ｎａ〕⁺ ８０９．２９５ 計算値：（Ｃ₄₇Ｈ₄₆Ｏ₁₁Ｎａ） ｍ／ｚ：８０９．２９
４

【００７３】工程２ 内容積２００ｍｌの三口フラスコに２−メチル−Ｎ−
［２−（トリエチルシリル）エチニリデン］−２−プロ
パンアミン（２１．５ミリモル）を十分に乾燥したテト
ラヒドロフラン３０ｍｌに溶解してなる溶液を仕込み、
窒素雰囲気下、−７８℃で、ｓ−ブチルリチウムをシク
ロヘキサンとヘキサンの混合溶媒に溶解してなる溶液
（濃度：０．９７Ｍ）２２．４ｍｌ（ｓ−ブチルリチウ
ムとして２１．７ミリモル）を滴下した。得られた混合
物を−７８℃で２０分間攪拌した後、同温度で、工程１
で得られた（３Ｒ）−３−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）−
β−イオノン２．１１ｇ（２．６８ミリモル）を十分に
乾燥したテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解してなる溶
液を滴下し、得られた混合物を同温度で２０分間攪拌し
た。得られた反応混合物に飽和シュウ酸水溶液を加えて
酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
した後、溶媒を留去した。得られた残渣をピリジン２５
ｍｌに溶解し、塩化ベンゾイル６ｍｌを加えて室温で２
時間攪拌した。得られた反応混合物を酢酸エチルで希釈
し、次いで５％塩酸、飽和重曹水および飽和食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔展開溶媒：塩化メチレンとｎ−ヘキサンとジエチル
エーテルの混合溶媒（体積比；塩化メチレン：ｎ−ヘキ
サン：ジエチルエーテル＝５：４：１）〕で精製して
（３Ｒ）−３−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾ
イル−β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）−β−イオニ
リデンアセトアルデヒド１．６５ｇ（収率：７６％）を
淡黄色あわ状物質として得た。¹Ｈ−ＮＭＲ分析の結
果、得られた化合物は、アルデヒドのα位の二重結合の
立体配置がシス型とトランス型である化合物の混合物
（比率：シス型／トランス型＝５５／１）であることが
分かった。

【００７４】得られた化合物の物性値を以下に示す。ＵＶ λ_max（ｎｍ、溶媒：エタノール）：２３０、２７３、
３１７ＩＲ ν_max（ｃｍ^-1）：１７３５、１６５７、１６０３ ¹Ｈ−ＮＭＲ（トランス体） δ（ｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、３００ＭＨｚ）： ０．９８
（６Ｈ，ｓ；１−ｇｅｍ−Ｍｅ）、１．５７（３Ｈ，
ｓ；５−Ｍｅ）、４．０３（１Ｈ，ｍ；３−Ｈ）、４．
２０（１Ｈ，ｍ；５’−Ｈ）、４．５２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１２Ｈｚ，６Ｈｚ；６’−Ｈ）、４．６４（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，３．５Ｈｚ；６’−Ｈ）、４．９
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；１’−Ｈ）、５．５１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，８Ｈｚ；２’−Ｈ）、５．６
３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ；４’−Ｈ）、５．９０
（１Ｈ，ｂｒ ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ；１０−Ｈ）、５．９２
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ；３’−Ｈ）、６．０９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ；８−Ｈ）、６．５８（１
Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ；７−Ｈ）、７．２５−
８．０４（２０Ｈ，ｍ；Ａｒ−Ｈ）、１０．１２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；ＣＨＯ） ¹Ｈ−ＮＭＲ（シス体） δ（ｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、３００ＭＨｚ）： ２．０９
（ｓ，９−Ｍｅ）、５．８７（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；
１０−Ｈ）、６．４８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ；７−
Ｈ）、６．９８（ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ；８−Ｈ）、１０．
１０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；ＣＨＯ）

【００７５】工程３ （ａ）脱保護反応 内容積２００ｍｌの三口フラスコに工程２で得られた
（３Ｒ）−３−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾ
イル−β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）−β−イオニ
リデンアセトアルデヒド９２３ｍｇ（１．１４ミリモ
ル）をメタノール５０ｍｌに溶解してなる溶液を仕込
み、窒素雰囲気下、ナトリウムメトキシドのメタノール
溶液（濃度：１Ｎ）１．５ｍｌ（ナトリウムメトキシド
として１．５ミリモル）を加え、室温で２時間攪拌し
た。得られた反応混合物に陽イオン交換樹脂〔Ｄｏｗｅ
ｘ（登録商標） ５０Ｗ（Ｈ型）〕３ｇを加え、室温で
３０分間攪拌した後、不溶物を濾別した。得られた濾液
を減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー〔展開溶媒：塩化メチレンとメタノー
ルの混合溶媒（体積比；塩化メチレン：メタノール＝
９：１）〕で精製して、（３Ｒ）−３−（β−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ）−β−イオニリデンアセトアルデ
ヒド４２０ｍｇ（収率：９３％）を淡黄色あわ状物質と
して得た。

【００７６】得られた化合物の物性値を以下に示す。ＵＶ λ_max（ｎｍ、溶媒：エタノール）：２３１、２７５、
３１６ＩＲ ν_max（ｃｍ^-1）：３４０７、１６６０、１６０９ ¹Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、３００ＭＨｚ）： １．０７
（６Ｈ，ｓ；１−ｇｅｍ−Ｍｅ）、１．７１（ｓ，；Ｅ
−５−Ｍｅ）、１．７４（ｓ；Ｚ−５−Ｍｅ）、２．１
１（ｓ，Ｚ−９−Ｍｅ）、２．３０（ｓ；Ｅ−９−Ｍ
ｅ）、３．３７（１Ｈ，ｍ；５’−Ｈ）、３．４６（１
Ｈ，ｂｒ ｔ−ｌｉｋｅ，Ｊ＝７．５ｈｚ；２’−
Ｈ）、３．６１（１Ｈ，ｂｒ ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ；４’−
Ｈ）、３．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ；３’−Ｈ）、
３．８２−３．９５（２Ｈ，ｍ；６’−Ｈ２）、４．０
５（１Ｈ，ｍ；３−Ｈ）、４．５１（１Ｈ，ｂｒ ｄ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ；１’−Ｈ）、５．８９（ｂｒ ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ；Ｚ−１０−Ｈ）、５．９１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ；Ｅ−１０−Ｈ）、６．１６（ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ；Ｅ−８−Ｈ）、６．５３（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ；Ｚ−７−Ｈ）、６．６３（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ；Ｅ−７−Ｈ）、７．０７（ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ；Ｚ−
８−Ｈ）、１０．１０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；Ｚ−ＣＨ
Ｏ）、１０．１２（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；Ｅ−ＣＨＯ）

【００７７】（ｂ）ホスホニウム塩Ｉとの反応 内容積２００ｍｌの三口フラスコに（２，７−ジメチル
−８−オキソ−２，４，６−オクタトリエニル）トリフ
ェニルホスホニウムクロリド７９０ｍｇ（１．７７ミリ
モル）およびトリメチルオルトフォルメート０．８ｍｌ
をメタノール溶液５ｍｌに溶解してなる溶液を仕込み、
窒素雰囲気下に、ｐ−トルエンスルホン酸５００ｍｇお
よびリン酸７２５ｍｇをメタノール３７．５ｍｌに溶解
してなる溶液０．８ｍｌを加え、室温で２時間攪拌して
（８，８−ジメトキシ−２，７−ジメチル−２，４，６
−オクタトリエニル）トリフェニルホスホニウムクロリ
ドのメタノール溶液を調製した。得られた溶液に、氷冷
下、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（濃度：１
Ｎ）を、イリドの生成によって反応混合物が赤色を呈す
る直前まで加え、得られた混合物に上記（ａ）で得られ
た（３Ｒ）−３−（β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）
−β−イオニリデンアセトアルデヒド１４０ｍｇ（０．
３５ミリモル）を塩化メチレン４ｍｌに溶解してなる溶
液およびナトリウムメトキシドのメタノール溶液（濃
度：１Ｎ）２．０ｍｌ（ナトリウムメトキシドとして
２．０ミリモル）を加えた。得られた混合物を氷冷下で
３０分間、さらに室温に昇温して３０分間攪拌した。得
られた反応混合物に陽イオン交換樹脂〔Ｄｏｗｅｘ（登
録商標） ５０Ｗ（Ｈ型）〕４ｇを加え、室温で１５分
間攪拌した後、不溶物を濾別した。得られた濾液を減圧
下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー〔展開溶媒：塩化メチレンとジエチルエーテ
ルとメタノールの混合溶媒（体積比；塩化メチレン：ジ
エチルエーテル：メタノール＝５：４：１）〕で精製し
て、（３Ｒ）−３−（β−Ｄ−グルコピラノシルオキ
シ）−１２’−アポ−β−カロテン−１２’−ア−ル１
２８ｍｇ（収率：６９％）を橙色あわ状物質として得
た。

【００７８】得られた化合物の物性値を以下に示す。ＵＶ λ_max（ｎｍ、溶媒：エタノール）：４２３ＩＲ ν_max（ｃｍ^-1）：３４０８、１６６０、１６１０、１
５４８高分解能マススペクトル 測定値：〔Ｍ〕⁺ ５２８．３０８ 計算値：（Ｃ₃₁Ｈ₄₄Ｏ₇） ｍ／ｚ：５２８．３０９

【００７９】工程４ 内容積２００ｍｌの三口フラスコに（３−ヒドロキシ−
β−イオニリデンエチル）トリフェニルホスホニウムク
ロリド３８３ｍｇ（０．６８ミリモル）および工程３で
得られた（３Ｒ）−３−（β−Ｄ−グルコピラノシルオ
キシ）−１２’−アポ−β−カロテン−１２’−ア−ル
１２０ｍｇ（０．２３ミリモル）を塩化メチレン５ｍｌ
に溶解してなる溶液を仕込み、窒素雰囲気下、ナトリウ
ムメトキシドのメタノール溶液（濃度：１Ｎ）１．０ｍ
ｌ（ナトリウムメトキシドとして１．０ミリモル）を加
え、得られた混合物を氷冷下で３０分間、さらに室温で
３時間攪拌した。得られた混合物に、メタノール１０ｍ
ｌおよび陽イオン交換樹脂〔Ｄｏｗｅｘ（登録商標）
５０Ｗ（Ｈ型）〕３ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、不溶物を濾別した。得られた濾液を減圧下に濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔展開溶媒：塩化メチレンとジエチルエーテルとメタ
ノールの混合溶媒（体積比；塩化メチレン：ジエチルエ
ーテル：メタノール＝４：５：１）〕で精製した後、高
速液体クロマトグラフィー〔固定相：ＣＨＥＭＣＯＳＯ
ＲＢ ７−ＯＤＳ−Ｈ （商品名）、カラム径：１．０
ｃｍ、カラム長さ：３０ｃｍ；移動相：メタノールと水
の混合溶媒（体積比；メタノール：水＝９６：４）；検
出波長：４００ｎｍ〕で異性体を分離して、ゼアキサン
チンモノ−β−グルコシド７１ｍｇ(収率：４３％) を
赤色固体として得た。

【００８０】得られた化合物の物性値を以下に示す。ＵＶ λ_max（ｎｍ、溶媒：エタノール）：２７７、４２７（s
houlder）、４５０、４７６ λ_max（ｎｍ、溶媒：アセトン）：４２７（shoulde
r）、４５３、４７９ ¹Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃とＣＤ₃ＯＤの混合溶媒、３００
ＭＨｚ）：１．０８（１２Ｈ，ｓ；１，１’−ｇｅｍ−
Ｍｅ）、１．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２Ｈｚ；２’ａｘ
−Ｈ）、１．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ；２ａ
ｘ−Ｈ）、１．７４（６Ｈ，ｓ；５，５’−Ｍｅ）、約
１．７６（２’ｅｑ−Ｈ）、約１．８５（２ｅｑ−
Ｈ）、１．９７および１．９８（各６Ｈ，ｓ；９，
９’，１３，１３’−Ｍｅ）、２．０４（１Ｈ，ｂｒ
ｄｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ，８Ｈｚ；４’ａｘ−Ｈ）、２．１
１（１Ｈ，ｂｒ ｄｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ，９．５Ｈｚ；４
ａｘ−Ｈ）、２．３６（１Ｈ，ｂｒ ｄｄ、Ｊ＝１７Ｈ
ｚ，４．５Ｈｚ；４’ｅｑ−Ｈ）、２．４６（１Ｈ，ｂ
ｒ ｄｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ，５Ｈｚ；４ｅｑ−Ｈ）、３．
２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，８Ｈｚ；２”−Ｈ）、
３．３２（１Ｈ，ｍ；５”−Ｈ）、３．４３−３．５０
（２Ｈ，ｍ；３”，４”−Ｈ）、３．７９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，４．５Ｈｚ；６”−Ｈ）、３．８７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，３Ｈｚ；６”−Ｈ）、
３．９６（１Ｈ，ｍ；３’−Ｈ）、４．０８（１Ｈ，
ｍ；３−Ｈ）、４．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ；１”
−Ｈ）、６．０５−６．１６（４Ｈ，ｍ；７，７’，
８，８’−Ｈ）、６．１６（２Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝１
１．５Ｈｚ；１０，１０’−Ｈ） ６．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ；１４，１４’−
Ｈ）、６．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ；１２，１
２’−Ｈ）、６．５９−６．７０（４Ｈ，ｍ；１１，１
１’，１５，１５’−Ｈ）高分解能マススペクトル 測定値：〔Ｍ〕⁺ ７３０．４８０ 計算値：（Ｃ₄₆Ｈ₆₆Ｏ₇） ｍ／ｚ：７３０．４８０

【００８１】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ゼアキサン
チンモノ−β−グルコシドを選択的に得ることができ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 以下の工程１〜４からなる、下記の式
   （１） 【化１】 で示されるゼアキサンチンモノ−β−グルコシドの製造
   方法。 工程１：３−ヒドロキシ−β−イオノンと下記の式
   （２） 【化２】 （式中、Ｘ¹はハロゲン原子を表し、Ｙはアシル基を表
   す）で示されるグルコース誘導体を反応させて、下記の
   式（３） 【化３】 （式中、Ｙは上記定義のとおりである）で示される化合
   物を製造する工程、 工程２：工程１で得られた式（３）で示される化合物
   に、下記の式（４） 【化４】 で示されるイミン塩を反応させる（ただし、該反応の副
   反応としてアシル基で保護された水酸基の脱保護反応が
   起きた場合には、所望により、該脱保護反応によって生
   成した水酸基を保護してもよい）ことによって下記の式
   （５） 【化５】 （式中、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴は、それぞれアシル基
   または水素原子を表す）で示される化合物を製造する工
   程、 工程３：ｉ）工程２で得られた化合物を示す上記の式
   （５）においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴の少なくとも１
   つがアシル基である場合、該式（５）で示される化合物
   に塩基性物質を作用させることによってアシル基で保護
   された水酸基を脱保護し、さらにアルカリ金属アルコキ
   シドの存在下、下記の式（６） 【化６】 （式中、Ｘ²はハロゲン原子を表し、Ｚはホルミル基ま
   たはアセタール型に保護されたホルミル基を表す）で示
   されるホスホニウム塩Ｉを作用させることによって、ま
   た、ｉｉ）工程２で得られた化合物を示す上記の式
   （５）においてＹ¹、Ｙ²、Ｙ³およびＹ⁴がすべて水酸基
   である場合、該式（５）で示される化合物にアルカリ金
   属アルコキシドの存在下、上記の式（６）で示されるホ
   スホニウム塩Ｉを作用させることによって、下記の式
   （７） 【化７】 で示される化合物を製造する工程、 工程４：工程３で得られた式（７）で示される化合物
   に、アルカリ金属アルコキシドの存在下、下記の式
   （８） 【化８】 （式中、Ｘ³はハロゲン原子を表す）で示されるホスホ
   ニウム塩ＩＩを作用させて、上記の式（１）で示される
   ゼアキサンチンモノ−β−グルコシドを製造する工程。