JP2000124296A - 試料保持装置および露光装置 - Google Patents
試料保持装置および露光装置Info
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- JP2000124296A JP2000124296A JP10295064A JP29506498A JP2000124296A JP 2000124296 A JP2000124296 A JP 2000124296A JP 10295064 A JP10295064 A JP 10295064A JP 29506498 A JP29506498 A JP 29506498A JP 2000124296 A JP2000124296 A JP 2000124296A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プレート(試料)の吸着ミスや破損の発生を
防止する。 【解決手段】 インラインテーブル15上に水平に載置
されたプレートはプレート交換装置14により鉛直方向
(Z方向)に沿うように起立されてプレートホルダー2
7に吸着保持される。このプレートの姿勢は複数のポテ
ンショメータなどからなる姿勢検出装置により検出さ
れ、この姿勢検出装置による検出結果に基づき、プレー
トホルダー27が保持されたプレートステージ24の姿
勢がモータ32、ボールネジ機構33、カム部材31お
よびローラ30などから構成される姿勢調節装置29に
より調節され、これにより、プレートの姿勢が所定の基
準に整合される。
防止する。 【解決手段】 インラインテーブル15上に水平に載置
されたプレートはプレート交換装置14により鉛直方向
(Z方向)に沿うように起立されてプレートホルダー2
7に吸着保持される。このプレートの姿勢は複数のポテ
ンショメータなどからなる姿勢検出装置により検出さ
れ、この姿勢検出装置による検出結果に基づき、プレー
トホルダー27が保持されたプレートステージ24の姿
勢がモータ32、ボールネジ機構33、カム部材31お
よびローラ30などから構成される姿勢調節装置29に
より調節され、これにより、プレートの姿勢が所定の基
準に整合される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子、半
導体集積回路等のマイクロデバイスの製造に使用される
露光装置に用いられる試料保持装置および該試料保持装
置を用いて構成された露光装置に関する。
導体集積回路等のマイクロデバイスの製造に使用される
露光装置に用いられる試料保持装置および該試料保持装
置を用いて構成された露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】比較的に大型の液晶パネルや大面積の半
導体素子等を高いスループットで製造するために、スキ
ャン型の投影露光装置が用いられる。このスキャン型の
投影露光装置は、マスクをスリット状の照明領域で照明
し、その照明領域に対して短辺方向にマスクを走査し、
照明領域と共役な露光領域に対してフォトレジストが塗
布された感光基板(ガラスプレートなど)を同期して走
査することにより、マスク上のパターンを等倍であるい
は縮小投影して感光基板に逐次露光する装置である。
導体素子等を高いスループットで製造するために、スキ
ャン型の投影露光装置が用いられる。このスキャン型の
投影露光装置は、マスクをスリット状の照明領域で照明
し、その照明領域に対して短辺方向にマスクを走査し、
照明領域と共役な露光領域に対してフォトレジストが塗
布された感光基板(ガラスプレートなど)を同期して走
査することにより、マスク上のパターンを等倍であるい
は縮小投影して感光基板に逐次露光する装置である。
【0003】従来のスキャン型の露光装置を簡単に説明
すると、超高圧水銀ランプ等の光源から射出された露光
光は、フライアイインテグレータによって均一な照度分
布をもつ光束に変換され、スリット形状の開口を有する
ブラインドによってスリット状に整形される。このブラ
インドを通過したスリット状の光束はコンデンサレンズ
に導かれ、コンデンサレンズはこの光束をマスク上に結
像することでマスクをスリット状の照明領域で照明す
る。マスク上に形成されているパターンの像は、投影光
学系を介して感光基板上に投影される。
すると、超高圧水銀ランプ等の光源から射出された露光
光は、フライアイインテグレータによって均一な照度分
布をもつ光束に変換され、スリット形状の開口を有する
ブラインドによってスリット状に整形される。このブラ
インドを通過したスリット状の光束はコンデンサレンズ
に導かれ、コンデンサレンズはこの光束をマスク上に結
像することでマスクをスリット状の照明領域で照明す
る。マスク上に形成されているパターンの像は、投影光
学系を介して感光基板上に投影される。
【0004】この際、感光基板上に投影されるのはスリ
ット状のパターン像であり、マスク上に形成されている
マスクパターンの一部の像である。そこで、マスクと感
光基板とを同期させつつ、マスク上の照明領域および投
影光学系に対して移動走査することで、マスク上に形成
されているマスクパターンの全てを感光基板上に転写す
るようにしている。
ット状のパターン像であり、マスク上に形成されている
マスクパターンの一部の像である。そこで、マスクと感
光基板とを同期させつつ、マスク上の照明領域および投
影光学系に対して移動走査することで、マスク上に形成
されているマスクパターンの全てを感光基板上に転写す
るようにしている。
【0005】ところで、マスクおよび感光基板は薄く撓
みやすいので、これを概略鉛直方向に沿って対面させた
状態で走査ステージに保持して投影光学系に対して同期
走査することにより、これらの撓みを軽減し、露光精度
の向上を図るようにしている。
みやすいので、これを概略鉛直方向に沿って対面させた
状態で走査ステージに保持して投影光学系に対して同期
走査することにより、これらの撓みを軽減し、露光精度
の向上を図るようにしている。
【0006】走査ステージの感光基板を吸着保持する基
板ホルダーの下側には走査方向に沿って一対の基準ピン
が植設されており、感光基板は鉛直方向に沿うようにプ
レート交換アームに吸着保持されて該基板ホルダーの近
傍まで搬送され、該感光基板の下端縁を該一対の基準ピ
ンに上から当接させる。
板ホルダーの下側には走査方向に沿って一対の基準ピン
が植設されており、感光基板は鉛直方向に沿うようにプ
レート交換アームに吸着保持されて該基板ホルダーの近
傍まで搬送され、該感光基板の下端縁を該一対の基準ピ
ンに上から当接させる。
【0007】この状態で基板ホルダー側に移動して、プ
レート交換アームを基板ホルダーに形成されている凹部
内に入り込ませ、基板ホルダーにより感光基板を吸引す
るとともに、プレート交換アームによる感光基板の吸引
を解除し、プレート交換アームを鉛直上方向に引き抜
く。感光基板は基準ピンにより所定の位置に位置決めさ
れた状態で、基板ホルダーに吸着保持されることにな
る。基準ピンは感光基板の衝突による破損などを防止す
べく、バネなどを介して弾性的に支持されている。
レート交換アームを基板ホルダーに形成されている凹部
内に入り込ませ、基板ホルダーにより感光基板を吸引す
るとともに、プレート交換アームによる感光基板の吸引
を解除し、プレート交換アームを鉛直上方向に引き抜
く。感光基板は基準ピンにより所定の位置に位置決めさ
れた状態で、基板ホルダーに吸着保持されることにな
る。基準ピンは感光基板の衝突による破損などを防止す
べく、バネなどを介して弾性的に支持されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術では、感光基板の下端縁を一対の基準ピンに
当接させることにより、感光基板を位置決めするため、
基準ピンを保持しているバネの反発力が基板ホルダーの
吸引力よりも強いと、該バネの反発力によって感光基板
の下部が基板ホルダーの吸着面に対して浮いた状態とな
り、吸着保持に失敗する場合や感光基板の姿勢を所定の
基準に正確に整合させることができない場合があるとい
う問題があった。また、感光基板の板厚は極めて薄いた
め(例えば、0.7mm)、基準ピンに当接させたとき
に、ひび割れや欠損などを生じる場合があるという問題
があった。なお、これらの破損を防止するため、基準ピ
ンを保持しているバネのバネ力を弱くすることが考えら
れるが、これでは基準ピンの戻りが悪くなり、位置決め
の精度が低下するので不十分である。
た従来技術では、感光基板の下端縁を一対の基準ピンに
当接させることにより、感光基板を位置決めするため、
基準ピンを保持しているバネの反発力が基板ホルダーの
吸引力よりも強いと、該バネの反発力によって感光基板
の下部が基板ホルダーの吸着面に対して浮いた状態とな
り、吸着保持に失敗する場合や感光基板の姿勢を所定の
基準に正確に整合させることができない場合があるとい
う問題があった。また、感光基板の板厚は極めて薄いた
め(例えば、0.7mm)、基準ピンに当接させたとき
に、ひび割れや欠損などを生じる場合があるという問題
があった。なお、これらの破損を防止するため、基準ピ
ンを保持しているバネのバネ力を弱くすることが考えら
れるが、これでは基準ピンの戻りが悪くなり、位置決め
の精度が低下するので不十分である。
【0009】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、試料の吸着ミスや破損の発
生が少なく、かつ試料の姿勢を所定の基準に正確に整合
させることができる試料保持装置および該試料保持装置
を用いた露光装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたものであり、試料の吸着ミスや破損の発
生が少なく、かつ試料の姿勢を所定の基準に正確に整合
させることができる試料保持装置および該試料保持装置
を用いた露光装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】以下、この項に示す説明
では、理解の容易化のため、本発明の各構成要件に実施
形態の図に示す参照符号を付して説明するが、本発明の
各構成要件は、これら参照符号によって限定されるもの
ではない。
では、理解の容易化のため、本発明の各構成要件に実施
形態の図に示す参照符号を付して説明するが、本発明の
各構成要件は、これら参照符号によって限定されるもの
ではない。
【0011】上記目的を達成するための本発明の試料保
持装置は、試料(22)をほぼ鉛直方向に沿って保持す
るホルダー(24,27)を有した試料保持装置におい
て、前記ホルダーに保持された前記試料の姿勢を検出す
る姿勢検出装置(28)と、前記姿勢検出装置の検出結
果に基づいて、前記ホルダーの姿勢を調節する姿勢調節
装置(29)とを備えたことを特徴とする。
持装置は、試料(22)をほぼ鉛直方向に沿って保持す
るホルダー(24,27)を有した試料保持装置におい
て、前記ホルダーに保持された前記試料の姿勢を検出す
る姿勢検出装置(28)と、前記姿勢検出装置の検出結
果に基づいて、前記ホルダーの姿勢を調節する姿勢調節
装置(29)とを備えたことを特徴とする。
【0012】本発明の試料保持装置によると、ホルダー
に保持された試料の姿勢を姿勢検出装置により検出し
て、該ホルダーの姿勢を姿勢調節装置により調節するよ
うにしたから、基準ピンを用いることなく試料の姿勢を
所定の基準に整合させることができる。従って、基準ピ
ンに試料を当接させることにより生じていた吸着ミスや
破損の発生を防止することができるとともに、試料を所
定の基準に正確に整合させることができる。
に保持された試料の姿勢を姿勢検出装置により検出し
て、該ホルダーの姿勢を姿勢調節装置により調節するよ
うにしたから、基準ピンを用いることなく試料の姿勢を
所定の基準に整合させることができる。従って、基準ピ
ンに試料を当接させることにより生じていた吸着ミスや
破損の発生を防止することができるとともに、試料を所
定の基準に正確に整合させることができる。
【0013】上記目的を達成するための本発明の露光装
置は、マスク(21)を鉛直方向に沿って支持するマス
ク保持装置(23)と基板(22)を前記鉛直方向に沿
って支持する基板保持装置(24)とを有し、前記マス
クのパターンを転写すべく前記基板に露光する露光装置
において、前記マスク保持装置と、前記基板保持装置と
の少なくとも一方に前記試料保持装置を用いたことを特
徴とする。
置は、マスク(21)を鉛直方向に沿って支持するマス
ク保持装置(23)と基板(22)を前記鉛直方向に沿
って支持する基板保持装置(24)とを有し、前記マス
クのパターンを転写すべく前記基板に露光する露光装置
において、前記マスク保持装置と、前記基板保持装置と
の少なくとも一方に前記試料保持装置を用いたことを特
徴とする。
【0014】本発明の露光装置によると、前記試料保持
装置を用いて、マスクおよび基板の一方または双方を保
持するようにしたから、マスクや基板の吸着ミスや破損
を防止することができ、信頼性の高い露光処理を安定的
に行うことができる。従って、信頼性の高い液晶表示素
子などのマイクロデバイスを安定的に製造することがで
きるようになる。
装置を用いて、マスクおよび基板の一方または双方を保
持するようにしたから、マスクや基板の吸着ミスや破損
を防止することができ、信頼性の高い露光処理を安定的
に行うことができる。従って、信頼性の高い液晶表示素
子などのマイクロデバイスを安定的に製造することがで
きるようになる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は本発明の実施形態のスキャン
型(走査型)の投影露光装置の要部構成を示す側面図、
図2は同じく平面図、図3は同じくポテンショメータの
構成および配置を示す図である。
基づいて説明する。図1は本発明の実施形態のスキャン
型(走査型)の投影露光装置の要部構成を示す側面図、
図2は同じく平面図、図3は同じくポテンショメータの
構成および配置を示す図である。
【0016】この露光装置は例えば液晶表示素子(液晶
パネル)を製造するための露光装置であり、照明光学系
11、投影光学系12、走査ユニット13、プレート交
換装置14、およびインラインテーブル15を備えて構
成される。
パネル)を製造するための露光装置であり、照明光学系
11、投影光学系12、走査ユニット13、プレート交
換装置14、およびインラインテーブル15を備えて構
成される。
【0017】照明光学系11は、図示は省略するが、超
高圧水銀ランプなどからなる複数の光源を備え、該光源
から射出された露光光はそれぞれライトガイドなどによ
り、一旦集合した後に均等に分配して複数の光出射部か
ら出射させる。ライトガイドの光出射部から出射された
光は、フライアイインテグレータによって均一な照度分
布をもつ光束に変換され、スリット形状の開口を有する
ブラインドによってスリット状に整形される。このブラ
インドを通過したスリット状の光束はコンデンサレンズ
に入射され、コンデンサレンズはこの光束を所定位置に
設定されたマスク21上に結像することでマスク21を
スリット状の照明領域で照明する。
高圧水銀ランプなどからなる複数の光源を備え、該光源
から射出された露光光はそれぞれライトガイドなどによ
り、一旦集合した後に均等に分配して複数の光出射部か
ら出射させる。ライトガイドの光出射部から出射された
光は、フライアイインテグレータによって均一な照度分
布をもつ光束に変換され、スリット形状の開口を有する
ブラインドによってスリット状に整形される。このブラ
インドを通過したスリット状の光束はコンデンサレンズ
に入射され、コンデンサレンズはこの光束を所定位置に
設定されたマスク21上に結像することでマスク21を
スリット状の照明領域で照明する。
【0018】マスク21上のパターンの像は、投影光学
系12を介して感光材料(フォトレジスト)が塗布され
たガラス板からなるプレート(感光基板)22上に投影
される。投影光学系12は照明光学系11の各光出射部
のそれぞれに対応して設けられており、照明光学系11
の光射出部および投影光学系12は、Z方向に千鳥状に
配列されている。マスク21はマスクステージ23に吸
着保持され、プレート22はプレートステージ(試料保
持装置)24に吸着保持されている。マスクステージ2
3およびプレートステージ24は、互いの保持面を対向
させた状態で、断面コの字状に形成されたキャリッジ
(走査ステージ)25に取り付けられている。
系12を介して感光材料(フォトレジスト)が塗布され
たガラス板からなるプレート(感光基板)22上に投影
される。投影光学系12は照明光学系11の各光出射部
のそれぞれに対応して設けられており、照明光学系11
の光射出部および投影光学系12は、Z方向に千鳥状に
配列されている。マスク21はマスクステージ23に吸
着保持され、プレート22はプレートステージ(試料保
持装置)24に吸着保持されている。マスクステージ2
3およびプレートステージ24は、互いの保持面を対向
させた状態で、断面コの字状に形成されたキャリッジ
(走査ステージ)25に取り付けられている。
【0019】このキャリッジ25は、不図示のステージ
制御部による制御に基づいて、リニアモータなどからな
るステージ駆動部によって駆動されることにより、ガイ
ドレール26に沿う走査方向としてのX方向に往復移動
できるようになっている。ステージ制御部は主制御部
(メインコントローラ)からのスキャン速度指令信号を
含む各種の指令信号に基づき、ステージ駆動部を制御
し、ステージ駆動部は速度指令信号によって与えられる
速度と等しい速度でキャリッジ25を移動する。
制御部による制御に基づいて、リニアモータなどからな
るステージ駆動部によって駆動されることにより、ガイ
ドレール26に沿う走査方向としてのX方向に往復移動
できるようになっている。ステージ制御部は主制御部
(メインコントローラ)からのスキャン速度指令信号を
含む各種の指令信号に基づき、ステージ駆動部を制御
し、ステージ駆動部は速度指令信号によって与えられる
速度と等しい速度でキャリッジ25を移動する。
【0020】キャリッジ25が静止した状態では、プレ
ート22上に投影されるのはスリット状のパターン像で
あり、マスク21上に形成されているマスクパターンの
一部の像であるが、キャリッジ25を、ステージ制御部
およびステージ駆動部によって駆動制御し、照明光学系
11および投影光学系12に対して移動走査すること
で、マスク21上に形成されているマスクパターンの全
てをプレート22上に転写する。
ート22上に投影されるのはスリット状のパターン像で
あり、マスク21上に形成されているマスクパターンの
一部の像であるが、キャリッジ25を、ステージ制御部
およびステージ駆動部によって駆動制御し、照明光学系
11および投影光学系12に対して移動走査すること
で、マスク21上に形成されているマスクパターンの全
てをプレート22上に転写する。
【0021】投影光学系12としては、特に限定されな
いが、この実施形態では正立実像系の光学系を用いてい
る。各投影光学系12は、2組のダイソン型光学系を組
み合わせた構成を有し、これらのダイソン型光学系は、
両側テレセントリック光学系である。一方のダイソン型
光学系が形成する1次像の位置には、視野絞りが配置さ
れており、この視野絞りは台形状の開口部を有し、この
視野絞りによりプレート22上の露光領域が台形状に規
定される。
いが、この実施形態では正立実像系の光学系を用いてい
る。各投影光学系12は、2組のダイソン型光学系を組
み合わせた構成を有し、これらのダイソン型光学系は、
両側テレセントリック光学系である。一方のダイソン型
光学系が形成する1次像の位置には、視野絞りが配置さ
れており、この視野絞りは台形状の開口部を有し、この
視野絞りによりプレート22上の露光領域が台形状に規
定される。
【0022】プレート22上には、X方向に互いに離間
するとともに、Z方向に沿って2列に配列された投影光
学系12の一方の列によって、Z方向に沿って間欠的に
配列された第1の露光領域が形成され、投影光学系12
の他方の列によって、第1の露光領域に対してX方向に
離間した位置にZ方向に沿って該第1の露光領域を補間
するように間欠的に配列された第2の露光領域が形成さ
れる。プレート22上の第1の露光領域と第2の露光領
域とはX方向に離れて設定されているため、Z方向に伸
びるパターンは、まず空間的に分離した飛び飛びの第1
の露光領域によって露光された後、ある時間をおいてそ
の間を埋める第2の露光領域で露光されるというように
時間的および空間的に分割されて露光されることにな
る。
するとともに、Z方向に沿って2列に配列された投影光
学系12の一方の列によって、Z方向に沿って間欠的に
配列された第1の露光領域が形成され、投影光学系12
の他方の列によって、第1の露光領域に対してX方向に
離間した位置にZ方向に沿って該第1の露光領域を補間
するように間欠的に配列された第2の露光領域が形成さ
れる。プレート22上の第1の露光領域と第2の露光領
域とはX方向に離れて設定されているため、Z方向に伸
びるパターンは、まず空間的に分離した飛び飛びの第1
の露光領域によって露光された後、ある時間をおいてそ
の間を埋める第2の露光領域で露光されるというように
時間的および空間的に分割されて露光されることにな
る。
【0023】プレートステージ24はプレートホルダー
27を着脱可能にあるいは固定的に保持しており、プレ
ート22はこのプレートホルダー27に形成された吸着
溝を真空吸引装置により負圧吸引することにより吸着保
持される。プレートホルダー27には、図3に示されて
いるように、複数(この実施形態では3個)のポテンシ
ョメータ(ポテンショピン機構)28が取り付けられて
いる。ポテンショメータ28はプレートホルダー27に
吸着保持されたプレート22の所定の基準に対する姿勢
を検出するための装置であり、プレート22の端縁に当
接するピン部28aを有し、所定の回転軸を中心として
回転して該ピン部28aがプレート22の端縁に当接し
たときの所定の初期位置からの回転角(若しくはピン部
28aの変位量)を検出する。3個のポテンショメータ
28による検出信号は主制御部に供給される。
27を着脱可能にあるいは固定的に保持しており、プレ
ート22はこのプレートホルダー27に形成された吸着
溝を真空吸引装置により負圧吸引することにより吸着保
持される。プレートホルダー27には、図3に示されて
いるように、複数(この実施形態では3個)のポテンシ
ョメータ(ポテンショピン機構)28が取り付けられて
いる。ポテンショメータ28はプレートホルダー27に
吸着保持されたプレート22の所定の基準に対する姿勢
を検出するための装置であり、プレート22の端縁に当
接するピン部28aを有し、所定の回転軸を中心として
回転して該ピン部28aがプレート22の端縁に当接し
たときの所定の初期位置からの回転角(若しくはピン部
28aの変位量)を検出する。3個のポテンショメータ
28による検出信号は主制御部に供給される。
【0024】また、図1に示されているように、プレー
トステージ24の下辺の両端部近傍には、姿勢調節装置
29が設けられている。この姿勢調節装置29は、プレ
ートステージ24の下辺の両端部近傍に回転自在に取り
付けられた一対のローラ30と、これらのローラ30に
斜面が当接するように台形状若しくは三角形状に形成さ
れたカム部材31と、これらのカム部材31をそれぞれ
X方向に進退させるモータ32を有するボールネジ機構
33を備えて構成される。前記主制御部によりモータ3
2の回転が制御されることにより、プレートステージ2
4の姿勢(所定の基準に対するX−Z平面内での位置お
よびY軸回りの回転)を調節することができる。なお、
各ローラ30はカム部材31に対してプレートステージ
24などの自重により当接するようにしてもよいが、こ
の実施形態では、プレートステージ24とキャリッジ2
5の底面の間にこれらを近接させる方向に付勢するバネ
(不図示)を介装することにより、各ローラ30をカム
部材31に当接させるようにしている。
トステージ24の下辺の両端部近傍には、姿勢調節装置
29が設けられている。この姿勢調節装置29は、プレ
ートステージ24の下辺の両端部近傍に回転自在に取り
付けられた一対のローラ30と、これらのローラ30に
斜面が当接するように台形状若しくは三角形状に形成さ
れたカム部材31と、これらのカム部材31をそれぞれ
X方向に進退させるモータ32を有するボールネジ機構
33を備えて構成される。前記主制御部によりモータ3
2の回転が制御されることにより、プレートステージ2
4の姿勢(所定の基準に対するX−Z平面内での位置お
よびY軸回りの回転)を調節することができる。なお、
各ローラ30はカム部材31に対してプレートステージ
24などの自重により当接するようにしてもよいが、こ
の実施形態では、プレートステージ24とキャリッジ2
5の底面の間にこれらを近接させる方向に付勢するバネ
(不図示)を介装することにより、各ローラ30をカム
部材31に当接させるようにしている。
【0025】図1および図2において、プレート交換装
置14は、インラインテーブル15上に水平に載置され
たプレート22を鉛直方向に沿うように起立させてプレ
ートホルダー24に渡すとともに、プレートホルダー2
4からプレート22を受け取ってインラインテーブル1
5上に載置する装置であり、床面に設置されたY方向ガ
イドレール34に沿って移動するY移動部35、該Y移
動部35に取り付けられたプレート交換アーム36、お
よびプレート交換アーム36の先端に設けられたプレー
ト22を把持するための複数(この実施形態では4個)
のプレート保持用ピン部37を有するプレート保持部3
8を備えている。プレート交換アーム36はY軸回りの
回転およびX−Z平面内の1軸回りの回転の2自由度を
有している。
置14は、インラインテーブル15上に水平に載置され
たプレート22を鉛直方向に沿うように起立させてプレ
ートホルダー24に渡すとともに、プレートホルダー2
4からプレート22を受け取ってインラインテーブル1
5上に載置する装置であり、床面に設置されたY方向ガ
イドレール34に沿って移動するY移動部35、該Y移
動部35に取り付けられたプレート交換アーム36、お
よびプレート交換アーム36の先端に設けられたプレー
ト22を把持するための複数(この実施形態では4個)
のプレート保持用ピン部37を有するプレート保持部3
8を備えている。プレート交換アーム36はY軸回りの
回転およびX−Z平面内の1軸回りの回転の2自由度を
有している。
【0026】インラインテーブル15は、図示は省略し
ているが、この露光装置による露光工程の前工程として
のプレート表面にフォトレジストをスピンコートする塗
布工程を実施するコータ(レジスト塗布装置)との間、
およびこの露光装置による露光工程の後工程である現像
工程を実施するディベロッパ(現像装置)との間でプレ
ート22を受け渡すための載置台である。
ているが、この露光装置による露光工程の前工程として
のプレート表面にフォトレジストをスピンコートする塗
布工程を実施するコータ(レジスト塗布装置)との間、
およびこの露光装置による露光工程の後工程である現像
工程を実施するディベロッパ(現像装置)との間でプレ
ート22を受け渡すための載置台である。
【0027】しかして、不図示のコータによりフォトレ
ジストが塗布されたプレート22は、不図示のロボット
アーム(移載装置)などによりインラインテーブル15
上に載置される。プレート交換装置14のY移動部35
がY方向ガイドレール34に沿って移動されて、該当す
るインラインテーブル15に対応する位置に設定され
る。次いで、プレート交換アーム36が図1で時計方向
に回転され、プレート保持部38がインラインテーブル
15上のプレート22に対面した状態で、プレート保持
用ピン部37によりプレート22の両側縁が把持され
る。その後、プレート交換アーム36は、図1で反時計
方向に回転されるとともに、プレート保持部38に保持
されたプレート22がプレートホルダー27側を指向し
て鉛直に沿うように回転され、プレート22がプレート
ホルダー27に対応した位置に設定される。
ジストが塗布されたプレート22は、不図示のロボット
アーム(移載装置)などによりインラインテーブル15
上に載置される。プレート交換装置14のY移動部35
がY方向ガイドレール34に沿って移動されて、該当す
るインラインテーブル15に対応する位置に設定され
る。次いで、プレート交換アーム36が図1で時計方向
に回転され、プレート保持部38がインラインテーブル
15上のプレート22に対面した状態で、プレート保持
用ピン部37によりプレート22の両側縁が把持され
る。その後、プレート交換アーム36は、図1で反時計
方向に回転されるとともに、プレート保持部38に保持
されたプレート22がプレートホルダー27側を指向し
て鉛直に沿うように回転され、プレート22がプレート
ホルダー27に対応した位置に設定される。
【0028】次いで、Y移動部35がY方向ガイドレー
ル34に沿って+Y方向に移動されてプレート22がプ
レートホルダー27に当接した状態とされる。この状態
で、プレートホルダー27によるプレート22の真空吸
着が行われるとともに、プレート保持用ピン部37によ
るプレート22の把持が解除される。Y移動部35はY
方向ガイドレール34に沿って−Y方向に移動されて、
プレート保持部38がプレートホルダー27から離間さ
れる。
ル34に沿って+Y方向に移動されてプレート22がプ
レートホルダー27に当接した状態とされる。この状態
で、プレートホルダー27によるプレート22の真空吸
着が行われるとともに、プレート保持用ピン部37によ
るプレート22の把持が解除される。Y移動部35はY
方向ガイドレール34に沿って−Y方向に移動されて、
プレート保持部38がプレートホルダー27から離間さ
れる。
【0029】プレート22のプレートホルダー27に対
する受け渡し中は、ポテンショメータ28はそのピン部
28aが所定の初期位置(待避位置)に位置するように
回転されており、プレート22がプレートホルダー27
に吸着保持された後に、ピン部28aがプレート22の
端縁に当接するように回転される。このときのポテンシ
ョメータ28による検出信号は主制御部に送られ、主制
御部は3個のポテンショメータ28の検出信号に基づ
き、プレート22の姿勢(所定の基準に対するX−Z平
面内での位置およびY軸回りの回転)を算出し、これを
補正値として、プレート22が該所定の基準に整合する
ように、姿勢調節装置29を制御する。
する受け渡し中は、ポテンショメータ28はそのピン部
28aが所定の初期位置(待避位置)に位置するように
回転されており、プレート22がプレートホルダー27
に吸着保持された後に、ピン部28aがプレート22の
端縁に当接するように回転される。このときのポテンシ
ョメータ28による検出信号は主制御部に送られ、主制
御部は3個のポテンショメータ28の検出信号に基づ
き、プレート22の姿勢(所定の基準に対するX−Z平
面内での位置およびY軸回りの回転)を算出し、これを
補正値として、プレート22が該所定の基準に整合する
ように、姿勢調節装置29を制御する。
【0030】すなわち、モータ32の回転を制御し、カ
ム部材31をX方向に適宜に移動して、該カム部材31
に当接しているローラ30を介してプレートステージ2
4をZ方向に変位させることにより、プレート22の姿
勢が所定の基準に整合するように、プレートステージ2
4をX−Z平面内でシフトするとともに、Y軸回りに回
転させる。
ム部材31をX方向に適宜に移動して、該カム部材31
に当接しているローラ30を介してプレートステージ2
4をZ方向に変位させることにより、プレート22の姿
勢が所定の基準に整合するように、プレートステージ2
4をX−Z平面内でシフトするとともに、Y軸回りに回
転させる。
【0031】プレート22の姿勢が所定の基準に整合さ
れたならば、プレート22に対するスキャン露光を実施
すべくキャリッジ25をプレート受け渡し位置から露光
処理位置に移動して、投影光学系12および照明光学系
11に対してプレート22およびマスク21を相対移動
させることにより、マスク21上のパターンの像がプレ
ート22上に投影転写される。
れたならば、プレート22に対するスキャン露光を実施
すべくキャリッジ25をプレート受け渡し位置から露光
処理位置に移動して、投影光学系12および照明光学系
11に対してプレート22およびマスク21を相対移動
させることにより、マスク21上のパターンの像がプレ
ート22上に投影転写される。
【0032】露光処置の終了後、キャリッジ25はプレ
ート受け渡し位置に移動され、Y移動部35が+Y方向
に移動されて、プレート交換アーム36のプレート保持
部38がプレートホルダー27に吸着保持されたプレー
ト22に対面した状態で、プレート保持用ピン部37に
より該プレート22が把持されるとともに、プレートホ
ルダー27によるプレート22の吸着が解除される。そ
の後、Y移動部35が−Y方向に移動され、プレート交
換アーム36が図1で時計方向に回転されるとともに、
プレート22が下側を指向して水平となるように回転さ
れ、プレート22がインラインテーブル15に当接した
状態でプレート保持用ピン部37によるプレート22の
把持が解除されることにより、プレート22がインライ
ンテーブル15上に水平に載置される。このプレート2
2は不図示のロボットアームなどによりディベロッパに
送られる。
ート受け渡し位置に移動され、Y移動部35が+Y方向
に移動されて、プレート交換アーム36のプレート保持
部38がプレートホルダー27に吸着保持されたプレー
ト22に対面した状態で、プレート保持用ピン部37に
より該プレート22が把持されるとともに、プレートホ
ルダー27によるプレート22の吸着が解除される。そ
の後、Y移動部35が−Y方向に移動され、プレート交
換アーム36が図1で時計方向に回転されるとともに、
プレート22が下側を指向して水平となるように回転さ
れ、プレート22がインラインテーブル15に当接した
状態でプレート保持用ピン部37によるプレート22の
把持が解除されることにより、プレート22がインライ
ンテーブル15上に水平に載置される。このプレート2
2は不図示のロボットアームなどによりディベロッパに
送られる。
【0033】本実施形態によると、プレートホルダー2
7に吸着保持されたプレート22の姿勢を3個のポテン
ショメータ28により検出して、プレートホルダー27
の姿勢を姿勢調節装置29により調節して、プレート2
2の姿勢を所定の基準に整合させるようにしたから、従
来のように基準ピンにプレートの端縁を当接させること
によりプレートを所定の基準に整合させるものと比較し
て、プレートホルダーによるプレートの吸着ミスやプレ
ートの端部の破損などの発生を防止することができる。
これにより、信頼性の高い露光処理を安定的に行うこと
ができ、信頼性の高い液晶表示素子などのマイクロデバ
イスを高スループットで安定的に製造することができる
ようになる。
7に吸着保持されたプレート22の姿勢を3個のポテン
ショメータ28により検出して、プレートホルダー27
の姿勢を姿勢調節装置29により調節して、プレート2
2の姿勢を所定の基準に整合させるようにしたから、従
来のように基準ピンにプレートの端縁を当接させること
によりプレートを所定の基準に整合させるものと比較し
て、プレートホルダーによるプレートの吸着ミスやプレ
ートの端部の破損などの発生を防止することができる。
これにより、信頼性の高い露光処理を安定的に行うこと
ができ、信頼性の高い液晶表示素子などのマイクロデバ
イスを高スループットで安定的に製造することができる
ようになる。
【0034】なお、以上説明した実施形態は、本発明の
理解を容易にするために記載されたものであって、本発
明を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技
術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨
である。
理解を容易にするために記載されたものであって、本発
明を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技
術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨
である。
【0035】例えば、上述した実施形態では、プレート
ホルダー27に吸着保持されたプレート22の姿勢を3
個のポテンショメータ28を用いて検出しているが、C
CDなどの撮像素子により撮影してその姿勢を検出する
ようにできる。また、プレート22の姿勢を所定の基準
に整合させるために、モータ32、ボールネジ機構3
3、カム部材31およびローラ30などからなる姿勢調
節装置29を採用しているが、Z方向に変位する複数の
リニアアクチュエータなどを有する姿勢調節装置を採用
してもよい。
ホルダー27に吸着保持されたプレート22の姿勢を3
個のポテンショメータ28を用いて検出しているが、C
CDなどの撮像素子により撮影してその姿勢を検出する
ようにできる。また、プレート22の姿勢を所定の基準
に整合させるために、モータ32、ボールネジ機構3
3、カム部材31およびローラ30などからなる姿勢調
節装置29を採用しているが、Z方向に変位する複数の
リニアアクチュエータなどを有する姿勢調節装置を採用
してもよい。
【0036】また、上述した実施形態では、プレート2
2の姿勢を検出して姿勢調節装置29により所定の基準
に整合させるようにしているが、これに加えてあるいは
単独で、同様の構成をマスクについて適用してマスク2
1の姿勢を所定の基準に整合させるようにしてもよい。
2の姿勢を検出して姿勢調節装置29により所定の基準
に整合させるようにしているが、これに加えてあるいは
単独で、同様の構成をマスクについて適用してマスク2
1の姿勢を所定の基準に整合させるようにしてもよい。
【0037】加えて、本発明は、感光基板および/また
はマスク(レチクル)を鉛直方向に沿って起立させた状
態で露光処理を行うあらゆる露光装置に適用することが
できる。例えば、上述した実施形態では、キャリッジ2
5によりマスク21とプレート22を一体的に移動する
構成とし、等倍投影により露光処理を行うようにしてい
るが、マスク21とプレート22を同期させつつそれぞ
れ独立に移動する構成のものや縮小投影するものに適用
することもできる。
はマスク(レチクル)を鉛直方向に沿って起立させた状
態で露光処理を行うあらゆる露光装置に適用することが
できる。例えば、上述した実施形態では、キャリッジ2
5によりマスク21とプレート22を一体的に移動する
構成とし、等倍投影により露光処理を行うようにしてい
るが、マスク21とプレート22を同期させつつそれぞ
れ独立に移動する構成のものや縮小投影するものに適用
することもできる。
【0038】また、マスクおよびプレートを保持したキ
ャリッジを固定して、投影光学系および照明光学系を移
動することにより走査露光する型式の露光装置に適用す
ることもでき、走査型の露光装置に限らず、一括転写型
の露光装置に適用することもできる。製造するマイクロ
デバイスも液晶表示素子に限られず、プラズマ表示素
子、半導体素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッドなどを製造
するための露光装置に適用できるとともに、マスクまた
はレチクルを製造するための露光装置に適用することも
できる。
ャリッジを固定して、投影光学系および照明光学系を移
動することにより走査露光する型式の露光装置に適用す
ることもでき、走査型の露光装置に限らず、一括転写型
の露光装置に適用することもできる。製造するマイクロ
デバイスも液晶表示素子に限られず、プラズマ表示素
子、半導体素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッドなどを製造
するための露光装置に適用できるとともに、マスクまた
はレチクルを製造するための露光装置に適用することも
できる。
【0039】
【発明の効果】本発明の試料保持装置によると、試料の
吸着ミスや破損を生じることなく、試料を所定の基準に
正確に整合させることができるという効果がある。ま
た、本発明の露光装置によると、信頼性の高い液晶表示
素子などのマイクロデバイスを安定的に製造することが
できるという効果がある。
吸着ミスや破損を生じることなく、試料を所定の基準に
正確に整合させることができるという効果がある。ま
た、本発明の露光装置によると、信頼性の高い液晶表示
素子などのマイクロデバイスを安定的に製造することが
できるという効果がある。
【図1】 本発明の実施形態の露光装置の要部構成を示
す側面図である。
す側面図である。
【図2】 本発明の実施形態の露光装置の要部構成を示
す平面図である。
す平面図である。
【図3】 本発明の実施形態のポテンショメータの構成
および配置を示す図である。
および配置を示す図である。
11…照明光学系 12…投影光学系 13…走査ユニット 14…プレート交換装置 15…インラインテーブル 21…マスク 22…プレート 23…マスクステージ 24…プレートステージ 25…キャリッジ 27…プレートホルダー 28…ポテンショメータ 29…姿勢調節装置 30…ローラ 31…カム部材 32…モータ 33…ボールネジ機構 34…Y方向ガイドレール 35…Y移動部 36…プレート交換アーム 37…プレート保持用ピン部 38…プレート保持部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA05 CA07 FA02 FA04 FA12 GA08 GA47 GA49 JA04 JA27 MA27 5F046 BA05 CA02 CB05 CB25 CC01 CC02 CC03 CC05 CC08 CC10 CD01 CD05 CD06 DA07 DB04 DC11
Claims (4)
- 【請求項1】 試料をほぼ鉛直方向に沿って保持するホ
ルダーを有した試料保持装置において、 前記ホルダーに保持された前記試料の姿勢を検出する姿
勢検出装置と、 前記姿勢検出装置の検出結果に基づいて、前記ホルダー
の姿勢を調節する姿勢調節装置とを備えたことを特徴と
する試料保持装置。 - 【請求項2】 前記姿勢検出装置はポテンショメータを
含んでいることを特徴とする請求項1記載の試料保持装
置。 - 【請求項3】 マスクを鉛直方向に沿って支持するマス
ク保持装置と基板を前記鉛直方向に沿って支持する基板
保持装置とを有し、前記マスクのパターンを転写すべく
前記基板に露光する露光装置において、 前記マスク保持装置と、前記基板保持装置との少なくと
も一方に請求項1または2記載の試料保持装置を用いた
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項4】 前記マスクと前記基板とを同期移動させ
る駆動装置と、 前記同期移動中に、前記マスクのパターンを転写すべく
前記基板に露光するよう制御する露光制御装置と、を備
えたことを特徴とする請求項3記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10295064A JP2000124296A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 試料保持装置および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10295064A JP2000124296A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 試料保持装置および露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000124296A true JP2000124296A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17815858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10295064A Pending JP2000124296A (ja) | 1998-10-16 | 1998-10-16 | 試料保持装置および露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000124296A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102472977A (zh) * | 2009-07-17 | 2012-05-23 | 株式会社尼康 | 图案形成装置、图案形成方法以及装置制造方法 |
-
1998
- 1998-10-16 JP JP10295064A patent/JP2000124296A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102472977A (zh) * | 2009-07-17 | 2012-05-23 | 株式会社尼康 | 图案形成装置、图案形成方法以及装置制造方法 |
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