JP2000103794A - 含硫黄有機珪素化合物の製造方法およびその合成中間体の製造方法 - Google Patents
含硫黄有機珪素化合物の製造方法およびその合成中間体の製造方法Info
- Publication number
- JP2000103794A JP2000103794A JP11062150A JP6215099A JP2000103794A JP 2000103794 A JP2000103794 A JP 2000103794A JP 11062150 A JP11062150 A JP 11062150A JP 6215099 A JP6215099 A JP 6215099A JP 2000103794 A JP2000103794 A JP 2000103794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfur
- producing
- organosilicon compound
- containing organosilicon
- alkali metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 84
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title claims abstract description 83
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 81
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 14
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims abstract description 11
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 32
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 26
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 8
- 239000005060 rubber Substances 0.000 abstract description 8
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZLCCLBKPLLUIJC-UHFFFAOYSA-L disodium tetrasulfane-1,4-diide Chemical compound [Na+].[Na+].[S-]SS[S-] ZLCCLBKPLLUIJC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 alkoxy soda Chemical compound 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018091 Li 2 S Inorganic materials 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 3
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N sodium polysulfide Chemical compound [Na+].S HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N lithium sulfide Chemical compound [Li+].[Li+].[S-2] GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- SRRKNRDXURUMPP-UHFFFAOYSA-N sodium disulfide Chemical compound [Na+].[Na+].[S-][S-] SRRKNRDXURUMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000012453 solvate Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- MNXPJHYGUVSGSO-UHFFFAOYSA-N (3,3,3-triethoxypropyldisulfanyl)silane Chemical compound C(C)OC(CCSS[SiH3])(OCC)OCC MNXPJHYGUVSGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLNLLUSAXAGNEP-UHFFFAOYSA-N (3,3,3-triethoxypropyltetrasulfanyl)silane Chemical compound CCOC(OCC)(OCC)CCSSSS[SiH3] VLNLLUSAXAGNEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLPXIHXXKBDZES-UHFFFAOYSA-L 37488-76-9 Chemical compound [Na+].[Na+].[S-]S[S-] OLPXIHXXKBDZES-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLTFKGMBKYUKHW-UHFFFAOYSA-L [K+].[K+].[S-]SSSS[S-] Chemical compound [K+].[K+].[S-]SSSS[S-] MLTFKGMBKYUKHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HXTWSRHHRRWRDG-UHFFFAOYSA-L [K+].[K+].[S-]SSS[S-] Chemical compound [K+].[K+].[S-]SSS[S-] HXTWSRHHRRWRDG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BLEANZFQXKGIPP-UHFFFAOYSA-N [S-2].[K+].[K+].[K+] Chemical compound [S-2].[K+].[K+].[K+] BLEANZFQXKGIPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- FANSKVBLGRZAQA-UHFFFAOYSA-M dipotassium;sulfanide Chemical compound [SH-].[K+].[K+] FANSKVBLGRZAQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M disodium;sulfanide Chemical compound [Na+].[Na+].[SH-] VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N disulfur dichloride Chemical compound ClSSCl PXJJSXABGXMUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- IHYNKGRWCDKNEG-UHFFFAOYSA-N n-(4-bromophenyl)-2,6-dihydroxybenzamide Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)NC1=CC=C(Br)C=C1 IHYNKGRWCDKNEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000004686 pentahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/22—Alkali metal sulfides or polysulfides
- C01B17/34—Polysulfides of sodium or potassium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/22—Alkali metal sulfides or polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
- C01P2006/82—Compositional purity water content
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
化された方法で、ポリスルフィド構造を有する高純度の
含硫黄有機珪素化合物を得る方法を提供する。 【解決手段】 硫黄と、アルカリ金属と、式(R1 -
O)3 -Si-R2 -Xのハロゲノアルコキシシランとを
反応させて、式(R1 -O)3 -Si-R2 -Sx -R2 -S
i-(O-R1 )3 の含硫黄珪素化合物を得る(式中、R
1 はC1〜5の一価の炭化水素、R2 はC1〜9の二価
の炭化水素、Xはハロゲン、x は2〜6の整数であ
る)。
Description
有用な含硫黄有機珪素化合物の新規製造方法に関する。
本発明はまた上記含硫黄有機珪素化合物の合成中間体そ
の他として有用な無水硫化アルカリの新規製造方法に関
する。含硫黄有機珪素化合物は、不飽和結合を持つ合成
ゴムまたは天然ゴムと、同ゴムに配合されたシリカやカ
ーボンブラックないしは表面改質カーボンブラックなど
の充填剤とを結合させる物質である。
れている産業上有用な化合物であり、従来その製造方法
は数多く知られている。
I]で示されるハロゲノ有機シランと四硫化ソーダ等を溶
媒中で70〜80℃で数時間反応させ、下記一般式[IV]
で示される含硫黄有機珪素化合物を得る方法がある。
低級シクロアルキル基、低級アリール基、低級アルコキ
シ基、低級シクロアルコキシ基、アリールオキシ基等、
R2 は低級アルキレン基、Xはハロゲン原子、x は2〜
6の整数である)
化ソーダのような多硫化ソーダを反応させて含硫黄有機
珪素化合物[IV]を得る方法(ドイツ特許第214115
9号明細書、ドイツ特許第2212239号明細書参
照)、ハロゲノ有機シラン[III]と水硫化ソーダと硫黄
を反応させて含硫黄有機珪素化合物[IV]を得る方法(特
公昭57-26671、特公平4-63879号公報参
照)、ハロゲノ有機シラン[III]と無水硫化ソーダと硫
黄を反応させて含硫黄有機珪素化合物[IV]を得る方法
(特開平7-228588号公報参照)などが知られて
いる。
ン[III] および目的物質含硫黄有機珪素化合物[IV]は、
いずれも、水分の存在下で加水分解され易い物質であ
る。従って、収率よく目的物質を得るためには反応中の
水分の管理を入念に行う必要がある。
る四硫化ソーダのような多硫化ソーダや、水硫化ソーダ
または硫化ソーダと硫黄との組合せにより製造される四
硫化ソーダ(Inorganic and Theoretical Chemistry Vo
l. II, Longmans Green andCo. Ltd., (1961), p991)
は、それらの高い吸水性の故に無水物を得るのが容易で
ない物質であり、これらを無水化するには複雑な乾燥工
程が必要であり、このことが目的物質の収率の低下を招
いている。
米国特許第5596116号明細書には、ナトリウムエ
チラートと硫黄を反応させるか、あるいはエタノール中
に分散した硫黄に金属ナトリウムを反応させ、続いてハ
ロゲノアルキルシランを反応させる方法が記載されてい
る。しかし、この方法では目的物質の収率は明らかでな
く、またナトリウムエチラートが硫黄と反応したとする
とこのエトキサイドが何と反応するのか、または反応し
たのかも明らかでない。また、米国特許第566339
6号明細書には、飽和食塩水中でカセイソーダと硫黄を
反応させ、トルエン中にハロゲノアルコキシラン、相間
移動触媒を添加し、含硫黄有機珪素化合物を得る方法が
記載されている。しかし、この方法では副反応が多く収
率も低い。
わりにアンモニアを用い、上記と同じ操作を行う方法が
あるが、やはり毒性の高い硫化水素、アンモニヤガスを
使用するため複雑な工程が必要である(特公昭59-1
2117号公報参照)。
ない方法としては、下記一般式[V]で示されるアルコキ
シメルカプトシランと塩化硫黄または硫黄を使用する方
法がある(ドイツ特許第2141160号明細書、特公
昭57-26671号公報参照)。ここで、通常アルコ
キシメルカプトシラン[V]を得る手段としては、アルコ
キシクロルシランと硫化水素とアルカリ金属またはアン
モニウム塩とチオウレアとの反応による方法が知られて
いる(Angew. Chem. Int. Ed. Engl. Vol. 25,(1986),
p239)が、本発明の含硫黄有機珪素化合物を得るために
は、更に1工程余計に必要であり経済的でない。
級シクロアルコキシ基、アリールオキシ基等、R2 は低
級アルキレン基を意味する)
原料として用いられる多硫化アルカリの製造方法の従来
技術について説明をする。
らの高い吸水性の故に無水物を得るのが容易でない物質
である。
得るには多大のエネルギーが必要であるのに加え、二硫
化ソーダ、四硫化ソーダ等の多硫化アルカリは、その乾
燥条件、例えば120〜130℃の高温では粘稠な液状
であり、取扱いが困難な物質である(欧州特許第361
998号公開明細書、特開平7-228588号公報参
照)。
キシソーダと硫化水素の反応による方法がある(米国特
許第5466848号明細書、特開平7-228588
号公報参照)。この方法では良好な無水硫化物が得られ
るが、その反面、硫化水素は毒性が高いためその取扱い
に注意を要する上に、被毒を避けるために余計な工程が
必要である。
try, Vol.2, p981には、液体アンモニアやキシレン中で
金属ソーダと硫黄を反応させる方法が記載されている
が、液体アンモニアを用いる反応は超低温反応であり、
アンモニアの取扱いも面倒である。またキシレン等の芳
香族系溶媒中での反応は金属ソーダの融点98℃付近で
爆発的に進行するので実用的でない。
従来技術の問題点に鑑み、高温処理や真空下で処理する
ことなく、簡略化された方法で、ポリスルフィド構造を
有する高純度の含硫黄有機珪素化合物を得る方法を提供
することにある。
の問題点に鑑み、上記含硫黄有機珪素化合物の合成中間
体その他として有用な無水硫化アルカリを、超低温、高
温、高圧で処理をすることなく、簡略かつ安全な方法で
得る方法を提供することにある。
を解決すべく研究を重ねた結果、下記の2つの含硫黄有
機珪素化合物の製造方法を見出だし、本発明を完成し
た。
の製造方法は、硫黄と、アルカリ金属と、一般式[I] (R1 -O)3 -Si-R2 -X …… [I] (式中、R1 は炭素数1〜5の一価の炭化水素基、R2
は炭素数1〜9の二価の炭化水素基、Xはハロゲン原子
を意味する。)で表されるハロゲノアルコキシシランと
を反応させることにより、一般式[II] (R1 -O)3 -Si-R2 -Sx -R2 -Si-(O-R1 )3 …… [II] (式中、R1 、R2 は一般式[I]の定義と同じ、x は2
〜6の整数である。)で表される含硫黄珪素化合物を得
る方法である。
化合物の製造方法は、非プロトン性溶媒の存在下に硫黄
とアルカリ金属を反応させた後、得られた反応生成物に
上記ハロゲノアルコキシシラン[I]を反応させることに
より、上記含硫黄有機珪素化合物[II]を得る方法であ
る。
原料の一つである硫黄は無水のものであることが好まし
く、また、使用される溶媒等への溶解性等から粉末若し
くはフレーク状の形態であることが好ましい。このよう
な形態の硫黄は粒子径の小さい方が高い反応効率を示す
が、反応を制御するために、用いられる溶媒との関係で
適当な粒子径のものを選択するのが良い。反応は発熱反
応であるため、その制御には粒径の大きいものの方が好
ましい場合もある。硫黄の使用量は目的とする含硫黄有
機珪素化合物[II]中の硫黄含有量によって異なる。例え
ば、ジスルフィド有機珪素化合物を得ようとする場合
は、硫黄をアルカリ金属およびハロゲノアルコキシシラ
ン[I]と等モル前後用い、テトラスルフィド有機珪素化
合物を得ようとする場合は、硫黄をアルカリ金属および
ハロゲノアルコキシシラン[I]の2倍モル前後用いる。
は、金属ナトリウム、金属カリウムまたは金属リチウ
ム、好ましくは金属ナトリウムである。アルカリ金属の
使用量はハロゲノアルコキシシラン[I]と等モル前後で
よい。
[I] (R1 -O)3 -Si-R2 -X で示されるハロゲノアルコキシシラン[I]において、3
個のR1 は互いに同一でも異なっていても良く、炭素数
1〜5の直鎖状ないしは分枝状の一価の炭化水素基であ
れば特に限定されないが、特にメチル基、エチル基また
はこれらの組合わせが好ましい。R2 は炭素数1〜9の
直鎖状ないしは分枝状の二価の炭化水素基であればよい
が、特に-CH2 -、-CH2 CH2 -、-CH2 CH2 C
H2 -、-CH2 CH2 -Ph-CH2 -(Phはフェニレ
ン基)などが好ましい。Xはハロゲン原子であり、塩
素、臭素、ヨウ素などが例示される。
発原料であるハロゲノアルコキシシラン[I]、および目
的物質である含硫黄有機珪素化合物[II]は、いずれも水
との反応性に富む物質であるため、反応は、十分乾燥さ
れた窒素ガス、アルゴンガス雰囲気等の不活性ガス雰囲
気下で行うのが好ましい。
属とハロゲノアルコキシシラン[I]を混合し、これらを
所定の条件で反応させれば良い。これら3成分の添加順
序により反応形態は若干異なるが、最終的には含硫黄有
機珪素化合物[II]が容易に高純度で得られる。例えば、
硫黄をハロゲノアルコキシシラン[I]に分散させ、その
後、得られた分散液にアルカリ金属を添加し、これらを
所定の条件で反応させることも好ましい。
が、反応熱の除去や円滑な攪拌のために、非プロトン性
溶媒の存在下で進行させてもよい。
する活性水素原子を有しないものであればよいが、含水
によるアルコキシドの加水分解を防止するために、極力
乾燥したものを用いるのが好ましい。好適に使用できる
非プロトン性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン(TH
Fと略記する)、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ジ
ブチルエーテルなどのエーテル系溶媒が例示される。こ
れらエーテル類のうち、特に出発原料または目的物質と
溶媒和する溶媒を用いると、反応が促進される。この場
合、さらに反応促進剤としてクラウンエーテルなどを添
加すると、反応が一層促進される。
ロトン性溶媒中で反応させる前段工程と、しかる後、得
られた反応生成物に上記ハロゲノアルコキシシラン[I]
を添加し、所定の条件で反応させる後段工程とからな
る。
性溶媒は、アルカリ金属イオンと溶媒和できる溶媒、あ
るいは硫化アルカリを溶解できる溶媒であることが好ま
しい。アルカリ金属イオンと溶媒和できる溶媒は、アル
カリ金属イオンとのキレートの形成により同イオンと溶
媒和することができる溶媒であり、これを用いると硫黄
とアルカリ金属の反応が促進される。
きる溶媒とは、上記製造方法によって反応系に生成して
来た硫化アルカリを常時完全に溶解することができる溶
媒に限られず、反応系に析出して来た硫化アルカリをそ
の反応条件下において、逐次かつ即座に溶媒中に溶かし
込むことができる溶媒であればよい。反応の進行に必要
かつ十分な量の硫化アルカリを溶かし込むことができる
溶媒であれば、反応系において硫化アルカリが析出して
も構わない。
ルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、クラウン
エーテル、ジメトキシエタン(DME、エチレングリコ
ールジメチルエーテル)、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレ
ングリコールジメチルエーテルなどの多価アルコールの
アルキルエーテル類が例示される。含水によるアルコキ
シドの加水分解を防止するために、極力乾燥したものを
用いるのがよい。一般に、沸点が低い溶媒の方が回収に
要するエネルギーが少なくて済むが、ハロゲノアルコキ
シシラン[I]による後段工程の反応温度は通常60〜1
00℃であるため、溶媒としてTHF、ジメトキシエタ
ン等を用いるのが特に好ましい。
金属を非プロトン性溶媒中で反応させて得られる反応生
成物である無水硫化アルカリは、これを反応液から取り
出して、後段工程に用いても、これを含む反応液をその
まま後段工程に用いても良い。
法の合成中間体である硫化アルカリとは、一般式、(A
lM)mSn(式中、AlMはアルカリ金属、Sは硫黄
原子、mは整数2または4、nは1から9の整数をそれ
ぞれ意味する。)で表される物質であるが、実際に生成
して来る物質はある幅で組成分布を持つことが多い。硫
化アルカリとして、硫化ソーダ(Na2 S)、二硫化ソ
ーダ(Na2 S2 )、三硫化ソーダ(Na2 S3 )、四
硫化ソーダ(Na2 S4 )、硫化リチウム(Li
2 S)、二硫化リチウム(Li2 S2 )、四硫化リチウ
ム(Li2 S4 )、硫化カリウム(K2 S)、三硫化カ
リウム(K2 S3 )、五硫化カリウム(K2 S5 )、六
硫化カリウム(K2 S6 )等が例示される。
重合物のアルキルエーテルを用いる場合は、これを分離
せずに含硫黄有機珪素化合物[II]とともにゴムに配合し
ても良い。このような配合は、多価アルコールの重合物
のアルキルエーテルがゴムのシリカ配合の分散性改良剤
およびシリカの水酸基保護剤として作用するので、好ま
しい場合がある。
本発明方法を具体的に説明するが、本発明はその主旨を
逸脱しない限りこれら実施例に限定されるものではな
い。
機付き三つ口フラスコに乾燥した窒素ガスを流しなが
ら、先ずトリエトキシシリルプロピルクロライド(TE
SPC)48.2g(0.2mol)と、200メッシ
ュの粉末硫黄6.4g(0.2mol)とを仕込み、続
いて金属ナトリウム4.6g(0.2mol)を室温で
投入した。つぎに、全体を70℃に加熱しながら24時
間攪拌下に反応させた。
50mlで希釈し、生成した食塩を反応混合液から濾別
し、褐色液体を得、これを活性炭で脱色処理して淡黄色
液体を得た。淡黄色液体中の残存キシレンを減圧下で除
去し、反応生成物トリエトキシプロピルシリルジスルフ
ィド(TEPSDS)を得た。
料TESPC残存量をガスクロマトグラフィにより測定
して収率を求めた(収率95.4%)。得られた反応生
成物の元素分析値を表1に示す。
たジメトキシエタン(DME、含水量1ppm以下)を
フラスコに60ml仕込み、硫黄の使用量を12.8g
(0.4mol)に変え、反応条件を80℃、5時間に
変え、キシレンで希釈をしなかった以外は、実施例1と
同様の操作を行って、反応生成物としてトリエトキシプ
ロピルシリルテトラスルフィド(TEPSTS)を得た
(収率98.3%)。
l三つ口フラスコに乾燥した窒素ガスを流しながら、先
ず、非プロトン性溶媒として実施例2で用いたのと同様
の処理DMEを60ml仕込み、200メッシュの粉末
硫黄6.4g(0.2mol)を添加し、続いて金属ナ
トリウム4.6g(0.2mol)を室温で投入した。
この混合液を65℃付近に昇温すると、金属ナトリウム
と硫黄の反応が始まり、混合液は15分程度で均一溶液
になった。更に70℃で45分間攪拌を続け、無水硫化
ソーダを生成させた。
SPC48.2g(0.2mol)を10分間で滴下
し、同液を85℃(DMEの沸点)に昇温し、更に3時
間還流下に撹拌を続けた。
し、TEPSDSを得た(収率92.3%)。
TESPC添加後の反応時間を5時間とした以外は実施
例3と同様に操作をし、TEPSTSを得た(収率9
6.9%)。
上に平たく広げ、20mmHgの減圧下に90℃で1時
間乾燥した後、更に120℃で3時間乾燥した。
ml三つ口フラスコに乾燥した窒素ガスを流しながら、
上記乾燥硫化ソーダ7.8g(0.1mol)と硫黄
9.6g(0.3mol)をエタノール60mlととも
に仕込み、更にTESPC48.2g(0.2mol)
を10分間で滴下し、エタノールの還流下(80℃)に
5時間反応を行い、生成した食塩を濾別した後、反応混
合液からTESPCあるいはTEPSTSの縮合物と思
われる沈殿物を分離除去し、残った液相からエタノール
を減圧下に留去し、TEPSTS(34.2g)得た。
これは理論収率の64%に相当する。
乾燥した窒素ガスを流しながら、先ず、非プロトン性溶
媒として実施例2で用いたのと同様の処理DMEを60
ml仕込み、200メッシュの粉末硫黄3.2g(0.
1mol)、続いて金属ナトリウム4.6g(0.2m
ol)を室温で投入した。この混合物を65℃付近まで
昇温すると、金属ナトリウムと硫黄の反応が始まった。
混合液は15分後に均一溶液になった。更に反応温度を
70℃に保ち45分間加熱攪拌を行った後、DMEを減
圧下に留去し、硫化ソーダを得た。
量を12.8g(0.4mol)に変えた以外は、実施
例5と同様の操作を行った。この場合55℃付近で金属
ソーダと硫黄の反応が始まった。混合液は同様に15分
後に均一溶液になり、更に、THFの還流下(67℃)
で実施例5と同様に45分加熱撹拌をし、THFを留去
し、四硫化ソーダを得た。
TEPSTS、更にデグサ社製のTEPSTS(表2中
の「市販品」)をそれぞれスチレン−ブタジエンゴム
(SBR)に添加し、各含硫黄有機珪素化合物の特性を
評価した。また含硫黄有機珪素化合物を全く加えなかっ
たSBR配合物についても同じく評価試験を行った(表
2中の「無添加」)。
のとおりである。
チロールを用いて15分間で混練を行い、この混練物を
室温で2日間熟成した後、これに硫黄2.75重量部、
促進剤ジベンゾメルカプトチアゾール1.5重量部およ
びジフェニルグアニジン1.2重量部を添加し、全体を
室温で1日熟成した。
て評価試験を行った。
て試験を行った。
歪試験は、特に、70℃で70時間熱処理条件下で行っ
た。
を5ml入れ、これに20×6×2mmの試料を70℃
で70時間浸漬し、取り出し後、重量および体積変化率
を測定した。
℃で20分間熱プレスで架橋を行った、150×150
×2mmのシートを用いた。
20分間熱プレスで架橋を行ったシートを用いた。
硫黄有機珪素化合物を含むゴムは、スコーチタイム(t
5)が長くて加工安全性に優れ、引張り特性、圧縮永久
歪などの特性から架橋速度も充分である。また、耐アル
カリ性はゴムとシリカの反応性を示す特性であり、重量
減少はシリカの溶出などを示す特性であるが、実施例で
得られた含硫黄有機珪素化合物は充分にゴムおよびシリ
カと反応しシリカの溶出を防止していることが判る。
法によれば、高温処理や真空下で処理することなく、簡
略化された方法で、ポリスルフィド構造を有する高純度
の含硫黄有機珪素化合物を得ることができる。
法によれば、上記含硫黄有機珪素化合物の合成中間体と
して有用な無水硫化アルカリを、超低温、高温、高圧で
処理をすることなく、簡略かつ安全な方法で得ることが
できる。
Claims (12)
- 【請求項1】 硫黄と、アルカリ金属と、 一般式[I] (R1 -O)3 -Si-R2 -X …… [I] (式中、R1 は炭素数1〜5の一価の炭化水素基、R2
は炭素数1〜9の二価の炭化水素基、Xはハロゲン原子
を意味する。)で表されるハロゲノアルコキシシランと
を反応させ、一般式[II] (R1 -O)3 -Si-R2 -Sx -R2 -Si-(O-R1 )3 …… [II] (式中、R1 、R2 は一般式[I]の定義と同じ、x は2
〜6の整数である。)で表される含硫黄珪素化合物を得
ることを特徴とする含硫黄有機珪素化合物の製造方法。 - 【請求項2】 硫黄をハロゲノアルコキシシラン[I]に
分散させ、その後、得られた分散液にアルカリ金属を添
加し、これらを反応させる請求項1記載の含硫黄有機珪
素化合物の製造方法。 - 【請求項3】 反応を非プロトン性溶媒の存在下に行う
請求項1または2記載の含硫黄有機珪素化合物の製造方
法。 - 【請求項4】 非プロトン性溶媒が芳香族炭化水素また
はエーテルである請求項3記載の含硫黄有機珪素化合物
の製造方法。 - 【請求項5】 非プロトン性溶媒の存在下に硫黄とアル
カリ金属を反応させた後、得られた反応生成物に一般式
[I] (R1 -O)3 -Si-R2 -X …… [I] (式中、R1 は炭素数1〜5の一価の炭化水素基、R2
は炭素数1〜9の二価の炭化水素基、Xはハロゲン原子
を意味する。)で表されるハロゲノアルコキシシランを
反応させ、一般式[II] (R1 -O)3 -Si-R2 -Sx -R2 -Si-(O-R1 )3 …… [II] (式中、R1 、R2 は一般式[I]の定義と同じ、x は2
〜6の整数である。)で表される含硫黄珪素化合物を得
ることを特徴とする含硫黄有機珪素化合物の製造方法。 - 【請求項6】 非プロトン性溶媒が、アルカリ金属イオ
ンと溶媒和できる溶媒、あるいは上記反応生成物として
生じた硫化アルカリを溶解できる溶媒である請求項5記
載の含硫黄有機珪素化合物の製造方法。 - 【請求項7】 非プロトン性溶媒が、THF、2−メチ
ルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、クラウン
エーテル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピ
レングリコールジメチルエーテルおよびこれらの組合わ
せからなる群から選ばれる溶媒である請求項6記載の含
硫黄有機珪素化合物の製造方法。 - 【請求項8】 反応を不活性ガス雰囲気下で行う請求項
1から7のいずれかに記載の含硫黄有機珪素化合物の製
造方法。 - 【請求項9】 アルカリ金属が金属ナトリウム、金属カ
リウムまたは金属リチウムである請求項1から8のいず
れかに記載の含硫黄有機珪素化合物の製造方法。 - 【請求項10】 非プロトン性溶媒中で硫黄とアルカリ
金属を反応させることを特徴とする無水硫化アルカリの
製造方法。 - 【請求項11】 非プロトン性溶媒が、アルカリ金属イ
オンと溶媒和できる溶媒、あるいは反応生成物である硫
化アルカリを溶解できる溶媒である請求項10記載の無
水硫化アルカリの製造方法。 - 【請求項12】 非プロトン性溶媒が、THF、2−メ
チルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、クラウ
ンエーテル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロ
ピレングリコールジメチルエーテルおよびこれらの組合
わせからなる群から選ばれる溶媒である請求項11記載
の無水硫化アルカリの製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-98633 | 1998-04-10 | ||
JP9863398 | 1998-04-10 | ||
JP21112498 | 1998-07-27 | ||
JP10-211124 | 1998-07-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000103794A true JP2000103794A (ja) | 2000-04-11 |
JP3501008B2 JP3501008B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=26439767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06215099A Expired - Lifetime JP3501008B2 (ja) | 1998-04-10 | 1999-03-09 | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法およびその合成中間体の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6066752A (ja) |
EP (2) | EP0949263B1 (ja) |
JP (1) | JP3501008B2 (ja) |
KR (1) | KR100379309B1 (ja) |
DE (2) | DE60222612T2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005082881A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | ポリスルフィド化合物の製造法及びそれを含むゴム組成物 |
US7732517B2 (en) | 2005-11-25 | 2010-06-08 | Bridgestone Corporation | Organosilicon compounds and rubber compositions made by using the same |
JP2010184928A (ja) * | 2002-11-12 | 2010-08-26 | Dow Corning Corp | 硫黄含有有機シリコン化合物を調製する方法 |
JP2016138198A (ja) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | 住友ゴム工業株式会社 | タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ |
WO2019142890A1 (ja) | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 株式会社大阪ソーダ | 有機珪素化合物、及びそれを用いたゴム組成物 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10009790C1 (de) * | 2000-03-01 | 2001-09-20 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Organosilylalkylpolysulfanen |
US6534668B2 (en) | 2001-06-29 | 2003-03-18 | Dow Corning Corporation | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds using a buffered phase transfer catalysis process |
US6384256B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-05-07 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US6448426B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-09-10 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US6384255B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-05-07 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
DE10132939C1 (de) * | 2001-07-06 | 2003-01-30 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von gelben Bis(3-[trialkoxysilyl]alkyl)polysulfanen |
FR2833265B1 (fr) * | 2001-12-06 | 2006-02-10 | Rhodia Chimie Sa | Procede d'obtention de monoorganoxysilane polysulfures |
JP2003261580A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | スルフィド鎖含有有機珪素化合物の製造方法 |
DE102004030737A1 (de) | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Extraktion von Stoffen aus silanmodifizierten Füllstoffen |
DE102005052233A1 (de) * | 2005-03-07 | 2006-09-21 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
KR100636296B1 (ko) * | 2005-03-21 | 2006-10-19 | 한국과학기술연구원 | (유기티오메틸)클로로실란 유도체와 이의 제조방법 |
DE102005020535B3 (de) | 2005-05-03 | 2006-06-08 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Mercaptoorganyl(alkoxysilanen) |
DE102005038791A1 (de) | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Degussa Ag | Organosiliciumverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
DE102005060122A1 (de) | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)alkylpolyethersilanen |
DE102006027235A1 (de) | 2006-06-09 | 2008-01-17 | Evonik Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
DE102006041356A1 (de) | 2006-09-01 | 2008-03-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
CN108395599B (zh) * | 2017-02-07 | 2021-03-05 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种沥青混凝土添加剂及其制备方法 |
CN107021979B (zh) * | 2017-03-31 | 2018-05-11 | 江西宏柏新材料股份有限公司 | 一种含硫硅烷的合成方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4829726A (ja) * | 1971-08-17 | 1973-04-19 | ||
JPS59184192A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-19 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | 含硫オルガノ珪素化合物の製法 |
JPH07228588A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3615191A (en) * | 1969-08-27 | 1971-10-26 | Lithium Corp | Method of preparing lithium sulfide |
US3642436A (en) * | 1969-11-14 | 1972-02-15 | Foote Mineral Co | Method for preparing lithium sulfide compounds |
DE2212239C3 (de) * | 1972-03-14 | 1984-03-15 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Schwefel enthaltenden Organosiliciumverbindungen |
DE2141160C3 (de) * | 1971-08-17 | 1982-01-21 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Schwefel enthaltende Organosiliciumverbindungen |
DE2141159C3 (de) * | 1971-08-17 | 1983-11-24 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Schwefel enthaltende Organosiliciumverbindungen |
US4125552A (en) * | 1975-12-29 | 1978-11-14 | Dow Corning Corporation | Preparation of alkyl polysulfides |
DE2712866C3 (de) * | 1977-03-24 | 1980-04-30 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Herstellen von schwefelhaltigen Organosiliciumverbindungen |
US4147611A (en) * | 1978-02-13 | 1979-04-03 | Imperial Oil Enterprises Ltd. | Regeneration of alkali metal sulfides from alkali metal hydrosulfides |
JPS5912117A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-21 | Nissan Motor Co Ltd | 自動車用サ−モスイツチ取付部構造 |
JPH0259406A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-02-28 | Sankyo Kasei Kk | 無水硫化ナトリウム結晶の製造法 |
DE3913259C1 (ja) * | 1989-04-22 | 1990-09-13 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
JP2990746B2 (ja) * | 1990-06-30 | 1999-12-13 | ぺんてる株式会社 | ボールペン用水性インキ組成物 |
JPH0641365B2 (ja) * | 1990-10-05 | 1994-06-01 | 三協化成株式会社 | 無水多硫化ナトリウムの製造法 |
US5468893A (en) * | 1994-07-08 | 1995-11-21 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5489701A (en) * | 1994-09-28 | 1996-02-06 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5466848A (en) * | 1994-09-28 | 1995-11-14 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5596116A (en) * | 1995-09-11 | 1997-01-21 | Osi Specialties, Inc. | Process for the preparation of silane polysulfides |
US5583245A (en) * | 1996-03-06 | 1996-12-10 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5663396A (en) * | 1996-10-31 | 1997-09-02 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
DE19819373A1 (de) * | 1998-04-30 | 1999-11-04 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Gemischen von Organosiliciumoligosulfanen mit einem hohen Anteil an Organanosiliciumdisulfanen |
-
1999
- 1999-03-09 JP JP06215099A patent/JP3501008B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-07 EP EP99400847A patent/EP0949263B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-07 EP EP02292380A patent/EP1275654B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-07 DE DE60222612T patent/DE60222612T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-07 DE DE69910648T patent/DE69910648T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 KR KR10-1999-0012247A patent/KR100379309B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-04-09 US US09/288,782 patent/US6066752A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4829726A (ja) * | 1971-08-17 | 1973-04-19 | ||
JPS59184192A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-19 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | 含硫オルガノ珪素化合物の製法 |
JPH07228588A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010184928A (ja) * | 2002-11-12 | 2010-08-26 | Dow Corning Corp | 硫黄含有有機シリコン化合物を調製する方法 |
WO2005082881A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | ポリスルフィド化合物の製造法及びそれを含むゴム組成物 |
US7732517B2 (en) | 2005-11-25 | 2010-06-08 | Bridgestone Corporation | Organosilicon compounds and rubber compositions made by using the same |
JP2016138198A (ja) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | 住友ゴム工業株式会社 | タイヤ用ゴム組成物およびタイヤ |
US9873779B2 (en) | 2015-01-28 | 2018-01-23 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Rubber composition for tire and tire |
WO2019142890A1 (ja) | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 株式会社大阪ソーダ | 有機珪素化合物、及びそれを用いたゴム組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60222612T2 (de) | 2008-06-26 |
EP1275654A2 (en) | 2003-01-15 |
DE60222612D1 (de) | 2007-11-08 |
DE69910648D1 (de) | 2003-10-02 |
US6066752A (en) | 2000-05-23 |
DE69910648T2 (de) | 2004-07-29 |
EP0949263B1 (en) | 2003-08-27 |
KR19990083029A (ko) | 1999-11-25 |
EP1275654A3 (en) | 2004-01-14 |
EP0949263A3 (en) | 2000-06-14 |
EP1275654B1 (en) | 2007-09-26 |
JP3501008B2 (ja) | 2004-02-23 |
KR100379309B1 (ko) | 2003-04-10 |
EP0949263A2 (en) | 1999-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000103794A (ja) | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法およびその合成中間体の製造方法 | |
EP1480989B1 (en) | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds using a buffered phase transfer catalysis process | |
EP1401843B1 (en) | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds | |
JPH07228588A (ja) | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 | |
KR960010660A (ko) | 실란 폴리설파이드의 제조방법 | |
JPH09169774A (ja) | ビス(シリルアルキル)ジスルファンの製造法 | |
US6448426B1 (en) | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds | |
JPH0321023B2 (ja) | ||
EP0963995B1 (en) | Method for preparing a short-chain polysulfide silane mixture | |
JP4372541B2 (ja) | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
US6759545B2 (en) | Organosilicon compounds and preparation processes | |
US6465672B2 (en) | Process for the production of organosilylalkyl polysulfanes | |
EP0008902B1 (en) | Process for the preparation of a functionalised solid product | |
KR20080067670A (ko) | 머캅토알킬알콕시실란의 제조 방법 | |
JP3610741B2 (ja) | シリル基含有環状スルフィド化合物、その製造方法および該化合物を添加してなるゴム組成物 | |
JPS6030667B2 (ja) | ジシクロヘキシルジスルフイドの製造法 | |
JPH09110473A (ja) | 表面にスルホン酸基を有する無機物質とその製法及び用途 | |
JPWO2009142222A1 (ja) | 新規含硫黄有機珪素化合物の製造方法 | |
EP0895963B1 (en) | Process for the production of sodium polysulphides in anhydrous alcoholic solution | |
JP4268435B2 (ja) | 分子中にoh基を有する化合物からなる不純物の除去方法 | |
JPS6157835B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081212 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091212 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091212 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101212 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131212 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141212 Year of fee payment: 11 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |