JP2000083940A - X線量を検定する方法及びシステム - Google Patents
X線量を検定する方法及びシステムInfo
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Abstract
線量の検定を容易に行える方法及びシステムを提供す
る。 【解決手段】 検出器アレイ(18)からの信号を利用
してイメージング・システムの線量を検定する。より詳
しく述べると、検出器アレイの信号強度を用いることに
より、画像ノイズ及びコリメータ・アパーチャを決定し
て、X線量を検定する。具体的には、検出器アレイから
の信号強度を用いて、コリメータ・カム(120A、1
20B)の位置を決定する。コリメータ・カムの位置を
用いてコリメータのアパーチャを決定し、X線量がコリ
メータ・アパーチャ及び画像ノイズ情報を用いて決定さ
れ得るようにする。
Description
式断層撮影(CT)イメージングに関し、より具体的に
は、イメージング・システムにおける線量検定に関す
る。
成においては、X線源がファン(扇形)形状のビームを
投射し、このビームは、一般的に「イメージング(撮
像)平面」と呼ばれるデカルト座標系のX−Y平面内に
位置するようにコリメートされる。X線ビームは、患者
等のイメージング対象の被検体を通過する。ビームは、
被検体によって減弱された後に、放射線検出器の配列
(アレイ)に入射する。検出器アレイの所で受け取られ
る減弱したビーム放射線の強度は、被検体によるX線ビ
ームの減弱量に依存している。アレイ内の各々の検出器
素子は、検出器の位置におけるビーム減弱度の測定値で
ある個別の電気信号を発生する。すべての検出器からの
減弱度測定値が別個に取得されて、透過プロファイルを
形成する。
及び検出器アレイは、X線ビームが被検体と交差する角
度が定常的に変更されるように、イメージング平面内で
イメージングされるべき被検体の周りをガントリと共に
回転する。1つのガントリ角度における検出器アレイか
らの一群のX線減弱度測定値、即ち投影データは「ビュ
ー」と呼ばれている。被検体の「走査(スキャン)」
は、X線源及び検出器が1回転する間に様々なガントリ
角度で形成される1組のビューで構成される。
合には、投影データを処理して、被検体を通過して得ら
れる2次元スライスに対応する画像を構成する。1組の
投影データから画像を再構成する1つの方法は、当業界
でフィルタ補正逆投影(filtered back projection)法
と呼ばれている。この手法は、走査からのX線減弱度測
定値を、「CT数」又は「ハンスフィールド(Hounsfiel
d)単位」と呼ばれる整数へ変換し、これらの整数を用い
て、陰極線管表示装置上の対応するピクセルの輝度を制
御するものである。
ル」・スキャン(螺旋走査)を行うこともできる。「ヘ
リカル」・スキャンを行うためには、所定の数のスライ
スのデータが取得されている間に、患者を移動させる。
このようなシステムは、1回のファン・ビーム・ヘリカ
ル・スキャンから単一の螺旋を形成する。ファン・ビー
ムによって悉くマッピングされた螺旋から投影データが
得られ、投影データから各々の所定のスライスにおける
画像を再構成することができる。
何らかの部品を交換したときには、いくつかの安全性試
験が完了していることが典型的には要求される。このよ
うな試験の1つに、被検体又は患者によって受け取られ
るX線量の検定がある。少なくとも1つの公知のCTシ
ステムでは、同じ基準物体が走査され、検出器が線源コ
リメータを出た直射のX線のすべてを遮り、且つ検出器
のX線エネルギ感度及びゲイン(利得)が妥当な程度に
平坦である場合には、イメージング・システムを線量計
と考えることができる。結果的に、画像ノイズを線量検
定に用いることができる。しかしながら、例えば直射の
X線ビームの一部が検出器によって受け取られない場合
のように、上述の3つの条件が満たされていないなら
ば、画像ノイズのみの測定によりX線量を検定すること
はできない。
ジを超えて延在している場合の線量検定を容易にするシ
ステムを提供することが望ましい。また、システムの経
費を増大させずに上述のようなシステムを提供すること
が望ましい。
の目的は、本発明の一態様では、検出器アレイからの信
号を利用して被検体への線量を決定するシステムにおい
て達成することができる。より詳しく述べると、患者又
は被検体への線量を決定するため、検出器アレイからの
信号を用いて画像ノイズとプリ・ペイシェント(pre-pat
ient) コリメータのz軸アパーチャ(開口)とが決定さ
れる。一態様では、プリ・ペイシェント・コリメータ
は、X線源から放射されるX線ビームの対向する両側に
配置されている2つのカムを含んでいる。カムの位置を
変更することにより、X線ビームのz軸における幅及び
位置を変更することができる。
の最大信号強度を決定した後に、この検出器セルにおけ
る信号強度が最大強度の1/2に減少するまでカムの位
置を変更する。カム位置をアパーチャ・サイズに相関さ
せる情報を用いて、調節後のコリメータ・アパーチャが
決定される。決定された調節後のコリメータ・アパーチ
ャ及び画像ノイズを用いて、X線量が決定される。
を決定することにより、X線量検定が容易になる。加え
て、この線量検定は、システムの経費を大幅に付加する
ことなく決定される。
撮影(CT)イメージング・システム10が、「第3世
代」CTスキャナにおいて典型的なガントリ12を含ん
でいるものとして示されている。ガントリ12はX線源
14を備えており、X線源14は、ガントリ12の対向
する側に設けられている検出器アレイ18に向かってX
線ビーム16を投射する。検出器アレイ18は複数の検
出器素子20によって形成されており、検出器素子20
は全体で、患者22を通過する投射されたX線を感知す
る。各々の検出器素子20は、入射するX線ビームの強
度を表す電気信号、従って患者22を通過する間でのビ
ームの減弱を表す電気信号を発生する。X線投影データ
を取得するための1回の走査の間に、ガントリ12及び
ガントリ12に装着されている構成部品は、回転中心2
4の周りを回転する。
は、CTシステム10の制御機構26によって制御され
ている。制御機構26はX線制御装置28及びガントリ
・モータ制御装置30を含んでいる。X線制御装置28
はX線源14に対して電力信号及びタイミング信号を供
給し、ガントリ・モータ制御装置30はガントリ12の
回転速度及び位置を制御する。制御機構26内に設けら
れているデータ取得システム(DAS)32が、検出器
素子20からのアナログ・データをサンプリングして、
後続の処理のためにこのデータをディジタル信号へ変換
する。画像再構成装置34が、サンプリングされてディ
ジタル化されたX線データをDAS32から受け取っ
て、高速画像再構成を実行する。再構成された画像はコ
ンピュータ36への入力として印加され、コンピュータ
36は大容量記憶装置38に画像を記憶させる。
フェイス、即ちグラフィック・ユーザ・インタフェイス
(GUI)を介して信号を受信し且つ供給する。詳しく
述べると、コンピュータは、キーボード及びマウス(図
示されていない)を有しているコンソール40を介し
て、操作者からコマンド(命令)及び走査用パラメータ
を受け取る。付設されている陰極線管表示装置42によ
って、操作者は、再構成された画像、及びコンピュータ
36からのその他のデータを観測することができる。操
作者が供給したコマンド及びパラメータは、コンピュー
タ36によって用いられて、X線制御装置28、ガント
リ・モータ制御装置30、DAS32及びテーブル・モ
ータ制御装置44に制御信号及び情報を供給する。テー
ブル・モータ制御装置44はモータ式テーブル46を制
御して、患者22をガントリ12内に配置する。具体的
には、テーブル46は、患者22の各部をガントリ開口
48内に移動させる。
18は複数の検出器モジュール58を含んでいる。各々
の検出器モジュール58は検出器ハウジング60に固定
されている。各々のモジュール58は、多次元のシンチ
レータ・アレイ62と高密度半導体アレイ(図では見え
ない)とを含んでいる。ポスト・ペイシェント(post-pa
tient)コリメータ(図示されていない)が、シンチレー
タ・アレイ62の上方に隣接して配置されていて、X線
ビームがシンチレータ・アレイ62に入射する前にこれ
らのビームをコリメートする。シンチレータ・アレイ6
2は、配列を成して構成されている複数のシンチレーシ
ョン素子を含んでおり、また半導体アレイは、同一の配
列を成して構成されている複数のフォトダイオード(図
では見えない)を含んでいる。フォトダイオードは基材
64上に堆積すなわち形成されており、シンチレータ・
アレイ62は基材64の上方に配置されて基材64に固
定されている。
8に電気的に結合されたスイッチ装置66を含んでい
る。スイッチ装置66は、フォトダイオード・アレイと
同様のサイズを有する多次元の半導体スイッチ・アレイ
である。一実施例では、スイッチ装置66は電界効果ト
ランジスタ(FET)の配列(図示されていない)を含
んでおり、各々の電界効果トランジスタがは入力、出力
及び制御線(図示されていない)を有している。スイッ
チ装置66は、フォトダイオード・アレイとDAS32
との間に結合されている。具体的には、各々のスイッチ
装置のFETの入力がフォトダイオード・アレイの出力
に電気的に接続されており、各々のスイッチ装置のFE
Tの出力が、例えば可撓性の電気ケーブル70を用い
て、DAS32に電気的に接続されている。
を制御して、スライスの所望の数及び各々のスライスに
ついてのスライス分解能に従って、フォトダイオード・
アレイの出力をイネーブルにしたり、ディスエーブルに
したり、又は組み合わせたりする。デコーダ68は、一
実施例では、当業界で公知のデコーダ・チップ又はFE
Tコントローラである。デコーダ68は、スイッチ装置
66及びコンピュータ36に結合されている複数の出力
線及び制御線を含んでいる。具体的には、デコーダの出
力は、スイッチ装置の制御線に電気的に接続されてい
て、スイッチ装置66がスイッチ装置入力からスイッチ
装置出力へ適正なデータを送信し得るようにする。デコ
ーダの制御線は、スイッチ装置の制御線に電気的に接続
されていて、どのデコーダ出力をイネーブルにするかを
決定する。デコーダ68を用いて、フォトダイオード・
アレイの特定の出力がCTシステムのDAS32に電気
的に接続されるように、スイッチ装置66内の特定のF
ETをイネーブルにしたり、ディスエーブルにしたり、
又は組み合わせたりする。16スライス・モードとして
定義される一実施例では、デコーダ68は、フォトダイ
オード・アレイのすべての行がDAS32に電気的に接
続されて、その結果16個の独立したスライスのデータ
が同時にDAS32に送信されるようにスイッチ装置6
6をイネーブルにする。言うまでもなく、他の多くのス
ライスの組み合わせが可能である。
個の検出器モジュール58を含んでいる。半導体アレイ
及びシンチレータ・アレイ62はそれぞれ、16×16
のアレイ・サイズを有する。その結果、検出器18は、
16の行と912の列(16×57モジュール)とを有
し、これにより、ガントリ12の各回転によって16個
のスライスのデータを同時に収集することが可能にな
る。言うまでもなく、本発明は、何らかの特定のアレイ
・サイズに限定されているわけではなく、アレイは操作
者の特定の必要に応じてより大きくてもよいし、又はよ
り小さくてもよいものと考えられる。また、検出器18
は、多くの異なるスライス厚及び数のモード、例えば、
1スライス・モード、2スライス・モード及び4スライ
ス・モードで動作し得る。例えば、FETを4スライス
・モードとして構成することができ、その場合、フォト
ダイオード・アレイの1行又はそれ以上の行から4つの
スライス分のデータが収集される。デコーダの制御線に
よって画定されるFETの特定の構成に応じて、フォト
ダイオード・アレイの出力の様々な組み合わせをイネー
ブルにしたり、ディスエーブルにしたり、又は組み合わ
せたりすることができ、スライス厚が、例えば、1.2
5mm、2.5mm、3.75mm又は5mmになるよ
うにすることができる。更なる実例には、1.25乃至
20mmのスライスの1つのスライスを含むシングル・
スライス・モード、及び1.25乃至10mmのスライ
ス厚の2つのスライスを含む2スライス・モードがあ
る。ここに記載した以外の他のモードも可能である。
テム10の一実施例の概略構成配置図である。一実施例
では、システム10は、検出器セルの4つの行82、8
4、86及び88を用いて投影データを得ることから、
「フォー・スライス」・システムである。検出器セル9
0、92、94及び96が、投影データを得ることに加
え、線源のアパーチャ(図示されていない)、即ちプリ
・ペイシェント・コリメータ98のアパーチャを決定す
るのに用いられる。
X線ビーム16は、X線源14(図2)の焦点100か
ら放射される。X線ビーム16はプリ・ペイシェント・
コリメータ98によってコリメートされ、コリメート後
のビーム16が検出器セル90、92、94及び96に
向かって投射される。「ファン・ビーム平面」と一般に
呼ばれる平面102が、焦点100の中心線とビーム1
6の中心線とを含んでいる。図5では、ファン・ビーム
平面102は、検出器セル90、92、94及び96上
の照射区域104の中心線D0 と整列している。
120A及び120Bを含んでいる。カム120A及び
120Bは、ファン・ビーム平面102の対向する両側
に配置されていて、カム120Aとカム120Bとの間
の間隔、即ちアパーチャを変更するように、また、ファ
ン・ビーム平面102に対するカム120A及び120
Bの位置を変更するように、独立に回転させることがで
きる。カム120A及び120Bは、一実施例では、2
000カウントのエンコーダ(図示されていない)を有
するステップ・モータによって、命令された位置まで別
個に駆動される。一実施例では、ステップ・モータ及び
エンコーダの信号は、X線制御装置28によって制御さ
れるインタフェイス回路(図示されていない)へ供給さ
れ、またこのインタフェイス回路から供給される。カム
120A及び120Bは、X線吸収性材料、例えばタン
グステンで作製される。
ム120A及び120Bの回転によって、X線ビーム1
6のz軸プロファイルが変更される。より詳しく述べる
と、カム120A及び120Bの位置を変化させ又は変
更することにより、X線ビームの本影のz軸での位置及
び幅が調節される、即ち変更される。例えば、ステップ
・モータを一方向又は反対方向に回転させてカム120
A及び120Bを互いに近づくように又は互いから離れ
るように移動させることにより、X線ビームの本影の全
体の幅が狭く又は広くなる。逆に、カム120Aとカム
120Bとの間の間隔が同じままになるようにステップ
・モータを同一方向に回転させると、平面102のz軸
位置が検出器アレイ18に対して、詳しく述べると、D
0 に対して移動する。加えて、カム120Aに結合され
ているステップ・モータを回転させることによりカム1
20Aの位置のみを変更すると、検出器アレイ18の一
方のエッジに対するビーム16の本影の幅及び位置が変
更される。同様に、カム120Bの位置のみを変更させ
ると、検出器アレイ18の他方のエッジ、即ち第2のエ
ッジに対する本影の幅及び位置が変更される。
に、コリメータ98は、例えば、レーザ・カメラを用い
てガントリ基礎板装着用表面126からそれぞれのカム
120A及び120Bの中心までの距離を決定して、特
性決定(characterize)される。カム120A及び120
Bについてのそれぞれの測定距離は、例えば制御装置2
8のメモリに記憶されて、それぞれのカム120A及び
120Bについて距離及びエンコーダ位置に関する別個
の表が形成されるようにする。この表のデータは、例え
ばカム120Aについて図6に示すように、中心からの
カム位置(mm)をカム・エンコーダ位置の関数として
表す。カム120A及び120Bの特性決定の際に、各
々のエンコーダ位置について収集されたデータが理論的
な予測数値に合致しているか検証され、関数が不良のデ
ータ点又は不連続点を含まないようにすると共に、設計
パラメータによって決定されている形状に従うようにす
る。加えて、線源14からコリメータ98までの距離
「C」、及び検出器アレイ18の各々のセルから線源1
4までの距離「D」は、CTガントリの設計形状から既
知であり、製造の際には厳密な公差を有するように制御
されている。動作時には、特性表を用いて、カム120
A及び120Bを適切なエンコード位置に配置して、所
望の公称アパーチャ及びアパーチャ・オフセットを得
る。
は、極めて厳密な公差に制御されており、検出器アレイ
18の信号強度を用いてコリメータ98のアパーチャを
測定又は決定することができるようになっている。詳し
く述べると、カム120A及び120Bは、各々の検出
器セル(即ち、チャネル)についての信号強度が最大信
号強度のほぼ1/2まで減少する位置を決定するように
調節(即ち、掃引)される。1/2の信号強度は、コリ
メータ98が焦点100から放射されたX線ビームのほ
ぼ1/2を遮蔽(即ち、コリメート)する位置に相当す
る。検出器アレイ18の各々の検出器セルのz軸幅、線
源14とコリメータ98との間の距離、及び線源14と
検出器アレイ18との間の距離を用いて、コリメータ9
8のアパーチャを決定することができる。より詳しく述
べると、例えば、コリメータ・カム120Aのアパーチ
ャは、 A=Z*(C/D) であり、ここで、Zは、最大信号強度の1/2の信号強
度を生成する検出器セルの中心から検出器アレイ18の
中心(即ち、D0 )までの距離である。より詳しく述べ
ると、距離Zは、検出器アレイ18の中心線からのセル
の数から1/2を引いた値にセル・ピッチ(即ち、z軸
幅)を乗算した値である。例えば、16スライス構成を
示している図7に示すように、C=162mm、D=9
49mmであり、検出器アレイ18の各々のセルが2.
1831mmのz軸幅を有し、セル8Aの信号強度が最
大信号の1/2である場合には、カム120Aのアパー
チャは、(2.1831mm*(8−1/2))*(1
62/949)=2.795mmとなる。カム120B
のアパーチャも同様にして決定され、調節後の全体アパ
ーチャは、カム120Aのアパーチャとカム120Bの
アパーチャとを加えることにより決定することができ
る。より詳しく述べると、コリメータ98の調節後のア
パーチャは、ビーム16が検出器セルの中心に位置する
ようにするにはカム120A及び120Bをどれだけの
距離にわたって移動させる、即ちずらさなければならな
いかを測定することにより決定される。アパーチャにお
けるセル中心間距離に、カム120Aの位置の変更分
(即ち、オフセット)を加え、カム120Bの位置の変
更分(即ち、オフセット)を加えたものが、コリメータ
98の調節後のアパーチャを与える。
(POR)でのX線管の整列ずれによって、検出器アレ
イ18の中心線と整列ずれを生ずる可能性はあるが、焦
点100の絶対位置による誤差は、一方のカム・アパー
チャに加算され、他のカム位置から減算される。その結
果、アパーチャは、カム120Aの位置とカム120B
の位置との間の差によって決定することが出来る。加え
て、決定されたアパーチャは、個々のセル(即ち、チャ
ネル)からの応答に依存する。誤差を最小化するため
に、複数のセル(即ち、チャネル)から強度信号を得て
もよい。例えば、検出器アレイ18のアイソセンタ(iso
center) に跨がる100個のチャネルから値を収集する
ことができる。その結果、z軸における非一様な検出器
応答又は非一様な焦点分布関数によるあらゆる誤差が、
決定後のカム120A及び120Bの位置において相殺
される。
120A及び120Bの位置のそれぞれの変更分との和
によって、カム・アパーチャが決定されると共に、特性
表がコリメータ98に適正に一致していることが検証さ
れる。例えば、図8に示すように、測定されたアパーチ
ャは、カム120Aの位置の変更分ΔAとカム120B
の位置の変更分ΔBとセル中心間の測定距離との和に等
しい。
水ファントムを走査し、当業界で公知の方法で再構成画
像が形成される。次いで、画像ノイズが、例えば当業界
で公知のように、基準物体について一様な領域を成すピ
クセルの全体にわたる平均値に対する標準偏差を算出す
ることにより決定される。画像ノイズと線量との間の関
係は、統計学的に有意な数のシステムにわたる保証付線
量計測器に対する較正により確定される。次いで、画像
ノイズ及びコリメータ98のアパーチャの両方が許容限
度内にあることを決定することにより、線量が検定され
る。詳しく述べると、全X線量とコリメータ・アパーチ
ャとの間の比例関係を利用して、X線量を間接的に決定
すると共に検定することができる。
ムの本影のエッジが検出器アレイ18を覆って適正に配
置されるようにコリメータ98のアパーチャを調節す
る。より詳しく述べると、ステップ・モータを用いて、
コリメータのアパーチャが適正に調節される(即ち、適
正なサイズになる)ようにカム120A及び120Bが
位置決めされる。カム120A及び120Bの位置を決
定するエンコーダ信号を用いて、X線量が決定されるよ
うにコリメータ98のアパーチャが決定される。その結
果、製造及び現場サービスのために線量測定の装置及び
手順を提供するのに掛かるかなりの経費を省くことがで
きる。
検出器アレイからの強度信号を用いてX線量の検定を容
易にするものである。加えて、システムの経費及び複雑
さを付加することなく線量検定が決定される。本発明の
様々な実施例に関する以上の記述から、発明の目的が達
せられたことは明らかである。本発明を詳細に記述する
と共に図解したが、これらは説明及び例示のみを意図し
たものであり、限定のためのものであると解釈してはな
らないことを明瞭に理解されたい。例えば、ここに記載
したCTシステムは、X線源及び検出器の両方がガント
リと共に回転するような「第3世代」システムである。
しかしながら、検出器がフル・リング(full ring )型
の静止式検出器であり且つX線源のみがガントリと共に
回転するような「第4世代」システムを含めた他の多く
のCTシステムを用いてもよい。同様に、ここに記載し
たシステムは、ツー・スライス型及びフォー・スライス
型であったが、任意のマルチスライス型システムを用い
ることができる。従って、本発明の要旨は、特許請求の
範囲によって限定されるものとする。
る。
要素の概略配置図である。
置を示すグラフである。
要素の概略配置図である。
のCTシステムの構成要素の概略配置図である。
Claims (26)
- 【請求項1】 z軸に沿って変位した少なくとも2行の
検出器セルを有する検出器アレイと、該検出器アレイに
向かってX線ビームを放射するX線源と、調節自在なコ
リメータとを備えたイメージング・システムにおいて、
X線量を決定する方法であって、 被検体を走査する工程と、 該走査された被検体の画像ノイズを決定する工程と、 前記検出器アレイを用いてコリメータのz軸アパーチャ
を決定する工程とを有する前記方法。 - 【請求項2】 前記コリメータ・アパーチャを決定する
前記工程は、前記コリメータ・アパーチャを公称値に位
置決めする工程と、調節されたコリメータ・アパーチャ
を決定する工程とを含んでいる請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記調節されたコリメータ・アパーチャ
を決定する前記工程は、前記コリメータを特性決定する
工程を含んでいる請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記調節されたコリメータ・アパーチャ
を決定する前記工程は、前記コリメータ・アパーチャを
測定する工程を更に含んでいる請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 前記X線ビームは焦点から放射されてお
り、前記コリメータは、前記X線ビームの対向する両側
に配置されて、前記X線ビームのz軸プロファイルを変
更する少なくとも2つの調節自在なカムを含んでおり、
前記コリメータ・アパーチャを測定する前記工程は、少
なくとも1つの検出器セルから最大信号強度を決定する
工程と、前記検出器セルにおける信号強度が前記最大信
号強度の2分の1となるような前記コリメータ・カムの
位置を決定する工程とを含んでいる請求項4に記載の方
法。 - 【請求項6】 前記検出器セルにおいて信号強度が前記
最大信号強度の2分の1となるような前記コリメータ・
カムの位置を決定する前記工程は、前記コリメータ・カ
ムの位置を変更する工程と、前記検出器セルの信号強度
を測定する工程とを含んでいる請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 前記コリメータ・カムの位置を変更する
前記工程は、前記検出器アレイの中心から前記2分の1
の信号強度を有する前記検出器セルの中心までの距離を
決定する工程を含んでいる請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 前記検出器アレイの中心から前記2分の
1の信号強度を有する前記検出器セルの中心までの前記
距離Zは、Z=(前記検出器セルの幅)*(前記検出器
アレイの中心から数えた全信号強度を有するセルの数+
1/2)である請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 前記コリメータ・カムの前記位置は、A
=Z*(C/D)である請求項7に記載の方法。 - 【請求項10】 前記検出器はマルチスライス型検出器
である請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 z軸に沿って変位した少なくとも2行
の検出器セルを有する検出器アレイと、該検出器アレイ
に向かってX線ビームを放射するX線源と、調節自在な
コリメータとを備えたイメージング・システムにおい
て、X線量を決定するシステムであって、 被検体を走査し、該走査された被検体の画像ノイズを決
定し、前記検出器アレイを用いてコリメータのz軸アパ
ーチャを決定するように構成されていることを特徴とす
るシステム。 - 【請求項12】 前記コリメータ・アパーチャを決定す
るために、前記コリメータを公称アパーチャに位置決め
し、調節されたコリメータ・アパーチャを決定するよう
に構成されている請求項11に記載のシステム。 - 【請求項13】 前記調節されたコリメータ・アパーチ
ャを決定するために、前記コリメータを特性決定するよ
うに構成されている請求項12に記載のシステム。 - 【請求項14】 前記調節されたコリメータ・アパーチ
ャを決定するために、前記コリメータ・アパーチャを測
定するように更に構成されている請求項12に記載のシ
ステム。 - 【請求項15】 前記X線ビームは焦点から放射されて
おり、前記コリメータは、前記X線ビームの対向する両
側に配置されて、前記X線ビームのz軸プロファイルを
変更する少なくとも2つの調節自在なカムを含んでお
り、前記システムは、前記コリメータ・アパーチャを測
定するために、少なくとも1つの検出器セルから最大信
号強度を決定し、前記検出器セルにおける信号強度が前
記最大信号強度の2分の1となるような前記コリメータ
・カムの位置を決定するように構成されている請求項1
4に記載のシステム。 - 【請求項16】 前記検出器セルにおいて信号強度が前
記最大信号強度の2分の1となるような前記コリメータ
・カムの位置を決定するために、前記コリメータ・カム
の位置を変更させ、前記検出器セルの信号強度を測定す
るように構成されている請求項15に記載のシステム。 - 【請求項17】 前記コリメータ・カムの位置を変更す
るために、前記検出器アレイの中心から前記2分の1の
信号強度を有する前記検出器セルの中心までの距離を決
定するように構成されている請求項16に記載のシステ
ム。 - 【請求項18】 前記検出器アレイの中心から前記2分
の1の信号強度を有する前記検出器セルの中心までの前
記距離Zは、Z=(前記検出器セルの幅)*(前記検出
器アレイの中心から数えた全信号強度を有するセルの数
+1/2)である請求項17に記載のシステム。 - 【請求項19】 前記コリメータ・カムの前記位置は、
A=Z*(C/D)である請求項18に記載のシステ
ム。 - 【請求項20】 前記検出器は、マルチスライス型検出
器である請求項11に記載のシステム。 - 【請求項21】 z軸に沿って変位した少なくとも2行
の検出器セルを有するマルチスライス型検出器アレイ
と、該検出器アレイに向かってX線ビームを放射するX
線源と、アパーチャを有するプリ・ペイシェント・コリ
メータとを備えているイメージング・システムであっ
て、 被検体を走査し、該走査された被検体の画像ノイズを決
定し、前記検出器アレイを用いてコリメータのz軸アパ
ーチャを決定するように構成されているイメージング・
システム。 - 【請求項22】 前記コリメータ・アパーチャを決定す
るために、前記コリメータを特性決定し、前記コリメー
タ・アパーチャを測定するように構成されている請求項
21に記載のイメージング・システム。 - 【請求項23】 前記X線ビームは焦点から放射されて
おり、前記コリメータは、前記X線ビームの対向する両
側に配置されて、前記X線ビームのz軸プロファイルを
変更する少なくとも2つの調節自在なカムを含んでお
り、前記イメージング・システムは、前記コリメータ・
アパーチャを測定するために、少なくとも1つの検出器
セルから最大信号強度を決定し、前記検出器セルの信号
強度が前記最大信号強度の2分の1となるまで前記コリ
メータ・カムの位置を変更するように構成されている請
求項21に記載のイメージング・システム。 - 【請求項24】 前記コリメータ・カムの前記位置を変
更するために、前記検出器アレイの中心から2分の1の
信号強度を有する前記検出器セルの中心までの距離を決
定するように構成されている請求項23に記載のイメー
ジング・システム。 - 【請求項25】 前記検出器アレイの中心から前記2分
の1の信号強度を有する前記検出器セルの中心までの前
記距離Zは、Z=(前記検出器セルの幅)*(前記検出
器アレイの中心から数えた全信号強度を有するセルの数
+1/2)である請求項24に記載のイメージング・シ
ステム。 - 【請求項26】 前記コリメータ・カムの前記位置は、
A=Z*(C/D)である請求項25に記載のイメージ
ング・システム。
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