JP2000075497A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2000075497A JP2000075497A JP10254649A JP25464998A JP2000075497A JP 2000075497 A JP2000075497 A JP 2000075497A JP 10254649 A JP10254649 A JP 10254649A JP 25464998 A JP25464998 A JP 25464998A JP 2000075497 A JP2000075497 A JP 2000075497A
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- JP
- Japan
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- photomask
- exposure
- cylindrical
- pattern
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 円筒状フォトマスク１を回転させ、これ
に同期してワークＷを搬送し、円筒状フォトマスク１内
部に設けられた露光光源２により露光位置Ｅにおいて露
光を行う。フィルムマスク１０のパターンピッチを予め
測定しておき、該パターンピッチに応じて円筒体１１の
回転制御を行う。
に同期してワークＷを搬送し、円筒状フォトマスク１内
部に設けられた露光光源２により露光位置Ｅにおいて露
光を行う。フィルムマスク１０のパターンピッチを予め
測定しておき、該パターンピッチに応じて円筒体１１の
回転制御を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】プリント回路基板などを作成する際に、
回路パターン等を描いたフォトマスクを用い、ワーク側
に回路パターンを焼き付けて回路基板を作成する方法が
普及しており、そのための露光装置が種々使用されてい
る。
回路パターン等を描いたフォトマスクを用い、ワーク側
に回路パターンを焼き付けて回路基板を作成する方法が
普及しており、そのための露光装置が種々使用されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の露光装
置において、例えばフープ材のような長尺の連続的なワ
ークに連続的なパターンを形成する際には、フォトマス
クに描かれた或一定のエリア毎に露光とワーク搬送を繰
り返しながら全体の露光を行うことになる。しかし、上
記した方法による露光の場合、隣同士の露光エリアの境
目のパターンの精度に問題が生じる。即ち、露光エリア
がわずかに重なったり、ギャップが生じた状態で露光が
行われることがあり、これがパターンの寸法的な不具合
として表れる問題がある。隣同士の露光エリアが重なら
ないよう或いはギャップが生じないように露光する事は
従来の装置では不可能であり、この点の改善が望まれて
いた。本発明は上記従来技術の欠点を改善することを目
的とする。
置において、例えばフープ材のような長尺の連続的なワ
ークに連続的なパターンを形成する際には、フォトマス
クに描かれた或一定のエリア毎に露光とワーク搬送を繰
り返しながら全体の露光を行うことになる。しかし、上
記した方法による露光の場合、隣同士の露光エリアの境
目のパターンの精度に問題が生じる。即ち、露光エリア
がわずかに重なったり、ギャップが生じた状態で露光が
行われることがあり、これがパターンの寸法的な不具合
として表れる問題がある。隣同士の露光エリアが重なら
ないよう或いはギャップが生じないように露光する事は
従来の装置では不可能であり、この点の改善が望まれて
いた。本発明は上記従来技術の欠点を改善することを目
的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の露光装置は、円筒状のフォトマスクと、露
光対象物を所定方向に搬送する手段と、前記円筒状のフ
ォトマスクを該露光対象物の搬送と同期させて回転させ
る手段と、前記フォトマスクのパターンピッチに対応し
て、前記フォトマスクの回転と露光対象物の搬送の中の
１又は両方を制御する制御手段と、前記円筒状のフォト
マスクを透過して前記露光対象物に光を照射する光源
と、を備えたことを特徴とする。該円筒状のフォトマス
クは、フォトマスク自体を円筒状としても良いし、或い
は露光波長透過性の材質で円筒を形成し、該円筒にフィ
ルム状のマスクを張り付ける等種々の態様が可能であ
る。フォトマスクと露光対象物は接触させても良いし、
或いは非接触でも良い。該光源は円筒内に設けるのが望
ましく、また遮光カバーと光学系を設け、前記円筒状の
フォトマスクの側周面内側に向けて円筒長さ方向に平行
な線に沿って光を照射する、ように構成することが望ま
しい。フォトマスクのパターンピッチには種々の理由に
より誤差が生じ、これを希望の寸法精度に納めることは
非常に難しい。そのため、この発明においては、パター
ンピッチに対応してフォトマスクの回転或いは露光対象
物の搬送を制御するように構成し、この制御によりパタ
ーンピッチの誤差を補償するように構成されている。具
体的な例として、例えばフォトマスクが円筒体とそこに
装着されたフィルムマスクを有する場合、前記フィルム
マスクの繋ぎ目におけるパターンピッチに基づいて、該
繋ぎ目部分において該フォトマスクの回転制御を行う。
に、本発明の露光装置は、円筒状のフォトマスクと、露
光対象物を所定方向に搬送する手段と、前記円筒状のフ
ォトマスクを該露光対象物の搬送と同期させて回転させ
る手段と、前記フォトマスクのパターンピッチに対応し
て、前記フォトマスクの回転と露光対象物の搬送の中の
１又は両方を制御する制御手段と、前記円筒状のフォト
マスクを透過して前記露光対象物に光を照射する光源
と、を備えたことを特徴とする。該円筒状のフォトマス
クは、フォトマスク自体を円筒状としても良いし、或い
は露光波長透過性の材質で円筒を形成し、該円筒にフィ
ルム状のマスクを張り付ける等種々の態様が可能であ
る。フォトマスクと露光対象物は接触させても良いし、
或いは非接触でも良い。該光源は円筒内に設けるのが望
ましく、また遮光カバーと光学系を設け、前記円筒状の
フォトマスクの側周面内側に向けて円筒長さ方向に平行
な線に沿って光を照射する、ように構成することが望ま
しい。フォトマスクのパターンピッチには種々の理由に
より誤差が生じ、これを希望の寸法精度に納めることは
非常に難しい。そのため、この発明においては、パター
ンピッチに対応してフォトマスクの回転或いは露光対象
物の搬送を制御するように構成し、この制御によりパタ
ーンピッチの誤差を補償するように構成されている。具
体的な例として、例えばフォトマスクが円筒体とそこに
装着されたフィルムマスクを有する場合、前記フィルム
マスクの繋ぎ目におけるパターンピッチに基づいて、該
繋ぎ目部分において該フォトマスクの回転制御を行う。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１及び図２において、円筒状フォ
トマスク１は矢印方向に回転可能になっており、表面に
所定のマスクパターンが描かれている。円筒状の露光波
長透過材にフィルムマスクを張り付けても良い。円筒状
フォトマスク１の下側にワークＷが矢印方向に搬送され
るようになっている。ワークＷ表面には感光レジストが
塗布されており、円筒状フォトマスク１のマスクパター
ンに応じて感光されるようになっている。円筒状フォト
マスク１とワークＷとは接触させても良いし、非接触と
しても良い。円筒状フォトマスク１とワークＷとは制御
装置２０、駆動装置２１、２２から成るサーボ駆動機構
により高精度に同期させて駆動されるように構成されて
いる。
基づいて説明する。図１及び図２において、円筒状フォ
トマスク１は矢印方向に回転可能になっており、表面に
所定のマスクパターンが描かれている。円筒状の露光波
長透過材にフィルムマスクを張り付けても良い。円筒状
フォトマスク１の下側にワークＷが矢印方向に搬送され
るようになっている。ワークＷ表面には感光レジストが
塗布されており、円筒状フォトマスク１のマスクパター
ンに応じて感光されるようになっている。円筒状フォト
マスク１とワークＷとは接触させても良いし、非接触と
しても良い。円筒状フォトマスク１とワークＷとは制御
装置２０、駆動装置２１、２２から成るサーボ駆動機構
により高精度に同期させて駆動されるように構成されて
いる。
【０００６】円筒状フォトマスク１の内部には露光光源
２が設けられ、露光周波数の光を照射するように構成さ
れている。露光光源２は円筒状フォトマスク１の回転軸
を通る径線上に円筒長さ方向ほぼ全体にわたって設けら
れている。露光光源２には反射板３が設けられ、露光光
源２の下側（ワークＷ側）に設けられたレンズ６へ光を
反射して平行光とするようになっている。レンズ６は露
光光源２の光路途中に設けられており、円筒状フォトマ
スク１の円筒長さ方向ほぼ全体にわたって設けられてお
り、円筒長さ方向に所定の面積を有する線条の光を照射
するようになっている。レンズ６は露光光源２の下側か
ら円筒状フォトマスク１とワークＷが接触或いは最も近
接する位置の円筒状フォトマスク１内壁側の位置に達す
るように設けられており、該位置まで露光光源２からの
光を伝播するようになっている。この位置が露光位置Ｅ
となり、この露光位置Ｅに円筒状フォトマスク１の円筒
長さに応じた線条の露光部が形成されるようになってい
る。レンズ６は円筒状フォトマスク１の内壁に非接触に
近接するように構成されている。遮光カバー４は露光光
源２と反射板３を覆い、遮光カバー５はレンズ６を覆う
ようになっており、露光を露光位置Ｅ以外に漏洩させな
いように構成されている。遮光カバー５は円筒状フォト
マスク１の内壁に出来る限り近接させて非接触とし、ノ
イズ光の侵入を防ぐと共に円筒状フォトマスク１の回転
を阻害しないように構成している。
２が設けられ、露光周波数の光を照射するように構成さ
れている。露光光源２は円筒状フォトマスク１の回転軸
を通る径線上に円筒長さ方向ほぼ全体にわたって設けら
れている。露光光源２には反射板３が設けられ、露光光
源２の下側（ワークＷ側）に設けられたレンズ６へ光を
反射して平行光とするようになっている。レンズ６は露
光光源２の光路途中に設けられており、円筒状フォトマ
スク１の円筒長さ方向ほぼ全体にわたって設けられてお
り、円筒長さ方向に所定の面積を有する線条の光を照射
するようになっている。レンズ６は露光光源２の下側か
ら円筒状フォトマスク１とワークＷが接触或いは最も近
接する位置の円筒状フォトマスク１内壁側の位置に達す
るように設けられており、該位置まで露光光源２からの
光を伝播するようになっている。この位置が露光位置Ｅ
となり、この露光位置Ｅに円筒状フォトマスク１の円筒
長さに応じた線条の露光部が形成されるようになってい
る。レンズ６は円筒状フォトマスク１の内壁に非接触に
近接するように構成されている。遮光カバー４は露光光
源２と反射板３を覆い、遮光カバー５はレンズ６を覆う
ようになっており、露光を露光位置Ｅ以外に漏洩させな
いように構成されている。遮光カバー５は円筒状フォト
マスク１の内壁に出来る限り近接させて非接触とし、ノ
イズ光の侵入を防ぐと共に円筒状フォトマスク１の回転
を阻害しないように構成している。
【０００７】円筒状フォトマスク１にはゴミ取りローラ
７が接触し、またワークＷにはゴミ取りローラ８が接触
してゴミ取りを行うようになっている。
７が接触し、またワークＷにはゴミ取りローラ８が接触
してゴミ取りを行うようになっている。
【０００８】以上の構成において、ワークＷは矢印方向
に搬送し、これに同期して円筒状フォトマスク１が矢印
方向に回転する。そして、露光位置Ｅにおいて露光光源
２からの光により線条の露光が行われる。円筒状フォト
マスク１が１回転した後も連続的に次の回転が行われる
から、円筒状フォトマスク１に描かれたマスクパターン
を連続的にワークＷ上に焼き付けることが可能であり、
パターンとパターンのつなぎ目にギャップや重なりが生
ずることがなく、高精度に連続的なパターン形成が可能
である。
に搬送し、これに同期して円筒状フォトマスク１が矢印
方向に回転する。そして、露光位置Ｅにおいて露光光源
２からの光により線条の露光が行われる。円筒状フォト
マスク１が１回転した後も連続的に次の回転が行われる
から、円筒状フォトマスク１に描かれたマスクパターン
を連続的にワークＷ上に焼き付けることが可能であり、
パターンとパターンのつなぎ目にギャップや重なりが生
ずることがなく、高精度に連続的なパターン形成が可能
である。
【０００９】なお、上記では、ワークＷの片面にのみ露
光する装置を説明したが、同一の構成をワークＷの表裏
に設けてワークＷの表裏に同時に露光を行うように構成
することも可能である。
光する装置を説明したが、同一の構成をワークＷの表裏
に設けてワークＷの表裏に同時に露光を行うように構成
することも可能である。
【００１０】制御装置２０にはパターンピッチ入力装置
１９が接続され、適宜円筒状フォトマスク１のパターン
ピッチを入力できるようになっている。このパターンピ
ッチは予め測定した値でも良いし、或いは自動的にピッ
チを測定して入力するようにしても良い。
１９が接続され、適宜円筒状フォトマスク１のパターン
ピッチを入力できるようになっている。このパターンピ
ッチは予め測定した値でも良いし、或いは自動的にピッ
チを測定して入力するようにしても良い。
【００１１】図３と図４によりパターンピッチの誤差に
ついて説明する。前述したように、円筒状フォトマスク
１には露光波長透過材料を使用した円筒の外周に直接パ
ターンを描いたものや、パターンが描かれたフィルムマ
スクを露光波長透過性の円筒の外周に密着固定したもの
が使用可能である。ここでは、円筒状フォトマスク１が
フィルムマスク１０と円筒体１１を有し、該円筒体１１
上にフィルムマスク１０を装着した場合について説明す
る。図示するようにフィルムマスク１０を装着する場
合、その端部と端部の間で繋ぎ目が発生する。この時、
始点付近のパターンと終点付近のパターンの両者のピッ
チを希望の寸法精度に納めることは非常に困難であり、
このピッチが正確に出来てないと露光対象物への露光パ
ターンは不正確なものとなる。図３の〜はフィルム
マスク１０に描かれた各パターンの中心位置を示す。こ
こでは円筒体１１を半径方向８分割しており、との
間に繋ぎ目１２が発生する。この繋ぎ目１２は構造上重
ね合わせることができず、通常は空隙となる。上記した
例において、各中心位置を通る半径の角度はθ１からθ
８まで等角度であることが望ましい。θ１からθ７間で
の精度は、フィルムマスク１０の作画精度でほぼ決定さ
れるため、図４に示すからまでのピッチは希望の寸
法を確保するのが容易である。しかし、θ８をθ１〜θ
７と同等に合わせるのは非常に困難である。何故なら
ば、〜の累積精度や円筒体１１へのフィルムマスク
１０の密着固定精度或いは円筒体１１の外周長さの精度
等の各誤差が累積されるからである。そのため、単純に
円筒体１１とワークＷとを同期させて運転させると、ピ
ッチＰ８が他のピッチＰと異なる現象が生じることにな
る。
ついて説明する。前述したように、円筒状フォトマスク
１には露光波長透過材料を使用した円筒の外周に直接パ
ターンを描いたものや、パターンが描かれたフィルムマ
スクを露光波長透過性の円筒の外周に密着固定したもの
が使用可能である。ここでは、円筒状フォトマスク１が
フィルムマスク１０と円筒体１１を有し、該円筒体１１
上にフィルムマスク１０を装着した場合について説明す
る。図示するようにフィルムマスク１０を装着する場
合、その端部と端部の間で繋ぎ目が発生する。この時、
始点付近のパターンと終点付近のパターンの両者のピッ
チを希望の寸法精度に納めることは非常に困難であり、
このピッチが正確に出来てないと露光対象物への露光パ
ターンは不正確なものとなる。図３の〜はフィルム
マスク１０に描かれた各パターンの中心位置を示す。こ
こでは円筒体１１を半径方向８分割しており、との
間に繋ぎ目１２が発生する。この繋ぎ目１２は構造上重
ね合わせることができず、通常は空隙となる。上記した
例において、各中心位置を通る半径の角度はθ１からθ
８まで等角度であることが望ましい。θ１からθ７間で
の精度は、フィルムマスク１０の作画精度でほぼ決定さ
れるため、図４に示すからまでのピッチは希望の寸
法を確保するのが容易である。しかし、θ８をθ１〜θ
７と同等に合わせるのは非常に困難である。何故なら
ば、〜の累積精度や円筒体１１へのフィルムマスク
１０の密着固定精度或いは円筒体１１の外周長さの精度
等の各誤差が累積されるからである。そのため、単純に
円筒体１１とワークＷとを同期させて運転させると、ピ
ッチＰ８が他のピッチＰと異なる現象が生じることにな
る。
【００１２】この実施形態では、パターンピッチ入力装
置１９を備えており、予めフィルムマスク１０を円筒体
１１に装着した状態でピッチを測定し、これを入力でき
るように構成されている。自動的にピッチ測定を及び入
力を行うようにしても良い。図４ではピッチＰ８のみ他
と異なるので、このピッチだけを入力し、駆動装置２１
にのθ８分だけ回転させるように制御する。ワークＷ
は通常通り搬送する。このように、フィルムマスク１０
のパターンピッチを事前に測定し、そのピッチに対応し
て円筒体１１の回転制御を行うことにより、ワークＷに
正確なピッチの露光が行える。そのため、フィルムマス
ク１０を円筒体１１に装着する際に精度を気にしなくて
良く、操作性が向上する。
置１９を備えており、予めフィルムマスク１０を円筒体
１１に装着した状態でピッチを測定し、これを入力でき
るように構成されている。自動的にピッチ測定を及び入
力を行うようにしても良い。図４ではピッチＰ８のみ他
と異なるので、このピッチだけを入力し、駆動装置２１
にのθ８分だけ回転させるように制御する。ワークＷ
は通常通り搬送する。このように、フィルムマスク１０
のパターンピッチを事前に測定し、そのピッチに対応し
て円筒体１１の回転制御を行うことにより、ワークＷに
正確なピッチの露光が行える。そのため、フィルムマス
ク１０を円筒体１１に装着する際に精度を気にしなくて
良く、操作性が向上する。
【００１３】なお、上記では円筒体１１側の回転制御の
みを行うようにしているが、ワークＷの搬送制御を行っ
ても良い。また回転制御と搬送制御を両方行っても良
い。また、パターンピッチ入力装置１９からは予め測定
したピッチを入力するようなっているが、露光継続中に
露光完成品のピッチ誤差を測定して、制御装置２０にフ
ィードバックすることなども可能である。
みを行うようにしているが、ワークＷの搬送制御を行っ
ても良い。また回転制御と搬送制御を両方行っても良
い。また、パターンピッチ入力装置１９からは予め測定
したピッチを入力するようなっているが、露光継続中に
露光完成品のピッチ誤差を測定して、制御装置２０にフ
ィードバックすることなども可能である。
【００１４】図５に上記した動作のフローチャートを示
す。図中ステップＳ４とＳ５は露光完成品のピッチの誤
差測定に係るものであって、必ずしも行う必要はない。
す。図中ステップＳ４とＳ５は露光完成品のピッチの誤
差測定に係るものであって、必ずしも行う必要はない。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、パターンの連続的な露光を行え、従来のように
露光とワークＷの搬送を間欠的に行うことがなく、その
ためパターンとパターンの間にギャップを生じたり、重
なりを生じることがない。その結果高精度の連続露光が
可能になる。また、フィルムマスクを用いる場合でも、
その装着が容易であり、装着精度に高いものを要求され
ないから、操作性が良い等の効果がある。
よれば、パターンの連続的な露光を行え、従来のように
露光とワークＷの搬送を間欠的に行うことがなく、その
ためパターンとパターンの間にギャップを生じたり、重
なりを生じることがない。その結果高精度の連続露光が
可能になる。また、フィルムマスクを用いる場合でも、
その装着が容易であり、装着精度に高いものを要求され
ないから、操作性が良い等の効果がある。
【図１】本発明の一実施形態を示す概略正面図。
【図２】本発明の一実施形態を示す概略斜視図。
【図３】本発明の一実施形態におけるフィルムマスク１
０の円筒体１１への装着状態の説明図。
０の円筒体１１への装着状態の説明図。
【図４】本発明の一実施形態におけるパターンピッチの
説明図。
説明図。
【図５】本発明の一実施形態の動作を説明するフローチ
ャート図。
ャート図。
１：円筒状フォトマスク、２：露光光源、３：反射板、
４：遮光カバー、５：遮光カバー、６：レンズ、７：ゴ
ミ取りローラ、８：ゴミ取りローラ、１０：フィルムマ
スク、１１：円筒体、１２：繋ぎ目、１９：パターンピ
ッチ入力装置、２０：制御装置、２１：駆動装置、２
２：駆動装置。
４：遮光カバー、５：遮光カバー、６：レンズ、７：ゴ
ミ取りローラ、８：ゴミ取りローラ、１０：フィルムマ
スク、１１：円筒体、１２：繋ぎ目、１９：パターンピ
ッチ入力装置、２０：制御装置、２１：駆動装置、２
２：駆動装置。
Claims (2)
- 【請求項１】 円筒状のフォトマスクと、 露光対象物を所定方向に搬送する手段と、 前記円筒状のフォトマスクを該露光対象物の搬送と同期
させて回転させる手段と、 前記フォトマスクのパターンピッチに対応して、前記フ
ォトマスクの回転と露光対象物の搬送の中の１又は両方
を制御する制御手段と、 前記円筒状のフォトマスクを透過して前記露光対象物に
光を照射する光源と、を備えたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項２】 前記円筒状のフォトマスクが円筒体とそ
こに装着されたフィルムマスクを有し、 前記フィルムマスクの繋ぎ目におけるパターンピッチに
基づいて、該繋ぎ目部分において該フォトマスクの回転
制御を行う、 ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10254649A JP2000075497A (ja) | 1998-08-26 | 1998-08-26 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10254649A JP2000075497A (ja) | 1998-08-26 | 1998-08-26 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000075497A true JP2000075497A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17267959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10254649A Pending JP2000075497A (ja) | 1998-08-26 | 1998-08-26 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000075497A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6833943B2 (en) | 2000-03-03 | 2004-12-21 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display and novel process for its manufacture |
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