JP2000075281A - Color filter substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel using the same - Google Patents
Color filter substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル用カラ
ーフィルター基板及び同基板を用いた液晶パネルに関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate for a liquid crystal panel and a liquid crystal panel using the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の液晶パネル用のカラーフィルター
基板（以下、「ＣＦ基板」と称する）の主要部分の概略
図とその側面図を図６に示し、このＣＦ基板を用いた従
来のＴＦＴ液晶パネルの主要部分の断面図を図７に示
す。2. Description of the Related Art A schematic view and a side view of a main part of a conventional color filter substrate for a liquid crystal panel (hereinafter referred to as a "CF substrate") are shown in FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part of the panel.
【０００３】ＣＦ基板には、ストライプ型、デルタ型、
ダイアゴナル型等のカラーフィルター層（以下、「ＣＦ
層」と称する）の配列パターンが有り、これらは液晶パ
ネルの用途によって使い分けられている。図では、簡単
のためにストライプ型のパターンを用いて説明する。[0003] Stripe type, delta type,
Diagonal type color filter layer (hereinafter referred to as "CF
Layer)), which are used depending on the purpose of the liquid crystal panel. In the figure, a description will be given using a stripe pattern for simplicity.
【０００４】図６及び図７に示すように、従来のＣＦ基
板９１では、透明基板としてのガラス基板１上に形成さ
れた赤、青、緑のＣＦ層３１、３２、３３は、遮光層２
と重なるように形成されている。特に、遮光層２のう
ち、ＴＦＴ素子領域８１に対応した遮光層２１や、ゲー
ト電極線に対応した遮光層２２とは、完全に重なってい
る。As shown in FIGS. 6 and 7, in a conventional CF substrate 91, red, blue, and green CF layers 31, 32, and 33 formed on a glass substrate 1 as a transparent substrate,
Are formed so as to overlap. In particular, in the light shielding layer 2, the light shielding layer 21 corresponding to the TFT element region 81 and the light shielding layer 22 corresponding to the gate electrode line completely overlap.
【０００５】液晶パネルでは、通常、図７に示すように
液晶層６内に樹脂製のスペーサー粒子７が散布されてお
り、このスペーサー粒子７が上下の基板すなわちＣＦ基
板９１とアレイ基板９２とを支持することによって、液
晶パネルのセルギャップを均一に保つように構成されて
いる。スペーサー粒子７の散布数が多ければ多いほどセ
ルギャップは安定するが、一方、多すぎた場合にはスペ
ーサー粒子７周辺の液晶配向の乱れが顕著になり、液晶
パネルの表示品位の低下をまねいたり、液晶パネル内に
気泡が発生するという弊害が生じる。このため、多くの
場合は、スペーサーの散布数は１平方ミリメートル当た
り１００〜３００個程度である。なお、４は透明電極、
５は配向膜である。In a liquid crystal panel, usually, as shown in FIG. 7, resin spacer particles 7 are dispersed in a liquid crystal layer 6, and the spacer particles 7 divide the upper and lower substrates, ie, a CF substrate 91 and an array substrate 92. By supporting the liquid crystal panel, the cell gap of the liquid crystal panel is kept uniform. The cell gap becomes more stable as the number of scattered spacer particles 7 increases, but when the number of scattered particles is too large, disturbance of the liquid crystal alignment around the spacer particles 7 becomes remarkable, leading to deterioration in display quality of the liquid crystal panel. As a result, there is a problem that air bubbles are generated in the liquid crystal panel. For this reason, in many cases, the number of spacers to be scattered is about 100 to 300 per square millimeter. 4 is a transparent electrode,
Reference numeral 5 denotes an alignment film.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ＴＦＴ液晶パネルで
は、図７に示すようにアレイ基板９２の構造が複雑であ
り、各領域間での段差が大きい。詳細には、積層された
膜が最も厚いＴＦＴ素子領域８１やゲート電極線領域・
ソース電極線領域８３と、最も薄い表示領域８２とで
は、０．７〜２．０μｍ程度の段差が生じる。このた
め、セルギャップの形成に寄与するのは、全スペーサー
粒子７のうちのＴＦＴ素子領域８１やゲート電極線領域
・ソース電極線領域８３に散布されたスペーサー粒子７
１のみである。その数は、パネルの設計によって異なる
が、多くの場合、全スペーサー粒子のうちの２０〜３０
％程度にすぎない。図７において、７２は、セルギャッ
プの形成に寄与していないスペーサー粒子で、主として
表示領域８２に散布されたものである。In the TFT liquid crystal panel, as shown in FIG. 7, the structure of the array substrate 92 is complicated, and the steps between the respective regions are large. In detail, the TFT element region 81 having the thickest laminated film and the gate electrode line region
A step of about 0.7 to 2.0 μm occurs between the source electrode line region 83 and the thinnest display region 82. Therefore, it is the spacer particles 7 dispersed in the TFT element region 81 and the gate electrode line region / source electrode line region 83 that contribute to the formation of the cell gap.
There is only one. The number depends on the design of the panel, but in many cases 20-30 of the total spacer particles
%. In FIG. 7, reference numeral 72 denotes spacer particles not contributing to the formation of the cell gap, which are mainly dispersed in the display region 82.
【０００７】このような構成のＴＦＴ液晶パネルでは、
パネル外部から圧力が加えられた場合に、上下の基板９
１、９２を支持している一部のスペーサー粒子７１にの
み集中的に荷重が付加されるために、スペーサー粒子７
１がＣＦ基板９１に埋没したり、スペーサー粒子７１が
破損したりすることによって、液晶パネルのセルギャッ
プが不均一になりやすいという課題がある。In a TFT liquid crystal panel having such a structure,
When pressure is applied from outside the panel, the upper and lower substrates 9
Since a concentrated load is applied only to some of the spacer particles 71 supporting the first and second spacers 92, the spacer particles 7
There is a problem that the cell gap of the liquid crystal panel is likely to be non-uniform due to the fact that 1 is buried in the CF substrate 91 or the spacer particles 71 are damaged.
【０００８】さらに、セルギャップの形成に寄与してい
ないスペーサー粒子７２がパネル内で移動し、これによ
って液晶配向を乱して表示品位を劣化させるという課題
がある。Further, there is a problem that the spacer particles 72 not contributing to the formation of the cell gap move in the panel, thereby disturbing the liquid crystal alignment and deteriorating the display quality.
【０００９】そこで本発明は、このような課題を解決し
て、一部のスペーサー粒子への集中荷重によってセルギ
ャップを不均一にしたり、スペーサー粒子の移動によっ
て液晶配向を乱したりすることを防止できるようにする
ことを目的とする。Therefore, the present invention solves such a problem and prevents the cell gap from becoming non-uniform due to the concentrated load on some spacer particles, and preventing the liquid crystal alignment from being disturbed by the movement of the spacer particles. The purpose is to be able to.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明は、透明基板上の遮光層とＣＦ層とを、互いに重
ならないように形成したものである。According to the present invention, a light-shielding layer and a CF layer on a transparent substrate are formed so as not to overlap with each other.
【００１１】このようなものであると、ＴＦＴアレイ基
板上の複雑な段差を、ＣＦ基板上に互いに重ならないよ
うに形成されたＣＦ層と遮光層との段差で補正すること
ができる。このため、散布されたスペーサー粒子のほと
んどをＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板との間で支持するこ
とができ、一部のスペーサー粒子への集中荷重によって
セルギャップを不均一にしたり、スペーサー粒子の移動
によって液晶配向を乱したりすることが防止される。With such a structure, a complicated step on the TFT array substrate can be corrected by a step between the CF layer and the light shielding layer formed on the CF substrate so as not to overlap each other. For this reason, most of the scattered spacer particles can be supported between the CF substrate and the TFT array substrate, and the cell gap becomes uneven due to the concentrated load on some of the spacer particles, or the spacer particles move due to the movement of the spacer particles. Disturbing the liquid crystal alignment is prevented.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】請求項１記載の本発明は、透明基
板上の遮光層とＣＦ層とが、互いに重ならないように形
成されているようにしたものである。According to the present invention, a light-shielding layer and a CF layer on a transparent substrate are formed so as not to overlap with each other.
【００１３】これによれば、ＴＦＴアレイ基板上の複雑
な段差を、ＣＦ基板上に互いに重ならないように形成さ
れたＣＦ層と遮光層との段差で補正することができる。
このため、散布されたスペーサー粒子のほとんどをＣＦ
基板とＴＦＴアレイ基板との間で支持することができ、
一部のスペーサー粒子への集中荷重によってセルギャッ
プを不均一にしたり、スペーサー粒子の移動によって液
晶配向を乱したりすることを防止できる。According to this, a complicated step on the TFT array substrate can be corrected by a step between the CF layer and the light shielding layer formed on the CF substrate so as not to overlap each other.
Therefore, most of the dispersed spacer particles are converted to CF.
Can be supported between the substrate and the TFT array substrate,
It is possible to prevent the cell gap from becoming non-uniform due to the concentrated load on some of the spacer particles, and from disturbing the liquid crystal alignment due to the movement of the spacer particles.
【００１４】請求項２記載の本発明は、透明基板上の遮
光層とＣＦ層とが、互いに重なる領域の幅が５μｍ以下
になるように形成されているようにしたものである。こ
れによれば、遮光層とＣＦ層との重なる領域が、ＣＦ基
板作成時の位置合わせのために必要な最低限度にとどめ
られることになるため、同様に、ＴＦＴアレイ基板上の
複雑な段差を、ＣＦ層と遮光層との段差で補正すること
ができる。According to a second aspect of the present invention, the light-shielding layer and the CF layer on the transparent substrate are formed so that the width of the overlapping region is 5 μm or less. According to this, the overlapping area between the light-shielding layer and the CF layer is kept to the minimum necessary for the alignment at the time of producing the CF substrate. , The level difference between the CF layer and the light shielding layer.
【００１５】請求項３記載の本発明は、ＣＦ層の膜厚が
遮光層の膜厚よりも厚く、その差が０．５μｍ以上２．
２μｍ以下であるようにしたものである。これによれ
ば、ＣＦ層の膜厚が遮光層の膜厚よりも厚く、その差
が、アレイ基板のＴＦＴ素子領域やゲート電極繊領域や
ソース電極線領域と、表示領域との段差と同程度となる
ように形成されるので、さらに効果的である。According to a third aspect of the present invention, the thickness of the CF layer is larger than the thickness of the light-shielding layer, and the difference is 0.5 μm or more.
The thickness is set to 2 μm or less. According to this, the thickness of the CF layer is larger than the thickness of the light-shielding layer, and the difference is almost the same as the level difference between the TFT element region, the gate electrode region, the source electrode line region, and the display region of the array substrate. Therefore, it is more effective.
【００１６】請求項４記載の本発明は、液晶材料を挟持
するＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板とを有し、ＣＦ基板
は、遮光層と、この遮光層に重ならないように形成され
たＣＦ層とを有し、アレイ基板上のＴＦＴ素子領域とソ
ース電極線領域とゲート電極線領域とが、ＣＦ基板の遮
光層と対応して位置するように、前記ＣＦ基板とＴＦＴ
アレイ基板とが互いに貼り合わされているようにしたも
のである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a CF substrate sandwiching a liquid crystal material and a TFT array substrate, wherein the CF substrate comprises a light-shielding layer and a CF layer formed so as not to overlap the light-shielding layer. The CF substrate and the TFT so that the TFT element region, the source electrode line region, and the gate electrode line region on the array substrate are positioned corresponding to the light shielding layer of the CF substrate.
An array substrate is bonded to each other.
【００１７】これによれば、ＴＦＴアレイ基板上の複雑
な段差を、ＣＦ基板上に互いに重ならないように形成さ
れたＣＦ層と遮光層との段差で補正することができる。
このため、散布されたスペーサー粒子のほとんどをＣＦ
基板とＴＦＴアレイ基板との間で支持することができ、
一部のスペーサー粒子への集中荷重によってセルギャッ
プを不均一にしたり、スペーサー粒子の移動によって液
晶配向を乱したりすることを防止できる。According to this, a complicated step on the TFT array substrate can be corrected by a step between the CF layer and the light shielding layer formed on the CF substrate so as not to overlap each other.
Therefore, most of the dispersed spacer particles are converted to CF.
Can be supported between the substrate and the TFT array substrate,
It is possible to prevent the cell gap from becoming non-uniform due to the concentrated load on some of the spacer particles, and from disturbing the liquid crystal alignment due to the movement of the spacer particles.
【００１８】請求項５記載の本発明は、液晶材料を挟持
するＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板とを有し、ＣＦ基板
は、遮光層と、この遮光層と重なる領域の幅が５μｍ以
下となるように形成されたＣＦ層とを有し、アレイ基板
上のＴＦＴ素子領域とソース電極線領域とゲート電極線
領域とが、ＣＦ基板の遮光層と対応して位置するよう
に、前記ＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板とが互いに貼り合
わされているようにしたものである。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a CF substrate sandwiching a liquid crystal material and a TFT array substrate, wherein the CF substrate has a light shielding layer and a width of a region overlapping with the light shielding layer is 5 μm or less. The CF substrate and the TFT so that the TFT element region, the source electrode line region, and the gate electrode line region on the array substrate are positioned corresponding to the light shielding layer of the CF substrate. An array substrate is bonded to each other.
【００１９】これによれば、遮光層とＣＦ層との重なる
領域が、ＣＦ基板作成時の位置合わせのために必要な最
低限度にとどめられることになるため、同様に、ＴＦＴ
アレイ基板上の複雑な段差を、ＣＦ層と遮光層との段差
で補正することができる。According to this, the overlapping area between the light-shielding layer and the CF layer is kept to the minimum necessary for the alignment at the time of producing the CF substrate.
Complex steps on the array substrate can be corrected by steps between the CF layer and the light shielding layer.
【００２０】請求項６記載の本発明は、ＣＦ層の膜厚が
遮光層の膜厚よりも厚く、その差が０．５μｍ以上２．
２μｍ以下であるようにしたものである。これによれ
ば、ＣＦ層の膜厚が遮光層の膜厚よりも厚く、その差
が、アレイ基板のＴＦＴ素子領域やゲート電極繊領域や
ソース電極線領域と、表示領域との段差と同程度となる
ように形成されるので、さらに効果的である。According to a sixth aspect of the present invention, the thickness of the CF layer is larger than the thickness of the light-shielding layer, and the difference is 0.5 μm or more.
The thickness is set to 2 μm or less. According to this, the thickness of the CF layer is larger than the thickness of the light-shielding layer, and the difference is almost the same as the level difference between the TFT element region, the gate electrode region, the source electrode line region, and the display region of the array substrate. Therefore, it is more effective.
【００２１】[0021]
【実施例】以下、本発明の実施例について、図１〜図５
を用いて、図６及び図７に示したものと同一の部材には
同一の参照番号を付して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
The same members as those shown in FIGS. 6 and 7 will be described using the same reference numerals.
【００２２】本発明の第１の実施例を図１及び図２に示
す。すなわち、エッチングによりパターン形成されたク
ロム遮光基板１上に、カラーレジスト塗布、プリベー
ク、露光、現像、ポストベークを繰り返し行って、赤、
青、緑のＣＦ層３１、３２、３３を形成した。その後、
透明電極４を膜付けして、ＣＦ基板９１を作成した。こ
の時、ＣＦ層３１、３２、３３とクロム遮光層２とが重
ならないように十分に位置合わせを行い、図１に示すパ
ターンを得た。FIG. 1 and FIG. 2 show a first embodiment of the present invention. That is, color resist coating, pre-baking, exposure, development, and post-baking are repeatedly performed on the chromium light-shielding substrate 1 on which a pattern is formed by etching, so that red
Blue and green CF layers 31, 32, and 33 were formed. afterwards,
The CF substrate 91 was formed by attaching the transparent electrode 4 to a film. At this time, the CF layers 31, 32, and 33 were sufficiently aligned with the chrome light-shielding layer 2 so as not to overlap, and the pattern shown in FIG. 1 was obtained.
【００２３】また、表１に示すように、クロム遮光層２
の膜厚は０．１μｍとなるようにし、ＣＦ層３１、３
２、３３の膜厚については１．１〜１．９μｍの５通り
のもの（基板番号１〜５）を作成した。なお、表１にお
いて、「遮光層−ＣＦ層段差」の欄の値は、実測値であ
って、「遮光層厚」の欄の値と「ＣＦ層厚」の欄の値と
の差値とは必ずしも一致していない。As shown in Table 1, the chrome light-shielding layer 2
Has a thickness of 0.1 μm.
With respect to the thicknesses of 2, 33, five types (substrate numbers 1 to 5) of 1.1 to 1.9 μm were prepared. In Table 1, the value in the column of “light-shielding layer-CF layer step” is an actually measured value, and is the difference between the value in the column of “light-shielding layer thickness” and the value in the column of “CF layer thickness”. Do not always match.
【００２４】[0024]
【表１】 [Table 1]
【００２５】図３及び図４は、本発明の第２の実施例を
示す。すなわち、実際の生産時の位置合わせマージンを
考慮して、図３に示すように、ＣＦ層３１、３２、３３
とクロム遮光層２とが互いに重なる領域を有し、この領
域の幅が５μｍとなるＣＦ基板９１を形成した。FIGS. 3 and 4 show a second embodiment of the present invention. That is, considering the alignment margin at the time of actual production, as shown in FIG. 3, the CF layers 31, 32, 33
And the chrome light-shielding layer 2 have a region overlapping each other, and a CF substrate 91 having a width of 5 μm in this region was formed.
【００２６】また、比較例として、図６及び図７に示す
従来パターンのＣＦ基板も作成した。As a comparative example, a CF substrate having a conventional pattern shown in FIGS. 6 and 7 was also prepared.
【００２７】表１に示すように、これら第２の実施例
（基板番号６）及び比較例（基板番号７）におけるＣＦ
基板９１のクロム遮光層２とＣＦ層３１、３２、３３の
膜厚は、それぞれ、０．１μｍと１．５μｍであった。As shown in Table 1, the CF in each of the second embodiment (substrate number 6) and the comparative example (substrate number 7) was used.
The thicknesses of the chrome light-shielding layer 2 and the CF layers 31, 32, and 33 of the substrate 91 were 0.1 μm and 1.5 μm, respectively.
【００２８】次に、予め準備しておいたＴＦＴアレイ基
板９２と上記各ＣＦ基板９１とに所定の処理を施して、
図２、４、７に断面を示すようなＴＦＴ液晶パネルを作
成した。Next, predetermined processing is performed on the TFT array substrate 92 and each of the CF substrates 91 prepared in advance,
TFT liquid crystal panels whose cross sections are shown in FIGS.
【００２９】このときに用いたＴＦＴアレイ基板９２に
おいて、ＴＦＴ素子領域８１及びゲート電極線及びソー
ス電極線と、表示領域８２との段差は、それぞれ１．４
μｍ、１．３μｍ、１．１μｍであった。In the TFT array substrate 92 used at this time, the steps between the TFT element region 81, the gate electrode lines and the source electrode lines, and the display region 82 are each 1.4.
μm, 1.3 μm, and 1.1 μm.
【００３０】スペーサー粒子７は、平均粒径が４．５μ
ｍのものを用いて、１平方ミリメートル当たり２００±
５０個散布した。The spacer particles 7 have an average particle size of 4.5 μm.
m, 200 ± per square millimeter
50 were sprayed.
【００３１】このようにして作成した液晶パネルについ
て、セルギャップの測定をおこなった。またこれらのパ
ネルについて、５０ｋＨｚ１時間の振動試験を行った
後、スペーサー粒子７の移動による配向乱れの有無を顕
微鏡観察した。これらの結果を表２に示す。なお、配向
乱れの有無は、その程度に応じて、「○」、「△」、
「×」の三段階で評価した。The cell gap of the thus prepared liquid crystal panel was measured. In addition, these panels were subjected to a vibration test at 50 kHz for 1 hour, and then observed under a microscope for the presence or absence of alignment disorder due to the movement of the spacer particles 7. Table 2 shows the results. Incidentally, the presence or absence of the orientation disorder depends on the degree, "○", "△",
The evaluation was made in three stages of "x".
【００３２】[0032]
【表２】 [Table 2]
【００３３】さらに、図５に示すようにこれらの液晶パ
ネル９３に所定のゴム９５を介して荷重９４を付加し
て、セルギャップ異常が発生する圧力を測定した。その
結果についても、併せて表２に示す。Further, as shown in FIG. 5, a load 94 was applied to these liquid crystal panels 93 via a predetermined rubber 95, and the pressure at which a cell gap abnormality occurred was measured. Table 2 also shows the results.
【００３４】表１及び表２から明らかなように、本発明
によれば、セルギャップ精度が高く、スペーサー粒子の
移動が少なく、パネル外部からの圧力にも強い液晶パネ
ルが得られた。特に、ＣＦ基板９１のＣＦ層３１、３
２、３３と遮光層２との段差を、アレイ基板９２の最大
段差の±０．２２μｍ以内に設定した時に効果が大き
い。As is clear from Tables 1 and 2, according to the present invention, a liquid crystal panel having high cell gap accuracy, small movement of spacer particles, and high resistance to pressure from outside the panel was obtained. In particular, the CF layers 31 and 3 of the CF substrate 91
The effect is great when the step between the light-shielding layers 2 and 33 and the light-shielding layer 2 is set within ± 0.22 μm of the maximum step of the array substrate 92.
【００３５】これは、本発明の液晶パネルでは、アレイ
基板９２とＣＦ基板９１との面内の段差が補正しあって
おり、したがって散布したほとんどのスペーサー粒子７
がアレイ基板９２とＣＦ基板９１とに支持されているた
めに、一部のスペーサー粒子にのみ荷重が集中するとい
うことがなく、また振動等によるスペーサー粒子７の移
動も起こりにくいためと考えられる。This is because, in the liquid crystal panel of the present invention, the in-plane step between the array substrate 92 and the CF substrate 91 is corrected, and therefore most of the dispersed spacer particles 7
Is supported by the array substrate 92 and the CF substrate 91, so that the load does not concentrate on only some of the spacer particles, and the movement of the spacer particles 7 due to vibration or the like hardly occurs.
【００３６】また、ＣＦ層３１、３２、３３と遮光層２
との重ね合わせ領域の幅が５μｍ程度ならば、同様の効
果が得られることも確認できた。なお、本実施例では、
アレイ基板９２として、基板面内段差が最大で１．４μ
ｍのものを用いたが、基板面内の最大段差が０．７〜
２．０μｍのアレイ基板であれば、同様の効果が得られ
る。The CF layers 31, 32, 33 and the light shielding layer 2
It was also confirmed that the same effect could be obtained if the width of the superimposed region was about 5 μm. In this embodiment,
As the array substrate 92, the step in the substrate surface has a maximum of 1.4 μm.
m, but the maximum step in the substrate plane is 0.7 to
With a 2.0 μm array substrate, similar effects can be obtained.
【００３７】さらに、ＣＦ層の上にオーバーコート層が
形成されたＣＦ基板においても同様の効果が得られる。Further, the same effect can be obtained in a CF substrate having an overcoat layer formed on the CF layer.
【００３８】[0038]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ＴＦＴア
レイ基板上の複雑な段差を、ＣＦ基板上に互いに重なら
ないように形成されたＣＦ層と遮光層との段差で補正す
ることができ、このため、散布されたスペーサー粒子の
ほとんどをＣＦ基板とＴＦＴアレイ基板との間で支持す
ることができ、一部のスペーサー粒子への集中荷重によ
ってセルギャップを不均一にしたり、スペーサー粒子の
移動によって液晶配向を乱したりすることを防止でき、
したがって、セルギャップ精度が高く、スペーサー粒子
の移動による配向の乱れが生じにくく、更に、外部から
の荷重に対して強い液晶パネルを得ることができる。As described above, according to the present invention, a complicated step on a TFT array substrate can be corrected by a step between a CF layer and a light shielding layer formed on a CF substrate so as not to overlap each other. Therefore, most of the scattered spacer particles can be supported between the CF substrate and the TFT array substrate, and the cell gap becomes uneven due to the concentrated load on some of the spacer particles, Disturbing the liquid crystal alignment by movement can be prevented,
Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal panel having a high cell gap accuracy, hardly causing alignment disorder due to the movement of the spacer particles, and being resistant to an external load.
【図１】本発明の実施の形態の液晶パネル用ＣＦ基板の
概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal panel CF substrate according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１のＣＦ基板を用いた液晶パネルの概略断面
図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel using the CF substrate of FIG.
【図３】本発明の他の実施の形態の液晶パネル用ＣＦ基
板の概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a liquid crystal panel CF substrate according to another embodiment of the present invention.
【図４】図３のＣＦ基板を用いた液晶パネルの概略断面
図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel using the CF substrate of FIG.
【図５】本発明にもとづく、外部からの荷重に対する液
晶パネルのセルギャップの安定性を測定する実験につい
て説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for describing an experiment based on the present invention for measuring the stability of the cell gap of the liquid crystal panel against an external load.
【図６】従来の液晶パネル用ＣＦ基板の概略図である。FIG. 6 is a schematic view of a conventional CF substrate for a liquid crystal panel.
【図７】図６のＣＦ基板を用いた液晶パネルの概略断面
図である。FIG. 7 is a schematic sectional view of a liquid crystal panel using the CF substrate of FIG.
１ ガラス基板 ２ 遮光層 ３１ ＣＦ層（赤） ３２ ＣＦ層（青） ３３ ＣＦ層（緑） ７ スペーサー粒子 ８１ ＴＦＴ素子領域 ８２ 表示領域 ８３ ソース電極線領域 ９１ ＣＦ基板 ９２ アレイ基板 REFERENCE SIGNS LIST 1 glass substrate 2 light-shielding layer 31 CF layer (red) 32 CF layer (blue) 33 CF layer (green) 7 spacer particles 81 TFT element region 82 display region 83 source electrode line region 91 CF substrate 92 array substrate
Claims (6)
層とが、互いに重ならないように形成されていることを
特徴とする液晶パネル用カラーフィルター基板。1. A color filter substrate for a liquid crystal panel, wherein a light shielding layer and a color filter layer on a transparent substrate are formed so as not to overlap with each other.
層とが、互いに重なる領域の幅が５μｍ以下になるよう
に形成されていることを特徴とする液晶パネル用カラー
フィルター基板。2. A color filter substrate for a liquid crystal panel, wherein a light-shielding layer and a color filter layer on a transparent substrate are formed so that the width of an overlapping region is 5 μm or less.
厚よりも厚く、その差が０．５μｍ以上２．２μｍ以下
であることを特徴とする請求項１または２記載の液晶パ
ネル用カラーフィルター基板。3. The color for a liquid crystal panel according to claim 1, wherein the thickness of the color filter layer is greater than the thickness of the light-shielding layer, and the difference is 0.5 μm or more and 2.2 μm or less. Filter substrate.
板とＴＦＴアレイ基板とを有し、カラーフィルター基板
は、遮光層と、この遮光層に重ならないように形成され
たカラーフィルター層とを有し、アレイ基板上のＴＦＴ
素子領域とソース電極線領域とゲート電極線領域とが、
カラーフィルター基板の遮光層と対応して位置するよう
に、前記カラーフィルター基板とＴＦＴアレイ基板とが
互いに貼り合わされていることを特徴とする液晶パネ
ル。4. A color filter substrate having a liquid crystal material interposed therebetween and a TFT array substrate. The color filter substrate has a light-shielding layer and a color filter layer formed so as not to overlap the light-shielding layer. TFT on array substrate
The element region, the source electrode line region, and the gate electrode line region
A liquid crystal panel, wherein the color filter substrate and the TFT array substrate are bonded to each other so as to be positioned corresponding to the light shielding layer of the color filter substrate.
板とＴＦＴアレイ基板とを有し、カラーフィルター基板
は、遮光層と、この遮光層と重なる領域の幅が５μｍ以
下となるように形成されたカラーフィルター層とを有
し、アレイ基板上のＴＦＴ素子領域とソース電極線領域
とゲート電極線領域とが、カラーフィルター基板の遮光
層と対応して位置するように、前記カラーフィルター基
板とＴＦＴアレイ基板とが互いに貼り合わされているこ
とを特徴とする液晶パネル。5. A color filter substrate having a liquid crystal material interposed therebetween and a TFT array substrate. The color filter substrate has a light-shielding layer and a color formed so that the width of an area overlapping the light-shielding layer is 5 μm or less. The color filter substrate and the TFT array substrate such that a TFT element region, a source electrode line region, and a gate electrode line region on the array substrate are positioned corresponding to the light shielding layer of the color filter substrate. And a liquid crystal panel, which are bonded to each other.
厚よりも厚く、その差が０．５μｍ以上２．２μｍ以下
であることを特徴とする請求項４または５記載の液晶パ
ネル。6. The liquid crystal panel according to claim 4, wherein the thickness of the color filter layer is larger than the thickness of the light-shielding layer, and a difference between the two is 0.5 μm or more and 2.2 μm or less.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP24239098A JP2000075281A (en) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | Color filter substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel using the same |
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| JP2000075281A true JP2000075281A (en) | 2000-03-14 |
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| JP (1) | JP2000075281A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1998
- 1998-08-28 JP JP24239098A patent/JP2000075281A/en not_active Withdrawn
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