JP2000063742A - ジオキソピペラジニル誘導体により安定化された組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ジオキソピペリジン誘導体により安定化され
た組成物の提供 【解決手段】 式Ｉ （式中ｓは１−８の範囲からなり；Ｒ₁ −Ｒ₅ およびＡ
は種々の置換基を表す。最も好ましくは、ｓは２、３、
４または６であり；Ｒ₁ −Ｒ₄ はメチル基を表し；Ｒ₅
は水素原子または種々の有機置換基を表し；そしてＡは
種々の有機架橋基を表す。）で表される化合物を添加す
ることにより安定化されたポリオキシメチレン、ポリカ
ーボネートとアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン
ターポリマーのブレンドならびに機能性アクリレート樹
脂および架橋剤をベースとするコーティング系は、光、
酸素および熱の有害な影響に対して良好な抵抗を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は；ポリオキシメチレ
ン、ポリカーボネートとアクリロニトリル−ブタジエン
−スチレンターポリマーのブレンド、または機能性アク
リレート樹脂および架橋剤をベースとする組成物であっ
て３，３，５，５−テトラアルキルピペリジン−２，６
−ジオン類の化合物の添加により安定化されるもの；こ
の類の新規化合物；光、酸素および／または熱の有害な
影響に対する有機材料のための安定剤として新規化合物
を使用する方法；ならびに相応じて安定化された有機材
料に関する。

【０００２】３，３，５，５−テトラアルキル−ピペリ
ジン−２，６−ジオンの構造および番号の付け方は次
式： で示す通りであり、式中、Ｒはアルキル基を表す。

【０００３】

【従来の技術】上述の化合物、それらのある種の誘導体
の幾つかの製造、ならびに例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ナイロンまたはＡＢＳのための安定剤として
のこれらの化合物の使用については、ティー．ヨシオカ
(T.Yoshioka)等，Bull. Chem.Soc. Jap. 45, 1855-1860
(1972); Luston and Vass, Makromol Chem., Macromo
l. Symp. (1989), 27 により；ならびに米国特許第４４
１３０９６号明細書；カナダ特許第９９：１４１０６８
号明細書；カナダ特許第９６：１０４１９１号明細書；
米国特許第３９６９３１６号明細書；米国特許第３９３
６４５６号明細書；米国特許第３９２８３５７号明細
書；米国特許第３９２８３３０号明細書；米国特許第３
９２０６５９号明細書；米国特許第３９１９２３４号明
細書に示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】今や、３，３，５，５
−テトラアルキル−ピペリジン−２，６−ジオン類のあ
る種の化合物がポリオキシメチレン、ポリカーボネート
とアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマ
ーのブレンド、または機能性アクリレート樹脂および架
橋剤をベースとするコーティング系のための安定剤とし
て非常に良好に適するということが発見された。

【０００５】

【課題を解決するための手段】従って本発明は、（Ａ）
ポリオキシメチレン、ポリカーボネートとアクリロニト
リル−ブタジエン−スチレンターポリマーのブレンド、
ならびに機能性アクリレート樹脂および架橋剤をベース
とするコーティング系からなる群から選択された合成有
機ポリマー、および（Ｂ）安定剤として次式ＩまたはＩ
Ｉ （式中、ｐは１ないし１０の範囲からなり；ｓは１ない
し８の範囲からなり；ｓが１の場合、Ａは炭素原子数１
ないし１８のアルキル基；ＮＨ₂ 、ヒドロキシ基、ハロ
ゲン原子および／もしくはＯＲ₁₀で置換されたか、また
は−Ｏ−、−ＮＨ−および／もしくは−ＮＲ₁₀−により
中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を表す
か；あるいはＡは−ＣＯＯＲ₁₁またはフェニル基により
置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表
し；ｓが２の場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアル
キレン基；炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基；
ＯＨの１個もしくはそれ以上により置換され、そして／
または酸素原子、フェニレン基、炭素原子数１ないし４
のアルキルフェニレン基、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、 −ＮＨ−および／または−ＮＲ₁₀−の１個もしくはそれ
以上により中断された炭素原子数３ないし１５のアルキ
レン基を表し；ｓが３の場合、Ａは炭素原子数３ないし
１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換され、そし
て／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−によ
り中断された炭素原子数３ないし１２のアルカントリイ
ル基；あるいは次式（ＩＩＩａ）ないし（ＩＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
子数４ないし１０のアルカンテトリル基；ＯＨにより置
換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−
ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数４ないし１２のア
ルカンテトリル基；あるいは次式（ＩＶａ）ないし（Ｉ
Ｖｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数５ないし１２の
アルカンペンタイル基；あるいは次式（Ｖａ）ないし
（Ｖｃ） で表される基の一種を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原
子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６ないし１２の
アルカンヘキサイル基；あるいは次式（ＶＩａ）ないし
（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数７ないし１２の
アルカンヘプタイル基；あるいは次式（ＶＩＩａ）ない
し（ＶＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが８の場合、Ａは炭素原
子数８ないし１０のアルカンオクタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数８ないし１２の
アルカンオクタイル基；あるいは次式（ＶＩＩＩａ）な
いし（ＶＩＩＩｂ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
り；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立して炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁
およびＲ₂ またはＲ₃ およびＲ₄ はそれらが結合してい
る炭素原子と一緒になってシクロペンチルまたはシクロ
ヘキシル環を形成し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１な
いし１８のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ Ｃ
Ｎ；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子
数５ないし１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数３な
いし８のアルケニル基；炭素原子数３ないし８のアルキ
ニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキル
基；炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基から選択された基の１、２
または３個によりフェニル環上で置換された炭素原子数
７ないし１５のフェニルアルキル基；炭素原子数７ない
し１５のフェニルアルコキシ基；炭素原子数１ないし４
のアルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基から選択された基の１、２または３個によりフェニル
環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェニルア
ルコキシ基を表すか；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ない
し８のアルカノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケ
ノイル基；炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキ
シ基；グリシジル基；または基−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−
Ｇ（式中、Ｇは水素原子、メチル基またはフェニル基を
表す。）を表し；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、
Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立して炭
素原子数１ないし４のアルキレン基を表し；Ｒ₁₀は炭素
原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし８
のアルカノイル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
ルキル基；未置換の、または炭素原子数１ないし４のア
ルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコキシ基か
ら選択された基によりフェニル環上で置換された炭素原
子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し；あるい
はＲ₁₀は、ＯＨ、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ
基および／またはベンゾフェノニル残基もしくはベンゾ
フェノニルオキシ残基（ベンゾフェノン部分のフェニル
環の一方もしくは両方は未置換またはＯＨ、ハロゲン原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基および／もしく
は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基により置換さ
れている。）により置換された炭素原子数１ないし８の
アルキル基または炭素原子数１ないし８のアルカノイル
基を表し；Ｒ₁₁は炭素原子数１ないし１８のアルキル
基；ＮＨ₂ 、ＮＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂、ニトロ基、ヒド
ロキシ基および／または炭素原子数１ないし１８のアル
コキシ基により置換された炭素原子数２ないし１８のア
ルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基；炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数
１ないし４のアルキル基により置換され、そして／また
は−Ｏ−により中断された炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基を表し；Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は互いに
独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨ
により置換され、そして／または酸素原子、フェニレン
基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−
ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅
は互いに独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基；ＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、フ
ェニレン基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレ
ン基、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭
素原子数３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭
素原子数３ないし１０のアルカントリイル基；ＯＨによ
り置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしく
は−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２
のアルカントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ない
し１０のアルカンテトリル基；ＯＨにより置換され、そ
して／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−に
より中断された炭素原子数４ないし１２のアルカンテト
リル基を表し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアルカ
ンペンタイル基；ＯＨにより置換され、そして／または
酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断され
た炭素原子数５ないし１２のアルカンペンタイル基を表
し；Ｒ₁₉は炭素原子数６ないし１０のアルカンヘキサイ
ル基；ＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、
−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子
数６ないし１２のアルカンヘキサイル基を表し；Ｘは−
Ｏ−、−ＮＨ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ
₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ 、Ｘ₅ 、Ｘ₆ 、Ｘ₇ およびＸ₈ は互いに
独立して−Ｏ−または−ＮＨ−を表し；Ｙは−Ｏ−また
は次式 で表される残基を表し；Ｚはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
ルコキシ基を意味し；Ｚ₁ はＺに関して与えられた意味
の一つを有するか、または−Ｘ−Ｒ’₁₅−ＸＨを表し；
そしてＺ₂ は水素原子または次式 で表される残基を表す。）で表される化合物からなる組
成物に関する。

【０００６】

【発明の実施の形態】一個の化合物が同じ記号で示され
る基を一個より多く有する場合、それらの定義された意
味の範囲内でこれらの基は同じであるか異なる。アルキ
レン、シクロアルキレンまたはアルケニレン残基は、異
なる炭素原子上に、または同じ炭素原子上に結合してよ
く、従ってそれぞれにアルキリデン基、シクロアルキリ
デン基およびアルケニリデン基を含む。

【０００７】適当に、特記しない限り、全ての残基は直
鎖または分枝鎖であり得る。ヘテロ原子は非炭素原子で
あり、例えばＮ、Ｏ、ＳまたはＰ原子である。例えば酸
素原子のようなヘテロ基により中断されたアルキル基ま
たはアルキレン基、あるいはシクロアルキレン基は、Ｏ
−Ｏ、Ｏ−Ｎ等の型の架橋が起こらない限り、これらの
基の一個もしくはそれ以上により中断され得る。

【０００８】指数ｓはＡの原子価であり；例えば、アル
キル基としてのＡは一価、アルキレン基としてのＡは二
価、アルカントリイル基としてのＡは三価、アルカンテ
トライル基としてのＡは四価、アルカンペンタイル基と
してのＡは五価、アルカンヘキサイル基としてのＡは六
価、アルカンヘプタイル基としてのＡは七価、そしてア
ルカンオクタイル基としてのＡは八価の飽和炭化水素残
基を表す。中断されたＡ残基は、炭素−炭素単結合にお
いて中断されている。中断され、そして／または置換さ
れたＡ残基は、二価の中断基の一個もしくはそれ以上に
より炭素−炭素単結合の一か所もしくはそれ以上におい
て中断された残基、一価の置換基の一個もしくはそれ以
上により置換された残基、あるいは二価の中断基の一個
もしくはそれ以上により炭素−炭素単結合の一か所もし
くはそれ以上において中断され、そして一価の置換基の
一個もしくはそれ以上により置換された残基であり得
る。

【０００９】従って、ＯＨの一個もしくはそれ以上によ
り置換され、そして／または酸素原子、フェニレン基、
炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−ＣＯ
Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−または−ＮＲ₁₀−により
中断された炭素原子数３ないし１５のアルキレンとして
のＡの例は、式ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ 、ＣＨ₂ −Ｃ
（ＣＨ₂ ＯＨ）₂ −ＣＨ₂ 、（ＣＨ₂ ）₂ −Ｎ（ＣＨ
Ｏ）−（ＣＨ₂ ）₂ 、（ＣＨ₂ ）₂ −ＮＨ−（ＣＨ₂ ）
₂ 、（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ 、（ＣＨ₂）₂ −
Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ 、ＣＨ₂ −ＣＯ−
Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−ＣＯ−ＣＨ
₂ 、ＣＨ₂ −ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₆ −Ｏ−ＣＯ−ＣＨ
₂ 、ＣＨ₂ −ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−ＣＯ−ＣＨ
₂ で表される基が含まれる。

【００１０】ハロゲン原子は好ましくは塩素原子または
臭素原子であり、特に塩素原子が好ましい。炭素原子数
６ないし１２のアリール基は好ましくはフェニル基また
はナフチル基であり、特にフェニル基が好ましい。本発
明の化合物は、純粋な化合物または化合物の混合物であ
ってよい。

【００１１】アルキル基としてのＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ
₄ 、Ｒ₅ 、Ｒ₁₀は、与えられた定義の範囲内で、例えば
メチル基、エチル基、ｎ−もしくはイソプロピル基のよ
うなプロピル基、ｎ−、イソ−、第二−および第三−ブ
チル基のようなブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、また
はオクタデシル基である。

【００１２】アルキレン基としてのＲ₈ 、Ｒ₉ 、Ｒ₁₂、
Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ’₁₅およびＲ ₂₈ないしＲ₃₃は、与
えられた範囲内で、例えばメチレン基、１，２−エチレ
ン基、１，１−エチレン基、１，３−プロピレン基、
１，２−プロピレン基、１，１−プロピレン基、２，２
−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１，３−ブチレ
ン基、１，２−ブチレン基、１，１−ブチレン基、２，
２−ブチレン基、２，３−ブチレン基、または−Ｃ₅ Ｈ
₁₀−、−Ｃ₆ Ｈ₁₂−、−Ｃ₇ Ｈ₁₄−、−Ｃ₈ Ｈ₁₆−、−
Ｃ₉ Ｈ₁₈−、−Ｃ₁₀Ｈ₂₀−、−Ｃ₁₁Ｈ₂₂−、−Ｃ₁₂Ｈ₂₄
−、−Ｃ₁₃Ｈ₂₆−、−Ｃ₁₄Ｈ₂₈−、−Ｃ₁₅Ｈ₃₀−、−Ｃ
₁₆Ｈ₃₂−、−Ｃ₁₇Ｈ₃₄−、−Ｃ₁₈Ｈ₃₆−である。Ｒ₈ 、
Ｒ₉ およびＲ₂₈ないしＲ₃₃は特にメチレン基として好ま
しい。

【００１３】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基またはシクロアルコキシ基としてのＲ₅ 、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁
において、シクロアルキル基部分は、例えばシクロペン
チル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロ
オクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロ
ウンデシル基またはシクロドデシル基である。炭素原子
数５ないし１２のシクロアルケニル基は、シクロペンテ
ニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シ
クロオクテニル基、シクロノネニル基、シクロデセニル
基、シクロウンデセニル基、シクロドデセニル基を含
む。

【００１４】炭素原子数１ないし４のアルキル基または
アルコキシ基置換シクロアルキル基またはフェニル基
（主にアルキル基を１ないし３個、例えば１または２個
含む）は、中でも２−もしくは４−メチルシクロヘキシ
ル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘ
キシル基、ｔ−ブチルシクロヘキシル基、メチルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ジメチルフェニル基を含
む。

【００１５】フェニルアルキル基またはフェニルアルコ
キシ基は、それぞれフェニル基により置換されたアルキ
ル基またはアルコキシ基である。フェニルアルキル基ま
たはフェニルアルコキシ基としてのＲ₅ 、Ｒ₁₀は与えら
れた定義内で、例えばベンジル基、ベンジルオキシ基、
α−メチルベンジル基、α−メチルベンジルオキシ基ク
ミル基、クミルオキシ基である。

【００１６】アルカノイル基としてのＲ₅ およびＲ
₁₀は、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、ペンタノイル基、オクタノイル基であ
り；アルカノイル基としてのＲ₅ は好ましくは炭素原子
数２ないし８のアルカノイル基、特にアセチル基であ
る。Ｒ₅ の定義にあるようなアルケノイル残基は最も好
ましくはアクリロイル基またはメタクリロイル基であ
る。Ｒ₅ の定義にあるようなアルケニル残基は最も好ま
しくはアリル基である。

【００１７】Ｘは好ましくはＮＨであり；Ｘ₁ ないしＸ
₆ は最も好ましくはＯであり；Ｚは最も好ましくはＮ
（Ｒ₁₀）₂ であり；ｉは最も好ましくは０である。指数
ｐは好ましくは２ないし６の範囲からなる。

【００１８】ポリカーボネートとアクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレンターポリマーの好ましいブレンド
（上述の組成物の成分（Ａ））は、ポリカーボネート１
０ないし９０重量部とアクリロニトリル−ブタジエン−
スチレンターポリマー９０ないし１０重量部のブレンド
である。

【００１９】これらのブレンドに含まれるポリカーボネ
ートは、特に、その構造繰り返し単位が次式 （式中、Ｗは二価のフェノール系の基を表す。）に相当
するポリマーとして理解される。Ｗの例は、中でも米国
特許第４９６０８６３号明細書およびドイツ特許第３９
２２４９６号明細書に与えられている。Ｗは、例えば最
も広域な言葉の意味ではヒドロキノン、レゾルシノー
ル、ジヒドロキシビフェニレンまたはビスフェノール、
例えばビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、シクロア
ルカン、スルフィド、エーテル、ケトン、スルホン、ス
ルホキシド、α，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）ジ
イソプロピルベンゼン、例えば２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）シクロヘキサンから、あるいは次式 で表されるビスフェノールから誘導され得る。

【００２０】本発明の組成物は、好ましくは更なる成分
（Ｃ）としてベンゾトリアゾール、ｏ−ヒドロキシフェ
ニル−ｓ−トリアジンおよび／またはベンゾフェノン類
からの紫外線吸収剤、例えば以下に記載されるものを含
む。

【００２１】式Ｉで表される化合物（成分Ｂ）において
ｓは２ないし６の範囲からなり；ｓが２である場合、Ａ
は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２の
アルキレン基を表すか；式−Ｒ₈ −ＣＯＯ−Ｒ₁₂−ＯＣ
Ｏ−Ｒ₉ −（ＩＩａ）で表される基を表し；ｓが３であ
る場合、Ａは次式（ＩＩＩａ） で表される基を表し；ｓが４である場合、Ａは次式（Ｉ
Ｖａ）または（ＩＶｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５である場合、Ａは次
式（Ｖａ） で表される基を表し；ｓが６である場合、Ａは次式（Ｖ
Ｉｂ）ないし（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
り；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立してメチ
ル基を表し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし１８
のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；炭素原子数１ないし
１８のアルコキシ基；炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルコキシ基；炭素原子数３ないし８のアルケニル基を
表すか；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のアルカ
ノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基；炭
素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；グリシ
ジル基；または基−ＣＨ ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇ
は水素原子、メチル基またはフェニル基を表す。）を表
し；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、
Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原
子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ₁₂は炭素原子数２な
いし１０のアルキレン基を表すか；あるいは酸素原子、
−ＮＨ−または−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅
は互いに独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし１０のアルカンテ
トリル基を表し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアル
カンペンタイル基を表し；Ｘは−Ｏ−、−ＮＨ−または
−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ 、
Ｘ₅ 、Ｘ₆ 、Ｘ₇ およびＸ₈ は互いに独立して−Ｏ−ま
たは−ＮＨ−を表し；そしてＺはＮＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）
₂ または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を意味す
る組成物が好ましい。

【００２２】上記成分Ｂの多くの化合物は新規である。
従って本発明は、次式（Ｉ’）または（ＩＩ） （式中、ｐは１ないし１０の範囲からなり；ｓは１ない
し８、好ましくは２ないし８の範囲からなり；Ｒ₁ 、Ｒ
₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立して炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数
１ないし１８のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂
ＣＮ；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原
子数５ないし１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数３
ないし８のアルケニル基；炭素原子数３ないし８のアル
キニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキル
基；炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基から選択された基の１、２
または３個によりフェニル環上で置換された炭素原子数
７ないし１５のフェニルアルキル基；炭素原子数７ない
し１５のフェニルアルコキシ基；炭素原子数１ないし４
のアルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基から選択された基の１，２または３個によりフェニル
環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェニルア
ルコキシ基を表すか；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ない
し８のアルカノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケ
ノイル基；炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキ
シ基；グリシジル基；または基−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−
Ｇ（式中、Ｇは水素原子、メチル基またはフェニル基を
表す。）を表し；ｓが１の場合、ＡはＯＲ₃₀により置換
された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基を表し、
Ｒ ₃₀はベンゾフェノニル残基またはベンゾフェノニルオ
キシ残基により置換された炭素原子数１ないし８のアル
キル基または炭素原子数１ないし８のアルカノイル基を
表し、ベンゾフェノン部分の一方または両方のフェニル
環は未置換であるかまたはＯＨ、ハロゲン原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基および／または炭素原子数
１ないし１８のアルコキシ基により置換されており；ｓ
が２の場合、ＡはＯＨの１個またはそれ以上により置換
され、そして／または酸素原子、フェニレン基、例えば
１ないし４のアルキルフェニレン基、−ＣＯＯ−、−Ｃ
ＯＮＨ−、 −ＮＨ−、および／または−ＮＲ₁₀−の１個もしくはそ
れ以上により中断された炭素原子数３ないし１５のアル
キレン基を表すか；あるいはＡは炭素原子数４ないし１
２のアルケニレン基を表し；そしてＲ₅ が水素原子を表
さない場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基；フェニレン基または炭素原子数１ないし４のアルキ
ルフェニレン基により中断された炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子
数３ないし１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換
され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−Ｎ
Ｒ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
カントリイル基；あるいは次式（ＩＩＩａ）ないし（Ｉ
ＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
子数４ないし１０のアルカンテトリル基；ＯＨにより置
換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−
ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数４ないし１２のア
ルカンテトリル基；あるいは次式（ＩＶａ）ないし（Ｉ
Ｖｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数５ないし１２の
アルカンペンタイル基；あるいは次式（Ｖａ）ないし
（Ｖｃ） で表される基の一種を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原
子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６ないし１２の
アルカンヘキサイル基；あるいは次式（ＶＩａ）ないし
（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数７ないし１２の
アルカンヘプタイル基；あるいは次式（ＶＩＩａ）ない
し（ＶＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが８の場合、Ａは炭素原
子数８ないし１０のアルカンオクタイル基；ＯＨにより
置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数８ないし１２の
アルカンオクタイル基；あるいは次式（ＶＩＩＩａ）な
いし（ＶＩＩＩｂ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
り；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、
Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
し、そしてＲ₅ が水素原子を表さない場合、付加的にエ
チレン基も含み；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原
子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換の、もし
くは炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基から選択された基によりフ
ェニル環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェ
ニルアルキル基を表し；Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は互いに
独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨ
により置換され、そして／または酸素原子、フェニレン
基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−
ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
３ないし１２のアルキレン基；炭素原子数４ないし１２
のアルケニレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独
立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨに
より置換され、そして／または酸素原子、フェニレン
基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−
ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数
３ないし１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換さ
れ、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ
₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカ
ントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし１０の
アルカンテトリル基；ＯＨにより置換され、そして／ま
たは酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断
された炭素原子数４ないし１２のアルカンテトリル基を
表し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアルカンペンタ
イル基；ＯＨにより置換され、そして／または酸素原
子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素
原子数５ないし１２のアルカンペンタイル基を表し；Ｒ
₁₉は炭素原子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；
ＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ
−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６な
いし１２のアルカンヘキサイル基を表し；Ｘは−Ｏ−、
−ＮＨ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ
₃ 、Ｘ₄ 、Ｘ₅ 、Ｘ₆ は互いに独立して−Ｏ−または−
ＮＨ−を表し；Ｙは−Ｏ−または次式 で表される残基を表し；Ｚはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
ルコキシ基を意味し；Ｚ₁ はＺに関して与えられた意味
の一つを有するか、または−Ｘ−Ｒ’₁₅−ＸＨを表し、
そしてＺ₂ は水素原子または次式 で表される残基を表す。）で表される化合物にも関す
る。式（Ｉ’）の好ましい意味は、式（Ｉ）に関して上
述で与えられた適当なものを含む。

【００２３】また、ｐが２ないし６の範囲からなり；ｓ
が２ないし８の範囲からなり；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ および
Ｒ₄ は互いに独立してメチル基またはエチル基を表し；
Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル
基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ ＣＮ；炭素原子数１ない
し１８のアルコキシ基；炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルコキシ基；炭素原子数３ないし８のアルケニル
基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキル基；炭
素原子数７ないし１５のフェニルアルコキシ基を表し；
あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のアルカノイル
基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基；炭素原子
数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；グリシジル
基；または−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇは水素
原子、メチル基またはフェニル基を表す。）を表し；ｓ
が２の場合、ＡはＯＨにより置換され、そして／または
酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断され
た炭素原子数３ないし１２のアルキレン基；炭素原子数
４ないし１２のアルケニレン基；または次式（ＩＩａ）
ないし（ＩＩｅ） で表される基の一種を表し、そしてＲ₅ が水素原子を表
さない場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン
基；フェニレン基または炭素原子数１ないし４のアルキ
ルフェニレン基により中断された炭素原子数２ないし１
０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子
数３ないし１０のアルカントリイル基；または次式（Ｉ
ＩＩａ）ないし（ＩＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
子数４ないし１０のアルカンテトリル基；または次式
（ＩＶａ）ないし（ＩＶｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；または次式
（Ｖａ） で表される基を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原子数６
ないし１０のアルカンヘキサイル基；または次式（ＶＩ
ｂ）ないし（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基を表し；ｓが
８の場合、Ａは炭素原子数８ないし１０のアルカンオク
タイル基；または式（ＶＩＩＩａ）ないし（ＶＩＩＩ
ｂ）で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１で
あり；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ
₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原
子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基；炭素原子数７ないし１５のフ
ェニルアルキル基を表し；Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は互い
に独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；Ｏ
Ｈにより置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−
もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ない
し１２のアルキレン基；炭素原子数４ないし１２のアル
ケニレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独立して
炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨにより置
換され、そして／または酸素原子、フェニレン基、炭素
原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−ＮＨ−も
しくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし
１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数３ないし
１０のアルカントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４
ないし１０のアルカンテトリル基を表し；Ｒ₁₈は炭素原
子数５ないし１０のアルカンペンタイル基を表し；Ｘは
−Ｏ−、−ＮＨ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、
Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ 、Ｘ₅ は互いに独立して−Ｏ−または
−ＮＨ−を表し；そしてＺはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
ルコキシ基を意味する式（Ｉ’）または（ＩＩ）で表さ
れる化合物も好ましい。

【００２４】ｓが２ないし６の範囲からなり；Ｒ₁ 、Ｒ
₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立してメチル基またはエ
チル基を表し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし１
８のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ ＣＮ；炭素
原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数３ないし８の
アルケニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアル
キル基；炭素原子数７ないし１５のフェニルアルコキシ
基を表し；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のアル
カノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基；
炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；グリ
シジル基；または−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇ
は水素原子、メチル基またはフェニル基を表す。）を表
し；ｓが２の場合、ＡはＯＨにより置換され、そして／
または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中
断された炭素原子数３ないし１２のアルキレン基；炭素
原子数４ないし１２のアルケニレン基；または次式（Ｉ
Ｉａ） で表される基を表し、そしてＲ₅ が水素原子を表さない
場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン基も含
み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子数３ないし１０のアル
カントリイル基；または式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）
または（ＩＩＩｄ）で表される基の一種を表し；ｓが４
の場合、Ａは炭素原子数４ないし１０のアルカンテトリ
ル基；または式（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）または（ＩＶ
ｄ）で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭
素原子数５ないし１０のアルカンペンタイル基を表し；
ｓが６の場合、Ａは式（ＶＩｂ）ないし（ＶＩｆ）で表
される基の一種を表し；指数ｉは０または１であり；Ｒ
₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂
およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表し；Ｒ₁₀は
炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ない
し８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルキル基を表し；Ｒ₁₂は炭素原子数２ないし１０の
アルキレン基；ＯＨにより置換され、そして／または酸
素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された
炭素原子数３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₅お
よびＲ’₁₅は互いに独立して炭素原子数２ないし１０の
アルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数３ないし１０の
アルカントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし
１０のアルカンテトリル基を表し；Ｘは−Ｏ−、−ＮＨ
−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ
₄ は互いに独立して−Ｏ−または−ＮＨ−を表し；そし
てＺはＮＨＲ₁₀またはＮ（Ｒ₁₀）₂ を意味する式
（Ｉ’）で表される化合物は特に好ましい。

【００２５】ｓが２、３、４または６であり；Ｒ₁ 、Ｒ
₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ はメチル基を表し；Ｒ₅ は水素原
子；炭素原子数１ないし８のアルキル基；炭素原子数１
ないし１８のアルコキシ基；シクロヘキシルオキシ基；
アリル基；ベンジル基；アセチル基；炭素原子数３ない
し４のアルケノイル基；グリシジル基を表し；ｓが２の
場合、ＡはＯＨにより置換され、または酸素原子、−Ｎ
Ｈ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３
ないし１０のアルキレン基；または式−Ｒ₈ −ＣＯＯ−
Ｒ₁₂−ＯＣＯ−Ｒ₉ −（ＩＩａ）で表される基を表し；
そしてＲ₅ が水素原子を表さない場合、Ａは炭素原子数
２ないし１０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａ
は式（ＩＩＩａ）で表される基を表し；ｓが４の場合、
Ａは式（ＩＶａ）または（ＩＶｄ）で表される基を表
し；ｓが６の場合、Ａは式（ＶＩｅ）で表される基を表
し；指数ｉは０であり；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびに
Ｒ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃はメチレン基
を表し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、ホ
ルミル基、アセチル基またはシクロヘキシル基を表し；
Ｒ₁₂は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；または
酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１０のア
ルキレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独立して
炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を表し；Ｒ₁₇は
炭素原子数４ないし１０のアルカンテトリル基を表し；
Ｘは−ＮＨ−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ は−Ｏ−
を表し；そしてＺはＮ（Ｒ₁₀）₂ を意味する式（Ｉ’）
で表される化合物が最も好ましい。

【００２６】式ＩまたはＩ’で表される化合物の製造を
化合物３，３，５，５−テトラアルキル−ピペラジン−
２，６−ジオンから始めることができ、そして本明細書
の［０００３］に記載の特許明細書に記載された方法ま
たは有機化学の教本に記載された一般的な方法に従っ
て、またはそのような方法と同様に製造することが可能
であり；そのような方法の例は、アルキル化、（トラン
ス）エステル化、またはエーテル化、置換反応などであ
る。

【００２７】例えば、欧州特許第３７５６１２号明細
書、米国特許第５２０４４７３号明細書、米国特許第５
００４７７０号明細書およびクルマダ(Kurumada)等, J.
Polym. Sci., Poly. Chem. Ed 23, 1477(1985) および
米国特許第５４４９７７６号明細書、実施例８、ならび
にそれらにおいて示されたピペリジン誘導体の変性に関
する刊行物に記載の方法と同様に、当該分野で公知であ
る適当な合成方法を適用することにより、このようにし
て得られた化合物を更に誘導することが可能である。
光、酸素および／または熱の損傷の影響に対して有機材
料を安定化するために有利である本発明の新規化合物を
使用することができる。高い基材相溶性および基材にお
ける良好な耐久性のため、それらは注目に値する。

【００２８】本発明に従って安定化される材料の例は以
下の通りである。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィ
ン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、ポリエチレン（所望に架橋されることができ
る。）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密
度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、
高密度および超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨ
ＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリ
エチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬ
ＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。ポリ
オレフィン、すなわち前段落において例示されたモノオ
レフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポ
リプロピレンを、様々な方法によって、そして特に以下
の方法によって製造することができる。

【００２９】ａ）ラジカル重合（通常、高圧下および高
温で）。 ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩ
Ｉ群の金属原子の１種またはそれ以上を含む触媒を使用
する触媒重合。これらの金属原子は通常１個またはそれ
以上の、代表的にはπ−またはσ−配位され得るオキシ
ド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、ア
ミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールの
ようなリガンドを有する。これらの金属錯体は遊離状態
または代表的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン
（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素のような基材上
に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶また
は不溶であり得る。触媒は重合においてそれら自身で使
用されることができ、または代表的には金属アルキル、
金属ヒドライド、金属アルキルハライド、金属アルキル
オキシドまたは金属アルキルオキサンのようなさらなる
活性化剤が使用されることができ、該金属原子は周期表
のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ群の元素であ
る。活性化剤はさらなるエステル、エーテル、アミンま
たはシリルエーテル基を用いて都合よく変性され得る。
これらの触媒系は通常、フィリップス（Phillips）、ス
タンダード オイル インディアナ（Standard Oil Ind
iana）、チグラー（−ナッタ）（Ziegler(-Natta) ）、
ＴＮＺ（デュポン（Dupont））、メタロセンまたはシン
グルサイト触媒（single site catalyst）（ＳＳＣ）と
命名される。

【００３０】２．１）以下で上記されたポリマーの混合
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤ
ＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる型のポリエチレン
の混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【００３１】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば
エチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチ
レン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エン
コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ
チレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセ
ンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、
エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコ
ポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマ
ーおよびそれらと一酸化炭素とのコポリマーまたはエチ
レン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（アイオ
ノマー）並びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンのようなジエンとのターポリマー；およびそのよう
なコポリマー相互および１）において上記されたポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロ
ピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテ
ートコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アク
リル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、Ｌ
ＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキ
レン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらと例えばポリ
アミドのような他のポリマーとの混合物。

【００３２】４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５な
いし９）であって、それらの水素化変性物（例えば粘着
付与剤）を含むもの、およびポリアルキレンおよび澱粉
の混合物。 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキル
アクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタク
リレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アク
リロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマ
ーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーの高衝撃強度性の混合物；およびスチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレン
のブロックコポリマー。

【００３３】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアク
リロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸または
マレイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミ
ド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジ
エンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；
ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリ
レートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレー
ト／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、並びにそれらの６）以下に列挙されたコポリマ
ーとの混合物、例えば、ＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたは
ＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。

【００３４】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの
塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩
素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび
塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリン ホ
モ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物
のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びに
それらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル／ビニルアセテートまたは塩化ビニリデ
ン／ビニルアセテートコポリマー。 ９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマーおよびポ
リアクリレート並びにポリメタクリレートのようなそれ
らの誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃変性された
（impact-modified ）ポリメチルメタクリレート、ポリ
アクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。 １０．９）以下で述べられたモノマーの相互または他の
不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリ
ル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキ
ルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコ
キシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ビ
ニルハライドコポリマーまたはアクリロニトリル／アル
キルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。

【００３５】１１．不飽和アルコールおよびアミンから
誘導されたポリマーまたはアシル誘導体またはそれらの
アセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
アセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
並びに１）において上記されたオレフィンとのそれらの
コポリマー。 １２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドのような環式エーテルのホ
モポリマーおよびコポリマーまたはそれらのビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。 １３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよ
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポ
リオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレー
トまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。 １４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およ
びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポ
リアミドとの混合物。

【００３６】１５．一方の成分としてヒドロキシル末端
基で終了されたポリエーテル、ポリエステルまたはポリ
ブタジエン、および他方の成分として脂肪族または芳香
族ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、並
びにそれらの前駆物質。 １６．ジアミン並びにジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または対応するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６
／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリア
ミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から
出発した芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンお
よびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から変性
剤としてエラストマーを用いてまたは用いずに製造され
たポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘ
キサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニ
レンイソフタルアミド；およびまた上記されたポリアミ
ドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノ
マーまたは化学結合もしくはグラフトされたエラストマ
ーとのブロックコポリマー、またはポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチ
レングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポ
リマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリ
アミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合され
たポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。 １７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポ
リエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダント
インおよびポリベンズイミダゾール。

【００３７】１８．ジカルボン酸並びにジオールおよび
／またはヒドロキシカルボン酸または対応するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，
４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレートおよび
ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端
基で終了されたポリエーテルから誘導されたブロックコ
ポリエーテルエステル；およびまたポリカーボネートま
たはＭＢＳで変性されたポリエステル。 １９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネー
ト。 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ２１．一方の成分としてアルデヒド、および他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。

【００３８】２２．乾式および不乾式アルキド樹脂。 ２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、およびまた低
燃焼性のそれらのハロゲン含有変性物。 ２４．置換されたアクリレートから誘導された架橋可能
なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレートまたはポリエステルアクリレート。 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソ
シアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂
で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびア
クリレート樹脂。

【００３９】２６．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式ま
たは芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキ
シ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノール
Ｆのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物ま
たはアミンのような慣用の硬化剤と、促進剤を用いてま
たは用いずに架橋されたもの。 ２７．セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマ
ーおよびそれらの化学的に変性された同族の誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよびブ
タン酸セルロース、またはメチルセルロースのようなセ
ルロースエーテル；ならびにロジンおよびその誘導体。 ２８．上記されたポリマーのブレンド（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ
／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。

【００４０】従って本発明は、Ａ）酸化、熱および／ま
たは化学線作用による分解を起こしやすい有機材料、お
よびＢ）式Ｉ’で表される化合物の少なくとも一種から
なる組成物も提供し、そして酸化、熱または化学線作用
による分解に対して有機材料を安定化するために式Ｉ’
で表される化合物を使用する方法を提供する。

【００４１】分解の影響は、中でも変色、分子の崩壊ま
たは増加である。従って、本発明は同様に、熱、酸化お
よび／または化学線作用による崩壊／増加に対して有機
材料を安定化する方法であって、この材料に式Ｉ’で表
される化合物の少なくとも一種を塗布または添加するこ
とからなる方法を含む。

【００４２】一般的に、（安定化される材料を基準とし
て）０．０１ないし１０％、好ましくは０．０１ないし
５％、特に好ましくは０．０１ないし２％の量で、式Ｉ
またはＩ’で表される化合物は安定化される材料に添加
される。特に好ましくは、新規化合物を０．０５ないし
１．５％、特に０．１ないし０．５％の量で使用するこ
とである。式ＩまたはＩ’で表される化合物に加えて、
新規組成物は付加的な成分Ｃとして、例えば以下に記載
されるような慣用の添加剤の一種またはそれ以上を含ん
でもよい。

【００４３】１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば、２，６−
ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチ
ル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖におい
て枝分れ鎖であるノニルフェノール、例えば、２，６−
ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル
−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール 、例えば、２，
４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノー
ル、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノ
ール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェ
ノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニル
フェノール。

【００４４】１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒ
ドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
トキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジ
−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，
６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。１．４．トコフェロール 、例えば、α−トコフェロー
ル、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−ト
コフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。

【００４５】１．６．アルキリデンビスフェノール、例
えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００４６】１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化
合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチ
ル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、ジ
オクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシ
ル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。

【００４７】１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。１．１０．トリアジン化合物 、例えば、２，４−ビス
（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソ
シアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５
−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサ
ヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート。

【００４８】１．１１．ベンジルホスホネート、例え
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。１．１２．アシルアミノフェノール 、例えば、４−ヒド
ロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン
酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。

【００４９】１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３
−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多
価アルコールとのエステル 、アルコール例、メタノー
ル、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。

【００５０】１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコール例、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタ
ン。１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエス
テル 、アルコール例、メタノール、エタノール、オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００５１】１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例
えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’
−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキ
サミド（ユニロイヤル（Uniroyal）社によって供給され
る登録商標ナウガード（Naugard ）ＸＬ−１）。１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ） 。

【００５２】１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノ
ール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイル
アミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−
アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフ
ェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。

【００５３】２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチ
ルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド
ロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２
−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキ
シルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−
２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−ベンゾトリアゾル−２−イルフェノール］、２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエス
テル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯＣＨ
₂ ＣＨ₂ −］₂ −［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イ
ルフェニル基を表す。］で表されるもの、２−［２’−
ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−
５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−
３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’
−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリ
アゾール。

【００５４】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチル
オキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−
ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよ
び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３．置換および未置換安息香酸のエステル 、例え
ば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエートおよび２−メチル−４，６−ジ−第三ブチル
フェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。

【００５５】２．４．アクリレート、例えば、エチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオ
クチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレー
ト、メチル−α−カルボメトキシシンナメート、メチル
−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメー
ト、ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシ
ンナメート、メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル）−２−メチルインドリン。２．５．ニッケル化合物 、例えば、２，２’−チオ−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェ
ノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯
体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
またはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような
さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの；ニッケルジ
ブチルジチオカルバメート；４−ヒドロキシ−３，５−
ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエス
テル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデ
シルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体；１
−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うまた
は伴わないもの。

【００５６】２．６．立体障害アミン、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよ
びスクシン酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖または環式縮合
生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，
５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステ
アリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オク
チル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト
リアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネー
ト、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モ
ルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
の直鎖または環式縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビ
ス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，
２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生
成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミ
ノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル
−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジ
オン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４
−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロ
ヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリ
アジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，
３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ
Ｒｅｇ． Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）、Ｎ
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−
テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ
ソスピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメ
チル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジ
アザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンおよびエピク
ロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカル
ボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン、Ｎ，
Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジ
アミン、４−メトキシメチレン−マロン酸と１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジン
とのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−
４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン
−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−ア
ミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。

【００５７】２．７．オキサミド、例えば、４，４’−
ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシ
オキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’
−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキ
シ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ
−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５
−第三ブチル−２’−エトキサニリド、およびその２−
エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサ
ニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−
二置換オキサニリドの混合物。

【００５８】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリ
ス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−
プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−
ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−
ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プ
ロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェ
ニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−
｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−
１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニ
ル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン。

【００５９】３．金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフ
ェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイ
ルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。

【００６０】４．ホスフィットおよびホスホナイト、例
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルソルビトールト
リホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−
第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２
−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，
２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，
５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−
２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシ
ル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，
１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。

【００６１】特に好ましいものは以下のホスフィットで
ある。トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホス
フィット（登録商標イルガホス(Irgafos) 168 ：チバ−
ガイギー(Ciba-Geigy)社製）、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフィット。

【００６２】５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘
導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。６．ニトロン 、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−
ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オ
クチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−
ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデ
シル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロ
ン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−
オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛
脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシ
ルアミンから誘導されたニトロン。

【００６３】７．チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネー
ト。８．過酸化物捕捉剤 、例えば、β−チオジプロピオン酸
のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル
ジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−
ドデシルメルカプト）プロピオネート。９．ポリアミド安定剤 、例えば、ヨウ化物および／また
はリン化合物との組合せによる銅塩ならびに二価のマン
ガン塩。

【００６４】１０．塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは亜鉛ピロカテコレート。１１．核剤 、例えば、タルクのような無機材料、二酸化
チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフ
ェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好
ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−またはポリカ
ルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例え
ば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル
酢酸、ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾ
エート、イオン性コポリマー（”アイオノマー”）のよ
うなポリマー性化合物。

【００６５】１２．充填剤および強化剤、例えば、炭酸
カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェー
ト、金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラッ
ク、グラファイト、木粉および他の天然生成物の粉末ま
たは繊維、合成繊維。１３．その他の添加剤 、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白
剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。

【００６６】１４．ベンゾフラノンおよびインドリノ
ン、例えば、米国特許第４３２５８６３号明細書、米国
特許第４３３８２４４号明細書、米国特許第５１７５３
１２号明細書、米国特許第５２１６０５２号明細書、米
国特許第５２５２６４３号明細書、ドイツ特許第４３１
６６１１号明細書、ドイツ特許第４３１６６２２号明細
書、ドイツ特許第４３１６８７６号明細書、欧州特許第
０５８９８３９号明細書もしくは欧州特許第０５９１１
０２号明細書に記載されているものや、あるいは３─
［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７
−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−
ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシ
エトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，
３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２
−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−
オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシ
フェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセト
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三
ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメ
チル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−
第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−
ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフ
ラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−
５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。

【００６７】安定化される材料を基準として、０．１な
いし１０重量％、例えば０．２ないし５重量％の量で、
慣用の添加剤は妥当に使用される。

【００６８】本発明の安定剤混合物に添加される任意の
補助安定剤は、好ましくは更なる光安定剤、例えば２−
ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール、２−ヒドロ
キシフェニル−トリアジン、ベンゾフェノンまたはオキ
サルアニリド類のもの、例えば欧州特許第４５３３９６
号明細書、欧州特許第４３４６０８号明細書、米国特許
第５２９８０６７号明細書、ＷＯ第９４／１８２７８号
明細書、英国特許第２２９７０９１号明細書およびＷＯ
第９６／２８４３１号明細書に記載されたもの、ならび
に／あるいは次式 （式中、Ｇは水素原子またはメチル基、特に水素原子を
表す。）で表される基を少なくとも１個含む２，２，
６，６−テトラアルキルピペリジンから誘導された更な
る立体障害性アミンであり、本発明の混合物に対して補
助安定剤として使用され得るテトラアルキルピペリジン
誘導体の例は、欧州特許第３５６６７７号明細書、第３
ないし１７頁、ａ）ないしｆ）項に記載されている。該
先行文献の項目は本記載の一部であると見なされる。

【００６９】補助安定剤として特に好ましくは２−ヒド
ロキシフェニル−ベンゾトリアゾールおよび／または２
−ヒドロキシフェニルトリアジンである。合成有機ポリ
マー、特に熱可塑性ポリマーおよび相当する組成物にお
いて、コーティングのための皮膜形成バインダーにおい
て、ならびに電子複写材料において、安定剤として式
Ｉ’で表される化合物を使用することは特に興味深い。

【００７０】保護される有機材料は好ましくは天然、半
合成もしくは、好ましくは合成有機材料である。特に好
ましくは合成有機ポリマーまたはそのようなポリマーの
混合物、特にポリオレフィン、特にポリエチレンおよび
ポリプロピレン（ＰＰ）のような熱可塑性ポリマー、な
らびにコーティング組成物である。ポリカーボネートお
よびそれらのブレンド、例えば上述の１９項および２８
項に記載されたポリマーも特に重要である。

【００７１】当該分野で慣用な方法により、例えば式
Ｉ’で表される化合物および所望により更なる添加剤を
混合することまたは適用することにより、材料への混成
を行うことが可能である。ポリマー、特に合成ポリマー
を伴う場合、成形操作の前または間に、あるいはそれに
続く溶媒の除去を伴ってまたは伴わずに溶解または分散
させた化合物をポリマーに適用することにより混成を行
うことができる。エラストマーの場合、ラテックスとし
て安定化させることも可能である。更に、ポリマー中に
式Ｉ’で表される化合物を混成することに関しては、相
当するモノマーの重合の前、間または直後に、あるいは
架橋の前に、それらを添加することも可能である。これ
に関して、式Ｉ’で表される化合物をそのまま、もしく
はカプセル化された形状（例えば、ワックス、オイルま
たはポリマー中にカプセル化された形状）で添加するこ
とができる。重合の前または間に添加する場合、式Ｉ’
で表される化合物は、ポリマー鎖長の調節剤（鎖末端）
として作用することも可能である。

【００７２】式ＩまたはＩ’で表される化合物を、例え
ば安定化されるポリマーに対して２．５ないし２５重量
％の濃度で該化合物を含むマスターバッチの形状で添加
することもできる。

【００７３】以下に示す方法により、式ＩまたはＩ’で
表される化合物を妥当に混成することができる。 ・乳濁液または分散液（例えばラテックスまたは乳化ポ
リマー）として ・付加的な成分またはポリマー混合物の混合間の乾式混
合物として ・加工装置（例えば押出機、内部混合機など）中への直
接的な導入により ・溶液または溶融物として

【００７４】例えばフィルム、繊維、テープ、成形材
料、異形材を製造するために、またはコーティング材
料、粘着剤もしくはパテのバインダーとして、新規ポリ
マー組成物を様々な形状で使用することおよび／または
様々な製品を製造するために加工することができる。

【００７５】本発明に従って安定化される更なる材料は
記録材料(recording materials) である。このような材
料は、例えば写真の複製および他の電子複写技術に関す
るResearch Disclosure 1990, 31429(474-480 頁) に記
載されているものである。新規記録材料は、例えば感圧
複写系、マイクロカプセル複製写真系、感熱複写系、写
真材料およびインク−ジェット印刷のためのものを含
む。

【００７６】新規写真材料は白黒もしくはカラー写真材
料であり；カラー写真材料が好ましい。カラー写真材料
の構造および新規材料に使用され得る成分に関して、更
に詳しくは中でも米国特許第５５３８８４０号明細書，
第２７段，第２５行目ないし第１０６段、第１６行目お
よび該特許明細書で引用された刊行物に見受けられる。
この米国特許第５５３８８４０号明細書の一節は本明細
書に参考として取り入れられている。式Ｉ’で表される
新規安定剤の使用は本参考文献で紫外線吸収剤または立
体障害性アミン安定剤に関して記載されたように必須で
ある。更なる重要な成分、特にカップリング剤は米国特
許第５５７８４３７号明細書に記載されている。

【００７７】コーティング、例えばペイントのための安
定剤として式（Ｉ）で表される化合物からなる新規混合
物を使用することは同様に特に興味深い。従って本発明
は、成分（Ａ）がコーティングのための皮膜形成バイン
ダーである組成物にも関する。

【００７８】新規コーティング組成物は、固体バインダ
ー（Ａ）の１００重量部に対して、好ましくは（Ｂ）の
０．０１ないし１０重量部、特に（Ｂ）の０．０５ない
し１０重量部、とりわけ（Ｂ）の０．１ないし５重量部
からなる。本発明において複層系も可能であり、より外
側の層において新規安定剤（成分（Ｂ））の濃度を比較
的高くでき、例えば固体バインダー（Ａ）の１００重量
部に対して（Ｂ）の１ないし１５重量部、特に（Ｂ）の
３ないし１０重量部である。

【００７９】コーティングにおいて式ＩまたはＩ’で表
される化合物を使用することは、離層、すなわち基材か
らコーティングがはがれ落ちることを防ぐという付加的
な利点を伴う。金属基材上の複層系を含む金属基材の場
合、この利点は特に重要である。

【００８０】原則としてバインダー（成分（Ａ））は工
業的に慣用であるいずれかのバインダーであり、例えば
Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry ,
第５版, Ａ１８巻，第３６８ないし４２６頁，VCH Verl
agsgesellschaft, Winheim 1991 に記載されているもの
である。一般的に、熱可塑性もしくは熱硬化性樹脂、主
に熱硬化性樹脂をベースとした皮膜形成バインダーであ
る。それらの例はアルキド、アクリル、ポリエステル、
フェノール、メラミン、エポキシおよびポリウレタン樹
脂およびそれらの混合物である。

【００８１】成分（Ａ）は常温硬化性もしくは熱硬化性
バインダーであり；硬化触媒の添加は有利である。バイ
ンダーの硬化を促進する適当な触媒は、例えば Ullman
n's Encyclopedia of Industrial Chemistry , Ａ１８
巻，第４６９頁，VCH Verlagsgesellschaft, Winheim 1
991 に記載されている。成分（Ａ）が機能性アクリレー
ト樹脂および架橋材からなるバインダーであるコーティ
ング組成物が好ましい。

【００８２】特定のバインダーを含むコーティング組成
物の例は以下の通りである。 １．所望により硬化触媒の添加を伴う、常温もしくは熱
架橋可能なアルキド、アクリル、ポリエステル、フェノ
ール、メラミン、エポキシおよびポリウレタン樹脂およ
びそのような樹脂の混合物をベースとしたペイント； ２．ヒドロキシル基含有アクリレート、ポリエステル、
またはポリエーテル樹脂および脂肪族または芳香族イソ
シアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネー
トをベースとした二成分ポリウレタンペイント； ３．所望によりメラミン樹脂の添加を伴って焼成の間に
脱ブロック化（deblocked)されたブロック化イソシアネ
ート、イソシアヌレートもしくはポリイソシアネートを
ベースとする一成分ポリウレタンペイント； ４．トリスアルコキシカルボニルトリアジン架橋剤およ
びヒドロキシル基含有樹脂、例えばアクリレート、ポリ
エステルまたはポリエーテル樹脂をベースとする一成分
ポリウレタンペイント；

【００８３】５．所望により硬化触媒を伴うウレタン構
造中に遊離アミノ基を有する脂肪族または芳香族ウレタ
ンアクリレートまたはポリウレタンアクリレートおよび
メラミン樹脂またはポリエーテル樹脂をベースとする一
成分ポリウレタンペイント； ６．（ポリ）ケトイミンおよび脂肪族または芳香族イソ
シアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネー
トをベースとする二成分ペイント； ７．（ポリ）ケトイミンおよび不飽和アクリレート樹脂
またはポリアセトアセテート樹脂あるいはメタクリルア
ミドグリコレートメチルエステルをベースとする二成分
ペイント； ８．カルボキシル−またはアミノ−含有ポリアクリレー
トおよびポリエポキシドをベースとする二成分ペイン
ト；

【００８４】９．アンヒドリド基を含有するアクリレー
ト樹脂およびポリヒドロキシまたはポリアミノ成分をベ
ースとする二成分ペイント； １０．アクリレート含有無水物およびポリエポキシドを
ベースとする二成分ペイント； １１．（ポリ）オキサゾリンおよびアンヒドリド基を含
有するアクリレート樹脂、または不飽和アクリレート樹
脂、または脂肪族もしくは芳香族イソシアネート、イソ
シアヌレートもしくはポリイソシアネートをベースとす
る二成分ペイント； １２．不飽和ポリアクリレートおよびポリマロネートを
ベースとする二成分ペイント； １３．熱可塑性アクリレート樹脂または外部架橋アクリ
レート樹脂をエーテル化されたメラミン樹脂との組合せ
でベースとする熱可塑性ポリアクリレートペイント；

【００８５】１４．シロキサン−変性またはフルオリン
−変性アクリレート樹脂をベースとするペイント系； １５．マロネート−ブロック化イソシアネートと（酸触
媒された）架橋剤としてメラミン樹脂（例えばヘキサメ
トキシメチレンメラミン）をベースとしたペイント系で
あって、特に透明コートのためのもの； １６．オリゴマー性ウレタンアクリレートあるいは他の
オリゴマーまたはモノマーと組み合わせた状態のオリゴ
マー性ウレタンアクリレートをベースとした紫外線硬化
性系； １７．最初に熱により、次いで紫外線もしくは電子照射
により硬化される二重硬化系または逆の順序で硬化され
る二重硬化系であって、その成分に光開始剤または電子
ビームの存在下で紫外線光の照射に反応を示し得るエチ
レン系二重結合を含む系。

【００８６】成分（Ａ）および（Ｂ）に加えて、本発明
のコーティング組成物は好ましくは成分（Ｃ）として立
体障害性アミン型、２（２−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジンおよび／または２−ヒドロキシ
フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール型の光安定剤、例
えば上述の一覧で項目２．１、２．６および２．８にお
いて上述されたものを含む。有利に添加される２−（２
−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン型の
光安定剤の更なる例は、米国特許第４６１９９５６号明
細書、欧州特許第４３４６０８号明細書、米国特許第５
１９８４９８号明細書、米国特許第５３２２８６８号明
細書、米国特許第５３６９１４０号明細書、米国特許第
５２９８０６７号明細書、ＷＯ第９４／１８２７８号明
細書、欧州特許第７０４４３７号明細書、英国特許第２
２９７０９１号明細書、ＷＯ第９６／２８４３１号明細
書に見受けられる。２−（２−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジンおよび／または２−ヒドロキシ
フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、特に２−（２−
ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの添加
は特に技術的に興味深い。

【００８７】成分（Ｃ）は好ましくは、１００重量部の
固体バインダーに対して０．０５ないし５重量部の量で
使用される。コーティング中で成分（Ｃ）として有利に
使用され得るテトラアルキルピペリジン誘導体の例は欧
州特許第３５６６７７号明細書，第３ないし１７頁，
ａ）ないしｆ）項に記載されている。上記明細書のこれ
らの項目は本記載の一部分であると見なされる。以下の
テトラアルキルピペリジン誘導体を使用することは特に
都合が良い。

【００８８】ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジ−４−イル）スクシネート，ビス（２，２，６，６
−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート，ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ−４−イ
ル）セバケート，ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジ−４−イル）ブチル−（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート，ビス（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジ−４−イル）セバケート，テトラ（２，２，６，６
−テトラメチルピペリジ−４−イル）ブタン−１，２，
３，４−テトラカルボキシレート，テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジ−４−イル）ブタン
−１，２，３，４−テトラカルボキシレート，２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ
−２１−オキソ−ジスピロ［５．１．１１．２］ヘンエ
イコサン，８−アセチル−３−ドデシル−１，３，８−
トリアザ−７，７，９，９−テトラメチルスピロ［４．
５］デカン−２，４−ジオン，１，１−ビス−（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル−
オキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）−
エタン，または次式 （式中、Ｒは を表す。）； （式中、Ｒは を表す。）； または （式中、ｍは５ないし５０である。）で表される化合
物。

【００８９】成分（Ａ）、（Ｂ）および使用する場合は
（Ｃ）を別として、コーティング組成物は更なる成分、
例えば溶媒、顔料、染料、可塑剤、安定剤、チキソトロ
ープ剤、乾燥触媒および／または均染剤も含み得る。可
能な成分の例はUllmann's Encyclopedia of Industrial
Chemistry, 第５版，Ａ１８巻，第４２９ないし４７１
頁，VCH, Weinheim 1991に記載されているものである。

【００９０】可能な乾燥触媒または硬化触媒は、例え
ば、有機金属化合物、アミン、アミノ基−含有樹脂およ
び／またはホスフィンである。有機金属化合物の例は金
属カルボキシレート、特に金属Ｐｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚ
ｎ、ＺｒまたはＣｕのもの、あるいは金属キレート、特
に金属Ａｌ、ＴｉまたはＺｒのもの、あるいは例えば有
機錫化合物のような有機金属化合物である。

【００９１】金属カルボキシレートの例はＰｂ、Ｍｎま
たはＺｎのステアレート、Ｃｏ、ＺｎまたはＣｕのオク
トエート、ＭｎおよびＣｏのナフテネートあるいは相当
するリノレネート、レジネートまたはタレートである。
金属キレートの例は、アセチルアセトン、エチルアセチ
ルアセテート、サリチルアルデヒド、サリチルアルドキ
シム、ｏ−ヒドロキシアセトフェノンまたはエチルトリ
フルオロアセチルアセテートのアルミニウム、チタンま
たはジルコニウムキレート、ならびにこれらの金属のア
ルコキシドである。有機錫化合物の例はジブチル錫オキ
シド、ジブチル錫ジラウレートまたはジブチル錫ジオク
トエートである。

【００９２】アミンの例は、特に三級アミン、例えばト
リブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジ
エタノールアミン、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ
−エチルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリンまたはジア
ザビシクロオクタン（トリエチレンジアミン）およびそ
れらの塩である。更なる例は第四級アミン塩、例えばト
リメチルベンジルアンモニウムクロリドである。アミノ
基−含有樹脂はバインダーであると同時に硬化触媒であ
る。これらの例はアミノ基−含有アクリレートコポリマ
ーである。ホスフィン、例えばトリフェニルホスフィン
も、使用される硬化触媒であり得る。

【００９３】新規コーティング組成物は放射線硬化性コ
ーティング組成物でもあり得る。この場合、基本的にバ
インダーは、適用後、化学線放射により硬化される、す
なわち架橋体に転化された高分子量を形成するエチレン
系不飽和結合を含むモノマーまたはオリゴマー化合物か
らなる。系が紫外線硬化性である場合、それは一般的に
光開始剤をも含有する。相当する系は、上述の刊行物Ul
lmann's Encyclopediaof Industrial Chemistry, 第５
版，Ａ１８巻，第４５１ないし４５３頁に記載されてい
る。放射−硬化性コーティング組成物において、立体障
害性アミンを添加せずに新規安定剤を使用することが可
能である。

【００９４】本発明のコーティング組成物をいずれの所
望の基材、例えば金属、木材、プラスチックまたはセラ
ミック材料に適用することができる。それらは好ましく
は自動車の仕上げ塗りにおいてトップコートとして使用
される。下の層は着色され、上の層は着色されない二層
からトップコートが成り立つ場合、新規コーティング組
成物を上の層または下の層のどちらにも、あるいは両方
の層に使用することが可能であるが、好ましくは上の層
に使用される。慣用の方法、例えば、はけ塗り、噴霧、
流し込み、浸漬または電気永動により新規コーティング
組成物を基材に適用することができる；Ullmann's Ency
clopedia of Industrial Chemistry, 第５版，Ａ１８
巻，第４９１ないし５００頁を参照せよ。

【００９５】バインダー系に依存して、室温においてま
たは加熱することによりコーティングを硬化させること
ができる。コーティングは好ましくは５０ないし１５０
℃で硬化され、粉末コーティングまたはコイルコーティ
ングの場合、より高い温度でも硬化される。本発明によ
り得られたコーティングは、光、酸素および熱の有害な
影響に対して良好な耐性を有し、特にそのようにして得
られたコーティング、例えばペイントの良好な光安定性
および耐候性については言及に値する。

【００９６】従って本発明は、本発明の式（Ｉ）で表さ
れる化合物の含有により光、酸素および熱の有害な影響
に対して安定化されたコーティング、特にペイントにも
関する。該ペイントは自動車用トップコートであること
が好ましい。更に本発明は、光、酸素および／または熱
による損傷に対して有機ポリマーをベースとするコーテ
ィングを安定化させるための方法であって、コーティン
グ組成物すなわち式（Ｉ）で表される化合物を含む混合
物を混合することからなる方法にも関し、光、酸素およ
び／または熱による損傷に対する安定剤としてコーティ
ング組成物中に式（Ｉ）で表される化合物を含む混合物
を使用する方法にも関する。

【００９７】コーティング組成物は、バインダーが溶解
可能な有機溶媒または溶媒混合物を含み得る。同様に、
コーティング組成物は水溶性溶液または分散液であって
もよい。ビヒクルが有機溶媒および水の混合物であって
もよい。コーティング組成物は高−固体ペイントであっ
てよく、溶媒が存在しなくてもよい（例えば粉末コーテ
ィング材料）。粉末コーティングは例えば、Ullmann's
Encyclopedia of Industrial Chemistry, 第５版，Ａ１
８巻，第４３８ないし４４４頁に記載されているもので
ある。ここでは、例えば欧州特許第８５６５６３号明細
書の特に第２２頁第２１行目ないし第２６頁第２９行
目、ならびに該先行文献で参考で引用された文献に記載
されているように、本発明の添加剤を使用することがで
きる。粉末コーティング材料は粉体−スラリー（好まし
くは水中での粉体の分散）の形状を有することもでき
る。顔料は無機、有機または金属顔料であってよい。新
規コーティング組成物は好ましくは顔料を含まず、透明
な被膜として使用される。同様に、自動車工業での用途
のためのトップコートとして、特にペイント仕上げにお
ける着色または非着色トップコートとしてコーティング
組成物を使用することが好ましい。しかしながら、下塗
りコーティングとしての使用も可能である。

【００９８】

【実施例】以下の実施例により本発明を更に詳細に説明
する。本明細書の他の部分および請求項と同様に実施例
において、特記されない限り全ての部および百分率は重
量によるものである。室温とは、特記されない限り２０
ないし３０℃の範囲にある温度を示す。元素分析で示さ
れたデータは重量％で表され、元素Ｃ、ＨおよびＮに対
して計算された（ｃａｌ）または実験的に測定された
（ｅｘｐ）ものである。実施例において以下の記号が使
用される。 ％ｗ／ｗ：重量による百分率； ％ｗ／ｖ：体積に対する重量の百分率；ｘ％ｗ／ｖは１
００ｍｌの液体にｘｇの固体が溶解していることを表
す。 ｍ．ｐ．：融点または範囲； ＰＣ ：ポリカーボネート； ＡＢＳ ：アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンタ
ーポリマー； ＰＯＭ ：ポリオキシメチレン； ＰＰ ：ポリプロピレン； ＬＤＰＥ：低密度ポリエチレン； ＤＳＣ ：示差走査熱量計； ＮＭＲ ：核磁気共鳴（特記しない限り ¹Ｈによる）。

【００９９】Ａ：製造例 実施例Ａ１： 次式 で表される先駆化合物３，３，５，５−テトラアルキル
−ピペリジン−２，６−ジオンを、ティー．ヨシオカ
(T.Yoshioka)等，Bull. Chem. Soc. Jap. 45, 1855-186
0 (1972)に従って得る。ｍ．ｐ．２４０ないし２４２
℃。

【０１００】実施例Ａ２：攪拌機、温度計、冷縮乾燥管
およびガス引き入れ管を装着した１ｌの三口フラスコ
に、３，３，５，５−テトラアルキル−ピペリジン−
２，６−ジオン（実施例Ａ１の生成物）９４ｇ、および
ジメチルアセトアミド４００ｍｌ中第三ブトキシドカリ
ウム５７ｇを添加する。反応は弱い発熱反応であり、温
度は５５℃まで上昇する。この攪拌溶液に、エチル−ブ
ロモアセテート７７ｇを滴下し、そして攪拌を５時間続
ける。反応混合物を室温まで冷却し、次いでＣＨ₂ Ｃｌ
₂ ２００ｍｌの添加後、水２００ｍｌ中に注入する。有
機層を分離し、そして減圧下で濃縮する。残渣をトルエ
ンに溶解し、ろ過し、そして減圧下で濃縮する。白色残
渣として、次式 で表される生成物が得られる；ｍ．ｐ．５８ないし６０
℃。

【０１０１】実施例Ａ３：攪拌機、温度計、冷縮乾燥管
およびガス引き入れ管を装着した１ｌの三口フラスコ
に、第三アミルアルコール１２０ｍｌ中ｐ−ホルムアル
デヒド１８ｇとともに実施例Ａ２の生成物を充填し、そ
して７５℃まで加熱した該反応混合物に第三アミルアル
コール１００ｍｌ中ギ酸２４ｇの溶液を滴下する。反応
混合物を８５℃まで加熱し、そしてこれを６時間保ち、
次いで室温まで冷却する。水５０ｍｌ中ＮａＯＨ２１ｇ
の溶液を添加する。有機層をＣＨ₂ Ｃｌ₂ で抽出し、水
で洗浄し、そして減圧下で濃縮する。白色粉末として次
式 で表される生成物が得られる。融点：５９℃（ＤＳＣに
よる）。

【０１０２】実施例Ａ４： 攪拌機、温度計、冷縮乾燥管およびガス引き入れ管を装
着した１ｌの三口フラスコに、キシレン１２０ｍｌ中ペ
ンタエリスリトール１０ｇの溶液とともに実施例Ａ３の
生成物を充填する。１００℃で攪拌溶液にリチウムアミ
ド１ｇを添加する。反応混合物を１３５℃までゆっくり
加熱し、そしてこの温度に２４時間保ち、次いで室温ま
で冷却し、そしてろ過し、次いで減圧下で濃縮する。熱
ｎ−ヘキサンから残渣を結晶化し、融解範囲２４０ない
し２４４℃を有する白色固体として上述の生成物が得ら
れる。 元素分析：計算値：Ｃ＝５７．０％，Ｈ＝７．４％，Ｎ＝１０．８％ 実測値：Ｃ＝５７．２％，Ｈ＝７．３％，Ｎ＝１０．７％

【０１０３】実施例Ａ８： 攪拌機、温度計、冷縮乾燥管およびガス引き入れ管を装
着した１ｌの三口フラスコに、３，３，５，５−テトラ
アルキル−ピペリジン−２，６−ジオン９４ｇ、および
ジメチルアセトアミド４００ｍｌ中第三ブトキシドカリ
ウム５７ｇを添加する。混合物を５５℃まで加熱し、そ
して攪拌下でエチル−ブロモアセテート７７ｇを滴下
し、更に５時間反応を続け、そして２５℃まで冷却す
る。攪拌下、ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ２００ｍｌおよび水２００ｍ
ｌを混合物に添加し、そして有機層を収集し、Ｎａ₂ Ｓ
Ｏ₄ 上で乾燥し、そして攪拌機、温度計、冷縮乾燥管お
よびガス引き入れ管を装着した丸底フラスコ中にキシレ
ン４００ｍｌおよびジエチレングリコール２２．８ｇと
一緒に充填する。溶液を還流温度まで加熱し、そして混
合物にジブチル錫オキシド０．２ｇを添加し、そして１
２時間反応を続け、次いで２５℃まで冷却する。次いで
上記溶液を真空下で濃縮し、そして得られた固体を攪拌
機、温度計、冷縮乾燥管およびガス引き入れ管を装着し
た丸底フラスコに充填する。上記フラスコに第三アミル
アルコール３５０ｍｌおよびパラ−ホルムアルデヒド２
８ｇも加え、得られた混合物を７５℃まで加熱し、そし
て攪拌下でギ酸３８．５ｇを滴下し、そして温度を７５
℃に保ちながら３時間反応させ、次いで２５℃まで冷却
する。上記混合物に攪拌下でＣＨ₂ Ｃｌ₂ １４００ｍｌ
および水中５０％ＮａＯＨ溶液４２．７ｇを添加し、そ
して４０℃で１時間反応させ、次いでこれを２５℃まで
冷却する。水２０００ｍｌおよび酢酸エチル１４００ｍ
ｌを上記混合物に添加し、有機層を分離し、Ｎａ₂ ＳＯ
₄ 上で乾燥し、そして真空下で濃縮する。ｍ．ｐ．５９
℃（ＤＳＣ）の白色粉末として表題の生成物が得られ
る。

【０１０４】実施例Ａ１３： 攪拌機、温度計、冷縮乾燥管およびガス引き入れ管を装
着した三口フラスコに、３，３，５，５−テトラアルキ
ル−ピペリジン−２，６−ジオン１００ｇ、およびＮ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド５００ｍｌ中第三ブトキシド
カリウム６６ｇを添加する。混合物を５５℃まで加熱
し、そして攪拌下で１，６−ジブロモヘキサン６８．３
ｇを滴下し、更に５時間反応を続け、そして２５℃まで
冷却する。攪拌下、ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ２００ｍｌおよび水２
００ｍｌを混合物に添加し、そして有機層を回収し、Ｎ
ａ₂ ＳＯ₄ 上で乾燥し、そして減圧下で濃縮する。次い
で得られた固体を攪拌機、温度計、冷縮乾燥管およびガ
ス引き入れ管を装着した丸底フラスコ中に第三アミルア
ルコール６００ｍｌおよびパラ−ホルムアルデヒド５２
ｇと一緒に充填する。上記混合物を７５℃まで加熱し、
そして攪拌下でギ酸７８ｇを滴下し、そして温度を７５
℃に保ちながら３時間反応させ、次いで２５℃まで冷却
する。上記混合物に攪拌下でＣＨ₂ Ｃｌ₂ ２０００ｍｌ
および水中５０％ＮａＯＨ溶液７４ｇを添加し、そして
４０℃で１時間反応させ、次いでこれを２５℃まで冷却
する。水３０００ｍｌおよび酢酸エチル２０００ｍｌを
上記混合物に添加し、有機層を分離し、Ｎａ₂ ＳＯ₄ 上
で乾燥し、そして真空下で濃縮する。ｍ．ｐ．９４℃
（ＤＳＣ）の白色粉末として表題の生成物が得られる。

【０１０５】実施例Ａ２４：攪拌機、温度計、冷縮器を
装着した三口フラスコに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド８０ｍｌ、３，３，５，５−テトラアルキル−ピペリ
ジン−２，６−ジオン４２ｇおよび第三ブトキシドカリ
ウム２９ｇを添加する。攪拌下で混合物を４０℃まで加
熱し、次いで温度を８０℃以下に保ちながらＮ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド１５ｍｌ中Ｎ，Ｎ−ビス（２−クロ
ロ−エチル）ホルムアミド１９ｇの溶液をゆっくり滴下
し、そして反応を３時間続ける。反応混合物を２０℃ま
で冷却し、メチレンジクロリド１５０ｍｌおよび水１２
０ｍｌを攪拌下で添加し、有機層を回収し、追加の水２
０ｍｌで洗浄し、そして真空下で濃縮する。次式 に相当する白色固体が回収される。ｍ．ｐ．１３７ない
し１３９℃。

【０１０６】実施例Ａ２５：温度計および冷縮器を装着
したフラスコに実施例Ａ２４の生成物を充填し、３７％
塩酸１２０ｍｌに溶解し、還流温度まで加熱し、そして
３時間反応させる。次いで混合物を真空下で濃縮し、得
られた固体をメチレンジクロリド４００ｍｌに懸濁さ
せ、そして攪拌下で水溶液層が中性になるまで水中Ｎａ
ＯＨ２０％溶液を添加する。有機層を回収し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして真空下で濃縮し、次式 で表される白色固体が得られる。ｍ．ｐ．１０２ないし
１０４℃。

【０１０７】実施例Ａ１７： ＣＨ₂ Ｃｌ₂ １００ｍｌおよび塩化シアヌル９．２ｇを
含む攪拌機、温度計、冷縮器を装着した三口フラスコを
５℃まで冷却し、これに実施例Ａ２５の生成物２０．５
ｇを３０分間以上かけて滴下し、攪拌下で３時間反応さ
せる。水８ｍｌ中ＮａＯＨ２ｇの溶液を反応混合物に添
加し、そして温度を室温に戻す。攪拌下で上記溶液に化
合物２０．５ｇを追加し、これを２時間、還流温度まで
加熱し、２５℃まで冷却し、該反応混合物にＫ₂ ＣＯ₃
１０ｇを添加し、再び３時間、還流温度まで加熱し、そ
して２０℃まで冷却する。次いで上記反応混合物にキシ
レン２０ｍｌ、Ｋ₂ ＣＯ₃ １０ｇおよびＮ，Ｎ−シクロ
ヘキシルブチルアミン７．７ｇを添加し、そして攪拌下
でこれを１６時間、１４２℃まで加熱し、２０℃まで冷
却し、水１２０ｍｌで洗浄し、そして有機層を回収す
る。真空下で溶媒を留去し、ｍ．ｐ．６４ないし６６℃
の白色固体として表題の生成物を得る。

【０１０８】実施例Ａ２１： （式中、Ｒは を表す。） ＣＨ₂ Ｃｌ₂ ３６０ｍｌおよび塩化シアヌル酸３６ｇを
含む攪拌機、温度計、冷縮器を装着した三口フラスコを
５℃まで冷却し、これに実施例Ａ２５の生成物の８０ｇ
を３０分間以上かけて滴下し、そして攪拌下で３時間反
応させる。水９ｍｌ中ＮａＯＨ８．６ｇの溶液を反応混
合物に添加し、そして温度を室温まで戻す。Ｎ，Ｎ−ジ
ブチルアミン２５ｇを攪拌下で溶液に添加し、２時間還
流温度まで加熱する。次いで、反応混合物に水９ｍｌ中
ＮａＯＨ８．６ｇの溶液を添加し、３時間反応させ、混
合物を２０℃まで冷却し、そして有機層を分離し、そし
て水１４０ｍｌで洗浄する。有機層を回収し、溶媒を留
去し、そしてキシレン３００ｍｌおよびビス（ヘキサメ
チレン）トリアミン１４．３ｇを含む攪拌機、温度計、
冷縮器を装着した三口フラスコに得られた固体を充填す
る。次いで反応混合物を１６時間１４２℃まで加熱し、
２０℃まで冷却し、そして水４００ｍｌで洗浄する。次
いで得られた有機層を真空下で濃縮し、ｍ．ｐ．６８な
いし７７℃の白色固体を得る。 元素分析：計算値：Ｃ６１．３，Ｈ８．８，Ｎ２０．４ 実測値：Ｃ６１．０，Ｈ８．７，Ｎ１９．９

【０１０９】実施例Ａ５−Ａ７，Ａ９−Ａ１２，Ａ１４
−Ａ１６，Ａ１８−Ａ２０，Ａ２２およびＡ２３ 適当な抽出物を使用して、上述の実施例に記載された方
法と同様に、以下の化合物を得る。

【０１１０】

【０１１１】Ｂ：使用例 実施例Ｂ１： ポリプロピレンプラック中における光安定
化作用 表１に示されたそれぞれの化合物１ｇおよびトリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、
ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］０．５ｇ、カルシウムステアレート１ｇ、およびフ
ィロフィンブルー(Filofin Blue ) ４Ｇの１ｇを、メル
トインデックス＝３．７ｇ／１０分（２３０℃、２．１
６ｋｇで測定された）を有するポリプロピレン粉末（登
録商標モプレン(Moplen ) ＳＳＦ）１０００ｇと一緒に
ターボミキサーで混合する。

【０１１２】得られた混合物を２００ないし２３０℃の
温度で押出してポリマー粒子を製造し、次いで２００な
いし２２０℃の射出成形により厚さ２ｍｍのプラックに
転換する。表面の脆化（チョーキング）が始まるまで、
ブラックパネル温度（６３±３）℃のモデル６５ＷＲウ
ェザー−オー−メーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８
５）において、得られたプラックを曝露する。概算パラ
メーターＲ_a ＝０．５μｍに到達するまで、更に試料を
曝露する。表面構造の測定装置（登録商標サートロニッ
ク(Surtronic) モデル３＋；Ｌｃ＝０．８ｍｍ；Ｌｎ＝
４．０ｍｍ，Ｌｃは切断された長さを表し、すなわち表
面を特徴付ける不規則さを確認するために使用される参
照ラインの長さであり、そしてＬｎは全体的な評価の長
さである。）を使用して評価を行う。上述されたものと
同様の状態下で、しかし本発明の化合物の添加なしで製
造したポリプロピレンプラックを比較のために曝露す
る。

【０１１３】表１に、必要とされた曝露時間を時間で表
示する。この時間がより長いほど、より良好な安定化効
果を示す。 表１ Ｒ_a ＝０．５μｍに チョーキング時間 安定剤 達する時間（時間） （時間） ─────────────────────────────── 安定剤なし ５００ 実施例Ａ１２の化合物 ３２００ ３４５０ 実施例Ａ１３の化合物 ４０９０ ４０２０ 実施例Ａ１６の化合物 ３５８０ ３４５０

【０１１４】実施例Ｂ２：ポリプロピレンテープ中にお
ける光安定化作用 表２に示されたそれぞれの化合物１ｇ、トリス（２，４
−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエ
リスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５
ｇおよびカルシウムステアレート１ｇを、ポリプロピレ
ン粉末（登録商標モプレン(Moplen)ＳＳＦ，２３０℃、
２．１６ｋｇで測定されたメルトインデックス３．７を
有する）１０００ｇと一緒にターボミキサーで混合す
る。

【０１１５】混合物を２００ないし２２０℃の温度で押
出してポリマー粒子を製造し、次いで半工業用タイプの
装置（登録商標レオナルド−スミラゴ(Leonard-Sumirag
o)(VA)−イタリア）を使用して、そして以下の条件で、
該ポリマー粒子を厚さ５０μｍおよび幅２．５ｍｍの延
伸テープに転換する。 押出温度：２２０ないし２３０℃ 頭部温度：２４０ないし２６０℃ 延伸比： １：６

【０１１６】このようにして製造されたテープを白色カ
ードの上に置き、ブラックパネル温度（６３±３）℃の
ウェザー−オー−メーター６５ＷＲ（ＡＳＴＭ Ｄ２５
６５−８５）において曝露する。一定速度の張力計の方
法により、種々の光曝露時間後に採取された試料におけ
る残存靱性を測定し、これにより初期靱性の半分に達す
るまでに必要とされる時間（Ｔ₅₀）が測定される。

【０１１７】比較のために、上述されたものと同様の条
件下であるが本発明の安定剤の添加なしで製造したテー
プを曝露する。結果を表２に示す。表２ 安定剤 Ｔ₅₀（時間） ─────────────────── 安定剤なし ５００ 実施例Ａ８の化合物 １６４０ 実施例Ａ１０の化合物 １６１０ 実施例Ａ１３の化合物 ２１１０ 実施例Ａ１６の化合物 １９１０

【０１１８】実施例Ｂ３：ポリプロピレン繊維中におけ
る光安定化作用 以下の表３に示された化合物１ｇを、カルシウムステア
レート１ｇ、ＴｉＯ₂（登録商標クロノス(Kuronos) Ｒ
Ｎ５７）２．５ｇおよびカルシウムモノエチル３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート
０．５ｇおよびトリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）ホスフィット０．５ｇと一緒に、ポリプロピレン粉
末（登録商標モプレン(Moplen) ＦＬＦ２０；メルトフ
ローインデックス１２．２ｇ／１０分；２３０℃、２．
１６ｋｇで測定された）１０００ｇとともにターボミキ
サーで混合する。

【０１１９】混合物を１９０ないし２３０℃の温度で押
出して粒子を製造し、次いで半工業用タイプの装置（登
録商標レオナルド−スミラゴ(Leonard-Sumirago)(VA)−
イタリア）を使用して、以下の条件で該ポリマー粒子を
繊維に転換する。 押出温度：２００ないし２３０℃ 頭部温度：２５５℃ 延伸比： １：３．５ カウント：フィラメントに対して１１ｄｔｅｘ

【０１２０】この方法により製造された繊維を、ＡＳＴ
Ｍ Ｄ２５６５−８５に従って、ブラックパネル温度
（６３±３）℃の登録商標ウェザー−オー−メーター
タイプ６５ＷＲにおける白色カードボードに対して曝露
する。種々の曝露時間後に、一定速度張力計の方法によ
り試料の引張強度を測定する。次いで初期の引張強度を
半減するために必要な曝露時間Ｔ₅₀を計算する。結果を
以下の表３に示す。総量のデータは使用されたポリプロ
ピレンの量をベースとする。

【０１２１】表３：引張強度が半減されるまでの曝露時
間（Ｔ₅₀／ｈ） 安定剤 Ｔ₅₀／ｈ ──────────── なし ３００ Ａ２１ １１００ Ａ２２ １２８０ 本発明に従って安定化された繊維は良好な靱性を有す
る。

【０１２２】実施例Ｂ４：ポリエチレンフィルムの安定
化 以下の表４に報告される安定剤をＬＤＰＥペレット（登
録商標リブレン(Riblene) ＦＦ２９；ｄ＝０．９２１ｇ
／ｃｍ；ＭＦＩ（１９０℃／２．１６ｋｇ）＝０．６ｇ
／１０分）とともにターボミキサー中でマスターバッチ
経由で混合する。混合物を２００℃で押出して粒子を
得、圧縮成形により厚さ１５０μｍのフィルムに転換す
る（１７０℃／３分）。２０日間、３０℃でのＷＯＭ曝
露の前に、溶液への直接的な接触ではなく水中に登録商
標バパム(VAPAM) の濃縮溶液（体積部の比率で１：１）
に貯蔵することにより、上記フィルムの幾つかを農薬で
処理する。

【０１２３】登録商標バパム(VAPAM) ( バスリニ(BASLI
NI) Ｓｐａ，トレビグリオ(Treviglio) ／ＢＧ，イタリ
ア）は、構造ＣＨ₃ −ＮＨ−ＣＳ−ＳＮａを有するメタ
ム−ナトリウムのリットル当たり３８２ｇの水溶液であ
る。次いで試料フィルムを石英管中に置き、そしてブラ
ックパネル温度（６３±３）℃の登録商標ウェザー−オ
ー−メーター タイプ６５ＷＲにおける白色カードボー
ドに対して曝露する。フーリエ変換赤外分光光度計によ
り試料中のカルボニルの増加を測定することにより、分
解過程を監視する。カルボニルの増加が高いほど、高い
分解を示す。以下の表４に結果を示す（任意の単位）。
総量のデータは使用されたポリプロピレンの量をベース
とする。

【０１２４】 表４：表示された曝露（ＷＯＭ）後のカルボニル濃度の増加（ｉＣＯ） 安定剤 875h WOM 後のiCO 農薬処理および765h WOM後のiCO ────────────────────────────────── なし ０．４ ０．８ 0.3 % Ａ２１ ０．０３７ ０．０７２ 0.3 % Ａ２２ ０．０４６ ０．０７８ 農薬処理を伴っても、伴わなくても、本発明の安定剤が
ＰＥフィルムの有効な安定化を提供することは明らかで
ある。

【０１２５】実施例Ｂ５：灰色に着色されたポリカーボ
ネート／ＡＢＳブレンドの安定化 ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（１，１−
ジメチルベンジル）フェニル−ベンゾトリアゾール
（Ｃ）１重量％および表５に示された化合物０．５重量
％を添加することにより、グレイ９７７９の１重量％に
より着色された市販のＰＣ／ＡＢＳブレンド（登録商標
シコロイ(Cycoloy) ＭＣ ８００２；ＰＣおよびＡＢＳ
の５０／５０ｗｔ／ｗｔブレンド）を安定化する。ほん
の１重量％のベンゾトリアゾール安定剤を含む試料およ
び安定化されていない試料が比較のために提供される。
ボイ(BOY) ３０機，バレル温度４７５ないし５１５°
Ｆ，ダイ温度５１５°Ｆで、射出成形することによりア
イゾットバー（２．５”Ｌ×０．５”Ｗ×０．１２５”
Ｗ）を製造する。アトラス(Atlas) Ｃｉ６５Ａウェザー
−オー−メーター（ＸＡＷ）を使用し、いずれかの“乾
式ＸＡＷ”モード（ＡＳＴＭ Ｇ２６−９０ 方法Ｃ）
で操作して促進曝露を実行する。規則的な間隔の後で、
ＤＩＮ６１７４に従って色変化ΔＥを決定する。結果を
表５にまとめる。

【０１２６】 表５：表示された照射時間後の灰色に着色されたＰＣの色変化 照射時間： 94.8 h 500.5 h 999.7 h 1249.0 h 安定剤 ΔＥ ΔＥ ΔＥ ΔＥ ─────────────────────────────── なし １．５ ６．９ ９．８ １１．０ Ｃ ０．７ ４．２ ７．７ ９．０ Ｃ＋Ａ１１ ０．５ ３．１ ６．２ ７．２ Ｃ＋Ａ１４ ０．２ ２．３ ５．４ ７．０ Ｃ＋Ａ４ ０．３ ２．１ ５．０ ６．５ Ｃ＋Ａ１７ ０．３ １．７ ４．３ ５．７

【０１２７】実施例Ｂ６：白色に着色されたポリカーボ
ネート／ＡＢＳブレンドの安定化 顔料としてＴｉＯ₂ （登録商標チオナ（Tiona)ＲＣＬ−
４ルチル；ＳＣＭケミカルズ（SCM Chemicals)）を使用
することを除いて、実施例Ｂ５に記載されたように、市
販のＰＣ／ＡＢＳブレンド（登録商標シコロイ(Cycolo
y) ＭＣ ８００２；ＰＣおよびＡＢＳの５０／５０ｗ
ｔ／ｗｔブレンド）から試料を作成する。実施例Ｂ５に
記載されたように曝露試験および評価を行う；結果を表
６にまとめる。

【０１２８】表６：表示された照射時間後の白色に着色
されたＰＣの色変化 照射時間： 499.3 h 999.8 h 1249.3 h 安定剤 ΔＥ ΔＥ ΔＥ ───────────────────────── なし １１．６ ２１．８ ２３．７ Ｃ ６．０ １５．７ １７．４ Ｃ＋Ａ１１ ２．６ １０．２ １１．７ Ｃ＋Ａ１４ ２．３ ９．３ １１．３ Ｃ＋Ａ４ ２．７ ９．６ １１．４ Ｃ＋Ａ１７ ２．２ ９．２ １０．７ 本発明に従って安定化されたＰＣ／ＡＢＳの試料は良好
な色安定性を示す。

【０１２９】実施例Ｂ７：安定化されたＰＣ／ＡＢＳの
光沢およびチップ衝撃強さ 実施例Ｂ５およびＢ６に示されたように製造され、そし
て曝露された試料を更に光沢およびチップ衝撃強さの観
点で評価する。光沢： ２”×２”の射出成形プラックをそれぞれの間隔
で除去し、そして置き換える。測定装置はＢＹＫ−ガー
ドナー−ヘイズ−グロス ラボラトリー リファレンス
インストルメント(Gardner-Haze-Gloss Laboratory R
eference Instrument)である。チップ衝撃強さ： それぞれの試験間隔に対して１０の反
復試験バーを使用し、曝露面に衝突させる。ＴＭＩモニ
ター／インパクトテスターを使用して、ＡＳＴＭ Ｄ４
５０８−９０に従って試験を行う。本発明に従って実施
例Ａ４またはＡ１７の化合物０．５重量％で安定化した
ＰＣ／ＡＢＳ試料は良好な光沢保持性および衝撃強さを
示す。

【０１３０】実施例Ｂ８：２コート金属仕上げの安定化 試験される光安定剤を３０ｇの登録商標ソルベッソ(Sol
vesso)１００に溶解し、以下の組成（重量部）を有する
透明コートで試験する。 登録商標シンタクリル(Synthacryl) SC 303 ¹⁾ ２７．５１ 登録商標シンタクリル(Synthacryl) SC 370 ²⁾ ２３．３４ 登録商標マプレナル(Maprenal) 650 ³⁾ ２７．２９ 酢酸ブチル／ブタノール（37/8） ４．３３ イソブタノール ４．８７ 登録商標ソルベッソ(Solvesso) 150 ⁴⁾ ２．７２ クリスタルオイル(Crystal Oil) K-30 ⁵⁾ ８．７４ 均染助剤 登録商標バイシロン(Baysilon) MA ⁶⁾ １．２０ ────────────────────────────── １００．００

【０１３１】¹ アクリレート樹脂，登録商標ヘキスト(H
oechst) AG；キシレン／ブタノール（２６：９）中６５
％溶液² アクリレート樹脂，登録商標ヘキスト(Hoechst) AG；
登録商標ソルベッソ(Solvesso)100 ⁴ 中７５％溶液³ メラミン樹脂，登録商標ヘキスト(Hoechst) AG；イソ
ブタノール中５５％溶液⁴ 芳香族炭化水素混合物，沸点範囲：１８２ないし２０
３℃（登録商標ソルベッソ(Solvesso) 150）もしくは１
６１ないし１７８℃（登録商標ソルベッソ(Solvesso)10
0 ）；製造元：登録商標エッソ(Esso)⁵ 脂肪族炭化水素混合物，沸点範囲：１４５ないし２０
０℃；製造元：登録商標シェル(Shell)⁶ 登録商標ソルベッソ(Solvesso) 150中１％；製造元：
登録商標バイエル(bayer) AG

【０１３２】ワニスの固体顔料を基準として、透明コー
トに試験される光安定剤１％を添加する。比較のため、
光安定剤が含まれていない透明コートを使用する。透明
コートを登録商標ソルベッソ(Solvesso) 100で希釈して
噴霧粘度とし、用意されたアルミニウム板（登録商標ユ
ニプリムエポキシ(Uniprime Epoxy)，シルバー−メタリ
ックベースコート）に噴霧することにより適用し、これ
を１３０℃で３０分間焼き付けし、透明コートが厚さ４
０ないし５０μｍである乾式フィルムを得る。

【０１３３】次いで、アトラス(Atlas) 登録商標ユブコ
ン(UVCON) 曝露試験装置(UVB-313ランプ）で、７０℃で
４時間の紫外線照射および５０℃で４時間の濃縮からな
るサイクルで試料を曝露する。次いで試料の表面光沢
（ＤＩＮ６７５３０に記載されたような２０°光沢）を
通常の間隔で測定する。結果を表８に示す。 ＊高い値は良好な安定性を示す。 表８に示された結果は、本発明の安定剤で安定化された
試料は安定化されていない試料より良好な曝露安定性
（光沢保持性）を有することを示唆する。

【０１３４】実施例Ｂ９：熱可塑性オレフィンの安定化 顔料、ホスフィット、フェノール系酸化防止剤またはヒ
ドロキシルアミン（ＨＡ）、金属ステアレート、紫外線
光吸収剤（ＵＶＡ）または立体障害性アミン（ＨＡＬ
Ｓ）、あるいは以下に記載されるような紫外線吸収剤お
よび立体障害性アミンの混合物を含む熱可塑性オレフィ
ン（ＴＰＯ）ペレットを射出成形することにより、成形
試験片を製造する。純粋な顔料もしくは顔料濃縮物、安
定剤、補助添加剤および市販で入手可能な熱可塑性オレ
フィンから、４００ ^oＦ（２００℃）で汎用スクリュー
（２４：１Ｌ／Ｄ）を有するスペリオール(Superior)/
ＭＰＭ１" 一軸スクリュー押出機で該成分を混合し、水
浴で冷却し、そしてペレット化することにより、着色さ
れたＴＰＯペレットを製造する。ボイ(BOY) ３０Ｍ射出
成形機で約３７５ ^oＦ（１９０℃）で、得られたペレッ
トを６０ミリ（厚さ０．００６インチ）の２”×２”プ
ラックに成形する。

【０１３５】ゴム変性剤とブレンドされたポリプロピレ
ンからなる着色されたＴＰＯ配合物であって、該ゴム変
性剤がその場で反応するコポリマーであるか、または例
えばエチリデンノルボルネンのような第三の成分を含む
もしくは含まないプロピレンおよびエチレンのコポリマ
ーからなるブレンド生成物である配合物は、有機リン化
合物を伴ってもしくは伴わずにＮ，Ｎ−ジアルキルヒド
ロキシルアミンまたは立体障害性フェノール系酸化防止
剤からなる塩基性安定剤系で安定化される。最終配合物
における全ての安定剤および顔料の濃度は樹脂を基準と
した重量％として表示される。

【０１３６】配合物は、熱可塑性オレフィンペレットお
よび以下の成分の一種もしくはそれ以上を含む。 ０．０％−２．０％の顔料， ０．０％−５０．０％のタルク， ０．０％−０．１％のホスフィット， ０．０％−１．２５％のフェノール系酸化防止剤， ０．０％−０．１％のヒドロキシアミン， ０．０５％−０．１０％のカルシウムステアレート， ０．０％−１．２５％の紫外線吸収剤， ０．０％−１．２５％の立体障害性アミン安定剤（ＨＡ
ＬＳ）。 押出および成形の前にタンブル乾燥機で上記成分を乾式
ブレンドする。

【０１３７】試験プラックを金属板に乗せ、そしてアト
ラス(Atlas) Ｃｉ６５ キセノンアーク ウェザー−オ
ー−メーターにおいて、ブラックパネル温度７０℃，３
４０ｎｍにおいて０．５５Ｗ／ｍ² および５０％湿度
で、断続的な明／暗サイクルおよび水噴霧を使用して曝
露を行う（ソサエティー オブ オートモーティブ エ
ンジニアス(Society of Automotive Engineers) −ＳＡ
Ｅ Ｊ １９６０試験方法）。ＡＳＴＭ Ｄ ２２４４
−７９の参照モードによるアプライド カラーシステム
分光光度計(Applied Color Systems Spectrophotomet
er) において測色を行うことにより、約６２５キロジュ
ール間隔で試験片を試験する。集められたデータにはデ
ルタＥ，Ｌ^* ，ａ^* およびｂ^* の値が含まれる。光沢測
定は、ＡＳＴＭ Ｄ５２３に従ってＢＫＹ−ガードナー
ヘイズ／グロスメーター(BKY-GARDNER Haze/Gloss Me
ter)で６０°で行われる。

【０１３８】紫外線曝露試験 市販で入手可能なポリオレフィンブレンド（ポリトロー
プ(Polytrope) ＴＰＰ５１８−０１；製造元 エー．ス
クルマン(A.Schlman) ，Ｉｎｃ．；アコロン(Akron) ，
オハイオ州，米国）から厚さ６０ミリの２”×２”射出
成形プラックとして製造した試験片を、ＳＡＥ Ｊ １
９６０−外部自動条件下で紫外線照射に曝露する。対照
試料は、一般的に紫外線安定性を分与するために工業的
に使用されるような製品樹脂配合物中に安定剤配合物と
して以下の表に示されるような化合物Ａ、０．２重量％
の化合物Ｂならびにトリス（２，４−ジ−第三ブチルフ
ェニル）ホスフィットおよびペンタエリスリトール テ
トラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート］の１部の１：１の混合
物０．１％を含む。

【０１３９】本発明に従って安定化された試料１ないし
３は塩基性安定剤として製品樹脂配合物中にジアルキル
ヒドロキシアミン０．０５％および化合物Ｃの補助安定
剤０．２重量％を含む。成分Ａはビス（２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケートであ
り；成分Ｂはポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン−
２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］；
ＣＡＳ−Ｎｏ．７０６２４−１８−９であり；化合物Ｃ
は次式 R-NH-(CH₂ )₃-N(R)-(CH₂)₂-N(R)-(CH₂ )₃-NH-R （式中、Ｒは次式 （ＣＡＳ−Ｎｏ．１０６９９０−４３−６）を表す。）
で表されるものである。化合物Ａ、ＢおよびＣは市販の
安定剤である（チバスペシャルティーケミカルズ(Ciba
Specialty Chemicals) Ｉｎｃ．）。

【０１４０】全試料はタルクを１５％の濃度で、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三アミルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを０．２％の濃度で、０．
１％カルシウムステアレートならびにカラーパッケージ
として０．２５％レッド３Ｂおよびピグメントレッド１
７７を含む。Ｃ．Ｉ．＃６５３００。製品配合物中の添
加剤および顔料の濃度は樹脂を基準として重量％で表さ
れる。 試料を本発明のピペリジオンを含む光安定剤系で安定化
した場合、光分解に対して非常に良好な抵抗を示す。全
ての場合において、上述で概説された紫外線曝露条件下
で迅速に衰退する安定化されていない試験片よりも、該
光安定剤配合物は光分解に対してより良好な抵抗を示
す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 15/30 Ｃ０９Ｋ 15/30 // Ｃ０８Ｋ 5/3462 Ｃ０８Ｋ 5/3462 5/3492 5/3492 Ｃ０８Ｌ 101/16 Ｃ０８Ｌ 101/00 (72)発明者 グラジアノ ザグノニ イタリア国，40038 ベルガト（ビーオ ー）， 77，ヴィア ホルナシィ (72)発明者 マッシミリアノ サラ イタリア国，41100 モデナ，136， ヴィ ア エインステイン (72)発明者 ダリオ ラザリ イタリア国，40033 カサレッキオ ジ レノ （ビーオー），15，ヴィア ポルレ ッターナ (72)発明者 ステフェン マーク アンドリュース アメリカ合衆国，06812−2913 コネチカ ット州，ニュー フェアフィールド， イ ースト レーク ロード ５ビー

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）ポリオキシメチレン、ポリカーボ
   ネートとアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンター
   ポリマーのブレンド、ならびに機能性アクリレート樹脂
   および架橋剤をベースとするコーティング系からなる群
   から選択された合成有機ポリマー、および（Ｂ）安定剤
   として次式ＩまたはＩＩ （式中、ｐは１ないし１０の範囲からなり；ｓは１ない
   し８の範囲からなり；ｓが１の場合、Ａは炭素原子数１
   ないし１８のアルキル基；ＮＨ₂ 、ヒドロキシ基、ハロ
   ゲン原子および／もしくはＯＲ₁₀で置換されたか、また
   は−Ｏ−、−ＮＨ−および／もしくは−ＮＲ₁₀−により
   中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基を表す
   か；あるいはＡは−ＣＯＯＲ₁₁またはフェニル基により
   置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表
   し；ｓが２の場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアル
   キレン基；炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基；
   ＯＨの１個もしくはそれ以上により置換され、そして／
   または酸素原子、フェニレン基、炭素原子数１ないし４
   のアルキルフェニレン基、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、 −ＮＨ−および／または−ＮＲ₁₀−の１個もしくはそれ
   以上により中断された炭素原子数３ないし１５のアルキ
   レン基を表し；ｓが３の場合、Ａは炭素原子数３ないし
   １０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換され、そし
   て／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−によ
   り中断された炭素原子数３ないし１２のアルカントリイ
   ル基；あるいは次式（ＩＩＩａ）ないし（ＩＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
   子数４ないし１０のアルカンテトリル基；ＯＨにより置
   換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−
   ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数４ないし１２のア
   ルカンテトリル基；あるいは次式（ＩＶａ）ないし（Ｉ
   Ｖｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
   子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数５ないし１２の
   アルカンペンタイル基；あるいは次式（Ｖａ）ないし
   （Ｖｃ） で表される基の一種を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原
   子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６ないし１２の
   アルカンヘキサイル基；あるいは次式（ＶＩａ）ないし
   （ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
   子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数７ないし１２の
   アルカンヘプタイル基；あるいは次式（ＶＩＩａ）ない
   し（ＶＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが８の場合、Ａは炭素原
   子数８ないし１０のアルカンオクタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数８ないし１２の
   アルカンオクタイル基；あるいは次式（ＶＩＩＩａ）な
   いし（ＶＩＩＩｂ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
   り；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立して炭素
   原子数１ないし４のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁
   およびＲ₂ またはＲ₃ およびＲ₄ はそれらが結合してい
   る炭素原子と一緒になってシクロペンチルまたはシクロ
   ヘキシル環を形成し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１な
   いし１８のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ Ｃ
   Ｎ；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子
   数５ないし１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数３な
   いし８のアルケニル基；炭素原子数３ないし８のアルキ
   ニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキル
   基；炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭素原子
   数１ないし４のアルコキシ基から選択された基の１、２
   または３個によりフェニル環上で置換された炭素原子数
   ７ないし１５のフェニルアルキル基；炭素原子数７ない
   し１５のフェニルアルコキシ基；炭素原子数１ないし４
   のアルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコキシ
   基から選択された基の１、２または３個によりフェニル
   環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェニルア
   ルコキシ基を表すか；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ない
   し８のアルカノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケ
   ノイル基；炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキ
   シ基；グリシジル基；または基−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−
   Ｇ（式中、Ｇは水素原子、メチル基またはフェニル基を
   表す。）を表し；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、
   Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立して炭
   素原子数１ないし４のアルキレン基を表し；Ｒ₁₀は炭素
   原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし８
   のアルカノイル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
   ルキル基；未置換の、または炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコキシ基か
   ら選択された基によりフェニル環上で置換された炭素原
   子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し；あるい
   はＲ₁₀は、ＯＨ、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ
   基および／またはベンゾフェノニル残基もしくはベンゾ
   フェノニルオキシ残基（ベンゾフェノン部分のフェニル
   環の一方もしくは両方は未置換またはＯＨ、ハロゲン原
   子、炭素原子数１ないし４のアルキル基および／もしく
   は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基により置換さ
   れている。）により置換された炭素原子数１ないし８の
   アルキル基または炭素原子数１ないし８のアルカノイル
   基を表し；Ｒ₁₁は炭素原子数１ないし１８のアルキル
   基；ＮＨ₂ 、ＮＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂、ニトロ基、ヒド
   ロキシ基および／または炭素原子数１ないし１８のアル
   コキシ基により置換された炭素原子数２ないし１８のア
   ルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基；炭
   素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数
   １ないし４のアルキル基により置換され、そして／また
   は−Ｏ−により中断された炭素原子数５ないし１２のシ
   クロアルキル基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独立
   して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨによ
   り置換され、そして／または酸素原子、フェニレン基、
   炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−ＮＨ
   −もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３な
   いし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数３な
   いし１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換され、
   そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−
   により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカント
   リイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし１０のアル
   カンテトリル基；ＯＨにより置換され、そして／または
   酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断され
   た炭素原子数４ないし１２のアルカンテトリル基を表
   し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアルカンペンタイ
   ル基；ＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、
   −ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子
   数５ないし１２のアルカンペンタイル基を表し；Ｒ₁₉は
   炭素原子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；ＯＨ
   により置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−も
   しくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６ないし
   １２のアルカンヘキサイル基を表し；Ｘは−Ｏ−、−Ｎ
   Ｈ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、
   Ｘ₄ 、Ｘ₅ 、Ｘ₆ 、Ｘ₇ およびＸ₈ は互いに独立して−
   Ｏ−または−ＮＨ−を表し；Ｙは−Ｏ−または次式 で表される残基を表し；Ｚはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
   ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基を意味し；Ｚ₁ はＺに関して与えられた意味
   の一つを有するか、または−Ｘ−Ｒ’₁₅−ＸＨを表し；
   そしてＺ₂ は水素原子または次式 で表される残基を表す。）で表される化合物からなる組
   成物。
2. 【請求項２】 成分（Ａ）のポリカーボネートとアクリ
   ロニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマーのブレ
   ンドが、ポリカーボネート１０ないし９０重量部とアク
   リロニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマー９０
   ないし１０重量部のブレンドである請求項１記載の組成
   物。
3. 【請求項３】 更なる成分（Ｃ）として、ベンゾトリア
   ゾール、ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンおよ
   び／またはベンゾフェノンの類からの紫外線吸収剤を含
   む請求項１記載の組成物。
4. 【請求項４】 式Ｉで表される化合物（成分Ｂ）におい
   て、ｓは２ないし６の範囲からなり；ｓが２である場
   合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨ
   により置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−も
   しくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし
   １２のアルキレン基を表すか；式−Ｒ₈ −ＣＯＯ−Ｒ₁₂
   −ＯＣＯ−Ｒ₉ −（ＩＩａ）で表される基を表し；ｓが
   ３である場合、Ａは次式（ＩＩＩａ） で表される基を表し；ｓが４である場合、Ａは次式（Ｉ
   Ｖａ）または（ＩＶｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５である場合、Ａは次
   式（Ｖａ） で表される基を表し；ｓが６である場合、Ａは次式（Ｖ
   Ｉｂ）ないし（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
   り；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立してメチ
   ル基を表し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし１８
   のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；炭素原子数１ないし
   １８のアルコキシ基；炭素原子数５ないし１２のシクロ
   アルコキシ基；炭素原子数３ないし８のアルケニル基を
   表すか；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のアルカ
   ノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基；炭
   素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；グリシ
   ジル基；または基−ＣＨ ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇ
   は水素原子、メチル基またはフェニル基を表す。）を表
   し；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、
   Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
   し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原
   子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし
   １２のシクロアルキル基を表し；Ｒ₁₂は炭素原子数２な
   いし１０のアルキレン基を表すか；あるいは酸素原子、
   −ＮＨ−または−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
   ３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅
   は互いに独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン
   基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし１０のアルカンテ
   トリル基を表し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアル
   カンペンタイル基を表し；Ｘは−Ｏ−、−ＮＨ−または
   −Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ 、
   Ｘ₅ 、Ｘ₆ 、Ｘ₇ およびＸ₈ は互いに独立して−Ｏ−ま
   たは−ＮＨ−を表し；そしてＺはＮＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）
   ₂ または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を意味す
   る請求項１記載の組成物。
5. 【請求項５】 次式（Ｉ’）または（ＩＩ） （式中、ｐは１ないし１０の範囲からなり；ｓは１ない
   し８の範囲からなり；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互
   いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
   し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキ
   ル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ ＣＮ；炭素原子数１な
   いし１８のアルコキシ基；炭素原子数５ないし１２のシ
   クロアルコキシ基；炭素原子数３ないし８のアルケニル
   基；炭素原子数３ないし８のアルキニル基；炭素原子数
   ７ないし１２のフェニルアルキル基；炭素原子数１ない
   し４のアルキル基および炭素原子数１ないし４のアルコ
   キシ基から選択された基の１、２または３個によりフェ
   ニル環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェニ
   ルアルキル基；炭素原子数７ないし１５のフェニルアル
   コキシ基；炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭
   素原子数１ないし４のアルコキシ基から選択された基の
   １，２または３個によりフェニル環上で置換された炭素
   原子数７ないし１５のフェニルアルコキシ基を表すか；
   あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のアルカノイル
   基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル基；炭素原子
   数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；グリシジル
   基；または基−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇは水
   素原子、メチル基またはフェニル基を表す。）を表し；
   ｓが１の場合、ＡはＯＲ₃₀により置換された炭素原子数
   ２ないし１８のアルキレン基を表し、Ｒ ₃₀はベンゾフェ
   ノニル残基またはベンゾフェノニルオキシ残基により置
   換された炭素原子数１ないし８のアルキル基または炭素
   原子数１ないし８のアルカノイル基を表し、ベンゾフェ
   ノン部分の一方または両方のフェニル環は未置換である
   かまたはＯＨ、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４の
   アルキル基および／または炭素原子数１ないし１８のア
   ルコキシ基により置換されており；ｓが２の場合、Ａは
   ＯＨの１個またはそれ以上により置換され、そして／ま
   たは酸素原子、 −ＮＨ−、および／または−ＮＲ₁₀−の１個もしくはそ
   れ以上により中断された炭素原子数３ないし１５のアル
   キレン基を表すか；あるいはＡはＯＨにより置換され、
   そしてフェニレン基、炭素原子数１ないし４のアルキル
   フェニレン基、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−により中断さ
   れた炭素原子数３ないし１５のアルキレン基を表すか；
   あるいはＡは炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基
   または次式（ＩＩａ）ないし（ＩＩｅ） で表される基の一種を表し、そしてＲ₅ が水素原子を表
   さない場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン
   基；フェニレン基または炭素原子数１ないし４のアルキ
   ルフェニレン基により中断された炭素原子数２ないし１
   ０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子
   数３ないし１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換
   され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−Ｎ
   Ｒ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２のアル
   カントリイル基；あるいは次式（ＩＩＩａ）ないし（Ｉ
   ＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
   子数４ないし１０のアルカンテトリル基；ＯＨにより置
   換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−
   ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数４ないし１２のア
   ルカンテトリル基；あるいは次式（ＩＶａ）ないし（Ｉ
   Ｖｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
   子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数５ないし１２の
   アルカンペンタイル基；あるいは次式（Ｖａ）ないし
   （Ｖｃ） で表される基の一種を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原
   子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６ないし１２の
   アルカンヘキサイル基；あるいは次式（ＶＩａ）ないし
   （ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
   子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数７ないし１２の
   アルカンヘプタイル基；あるいは次式（ＶＩＩａ）ない
   し（ＶＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが８の場合、Ａは炭素原
   子数８ないし１０のアルカンオクタイル基；ＯＨにより
   置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは
   −ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数８ないし１２の
   アルカンオクタイル基；あるいは次式（ＶＩＩＩａ）な
   いし（ＶＩＩＩｂ） で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１であ
   り；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、
   Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
   し、そしてＲ₅ が水素原子を表さない場合、付加的にエ
   チレン基も含み；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキ
   ル基、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原
   子数５ないし１２のシクロアルキル基；未置換の、もし
   くは炭素原子数１ないし４のアルキル基および炭素原子
   数１ないし４のアルコキシ基から選択された基によりフ
   ェニル環上で置換された炭素原子数７ないし１５のフェ
   ニルアルキル基を表し；Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は互いに
   独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨ
   により置換され、そして／または酸素原子、フェニレン
   基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−
   ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
   ３ないし１２のアルキレン基；炭素原子数４ないし１２
   のアルケニレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独
   立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨに
   より置換され、そして／または酸素原子、フェニレン
   基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−
   ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
   ３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数
   ３ないし１０のアルカントリイル基；ＯＨにより置換さ
   れ、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ
   ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカ
   ントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし１０の
   アルカンテトリル基；ＯＨにより置換され、そして／ま
   たは酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断
   された炭素原子数４ないし１２のアルカンテトリル基を
   表し；Ｒ₁₈は炭素原子数５ないし１０のアルカンペンタ
   イル基；ＯＨにより置換され、そして／または酸素原
   子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素
   原子数５ないし１２のアルカンペンタイル基を表し；Ｒ
   ₁₉は炭素原子数６ないし１０のアルカンヘキサイル基；
   ＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ
   −もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数６な
   いし１２のアルカンヘキサイル基を表し；Ｘは−Ｏ−、
   −ＮＨ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ
   ₃ 、Ｘ₄ 、Ｘ₅ 、Ｘ₆ は互いに独立して−Ｏ−または−
   ＮＨ−を表し；Ｙは−Ｏ−または次式 で表される残基を表し；Ｚはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
   ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基を意味し；Ｚ₁ はＺに関して与えられた意味
   の一つを有するか、または−Ｘ−Ｒ’₁₅−ＸＨを表し、
   そしてＺ₂ は水素原子または次式 で表される残基を表す。）で表される化合物。
6. 【請求項６】 ｐが２ないし６の範囲からなり；ｓが２
   ないし８の範囲からなり；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄
   は互いに独立してメチル基またはエチル基を表し；Ｒ₅
   は水素原子；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；オ
   キシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ ＣＮ；炭素原子数１ないし１８
   のアルコキシ基；炭素原子数５ないし１２のシクロアル
   コキシ基；炭素原子数３ないし８のアルケニル基；炭素
   原子数７ないし１２のフェニルアルキル基；炭素原子数
   ７ないし１５のフェニルアルコキシ基を表し；あるいは
   Ｒ₅ は炭素原子数１ないし８のアルカノイル基；炭素原
   子数３ないし５のアルケノイル基；炭素原子数１ないし
   １８のアルカノイルオキシ基；グリシジル基；または−
   ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式中、Ｇは水素原子、メチル
   基またはフェニル基を表す。）を表し；ｓが２の場合、
   ＡはＯＨにより置換され、そして／または酸素原子、−
   ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数
   ３ないし１２のアルキレン基；炭素原子数４ないし１２
   のアルケニレン基；または次式（ＩＩａ）ないし（ＩＩ
   ｅ） で表される基の一種を表し、そしてＲ₅ が水素原子を表
   さない場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン
   基；フェニレン基または炭素原子数１ないし４のアルキ
   ルフェニレン基により中断された炭素原子数２ないし１
   ０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子
   数３ないし１０のアルカントリイル基；または次式（Ｉ
   ＩＩａ）ないし（ＩＩＩｄ） で表される基の一種を表し；ｓが４の場合、Ａは炭素原
   子数４ないし１０のアルカンテトリル基；または次式
   （ＩＶａ）ないし（ＩＶｄ） で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭素原
   子数５ないし１０のアルカンペンタイル基；または次式
   （Ｖａ） で表される基を表し；ｓが６の場合、Ａは炭素原子数６
   ないし１０のアルカンヘキサイル基；または次式（ＶＩ
   ｂ）ないし（ＶＩｆ） で表される基の一種を表し；ｓが７の場合、Ａは炭素原
   子数７ないし１０のアルカンヘプタイル基を表し；ｓが
   ８の場合、Ａは炭素原子数８ないし１０のアルカンオク
   タイル基；または式（ＶＩＩＩａ）ないし（ＶＩＩＩ
   ｂ）で表される基の一種を表し；指数ｉは０または１で
   あり；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ
   ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表
   し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原
   子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし
   １２のシクロアルキル基；炭素原子数７ないし１５のフ
   ェニルアルキル基を表し；Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は互い
   に独立して炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；Ｏ
   Ｈにより置換され、そして／または酸素原子、−ＮＨ−
   もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ない
   し１２のアルキレン基；炭素原子数４ないし１２のアル
   ケニレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独立して
   炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；ＯＨにより置
   換され、そして／または酸素原子、フェニレン基、炭素
   原子数１ないし４のアルキルフェニレン基、−ＮＨ−も
   しくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし
   １２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数３ないし
   １０のアルカントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４
   ないし１０のアルカンテトリル基を表し；Ｒ₁₈は炭素原
   子数５ないし１０のアルカンペンタイル基を表し；Ｘは
   −Ｏ−、−ＮＨ−または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、
   Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ 、Ｘ₅ は互いに独立して−Ｏ−または
   −ＮＨ−を表し；そしてＺはハロゲン原子、ＮＨ₂ 、Ｎ
   ＨＲ₁₀、Ｎ（Ｒ₁₀）₂ または炭素原子数１ないし４のア
   ルコキシ基を意味する請求項５記載の式（Ｉ’）または
   （ＩＩ）で表される化合物。
7. 【請求項７】 ｓが２ないし６の範囲からなり；Ｒ₁ 、
   Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立してメチル基または
   エチル基を表し；Ｒ₅ は水素原子；炭素原子数１ないし
   １８のアルキル基；オキシル基；ＯＨ；ＣＨ₂ ＣＮ；炭
   素原子数１ないし１８のアルコキシ基；炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルコキシ基；炭素原子数３ないし８
   のアルケニル基；炭素原子数７ないし１２のフェニルア
   ルキル基；炭素原子数７ないし１５のフェニルアルコキ
   シ基を表し；あるいはＲ₅ は炭素原子数１ないし８のア
   ルカノイル基；炭素原子数３ないし５のアルケノイル
   基；炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基；
   グリシジル基；または−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）−Ｇ（式
   中、Ｇは水素原子、メチル基またはフェニル基を表
   す。）を表し；ｓが２の場合、ＡはＯＨにより置換さ
   れ、そして／または酸素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ
   ₁₀−により中断された炭素原子数３ないし１２のアルキ
   レン基；炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基；ま
   たは次式（ＩＩａ） で表される基を表し、そしてＲ₅ が水素原子を表さない
   場合、Ａは炭素原子数２ないし１０のアルキレン基も含
   み；ｓが３の場合、Ａは炭素原子数３ないし１０のアル
   カントリイル基；または式（ＩＩＩａ）、（ＩＩＩｂ）
   または（ＩＩＩｄ）で表される基の一種を表し；ｓが４
   の場合、Ａは炭素原子数４ないし１０のアルカンテトリ
   ル基；または式（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）または（ＩＶ
   ｄ）で表される基の一種を表し；ｓが５の場合、Ａは炭
   素原子数５ないし１０のアルカンペンタイル基を表し；
   ｓが６の場合、Ａは式（ＶＩｂ）ないし（ＶＩｆ）で表
   される基の一種を表し；指数ｉは０または１であり；Ｒ
   ₈ およびＲ₉ 、ならびにＲ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂
   およびＲ₃₃は互いに独立してメチレン基を表し；Ｒ₁₀は
   炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ない
   し８のアルカノイル基、炭素原子数５ないし１２のシク
   ロアルキル基を表し；Ｒ₁₂は炭素原子数２ないし１０の
   アルキレン基；ＯＨにより置換され、そして／または酸
   素原子、−ＮＨ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された
   炭素原子数３ないし１２のアルキレン基を表し；Ｒ₁₅お
   よびＲ’₁₅は互いに独立して炭素原子数２ないし１０の
   アルキレン基を表し；Ｒ₁₆は炭素原子数３ないし１０の
   アルカントリイル基を表し；Ｒ₁₇は炭素原子数４ないし
   １０のアルカンテトリル基を表し；Ｘは−Ｏ−、−ＮＨ
   −または−Ｎ（Ｒ₁₀）−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ
   ₄ は互いに独立して−Ｏ−または−ＮＨ−を表し；そし
   てＺはＮＨＲ₁₀またはＮ（Ｒ₁₀）₂ を意味する請求項５
   記載の式（Ｉ’）で表される化合物。
8. 【請求項８】 ｓが２、３、４または６であり；Ｒ₁ 、
   Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ はメチル基を表し；Ｒ₅ は水素原
   子；炭素原子数１ないし８のアルキル基；炭素原子数１
   ないし１８のアルコキシ基；シクロヘキシルオキシ基；
   アリル基；ベンジル基；アセチル基；炭素原子数３ない
   し４のアルケノイル基；グリシジル基を表し；ｓが２の
   場合、ＡはＯＨにより置換され、または酸素原子、−Ｎ
   Ｈ−もしくは−ＮＲ₁₀−により中断された炭素原子数３
   ないし１０のアルキレン基；または式−Ｒ₈ −ＣＯＯ−
   Ｒ₁₂−ＯＣＯ−Ｒ₉ −（ＩＩａ）で表される基を表し；
   そしてＲ₅ が水素原子を表さない場合、Ａは炭素原子数
   ２ないし１０のアルキレン基も含み；ｓが３の場合、Ａ
   は式（ＩＩＩａ）で表される基を表し；ｓが４の場合、
   Ａは式（ＩＶａ）または（ＩＶｄ）で表される基を表
   し；ｓが６の場合、Ａは式（ＶＩｅ）で表される基を表
   し；指数ｉは０であり；Ｒ₈ およびＲ₉ 、ならびに
   Ｒ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂およびＲ₃₃はメチレン基
   を表し；Ｒ₁₀は炭素原子数１ないし８のアルキル基、ホ
   ルミル基、アセチル基またはシクロヘキシル基を表し；
   Ｒ₁₂は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基；または
   酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１０のア
   ルキレン基を表し；Ｒ₁₅およびＲ’₁₅は互いに独立して
   炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を表し；Ｒ₁₇は
   炭素原子数４ないし１０のアルカンテトリル基を表し；
   Ｘは−ＮＨ−を表し；Ｘ₁ 、Ｘ₂ 、Ｘ₃ 、Ｘ₄ は−Ｏ−
   を表し；そしてＺはＮ（Ｒ₁₀）₂ を意味する請求項５記
   載の式（Ｉ’）で表される化合物。
9. 【請求項９】 Ａ）光、酸素および／または熱により損
   傷を受けやすい有機材料、ならびにＢ）安定剤として請
   求項５記載の式Ｉ’またはＩＩで表される化合物からな
   る組成物。
10. 【請求項１０】 有機材料として熱可塑性有機ポリマー
    またはコーティングもしくは写真材料のためのバインダ
    ーを含む請求項９記載の組成物。
11. 【請求項１１】 安定化させる材料を基準として０．１
    ないし１０重量％の成分Ｂの安定剤を含む請求項９記載
    の組成物。
12. 【請求項１２】 溶媒、顔料、染料、可塑剤、酸化防止
    剤、安定剤、チキソトロープ剤、均染助剤、更なる光安
    定剤、金属受容体、ホスフィットおよびホスホナイトか
    ら選択された更なる成分を含む請求項９記載の組成物。
13. 【請求項１３】 更なる成分として、２−ヒドロキシフ
    ェニルトリアジンおよび／または２−ヒドロキシフェニ
    ルベンゾトリアゾールの類からの光安定剤を含む請求項
    １２記載の組成物。
14. 【請求項１４】 光、酸素および／または熱による損傷
    に対して有機材料を安定化する方法であって、請求項５
    記載の式Ｉ’またはＩＩで表される化合物の少なくとも
    一種を該材料に添加または塗布することからなる方法。
15. 【請求項１５】 光、酸素および／または熱による損傷
    に対して有機材料を安定化するために請求項５記載の式
    Ｉ’またはＩＩで表される化合物を使用する方法。