JP2000048162A - Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法 - Google Patents

Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法

Info

Publication number
JP2000048162A
JP2000048162A JP25404198A JP25404198A JP2000048162A JP 2000048162 A JP2000048162 A JP 2000048162A JP 25404198 A JP25404198 A JP 25404198A JP 25404198 A JP25404198 A JP 25404198A JP 2000048162 A JP2000048162 A JP 2000048162A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
support member
thermoplastic resin
groove
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25404198A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriaki Sakamoto
則明 坂本
Hisashi Shimizu
永 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP25404198A priority Critical patent/JP2000048162A/ja
Publication of JP2000048162A publication Critical patent/JP2000048162A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の熱硬化性樹脂を使ったモールド方法で
はサイクル時間がかかり、またサイクル時間が短い熱可
塑性樹脂では溶融温度が高く、射出圧力が高い等の問題
からチップの割れ、金属細線の断線等の問題があった。 【解決手段】 第1の支持部材12を予め成型してお
き、この上に混成集積回路基板1を載置し、この混成集
積回路基板1が載置された第1の支持部材12を金型に
配置し、再度熱可塑性樹脂2でモールドした。注入され
た高熱の熱可塑性樹脂2は、第1の支持部材12と当た
り、当たった部分は、その表面が溶け出す。従って基板
裏面を覆ったフルモールドが可能となる。また半導体チ
ップやコイルの導出部にはエポキシのポッティングを施
した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に固化時間が短
い熱可塑性樹脂を採用したICカード、混成集積回路装
置およびこれらの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ICカードは、最近色々な所で活用され
てきている。例えばクレジットカードから始まり、スキ
ー場のリフト券、電車のチケット、またはスイミングプ
ールの回数券等にも要求があり、過酷な条件でも使用で
きることが望ましい。
【0003】しかし封止方法としては、一般に、2種類
の方法がコストメリットの点から採用されている。1つ
は、半導体素子等の回路素子が実装された絶縁性基板の
上に蓋をかぶせるような手段、一般にはケースと呼ばれ
ているものを採用して封止しているものがある。この構
造は、中空構造やこの中に別途樹脂が注入されている。
【0004】2つ目は、半導体ICのモールド方法とし
て有名なトランスファーモールドである。このトランス
ファーモールドは、一般に熱硬化性樹脂を採用し、金型
を約180度まで上昇させ、この温度を維持して硬化
(以下熱で反応して重合し固化する現象を指す。)さ
せ、その後金型から取り出し封止体としている。ここで
リードフレームへのICチップ実装には、半田が使用さ
れるが、一般に高温半田であり、半田溶融の問題はな
い。
【0005】しかしながら、ケース材を使った封止構造
は、ケース材と中の素子が接触しないように基板にマー
ジンを取ったりして外形サイズが大きくなる問題があっ
た。
【0006】一方、トランスファーモールドは、前述の
説明からも判るとおり、熱を加えながら硬化させるため
に、この工程に長い時間が必要となり、生産性を向上さ
せることができない問題があった。
【0007】そこで本出願人は、時間がそれほどかから
ない熱可塑性樹脂に着目した。これは硬化反応をせず、
熱を加えることで溶融し、冷やせば固化(以下反応せず
に固まる現象を指す。)するものである。従って注入
後、冷やせば固化し、短時間で封止が実現できる。しか
し熱可塑性樹脂を例えばインジェクションモールドで封
止する場合、注入する際の樹脂温度が約300度と高
く、半田が溶けて、絶縁性基板に実装された回路素子の
電気的接続に不良を発生する問題があった。
【0008】ここで、高温半田を使用すればよいが、導
電パターン下の絶縁樹脂の劣化を考えると、低融点半田
が好ましい。そこで本発明は、180度〜250度程度
の半田を採用することを前提に以下述べてゆく。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】一般には、絶縁性基板
の裏面が露出するものであり、ICカード用絶縁性基板
と取り付けシャーシー(ICカード用モジュールの取り
付け体)との絶縁性に問題があった。また露出されるI
Cカード用絶縁性基板裏面とその周囲を封止した熱可塑
性樹脂との界面に於いて、湿気の浸入による耐湿性に問
題があった。
【0010】また熱伝導性の劣る基板、例えばプリント
基板、フレキシブルシート、ガラス基板またはセラミッ
ク基板等を用いると半田が溶け出す問題があった。
【0011】更にはトランスファモールドを用いたフル
モールドの際は、前記絶縁性基板裏面に樹脂を回り込ま
せるため、基板裏面と金型との間に間隔を設けていた。
そのため、ピンを用いたり、金型で挟んで前記間隔を設
けていたが、熱可塑性樹脂を用いるインジェクションモ
ールドでは、射出圧力が50〜200Kg/cm2と高
いため、絶縁性基板が曲がったり、ボンディングワイヤ
ーが切断する等の問題があった。
【0012】またピンで支えた所にピンの跡が残り、外
観が悪くなる問題があった。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点
に鑑み成されたもので、第1に、少なくとも基板が上面
に載置される領域を有した熱可塑性樹脂より成る第1の
支持部材と、前記第1の支持部材の露出部が溶融して一
体化された熱可塑性樹脂より成る封止部材とを有するこ
とで解決するものである。
【0014】第2に、少なくとも基板およびコイルが上
面に載置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑
性樹脂より成る第1の支持部材と、基板を実質密封する
ように、前記第1の支持部材の露出部が溶融して一体化
された熱可塑性樹脂より成る封止部材とを有することで
解決するものである。
【0015】第1、第2ともに、熱可塑性樹脂は、或る
温度に達すると溶け、冷えると固化する材質であるた
め、予め金型に配置された熱可塑性樹脂より成る第1の
支持部材は、注入される熱可塑性樹脂の熱を受けて溶
け、一体化される。従ってICカード用絶縁性基板は、
第1の支持部材と注入される熱可塑性樹脂で一体モール
ドされ、基板裏面を覆うことができ、耐電圧特性および
耐湿性を向上させることができる。
【0016】第3に、前記半田を覆って設けられた熱硬
化性樹脂と、前記基板を実質密封するように、前記第1
の支持部材の露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹
脂より成る封止部材とを有することで解決するものであ
る。
【0017】前記熱可塑性樹脂の溶融温度は、およそ3
00度と非常に高いが、半田の部分に樹脂を塗布するこ
とで、直接溶融された注入樹脂の熱が伝わらず、半田の
溶融を防止できる。
【0018】第4に、少なくとも基板およびコイルが上
面に載置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑
性樹脂より成る第1の支持部材と、前記第1の溝に実装
され、表面に設けられた導電パターンと電気的に接続さ
れた半導体ICを有する前記基板と、前記第2の溝に実
装され、前記基板の導電パターンと電気的に接続された
コイルと、前記溝を埋めて設けられた熱硬化性樹脂と、
前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
止部材とを有することで解決するものである。
【0019】前述した半田の溶融防止の他に、熱可塑性
樹脂の射出圧力は、例えばPPS樹脂では、約50〜2
00Kg/cm2に及び、コイルや絶縁性基板のズレを
発生するが、溝に埋め込まれているために、このズレを
防止できる。
【0020】第5に、少なくとも基板が上面に載置され
る領域を有し、側面には、金型と面、線または点で当接
する手段を有する熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材
と、基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
止部材とを有することで解決するものである。
【0021】熱可塑性樹脂で一体モールドされ、基板裏
面を覆うことができ、耐電圧特性および耐湿性を向上さ
せることができる。しかも第1の支持部材の側面に前記
当接する手段を設ければ、注入樹脂を支持部材の側面や
裏面まで延在させることができ、第1の支持手段の露出
領域を少なくでき更に耐湿性を向上できる。
【0022】第6に、少なくとも基板およびコイルが上
面に載置される第1の溝および第2の溝を有し、側面に
は、金型と面、線または点で当接する手段を有する熱可
塑性樹脂より成る第1の支持部材と、前記第1の溝に実
装され、表面に設けられた導電パターンと電気的に接続
された半導体ICを有する前記基板と、前記第2の溝に
実装され、前記基板の導電パターンと電気的に接続され
たコイルと、前記基板を実質密封するように、前記第1
の支持部材の露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹
脂より成る封止部材とを有することで解決するものであ
る。
【0023】前述の効果の他に、溝が形成されこの中に
部品が実装されるため、熱可塑性樹脂特有の高射出圧力
でも部品のズレが無く、不良等を防止できる。
【0024】第7に、第1の支持部材と前記封止部材の
厚みは、前記第1の支持部材の反りが防止できるよう
に、前記封止部材の厚みを薄くすることで解決するもの
である。
【0025】溶融された熱可塑性樹脂が固化する際収縮
しても、第1の支持部材の強度により本ICカード用モ
ジュールの反りを防止できる。
【0026】第8に、表面が絶縁処理され、この上に設
けられた導電パターンと、この導電パターンと電気的に
接続された半導体素子または受動素子とを有する基板を
用意し、 前記基板が実装され、側面には、金型と面、
線または点で当接する手段を有した熱可塑性樹脂より成
る第1の支持部材をその裏面が一方の金型に当接するよ
うに保持し、 前記一方の金型と他方の金型により形成
される空間に、溶融された熱可塑性樹脂を注入し、この
溶融された熱により前記第1の支持部材の露出部を溶融
して一体成型することで解決するものである。
【0027】予め第1の支持部材を用意しておくため、
部品裏面に空間を設けて配置するような複雑な構造を取
り入れなくても良い。従って樹脂の高射出圧力により絶
縁性基板やコイル等にかかる圧力により発生する不良が
防止できる。第9に、表面が絶縁処理され、この上に設
けられた導電パターンと、この導電パターンと電気的に
接続された半導体素子または受動素子とを有する基板を
用意し、 前記基板が実装された熱可塑性樹脂より成る
第1の支持部材をその裏面が一方の金型に当接するよう
に保持し、 前記一方の金型と他方の金型により形成さ
れる空間に、溶融された熱可塑性樹脂を注入し、前記第
1の支持部材の反りが防止できるように、前記第1の支
持部材の厚みよりも薄く成るように一体成型することで
解決するものである。
【0028】前述同様に、溶融された熱可塑性樹脂が固
化する際収縮しても、第1の支持部材の強度により本I
Cカード用モジュールの反りを防止できる第10、11
として、被封止材料(半導体ベアチップ、金属細線また
はコイル)と反応する第1の樹脂でポッティングし、こ
れも含めて前記熱可塑性樹脂で封止することで解決する
ものである。
【0029】第1の樹脂が被封止素子と反応するため、
第1の支持部材が熱で反ってもスリップが発生しない。
【0030】第12として、第1の支持部材の底面と対
向する前記封止部材の面に、梨地加工を施すことで、支
持部材に設けられた溝が原因で若干のヒケが発生して
も、目視で確認しずらくすることができる。
【0031】第13として、第2の溝を設け、ここにコ
イルを設置することで解決するものである。
【0032】第14として、前記ベアチップを覆うポッ
ティング樹脂を設け、前記ポッティング樹脂表面が露出
しないように前記第1の溝を覆う第2の樹脂を設け、前
記第1の支持部材を金型に配置し、熱可塑性樹脂で前記
第1の支持部材を封止することで、封止の際の注入圧力
がポッティング樹脂を直接加圧し、絶縁性基板をゆがま
せてチップの破壊にいたるのを防止できる。
【0033】
【発明の実施の形態】まず本発明の実施の形態を説明す
る前に、ICカードについて簡単に説明する。一般に
は、薄いプラスチックカードの中に、フラッシュメモリ
等の記憶装置とその周辺回路がICチップまたはハイブ
リッドの形で封止されているものである。またはメモリ
なしのICが封止されているものがある。メモリが含ま
れているものは、データを書き換えて保存するもの、デ
ータを処理装置に与えるものがある。
【0034】またカードは、処理装置との信号のやりと
りで電極が露出されているもの、コネクタが取り付けら
れているもの、またコイルが封止され電極が露出されて
いないものがある。
【0035】ここでは最後のコイルが実装されているも
ので説明してゆくが、電極が露出されるもの、コネクタ
が取り付けられているものでも実施できることは言うま
でもない。
【0036】ではプラスチックカードとして、熱可塑性
樹脂でモールドする場合の着目点を簡単に説明する。
【0037】射出成型時間 トランスファモールドで用いるエポキシ樹脂は、金型の
中で熱硬化反応する間放置する必要があるが、熱可塑性
樹脂は、たんに樹脂を冷やせばよく、成型時間の短縮が
できる。文献では、エポキシの1サイクルが30〜18
0秒に対して、PPSの熱可塑性樹脂では10〜20秒
である。
【0038】樹脂の歩留まり 熱硬化型は、再利用できないが、熱可塑性は、熱を加え
れば再利用でき、ランナー等にある樹脂を回収、再利用
することで収率を向上できる。
【0039】射出成型条件 シリンダー温度:樹脂の溶融温度と実質同じであり、約
290〜320度である。
【0040】金型温度:固化させるために約140〜1
50度である。
【0041】射出圧力:50〜200Kg/cm2つま
りによる問題点をクリアできれば、、によりコス
トの大幅な低減ができる。
【0042】PPS(ポリフェニレンサルファイ
ド):熱可塑性樹脂の一つ この樹脂は、親水基が無いため吸水率はエポキシ樹脂の
半分であるが、リードや素子との密着性は、エポキシ樹
脂から比べると劣る。
【0043】ここで従来のトランスファーモールドで
は、基板の裏面に樹脂を回り込ませるために、基板裏面
と金型の間に隙間を設けなくてはならない。しかしこの
ようにして熱可塑性樹脂を成型する場合、射出圧力によ
り基板が反る問題があり、そのため、図1のように第1
の支持部材1を予め成型しておき、この上にICカード
用絶縁性基板2を載置し、このICカード用絶縁性基板
2が載置された第1の支持部材1を金型に配置し、再度
熱可塑性樹脂3でモールドした。注入された高熱の溶融
している熱可塑性樹脂3は、第1の支持部材1と当た
り、当たった部分は、その表面が溶け出す。従って基板
2裏面を覆ったフルモールドが可能となる。以下で本発
明の第1の実施形態に係るICカード用モジュールにつ
いて図1〜図5を参照しながら説明する。
【0044】図1は、ICカード用絶縁性基板2とコイ
ル4が第1の支持部材1に実装された状態を示し、図2
は、図1のA−A線の断面図を示す。また図3は、図2
に於いて熱可塑性樹脂から成る封止部材3が設けられた
状態を示す。
【0045】まず第1の支持部材1は、予め熱可塑性樹
脂により成型され、この上にはコイル4と絶縁性基板
(少なくとも導電パターンが形成される表面が絶縁処理
されている基板を指す。)2が少なくとも実装されてい
る。これらの実装部品は、裏面に接着剤等が塗布され固
定されても良いが、ここでは第1の溝5、第2の溝6が
第1の支持部材1の成型時に形成され、第1の溝5には
絶縁性基板2が、第2の溝6にはコイル4が装着され、
熱硬化型の樹脂、例えばエポキシ樹脂7が塗布され保護
固定されている。コイル4は、絶縁性基板2の電極8と
半田を介して接続されており、このコイルの導出部9を
形成するために、第1の溝5と第2の溝6は、この導出
部9を介して連続している。
【0046】またコイルは、磁束を発生して相手に信号
を送るのか、磁束を受けて信号をとるのかでコイルの大
きさ(中空部も含めた全体の平面的面積)が異なる。つ
まりここでは信号をコイルで受けるため、コイルを示す
一点鎖線で成るリンクのサイズが磁束を通過する量が増
えるため信号を取りやすくなる。そのため、実質矩形の
第1の支持部材1に、できるだけ大きなサイズのコイル
が載置できるように溝もコイルも構成されている。第1
の支持部材の様に角部が直角であるとコイルの被覆絶縁
膜がやぶれやすいので、角部をいくつかに面取りした形
状にしてある。ここでは角部の面取りを一回して有るた
め、八角形と成っている。
【0047】ここでICカード用絶縁性基板は、セラミ
ック、金属、プリント基板、ガラス基板またはフレキシ
ブルシート等が考えられる。
【0048】特にICカード用絶縁性基板2として、金
属基板やこの金属基板の熱伝導性に近い絶縁基板を採用
すると、熱可塑性樹脂2の注入温度が高いために、金型
内で基板温度が上昇するが、ヒートシンクとして作用す
るため、ICカード用絶縁性基板2上の温度上昇を抑制
し絶縁性基板2上に形成される半田の溶融を防止でき
る。
【0049】また図面では省略しているが、絶縁性基板
2上に例えばCuより成る導電パターンが形成され、ト
ランジスタやIC等の能動素子、チップ抵抗、チップコ
ンデンサ等の受動素子が半田を介して実装され、所定の
回路が実現されている。ここで一部半田を採用せず、銀
ペースト等で電気的に接続されても良い。また前記半導
体素子等がフェイスアップで実装される場合は、ボンデ
イングにより金属細線を介して接続されても良い。
【0050】続いて、図2の状態のものを金型に装着
し、溶融した熱可塑性樹脂3を注入してモールドする。
ここで封止用の熱可塑性樹脂3は、例えばインジェクシ
ョン成型で実現され、樹脂の注入温度が約300度と非
常に高く、半田で実装された回路素子を有するICカー
ド用絶縁性基板2を金型にインサートして一体成形する
場合、注入される高温の樹脂により半田が溶けて素子の
半田不良が発生する問題がある。特に樹脂ベースのプリ
ント基板は、熱伝導率が低いため顕著である。しかし本
願では、熱硬化性樹脂7で覆われているため、半田への
熱伝達を抑制し、この半田の溶融を防止できる。しかも
エポキシ樹脂を用いれば、金属細線のスリップ防止もで
きる。この件については後述する。また第1の支持部材
1の成型の際に、熱可塑性樹脂の中に熱伝導を向上させ
るフィラーを入れれば、この第1の支持部材1自身がヒ
ートシンクとして熱を吸収したりするため、更に半田の
溶融を防止できる。
【0051】ここで熱可塑性樹脂として採用したもの
は、PPS(ポリフェニルサルファイド)と呼ばれるも
のである。金型温度は、トランスファーモールドの金型
温度よりかなり低く、約130度またはそれ以下であ
り、この金型に300度の液状樹脂を注入し、低い温度
の金型により素早く冷却固化される。このサイクルは、
およそ10〜20秒程度で、トランスファーモールドの
サイクル(30〜180秒)から比べれば大幅に短縮が
可能である。
【0052】また前述したが回路素子を実装したICカ
ード用絶縁性基板2を熱可塑性樹脂3で成型する場合、
予め半田の接合部、ボンデイングワイヤーとベアチップ
を熱硬化性樹脂7(例えばエポキし樹脂)でポッティン
グすると良い。更にはこの熱硬化性樹脂は、ICカード
用絶縁性基板の熱膨張係数と同等のものが好ましい。
【0053】つまり前述した対策は、熱可塑性樹脂3の
成型時、注入樹脂圧により、特に金属細線(100μm
以下)が倒れたり、断線したりするのを防止する効果が
ある。一般に、封止材として熱可塑性樹脂を用いるのな
ら、ポッティング樹脂も熱可塑性樹脂でと考えるのが普
通であるが、熱可塑性樹脂3は、成型後ICカード用絶
縁性基板2に密着しているだけであり、基板と反応して
接着していない。そのため冷熱衝撃で、熱可塑性樹脂3
と実装部品、ICカード用絶縁性基板2 と熱可塑性樹
脂3の熱膨張係数のミスマッチにより、半田接続部、細
線および太線も含めたワイヤー接続部に応力が発生し、
特にワイヤへは、熱可塑性樹脂と反応していないので、
基板の反りからワイヤのスリップが発生し、断線等が発
生するが、このポッティング樹脂7としてエポキシ樹脂
を採用すると、エポキシ樹脂自身が封止の中身と強固に
反応して接着しているのでスリップを抑制し、これらの
問題を解決することができる。また成型時、溶融した熱
可塑性樹脂2が直接半田と接触しないため、半田の部分
の温度上昇を抑制することができる。前述したように金
属基板を採用した際は、ヒートシンクとしての作用があ
るが、更に半田の上に樹脂が被覆されていれば、半田の
溶融は更に確実に防ぐことができる。また導電性の劣る
プリント基板、セラミック基板等では、半田の上に樹脂
を被覆し、この樹脂の厚みの調整、樹脂注入温度の調整
によりやはり半田の溶融を防止することができ、これら
の基板の実装を可能とする。
【0054】また熱硬化性樹脂7は、以下のメリットも
有する。つまり溝にこの樹脂7が設けられていないと熱
可塑性樹脂3で成型した際、溝に対応する成型部材3の
表面に凹みを発生し、いわゆるヒケと呼ばれる現象が発
生し外観不良となる。また第1の支持部材1の強度が落
ちる。つまり、溶融した熱可塑性樹脂3が注入されて固
化する際、収縮により装置全体が反る問題を発生する。
しかし溝が熱硬化性樹脂で覆われているので、ヒケも抑
制でき且つ強度が向上し、これらの問題が解決できる。
またヒケが発生し、見苦しい時は、ヒケの発生する一側
面全域を梨地にすることで、目視での判断をしずらくし
ている。
【0055】また図2で明らかなように、第1の支持部
材1裏面の周囲に段差9を設けたが、これは注入された
熱可塑性樹脂3との接着性を向上させるものである。
【0056】更には下金型の側面と当接する第1の支持
部材1には、面、線または点接触する手段が設けられて
いる。図3では、半円球の当接手段10が設けられてい
る。この当接手段10は、二つのメリットがある。一つ
は、第1の支持部材の側面と金型の側面の間に隙間を形
成し、段差9および側面も含めた封止に於いて、良好な
樹脂注入通路を確保するメリットを有する。二つ目は、
当接手段がないと、隙間が形成できないばかりか、側面
に熱可塑性樹脂が被覆されない。つまり当接手段を設け
ずに封止すると第1の支持部材と熱可塑性樹脂より成る
封止部材3との界面はdとなり、耐湿性に問題を残す。
しかし図3のように、点、線で金型と当接するようにす
れば、第1の支持部材の側面がほとんど封止部材で覆わ
れるため湿気の通路を延長でき耐湿性を向上させること
ができる。図4で示す11は、封止部材3で封止した後
の、当接手段の跡を誇張して示したものである。完全に
球で有れば実質点で露出している。これは隙間を若干形
成すれば点で露出している部分も薄くカバーできる。
【0057】図5は、第1の支持部材1の当接手段を3
種類示したものである。10Aは、直方体の形状であ
り、金型とは面接触するものである。10Bは、この立
方体を半分に切り側面が三角形になったもので、線接触
するものである。また10Cは、10Bの角を切って若
干面接触にしたものである。
【0058】どちらにしても当接手段が無ければ、側面
や段差9に樹脂を形成できない。つまり、当接手段を省
略して隙間を形成しようとすれば、第1の支持部材1
は、金型に配置した際ガタを発生し、樹脂注入圧力の高
さのため良好な成型ができない。
【0059】また第1の支持部材1と封止部材3との厚
みも問題となる。第1の支持部材1は前もって形成され
ているが、封止部材3は、金型内で第1の支持部材1と
当接し固化する。この固化の際に、封止部材が収縮する
ため、第1の支持部材がこの収縮に負けて反らないよう
にその厚みを厚くする必要がある。逆に言えば封止部材
3を薄くする必要がある。
【0060】続いて、第2の実施の形態を図6と図7を
参照して簡単に説明する。前者は支持部材1の形状を示
し、図7は、これにコイル4、IC7を実装し、熱可塑
性樹脂で封止したものである。第1の実施の形態では、
断面が実質直方体の第1の溝と第2の溝を形成したもの
であるが、本実施の形態では、あたかも城壁の如き突出
壁20を設けて溝を形成している。この様な凹凸のある
形状で有れば、封止樹脂との接触面が広くなり封止強
度、耐湿性を向上できる。しかし凹凸があるため、ヒケ
が発生し、これを防止するためには、全面に熱硬化性樹
脂を塗布する必要がある。
【0061】両実施例に言えることであるが、段差部9
が設けられることで、注入される樹脂との接着性が向上
するが、この第1の支持部材1が熱可塑性樹脂でできて
いるため、金型に取り付け樹脂注入をすると、ここの段
差部に隙間があるため変形してしまう問題を発生するこ
とがある。従って、第1の支持部材裏面と同一平面を有
する突起部、つまり反り防止手段を段差部に取り付けれ
ば解決される。またサイズ、形状および個数等は、IC
カード用モジュールのサイズ、射出圧力等が考慮されて
決定される。
【0062】また、第1の支持部材には、特に外部の放
熱性を要するものへの対応は、注入樹脂3による基板の
温度上昇を考慮して、熱伝導性を向上させるフィラーが
混入されても良い。例えばアルミナ、Si等が混入され
ている。またトランジスタチップのトランスファモール
ドのように、トランジスタに固着されたアイランドの裏
面にも樹脂を回しているが、この第1の支持部材1をI
Cカード用絶縁性基板2と金型で一緒に一体成型しよう
として裏面に隙間を設け第1の支持部材用の樹脂を注入
すると、熱伝導性が優れ成型時に熱が金型に吸収され、
基板裏面全体に回らない問題もある。従って第1の支持
部材を予め用意し、これに実装部品を装着することが重
要である。また注入樹脂3は、この問題もあり、逆にフ
ィラーが混入されない熱可塑性樹脂が使われる。注入樹
脂3の熱が金型により奪われ、ICカード用絶縁性基板
の途中で固化してしまうからである。
【0063】最後に図4を参照して金型モールドについ
て簡単に説明する。上の図は、完成されたICカード用
モジュールの透視図であり、下の図は、面押し構造の突
き出しピンで押し出された図を示すものである。符号3
0は、下金型であり、第1の支持部材に取り付けられて
いる当接手段10が金型側面31に当接している。そし
て図示していない上金型が閉じられ、封止空間が形成さ
れ、ここに溶融された熱可塑性樹脂が注入される。この
注入樹脂は、当接手段10と10の間から段差部9まで
射出され、金型の温度により固化される。押し出しピン
は、細いピンであると跡が残るため、面押し構造のピン
32とした。また当接手段10は、半円球形状としたた
め若干跡が残るが、梨地仕上げにすることで、その跡を
目立たなくすることができる。また凹み33は、ユーザ
ーが使用するシール等を貼る部分である。
【0064】図8は、図1の絶縁性基板2の載置領域を
第1の支持部材の角部に配置したもので、絶縁性基板に
折り曲げの力が掛からないような構造としてある。例え
ば完成モジュールをお尻のポケットに入れて置けば折れ
曲がり、大体が中央部で曲がろうとする。従ってコイル
の内側の領域の1/4(×印で示す四角の領域)に、この1
/4よりも小さく絶縁性基板を配置できれば、モジュール
が仮に折れ曲がっても回路基板である絶縁性基板には影
響を与えない。40は、半導体チップを覆ったポッティ
ング樹脂、41は、コイルの導出領域を覆ったポッティ
ング樹脂、42は導出されたコイルのショートを防止す
るためのガイドである。また43はコイルの移動を規制
したストッパーである。
【0065】図9は、図8のA−A線断面図であり、ポ
ッティング樹脂40が半導体チップ45を覆い、溝が更
にエポキシ樹脂44で覆われているものである。ここで
エポキシ樹脂44が完全にポッティング樹脂40を覆わ
ないと、熱可塑性樹脂を封止する時、矢印の部分でイン
ジェクション特有の圧力がかかり、半導体チップが割れ
てしまう現象が発生する。つまり矢印の部分のポッティ
ング部に集中して圧力が加わるからであり、エポキシ樹
脂44でポッティング部を完全に覆うと、圧力がポッテ
ィグ部にのみ集中しないため、チップの割れを防止でき
た。
【0066】
【発明の効果】以上説明したように、第1に、熱可塑性
樹脂は、或る温度に達すると溶け、冷えると固化する材
質であるため、予め金型に配置された熱可塑性樹脂によ
り成型された第1の支持部材は、注入される熱可塑性樹
脂の熱を受けて溶け、一体化される。従ってICカード
用絶縁性基板は、第1の支持部材と注入される熱可塑性
樹脂で一体モールドされ、基板裏面を覆うことができ、
耐電圧特性および耐湿性を向上させることができる。
【0067】第2に、熱可塑性樹脂の射出圧力は大きい
が、溝が形成されていることにより、実装部品がずれた
り、破壊したりすることがない。
【0068】第3に、IC用絶縁性基板の導電パターン
の半田を樹脂で覆うため、熱可塑性樹脂の溶融温度は、
およそ300度と非常に高いが、直接溶融された注入樹
脂の熱が伝わらず、半田の溶融を防止できる。
【0069】第4に、前述した半田の溶融防止の他に、
熱可塑性樹脂の射出圧力は、例えばPPS樹脂では、約
50〜200Kg/cm2に及び、コイルや絶縁性基板
のズレを発生するが、溝に埋め込まれているために、こ
のズレを防止して封止が可能となる。
【0070】第5に、熱可塑性樹脂は、或る温度に達す
ると溶け、冷えると固化する材質であるため、予め金型
に配置された熱可塑性樹脂により成型された第1の支持
部材は、注入される熱可塑性樹脂の熱を受けて溶け、一
体化される。
【0071】従ってICカード用絶縁性基板は、第1の
支持部材と注入される熱可塑性樹脂で一体モールドさ
れ、基板裏面を覆うことができ、耐電圧特性および耐湿
性を向上させることができる。
【0072】第6に、熱可塑性樹脂の射出圧力は大きい
が、溝が形成されていることことにより、実装部品がず
れたり、破壊したりすることがない。
【0073】第7に、IC用絶縁性基板の導電パターン
の半田を樹脂で覆うため、熱可塑性樹脂の溶融温度は、
およそ300度と非常に高いが、直接溶融された注入樹
脂の熱が伝わらず、半田の溶融を防止できる。
【0074】第8に、前述した半田の溶融防止の他に、
熱可塑性樹脂の射出圧力は、例えばPPS樹脂では、約
50〜200Kg/cm2に及び、コイルや絶縁性基板
のズレを発生するが、溝に埋め込まれているために、こ
のズレを防止して封止が可能となる。
【0075】第9に、熱可塑性樹脂は、或る温度に達す
ると溶け、冷えると固化する材質であるため、予め金型
に配置された熱可塑性樹脂により成型された第1の支持
部材は、注入される熱可塑性樹脂の熱を受けて溶け、一
体化される。従ってICカード用絶縁性基板は、第1の
支持部材と注入される熱可塑性樹脂で一体モールドさ
れ、基板裏面を覆うことができ、耐電圧特性および耐湿
性を向上させることができる。
【0076】第10に、熱可塑性樹脂の射出圧力は大き
いが、溝が形成されていることことにより、実装部品が
ずれたり、破壊したりすることがない。
【0077】第11に、IC用絶縁性基板の導電パター
ンの半田を樹脂で覆うため、熱可塑性樹脂の溶融温度
は、およそ300度と非常に高いが、直接溶融された注
入樹脂の熱が伝わらず、半田の溶融を防止できる。
【0078】第12に、前述した半田の溶融防止の他
に、熱可塑性樹脂の射出圧力は、例えばPPS樹脂で
は、約50〜200Kg/cm2に及び、コイルや絶縁
性基板のズレを発生するが、溝に埋め込まれているため
に、このズレを防止して封止が可能となる。
【0079】第13に、被封止材料(半導体ベアチッ
プ、金属細線またはコイル)と反応する第1の樹脂(こ
こではエポキシ樹脂)でポッティングし、これも含めて
前記熱可塑性樹脂で封止しているので、第1の支持部材
が熱で反ってもスリップが発生しない。
【0080】第14に、第1の支持部材の底面と対向す
るヒケの発生する前記封止部材の面に、梨地加工を施す
ことで、目視で確認しずらくすることができる。
【0081】第15に、前記ベアチップを覆うポッティ
ング樹脂を設け、前記ポッティング樹脂表面が露出しな
いように前記第1の溝を覆う第2の樹脂を設け、前記第
1の支持部材を金型に配置し、熱可塑性樹脂で前記第1
の支持部材を封止することで、封止の際の注入圧力がポ
ッティング樹脂を直接加圧しないため、チップの破壊を
防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態であり、第1の支持
部材に実装部品が取り付けられた状態を説明する図であ
る。
【図2】図1のA−A線の断面図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態であり、図2に於け
る第1の支持部材を封止部材で成型した混成集積回路モ
ジュールを説明する図である。
【図4】第1の支持部材の金型装着状態を説明する図で
ある。
【図5】当接手段を説明する図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態であり、第1の支持
部材を説明する図である。
【図7】図6の第1の支持部材を用いた混成集積回路モ
ジュールの図である。
【図8】図1の第1の支持部材を若干修正した支持部材
を説明する図である。
【図9】半導体チップのポッティング構造で発生する問
題を説明する図である。
【符号の説明】
1 第1の支持部材 2 絶縁性基板 3 封止部材 4 コイル 5 第1の溝 6 第2の溝 7 熱硬化性樹脂 8 絶縁性基板上の電極 9 コイルの導出部 10 当接手段 11 当接手段の痕跡 40 ポッティング樹脂
フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 MA10 MA11 NA36 NB34 PA27 RA07 4M109 AA02 BA04 BA05 CA02 CA21 DA07 DB07 EA02 EA12 EB12 GA02 GA03 5B035 AA04 BA05 BB09 CA23 5F061 AA02 BA04 BA05 CA02 CA21 CB03 CB04 FA02 FA03

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも基板が上面に載置される領域
    を有した熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材と、 前記領域に実装され、表面に設けられた導電パターンと
    電気的に接続された半導体ICを有する前記基板と、 前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
    露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
    止部材とを有することを特徴としたICカード用モジュ
    ール。
  2. 【請求項2】 少なくとも基板およびコイルが上面に載
    置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑性樹脂
    より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ICを有する前記基板
    と、 前記第2の溝に実装され、前記基板の導電パターンと電
    気的に接続されたコイルと、 前記基板を実質密封する
    ように、前記第1の支持部材の露出部が溶融して一体化
    された熱可塑性樹脂より成る封止部材とを有することを
    特徴としたICカード用モジュール。
  3. 【請求項3】 少なくとも基板およびコイルが上面に載
    置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑性樹脂
    より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ICを有する前記基板
    と、 前記第2の溝に実装され、前記基板の導電パターンと半
    田を介して電気的に接続されたコイルと、 前記半田を覆って設けられた熱硬化性樹脂と、 前記基
    板を実質密封するように、前記第1の支持部材の露出部
    が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封止部材
    とを有することを特徴としたICカード用モジュール。
  4. 【請求項4】 少なくとも基板およびコイルが上面に載
    置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑性樹脂
    より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ICを有する前記基板
    と、 前記第2の溝に実装され、前記基板の導電パターンと電
    気的に接続されたコイルと、 前記溝を埋めて設けられた熱硬化性樹脂と、 前記基板
    を実質密封するように、前記第1の支持部材の露出部が
    溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封止部材と
    を有することを特徴としたICカード用モジュール。
  5. 【請求項5】 少なくとも基板が上面に載置される領域
    を有し、側面には、金型と面、線または点で当接する手
    段を有する熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材と、 前記領域に実装され、表面に設けられた導電パターンと
    電気的に接続された半導体ICを有する前記基板と、 前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
    露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
    止部材とを有することを特徴としたICカード用モジュ
    ール。
  6. 【請求項6】 少なくとも基板およびコイルが上面に載
    置される第1の溝および第2の溝を有し、側面には、金
    型と面、線または点で当接する手段を有する熱可塑性樹
    脂より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ICを有する前記基板
    と、 前記第2の溝に実装され、前記基板の導電パターンと電
    気的に接続されたコイルと、 前記基板を実質密封する
    ように、前記第1の支持部材の露出部が溶融して一体化
    された熱可塑性樹脂より成る封止部材とを有することを
    特徴としたICカード用モジュール。
  7. 【請求項7】 前記第1の支持部材と前記封止部材の厚
    みは、前記第1の支持部材の反りが防止できるように、
    前記封止部材の厚みを薄くした事を特徴とした請求項6
    記載のICカード用モジュール。
  8. 【請求項8】 表面が絶縁処理され、この上に設けられ
    た導電パターンと、この導電パターンと電気的に接続さ
    れた半導体素子または受動素子とを有する基板を用意
    し、 前記基板が実装され、側面には、金型と面、線ま
    たは点で当接する手段を有した熱可塑性樹脂より成る第
    1の支持部材をその裏面が一方の金型に当接するように
    保持し、 前記一方の金型と他方の金型により形成され
    る空間に、溶融された熱可塑性樹脂を注入し、この溶融
    された熱により前記第1の支持部材の露出部を溶融して
    一体成型することを特徴としたICカード用モジュール
    の製造方法。
  9. 【請求項9】 表面が絶縁処理され、この上に設けられ
    た導電パターンと、この導電パターンと電気的に接続さ
    れた半導体素子または受動素子とを有する基板を用意
    し、 前記基板が実装された熱可塑性樹脂より成る第1
    の支持部材をその裏面が一方の金型に当接するように保
    持し、 前記一方の金型と他方の金型により形成される
    空間に、溶融された熱可塑性樹脂を注入し、前記第1の
    支持部材の反りが防止できるように、前記第1の支持部
    材の厚みよりも薄く成るように一体成型することを特徴
    とした混成集積回路モジュールの製造方法。
  10. 【請求項10】 少なくとも基板が上面に載置される領
    域を有した熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材と、 前記領域に実装され、表面に設けられた導電パターンと
    電気的に接続された半導体ICを有する前記基板と、 前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
    露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
    止部材とを有し、 前記基板に実装された半導体ベアチップは、フェイスア
    ップまたはフェイスダウンで実装され、フェイスアップ
    の場合は、前記導電路と接続する金属細線も含めてチッ
    プが被封止材料と反応する第1の樹脂でポッティングさ
    れ、フェイスダウンではチップが第1の樹脂でポッティ
    ングされ、これも含めて前記熱可塑性樹脂で封止される
    ことを特徴とした混成集積回路モジュール。
  11. 【請求項11】 少なくとも基板およびコイルが上面に
    載置される第1の溝および第2の溝を有した熱可塑性樹
    脂より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ベアチップを有する前記
    基板と、 前記第2の溝に実装され、前記基板の導電パターンと電
    気的に接続されたコイルと、 前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
    露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
    止部材とを有し、 前記導電パターンに於けるコイルの接続部およびコイル
    の引き出し部を含めて被封止材料と反応する第1の樹脂
    でポッティングされることを特徴とした混成集積回路モ
    ジュール。
  12. 【請求項12】 基板が上面に載置される第1の溝を有
    した熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材と、 前記第1の溝に実装され、表面に設けられた導電パター
    ンと電気的に接続された半導体ICを有する前記基板
    と、 前記基板を実質密封するように、前記第1の支持部材の
    露出部が溶融して一体化された熱可塑性樹脂より成る封
    止部材とを有し、 前記第1の支持部材の底面と対向する前記封止部材の面
    は、梨地加工されている事を特徴とした混成集積回路モ
    ジュール。
  13. 【請求項13】 前記第1の支持部材には、コイルが載
    置される第2の溝を有した請求項12記載の混成集積回
    路モジュール。
  14. 【請求項14】 基板が上面に載置される第1の溝を有
    した熱可塑性樹脂より成る第1の支持部材を用意し、 表面に設けられた導電パターンと電気的に接続された半
    導体ベアチップを有する前記基板を前記第1の支持部材
    に実装し、前記ベアチップを覆うポッティング樹脂を設
    け、 前記ポッティング樹脂表面が露出しないように前記第1
    の溝を覆う第2の樹脂を設け、 前記第1の支持部材を金型に配置し、熱可塑性樹脂で前
    記第1の支持部材を封止することを特徴とした混成集積
    回路モジュールの製造方法。
JP25404198A 1998-03-17 1998-09-08 Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法 Pending JP2000048162A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25404198A JP2000048162A (ja) 1998-03-17 1998-09-08 Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6733498 1998-03-17
JP6733398 1998-03-17
JP14738598 1998-05-28
JP10-67334 1998-05-28
JP10-147385 1998-05-28
JP10-67333 1998-05-28
JP25404198A JP2000048162A (ja) 1998-03-17 1998-09-08 Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000048162A true JP2000048162A (ja) 2000-02-18

Family

ID=27464846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25404198A Pending JP2000048162A (ja) 1998-03-17 1998-09-08 Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000048162A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098866A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd クリーニング用icタグ
JP2006134266A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Sony Corp メモリカード及びメモリカードの製造方法
EP1714318A2 (en) * 2004-01-30 2006-10-25 Piranha Plastics Insert molding electronic devices
JP2007102348A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Dainippon Printing Co Ltd Rfidタグ
JP2007160915A (ja) * 2005-12-15 2007-06-28 Chin-Tong Liu フラッシュメモリカード実装方法
JP2008117417A (ja) * 2007-12-14 2008-05-22 Renesas Technology Corp Icカードの製造方法
JP2009535874A (ja) * 2006-04-28 2009-10-01 アエスカ エス.ア. Rfidデバイスの支持体及びその製造方法
JP2013062383A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Polyplastics Co 封止成形体の製造方法、及び封止成形体
JP2013157578A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
JP2015093475A (ja) * 2013-11-14 2015-05-18 株式会社デンソー モールドパッケージおよびその製造方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1714318A4 (en) * 2004-01-30 2008-09-03 Piranha Plastics Llc INSERT FORM ELECTRONIC COMPONENTS
EP1714318A2 (en) * 2004-01-30 2006-10-25 Piranha Plastics Insert molding electronic devices
JP2006098866A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd クリーニング用icタグ
JP4548074B2 (ja) * 2004-09-30 2010-09-22 凸版印刷株式会社 クリーニング用icタグ
JP2006134266A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Sony Corp メモリカード及びメモリカードの製造方法
JP2007102348A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Dainippon Printing Co Ltd Rfidタグ
JP2007160915A (ja) * 2005-12-15 2007-06-28 Chin-Tong Liu フラッシュメモリカード実装方法
JP2009535874A (ja) * 2006-04-28 2009-10-01 アエスカ エス.ア. Rfidデバイスの支持体及びその製造方法
JP2008117417A (ja) * 2007-12-14 2008-05-22 Renesas Technology Corp Icカードの製造方法
JP4634436B2 (ja) * 2007-12-14 2011-02-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Icカードの製造方法
JP2013062383A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Polyplastics Co 封止成形体の製造方法、及び封止成形体
JP2013157578A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
JP2015093475A (ja) * 2013-11-14 2015-05-18 株式会社デンソー モールドパッケージおよびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100281836B1 (ko) Ic 카드용 모듈, ic 카드용 모듈의 제조 방법, 혼성 집적회로 모듈 및 그 제조 방법
US5999413A (en) Resin sealing type semiconductor device
KR100870374B1 (ko) Ic카드 및 그 제조방법
US8248240B2 (en) RFID tag and manufacturing method thereof
US7521290B2 (en) Method of manufacturing circuit device
US6259157B1 (en) Hybrid integrated circuit device, and method of manufacturing thereof
JPH0558655B2 (ja)
JP4614584B2 (ja) 混成集積回路装置およびその製造方法
JP2000048162A (ja) Icカード用モジュール、icカード用モジュールの製造方法、混成集積回路モジュールおよびその製造方法
JP3281859B2 (ja) 混成集積回路装置の製造方法
JP3316449B2 (ja) 混成集積回路装置およびその製造方法
JP3879823B2 (ja) 薄型半導体装置のモールド方法及びそのモールド金型
JP2829567B2 (ja) チップマウント型led
JP3579261B2 (ja) 混成集積回路モジュールの製造方法
JP2589093B2 (ja) Icカードの製造方法
JP3213578B2 (ja) 混成集積回路装置の製造方法
JP3281864B2 (ja) 混成集積回路装置の製造方法
JP3213579B2 (ja) 混成集積回路装置の製造方法
US8101870B2 (en) Method for manufacturing printed circuit board, printed circuit board, and electronic apparatus
JP3180686B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3421591B2 (ja) 混成集積回路装置の製造方法
JP4706117B2 (ja) Icカードの製造方法
JP2000124237A (ja) 半導体素子搭載用基板とそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP3298627B2 (ja) 半導体装置と接続用はんだボール基部補強方法
JP2000149099A (ja) 硬貨型半導体装置および商品販売方法

Legal Events

Date Code Title Description
A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20040319