JP2000044013A - Filter protection stay of clean automatic warehouse - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハプロ
セス製造工程で使用される製品一時保管用のクリーン自
動倉庫の内部清浄化用ウルパフィルタの損傷を防止する
フィルタ保護ステーに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter protection stay for preventing damage to an internal cleaning urpa filter of a clean automatic warehouse for temporarily storing products used in a semiconductor wafer process manufacturing process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、従来のクリーン自動倉庫の内部
は図７の構成図に示すように、複数の棚１が、水平及び
垂直に並び、その上に複数のウエハ収納カセット２が一
時保管されるものであり、上記棚１背面には自動倉庫内
を、例えば０．１μｍ以上、クラス１のような極めて清
浄な環境に保つための微粒子濾過フィルタ３が配置さ
れ、これより清浄な矢印方向の空気４が供給されるもの
であった。2. Description of the Related Art Generally, in a conventional clean automatic warehouse, as shown in FIG. 7, a plurality of shelves 1 are arranged horizontally and vertically, and a plurality of wafer storage cassettes 2 are temporarily stored thereon. At the back of the shelf 1, a particulate filter 3 for keeping the inside of the automatic warehouse in an extremely clean environment, for example, class 1 or more, of 0.1 μm or more, is disposed. Air 4 was supplied.
【０００３】また、上記微粒子濾過フィルタ３とウエハ
収納カセット２の間には、気流が乱れ生ずる淀みにより
シリコンウエハ１０が塵埃汚染されるのを防止するた
め、障害物となるものは設置されないのが一般的であっ
た。In order to prevent the silicon wafer 10 from being contaminated with dust due to stagnation that causes turbulence in the air flow, there is no obstacle between the particulate filter 3 and the wafer storage cassette 2. Was common.
【０００４】上記ウエハ収納カセット２は、例えば走行
・上下軸を持ち、把持機構を備えるスカラ型のロボット
アーム５により構成される移載ロボットにて運搬・載置
されるものであった。The wafer storage cassette 2 has, for example, a traveling and vertical axis, and is transported and placed by a transfer robot constituted by a scalar type robot arm 5 having a gripping mechanism.
【０００５】上記ウエハ収納カセット２の材質は、テフ
ロン、ポリプロピレン等の樹脂が一般的であった。The material of the wafer storage cassette 2 is generally a resin such as Teflon or polypropylene.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成のクリーン自動倉庫では、例えば移載ロボットの各軸
におけるサーボモータのエンコーダケーブル断線等の電
気的要因や機能摩耗・損傷等の機械的要因により図７の
構成図に示す棚１上のウエハ収納カセット２を降ろしに
いく動作時等に、特に水平方向に微小な位置ズレが発生
した場合、ロボットアーム５の例えばステンレス製のハ
ンド６先端が、ＡからＢへの伸び動作途中に、目的のウ
エハ収納カセット２あるいは隣のウエハ収納カセット２
のトップフランジ７に突き当たり押し込んだ際、微粒子
濾過フィルタ３表面に張りめぐらされた、一般的にはア
ルミ製で網状の保護ガード８を突き破り損傷させ、更に
微粒子濾過フィルタ３をも損傷する場合があった。However, in the clean automatic warehouse having the above-described structure, for example, electrical factors such as disconnection of an encoder cable of a servo motor in each axis of a transfer robot, and mechanical factors such as functional wear and damage. For example, when the wafer storage cassette 2 on the shelf 1 shown in FIG. 7 is to be unloaded, if a slight positional shift occurs in the horizontal direction, for example, the tip of the stainless steel hand 6 of the robot arm 5 becomes A During the extension operation from the wafer storage cassette 2 to the target wafer storage cassette 2 or the adjacent wafer storage cassette 2
When it is pushed against the top flange 7 of the filter, the protective guard 8, which is generally made of aluminum and is meshed and stretched over the surface of the particulate filter 3, may be broken through, and the particulate filter 3 may be damaged. Was.
【０００７】即ち、近年、シリコンウエハ１０の大口径
化による可搬重量増加や搬送能力向上等により移載ロボ
ットの高速化・高出力化がなされ一般的な保護ガード８
では微粒子濾過フィルタ３を保護しきれない状況となっ
ている。That is, in recent years, the transfer robot has been increased in speed and output due to an increase in the load capacity and an increase in the transfer capacity due to an increase in the diameter of the silicon wafer 10, and the general protective guard 8
In this case, the particulate filter 3 cannot be completely protected.
【０００８】また、クリーン自動倉庫も収納効率向上が
求められ、ウエハ収納カセット２間の隙間９も小さなも
のとなってきており、例えば数ｍｍの微小な位置ズレで
も干渉が発生する寸法制限下に置かれるようになってき
ており上記問題が表面化してきた。[0008] Further, the storage efficiency of a clean automatic warehouse is also required to be improved, and the gap 9 between the wafer storage cassettes 2 is becoming smaller. The above problems have come to the surface.
【０００９】保護ガード８が損傷すると、その素材であ
る例えばアルミニウムの微粒子が飛散し周辺のシリコン
ウエハ１０をも広範囲で金属汚染する。When the protective guard 8 is damaged, fine particles of the material such as aluminum are scattered, and the surrounding silicon wafer 10 is also metal-contaminated in a wide range.
【００１０】また、微粒子濾過フィルタ３が損傷すると
リークを生じ、同様に塵埃汚染が発生するという問題が
あった。Further, when the particulate filter 3 is damaged, there is a problem that a leak is generated, and similarly dust contamination occurs.
【００１１】上記保護ガード８の損傷による金属汚染、
ならびに微粒子濾過フィルタ３が損傷しリークすること
による非常に多量の塵埃による汚染は、ウエハ収納カセ
ット２のトップフランジ７にロボットアーム５のハンド
６の先端が突き当たった際に発生する塵埃と比べ、量的
にも成分的にも極めて深刻な問題であった。Metal contamination due to damage to the protective guard 8;
In addition, the contamination due to a very large amount of dust due to damage and leakage of the particulate filter 3 is smaller than the dust generated when the tip of the hand 6 of the robot arm 5 abuts on the top flange 7 of the wafer storage cassette 2. It was a very serious problem, both in terms of composition and composition.
【００１２】また、損傷した微粒子濾過フィルタ３の交
換時には、リーク防止のためその周辺を充填材１１によ
り充填する必要があるため、上記充填材１１が完全に乾
燥するまでの時間、一般的には２４時間程度の間、微粒
子濾過フィルタ３への送風を停止させることとなり、ク
リーン自動倉庫の運用再開が遅れ生産への影響も少なく
ないという問題も生じる。Further, when the damaged particulate filter 3 is replaced, it is necessary to fill the periphery thereof with the filler 11 in order to prevent leakage, so that the time until the filler 11 is completely dried, generally, For about 24 hours, the air supply to the particulate filtration filter 3 is stopped, and the restart of the operation of the clean automatic warehouse is delayed, and there is a problem that the influence on the production is not small.
【００１３】また、半導体集積回路においては高集積化
が進み最近では塵埃の問題だけでなく有機物、アニオ
ン、カチオン、ボロン等の化学汚染物質の影響が確認さ
れている。Further, in semiconductor integrated circuits, the degree of integration has been increased, and recently, not only the problem of dust but also the influence of chemical contaminants such as organic substances, anions, cations, and boron have been confirmed.
【００１４】また、微粒子濾過フィルタ３にはガラス繊
維製フィルタろ材が通常使われており、新品のものから
は多量にボロンが発生し、それが低レベルに飽和するの
に約１ケ月のランニングが必要であることが報告されて
いる。A filter medium made of glass fiber is usually used for the particulate filter 3, and a large amount of boron is generated from a new one, and it takes about one month of running before it is saturated to a low level. It is reported that it is necessary.
【００１５】ボロンはシリコンウエハ１０表面へのイオ
ン注入に必要な原子であり、交換後の半導体特性への影
響が懸念されるという問題も表面化してきた。[0015] Boron is an atom necessary for ion implantation into the surface of the silicon wafer 10, and a problem that the influence on the semiconductor characteristics after the exchange is concerned has also surfaced.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体ウエハ
プロセス製造工程で使用される製品一時保管用のクリー
ン自動倉庫において、中空の丸棒あるいは流線形棒材を
用い、その外径は２５φ程度とするステンレス材等から
成るフィルタ保護ステーを、その両端にてブロック等を
介してボルトで締結し、奥壁に固定する。According to the present invention, there is provided a clean automatic warehouse for temporarily storing products used in a semiconductor wafer process manufacturing process, wherein a hollow round bar or a streamlined bar is used, and its outer diameter is about 25φ. A filter protection stay made of stainless steel or the like is fastened with bolts at both ends via blocks or the like, and fixed to the inner wall.
【００１７】これにより、移載ロボットが棚上のウエハ
収納カセットを降ろしに行く際、特に水平方向に微小な
位置ズレが発生した場合、移載ロボットのハンド先端が
ウエハ収納カセットのトップフランジに突き当たり押し
込まれる。Thus, when the transfer robot goes down the wafer storage cassette on the shelf, particularly when a small positional deviation occurs in the horizontal direction, the hand end of the transfer robot abuts on the top flange of the wafer storage cassette. Pushed.
【００１８】ウエハ収納カセットは、微粒子濾過フィル
タ及び保護ガードに到達する前に、上記フィルタ保護ス
テーに接触し停止する。The wafer storage cassette comes into contact with the filter protection stay and stops before reaching the particulate filter and the protection guard.
【００１９】従って、微粒子濾過フィルタの損傷を防止
することができる。Therefore, it is possible to prevent the particulate filter from being damaged.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施形態を
示す構成図である。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.
【００２１】同図において、強固なる奥壁１４に、フィ
ルタ保護ステー１２を水平に向け、その両端にてブロッ
ク１３を介してボルト１７で締結して固定する。Referring to FIG. 1, the filter protection stay 12 is directed horizontally to a strong inner wall 14, and both ends thereof are fastened and fixed by bolts 17 via blocks 13.
【００２２】フィルタ保護ステー１２、ブロック１３、
ボルト１７の材質はステンレス等を用い、また、上記フ
ィルタ保護ステー１２の断面は自重によるたわみ防止な
らびにシリコンウエハ１０が空気の淀みにより塵埃汚染
されることを防止するため中空の丸棒あるいは流線形棒
材を使用し、その外径は強度面、寸法制約上等により例
えば２５φ程度とする。Filter protection stay 12, block 13,
The material of the bolt 17 is stainless steel or the like. The cross section of the filter protection stay 12 is a hollow round bar or a streamline bar for preventing the silicon wafer 10 from bending due to its own weight and preventing the silicon wafer 10 from being contaminated with dust due to stagnation of air. A material is used, and its outer diameter is set to, for example, about 25φ due to strength and dimensional restrictions.
【００２３】また、フィルタ保護ステー１２の両端は中
空内部の塵埃堆積や内部気流の淀みを防止するため、ゴ
ムパッキン等の蓋１５により塞ぐものとする。Both ends of the filter protection stay 12 are closed with a lid 15 such as a rubber packing or the like in order to prevent accumulation of dust inside the hollow and stagnation of the internal air flow.
【００２４】図２（ａ）は、図１のフィルタ保護ステー
１２の設置状態を示す部分の拡大図であって、図２
（ａ）のように、前述したフィルタ保護ステー１２を水
平に向け、その両端にてブロック１３を介してボルト１
７で締結し両端を奥壁１４に固定する。図２（ｂ）はウ
エハ収納カセットを一時保管する棚１の設置状態を示す
部分拡大図で、図２（ａ）に示す奥壁１４のある本体側
に組み込まれる。FIG. 2A is an enlarged view of a portion showing an installation state of the filter protection stay 12 of FIG.
As shown in (a), the filter protection stay 12 described above is oriented horizontally, and bolts 1
7 to fix both ends to the back wall 14. FIG. 2B is a partially enlarged view showing an installation state of the shelf 1 for temporarily storing the wafer storage cassette, and is incorporated in the main body having the back wall 14 shown in FIG. 2A.
【００２５】次に、図３の要部側面図により動作を説明
する。Next, the operation will be described with reference to the side view of the main part of FIG.
【００２６】移載ロボットが棚１上のウエハ収納カセッ
ト２を降ろしにいく動作時に、特に水平方向に微小な位
置ズレが発生した場合、移載ロボットのハンド６の先端
がウエハ収納カセット２のトップフランジ７に突き当た
り押し込む。When the transfer robot moves down the wafer storage cassette 2 on the shelf 1, particularly when a slight positional shift occurs in the horizontal direction, the tip of the transfer robot hand 6 is moved to the top of the wafer storage cassette 2. Push against flange 7 and push.
【００２７】ウエハ収納カセット２は、微粒子濾過フィ
ルタ３及び保護ガード８に到達する前に、フィルタ保護
ステー１２に接触し停止する。Before reaching the particulate filter 3 and the protection guard 8, the wafer storage cassette 2 comes into contact with the filter protection stay 12 and stops.
【００２８】図４（ａ）、（ｂ）はフィルタ保護ステー
の断面形状を示した図である。FIGS. 4A and 4B are views showing the cross-sectional shape of the filter protection stay.
【００２９】図４（ａ）のように、フィルタ保護ステー
１２′の断面が正方形・長方形等多角形の場合、微粒子
濾過フィルタ３より吹き出す空気４′の流れを阻害する
ため、近傍の淀み１６′が大きくなり、ここに多量の塵
埃が滞留することになり、風下に位置するシリコンウエ
ハ１０が塵埃により汚染される懸念がある。As shown in FIG. 4A, when the cross section of the filter protection stay 12 'is a polygon such as a square or a rectangle, the flow of the air 4' blown out from the particulate filter 3 is obstructed. And a large amount of dust stays here, and there is a concern that the silicon wafer 10 located on the leeward side may be contaminated by dust.
【００３０】そのため、図４（ｂ）のようにフィルタ保
護ステー１２の断面形状を円形あるいは流線形とするこ
とで近傍の淀み１６を極小とすることが可能となり、高
清浄度との両立が図られる。Therefore, as shown in FIG. 4 (b), by setting the cross-sectional shape of the filter protection stay 12 to be circular or streamlined, it is possible to minimize the stagnation 16 in the vicinity, and to achieve compatibility with high cleanliness. Can be
【００３１】以上のように第１の実施形態によれば、フ
ィルタ保護ステー１２を設けたので、移載ロボットの位
置ズレ、あるいは障害発生時、オペレータがクリーン自
動倉庫内へ入室し、棚１上のウエハ収納カセット２と接
触してズラした場合に、ウエハ収納カセット２が押し込
まれた場合において、 （１）微粒子濾過フィルタ３の損傷を防止できることに
より、シリコンウエハ１０の塵埃汚染を防止することが
できる。 （２）微粒子濾過フィルタ３の保護ガード８の損傷を防
止できることにより、シリコンウエハ１０が、アルミニ
ウム等金属の保護ガード８の素材粉により汚染されるこ
とを防止することができる。 （３）微粒子濾過フィルタ３の損傷を防止できることに
より、交換時に発生する充填材１１乾燥までの送風停止
ならびに、クリーン自動倉庫の運用停止及び運用再開遅
延要因をなくすことができる。 （４）微粒子濾過フィルタ３の損傷を防止できることに
より、交換不要となり新品時多量発生の懸念があるボロ
ンによる半導体特性への影響を防止することが期待でき
る。 （５）また、フィルタ保護ステー１２の断面形状を円形
もしくは流線形とすることで近傍の淀み１６を防止し高
清浄度を維持することができる。As described above, according to the first embodiment, since the filter protection stay 12 is provided, when the position of the transfer robot shifts or a failure occurs, the operator enters the clean automatic warehouse and places it on the shelf 1. When the wafer storage cassette 2 is depressed when it comes into contact with the wafer storage cassette 2, (1) it is possible to prevent the particulate filter 3 from being damaged, thereby preventing dust contamination of the silicon wafer 10. it can. (2) Since the protection guard 8 of the particulate filter 3 can be prevented from being damaged, it is possible to prevent the silicon wafer 10 from being contaminated by the material powder of the protection guard 8 made of metal such as aluminum. (3) Since the damage of the particulate filter 3 can be prevented, it is possible to eliminate the causes of the stoppage of the air supply until the filling material 11 is dried and the stoppage of the operation of the clean automatic warehouse and the delay of the restart of the operation. (4) Since the damage to the particulate filter 3 can be prevented, it is expected that the semiconductor characteristics are not affected by boron, which is not required to be replaced and which is likely to be generated in large quantities when new. (5) In addition, by setting the cross-sectional shape of the filter protection stay 12 to be circular or streamlined, it is possible to prevent the nearby stagnation 16 and maintain high cleanliness.
【００３２】第２の実施形態も基本構成は、図１の第１
の実施形態と同様であり、相違点に関してのみ図５に示
すフィルタ保護ステーの側面から見た要部断面図をもと
に以下に説明する。The basic configuration of the second embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG.
Only the differences will be described below with reference to a cross-sectional view of a main part viewed from the side of the filter protection stay shown in FIG.
【００３３】同図において、強固なる奥壁１４に、フィ
ルタ保護ステー１２を水平もしくは垂直等に向け、その
両端にて緩衝材１９を介して段付きボルト２０で締結
し、両端を固定する。In the same figure, the filter protection stay 12 is directed horizontally or vertically to the strong inner wall 14, and is fastened at both ends thereof with stepped bolts 20 via buffer members 19 to fix both ends.
【００３４】段付きボルト２０の非ネジ部の長さＬは、
緩衝材１９に適正予圧がかかる程度とする。The length L of the non-threaded portion of the stepped bolt 20 is
It is assumed that the buffer member 19 is applied with an appropriate preload.
【００３５】フィルタ保護ステー１２両端には、自己潤
滑性のある樹脂製のブッシュ１８を打ち込み一体化させ
る。A resin bush 18 having self-lubricating properties is driven into and integrated with both ends of the filter protection stay 12.
【００３６】このブッシュ１８と緩衝材１９には貫通穴
が設けられ、段付きボルト２０と同心にて摺動自在とす
る。The bush 18 and the cushioning material 19 are provided with through holes so that they can slide concentrically with the stepped bolt 20.
【００３７】緩衝材１９の材質は、シリコンゴム等の高
清浄度下において使用可能な低発塵性のもとし、その硬
度・寸法・減衰特性等は使用される移載ロボットの動作
速度・モータ出力等の仕様ならびに微粒子濾過フィルタ
３とウエハ収納カセット２との距離等により適正に決定
されるものである。The material of the cushioning material 19 is based on low dust generation that can be used under high cleanliness such as silicon rubber, and its hardness, dimensions, damping characteristics, etc. It is appropriately determined by the specifications of the output and the like, the distance between the fine particle filtration filter 3 and the wafer storage cassette 2, and the like.
【００３８】次に、図６の要部側面図により動作を説明
する。Next, the operation will be described with reference to the side view of the main part of FIG.
【００３９】図６に示すように、矢印Ｆ方向の力による
移載ロボットのハンド６により、ウエハ収納カセット２
が押し込まれ、フィルタ保護ステー１２と接触し、その
後緩衝材１９の圧縮変形により矢印Ｆ方向の力が減衰・
緩衝され停止する。As shown in FIG. 6, the wafer storage cassette 2 is moved by the hand 6 of the transfer robot by the force in the direction of arrow F.
Is pressed into contact with the filter protection stay 12, and then the force in the direction of arrow F is attenuated by the compression deformation of the cushioning material 19.
Stop buffered.
【００４０】以上のように、第２の実施形態によれば、
ステンレス等のブロック１３の代わりに緩衝材１９を介
してフィルタ保護ステー１２を締結させたことにより、
第１の実施形態の効果に加え衝突時の移載ロボットの各
軸への衝撃エネルギを吸収減衰させることができる。As described above, according to the second embodiment,
By fastening the filter protection stay 12 via the cushioning material 19 instead of the block 13 such as stainless steel,
In addition to the effects of the first embodiment, the impact energy to each axis of the transfer robot at the time of collision can be absorbed and attenuated.
【００４１】これによって、移載ロボットの軸ズレ等の
ダメージを防止できる為、全ての棚の再点検を行う必要
がなくなり、位置ズレ要因を取り除いた後、直ちにクリ
ーン自動倉庫を導入できることになり、復帰までの時間
の大幅短縮が図られる。As a result, it is possible to prevent damage to the transfer robot such as an axis shift, so that it is not necessary to recheck all the shelves, and it is possible to immediately introduce a clean automatic warehouse after removing the cause of the position shift. The time to return can be greatly reduced.
【００４２】尚、本発明は棚数の多い自動倉庫ほどその
効果は顕著となるものである。The effect of the present invention becomes more remarkable as the number of shelves increases.
【００４３】第１、第２の実施形態では、半導体ウエハ
プロセス製造工程で使用されるクリーン自動倉庫の、微
粒子濾過フィルタ及び移載ロボットの保護に適用した例
を説明したが、強度向上等により液晶基板製造工程のク
リーン自動倉庫にも適用可能である。In the first and second embodiments, an example has been described in which the present invention is applied to the protection of a particulate filtration filter and a transfer robot in a clean automatic warehouse used in a semiconductor wafer process manufacturing process. It can also be applied to a clean automatic warehouse in the substrate manufacturing process.
【００４４】また、他の各種自動倉庫においても、損傷
してはならない機器類及び移載ロボットの保護に適用可
能であり、この場合は保護ステーの断面形状の制約は小
さいものであり比較的容易に実施可能である。Also, in various other automatic warehouses, the present invention can be applied to protection of equipment and transfer robots which must not be damaged. In this case, the restriction on the cross-sectional shape of the protection stay is small and relatively easy. Can be implemented.
【００４５】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればフ
ィルタ保護ステーを設けたことにより、微粒子濾過フィ
ルタの損傷を防止でき、よってシリコンウエハの塵埃汚
染防止する効果が得られる。As described above, according to the present invention, by providing the filter protection stay, it is possible to prevent the particulate filter from being damaged, thereby obtaining the effect of preventing dust contamination of the silicon wafer.
【００４６】また、フィルタ保護ステーの断面形状を円
形もしくは流線形とすることで、近傍の淀みを防止し高
清浄度を維持することができる。Further, by making the cross section of the filter protection stay circular or streamlined, it is possible to prevent stagnation in the vicinity and maintain high cleanliness.
【００４７】また、緩衝材を介してフィルタ保護ステー
を締結させたことにより、衝突時の移載ロボットの各軸
への衝撃エネルギを吸収減衰させる効果が得られる。Further, the effect of absorbing and attenuating the impact energy to each axis of the transfer robot at the time of a collision can be obtained by fastening the filter protection stay via the cushioning material.
【図１】本発明の第１の実施形態を示す構成図FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the present invention.
【図２】（ａ）フィルタ保護ステーの設置状態を示す部
分拡大図 （ｂ）棚の設置状態を示す部分拡大図2A is a partially enlarged view showing an installation state of a filter protection stay. FIG. 2B is a partially enlarged view showing an installation state of a shelf.
【図３】要部断面図FIG. 3 is a sectional view of a main part.
【図４】（ａ）フィルタ保護ステーの断面形状を示す図 （ｂ）フィルタ保護ステーの断面形状を示す図4A is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a filter protection stay. FIG. 4B is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a filter protection stay.
【図５】本発明の第２の実施形態を示す要部断面図FIG. 5 is a sectional view of a main part showing a second embodiment of the present invention.
【図６】要部側面図FIG. 6 is a side view of a main part.
【図７】従来例の構成図FIG. 7 is a configuration diagram of a conventional example.
１ 棚 ２ ウエハ収納カセット ３ 微粒子濾過フィルタ ４ 空気 ５ ロボットアーム ６ ハンド ７ トップフランジ ８ 保護ガード ９ 隙間 １０ シリコンウエハ １１ 充填材 １２ フィルタ保護ステー １３ ブロック １４ 奥壁 １５ 蓋 １６ 淀み １７ ボルト １８ ブッシュ １９ 緩衝材 ２０ 段付きボルト Reference Signs List 1 shelf 2 wafer storage cassette 3 particulate filtration filter 4 air 5 robot arm 6 hand 7 top flange 8 protective guard 9 gap 10 silicon wafer 11 filler 12 filter protection stay 13 block 14 back wall 15 lid 16 stagnation 17 bolt 18 bush 19 buffer Material 20 Stepped bolt
Claims (7)
れる製品一時保管用クリーン自動倉庫本体において、 断面形状が円形又は流線形の中空棒から成るフィルタ保
護ステーを、前記自動倉庫本体の奥壁に固定することを
特徴とするクリーン自動倉庫のフィルタ保護ステー。1. A clean automatic warehouse main body for temporary storage of products used in a semiconductor wafer process manufacturing process, wherein a filter protection stay made of a circular or streamlined hollow rod is fixed to a back wall of the automatic warehouse main body. A filter protection stay for a clean automatic warehouse.
レス材であることを特徴とする請求項１記載のクリーン
自動倉庫のフィルタ保護ステー。2. The filter protection stay of a clean automatic warehouse according to claim 1, wherein a material of the filter protection stay is stainless steel.
ッキンの蓋で塞ぐことを特徴とする請求項１又は請求項
２記載のクリーン自動倉庫のフィルタ保護ステー。3. The filter protection stay for a clean automatic warehouse according to claim 1, wherein both ends of the filter protection stay are closed with lids of rubber packing.
を介して段付きボルトで締結し固定することを特徴とす
る請求項１〜３のいずれかに記載のクリーン自動倉庫の
フィルタ保護ステー。4. The filter protection stay of a clean automatic warehouse according to claim 1, wherein both ends of said filter protection stay are fastened and fixed by stepped bolts via buffer materials.
ことを特徴とする請求項４記載のクリーン自動倉庫のフ
ィルタ保護ステー。5. The filter protection stay according to claim 4, wherein the material of the cushioning material is silicon rubber.
記緩衝材に適正予圧がかかる程度とすることを特徴とす
る請求項４又は請求項５記載のクリーン自動倉庫のフィ
ルタ保護ステー。6. The filter protection stay according to claim 4, wherein the length of the non-threaded portion of the stepped bolt is such that an appropriate preload is applied to the cushioning material.
製ブッシュが打ち込まれて一体化され、前記ブッシュと
緩衝材には貫通穴が設けられ前記段付きボルトと同心に
て摺動自在とすることを特徴とする請求項４〜６のいず
れかに記載のクリーン自動倉庫のフィルタ保護ステー。7. A resin bush is driven into each end of the filter protection stay to be integrated, and a through hole is provided in the bush and the cushioning member so that the filter protection stay can slide concentrically with the stepped bolt. The filter protection stay of a clean automatic warehouse according to any one of claims 4 to 6, wherein:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21552098A JP2000044013A (en) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Filter protection stay of clean automatic warehouse |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21552098A JP2000044013A (en) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Filter protection stay of clean automatic warehouse |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000044013A true JP2000044013A (en) | 2000-02-15 |
Family
ID=16673786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21552098A Pending JP2000044013A (en) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Filter protection stay of clean automatic warehouse |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000044013A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005340243A (en) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Miraial Kk | Gas replacing apparatus of accommodation vessel and gas replacing method using the same |
-
1998
- 1998-07-30 JP JP21552098A patent/JP2000044013A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005340243A (en) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Miraial Kk | Gas replacing apparatus of accommodation vessel and gas replacing method using the same |
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