JP2000012213A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い発光効率を有し、発光安定性に優れ、素
子寿命も長いフレキシブルな有機ＥＬ素子を得る製造方
法を提供する。 【解決手段】 高分子フィルムの一面上に、必要に応じ
中間層、第一電極層、少なくとも一層の発光材料を含有
する有機層、第二電極層を順次設けてなり、第一電極層
および第二電極層の少なくとも一方が透明または半透明
であり、ＪＩＳＢ ０６０１に基づいて測定される中心
線平均粗さＲａが０．１〜２０μｍである研磨ロールを
用いて、高分子フィルムの表面を研磨して平坦化し、高
分子フィルムと第一電極層との界面、または第一電極層
と有機層との界面における０．５μｍ以上の異物または
突起物による欠陥の合計数が、前記素子１ｍ²当たり１
００個以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】 本発明は、表示素子や発光
素子などとして利用される有機エレクトロルミネッセン
ス素子（以下、有機ＥＬ素子という）に関する。

【０００２】

【従来の技術】 ＥＬ素子は、自己発光性であるため視
認性が高く、また完全固体素子であるため、耐衝撃性に
優れているなどの特徴を有することから、発光材料とし
て無機および有機化合物を用いた種々のＥＬ素子が研
究、開発されている。

【０００３】ところでＥＬ素子の用途として、薄膜パネ
ル、ベルト状、円筒状などの種々の形状の例えば線、図
面、画像などの表示用途があり、このような用途に使用
するＥＬ素子を作製するには、基板として、薄くかつフ
レキシブルな高分子フィルムを基板として用いるのが好
都合である。例えば特開平２−２５１４２９号公報に
は、基板である高分子フィルム上に透明導電性膜からな
る電極を形成し、この電極を一方の電極とし、対向する
もう１つの電極との間に有機化合物からなる発光層を含
む単一または複数層を設けることにより得られたフレキ
シブルな有機ＥＬ素子が開示されている。また特開平６
−１２４７８５号公報には高分子フィルム原料の純度向
上、フィルム作製環境の向上、成膜装置の改良、洗浄に
よる洗浄化などにより高分子フィルム表面における１μ
ｍ以上の異物、突起物、穴、空孔などの欠陥数の合計が
１ｍ²当たり１００個以下とし、高い発光効率を有し、
その結果、発光安定性に優れ、素子寿命も長いフレキシ
ブルな有機ＥＬ素子が開示されている。

【０００４】しかし上記の技術文献に記載の有機ＥＬ素
子は、高分子フィルム上の突起や異物などに関して、そ
れ自身に積極的に対処しておらず、また高分子フィルム
表面における１μｍ以上の異物、突起物、穴、空孔など
の欠陥数の合計が１ｍ²当たり１００個以下としても、
高分子フィルム上に設ける有機層が薄いため、表示素子
を作成した時、表示欠陥が生じ、未だ実用面で問題があ
った。また第一電極の表面抵抗が高いため表示素子を作
成した時、発光効率を低くする原因となっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】 従って本発明の目的
は、高い発光効率を有し、発光安定性に優れ、素子寿命
も長いフレキシブルな有機ＥＬ素子を得る製造方法を提
供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】 上記目的を達成するた
めに鋭意検討をした結果、高分子フィルム上に設けた電
極とからなる有機ＥＬ素子用支持基板において、上記電
極に面する高分子フィルムまたは積層フィルムの表面を
研磨することにより、高分子フィルムと電極との界面ま
たは積層フィルムと電極の界面および上記電極表面にお
ける０．５μｍ以上の異物、突起物などの欠陥の合計数
を１ｍ ²当たり１００個以下とすることにより、高い発
光効率を有し、発光安定性に優れ、素子寿命も長いフレ
キシブルな有機ＥＬ素子が得られることを見い出し、本
発明を完成した。

【０００７】すなわち本発明に係る有機エレクトロルミ
ネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子（Ｉ）という）の
製造方法は、高分子フィルムの一面上に、第一電極層、
少なくとも一層の発光材料を含有する有機層、第二電極
層を順次設けてなり、第一電極層および第二電極層の少
なくとも一方が透明または半透明であり、ＪＩＳ Ｂ０
６０１に基づいて測定される中心線平均粗さＲａが０．
１〜２０μｍである研磨ロールを用いて、高分子フィル
ムの表面を研磨して平坦化し、高分子フィルムと第一電
極層との界面、または第一電極層の表面における０．５
μｍ以上の異物または突起物による欠陥の合計数が、前
記素子１ｍ²当たり１００個以下とすることを特徴とす
るものである。

【０００８】また本発明に係る有機エレクトロルミネッ
センス素子（以下、有機ＥＬ素子（II）という）の製造
方法は、高分子フィルムの一面上に、中間層、第一電極
層、少なくとも一層の発光材料を含有する有機層、第二
電極層を順次設けてなり、第一電極層および第二電極層
の少なくとも一方が透明または半透明であり、ＪＩＳＢ
０６０１に基づいて測定される中心線平均粗さＲａが
０．１〜２０μｍである研磨ロールを用いて、高分子フ
ィルムの表面を研磨して平坦化し、高分子フィルムと第
一電極層との界面、または第一電極層の表面における
０．５μｍ以上の異物または突起物による欠陥の合計数
が、前記素子１ｍ²当たり１００個以下とすることを特
徴とするものである。

【０００９】前記高分子フィルムが、ポリエチレン−
２，６−ナフタレンジカルボキシレートフィルム（以
下、ＰＥＮフィルムという）であることが好ましく、ま
た前記中間層が、エポキシ樹脂、ポリエステル、ウレタ
ン樹脂、メラミン樹脂、ポリアクリレートから選ばれた
有機樹脂、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ₄から選ばれた無
機材料の少なくとも１種を含有することが好ましい。

【００１０】さらに前記第一電極層が、圧力勾配型放電
方式によるイオンプレーティング法により形成され、か
つ第一電極層が酸化インジウム−錫の焼結体からなり、
その表面抵抗が２０Ω／□以下であることが好ましい。

【００１１】

【発明の実施の態様】 本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）お
よび（II）で使用する高分子フィルムとしては、延伸
法、溶融押し出し法、キャスト法等で製造される。高分
子フィルムの材質は、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルアルコール、フッ素樹脂、ポリカーボネー
ト、セルロースアセテート、飽和ポリエステル、ポリア
ミド樹脂、ポリイミド、変性ポリフェニレンエーテル、
ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリパラキシレン、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レンジカルボキシレート等を挙げることができるが、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが
好ましい。本発明で使用する高分子フィルムの厚さは、
１０〜３００μｍである。

【００１２】本発明で好ましく用いられるＰＥＮフィル
ムは、耐熱性が高いので、ＰＥＮフィルム上に電極を蒸
着したとき、寸法安定性が非常に良く、表示素子を作製
する際の基盤の歪みによる欠陥を防ぐことができる。ま
たＰＥＮフィルムは耐熱性の高い方が良いので、二軸延
伸フィルムであることが望ましい。本発明で使用するＰ
ＥＮフィルムの厚さは、１０〜３００μｍである。

【００１３】次に本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）に使用す
るＰＥＮフィルムの研磨方法は、研磨テープ、研磨布、
研磨ロールなどによる方法がある。そのうち好ましく
は、研磨ロールが使われる。この研磨ロールは、サンド
ブラスト法で作製し、ＪＩＳＢ ０６０１に基づいて測
定される中心点粗さＲａが０．１〜２０μｍ、好ましく
は０．５〜１０μｍになるように作製する。

【００１４】Ｒａが０．１μｍより小さい場合には、高
分子フィルム上の微細突起を研磨する能力が著しく低下
する。Ｒａが２０μｍより大きい場合には、高分子フィ
ルムの表面の微細突起のみならず、他の平坦な部分も着
傷し易くなる。この研磨ロールの材質は、鉄、ステンレ
ス、黄銅、アルミニウム、セラミックなどを挙げること
ができるが、もちろんこれらに限定されるものではな
い。研磨ロールの直径は特に限定されることはないが、
好ましくは直径１０〜１０００ｍｍである。直径１０ｍ
ｍより小さい場合には、研磨ロールが長手方向でたわみ
易くなることがあり、直径１０００ｍｍより大きい場合
には、研磨ロールの作製コストが高くなる。ただし、直
径１０ｍｍより小さくしても、たわみ防止の方法を用い
れば、使用することも可能である。

【００１５】本発明の高分子フィルム上の突起、異物な
どを研磨ロールで研磨平坦化する方法は、回転した研磨
ロール上に高分子フィルムを搬送すれば良い。具体的に
は、塗工機のアプリケーターロールを前記研磨ロールに
交換した装置の使用が可能である。また高分子フィルム
上の微細突起の平坦化作業において、通常の塗料塗工時
に使用する塗料パンに洗浄溶媒を注入し、研磨ロールが
洗浄溶媒で濡れた状態で微細突起を研磨し、平坦化を行
うこともできる。このような洗浄溶媒を用いて微細突起
の平坦化作業を行うと、微細突起の研磨クズ等の高分子
フィルムへの付着を防止することができる。このため洗
浄溶媒を用いて平坦化を行うことが好ましい。洗浄溶媒
を用いて平坦化処理を行わない場合には、平坦化処理後
に洗浄溶媒による洗浄工程を設けることが好ましい。も
ちろん洗浄溶媒とともに平坦化処理を行った場合でも、
洗浄工程を設けることがさらに好ましい。

【００１６】ここで用いる洗浄溶媒としては、水、超純
水、二酸化炭素水等の水系溶媒や、切削油、メタノー
ル、イソプロピルアルコール、トルエン、メチルイソブ
チルケトン、酢酸エチル、ヘキサン等の有機溶媒を挙げ
ることができるが、もちろんこれらに限定されることは
ない。洗浄溶媒に、洗浄効果を高めるため、界面活性剤
のような薬剤を洗浄溶媒に加えて使用することもでき
る。

【００１７】研磨ロールの回転方向は正転でも逆転でも
良い。また高分子フィルムの搬送速度と研磨ロールの周
速は特に限定されることはないが、研磨ロールの周速Ｒ
ｒ（分／ｍ）と高分子フィルムの搬送速度Ｒｆ（分／
ｍ）の比がＲｒ／Ｒｆが１以上であれば、より好まし
い。

【００１８】このような平坦化処理の回数は、１回以上
行えば良く、回数が多いほど微細突起の平坦化の効果は
大きい。１回の平坦化処理において、レーザー顕微鏡で
測定される平均突起高さが０．５μｍより大きい場合
は、複数回行えば目的とする高平坦性高分子フィルムを
製造することができる。

【００１９】上記研磨した高分子フィルムを使用して、
有機ＥＬ素子を作製するが、先ず本発明の有機ＥＬ素子
（Ｉ）について説明する。

【００２０】本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）においては、
前記のＰＥＮフィルム上に第一電極と、有機化合物から
なる発光材料を有する有機単層部または有機多層部の有
機層と、第二電極とを順次設けたものである。

【００２１】すなわち、本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）に
おいては、ＰＥＮフィルム上に設けた第一電極と、この
第一電極と対向する第二電極との間に有機化合物からな
る発光材料を有する有機単層部または有機多層部の有機
層が介在されている。そして上記二つの電極のうち、一
方が陽極を、他方が陰極を構成し、前者の陽極の材料と
しては、例えば、４ｅＶ以上と仕事関数の大きい金属、
合金、電気伝導性化合物またはこれらの混合物が好まし
く用いられる。具体例としてはＡｕのような金属、Ｃｕ
Ｉ、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、ＺｎＯなどの誘電性透明材料を
挙げることができる。これらは生産性、制御性の点から
圧力勾配型放電方式によるイオンプレーティング法によ
り形成されることが好ましい。

【００２２】また陰極の材料としては、例えば、４ｅＶ
以下と仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物
またはこれらの混合物が好ましく用いられる。具体例と
しては、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、銅、イ
ンジウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム−
銅混合物、Ａｌ／Ａｌ₂Ｏ₃などである。

【００２３】特にＰＥＮフィルム上に設けられる第一電
極の材料としてＩＴＯからなる導電性膜を用い、第一電
極を陽極として用いるのが望ましい。

【００２４】本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）において、上
記二つの電極のうち少なくとも一方の電極は、透光性を
得るために、透明であることを必須とする。上記ＩＴＯ
からなる導電性膜は透明であるので、この点でもＰＥＮ
フィルム上にＩＴＯからなる導電性膜を陽極として設け
るのが好ましい。陽極の厚さは、光透過率を高める観点
から１００〜１５００ｎｍとするのが好ましい。また発
光効率をよくするため、陽極の表面抵抗は、２０Ω／□
以下が好ましい。

【００２５】本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）において、上
記二つの電極間に介在される有機単層部または有機多層
部の有機層は、少なくとも有機化合物からなる発光層を
有し、有機多層部の有機層の構成としては、発光層のみ
からなるもの、発光層と正孔注入層とからなるもの、電
子注入層と発光層とからなるもの、電子注入層と発光層
と正孔注入層とからなるもの、これらの機能を有する材
料を混合したもの、あるいは高分子に分散したものなど
を挙げることができる。なお、多層構成の場合、この有
機多層部の構成順序は電極の極性により逆となっても良
い。

【００２６】発光層、正孔注入層、電子注入層の材料は
従来公知の材料が用いられる。例えば、発光層の材料と
して使用可能な有機化合物としては、ベンゾチアゾール
系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系など
の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、ス
チリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、
芳香族ジメチリジン化合物などが挙げられる。

【００２７】正孔注入層の材料としては、例えばトリア
ゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール
誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導
体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ア
リールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキ
サゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオ
レン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シ
ラザン誘導体、ポリシラン系化合物、アニリン系共重合
体、チオフェンオリゴマーなどの特定の導電性高分子オ
リゴマーなどを挙げることができる。

【００２８】電子注入層の材料としては、ニトロ置換フ
ルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフ
ェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナ
フタレンペリレンなどの複素環テトラカルボン酸無水
物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、
アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、オキ
サジアゾール誘導体、８−キノリノール誘導体その他特
定の電子伝達性化合物などを挙げることができる。

【００２９】有機単層部または有機多層部の有機層の作
成方法としては、特に制限はなく、各種物理的または化
学的な薄膜形成法を用いることができる。具体的には真
空蒸着法、昇華法、塗布法、キャスト法、スピンコート
法、ＬＢ法などがある。

【００３０】上記構成からなる本発明の有機ＥＬ素子
（Ｉ）において、ＰＥＮフィルムと第一電極との界面お
よび第一電極の表面における０．５μｍ以上の異物、突
起物などの欠陥の合計数は１ｍ²当たり１００個以下と
する。これは、上記各種欠陥の合計数が、１ｍ²当たり
１００個より多くなると、発光効率が低く、発光安定性
が劣るだけではなく、曲面などに変形すると、短絡など
の問題が生じることがある。一方、１ｍ²当たり１００
個以下であると、発光効率、発光安定性ともに優れ、ま
た曲面などに変形しても性能が変化しない。各種欠陥の
合計数は１ｍ²当たり８０個以下であることが特に好ま
しい。

【００３１】なお、上記０．５μｍ以上の異物、突起物
などの欠陥の合計数の測定法としては、顕微鏡下での観
察、電子顕微鏡による観察、走査型トンネル顕微鏡によ
る観察、触針式膜厚計もしくは表面粗さ計による測定、
光干渉計による評価などがある。評価法としては、これ
らのうち一つを用いればよいが、より精度を上げるため
には二種類以上の方法で行うことが好ましい。

【００３２】本発明の有機ＥＬ素子（Ｉ）は、上述のよ
うにＰＥＮフィルムと、その一面上に設けた電極とから
なる支持基板における０．５μｍ以上の異物、突起など
の欠陥の合計数を１ｍ²当たり１００個以下に限定する
ことにより、高い発光効率を有し、その結果、発光安定
性に優れ、素子寿命も長いという顕著な効果が得られ
る。

【００３３】次に本発明の有機ＥＬ素子（II）について
説明する。この有機ＥＬ素子（II）が、上述の有機ＥＬ
素子（Ｉ）と異なる点は、ＰＥＮフィルムを単独で基盤
として用いる替わりに、ＰＥＮフィルム上に有機または
無機材料膜を積層した積層フィルムを用いて、この積層
フィルムを研磨している点だけであり、他の要件は同一
である。従って上記積層フィルムについてのみ説明す
る。

【００３４】本発明の有機ＥＬ素子（II）において、積
層フィルムはＰＥＮフィルム上に、中間層として有機ま
たは無機材料膜を積層したものである。このＰＥＮフィ
ルム上に積層される中間層用の有機または無機材料膜用
の材料としては、ＰＥＮフィルム上に数μｍで薄く積層
できる材料であれば、いかなる材料でも使用可能であ
る。具体例としては、エポキシ樹脂、ポリエステル、ウ
レタン樹脂、メラミン樹脂、ポリアクリレートなどの有
機樹脂、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などの無機酸化物、ＳｉＮ₄
などの無機窒化物などが挙げられる。これら有機または
無機材料のＰＥＮフィルムへの積層は、塗布法、蒸着
法、スパッタ法などの任意の方法で行うことが出来る。

【００３５】本発明の有機ＥＬ素子（II）における積層
フィルムの膜厚は、積層フィルムのフレキシブル性を十
分に活用するため、前記有機ＥＬ素子（Ｉ）におけるＰ
ＥＮフィルムの膜厚と同様に１０〜３００μｍであるこ
とが好ましい。

【００３６】有機ＥＬ素子（II）においても、有機ＥＬ
素子（Ｉ）の製造と同様に基板を研磨することにより、
積層フィルムと第一電極との界面および第一電極の表面
における０．５μｍ以上の異物、突起物などの欠陥の合
計数が１ｍ²当たり１００個以下とするので、有機ＥＬ
素子（Ｉ）と同様に発光効率、発光安定性に優れ、また
曲面などに変形しても性能が変化しないという顕著な効
果が発現する。

【００３７】

【実施例】 以下、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明する。なお高分子フィルムとしてアイ・シー・ア
イ・ジャパン社製のＰＥＮフィルム（厚さ１２５μｍ）
を用いた。

【００３８】実施例１ 先ず、下記に示す要領で高平坦なＰＥＮフィルムを作成
した。 サンドブラスト法により直径１００ｍｍ、長さ１ｍの
アルミニウムロッド表面に凹凸をつけた後、表面にチタ
ンメッキを施して研磨ロールを作成した。この研磨ロー
ルの表面粗さをＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づいて測定し
た中心点平均粗さＲａは０．６７μｍであった。 メイヤーバーコーターのアプケーターロールの代わり
にで作成した研磨ロールを取り付け、塗料パンに純水
を注入した。ＰＥＮフィルムの搬送速度を１ｍ／分、研
磨ロールは正転、周速を１０ｍ／分として研磨平坦化処
理を行った。処理したＰＥＮフィルムは研磨平坦化処理
前後でレーザー顕微鏡（キーエンス社製）にて突起の高
さを測定した。また中心点平均粗さも測定した。

【００３９】次いで、研磨済みＰＥＮフィルム上に、Ｉ
ＴＯを圧力勾配型放電方式によるイオンプレーティング
法により１８０ｎｍ成膜し、表面抵抗１９Ω／□を得
た。こうして得たＩＴＯ膜付きＰＥＮフィルムをサイズ
２０ｍｍ×５０ｍｍとし、クリーンルーム内で次の要領
で洗浄した。

【００４０】上記ＩＴＯ膜付きＰＥＮを先ず汎用液体洗
剤中で１０分間、次に純粋中で１０分間、次いでイソプ
ロピルアルコール（以下、ＩＰＡという）で１０分間、
最後にアセトンで１０分間超音波洗浄した。キーエンス
社製レーザー顕微鏡ＶＺ−７７００を用いて、洗浄後の
ＩＴＯ膜付きＰＥＮフィルム上の０．５μｍ以上の異
物、突起物などの欠陥数を測定すると、１ｍ²当たり５
３個であった。

【００４１】このＩＴＯ膜付きＰＥＮフィルムを使用し
て、有機ＥＬ素子を作成した。上記ＰＥＮフィルムを市
販の蒸着装置（日本真空技術社製）の基本ホルダーに固
定し、モリブデン製の抵抗加熱ボートに、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（以下
ＴＰＤという）を１００ｍｇ入れ、また別のモリブデン
製ボートに、４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビ
ニル）ビフェニル（以下ＤＰＶＢｉという）を１００ｍ
ｇを入れて真空槽を１×１０^-4Ｐａまで減圧した。その
後ＴＰＤ入りの前記ボートを２１５〜２２０℃まで加熱
し、ＴＰＤを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／秒でＰＥＮ
フィルム上に蒸着し、膜厚４０ｎｍの正孔注入層を成膜
させた。これを真空層より取り出すことなく、正孔注入
層の上に、もう一つのボートよりＤＰＶＢｉを発光層と
して４０ｎｍ積層蒸着した。蒸着条件はボートの温度が
２４０℃で蒸着速度は０．１〜０．３ｎｍ／秒であっ
た。これを真空槽から取り出し、上記発光層上にステン
レススチール製のマスクを設置し、再び基板ホルダーに
固定した。次にモリブデン製ボートに、トリス（８−キ
ノリノール）アルミニウム（以下、Ａｌｑ３という）を
１００ｍｇ入れて真空槽に装着した。さらに、モリブデ
ン製の抵抗加熱ボートにマグネシウムリボン５００ｍｇ
を入れ装着した。その後、真空槽を１×１０^-4Ｐａまで
減圧して、Ａｌｑ３の入ったモリブデンボートを２３０
℃まで加熱し０．０１〜０．０３ｎｍ／秒の蒸着速度
で、２０ｎｍ蒸着した。さらにタングステンバスケット
から銀を０．１ｎｍ／秒の蒸着速度で蒸着し、同時に抵
抗加熱法によりもう一方のモリブデンボートからマグネ
シウムを１．４ｎｍ／秒の蒸着速度でそれぞれ蒸着し
た。上記条件でマグネシウムと銀の混合金属を１５０ｎ
ｍ積層蒸着し、対向電極とした。

【００４２】この様にして、ＰＥＮフィルム上に第一電
極層としてＩＴＯ膜（透明導電性膜）、有機層としてＴ
ＰＤ膜（正孔注入層）、ＤＰＶＢｉ（発光層）、Ａｌｑ
３（電子輸送層）、および第二電極層としてマグネシウ
ムと銀の混合金属電極（陰極）を順次設けた有機ＥＬ素
子を得た。

【００４３】得られた有機ＥＬ素子を乾燥空気中で発光
させたところ、５Ｖ、２．０ｍＡ／ｃｍ²で輝度３００
ｃｄ／ｍ²の均一な発光が得られた。

【００４４】実施例２ ＰＥＮフィルム上にＩＴＯを３６０ｎｍ成膜した以外
は、実施例１と同様に行った。表面抵抗は１０Ω／□で
あった。研磨してＩＴＯを成膜したＰＥＮフィルム上の
０．５μｍ以上の異物、突起物などの欠陥数を測定する
と、１ｍ²当たり７０個であった。得られた有機ＥＬ素
子を乾燥空気中で発光させたところ、５Ｖ、０．８ｍＡ
／ｃｍ²で１５０ｃｄ／ｍ²の均一な発光が得られた。

【００４５】比較例１ ＰＥＮフィルムの研磨を行わなかった以外は、実施例１
と同様に行った。研磨してＩＴＯを成膜したＰＥＮフィ
ルム上の０．５μｍ以上の異物、突起物などの欠陥数を
測定すると、１ｍ²当たり２４０個であった。得られた
有機ＥＬ素子を乾燥空気中で発光させたところ、５Ｖ、
１２０ｍＡ／ｃｍ²で５０ｃｄ／ｍ²の不均一な発光であ
った。

【００４６】比較例２ ＰＥＮフィルムの替わりにアイ・シー・アイ・ジャパン
社製のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴフィルム）
を使用した以外は、実施例１と同様に行った。研磨して
ＩＴＯを成膜したＰＥＴフィルム上の０．５μｍ以上の
異物、突起物などの欠陥数を測定すると、１ｍ²当たり
１２５個であった。また基板はカールが発生した。得ら
れた有機ＥＬ素子を乾燥空気中で発光させたところ、５
Ｖ、２４ｍＡ／ｃｍ²で７０ｃｄ／ｍ²の不均一な発光で
あった。

【００４７】比較例３ ＰＥＮフィルム上にＩＴＯを１１０ｎｍ成膜した以外
は、実施例１と同様に行った。表面抵抗は５０Ω／□で
あった。研磨してＩＴＯを成膜したＰＥＮフィルム上の
０．５μｍ以上の異物、突起物などの欠陥数を測定する
と、１ｍ²当たり７０個であった。得られた有機ＥＬ素
子を乾燥空気中で発光させたところ、５Ｖ、８ｍＡ／ｃ
ｍ ²で１２０ｃｄ／ｍ²の均一な発光であった。

【００４８】

【表１】

【００４９】

【発明の効果】 本発明に係る製造方法により有機ＥＬ
素子を作製すると、高い発光効率を有し、発光安定性に
優れ、素子寿命も長いフレキシブルな有機ＥＬ素子が得
られ、その産業上極めて有用なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 有機ＥＬ素子の断面構成図である。

【符号の説明】

１・・・ＰＥＮフィルム ２・・・透明導電膜からなる電極層（第一電極層） ３・・・有機化合物薄膜層（有機層） ４・・・第二電極層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高分子フィルムの一面上に、第一電極
   層、少なくとも一層の発光材料を含有する有機層、第二
   電極層を順次設けてなり、第一電極層および第二電極層
   の少なくとも一方が透明または半透明である有機エレク
   トロルミネッセンス素子の製造方法において、ＪＩＳ
   Ｂ ０６０１に基づいて測定される中心線平均粗さＲａ
   が０．１〜２０μｍである研磨ロールを用いて、高分子
   フィルムの表面を研磨して平坦化し、高分子フィルムと
   第一電極層との界面、または第一電極層の表面における
   ０．５μｍ以上の異物または突起物による欠陥の合計数
   が、前記素子１ｍ²当たり１００個以下とすることを特
   徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
   法。
2. 【請求項２】 高分子フィルムの一面上に、中間層、第
   一電極層、少なくとも一層の発光材料を含有する有機
   層、第二電極層を順次設けてなり、第一電極層および第
   二電極層の少なくとも一方が透明または半透明である有
   機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
   ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づいて測定される中心線平均
   粗さＲａが０．１〜２０μｍである研磨ロールを用い
   て、高分子フィルムの表面を研磨して平坦化し、高分子
   フィルムと第一電極層との界面、または第一電極層の表
   面における０．５μｍ以上の異物または突起物による欠
   陥の合計数が、前記素子１ｍ²当たり１００個以下とす
   ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子
   の製造方法。
3. 【請求項３】 前記高分子フィルムが、ポリエチレン−
   ２，６−ナフタレンジカルボキシレートフィルムである
   請求項１または２記載の有機エレクトロルミネッセンス
   素子の製造方法。
4. 【請求項４】 前記中間層が、エポキシ樹脂、ポリエス
   テル、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリアクリレート
   から選ばれた有機樹脂、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＮ₄か
   ら選ばれた無機材料の少なくとも１種を含有する請求項
   ２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記第一電極層が、圧力勾配型放電方式
   によるイオンプレーティング法により形成され、かつ第
   一電極層が酸化インジウム−錫の焼結体からなり、その
   表面抵抗が２０Ω／□以下である請求項１から４記載の
   有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。