JP2000005586A - 純水の比抵抗値調整装置 - Google Patents

純水の比抵抗値調整装置

Info

Publication number
JP2000005586A
JP2000005586A JP17700698A JP17700698A JP2000005586A JP 2000005586 A JP2000005586 A JP 2000005586A JP 17700698 A JP17700698 A JP 17700698A JP 17700698 A JP17700698 A JP 17700698A JP 2000005586 A JP2000005586 A JP 2000005586A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pure water
hollow fiber
carbon dioxide
fiber membrane
dioxide gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17700698A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Yoshioka
哲也 吉岡
Akikazu Kiyokawa
顕千 清川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP17700698A priority Critical patent/JP2000005586A/ja
Publication of JP2000005586A publication Critical patent/JP2000005586A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型で、操作が簡単で、かつ制御機構の簡素
な純水の比抵抗値調整装置を提供する。 【解決手段】 純水の本比抵抗値調整装置10は、中空
糸膜モジュールに炭酸ガスを導入して、容器内を流れる
純水に炭酸ガスを溶解させ、純水の比抵抗を調整する装
置であって、中空糸膜モジュール14と、中空糸膜モジ
ュールを内蔵し、かつ純水が中空糸膜モジュールの外側
を流れる密閉容器12とを備えている。中空糸膜モジュ
ールは、ガス透過膜からなる多数本の中空糸膜20の束
を有し、中空糸膜の内側中空部を通過する炭酸ガスを中
空糸膜の外側に透過させる。本装置では、中空糸膜モジ
ュールに供給する炭酸ガスの圧力及び流量をそれぞれ調
節する圧力調整弁34及び流量調整弁36が炭酸ガス供
給管28に設けてある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、純水の比抵抗値調
整装置に関し、更に詳細には、純水の比抵抗値の調節が
容易で、制御機構の簡単な小型の純水の比抵抗値調整装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造過程では、多くのプロ
セス工程の前後で、ウエハを純水で洗浄してウエハ上の
薬剤、パーティクル或いは汚染物を除去している。とこ
ろで、半導体装置の製造工程においては、高いクリーン
度を要求されるために、通常、比抵抗値≧18MΩcmの
純水を使用している。しかし、純水による洗浄工程にお
いては、純水の比抵抗値が高いと、静電気が発生し、そ
の結果として絶縁破壊、ダストを吸着する等の不具合を
引き起こす。例えば、洗浄装置のウエハステージ上に保
持され、高速回転しているウエハ上にノズルから噴出し
たジェット水が衝突した際に、静電気がウエハ上に発生
し、ウエハ上のパーティクルを静電吸着し、除去し難く
する。更には、静電気の発生により、ウエハが静電破壊
されることもある。そこで、洗浄工程においては、この
静電気の発生の抑制するために、純水の比抵抗値調整装
置を使って、イオン、例えば炭酸ガスを溶解させて比抵
抗値を0.2〜2MΩcm程度まで低下させ、静電気が発
生し難いように、純水の比抵抗を調節している。
【0003】純水の比抵抗値調整装置とは、上述のよう
に、純水に炭酸ガスを溶解させて純水の比抵抗値を調節
する装置であって、例えば、ウエハを純水で洗浄する
際、静電気の発生によりウエハ洗浄の効率が低下した
り、ウエハに対する放電破壊現象が生じたりするのを防
止するために、半導体装置を製造する工場に供給する純
水の比抵抗を調節するために使用されている。
【0004】従来の純水の比抵抗値調整装置では、純水
にイオンを溶解させるに当たり、純水の流路にマグネシ
ウムのメッシュを装着し、メッシュから溶出するマグネ
シウムイオンを純水に溶解する方法、純水を収容したバ
ブラーに炭酸ガスを送入し、バブリングさせつつ炭酸イ
オンを純水に溶解させる方法、或いはガス透過膜からな
る中空糸膜を用い、中空糸膜の内側から外側の純水に炭
酸ガスを透過させ、炭酸ガスを純水に溶解させる方法の
3つの方法のいずれかが使用されている。従来の純水の
比抵抗値調整装置のうち、比抵抗値を調節した純水のク
リーン度が高いこと、比抵抗値の調節が容易なこと、構
造がコンパクトであること、炭酸ガスの使用量が少ない
こと等の利点から中空糸膜を用いる方法が、最も有効で
有望である。例えば、中空糸膜を用いた純水の比抵抗値
調整装置は、日本ガイシ(株)から「メグコン」の商品
名で販売されている。
【0005】しかし、従来の中空糸膜を用いた純水の比
抵抗値調整装置は、設定された比抵抗値を維持するため
に、純水の比抵抗値調整装置から流れ出る調節済みの純
水の比抵抗値を測定し、この値を設定値に対してある一
定の範囲内に収めるためのフィードバック回路を設けた
構成となっている。この結果、純水の供給条件等が変化
した場合にも、純水の比抵抗値を所定の値に保持するこ
とができるものの、電気的な複雑な制御系を必要とする
ため、制御システムが高価になり、純水の比抵抗値調整
装置が大型化してしまうという問題があった。このため
に、設置のための所要面積が大きくなり、例えば洗浄装
置の近傍に設置することが難しくなった。また、制御の
操作も複雑になり、運転が面倒で制御に詳しい人手を要
するという問題もあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、小型で、操作が簡単で、しかも制御機構の簡素な純
水の比抵抗値調整装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る純水の比抵抗値調整装置は、ガス透過
膜からなる多数本の中空糸膜の束を有し、中空糸膜の内
側中空部を通過する炭酸ガスを中空糸膜の外側に透過さ
せる中空糸膜モジュールと、中空糸膜モジュールを内蔵
し、かつ純水が中空糸膜モジュールの外側を流れる密閉
容器とを備え、中空糸膜モジュールに炭酸ガスを導入し
て、容器内を流れる純水に炭酸ガスを溶解させ、純水の
比抵抗を調節する装置であって、炭酸ガスの圧力及び流
量をそれぞれ調節する圧力調節弁及び流量調節弁が、中
空糸膜モジュールに炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給管
に設けてあることを特徴としている。
【0008】本発明で使用する容器の形状は、任意であ
って、縦型、横型、或いはU字体のパイプを使っても良
い。また、中空糸膜モジュールの中空糸膜の装着態様も
自在であって、容器の長手方向に沿って直線状に延在さ
せても良く、U字状に懸架させて良く、或いは螺旋状に
配置しても良い。中空糸膜モジュールに使う中空糸膜
は、中空糸膜の外側を流れている純水に、中空糸膜の内
側の中空部を流れている炭酸ガスを効率よく溶解させる
性能を有し、かつ外側を流れている純水が中空部に入り
込まない性質を有していれば、その種類は問わない。
【0009】炭酸ガスにより純水の比抵抗値を調節する
際、純水の比抵抗値は、中空糸膜を透過して純水に溶解
する炭酸ガス量に依存する。また、中空糸膜を透過する
炭酸ガス量は炭酸ガスの圧力及び流量、並びに純水の流
量に依存する。従って、中空糸膜を使った純水の比抵抗
値の調節には、炭酸ガスの圧力と流量、及び純水の流量
の3つのパラメータを使用することが可能であるもの
の、一般的には、純水の使用量は、洗浄装置のプロセス
条件等により規定されている場合が多い。そこで、本発
明では、純水の流量制御ではなく、中空糸膜モジュール
に供給する炭酸ガスの圧力と流量とを調節することによ
り、純水に溶解する炭酸ガスの溶解量を調節し、純水の
比抵抗値を調節する。本発明では、純水の比抵抗値を調
節する際、使用する中空糸膜の性質、供給する純水の圧
力、炭酸ガスの溶解効率等を考慮し、純水への炭酸ガス
の溶解時に気泡が発生しない圧力範囲内で、先ず、圧力
調節弁により炭酸ガスの圧力を最適な値に調節する。次
に、比抵抗値が所定の値となるように炭酸ガスの流量を
流量調節弁により調節する。
【0010】本発明の好適な実施態様では、炭酸ガスの
流量を調節する第2の流量調節弁が、中空糸膜モジュー
ルを通過した炭酸ガスを外部に流出させる炭酸ガス流出
管に設けてある。第2の流量調節弁を操作して、流量を
調節することにより、中空糸膜を透過して純水に溶解す
る炭酸ガス量を更に精密に制御することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、実施形態例を挙げ、添付
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細
に説明する。実施形態例1 本実施形態例は、本発明に係る純水の比抵抗値調整装置
の実施形態の一例であって、図1は本実施形態例の純水
の比抵抗値調整装置の構成を示す断面図である。本実施
形態例の純水の比抵抗値調整装置10は、図1に示すよ
うに、所定の容量を有して、純水を滞留させ、かつ通過
させる縦長の容器12と、容器12の内部に設けられた
中空糸膜モジュール14とを備えている。容器12は、
純水を流入させる純水入口ポート16を下部端部に、及
び比抵抗値を調整した純水を流出させる純水出口ポート
18を上部端部にそれぞれ有する。中空糸膜モジュール
14は、容器12の縦方向に沿って長く直線状に延在す
る多数本の中空糸膜20の束と、中空糸膜20の束の端
部を接着剤で固定したモジュール端部22、24とから
構成されている。中空糸膜20は、ガス透過膜を細い中
空部を有する糸状に巻いた中空糸状の膜体であって、炭
酸ガスが中空糸膜20の内側の中空部を流れつつ中空糸
膜(ガス透過膜)を内側から外側に透過して外側を流れ
る純水に溶解、拡散する。中空糸膜モジュール14に使
用する中空糸膜20は、外側を流れている純水に、中空
糸膜20の中空部を流れている炭酸ガスを効率よく溶解
させる性能を有し、かつ外側を流れている純水が中空部
に入り込まない性質を有していれば、その種類は問わな
い。
【0012】一方のモジュール端部22は、容器12の
純水出口側に設けられた炭酸ガス出口ポート26を介し
て炭酸ガス供給管28に接続され、各中空糸膜20の中
空部に炭酸ガスを導入する。他方のモジュール端部24
は、容器12の純水入口側に設けられた炭酸ガス出口ポ
ート30を介して炭酸ガス排出管32に接続され、中空
糸膜20の中空部を通過した余剰の炭酸ガスを排出す
る。また、炭酸ガス供給管28には、炭酸ガスの圧力調
節弁34と第1の流量調節弁36とが直列に設けられ、
炭酸ガス排出管32には、炭酸ガスの第2の流量調節弁
38が設けられている。圧力調節弁34は、弁開度を調
整することにより圧力調節弁34の下流の炭酸ガスの圧
力、即ち中空糸膜モジュール14に導入する炭酸ガスの
圧力を調節することができる。第1の流量調節弁36
は、弁開度を調整することにより中空糸膜モジュール1
4に導入する炭酸ガスの流量を調節することができる。
また、第2の流量調節弁38は、弁開度を調整すること
により中空糸膜モジュール14から流出する炭酸ガスの
流量を調節することができる。
【0013】以上の構成によって、純水入口ポート16
から入った純水は、容器12を満たし、中空糸膜モジュ
ール14と接触しながら純水出口ポート18に向かって
流れて行き、純水出口ポート18から出て行く。一方、
炭酸ガスの圧力調節弁34と流量調節弁32によって圧
力と流量が調節された炭酸ガスは、炭酸ガス入口ポート
26から入りモジュール端部22を経て中空糸膜モジュ
ール14の中空糸膜20の中空部を通過し、一部が中空
糸膜を透過して外側の純水に溶解、拡散し、残部が他方
の端部24から炭酸ガス出口ポート30を通って出て行
く。
【0014】純水の比抵抗値の調節には、炭酸ガスの圧
力と流量、及び純水の流量の3つのパラメータを使用す
ることが可能であるものの、一般的には、純水の使用量
は、洗浄装置のプロセス条件等により規定されている場
合が多いので、本実施形態例では、純水の流量の制御に
より、比抵抗値の調整は行わない。本実施形態例では、
純水の流量制御ではなく、炭酸ガスの圧力と流量を調節
することにより、純水の比抵抗値を調整する。比抵抗値
を調節する際には、使用する中空糸膜の性質、供給する
純水の圧力、炭酸ガスの純水への溶解効率等を考慮し、
純水への炭酸ガスの溶解時に気泡が発生しない圧力範囲
内で、先ず、炭酸ガスの圧力を最適な値に調節する。次
に、比抵抗値が所定の値となるように炭酸ガスの流量を
調節する。尚、炭酸ガス出口ポート30から出てくる炭
酸ガスに関しては、状況に応じて最も効率のよい条件と
なるように、第2の流量調節弁38を全閉〜全開の範囲
で調整し、その流量を調節する。通常は、第2の流量調
節弁38を全閉にしておいて良い。
【0015】実施形態例2 本実施形態例は、本発明に係る純水の比抵抗値調整装置
の実施形態の別の例であって、図2は本実施形態例の純
水の比抵抗値調整装置の構成を示す断面図である。図2
に示すもののうち図1に示すものと同じ機能を果たすも
のには同じ符号を付してその説明を省略す。本実施形態
例の純水の比抵抗値調整装置40は、容器42に設ける
中空糸膜モジュール44の中空糸膜の配置形状と、炭酸
ガス入口ポート46及び炭酸ガス出口ポート48の取り
付け位置が異なることを除いて、実施形態例1の純水の
比抵抗値調整装置10の構成と同じ構成を備えている。
【0016】容器42の上部には、炭酸ガスを流入させ
る炭酸ガス入口ポート46が設けられ、容器42に中心
を通る反対側に炭酸ガスを流出させる炭酸ガス出口ポー
ト48が設けてある。中空糸膜モジュール44の一方の
端部50は炭酸ガス入口ポート46に連結され、他方の
端部52は炭酸ガス出口ポート48に連結され、中空糸
膜54は容器内でU字状に懸架されている。
【0017】本実施形態例の純水の比抵抗値調整装置4
0では、中空糸膜モジュール14の中空糸膜54をU字
状に懸架することにより、容器42の高さ寸法を短くす
ることができる。中空糸膜の配置態様としては、その他
に螺旋状等の方法が考えられ、状況に応じて最適な配置
を採用する。
【0018】以上の構成により、実施形態例1及び実施
形態例2の純水の比抵抗値調整装置では、特別に複雑な
制御機構を設けることなく、主に供給する炭酸ガスの圧
力と流量を制御することにより、純水の比抵抗値を容易
に調節できるコンパクトな装置を経済的に製作すること
ができる。尚、実際の使用においては、通常、純水の使
用量は、数値の先頭の位の数値が、例えば純水の使用量
が1000m3 /hrであれば、千の位の数値が変動す
るような状況は起こり得ないことから、純水の使用量が
ある程度変動しても、炭酸ガスの圧力と流量を一定値に
固定した状態で、純水の比抵抗値をある範囲の変動に収
めることができる。よって、従来の純水の比抵抗値調整
装置のように複雑なフィードバック制御を行わなくて
も、実用上、問題がない。
【0019】
【発明の効果】本発明の構成によれば、中空糸膜モジュ
ールに供給する炭酸ガスの圧力及び流量をそれぞれ調節
する圧力調節弁及び流量調節弁を炭酸ガス供給管に設け
て、純水に溶解する炭酸ガス量をその圧力及び流量によ
って制御することにより、従来の純水の比抵抗値調整装
置に必要とされていた電気的なフィードバック制御シス
テムが不要となり、経済的でコンパクトな純水の比抵抗
値調整装置を実現することができる。また、比抵抗値の
調節パラメーターとして、供給する炭酸ガスの圧力と流
量の2つだけを使用するので、純水の比抵抗値のコント
ロールが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態例1の純水の比抵抗値調整装置の構成
を示す断面図である。
【図2】実施形態例2の純水の比抵抗値調整装置の構成
を示す断面図である。
【符号の説明】
10……実施形態例1の純水の比抵抗値調整装置、12
……容器、14……中空糸膜モジュール、16……純水
入口ポート、18……純水出口ポート、20……中空糸
膜、22、24……中空糸膜の端部、26……炭酸ガス
出口ポート、28……炭酸ガス供給管、30……炭酸ガ
ス出口ポート、32……炭酸ガス排出管、34……圧力
調節弁、36……第1の流量調節弁、38……第2の流
量調節弁、40……実施形態例2の純水の比抵抗値調整
装置、42……容器、44……中空糸膜モジュール、4
6……炭酸ガス入口ポート、48……炭酸ガス出口ポー
ト、50、52……端部、54……中空糸膜。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス透過膜からなる多数本の中空糸膜の
    束を有し、中空糸膜の内側中空部を通過する炭酸ガスを
    中空糸膜の外側に透過させる中空糸膜モジュールと、中
    空糸膜モジュールを内蔵し、かつ純水が中空糸膜モジュ
    ールの外側を流れる密閉容器とを備え、中空糸膜モジュ
    ールに炭酸ガスを導入して、容器内を流れる純水に炭酸
    ガスを溶解させ、純水の比抵抗を調節する装置であっ
    て、 炭酸ガスの圧力及び流量をそれぞれ調節する圧力調節弁
    及び流量調節弁が、中空糸膜モジュールに炭酸ガスを供
    給する炭酸ガス供給管に設けてあることを特徴とする純
    水の比抵抗値調整装置。
  2. 【請求項2】 炭酸ガスの流量を調節する第2の流量調
    節弁が、中空糸膜モジュールを通過した炭酸ガスを外部
    に流出させる炭酸ガス流出管に設けてあることを特徴と
    する請求項1に記載の純水の比抵抗値調整装置。
JP17700698A 1998-06-24 1998-06-24 純水の比抵抗値調整装置 Pending JP2000005586A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17700698A JP2000005586A (ja) 1998-06-24 1998-06-24 純水の比抵抗値調整装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17700698A JP2000005586A (ja) 1998-06-24 1998-06-24 純水の比抵抗値調整装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000005586A true JP2000005586A (ja) 2000-01-11

Family

ID=16023529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17700698A Pending JP2000005586A (ja) 1998-06-24 1998-06-24 純水の比抵抗値調整装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000005586A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003020405A1 (fr) * 2001-08-28 2003-03-13 Mitsubishi Rayon Co.,Ltd. Dispositif et procede pour la fabrication d'une source gazeifiee et d'eau gazeuse, procede de commande de la densite de gaz appliquee a cette eau et module a membrane
EP1537907A1 (en) * 2002-07-08 2005-06-08 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Apparatus for producing carbonated water and method for producing carbonated water using the same
EP1629882A1 (de) * 2004-08-30 2006-03-01 Kwc Ag Vorrichtung zur Karbonisierung und Kühlung von Getränken
JP2014024039A (ja) * 2012-07-28 2014-02-06 Daiken Iki Kk 液体供給装置及び生体洗浄装置
WO2016167134A1 (ja) * 2015-04-13 2016-10-20 Dic株式会社 比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7334780B2 (en) 2001-08-28 2008-02-26 Mitsubishi Rayon Company, Limited Device and method for manufacturing carbonated spring and carbonic water, control method for gas density applied thereto and membrane module
WO2003020405A1 (fr) * 2001-08-28 2003-03-13 Mitsubishi Rayon Co.,Ltd. Dispositif et procede pour la fabrication d'une source gazeifiee et d'eau gazeuse, procede de commande de la densite de gaz appliquee a cette eau et module a membrane
US8096532B2 (en) 2001-08-28 2012-01-17 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Device and method for manufacturing carbonated spring and carbonic water, control method for gas density applied thereto and membrane module
US7152850B2 (en) 2001-08-28 2006-12-26 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Device and method for manufacturing carbonated spring and carbonic water, control method for gas density applied thereto, and membrane module
US7407154B2 (en) 2001-08-28 2008-08-05 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Device and method for manufacturing carbonated spring and carbonic water, control method for gas density applied thereto and membrane module
US7237767B2 (en) 2001-08-28 2007-07-03 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Device and method for manufacturing carbonated spring and carbonic water, control method for gas density applied thereto and membrane module
EP1537907A4 (en) * 2002-07-08 2007-02-07 Mitsubishi Rayon Co DEVICE FOR PREPARING CARBOHOOD-CONTAINING WATER AND THEREOF USE METHOD FOR THE PRODUCTION OF CARBOHYDRATED WATER
US7445197B2 (en) 2002-07-08 2008-11-04 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Apparatus for producing carbonated water and method for producing carbonated water using the same
EP1537907A1 (en) * 2002-07-08 2005-06-08 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Apparatus for producing carbonated water and method for producing carbonated water using the same
US7651074B2 (en) 2002-07-08 2010-01-26 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Apparatus for producing carbonated water and method for producing carbonated water using the same
EP1629882A1 (de) * 2004-08-30 2006-03-01 Kwc Ag Vorrichtung zur Karbonisierung und Kühlung von Getränken
JP2014024039A (ja) * 2012-07-28 2014-02-06 Daiken Iki Kk 液体供給装置及び生体洗浄装置
WO2016167134A1 (ja) * 2015-04-13 2016-10-20 Dic株式会社 比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法
CN107427786A (zh) * 2015-04-13 2017-12-01 Dic株式会社 电阻率值调整装置及电阻率值调整方法
US10792623B2 (en) 2015-04-13 2020-10-06 Dic Corporation Device for adjusting specific resistance value and method for adjusting specific resistance value

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10186435B2 (en) Chemical liquid preparation method of preparing a chemical liquid for substrate processing, chemical liquid preparation unit preparing a chemical liquid for substrate processing, and substrate processing system
EP0572035B1 (en) Cleaning water production system
KR20130111977A (ko) 탈이온수의 탄산화를 위한 장치, 시스템 및 방법
TWI708635B (zh) 用於溼式清潔氣流之裝置及方法
JP2000005586A (ja) 純水の比抵抗値調整装置
JP5645516B2 (ja) 基板液処理装置及び処理液生成方法並びに処理液生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP4994279B2 (ja) 微小気泡生成装置
US6884359B2 (en) Apparatus and method for controlling resistivity of ultra pure water
KR100337448B1 (ko) 가스 용해수 제조장치 및 가스 용해수 제조 방법 그리고 세정장치
JP2014117628A (ja) 循環式オゾン水供給方法、及び循環式オゾン水供給装置
JPH0341729A (ja) 基板洗浄方法
JP2019141813A (ja) ガス溶解液製造装置
JP2000070887A (ja) 炭酸ガス溶存純水供給方法及び炭酸ガス溶存純水供給ユニット並びにそれを備えた基板処理装置
JP4081728B2 (ja) オゾン含有超純水供給装置
JPS59173184A (ja) 超純水の比抵抗制御装置
JP2018103148A (ja) 希釈液製造装置および希釈液製造方法
JPH11300184A (ja) 混合水生成装置
JP3452471B2 (ja) 純水供給システム、洗浄装置及びガス溶解装置
JP2000000446A (ja) 純水比抵抗調整装置及びウエハ洗浄装置
JP5552792B2 (ja) ガス溶解水製造装置及び製造方法
CN220788745U (zh) 一种均匀破空的真空镀膜设备
JP2008211096A (ja) 比抵抗制御装置
CN115253527B (zh) 用于支持环境控制的方法、层状气流过滤器装置以及用于产生层状气流的装置
JP7292957B2 (ja) ガス溶解水製造装置および方法
KR102074221B1 (ko) 나노 버블을 이용한 기판 세정 시스템