JP2000000927A - Infrared ray cut-off film - Google Patents
Infrared ray cut-off filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、建物や自
動車等の窓ガラスに、主に太陽光の赤外線を遮蔽（カッ
トオフ）することを目的として貼られる赤外線カットオ
フフィルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an infrared ray cut-off film which is mainly applied to a window glass of a building or an automobile for the purpose of shielding (cutting off) infrared rays of sunlight.
【０００２】[0002]
【従来の技術】可視領域の光に対して光透過性であっ
て、かつ赤外領域の光に対しては反射あるいは吸収させ
る赤外線カットオフ機能を有する機能性フィルムは、主
に、放射される太陽光の熱影響を抑制するために従来よ
り用いられている。例えば、建物や自動車等の窓ガラス
に貼ることにより、窓ガラスを通して日射を直接受けて
も暑さが抑えられる。また、夏季では室温の上昇が抑え
られて冷房効率が向上し、冬季では室内の保温効率が向
上する。さらに、窓ガラスが割れた際に飛散が防止され
るといった付加的効果ももたらされる。このような赤外
線カットオフフィルムは、一般に、ベースフィルムに赤
外線カットオフ層が積層され、表面に保護層が、また裏
面に粘着層がそれぞれ積層された層構成となっており、
粘着層をガラス等に貼って用いるようになっている。2. Description of the Related Art A functional film having an infrared cutoff function which is transparent to light in the visible region and reflects or absorbs light in the infrared region is mainly radiated. It has been conventionally used to suppress the thermal effect of sunlight. For example, by sticking to a window glass of a building, a car, or the like, the heat can be suppressed even when directly receiving solar radiation through the window glass. In summer, the rise in room temperature is suppressed, and cooling efficiency is improved. In winter, indoor heat retention efficiency is improved. Further, there is an additional effect that scattering is prevented when the window glass is broken. Such an infrared cutoff film generally has a layer configuration in which an infrared cutoff layer is laminated on a base film, a protective layer is formed on the front surface, and an adhesive layer is laminated on the back surface.
The adhesive layer is attached to glass or the like.
【０００３】上記赤外線カットオフ層は、従来、各種の
赤外線カットオフ剤（例えばイモニウム、アミニウム、
ＺｎＯ、ＳｎＯ２ 、ＩＴＯ（錫含有酸化インジウム粉
末）、Ａｕ等）を真空蒸着法、スパッタリング法、ある
いは樹脂に分散させて赤外線カットオフ層用塗料とした
ものを塗布する方法等で、ベースフィルム上に形成され
ていた。[0003] Conventionally, the infrared cut-off layer has been formed by various infrared cut-off agents (for example, immonium, aminium,
ZnO, SnO 2 , ITO (tin-containing indium oxide powder), Au, etc.) on the base film by a vacuum deposition method, a sputtering method, or a method of dispersing in a resin to apply a coating material for an infrared cutoff layer. Was formed.
【０００４】しかしながら、上記赤外線カットオフ剤を
真空蒸着法やスパッタリング法でベースフィルム上に形
成するには、高真空や精度の高い雰囲気制御が可能な装
置を使用しなければならないことから、コストが高くな
るとともに量産性に劣る等の問題があった。そこで、こ
のような欠点のない薄膜形成法として、上記塗工法がよ
り好適とされている。その塗工法により赤外線カットオ
フ層を形成するにあたって用いられる樹脂は、高透明性
を有するものであって、アクリル系樹脂、ウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂等の紫外線硬化型樹脂、もしくはメ
ラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン樹脂、シリコ
ン変成樹脂等の熱硬化型樹脂、さらには、アクリル系、
ウレタン系、ポリエステル系の熱可塑性樹脂等の、一般
的な塗膜形成用の樹脂が適宜に選択され用いられてい
る。However, in order to form the infrared cut-off agent on a base film by a vacuum evaporation method or a sputtering method, a device capable of controlling a high vacuum and a high-precision atmosphere must be used. However, there have been problems such as an increase in the mass and poor mass productivity. Therefore, as a method of forming a thin film free of such a drawback, the above-mentioned coating method is more suitable. The resin used for forming the infrared cutoff layer by the coating method has high transparency, and is an ultraviolet curable resin such as an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, or a melamine resin or a polyurethane. Resin, silicone resin, thermosetting resin such as silicone denatured resin, furthermore, acrylic,
A general resin for forming a coating film, such as a urethane-based or polyester-based thermoplastic resin, is appropriately selected and used.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記のような樹脂にカ
ットオフ剤の粉末を分散させた赤外線カットオフ層はベ
ースフィルム上に塗工され、赤外線カットオフ層が表面
側に積層される層構成の場合は、赤外線カットオフ層上
に保護層が塗工されて積層される。保護層は、例えば紫
外線硬化型樹脂等の比較的硬度の高い樹脂が用いられる
が、ここで、赤外線カットオフ層に対する保護層の樹脂
の密着性が十分でないと、その樹脂が塗工されにくく、
塗工されたとしても付着強度が弱く剥離しやすくなって
しまう。したがって、赤外線カットオフ層の表面は密着
性に富んでいることが重要になってくる。また、赤外線
カットオフ層がベースフィルムの裏面に積層される場合
には粘着層が赤外線カットオフ層に積層されることにな
り、この場合も粘着層の密着性が十分でないと赤外線カ
ットオフ層は粘着層から剥離しやすくなる。特に太陽光
等の紫外線や赤外線の影響により劣化しやすくなるた
め、より十分な密着性が求められる。ところが、赤外線
カットオフ層の表面の密着性に関する明確な評価は現在
のところなされておらず、換言すると、どのような特性
を有していれば密着性に優れ、その表面に塗工される層
（例えば保護層）の付着強度が確保されるのかといった
指標が要望されていた。The infrared cutoff layer in which the powder of the cutoff agent is dispersed in the resin as described above is coated on a base film, and the infrared cutoff layer is laminated on the surface side. In the case of the above, a protective layer is applied and laminated on the infrared cutoff layer. For the protective layer, for example, a resin having a relatively high hardness such as an ultraviolet curable resin is used.Here, if the adhesion of the resin of the protective layer to the infrared cutoff layer is not sufficient, the resin is difficult to be applied,
Even if it is applied, the adhesive strength is weak and it is easy to peel off. Therefore, it is important that the surface of the infrared cutoff layer is rich in adhesion. Also, when the infrared cutoff layer is laminated on the back surface of the base film, the adhesive layer will be laminated on the infrared cutoff layer, and also in this case, if the adhesion of the adhesive layer is not sufficient, the infrared cutoff layer It is easy to peel off from the adhesive layer. In particular, since it is easily deteriorated by the influence of ultraviolet rays or infrared rays such as sunlight, more sufficient adhesion is required. However, a clear evaluation of the adhesiveness of the surface of the infrared cutoff layer has not been made at present, in other words, what kind of characteristics the adhesive layer has, if it has excellent adhesiveness, a layer coated on the surface. There has been a demand for an index as to whether the adhesion strength of (for example, a protective layer) is secured.
【０００６】したがって本発明は、積層される層の密着
性が十分に確保され、その層の剥離が生じない赤外線カ
ットオフ層を有する赤外線カットオフフィルムを提供す
ることを目的としている。Accordingly, an object of the present invention is to provide an infrared cutoff film having an infrared cutoff layer in which the adhesion of the layers to be laminated is sufficiently ensured and the layers do not peel off.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者は、赤外線カッ
トオフ層に積層される他の層の密着性を解析する指標と
して、赤外線カットオフ層の表面の濡れ性に着目し、鋭
意検討を重ねた。その結果、赤外線カットオフ層の表面
の「ＪＩＳ Ｋ６７６８」による濡れ指数（表面張力：
ｄｙｎ／ｃｍ）が５０以下、より好ましくは３６〜４６
の場合に、赤外線カットオフ層に形成される層の密着性
が十分確保されることを見い出した。よって本発明は、
少なくとも、ベースフィルムと、このベースフィルムに
積層される赤外線カットオフ層と、この赤外線カットオ
フ層の表面に形成される少なくとも１つの層とを有する
赤外線カットオフフィルムにおいて、前記赤外線カット
オフ層は、赤外線を反射または吸収する粉末および樹脂
を含有するとともに、その表面の「ＪＩＳ Ｋ６７６
８」による濡れ指数が５０以下であることを特徴として
いる。Means for Solving the Problems The present inventor pays attention to the wettability of the surface of the infrared cutoff layer as an index for analyzing the adhesiveness of other layers laminated on the infrared cutoff layer, and conducts intensive studies. Stacked. As a result, the wetting index of the surface of the infrared cutoff layer according to “JIS K6768” (surface tension:
dyn / cm) is 50 or less, more preferably 36 to 46.
In this case, it was found that the adhesion of the layer formed on the infrared cutoff layer was sufficiently ensured. Therefore, the present invention
At least, a base film, an infrared cutoff layer laminated on the base film, and an infrared cutoff film having at least one layer formed on the surface of the infrared cutoff layer, wherein the infrared cutoff layer comprises: It contains a powder and a resin that reflect or absorb infrared rays, and has “JIS K676” on its surface.
8 "is 50 or less.
【０００８】本発明では、濡れ指数は上記のように３６
〜４６であればより好ましく、３６よりも低いと濡れ性
がよくなりすぎ、空気中の水分を表面に集めやすくなる
傾向を招く。例えば、塗工や保管の際、湿度が６５％Ｒ
ｈ以上の高湿環境におかれた場合、赤外線カットオフ層
の表面に水の薄膜ができてしまい、密着性を妨げるおそ
れがある。このため、濡れ指数が３６より低い場合に
は、環境湿度に十分留意する必要がある。なお、濡れ指
数つまり濡れ性は、次のようにして制御することができ
る。すなわち、水酸基あるいは極性基の含有量を多くし
たり、導電性化合物を添加したりすることにより向上さ
せることができる。また、シリコーン樹脂を添加するこ
とにより低下させることができる。In the present invention, the wetting index is 36 as described above.
If it is less than 46, it is more preferable. If it is less than 36, the wettability becomes too good, and the water in the air tends to be easily collected on the surface. For example, when coating or storing, the humidity is 65% R.
In a high humidity environment of h or more, a thin film of water is formed on the surface of the infrared cutoff layer, which may hinder adhesion. For this reason, when the wetting index is lower than 36, it is necessary to pay sufficient attention to the environmental humidity. The wetting index, that is, the wettability can be controlled as follows. That is, it can be improved by increasing the content of a hydroxyl group or a polar group or by adding a conductive compound. Further, it can be reduced by adding a silicone resin.
【０００９】本発明の赤外線カットオフフィルムにおい
ては、赤外線カットオフ剤の粉末を適当な樹脂に混合・
分散してこれを赤外線カットオフ層用塗料とし、この塗
料をベースフィルム上に塗工することにより、赤外線カ
ットオフ層が形成される。赤外線カットオフ層用塗料を
ベースフィルム上に塗工する方法としては、ワイヤバー
コーティング法、ドクターブレードコーティング法、グ
ラビアコーティング法、ディップコーティング法等が挙
げられる。In the infrared cutoff film of the present invention, the powder of the infrared cutoff agent is mixed with a suitable resin.
The infrared cut-off layer is formed by dispersing and using this as a paint for an infrared cut-off layer, and applying this paint on a base film. Examples of a method for applying the coating material for the infrared cutoff layer on the base film include a wire bar coating method, a doctor blade coating method, a gravure coating method, and a dip coating method.
【００１０】本発明によれば、赤外線カットオフ層の濡
れ性が上記の特性を有することにより、赤外線カットオ
フ層へ積層される層の密着性が十分確保されるととも
に、その層が剥離するおそれのない高品質の赤外線カッ
トオフフィルムを提供することが可能となる。なお、赤
外線カットオフ層に積層される層の密着性に関しては、
赤外線カットオフ層の表面粗さも考慮することが望まし
く、その表面粗さは、「ＪＩＳ Ｂ０６０１」による表
面粗さ（Ｒａ）が０．０１４以上であることが望まし
い。According to the present invention, since the wettability of the infrared cutoff layer has the above characteristics, the adhesion of the layer laminated to the infrared cutoff layer is sufficiently ensured, and the layer may be peeled off. It is possible to provide a high-quality infrared cut-off film without any problem. In addition, regarding the adhesion of the layer laminated on the infrared cutoff layer,
It is also desirable to consider the surface roughness of the infrared cutoff layer, and it is desirable that the surface roughness (Ra) according to “JIS B0601” is 0.014 or more.
【００１１】さて、本発明の赤外線カットオフフィルム
は、ベースフィルムの表面に、赤外線カットオフ剤の粉
末＋樹脂よりなる赤外線カットオフ層が積層されるもの
であるが、実用的な層構成の好ましい態様としては、例
えば、図１に示すように、ベースフィルム１の表面に赤
外線カットオフ層２および保護層３がこの順で積層さ
れ、一方、ベースフィルム１の裏面に粘着層４およびセ
パレート材５がこの順で積層される。あるいは、図２に
示すように、ベースフィルム１の表面に保護層３が積層
され、ベースフィルム１の裏面に赤外線カットオフ層
２、粘着層４およびセパレート材５がこの順に積層され
る。いずれの場合も、セパレート材５を粘着層４から剥
がし、粘着層４をガラス等に貼って用いる。The infrared cut-off film of the present invention has a structure in which an infrared cut-off layer composed of a powder of an infrared cut-off agent and a resin is laminated on the surface of a base film. As an embodiment, for example, as shown in FIG. 1, an infrared cutoff layer 2 and a protective layer 3 are laminated in this order on the surface of a base film 1, while an adhesive layer 4 and a separate material 5 Are stacked in this order. Alternatively, as shown in FIG. 2, a protective layer 3 is laminated on the surface of the base film 1, and an infrared cutoff layer 2, an adhesive layer 4 and a separate material 5 are laminated on the rear surface of the base film 1 in this order. In any case, the separation material 5 is peeled off from the adhesive layer 4, and the adhesive layer 4 is attached to glass or the like for use.
【００１２】次に、上記構成よりなる本発明の赤外線カ
ットオフフィルムの各層を構成する材料について詳述す
る。Ａ．ベースフィルム ベースフィルムとしては、公知の透明なフィルムを使用
することができる。その具体例としては、ＰＥＴ、ＴＡ
Ｃ（トリアセチルセルロース）、ポリアリレート、ポリ
エーテル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエー
テルスルホン、セロファン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム等を
好適に使用することができる。Next, the materials constituting each layer of the infrared cutoff film of the present invention having the above-mentioned structure will be described in detail. A. Base Film As the base film, a known transparent film can be used. Specific examples include PET, TA
Various resin films such as C (triacetyl cellulose), polyarylate, polyether, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, cellophane, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl alcohol can be suitably used.
【００１３】Ｂ．赤外線カットオフ剤 本発明の赤外線カットオフ層に混合・分散される赤外線
カットオフ剤の粉末は、透明性および分散性の観点か
ら、その平均粒径が、１００ｎｍ以下のものが好適とさ
れ、さらに５０ｎｍ以下、最も好ましくは２５〜３５ｎ
ｍが最適とされる。また、赤外線カットオフ剤として
は、透明性、色彩、赤外線カットオフ機能等の観点から
ＩＴＯ粉末がより好ましい。 B. Infrared cut-off agent The powder of the infrared cut-off agent mixed and dispersed in the infrared cut-off layer of the present invention is preferably one having an average particle diameter of 100 nm or less from the viewpoint of transparency and dispersibility. 50 nm or less, most preferably 25 to 35 n
m is optimal. As the infrared cutoff agent, ITO powder is more preferable from the viewpoints of transparency, color, infrared cutoff function and the like.
【００１４】そのＩＴＯ粉末は、一般周知の製法、すな
わち、Ｉｎと少量のＳｎの水溶塩を含む水溶液をアルカ
リと反応させてＩｎとＳｎの水酸化物を共沈させ、この
共沈物を原料として得た後、この原料を、ＣＯ、Ｎ
Ｈ３、Ｈ２等の還元性雰囲気中で加熱焼成して酸化物に
変換させたものが用いられる。この場合のＩＴＯ粉末
は、原料を還元性雰囲気中で加熱焼成しており、その成
分モル比としてはＩｎ／Ｓｎ／Ｏ２ が１００／５〜１
０／０．５〜１０、好ましくは１００／５〜１０／０．
５〜２である。このように還元処理されたＩＴＯ粉末を
用いて作成した膜は、分光光度計（島津製作所社製：Ｕ
Ｖ３１００）を使用して測定した「ＪＩＳ Ｋ８７０
１」による色座標が、ｘ＝０．３１±０．１、ｙ＝０．
３２±０．１、ｚ＝０．３７±０．１であって、青色を
呈している。このようなＩＴＯ粉末は、最短赤外線カッ
トオフ波長が８００ｎｍと、きわめて赤外線カットオフ
機能に優れている。また、このようなＩＴＯ粉末が分散
された本発明の赤外線カットオフフィルムの色は、ＩＴ
Ｏ粉末の色が反映されたもの、すなわち色座標が上記の
通りであって透明感のある青色を呈するものとなる。使
用者にあっては青色を呈するフィルムが一般に好まれ、
その要求がある場合、それに十分応じることのできるフ
ィルムを提供することができる。The ITO powder is produced by a generally known production method, that is, an aqueous solution containing a small amount of a water-soluble salt of In and Sn is reacted with an alkali to co-precipitate a hydroxide of In and Sn, and this co-precipitate is used as a raw material. After that, this raw material is converted into CO, N
A material which is heated and baked in a reducing atmosphere such as H 3 or H 2 and converted into an oxide is used. In this case, the ITO powder is obtained by sintering the raw material under heating in a reducing atmosphere, and the component molar ratio of In / Sn / O 2 is 100/5 to 1
0 / 0.5-10, preferably 100 / 5-10 / 0.
5 to 2. A film formed using the ITO powder subjected to the reduction treatment as described above is a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation: U
V3100) and "JIS K870"
1 ”is x = 0.31 ± 0.1, y = 0.
32 ± 0.1 and z = 0.37 ± 0.1, exhibiting blue. Such an ITO powder has an extremely short infrared cutoff wavelength of 800 nm, and is extremely excellent in an infrared cutoff function. The color of the infrared cutoff film of the present invention in which such ITO powder is dispersed is IT
The color of the O powder is reflected, that is, the color coordinates are as described above, and a transparent blue color is exhibited. For users, blue films are generally preferred,
If there is a request, a film that can meet the requirement can be provided.
【００１５】Ｃ．赤外線カットオフ層の樹脂 赤外線カットオフ剤の粉末が混合・分散される樹脂とし
ては、アクリル系化合物またはエポキシ系化合物のうち
の１種類以上を含有するモノマーに、光ラジカル重合開
始剤および／または光カチオン重合開始剤を含有した紫
外線硬化型樹脂が好ましく用いられる。アクリル系化合
物を含有させることは、紫外線硬化型樹脂の粘度、架橋
密度、耐熱性、耐薬品性等の塗料および塗工膜の特性を
コントロールする上で好ましい。 C. Infrared cut-off layer resin As a resin in which the powder of the infrared cut-off agent is mixed and dispersed, a monomer containing at least one of an acrylic compound or an epoxy compound, a photo-radical polymerization initiator and / or An ultraviolet curable resin containing a cationic polymerization initiator is preferably used. The inclusion of an acrylic compound is preferred in controlling the properties of paints and coatings, such as the viscosity, crosslinking density, heat resistance, and chemical resistance of the ultraviolet curable resin.
【００１６】エポキシ系化合物としては、テトラメチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジ
グリシジルエーテル、ビスフェノールＡ−ジグリシジル
エーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールＡ
−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステル
や、下記の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマー
およびオリゴマーが挙げられる。Examples of the epoxy compound include glycidyl ethers such as tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, and 2-hydroxy-3.
-Phenoxypropyl acrylate, bisphenol A
And monomers and oligomers such as epoxy esters such as -diepoxy-acrylic acid adducts and alicyclic epoxies having the following chemical formula.
【００１７】[0017]
【化１】 Embedded image
【００１８】アクリル系化合物としては、ラウリルアク
リレート、エトキシジエチレングリコールアクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレー
ト等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート等の多官能アクリレート、トリメチロールプロ
パンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチルプロパン
安息香酸エステル等のアクリル酸誘導体、２−エチルヘ
キシルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフル
フリルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアク
リレート、２−ヒドロキシブチルメタアクリレート等の
単官能メタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、グリセリンジメタクリレート等の多官能メタクリ
レート等のメタクリル酸誘導体、グリセリンジメタクリ
レートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリス
リトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネ
ート等のウレタンアクリレート等のモノマーおよびオリ
ゴマーが挙げられる他、下記の化学式からなる化合物を
少なくとも１種類以上含有するものが用いられる。The acrylic compound includes lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, Monofunctional acrylates such as hydroxy-3-phenoxy acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. Multifunctional acrylate, trimethylolpropane acrylate Acrylic acid derivatives such as acid esters and trimethylpropane benzoate; monofunctional methacrylates such as 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxybutyl methacrylate Methacrylic acid derivatives such as polyfunctional methacrylates such as 1,6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and glycerin dimethacrylate; urethane acrylates such as glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate. In addition to monomers and oligomers, the following chemical formula That the composed compound containing at least one type is used.
【００１９】[0019]
【化２】 Embedded image
【００２０】光ラジカル重合開始剤としては、例えば、
下記の化学式からなるアセトフェノン系化合物や、As the photo-radical polymerization initiator, for example,
An acetophenone compound represented by the following chemical formula,
【化３】 例えば、下記の化学式からなるベンゾイン系化合物等を
挙げることができる。Embedded image For example, a benzoin-based compound represented by the following chemical formula can be used.
【化４】 Embedded image
【００２１】光カチオン重合開始剤としては、下記の化
学式からなる化合物を挙げることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いてもよく、複数混合で使用して
もよい。Examples of the cationic photopolymerization initiator include compounds having the following chemical formula. These compounds may be used alone or in a mixture of two or more.
【００２２】[0022]
【化５】 Embedded image
【００２３】光ラジカル重合開始剤および／または光カ
チオン重合開始剤の配合量は、主剤に対し、０．１〜１
０重量％の範囲が望ましい。この配合量の根拠は、０．
１重量％より少なくても、また１０重量％より多くて
も、紫外線硬化が不十分だからである。また、赤外線カ
ットオフ層を形成する樹脂の透明性は高いほどよく、
「ＪＩＳＣ６７１４」による光線透過率が８０％以上、
好ましくは９０％以上確保されているとよい。The amount of the photo-radical polymerization initiator and / or the cationic photo-polymerization initiator is 0.1 to 1 with respect to the main ingredient.
A range of 0% by weight is desirable. The basis for this amount is 0.
If the amount is less than 1% by weight or more than 10% by weight, ultraviolet curing is insufficient. Also, the higher the transparency of the resin forming the infrared cutoff layer, the better,
The light transmittance according to "JISC6714" is 80% or more,
Preferably, 90% or more is secured.
【００２４】赤外線カットオフ層用塗料を構成する赤外
線カットオフ剤の粉末と樹脂との配合比は、粉末／樹脂
が、重量比で９０／１０〜６０／４０、好ましくは８５
／１５〜６５／３５、さらに好ましくは８０／２０〜７
０／３０の場合に１μｍ程度の薄層でも良好な赤外線カ
ットオフ性能が得られ、高い透明性を有し、かつ曇りの
少ないフィルムを得ることができる。粉末の混合比が９
０重量％超の場合には、粉末によって着色されたり曇り
の度合いが高くなったりするとともに金属光沢が増し、
赤外線カットオフ層の剥離や凝集破壊を招き、さらにベ
ースフィルムとの密着性に劣る。また、粉末の混合比が
６０重量％未満の場合には、目的とする赤外線カットオ
フが達成されない。The mixing ratio of the powder of the infrared cut-off agent and the resin constituting the coating material for the infrared cut-off layer is such that the weight ratio of the powder to the resin is 90/10 to 60/40, preferably 85.
/ 15 to 65/35, more preferably 80/20 to 7
In the case of 0/30, a good infrared cutoff performance can be obtained even with a thin layer of about 1 μm, and a film having high transparency and less haze can be obtained. 9 powder mixing ratio
When the content is more than 0% by weight, the powder is colored or the degree of haze increases, and the metallic luster increases.
It causes peeling and cohesive failure of the infrared cut-off layer, and further, poor adhesion to the base film. If the mixing ratio of the powder is less than 60% by weight, the intended infrared cutoff cannot be achieved.
【００２５】Ｄ．顔料 本発明では、赤外線カットオフ層に、ＺｎＯ、ＳｎＯ
２、ＴｉＯ２等の顔料を混入することができる。すなわ
ち、これら顔料を赤外線カットオフ剤の粉末とともに樹
脂に混合させて赤外線カットオフ層を形成する。顔料は
粉末とともに赤外線カットオフ機能を果たし、その赤外
線カットオフ波長領域は１２００〜２５００ｎｍであ
る。したがって、赤外線カットオフ剤の粉末と組み合わ
せることにより近赤外領域と呼ばれる８００〜２５００
ｎｍの赤外線波長のカットオフ性能を低下させることな
く、樹脂への粉末の配合比を上記範囲内において低目に
設定することができる。赤外線カットオフ剤の粉末がＩ
ＴＯ粉末の場合、ＩＴＯ粉末は高価であるため、その使
用量が低減することによりコストダウンを図ることがで
きる。さらに、これらの顔料は平均粒径が１００ｎｍ以
下であることが、金属光沢の抑制や良好な電磁波透過性
を達成するためにも必要である。 D. In the present invention, the infrared cutoff layer contains ZnO, SnO
2. Pigments such as TiO2 can be mixed. That is, these pigments are mixed with the resin together with the powder of the infrared cutoff agent to form an infrared cutoff layer. The pigment performs an infrared cutoff function together with the powder, and its infrared cutoff wavelength region is 1200 to 2500 nm. Therefore, when combined with the powder of an infrared cutoff agent, 800 to 2500 called the near infrared region is obtained.
The mixing ratio of the powder to the resin can be set lower within the above range without deteriorating the cutoff performance of the infrared wavelength of nm. Infrared cutoff agent powder is I
In the case of the TO powder, since the ITO powder is expensive, the cost can be reduced by reducing the amount of the ITO powder. Further, it is necessary that these pigments have an average particle size of 100 nm or less in order to suppress metallic luster and achieve good electromagnetic wave transmittance.
【００２６】Ｅ．保護層 保護層を形成する保護剤としては、一般的には、電離放
射線、熱のいずれかもしくはそれらの組み合わせにより
硬化する樹脂を用いることができる。放射線硬化型樹脂
としては、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アク
リロロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等重合
性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリ
マーを適宜混合した組成物が用いられる。モノマーの例
としては、スチレン、アクリル酸メチル、メチルメタク
リレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート等が挙げられる。オリゴマ
ー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレー
ト、メラミンアクリレート、シリコンアクリレート等の
アクリレート、不飽和ポリエステル、エポキシ系化合物
等が挙げられる。これらは、単独もしくは複数混合して
使用してもよい。モノマーは硬化膜の可撓性が要求され
る場合は少な目にし、さらに架橋密度を低くするために
は、１官能、２官能のアクリレート系モノマーを使用す
ることが好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐摩耗性、
耐溶剤性等過酷な耐久性を要求される場合は、モノマー
の量を増やし、３官能以上のアクリレート系モノマーを
使用することが好ましい。 E. Protective Layer As the protective agent for forming the protective layer, generally, a resin which is cured by any one of ionizing radiation and heat or a combination thereof can be used. As the radiation-curable resin, a composition obtained by appropriately mixing monomers, oligomers, and prepolymers having a polymerizable unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group is used. Examples of the monomer include styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and the like. Examples of oligomers and prepolymers include acrylates such as polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, alkite acrylate, melamine acrylate, and silicone acrylate, unsaturated polyesters, epoxy compounds, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Monomers are preferred if the flexibility of the cured film is required. In order to further reduce the crosslinking density, it is preferable to use monofunctional or bifunctional acrylate monomers. Properties, wear resistance,
When severe durability such as solvent resistance is required, it is preferable to increase the amount of the monomer and use a trifunctional or higher functional acrylate monomer.
【００２７】上記のような電離放射線硬化型樹脂を硬化
させるには、例えば紫外線、電子線、Ｘ線などの放射線
を照射すればよいが、必要に応じて適宜重合開始剤を添
加することができる。なお、紫外線により硬化させる場
合は、光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始
剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベ
ンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４
−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン等のアセト
フェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−
フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチ
ル−ジフェニルサルファイド、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ
−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニル
オキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムプロミド、
（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムク
ロリド等のベンゾフェノン類、２，４ジエチルチオキサ
ントン、１−クロロ−４−ジクロロチオキサントン等の
チオキサントン類、２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルベンゾイルオキサイド等を挙げることができ
る。これらは、単独もしくは複数混合して使用すること
ができる。また、促進剤（増感剤）として、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルパラトルイジン、４，４′−ジエチルアミノベン
ゼンフェノン等アミン系化合物を混合し、使用すること
もできる。In order to cure the ionizing radiation-curable resin as described above, radiation such as, for example, ultraviolet rays, electron beams, or X-rays may be applied. If necessary, a polymerization initiator can be appropriately added. . In the case of curing by ultraviolet rays, it is necessary to add a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4
Acetophenones such as -thiomethylphenyl) propan-1-one; benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether;
Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-
Phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenylsulfide, 4-benzoyl-N, N
-Dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] benzenemethanaminium bromide,
Benzophenones such as (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride; thioxanthones such as 2,4 diethylthioxanthone and 1-chloro-4-dichlorothioxanthone; and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylbenzoyl oxide. . These can be used alone or in combination of two or more. Further, as an accelerator (sensitizer), an amine compound such as N, N-dimethylparatoluidine and 4,4'-diethylaminobenzenephenone can be mixed and used.
【００２８】さらに、保護剤として用いる樹脂として
は、特に、硬さや透明密着性に優れる点で、紫外線硬化
型のエポキシ系化合物を用いた方がよい。具体的なエポ
キシ系化合物としては、テトラメチレングリコールジグ
リシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジル
エーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル等のグリ
シジルエーテル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロ
ピルアクリレート、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−ア
クリル酸付加物等のエポキシエステル等が挙げられる。
また、重合開始剤としては光ラジカル重合開始剤および
／または光カチオン重合開始剤を用いることができ、前
記赤外線カットオフ層に使用されるものと同様のものが
例示される。その配合量は、主剤に対し、０．１〜１０
重量％の範囲が望ましい。この配合量は、０．１重量％
より少なくても、また１０重量％より多くても、紫外線
硬化は不十分である。Further, as a resin used as a protective agent, it is particularly preferable to use an ultraviolet-curable epoxy-based compound in terms of excellent hardness and transparent adhesion. Specific epoxy compounds include glycidyl ethers such as tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Examples include epoxy esters such as bisphenol A-diepoxy-acrylic acid adducts.
As the polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and / or a cationic photopolymerization initiator can be used, and examples thereof include the same ones as those used for the infrared cutoff layer. The compounding amount is 0.1 to 10 with respect to the main agent.
A range of weight percent is desirable. This amount is 0.1% by weight
If less, or more than 10% by weight, UV curing is insufficient.
【００２９】Ｆ．粘着層 粘着層を形成する粘着剤は、例えばアクリル系粘着剤が
用いられ、これに硬化剤として、例えば金属キレート
系、イソシアネート系、エポキシ系の架橋剤が必要に応
じて１種あるいは２種以上混合されて用いられる。この
ような粘着剤は、粘着層としての粘着力（ＪＩＳ Ｚ０
２３７による）が１００〜２０００ｇ／２５ｍｍの範囲
になるよう配合されると実用上好ましい。また、粘着層
の厚さは、乾燥後で１５〜２５μｍ程度が好ましい。ま
た、粘着層には、紫外線吸収剤を適宜添加することによ
り、紫外線カットオフ効果も合わせて得ることができ
る。その紫外線吸収剤としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニ
ルサリシレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２′−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−
３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−
３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等が好適に用いられる。 F. The pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer is, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, and as a curing agent, for example, a metal chelate-based, isocyanate-based, or epoxy-based cross-linking agent may be used alone or in combination of two or more. Used as a mixture. Such an adhesive has an adhesive strength (JIS Z0) as an adhesive layer.
237) is preferably in a range of 100 to 2000 g / 25 mm in practical use. Further, the thickness of the adhesive layer after drying is preferably about 15 to 25 μm. Further, by appropriately adding an ultraviolet absorber to the adhesive layer, an ultraviolet cutoff effect can also be obtained. Examples of the ultraviolet absorber include pt-butylphenyl salicylate, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, and 2 '-( 2'-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
3 ', 5'-Di-t-butylphenyl) benzotriazole and the like are preferably used.
【００３０】Ｇ．その他の材料 ・赤外線カットオフ層用塗料に添加される溶剤 赤外線カットオフ層用塗料は、赤外線カットオフ剤の粉
末および樹脂からなるが、これに溶剤として、ベンゼ
ン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノン等の有機溶剤を、１種もしくは
２種以上適宜に添加することができる。 ・赤外線カットオフ層用塗料に添加される界面活性剤 赤外線カットオフ剤の粉末の分散性を向上させる目的
で、赤外線カットオフ層用塗料に微量の界面活性剤（例
えばノニオン系）を添加することができる。 G. Other materials・ Solvent added to paint for infrared cut-off layer Paint for infrared cut-off layer is composed of powder and resin of infrared cut-off agent, and benzene, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, isophorone, One or more organic solvents such as cyclohexanone can be appropriately added. -Surfactant added to infrared cut-off layer paint A small amount of surfactant (for example, nonionic) is added to the infrared cut-off layer paint for the purpose of improving the dispersibility of the powder of the infrared cut-off agent. Can be.
【００３１】本発明の赤外線カットオフフィルムにおい
ては、赤外線カットオフ層がベースフィルム上に、また
は赤外線カットオフ層の表面に１つの層が塗工され易
く、かつ高い密着性を有するようにするために、赤外線
カットオフ層は濡れ性が高ければ高いほどよく、具体的
には、「ＪＩＳ Ｋ６７６８」による濡れ指数が５０以
下に確保されていればよく、３６〜４６であればより好
ましい。かかる濡れ指数は、各層の材料および組成を適
宜選択して調整することができる。さらに、赤外線カッ
トオフ層に積層される層の密着性に関しては、赤外線カ
ットオフ層の表面粗さも考慮することが望ましく、その
表面粗さは、「ＪＩＳ Ｂ０６０１」による表面粗さ
（Ｒａ）が０．０１４以上であることが望ましい。In the infrared cut-off film of the present invention, the infrared cut-off layer is formed on the base film or on the surface of the infrared cut-off layer so that one layer is easily applied and has high adhesion. The higher the wettability of the infrared cut-off layer, the better. Specifically, it is sufficient that the wetting index according to “JIS K6768” is 50 or less, more preferably 36 to 46. Such a wetting index can be adjusted by appropriately selecting the material and composition of each layer. Further, regarding the adhesion of the layer laminated on the infrared cutoff layer, it is desirable to consider the surface roughness of the infrared cutoff layer, and the surface roughness is such that the surface roughness (Ra) according to “JIS B0601” is 0. It is preferably at least 0.014.
【００３２】なお、本発明は赤外線カットオフを主目的
とするフィルムではあるが、上記の粘着層の場合と同様
にその他の各層の少なくとも一層に、前述のような紫外
線吸収剤を適宜添加することにより、紫外線カットオフ
効果も合わせて得ることができる。Although the present invention is directed to a film whose main purpose is to cut off infrared rays, it is possible to appropriately add the above-mentioned ultraviolet absorber to at least one of the other layers as in the case of the above-mentioned adhesive layer. Accordingly, an ultraviolet cutoff effect can be obtained together.
【００３３】[0033]
【実施例】次に、本発明を実施例によってさらに詳細に
説明する。なお、「部」は「重量部」を意味するものと
する。Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. Note that “parts” means “parts by weight”.
【００３４】 −赤外線カットオフ層用塗料の配合− ［実施例１］ ・赤外線カットオフ剤…ＩＴＯ粉末 ５２部 一次粒子径:約５０ｎｍ 成分モル比:Ｉｎ／Ｓｎ／Ｏ２＝１００／５／０.９ ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ２４部 （商品名:Ｚ−７５０３,ＪＳＲ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部-Formulation of paint for infrared cutoff layer-[Example 1]-Infrared cutoff agent: 52 parts of ITO powder Primary particle diameter: about 50 nm Component molar ratio: In / Sn / O2 = 100/5/0. 9 ・ Resin: 24 parts of ultraviolet curing resin (trade name: Z-7503, manufactured by JSR Corporation) ・ Solvent: 24 parts of methyl isobutyl ketone
【００３５】 ［実施例２］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ジペンタエリスリトールポリアクリレート ８部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート ８部 商品名:セロキサイド２０２１,ダイセル化学社製 ７部 商品名:サイラキュアＵＶＩ６９９０,ユニオンカーバイド社製 １部 ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部Example 2 Infrared cutoff agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: UV curable resin 8 parts of dipentaerythritol polyacrylate 8 parts of tripentaerythritol polyacrylate 8 parts Trade name: Celloxide 2021, 7 parts manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd. Product name: Cyracure UVI 6990, 1 part manufactured by Union Carbide Co., Ltd. Solvent: 24 parts of methyl isobutyl ketone
【００３６】 ［実施例３］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ２４部 （商品名:ＵＣＨＣ１１０１,東芝シリコン社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部Example 3 Infrared cut-off agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 24 parts of ultraviolet curable resin (trade name: UCHC1101, manufactured by Toshiba Silicon Corporation) Solvent: methyl isobutyl ketone 24 Department
【００３７】 ［実施例４］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ２４部 （商品名:１７−８０６,大日本インキ化学工業社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部Example 4 Infrared cutoff agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 24 parts of ultraviolet curable resin (trade name: 17-806, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Solvent ... 24 parts of methyl isobutyl ketone
【００３８】 ［実施例５］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…アクリル系樹脂 ３６部 （商品名:ＬＲ−３６０,三菱レイヨン社製） ・溶剤…トルエン １２部Example 5 Infrared cut-off agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 36 parts of acrylic resin (trade name: LR-360, manufactured by Mitsubishi Rayon Co.) Solvent: 12 parts of toluene
【００３９】 ［実施例６］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…アクリル系樹脂 スチレン ４.９部 メチルメタクリレート ９.５部 エチルアクリレート ９.５部 アクリル酸 ０.１部 ・溶剤…トルエン ２４部Example 6 Infrared cutoff agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: acrylic resin 4.9 parts Styrene 9.5 parts Methyl methacrylate 9.5 parts Ethyl acrylate 9.5 parts Acrylic acid 0.5 part 1 part ・ Solvent: 24 parts toluene
【００４０】 ［実施例７］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…アクリル系樹脂 スチレン ５.８部 エチルメタクリレート ３.６部 ｎ−ブチルメタクリレート １０.８部 メタクリレート ２.４部 ブチルアクリレート １.２部 アクリル酸 ０.２部 ・溶剤…トルエン ２４部Example 7 Infrared cut-off agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: acrylic resin styrene 5.8 parts Ethyl methacrylate 3.6 parts n-butyl methacrylate 10.8 parts Methacrylate 2 .4 parts Butyl acrylate 1.2 parts Acrylic acid 0.2 parts Solvent: Toluene 24 parts
【００４１】 ［実施例８］ ・赤外線カットオフ剤 ５部 （商品名:Ｐ−２６,三洋色素社製） ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ジペンタエリスリトールポリアクリレート １６部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート １６部 商品名:セロキサイド２０２１,ダイセル化学社製 １６部 商品名:イルガキュアー１８４,チバガイギー社製 ２部 ・溶剤…メチルイソブチルケトン ４５部Example 8 ・ Infrared cutoff agent 5 parts (trade name: P-26, manufactured by Sanyo Dyeing Co., Ltd.) ・ Resin: UV-curable resin 16 parts dipentaerythritol polyacrylate 16 parts tripentaerythritol polyacrylate 16 parts Name: Celloxide 2021, 16 parts manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.
【００４２】 ［実施例９］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ３８部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ３１部 （商品名:１７−８０６,大日本インキ化学工業社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ３１部Example 9 Infrared cutoff agent: 38 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 31 parts of ultraviolet curable resin (trade name: 17-806, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Solvent ... Methyl isobutyl ketone 31 parts
【００４３】 ［実施例１０］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ３８部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ３１部 （商品名:Ｚ−７５０１,ＪＳＲ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ３１部Example 10 Infrared cut-off agent: 38 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 31 parts of ultraviolet curable resin (trade name: Z-7501, manufactured by JSR Corporation) Solvent: methyl isobutyl ketone 31 copies
【００４４】 ［実施例１１］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ２４部 （商品名:Ｚ−７５０１,ＪＳＲ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部Example 11 Infrared cutoff agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: ultraviolet curable resin 24 parts (trade name: Z-7501, manufactured by JSR Corporation) Solvent: methyl isobutyl ketone 24 copies
【００４５】 ［比較例１］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ３８部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ３１部 （商品名:Ｚ−７５０３,ＪＳＲ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ３１部Comparative Example 1 Infrared cut-off agent: 38 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: 31 parts of ultraviolet curable resin (trade name: Z-7503, manufactured by JSR Corporation) Solvent: methyl isobutyl ketone 31 copies
【００４６】 ［比較例２］ ・赤外線カットオフ剤…実施例１と同じＩＴＯ粉末 ５２部 ・樹脂…紫外線硬化型樹脂 ２４部 （商品名:Ｚ−７５０３,ＪＳＲ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ２４部Comparative Example 2 Infrared cut-off agent: 52 parts of the same ITO powder as in Example 1 Resin: UV-curable resin 24 parts (trade name: Z-7503, manufactured by JSR Corporation) Solvent: methyl isobutyl ketone 24 copies
【００４７】 ［比較例３］ ・赤外線カットオフ剤 １０部 （商品名:Ｐ−２６,三洋色素社製） ・樹脂…アクリル系樹脂 ４５部 （商品名:ＰＣ００３５,ニッセツ社製） ・溶剤…メチルイソブチルケトン ４５部[Comparative Example 3] 10 parts of infrared cut-off agent (trade name: P-26, manufactured by Sanyo Color Co., Ltd.) Resin: 45 parts of acrylic resin (trade name: PC0035, manufactured by Nissetsu Co.) Solvent: methyl Isobutyl ketone 45 parts
【００４８】各実施例および各比較例の材料を、適宜な
時間混合・分散させて赤外線カットオフ層用塗料をそれ
ぞれ調整した。次に、ベースフィルムとして厚さ５０μ
ｍの高透明性ＰＥＴフィルム（商品名:メリメックス＃
７０７,ＩＣＩ社製）を用い、このＰＥＴフィルムの表
面に、各実施例および各比較例の赤外線カットオフ用塗
料をアプリケータで塗布した。この後、紫外線硬化型樹
脂を用いたものは１２０Ｗの紫外線で硬化させ、アクリ
ル系樹脂を用いたものは１０５℃：１分の条件で乾燥さ
せた、ベースフィルム上に１〜３μｍ程度の厚さの赤外
線カットオフ層を形成した。The coating materials for the infrared cut-off layer were prepared by mixing and dispersing the materials of the examples and comparative examples for an appropriate period of time. Next, a 50 μm thick base film
m high transparency PET film (trade name: Merimex #
707 (manufactured by ICI Co.), and the infrared cutoff paints of the respective Examples and Comparative Examples were applied to the surface of the PET film with an applicator. Thereafter, the resin using an ultraviolet-curable resin was cured with ultraviolet light of 120 W, and the resin using an acrylic resin was dried at 105 ° C. for 1 minute. The thickness of the base film was about 1 to 3 μm. Was formed.
【００４９】各実施例および各比較例の赤外線カットオ
フ層の表面につき、「ＪＩＳ Ｋ６７６８」による濡れ
指数と、「ＪＩＳ Ｂ０６０１」による表面粗さ（Ｒ
ａ）を測定した。また、各実施例および各比較例の赤外
線カットオフ層につき、「ＪＩＳ Ｋ７１０５」による
ＨＡＺＥ値と、「ＪＩＳ Ｋ８７０１」による色座標を
測定した。さらに、赤外線カットオフ層の表面に、エポ
キシ系−アクリル系混合タイプの紫外線硬化型樹脂を塗
布して保護層を形成したものと、アクリル系粘着剤（商
品名:ＡＳ−６０００,一方社油脂工業社製）を塗布して
粘着層を形成したものをそれぞれ用意し、赤外線カット
オフ層に対する保護層および粘着層の密着性を調べた。Regarding the surface of the infrared cut-off layer of each of Examples and Comparative Examples, the wetting index according to “JIS K6768” and the surface roughness (R) according to “JIS B0601”
a) was measured. Further, with respect to the infrared cut-off layer of each of the examples and the comparative examples, a HAZE value according to “JIS K7105” and a color coordinate according to “JIS K8701” were measured. Further, an epoxy-acrylic mixed type UV-curable resin is applied to the surface of the infrared cutoff layer to form a protective layer, and an acrylic adhesive (trade name: AS-6000; Co., Ltd.) was applied to form an adhesive layer, and the adhesion of the protective layer and the adhesive layer to the infrared cutoff layer was examined.
【００５０】赤外線カットオフ層に対する保護層の密着
性試験は、「ＪＩＳ Ｋ５４００」による碁盤目試験
を、２５℃／湿度５０％Ｒｈと３０℃／湿度６５％Ｒｈ
の二つの条件下で行った。評価としては、剥がれた碁盤
目数／全碁盤目数（１００）が、１００／１００の場合
に◎（密着性に優れる）、９０〜９９／１００の場合は
○（十分な密着性を有する）、８０〜８９／１００は△
（実用上やや問題がある）、７９以下／１００を×（実
用上問題がある）とした。The adhesion test of the protective layer to the infrared cut-off layer was performed by a grid test according to “JIS K5400” at 25 ° C./humidity 50% Rh and 30 ° C./humidity 65% Rh.
Under two conditions. As the evaluation, when the number of peeled grids / the total number of grids (100) is 100/100, ◎ (excellent adhesion), and when 90 to 99/100, ○ (has sufficient adhesion) , 80-89 / 100
(There is a problem in practical use), 79 or less / 100 was evaluated as x (there is a problem in practical use).
【００５１】また、赤外線カットオフ層に対する粘着層
の密着性試験は、ガラス板に粘着層を貼り付けた状態か
ら赤外線カットオフ層をベースフィルムごと急速に引き
剥がす方法を採用し、これも２５℃／湿度５０％Ｒｈと
３０℃／湿度６５％Ｒｈの二つの条件下で行った。評価
としては、粘着層から赤外線カットオフ層が全く剥がれ
ない場合を◎（密着性に優れる）、全面積の５％以下が
剥がれた場合が○（十分な密着性を有する）、全面積の
１０％以下が剥がれた場合が△（実用上やや問題があ
る）、全面積の１１％以下が剥がれた場合を×（実用上
問題がある）とした。これらの試験結果を表１に示す。The adhesion test of the pressure-sensitive adhesive layer to the infrared cut-off layer employs a method of rapidly peeling off the infrared cut-off layer together with the base film from a state in which the pressure-sensitive adhesive layer is adhered to a glass plate. The test was carried out under two conditions of 50% Rh / humidity and 65% Rh at 30 ° C./humidity. The evaluation was ◎ when the infrared cutoff layer was not peeled off from the adhesive layer at all (excellent in adhesiveness), 場合 when 5% or less of the entire area was peeled off, ○ (having sufficient adhesiveness), and 10 in the total area. % Was peeled off (slightly problematic in practical use), and 11% or less of the entire area was peeled off (poor in practical use). Table 1 shows the test results.
【００５２】[0052]
【表１】 [Table 1]
【００５３】表１によれば、濡れ指数が本発明の規定値
を満たす各実施例の赤外線カットオフ層においては高い
密着性を有することが確かめられた。一方、濡れ指数が
本発明の規定値以上である各比較例においては密着性が
不十分で実用上問題があり、本発明の効果が明らかとな
った。According to Table 1, it was confirmed that the infrared cutoff layer of each of the examples having a wetting index satisfying the specified value of the present invention had high adhesion. On the other hand, in each of Comparative Examples in which the wetting index was not less than the specified value of the present invention, the adhesion was insufficient and there was a problem in practical use, and the effect of the present invention became clear.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
赤外線カットオフ剤の粉末＋樹脂からなる赤外線カット
オフ層の表面の「ＪＩＳ Ｋ６７６８」による濡れ指数
（表面張力：ｄｙｎ／ｃｍ）を５０以下にコントロール
することにより、この赤外線カットオフ層に積層される
層の密着性が十分に確保され、その層の剥離が生じない
高品質の赤外線カットオフフィルムを提供することがで
きる。As described above, according to the present invention,
By controlling the wetting index (surface tension: dyn / cm) of the surface of the infrared cutoff layer composed of the powder of the infrared cutoff agent and the resin according to “JIS K6768” to 50 or less, the infrared cutoff layer is laminated on the infrared cutoff layer. It is possible to provide a high-quality infrared cutoff film in which the adhesion of the layer is sufficiently ensured and the layer does not peel off.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】 本発明の一実施形態に係る赤外線カットオフ
フィルムの層構成の一例を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating an example of a layer configuration of an infrared cutoff film according to an embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の一実施形態に係る赤外線カットオフ
フィルムの層構成の他の例を示す概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram showing another example of the layer configuration of the infrared cutoff film according to one embodiment of the present invention.
１…ベースフィルム、２…赤外線カットオフ層、３…保
護層、４…粘着層、５…セパレート材。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... Infrared cutoff layer, 3 ... Protective layer, 4 ... Adhesive layer, 5 ... Separate material.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA33B AA33H AK01B AK12 AK25 AL06 AT00A AT00B AT00C BA03 BA07 BA26 CA07B DE01B EJ34 GB07 GB32 JA20 JA20B JD09 JD10B JD14B JK06 JK14 JL11 JN06B YY00 YY00B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F100 AA33B AA33H AK01B AK12 AK25 AL06 AT00A AT00B AT00C BA03 BA07 BA26 CA07B DE01B EJ34 GB07 GB32 JA20 JA20B JD09 JD10B JD14B JK06 JK14 JL11 JN06B YY00
Claims (5)
ースフィルムに積層される赤外線カットオフ層と、この
赤外線カットオフ層の表面に形成される少なくとも１つ
の層とを有する赤外線カットオフフィルムにおいて、 前記赤外線カットオフ層は、赤外線を反射または吸収す
る粉末および樹脂を含有するとともに、その表面の「Ｊ
ＩＳ Ｋ６７６８」による濡れ指数（表面張力：ｄｙｎ
／ｃｍ）が５０以下であることを特徴とする赤外線カッ
トオフフィルム。1. An infrared cutoff film having at least a base film, an infrared cutoff layer laminated on the base film, and at least one layer formed on the surface of the infrared cutoff layer, The cut-off layer contains a powder and a resin that reflect or absorb infrared rays, and has “J” on its surface.
IS K6768 "(Surface tension: dyn
/ Cm) is 50 or less.
０６０１」による表面粗さ（Ｒａ）が０．０１４以上で
あることを特徴とする請求項１に記載の赤外線カットオ
フフィルム。2. The JIS B of the infrared cutoff layer
The infrared cutoff film according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) according to "0601" is 0.014 or more.
値が０．５〜５．０であることを特徴とする請求項１ま
たは２に記載の赤外線カットオフフィルム。3. Haze according to “JIS K7105”
The infrared cut-off film according to claim 1, wherein the value is 0.5 to 5.0.
が、ｘ＝０．３１±０．１、ｙ＝０．３２±０．１、ｚ
＝０．３７±０．１であることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載の赤外線カットオフフィルム。4. The color coordinates according to “JIS K8701” are x = 0.31 ± 0.1, y = 0.32 ± 0.1, z
= 0.37 ± 0.1.
3. The infrared cutoff film according to any one of 3.
錫含有酸化インジウムであることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の赤外線カットオフフィルム。5. The powder of the infrared cut-off layer,
2. A tin-containing indium oxide.
5. The infrared cutoff film according to any one of items 1 to 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10165379A JP2000000927A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Infrared ray cut-off film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10165379A JP2000000927A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Infrared ray cut-off film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000000927A true JP2000000927A (en) | 2000-01-07 |
Family
ID=15811267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10165379A Pending JP2000000927A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Infrared ray cut-off film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000000927A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2377821A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-22 | Cheng Ching Chi | Liquid-proof enclosure of electrical device |
| JP2010501372A (en) * | 2006-08-22 | 2010-01-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Solar control film |
| JP2015116697A (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | Jsr株式会社 | Coated body |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10165379A patent/JP2000000927A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2377821A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-22 | Cheng Ching Chi | Liquid-proof enclosure of electrical device |
| JP2010501372A (en) * | 2006-08-22 | 2010-01-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Solar control film |
| JP2015116697A (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | Jsr株式会社 | Coated body |
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