DESCRIZIONE dell’invenzione avente per titolo:
“Macchina per la deposizione di materiale secondo la tecnica di polverizzazione catodica”.
A nome: KENOSISTEC S.r.l.
5 con sede in: Via delle Scienze, 23, 20082 Binasco (MI)
Inventori: PERUGINI Stefano, MUTTI Simone, ABBIATI Michele
* ;CAMPO DELL’INVENZIONE ;La presente invenzione riguarda il campo delle macchine per la deposizione di 10 materiale secondo la tecnica di polverizzazione catodica, o tecnica dello “sputtering”. ;TECNICA ANTERIORE NOTA ;E’ noto realizzare macchine in grado di effettuare il rivestimento di un substrato posto solitamente in una camera a vuoto, grazie alla deposizione, sulla sua 15 superficie, di atomi o ioni emessi da un corpo solido sacrificale sottoposto al bombardamento di particelle ad alta energia. In particolare, l’emissione di atomi o ioni da parte del corpo sacrificale è provocato da una pluralità di particelle ad alta energia, quali ad esempio ioni di gas allo stato di plasma, che viene indotta a colpire il corpo sacrificale, detto quindi anche “bersaglio” o “target”. ;20 Il corpo bersaglio può essere composto di tutti i materiali elementari o loro composti che vengono deposti sul substrato di deposizione sia allo stato puro che modificato attraverso delle reazioni chimiche con i gas presenti all’interno della camera a vuoto. ;Una simile macchina per la deposizione di materiale ha molteplici applicazioni, 25 come ad esempio quelle nel settore industriale e quelle nel settore della ricerca scientifica. Nel settore industriale, tali macchine possono essere usate per ricoprimenti superficiali di pezzi di diverse geometrie e dimensioni. Ad esempio nell’industria dei semiconduttori, una macchina di questo tipo può essere usata per depositare sottili strati di materiale, come tungsteno, alluminio, titanio, rame, 30 etc. Altri usi possono essere quelli relativi al deposito di strati antiriflettenti o alla metallizzazione di superfici. ;Come detto, una macchina per la deposizione di materiale secondo la tecnica di polverizzazione catodica permette la deposizione di un materiale di rivestimento su un substrato di deposizione, posto ad esempio in una camera a bassa pressione, per mezzo di un processo di erosione del bersaglio, detto anche “target”, o come indicato nel seguito “corpo target”, costituito da tale materiale di 5 rivestimento. In particolare, durante l’erosione del corpo target, il materiale di rivestimento, sotto forma di atomi, ioni, o porzioni di molecole, si distacca da quest’ultimo e si sparge nelle zone circostanti, andando infine ad aderire sul substrato di deposizione. ;L’erosione del corpo target può avvenire grazie all’impiego di un gas fortemente 10 ionizzato, allo stato di “plasma”, interposto tra detto corpo target e detto substrato di deposizione e opportunamente eccitato per fornire particelle ad alta energia destinate a colpire il corpo target per provocarne la suddetta erosione. ;Sono note macchine per la deposizione di materiale che presentano una differenza di potenziale elettrico (ad esempio di qualche kV) tra il corpo target e 15 il substrato di deposizione. Solitamente, il corpo target rappresenta il catodo (polo negativo) mentre il substrato, o un altro elemento, rappresenta l’anodo (polo positivo). ;Nel momento in cui tra detto corpo target e detto substrato di deposizione viene immesso un gas inerte, come ad esempio Argon, in opportune condizioni di 20 pressione (ad esempio qualche decina di mTorr), gli elettroni liberi nel gas vengono accelerati lontano dalla carica negativa del catodo, in modo tale che essi urtino gli atomi del gas inerte, ionizzandoli. In questo modo, si crea una reazione a catena che porta ad ottenere un gas fortemente ionizzato, o “plasma”. Gli atomi ionizzati del gas inerte sono in questo caso atomi con carica positiva e 25 pertanto vengono accelerati per attrazione elettrostatica verso il catodo, in questo caso rappresentato dal corpo target. Gli atomi ionizzati collidono con la superficie del bersaglio, determinano il distacco di materiale di rivestimento (atomi o ioni) dal bersaglio, che, spargendosi in direzione opposta a quella occupata dal bersaglio, viene indotto ad aderire sul substrato di deposizione. ;30 Sono note macchine per la deposizione di materiale che comprendono ulteriormente una pluralità di magneti (a formare un cosiddetto “magnetron”), in grado di generare un campo magnetostatico. Tali magneti sono solitamente posti al di sotto del corpo target, o comunque in corrispondenza di quest’ultimo dalla parte opposta a quella in cui è posto il substrato da rivestire, in modo tale che il campo magnetico risultante interagisca con gli atomi ionizzati nella camera interposta tra il corpo target e il substrato di deposizione, modificando la traiettoria 5 degli atomi ionizzati verso il corpo target (bersaglio), e aumentando la probabilità di collisioni con conseguente incremento del numero di molecole ionizzate, al fine di avere una maggior resa del processo. ;Si noti che per “resa” del processo si intende solitamente la “resa di sputtering”, ovvero il rapporto tra il numero di atomi erosi dal bersaglio e gli ioni incidenti sulla 10 superficie del corpo target. ;In tali macchine per la polverizzazione catodica comprendenti magneti (cosiddetto processo di “magnetron sputtering”), questi ultimi possono essere disposti lungo un supporto tubolare in modo tale da generare campi magnetici con linee di flusso radiali o assiali rispetto all’asse dello stesso supporto tubolare. ;15 In alcuni casi, tali supporti tubolari con i relativi magneti, per consentire una certa omogeneità nell’effetto prodotto dai campi magnetici, possono essere ruotati o traslati rispetto al corpo target. ;Tale soluzione può essere ad esempio implementata nel caso in cui si abbia una conformazione cilindrica del corpo target ed eventualmente anche del substrato 20 da rivestire. In questo caso si parla di macchina per la polverizzazione catodica a magneti (“magnetron sputtering”) di tipo cilindrico. ;Il brevetto US6436252 descrive una macchina per la deposizione di materiale di rivestimento secondo la tecnica di polverizzazione catodica a “magnetron” comprendente una pluralità di magneti disposti lungo un supporto tubolare, 25 evidentemente realizzato in un materiale diamagnetico, il quale può essere traslato rispetto al relativo corpo target avente forma cilindrica. ;I magneti sono collocati sul supporto tubolare in modo tale che ciascun magnete generi, con i due più prossimi magneti, due rispettivi campi magnetici con linee di forza “assiali”, ovvero sostanzialmente disposte su piani passanti per l’asse del 30 supporto. Si noti quindi che l’asse che congiunge i poli nord e sud di ciascun magnete, ovvero l’asse di orientamento magnetico, è disposto lungo una direzione parallela all’asse del supporto cilindrico. ;Tuttavia, le macchine per deposizione di materiale note presentano alcuni svantaggi. ;Uno svantaggio, consiste nella bassa resa del processo, ovvero nel basso rapporto tra il numero di atomi erosi dal bersaglio e gli ioni incidenti sulla 5 superficie del corpo target, determinando così un incremento dei tempi e dei costi del processo. ;Un altro svantaggio consiste nell’erosione non uniforme del corpo target. Tale problematica non permette di ottimizzare il processo di deposizione di materiale, in quanto le macchine note producono una quantità di sfridi di materiale degli 10 elementi bersaglio quando questi ultimi non vengono erosi in modo uniforme. ;Un ulteriore svantaggio consiste nel difficile adattamento delle dimensioni della macchina in funzione del substrato di deposizione o di altri parametri del processo di deposizione. In particolare, nel caso in cui sia necessario aumentare le dimensioni del corpo target e del substrato da rivestire, è normalmente 15 necessario progettare una nuova macchina o comunque un elevato numero dei suoi componenti, per adattare il processo alle nuove esigenze dimensionali. Scopo della presente invenzione è quello di mettere a disposizione una macchina per la deposizione di materiale in grado di incrementare la resa del processo di “sputtering”. ;20 Ulteriore scopo della presente invenzione è quello di rendere il processo di erosione del corpo target, il più uniforme possibile. In tal senso, scopo della presente invenzione è quello di ridurre gli sfridi durante il processo di deposizione di materiale, aumentare l’efficienza del processo e ridurre i costi. ;Ulteriore scopo della presente invenzione è quello di mettere a disposizione una 25 macchina per la deposizione di materiale in grado di adattare facilmente le proprie dimensioni sulla base delle dimensioni del substrato di deposito. ;Ulteriore scopo della presente invenzione è quello di ottenere una elevata velocità di deposizione al fine di evitare possibili reazioni chimiche dovute al tempo di esposizione del deposito stesso necessario per raggiungere gli spessori 30 desiderati. ;RIASSUNTO DELL’INVENZIONE ;Questi ed altri scopi sono raggiunti dalla presente invenzione per mezzo di una macchina per la deposizione di materiale secondo la rivendicazione principale e le rivendicazioni dipendenti. ;La macchina per la deposizione di materiale su un substrato secondo la presente invenzione è una macchina per la polverizzazione catodica a magneti 5 (“magnetron sputtering”), con geometria cilindrica, del tipo dotato di un complesso catodico comprendente: ;- un supporto tubolare che si estende sostanzialmente lungo un primo asse e che è di preferenza, ma non necessariamente, realizzato almeno in parte in un materiale magnetico o ferromagnetico, o anche paramagnetico, ma 10 comunque non diamagnetico; ;- una pluralità di elementi magnetici che sono vincolati al supporto tubolare in modo distanziato l’uno dall’altro lungo detto primo asse, e in cui ciascuno degli elementi magnetici è dotato di una faccia esterna aggettante dal supporto tubolare e di una faccia interna rivolta verso l’asse 15 di tale supporto tubolare (e che ad esempio può essere vincolata allo stesso supporto tubolare), e presenta almeno un secondo asse di orientamento magnetico che congiunge i relativi poli magnetici; - almeno un corpo target che ha forma sostanzialmente cilindrica e che è disposto in modo distanziato attorno al supporto cilindrico con la pluralità 20 di elementi magnetici e che comprende il materiale da depositare sul substrato, la faccia esterna di ciascun elemento magnetico essendo rivolta verso almeno un corpo target; ;- e infine mezzi di movimentazione per la movimentazione relativa tra il supporto tubolare, con la pluralità di elementi magnetici, e il corpo target. ;25 Vantaggiosamente, il suddetto almeno un secondo asse che congiunge i poli di ciascun elemento magnetico è trasversale, e preferibilmente radiale, al primo asse del supporto tubolare, la faccia esterna di ciascun elemento magnetico ha la medesima polarità lungo la sua intera estensione, e altresì la polarità delle facce esterne di due elementi magnetici consecutivi sul supporto tubolare è 30 alternata. ;Secondo un aspetto della presente invenzione, ciascuno degli elementi magnetici ha sezione anulare o discoidale con asse di simmetria sostanzialmente parallelo al suddetto primo asse del supporto tubolare e con il secondo asse di orientamento magnetico sostanzialmente radiale e ortogonale a tale primo asse del supporto tubolare. ;Vantaggiosamente, la macchina secondo l’invenzione permette di incrementare 5 la resa del processo di “sputtering”. Più in particolare, la presenza di elementi magnetici e l’orientamento dell’asse che congiunge i poli di ciascun elemento magnetico rispetto al supporto tubolare della macchina permette di accelerare in modo efficace gli ioni del plasma verso il corpo target, incrementando la resa del processo. ;10 Un altro vantaggio della presente invenzione consiste nel disporre di mezzi di movimentazione per la movimentazione relativa tra il supporto tubolare, a cui sono solitamente solidali gli elementi magnetici, e il corpo target. I mezzi di movimentazione permettono così di controllare la zona di erosione del corpo target e renderla il più uniforme possibile. ;15 Secondo un altro aspetto della presente invenzione, ciascun elemento magnetico comprende una molteplicità di elementi magnetici aventi asse di orientamento magnetico radiale. In altre parole, ciascun elemento magnetico, preferibilmente di forma a sezione anulare o discoidale, è costituito da una pluralità di magneti con lo stesso orientamento magnetico radiale e accostati l’uno di fianco all’altro. ;20 Vantaggiosamente, è possibile adattare facilmente la geometria della macchina secondo l’invenzione alle dimensioni desiderate, per esempio in base alla necessità di depositare materiale su un substrato di dimensioni desiderate, semplicemente aumentando o diminuendo le dimensioni del supporto tubolare ed aggiungendo o rimuovendo dei magneti alla pluralità di magneti che 25 costituiscono ciascun elemento magnetico. Il vantaggio di adattare facilmente le dimensioni della macchina in base a diverse necessità, permette di poter disporre di macchine per la deposizione di materiale di diverse dimensioni e geometrie modificando il minor numero possibile di componenti, incrementando la versatilità del progetto costruttivo della macchina e riducendo i costi di produzione. ;30 Secondo un ulteriore aspetto della presente invenzione, la macchina per la deposizione di materiale comprende dei mezzi di raffreddamento per il raffreddamento di almeno detto corpo target. ;Vantaggiosamente, i mezzi di raffreddamento del corpo target permettono di incrementare la resa del processo in quanto non è necessario interrompere il processo per il raffreddamento dello stesso corpo target. ;Inoltre, l’energia necessaria per ottenere questa elevata velocità di deposizione 5 è dissipata grazie ad un notevole flusso di liquido di raffreddamento che l’invenzione sotto descritta permette di avere. ;BREVE DESCRIZIONE DELLE FIGURE ;Ulteriori caratteristiche e vantaggi della presente invenzione risulteranno più evidenti dalla seguente descrizione, fatta a titolo di esempio con riferimento alle 10 figure allegate in cui: ;- la figura 1 mostra una vista in prospettiva di parte del complesso catodico della macchina per la deposizione di materiale secondo la presente invenzione, in una configurazione in cui il corpo target non è assemblato coassialmente al relativo supporto tubolare per i magneti; ;15 - la figura 2 mostra una vista in sezione di parte del complesso catodico della macchina per la deposizione di materiale secondo la presente invenzione; - la figura 3 mostra una vista tridimensionale in spaccato di un particolare del complesso catodico della macchina per deposizione di materiale secondo la presente invenzione; e ;20 - la figura 4 mostra uno schema rappresentativo del complesso catodico della macchina per deposizione di materiale secondo la presente invenzione; - la figura 5 mostra una forma di realizzazione del complesso catodico della macchina per la deposizione di materiale secondo la presente invenzione. ;DESCRIZIONE DETTAGLIATA DI UNA FORMA DI REALIZZAZIONE ;25 PREFERITA DELLA PRESENTE INVENZIONE ;Con riferimento in generale alle figure 1-3, la macchina 1 per la deposizione di materiale su un substrato tramite la tecnica della polverizzazione catodica a magneti (“magnetron sputtering”), secondo la presente invenzione, presenta una struttura di base, o complesso catodico, comprendente un supporto tubolare 2 30 che si estende sostanzialmente lungo un primo asse A, e su cui è disposta, come si vedrà, una pluralità di elementi magnetici 5 a costituire campi magnetostatici, e almeno un corpo target 3, preferibilmente in un materiale metallico, che può avere forma sostanzialmente cilindrica e che è disposto in modo distanziato attorno al supporto tubolare 2. Il supporto tubolare 2 può inoltre essere almeno traslato rispetto al corpo target 3, o viceversa. ;Il corpo target 3 è l’elemento della macchina 1 che è costituito da, o che 5 comunque comprende il, materiale che durante il processo di polverizzazione viene depositato su un substrato da rivestire (non mostrato nelle figure) e che è sottoposto ad una differenza di potenziale rispetto a tale substrato da rivestire. Più in particolare, nella forma di realizzazione mostrata nelle figure 1-3, la macchina 1 è una macchina per la deposizione di materiale secondo la tecnica 10 di polverizzazione catodica a magneti (“magnetron sputtering”), che comprende un complesso catodico posto entro una camera a bassa pressione (o camera a vuoto) ed un substrato da rivestire, in cui il catodo è costituito dal suddetto corpo target 3, mentre l’anodo è costituito dal substrato da rivestire, e in cui è presente un supporto tubolare 2 che è disposto in corrispondenza di tale corpo target 3 e 15 che comprende una pluralità di elementi magnetici 5 capaci di definire un opportuno campo magnetostatico. ;Il substrato da rivestire su cui viene depositato il materiale del corpo target 3 è disposto frontalmente rispetto allo stesso corpo target 3 ed è distanziato rispetto ad esso, oltre ad essere sottoposto ad una differenza di potenziale (ad esempio 20 di qualche kV) rispetto a tale corpo target 3, in modo tale che quest’ultimo costituisca un catodo e il substrato da rivestire costituisca un relativo anodo. Come noto, il substrato su cui viene depositato il materiale può essere un pezzo industriale o una molteplicità di pezzi disposti affiancati durante il processo di polverizzazione secondo la presente invenzione. Secondo una possibile forma di 25 realizzazione, il substrato può essere un pezzo tubolare disposto attorno al corpo target 3. Secondo un’altra possibile forma di realizzazione, il substrato può avere una qualsiasi forma geometrica e avere una o più superfici disposte distanziate rispetto al corpo cavo 3. ;Si fa presente che nella figura 1, il corpo target 3 è stato volontariamente 30 disegnato affiancato rispetto al supporto tubolare 2 della macchina 1, per meglio permettere la visualizzazione delle parti che compongono il supporto tubolare 2. La posizione del corpo target 3 durante il processo di polverizzazione catodica, è quella mostrata nelle figure 2 e 3, ovvero attorno al supporto tubolare 2 e distanziato rispetto ad esso. ;Allo stesso modo si osservi che nelle figure qui riportate non è stata illustrata la camera a bassa pressione (o a vuoto) entro cui è disposto sia il complesso 5 catodico qui mostrato, sia il supporto da rivestire superficialmente, sia il gas inerte che, allo stato di plasma, e i cui ioni sono accelerati dai campi magnetici degli elementi magnetici 5 disposti sul supporto 2, consente lo “sputtering”, ovvero la polverizzazione, del corpo target 3. ;Tra il corpo target 3 e il substrato, entro la camera a bassa pressione, è ricavato 10 un volume adatto all’inserimento di un fluido (ad esempio un gas inerte quale l’Argon) che può essere ionizzato grazie alla ionizzazione operata dal complesso catodico comprendente il corpo target 3. Il fluido così ionizzato, posto ad opportune condizioni di pressione (ad esempio qualche decina di mTorr), forma il plasma che, durante il processo di polverizzazione, grazie alla presenza di ioni 15 ad alta energia che colpiscono il corpo target 3 stesso, erode la superficie di tale corpo target 3. ;La macchina 1 per la deposizione di materiale su un substrato secondo la presente invenzione, come detto, è una macchina in grado di realizzare la tecnica del “magneton sputtering”, e dunque comprende degli elementi magnetici 5 su 20 un relativo supporto tubolare 2, in grado di generare campi magnetici statici con lo scopo di incrementare la resa della deposizione di materiale, o resa del processo di “sputtering”. ;Più nel dettaglio, nella macchina 1 oggetto di questa invenzione, tale supporto tubolare 2 si sviluppa sostanzialmente lungo un asse A, preferibilmente rettilineo, 25 e comprende, vincolata su di esso, almeno una coppia di elementi magnetici 5 in grado di generare un campo magnetico statico. Il campo magnetico generato dai magneti 5 permette l’accelerazione degli ioni carichi elettricamente del plasma contenuto tra il corpo target 3 ed il substrato da rivestire. ;La macchina 1 comprende inoltre mezzi 8 per movimentare, almeno, e 30 preferibilmente solo, in traslazione tale supporto tubolare 2 rispetto al corpo target 3 o viceversa. ;Si osservi che qui e nel seguito per “supporto tubolare 2” si intende un componente strutturale della macchina 1, costituito da uno o più parti, che ha forma allungata, ovvero con una dimensione prevalente (ovvero quella dell’asse A) rispetto alle altre due, e che ha la funzione di sostenere gli elementi magnetici 5 responsabili della creazione del campo magnetostatico capace di accelerare 5 convenientemente gli ioni del plasma diretti verso il corpo target 3. ;La disposizione degli elementi magnetici 5 su tale supporto tubolare 2 è inoltre tale per cui la resa del processo di “sputtering” è ottimale, dato che l’erosione della superficie del corpo target 3 viene aumentata a causa dell’accelerazione impartita agli ioni del plasma. In particolare, gli ioni vengono accelerati nella 10 direzione del corpo target 3 per mezzo della forza di Lorentz, ovvero grazie all’interazione elettro-magnetica tra gli ioni del plasma carichi elettricamente ed il campo magnetico generato da tali elementi magnetici 5. ;Gli elementi magnetici 5 sono vincolati al supporto tubolare 2 in modo distanziato l’uno dall’altro lungo l’asse A di tale supporto tubolare 2. In particolare, ciascun 15 elemento magnetico 5 è disposto distanziato rispetto ad un altro elemento magnetico 5, in modo tale che le linee di campo magnetico determinino una geometria sostanzialmente arcuata tra un elemento magnetico 5 ed un altro successivo ed adiacente elemento magnetico 5. ;L’orientamento magnetico di ciascun elemento magnetico 5 è definito da almeno 20 un asse M di orientamento magnetico che congiunge i poli magnetici N, S di ciascun elemento magnetico. Inoltre, ciascun elemento magnetico presenta due facce contrapposte, una prima faccia interna, preferibilmente vincolata al supporto tubolare 2, ed una seconda faccia esterna, aggettante verso il corpo target 3 dallo stesso supporto tubolare 2. ;25 Si noti che, secondo un’ulteriore forma di realizzazione, non mostrata nelle figure allegate, ciascun elemento magnetico 5 può essere vincolato al supporto tubolare 2 in un punto non appartenente alla prima faccia di dette due facce contrapposte, sopra descritte. In altre parole, è possibile vincolare un elemento magnetico 5 al supporto tubolare 2 in un punto compreso tra dette due facce 30 contrapposte. ;In ogni caso, ciascun elemento magnetico 5 ha una faccia esterna rivolta verso il corpo target 3 ed una faccia interna rivolta verso l’asse del supporto tubolare 2. ;In questo modo, nel caso in cui il supporto tubolare 2 abbia geometria cilindrica a base circolare, ogni elemento magnetico 5 può assumere ad esempio una conformazione tale da presentare una sezione anulare con asse di simmetria passante per l’asse A dello stesso supporto tubolare 2. ;5 Vantaggiosamente secondo la presente invenzione, come mostrato anche nello schema di figura 4 che illustra una sezione di una metà del supporto tubolare 2 con i relativi elementi magnetici 5 ed una sezione del relativo corpo target 3, ciascuno degli elementi magnetici 5, vincolati al nucleo centrale dell’elemento di supporto 2 tramite – in questo caso e non necessariamente – una incastellatura 10 7, presenta una faccia esterna avente sulla sua intera estensione, ovvero sulla sua intera superficie rivolta verso il corpo target 3, una medesima polarità magnetica S o N, ed una faccia interna, rivolta verso l’asse A del supporto tubolare 2, avente sulla sua intera estensione l’opposta polarità magnetica N o S. Inoltre, ciascuno di tali elementi magnetici 5 è vincolato al supporto 2 in modo 15 tale che l’asse, o gli assi, di orientamento magnetico M sia disposto in modo sempre trasversale, e preferibilmente radiale e perpendicolare, rispetto all’asse A di tale supporto tubolare 2, e in modo tale che la polarità delle facce esterne di due elementi magnetici (5) consecutivi sia alternata, così da definire i campi magnetici con linee di campo B visibili in tale figura 4. ;20 In particolare, come si può vedere in quest’ultima figura, gli elementi magnetici 5 della macchina 1 sono disposti sul supporto tubolare 2 in modo tale da essere distanziati convenientemente tra loro e da risultare orientati così che le polarità delle loro facce esterne siano alternate lungo l’asse A di tale supporto tubolare 2. In altre parole, gli elementi magnetici 5 sono disposti sul supporto 2 in modo tale 25 che la loro faccia rivolta verso il corpo target 3 di due elementi magnetici 5 affiancati e in successione, presenti rispettivamente polarità N, S alternata. Ad esempio, se un primo elemento magnetico 5 presenta un orientamento magnetico tale per cui la faccia rivolta verso il corpo target 3 appartenga alla polarità N, un secondo elemento magnetico 5 affiancato in successione a detto 30 primo elemento magnetico 5, presenta un orientamento magnetico tale per cui la faccia rivolta verso il corpo target 3 appartiene alla polarità S. ;Il campo magnetico generato dagli elementi magnetici 5 è rappresentato in figura 4 per mezzo delle linee di campo magnetico B in tratteggio. Le linee di campo magnetico B congiungono i poli N, S degli elementi magnetici 5 affiancati. In particolare, le linee di campo magnetico B possono essere delle linee curve, più in particolare di forma arcuata, disposte tra gli elementi magnetici 5. ;5 Le linee di campo magnetico attraversano il corpo target 3 ed influenzano la regione della macchina 1 compresa tra il corpo target 3 e il substrato di deposizione, determinando un’accelerazione delle particelle del plasma contenuto in detta regione verso il corpo target 3. ;Si fa presente che per semplicità, nella figura 4 non sono state rappresentate le 10 linee di campo magnetico B che eventualmente congiungono i punti delle facce interne degli elementi magneti 5 rivolte verso il supporto tubolare 2. ;Tornando alla forma di realizzazione della macchina 1 qui descritta, la figura 2 mostra una sezione della macchina 1 per la deposizione di materiale in cui è rappresentata nel dettaglio una preferita disposizione degli elementi magnetici 5 15 lungo il supporto tubolare 2, che in questo caso ha geometria cilindrica con base circolare, in conformità alla geometria assunta dal relativo corpo target 3, che ha forma cilindrica con base anulare. ;Gli elementi magnetici 5 della realizzazione mostrata in figura 2 hanno forma sostanzialmente cilindrica a sezione anulare, con asse di simmetria 20 sostanzialmente coincidente con l’asse A del supporto tubolare 2. ;Naturalmente, nella macchina 1 della presente invenzione può essere impiegata una qualsiasi altra conformazione degli elementi magnetici 5, ad esempio a barra, o a sezione ovale o altro ancora, che consenta di avere per ciascun elemento magnetico 5 una relativa faccia esterna aggettante dal supporto 2 presentante 25 una certa polarità magnetica (ad esempio S) ed una contrapposta faccia interna rivolta verso l’asse A del supporto 2 avente l’opposta polarità magnetica (ad esempio N), e in modo tale che l’asse o gli assi di orientamento magnetico M di tali elementi magnetici 5 sia trasversale all’asse A del supporto tubolare 2. ;In ogni caso, con la macchina 1 a geometria cilindrica qui descritta, è preferibile 30 utilizzare, nel relativo complesso catodico, elementi magnetici 5 cilindrici a sezione anulare, con un asse di simmetria sostanzialmente parallelo all’asse A del supporto tubolare 2, che presentano ciascuno una faccia, o superficie laterale, esterna di una medesima polarità magnetica, ed una faccia, o superficie laterale, interna di una medesima, opposta, polarità magnetica e con asse, o assi, di orientamento magnetico M trasversale all’asse A del supporto tubolare 2. Vantaggiosamente, nella realizzazione qui illustrata, l’asse, o gli assi, M di 5 orientamento magnetico che congiunge i poli N, S di ciascun elemento magnetico 5 è sempre sostanzialmente radiale, e quindi perpendicolare, rispetto all’asse A del supporto tubolare 2. ;Infatti, le due facce contrapposte, interna ed esterna, di ciascun elemento magnetico 5 appartengono rispettivamente ad una e all’altra delle due polarità N, 10 S, e l’asse M che le congiunge è disposto, nella particolare forma di realizzazione di figura 2, in modo tale da essere sempre radiale rispetto all’asse A del supporto tubolare 2 cilindrico, ovvero sempre ortogonale a tale asse A. ;Si osservi che, evidentemente, nel caso in cui ciascun elemento magnetico 5 abbia forma cilindrica con sezione anulare e sia conformato in modo tale da avere 15 una faccia esterna (cilindrica) di una sola polarità magnetica ed una faccia interna (anch’essa cilindrica) della opposta polarità, allora è presente una infinità o pluralità di assi di orientamento magnetico M, i quali sono comunque disposti a formare cerchi trasversali rispetto all’asse A del supporto 2 e in particolare essi sono di preferenza disposti in modo da essere radiali, ovvero ortogonali, rispetto 20 a tale asse A. ;Inoltre, preferibilmente, una delle due facce contrapposte di ciascun elemento magnetico 5, ad esempio quella appartenente alla polarità N, può essere vincolata al supporto tubolare 2, ad esempio tramite una incastellatura 7, e l’altra faccia esterna delle due facce contrapposte, ad esempio quella appartenente alla 25 polarità S, può essere aggettante dal supporto tubolare 2. ;Nella realizzazione delle figure qui allegate, gli elementi magnetici 5 sono convenientemente distanziati tra di loro sul supporto 2 e sono di preferenza disposti sostanzialmente allineati lungo un asse parallelo all’asse A dello stesso supporto tubolare 2. ;30 Come detto, la faccia aggettante dal supporto tubolare 2 di ciascun elemento magnetico 5, ovvero la cosiddetta faccia esterna, presenta una polarità N, S alternata rispetto a quella della faccia aggettante, o esterna, dal supporto tubolare 2 di un elemento magnetico 5 adiacente successivo, rispetto alla direzione dell’asse A. ;Ad esempio, un primo elemento magnetico 5 può presentare una faccia esterna aggettante dal supporto tubolare 2 di polarità N (e la corrispondente faccia interna 5 contrapposta dello stesso primo elemento magnetico 5 di polarità S), mentre un secondo elemento magnetico 5, adiacente e successivo, al primo elemento magnetico 5 rispetto alla direzione parallela all’asse A del supporto tubolare 2, può presentare una faccia esterna aggettante dal supporto tubolare 2 di polarità S (e la corrispondente faccia interna contrapposta dello stesso secondo elemento 10 magnetico 5 di polarità N), e così via per tutti gli elementi magnetici della pluralità di elementi magnetici 5 della macchina 1. ;In pratica le facce esterne degli elementi magnetici 5 tra loro adiacenti e in successione sul supporto tubolare 2 hanno polo magnetico alternato tra loro, lungo la direzione definita dall’asse A dello stesso supporto tubolare 2. ;15 Si osservi che in questo caso, e qualora le facce interne di polarità opposta vengano vincolate al supporto tubolare 2, tale supporto tubolare 2 può essere vantaggiosamente realizzato, almeno in parte, con materiale magnetico o ferromagnetico, in modo tale da chiudere sul supporto tubolare 2 un ramo del circuito magnetico che si stabilisce tra elementi magnetici 5 posti, adiacenti e in 20 successione, sullo stesso supporto tubolare 2. Come si vedrà, a tale proposito il supporto tubolare 2 può comprendere una incastellatura 7 che ha la funzione di vincolare tali elementi magnetici 5 allo stesso supporto 2 opportunamente realizzata in materiale ferromagnetico (si veda anche la figura 4). ;Inoltre, secondo una forma di realizzazione particolare della presente invenzione, 25 la pluralità di elementi magnetici 5 può presentare la stessa distanza tra le facce contrapposte di ciascun elemento magnetico 5, ossia avere uguale spessore. In altre parole, nel caso di elementi magnetici 5 cilindrici a sezione sostanzialmente anulare, la faccia esterna di ciascun elemento magnetico 5 circonda il supporto tubolare 2 alla medesima distanza dal primo asse A del supporto tubolare 2. ;30 Ovvero, ciascun elemento magnetico 5 presenta la stessa lunghezza radiale, ovvero la medesima lunghezza nella direzione sostanzialmente perpendicolare all’asse A del supporto tubolare 2. ;Secondo la forma di realizzazione mostrata nelle figure 1-3, ciascun elemento magnetico 5 può vantaggiosamente presentare una pluralità di magneti disposti in modo affiancato attorno al bordo del supporto tubolare 2, così da presentare sempre la medesima polarità magnetica, N o S, lungo l’intera faccia esterna del 5 relativo elemento magnetico 5. ;Nella forma di realizzazione mostrata nelle figure allegate, come anticipato, il supporto tubolare 2 può essere un supporto sostanzialmente cilindrico, eventualmente dotato di una incastellatura 7, e ciascun elemento magnetico 5 può presentare una pluralità di magneti disposti in modo circolare attorno ad una 10 circonferenza con centro situato sostanzialmente in corrispondenza dell’asse A del supporto tubolare 2. ;In questo caso, i magneti di ciascun elemento magnetico 5 possono essere delle barre o prismi sostanzialmente rettangolari o leggermente smussati, in modo tale che la faccia aggettante dal supporto tubolare 2 verso il corpo target 3 sia più 15 estesa della faccia vincolata al supporto tubolare 2. L’asse di orientamento magnetico di ogni magnete costituente ciascuno degli elementi magnetici 5 presenta una direzione sostanzialmente radiale rispetto al supporto tubolare 2, ovvero una direzione sostanzialmente perpendicolare rispetto all’asse A del supporto tubolare 2, così che l’asse di orientamento M di ogni elemento 20 magnetico 5 è sempre sostanzialmente radiale, ovvero diretto ortogonalmente all’asse A del supporto 2. ;I magneti costituenti ogni singolo elemento magnetico 5 possono di preferenza definire una faccia esterna cilindrica anulare ed una faccia interna anch’essa cilindrica anulare aventi polarità opposte. ;25 L’utilizzo di una pluralità di magneti che definiscono ciascun elemento magnetico 5, da un lato consente una loro rapida sostituzione nel caso in cui questo si renda necessario durante le normali attività di manutenzione, dall’altro permette di aumentare o diminuire facilmente il diametro di tali elementi magnetici 5, semplicemente utilizzando una incastellatura 7 di diametro aumentato o ridotto 30 ed un numero maggiore o minore di magneti che costituiscono ciascun elemento magnetico 5. ;Si noti che tale aumento o riduzione del diametro – o comunque della dimensione esterna – degli elementi magnetici può essere richiesta nel caso in cui si modifichino le dimensioni del corpo target 3 impiegato. ;Il supporto tubolare 2 della macchina 1 può comprendere inoltre, come già accennato, una incastellatura 7 in materiale ferromagnetico, o magnetico, posta 5 in corrispondenza della faccia interna degli elementi magnetici 5. In altre parole, la macchina 1 comprende una incastellatura 7 ferromagnetica che congiunge ed eventualmente vincola gli elementi magnetici 5 al nucleo del supporto cilindrico 2. Secondo una possibile forma di realizzazione, gli elementi magnetici 5 possono essere infatti vincolati a tale incastellatura 7 ferromagnetica, la quale in 10 questo caso può presentare delle cave entro cui inserire ogni elemento magnetico 5 – e se del caso i relativi magneti che costituiscono ciascuno di tali elementi 5 – e può essere resa solidale ad un nucleo, ad esempio a forma di barra cilindrica, del supporto tubolare 2. ;Tale incastellatura 7 ferromagnetica, disposta tra gli elementi magnetici 5 ed il 15 nucleo del supporto tubolare 2, permette di contenere le linee del campo magnetico generato dagli elementi magnetici 5, chiudendo parte del relativo circuito magnetico, in modo da ottenere il campo magnetico desiderato. ;La figura 5 mostra una forma di realizzazione alternativa della disposizione degli elementi magnetici 5 sul supporto tubolare 2. In questa forma di realizzazione i 20 magneti formano delle eliche parallele con orientamento del campo magnetico invertito tra eliche adiacenti. ;In particolare, secondo questa possibile forma di realizzazione, ciascun elemento magnetico 5 comprende una molteplicità di magneti disposti lungo una linea elicoidale attorno all’asse A del supporto tubolare 2. ;25 La molteplicità di magneti disposti lungo linee elicoidali forma un primo elemento magnetico elicoidale ed un secondo elemento magnetico elicoidale, alternati lungo la direzione dell’asse A del supporto tubolare 2. I magneti appartenenti al primo elemento magnetico 5a sono disposti in modo da avere la faccia esterna della stessa polarità. Allo stesso modo, i magneti appartenenti al secondo 30 elemento magnetico 5b sono disposti in modo da avere la faccia esterna della stessa polarità e polarità opposta rispetto a quella dei magneti appartenenti al primo elemento magnetico 5a. ;In questo modo, i magneti appartenenti ad un elemento magnetico 5a, 5b costituiscono tutti i magneti orientati con la stessa polarità. ;Inoltre, anche in questa forma di realizzazione, secondo la presente invenzione, gli elementi magnetici 5a, 5b sono alternati e dunque i magneti che formano il 5 primo elemento magnetico 5a, in altre parole i magneti orientati secondo un primo orientamento magnetico, sono disposti distanziati rispetto ai magneti che formano il secondo elemento magnetico 5b, in altre parole i magneti orientati secondo un secondo orientamento magnetico opposto rispetto al primo elemento magnetico. ;10 Come già accennato, indipendentemente dalla forma di realizzazione degli elementi magnetici sopra descritti, la macchina 1 può comprendere altresì dei mezzi di movimentazione 8 per la movimentazione relativa tra il supporto tubolare 2, con detta pluralità di elementi magnetici 5, e il corpo target 3. ;I mezzi di movimentazione 8 possono permettere almeno la traslazione del 15 supporto tubolare 2 e degli elementi magnetici 5 lungo un asse parallelo a, o coincidente con, l’asse A del supporto tubolare 2. In questo modo, è possibile adattare la posizione relativa del supporto tubolare 2 e dei magneti 5 rispetto al corpo target 3 e consentire altresì l’erosione assialmente uniforme dello stesso corpo target 3. La movimentazione relativa tra gli elementi magnetici 5 e il corpo 20 target 3 può infatti permettere il controllo del livello di erosione della superficie di tale corpo target 3, grazie allo spostamento relativo dei campi magnetici statici (aventi naturalmente intensità variabile nello spazio) definiti dagli elementi magnetici 5 rispetto allo stesso corpo target 3. ;I mezzi di movimentazione 8 possono essere dei mezzi di movimentazione noti 25 come ad esempio mezzi di movimentazione meccanici, pneumatici o idraulici. ;Il controllo dei mezzi di movimentazione 8 può essere un controllo di tipo manuale, come ad esempio attuabile da un operatore specializzato, oppure automatico, come ad esempio comandato da una unità di controllo in grado di determinare dei parametri utili all’uniformità di erosione del corpo target 3, come 30 ad esempio i tempi di arresto e di movimentazione del supporto tubolare 2 con i relativi elementi magnetici 5, la velocità e la direzione della traslazione del supporto tubolare 2 con gli elementi magnetici 5 rispetto al corpo target 3. ;Nel caso in cui il componente catodico della macchina 1 sopra descritta preveda l’impiego di elementi magnetici 5 aventi una faccia esterna sostanzialmente anulare e il corpo target 3 abbia geometria cilindrica, si è dimostrato essere sufficiente per ottenere una erosione uniforme dello stesso corpo target 3 che tali 5 mezzi di movimentazione 8 consentano esclusivamente la traslazione relativa del supporto tubolare 2, con i relativi elementi magnetici 5, rispetto al corpo target 3, o viceversa. ;Secondo una forma di realizzazione dei mezzi di movimentazione 8 associati alla macchina 1, in cui gli elementi magnetici comprendono una molteplicità di 10 magneti disposti lungo una linea elicoidale, tali mezzi di movimentazione 8 possono comprendere dei mezzi di rotazione del supporto tubolare 2, comprendente gli elementi magnetici 5a, 5b, o direttamente dei mezzi di rotazione degli elementi magnetici 5a, 5b rispetto al supporto tubolare 2. ;Secondo un ulteriore aspetto della presente invenzione, la macchina 1 può 15 comprendere dei mezzi di raffreddamento per raffreddare i componenti della stessa macchina 1 soggetti al riscaldamento dovuto al procedimento di polverizzazione catodica che determina l’erosione della superficie del corpo target 3. ;In particolare, la macchina 1 può comprendere un impianto di alimentazione di 20 acqua, o di un altro fluido di scambio termico, passante almeno all’interno di detto supporto tubolare 2 attraverso un’apertura di ingresso 9a ed un’apertura di uscita 9b. L’acqua in ingresso nella macchina 1 viene immessa ad una temperatura inferiore rispetto alla temperatura degli elementi della macchina 1 che necessitano il raffreddamento. ;25 Una volta che l’acqua è stata introdotta attraverso l’apertura di ingresso 9a, transita attraverso dei passaggi che permettono all’acqua di essere in contatto termico con gli elementi caldi della macchina 1. In questo modo è reso possibile uno scambio termico tra gli elementi caldi, come ad esempio il corpo target 3 o gli elementi a contatto termico con il corpo target 3, e gli elementi a temperatura 30 inferiore, come ad esempio l’acqua introdotta nella macchina. ;Una volta che l’acqua è transitata attraverso i condotti interni alla macchina 1 e che si è verificato lo scambio termico tra i corpi caldi della macchina 1 e l’acqua, l’acqua può essere fatta fluire attraverso un condotto di uscita che termina con un’apertura di uscita 9b per lo scarico dell’acqua. ;Si osservi che qualora i mezzi di movimentazione 8, come è sufficiente nella macchina 1 qui illustrata, siano del tipo capace solamente di traslare in modo 5 relativo il supporto tubolare 2 rispetto al corpo target 3, il circuito idraulico di afflusso ed efflusso dell’acqua di raffreddamento è naturalmente semplificato. Per mezzo preferibilmente della macchina 1 qui sopra descritta, è possibile implementare il seguente metodo per la deposizione di materiale, tramite polverizzazione catodica a magnete (“magnetron sputtering”), che comprende le 10 fasi di: ;a) predisporre entro una camera a bassa pressione (ad esempio con pressione di qualche Pa o qualche decina di mTorr), riempita con preferibilmente un gas inerte (ad esempio Argon), il corpo target 3 attorno al, o in prossimità del, supporto tubolare 2 con i relativi elementi magnetici 5, ad una adeguata distanza 15 da questi ultimi; ;b) predisporre il substrato da rivestire entro detta camera a bassa pressione frontalmente rispetto alla superficie laterale esterna del corpo target 2; ;c) stabilire una differenza di potenziale opportuna tra il corpo target 3 e il substrato da rivestire (ad esempio qualche kV) e provocare la formazione di 20 plasma; ;d) azionare i mezzi di raffreddamento 9 per il raffreddamento del corpo target ed il complesso catodico; ;e) azionare i mezzi di movimentazione 8 per movimentare almeno in traslazione il supporto tubolare 2 rispetto al corpo target 3 lungo un asse parallelo o 25 coincidente a detto asse A del supporto tubolare 2. *