HU226285B1 - Dispersive multi-layer mirror - Google Patents
Dispersive multi-layer mirror Download PDFInfo
- Publication number
- HU226285B1 HU226285B1 HU0201713A HUP0201713A HU226285B1 HU 226285 B1 HU226285 B1 HU 226285B1 HU 0201713 A HU0201713 A HU 0201713A HU P0201713 A HUP0201713 A HU P0201713A HU 226285 B1 HU226285 B1 HU 226285B1
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- layer
- mirror
- layers
- dispersion
- reflective layer
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 80
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0883—Mirrors with a refractive index gradient
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
A találmány szerinti többrétegű diszperzív tükör, különösen rövid impulzusú lézerekhez, oszcillátorokhoz, lézererősítőkhöz vagy üreges szálas fénysűrítőkben alkalmazható. A tükör egy hordozóra felvitt, a reflektálandó rövid sugárzási impulzusok különböző frekvenciakomponenseinek hatására különböző diszperziós értékeket létrehozó egyedi dielektromos rétegekből áll, ahol a találmány szerint a hordozón (1) egy, valamennyi frekvenciakomponenst visszaverő erősen reflektáló réteg van, és ezen vannak rezonáns bevonatszerkezetként (3) a reflektált rövid impulzusokat moduláló dielektromos egyedi rétegek (4, 5) kialakítva oly módon, hogy az egész bevonatszerkezetben (3) a különböző frekvenciakomponensekhez különböző tartózkodási idők tartoznak. Az erősen reflektáló réteg előnyösen fémréteg (2), például ezüst vagy alumínium, de lehet önmagában ismert Bragg-reflektor (2') is. A rezonáló bevonatszerkezet (3) általában 20-30 dielektromos egyedi rétegből (4, 5) áll, ahol az egyedi rétegek (4, 5) váltakozva nagy, illetve kis törésmutatójú rétegek, illetve szilícium-dioxid- és titán-dioxid-rétegek. Az erősen reflektáló réteg és a dielektromos rezonáló bevonatszerkezet (3) közbülső tapadásfokozó réteggel (6), például alumínium-oxid-réteggel lehet ellátva.
HU 226 285 Β1
2
5
1. ábra
A leírás terjedelme 6 oldal (ezen belül 2 lap ábra)
HU 226 285 Β1
A találmány tárgya olyan többrétegű diszperzív tükör, elsősorban rövid impulzusú lézerekhez, oszcillátorokhoz, lézererősítőkhöz vagy üreges szálas fénysűrítőkhöz, amely tükör egy hordozóra felvitt, a reflektálandó rövid sugárzási impulzusok különböző frekvenciakomponenseinek hatására különböző diszperziós értékeket létrehozó egyedi dielektromos rétegekből áll.
Ismeretes, hogy a lézertechnikában egyre rövidebb lézerimpulzusokat alkalmaznak, immár a pikoszekundumok (ps) és femtoszekundumok (fs) tartományában. A tudományos alkalmazások mellett elterjednek a rövid impulzusú lézer berendezések egyre inkább az iparban is, elsősorban a fémmegmunkálás területén. Az ilyen jellegű rövid impulzusú lézer berendezésekben alkalmazott lézerkristályok meghatározott termikus tulajdonságokkal, például széles fluoreszcenciasávval rendelkeznek, hogy lehetővé tegyék 10 vagy akár 5 fs alatti impulzustartományok megvalósítását is (lásd például a WO98/10494 A számú nemzetközi szabadalmi bejelentést). Különösen elterjedten alkalmaznak olyan lézerkristályokat, elsősorban titán-zafír kristályokat, amelyek átmenetifémekkel vannak adalékolva.
Az ilyen rendkívül rövid lézerimpulzusok vagy egyéb sugárzási impulzusok előállítása során problémát jelentenek a rendszer optikai elemei, amelyek között különösen fontos lenne széles sávú, nagy reflektálóképességű optikai elemek, illetve diszperzfv elemek alkalmazása.
Javasoltak már ilyen diszperzív alkatrészeket hasonló, a vékonyréteg-technikában alkalmazott lézerberendezésekhez. Ilyet ír le többek között az US 5,734,503 számú szabadalom, valamint A. Stingl és társai cikke (Generation of 11-fs pulses from a Ti:sapphire laser without the use of prisms”, Optics Letters, Vol. 19, Nr. 3, 1994. február, 204-206. oldal). A javasolt megoldásnál a tükröt nagyszámú (például 42) egyedi rétegből alakítják ki, ahol az egyes rétegek különböző törésmutatójúak. Ezek egy nagyon rövid lézerimpulzus reflektálása során - ha a lézerimpulzus megfelelően nagy sávszélességgel rendelkezik az adott frekvenciatartományban - megfelelően ellátják feladatukat: a lézersugár különböző hullámhosszúságú komponensei különböző mélységben hatolnak be a tükör egyes rétegeibe, mielőtt reflektálódnának. Ezáltal a különböző frekvenciakomponensek késleltetése különböző mértékű lesz a rétegvastagságtól függően, azaz a rövidhullámú komponensek a külső rétegekből reflektálódnak, a hosszúhullámú részek ezzel szemben a tükör mélyebb rétegeiből. Ez azt jelenti, hogy a hosszúhullámú komponensek a rövidhullámú komponensekhez képest időben késleltetetté válnak. Ily módon egy lézerberendezésben a rövid impulzusú lézersugárzás diszperziójának kompenzálása állítható elő: a rendkívül rövid idejű impulzusok frekvenciaspektruma ugyanis széles lesz, ahol azonban a lézersugárzás különböző, optikailag nemlineáris frekvenciakomponensei a hozzájuk tartozó lézerkristályban különböző törésmutatókat „látnak (azaz a lézerkristály optikai vastagsága a lézerimpulzus különböző frekvenciakomponensei számára különböző nagyságú lesz). A lézerimpulzus különböző frekvenciakomponensei ily módon a lézerkristályon áthaladva különböző mértékben késleltetettek. Ez az effektus az említett diszperziókompenzáció révén az Ismert vékonyréteg lézertükrökben jelentkezik, és ezért ezeket diszperzív tükröknek nevezik. Az ilyen ismert tükröket szokták még „csirpelt” tükröknek (Chirped Mirrors=CM) nevezni, és előrehaladást jelentettek a korábban alkalmazott prizmás késleltetőelemekhez képest. Ezek segítségével lehetett először 10 fs alatti időtartamú lézerimpulzusokat előállítani lézeroszcillátor segítségével. Ezáltal a lézerrendszerek kompaktabbak és megbízhatóbbak is lettek.
A CM tükrök a csoportos késleltetés hullámhosszfüggőségét szabályozzák a fent ismertetett módon a különböző spektrális komponenseknek a többrétegű szerkezetbe történő behatolási mélységével.
Az ilyen többrétegű szerkezetek előállítása azonban meglehetősen költséges, és méretük is viszonylag nagy.
A jelen találmánnyal ezért olyan széles sávú diszperzív tükör kialakítása a célunk, amely lehetővé teszi egyszerű rétegszerkezet kialakítását, és egyidejűleg viszonylag rövid optikai utak megvalósítását, továbbá a késleltetéskor viszonylag nagy diszperzióértékek elérését is.
A kitűzött feladatot olyan diszperzív tükörrel oldottuk meg, amelyben a hordozóra egy, valamennyi frekvenciakomponenst visszaverő erősen reflektáló réteg van felhordva, és ezen vannak rezonáló bevonatrendszerként a reflektált rövid impulzusokat moduláló dielektromos egyedi rétegek kialakítva oly módon, hogy az egész bevonatrendszerben a különböző frekvenciakomponensekhez különböző tartózkodási idők tartoznak.
A találmány egy célszerű kiviteli alakjánál az erősen reflektáló réteg fémréteg, például ezüst vagy alumínium.
Egy másik lehetséges változatnál az erősen reflektáló réteg önmagában ismert Bragg-reflektorként van kialakítva.
A rezonáló bevonatszerkezet általában 20-30 dielektromos egyedi rétegből áll, ahol az egyedi rétegek váltakozva nagy és kis törésmutatójú rétegek, illetve szilícium-dioxid- és titán-dioxid-rétegek.
Az erősen reflektáló réteg és a dielektromos rezonáló bevonatszerkezet közbülső tapadásfokozó réteggel, például alumfnium-oxid-réteggel lehet ellátva.
A tükör fenti módon történő kialakításával a kitűzött feladat jól megoldható. A találmány alapját az a felismerés képezi, hogy az impulzuskésleltetés vagy a csoportterjedési idő hullámhossz-függősége a tükörben a különböző spektrális komponensek tartózkodási idejével szabályozhatók. A találmány szerinti diszperzfv tükör egy olyan rezonáló tükör, amelynek teljes optikai vastagsága kisebb lehet, mint az ismert CM tükröké, és emellett ugyanazon csoportos diszperziót és különböző spektrális tartományokban azonos reflektálóképességet biztosít.
önmagában az a tény már régóta ismert, hogy az optikai impulzusoknak egy rezonáló szerkezetben való
HU 226 285 Β1 tartózkodási ideje szabályozható annak érdekében, hogy meghatározott időbeli késleltetést lehessen elérni. Eddig azonban ezek az ismert rezonáló szerkezetek csak keskeny sávú optikai elemek (az úgynevezett Gires-Tournois-lnterferométerel (GTI) segítségével voltak megvalósíthatók. Ezzel ellentétben a találmányhoz vezető kutatások kimutatták, hogy nehézség nélkül kialakíthatók széles sávú rendszerek (például 800 nm hullámhossz körüli, 300 nm tartományba eső hullámhosszal), ha a találmány szerint egy nagy reflektálóképességű réteget, különösen fémréteget, például ezüstöt vagy alumíniumot kombinálunk egy dielektromos rezonáló rétegszerkezettel (amely például mindössze 20-30 dielektromos egyedi réteget tartalmaz).
Egy GTI interferométer egy nagy reflektáló képességű réteget, egy közbülső réteget és egy részlegesen reflektáló réteget tartalmaz, amelyek egy meghatározott hullámhosszon rezonáló üregrezonátort képeznek. A jelen esetben a rezonáló diszperzív tükörben a közbülső réteget és a felső, részlegesen reflektáló réteget egy gyengén rezonáló többrétegű szerkezettel helyettesítjük. Ezáltal az üregrezonátor önmagában már nem felismerhető.
A találmány szerinti tükör dielektromos rezonáló rétegszerkezete némileg tovább erősíti a nagy reflektálóképességű réteg reflektálóképességét, a fő cél azonban az, hogy a reflektálandó impulzusok fázisait moduláljuk.
Ha az optikai rendszer veszteségeit kritikusnak tekintjük, a sávszélességet pedig kevésbé fontosnak, a nagy reflektálóképességű fémes réteg helyett alkalmazhatunk nagy reflektálóképességű dielektromos standard reflektort, például egy úgynevezett Bragg-reflektort (vagy λ/4 reflektort). Ebben az esetben a tükör sávszélessége - a Bragg-reflektor sávszélességének megfelelően - szűkül.
Egy ilyen diszperzív rezonáló tükör előállításának technológiai követelményei hasonlóak a CM tükrök előállítási követelményeihez. Ugyanazon csoportkésleltetés-diszperziós képesség és reflektálóképességnek ugyanazon spektrális tartományban történő eléréséhez azonban lényegesen kisebb optikai vastagság szükséges. Egy CM tükör esetében a rétegvastagság minimális értékét azon csoportkésleltetésnek megfelelő optikai úthossz segítségével lehet megadni, amely a nagy reflektálóképességű tartományban a legkisebb és a legnagyobb hullámhossz között mérhető. A rezonáló szerkezet eredményeképpen a találmány szerinti diszperzív tükörre ez a korlátozás nem vonatkozik, és nagyobb diszperzióértékek érhetők el kisebb optikai vastagság mellett.
További különbség a hagyományos CM tükrökhöz képest az, hogy az átlagos optikai rétegvastagság nem monoton változik a hordozótól mért távolság függvényében, hanem egy állandó középértéken marad.
A találmány szerinti tükör tehát mindezek alapján egy nagy reflektálóképességű optikai interferenciabevonat, ahol egy nagy reflektálóképességű reflektor egy gyengén rezonáló dielektromos rétegszerkezettel van monolit egységként kialakítva. A csoportkésleltetés (group delay-GD) frekvenciafüggősége a különböző spektrális komponenseknek a rezonáló szerkezetben eltöltött idejével szabályozható.
A találmány szerinti tükör alkalmas nagy sávszélességű elektromágneses jelek diszperziójának szabályozására, általában a mikrohullámok frekvenciatartományától egészen a röntgensugárzásig, ezen belül elsősorban a szilárdtest-lézerek, lézererősítők és üreges szálú fénysűrítők területén, ahol ultrarövid impulzusokat állítanak elő. Erre a célra a találmány szerinti pontos és kompakt diszperzlószabályozás jól alkalmazható. A tükör előállítása nem csupán a rétegek kis száma következtében kedvezőbb a hagyományos CM tükrökénél, hanem azáltal is, hogy a nagy reflektálóképességű réteg önmagában egy szabványos termék.
A dielektromos egyedi rétegeket elő lehet állítani például önmagában ismert szilícium-dioxidból (SiO2), illetve titán-dioxidból (TiO2), de felépíthetők tantál-pentoxidból (Ta2O5) is. Ha fémes nagy reflektálóképességű réteget alkalmazunk, a különböző dielektromos rétegek egymásra történő felhordása során tapadási problémák léphetnek fel, ezért célszerű a nagy reflektálóképességű réteg és a dielektromos rezonáló rétegszerkezet közé tapadásfokozó réteget, például alumínium-oxid (AI2O3)-réteget felvinni.
A találmány további részleteit kiviteli példákon, a mellékelt rajz alapján ismertetjük. A rajzon az
1. ábra egy nagy reflektálóképességű fémréteggel ellátott diszperzív rezonáló tükör felépítésének sematikus változata látható, a
2. ábra egy diagram, amely a reflektálóképesség (R), illetve a csoportkésleltetés-diszperzió (GDD) értékeit mutatja a hullámhossz (λ) függvényében, a
3. ábra a diszperzív rezonáló tükör egy másik lehetséges kiviteli alakjának vázlata, ahol nagy reflektálóképességű Bragg-reflektort alkalmaztunk, és a
4. ábra az ehhez tartozó diagram, amely ugyancsak a reflektálóképesség (R) és a csoportkésleltetés-diszperzió (GDD) értékeit mutatja a hullámhossz (γ) függvényében.
Az 1. ábrán vázlatosan bemutatott diszperziós tükör 1 hordozón van kialakítva. Az első réteg egy nagy reflektálóképességű 2 fémréteg, amely fölött egy rezonáló dielektromos többrétegű 3 bevonatszerkezet helyezkedik el. Ebben mintegy húsz-harminc 4, 5 egyedi réteg van, amelyek váltakozva erősen törő és gyengén törő rétegek, különböző vastagságokkal. A 4 és 5 egyedi rétegek lehetnek titán-dioxidból vagy szilícium-dioxidból.
A nagy reflektálóképességű 2 fémréteg készülhet például ezüstből vagy alumíniumból. A 4, 5 egyedi rétegeknek a 2 fémrétegen történő tapadását 6 tapadásfokozó réteggel lehet elősegíteni. Ez készülhet alumínium-oxidból (AI2O3).
Az 1. ábrán vázlatosan bemutatott rezonáló diszperzív tükör gyakorlatilag az alábbi rétegsorokból állítható elő:
HU 226 285 Β1
| Anyag | Rétegvastagság (nm) |
| Ag | 300,00 |
| AI2O3 | 112,36 |
| TiO2 | 91,66 |
| SiO2 | 139,61 |
| TiO2 | 87,46 |
| SiO2 | 129,80 |
| TiO2 | 55,59 |
| SiO2 | 93,11 |
| TiO2 | 86,20 |
| SiO2 | 141,73 |
| TiO2 | 86,37 |
| SÍO2 | 148,84 |
| TiO2 | 52,21 |
| SÍO2 | 55,53 |
| TiO2 | 85,60 |
Ilyen rezonáló diszperzív tükröt lehet előállítani például mintegy 650-950 nm hullámhossz (γ) tartományban, amint az a 2. ábrán látható, ahol feltüntettük az adott hullámhosszokhoz tartozó R reflektálóképességet és a GDD csoportkésleltetés-diszperziót, ami a csoportkésleltetés (GD) első deriváltja).
A 3. ábrán látható másik kiviteli alaknál a diszperziós tükör 1 hordozójára nagy reflektálóképességű rétegként egy 2’ Bragg-reflektor van felhordva. Erre ismét egy rezonáló dielektromos 3 bevonatszerkezet kerül, amelyben felváltva erősen törő, illetve gyengén törő és 5 egyedi rétegek helyezkednek el.
A 3. ábrán bemutatott tükörkialakítás különösen akkor előnyös, ha a hozzá tartozó optikai rendszer a veszteségek szempontjából kritikus, viszont kisebb sávszélesség elfogadható.
Az R reflektálóképesség és a GDD (csoportkésleltetés)-diszperzió tipikus viselkedése látható a 4. ábrán bemutatott diagramban, ahol a sávszélesség már keskenyebb, például 700 nm-től 900 nm-ig tart (a 2. ábrán bemutatott 650-950 nm-es sáv helyett).
A 4 és 5 egyedi rétegek itt is készülhetnek titán-dioxidból és szilícium-dioxidból. Természetesen a számuk kisebb is lehet és nagyobb is, mint az itt bemutatott 28 réteg, mindig a felhasználási igények szerint. Általában előnyös kevesebb, például mintegy húsz 4 és egyedi réteg kialakítása. Ezen túlmenően természetesen használhatók más anyagok, például tantál-pentoxid vagy hasonlók. Fontos azonban, hogy a 4 és egyedi rétegek összességükben egy rezonáló többrétegű 3 bevonatszerkezetet alkotnak, és így a reflektált impulzusok fázismodulálására alkalmasak.
Claims (9)
1. Többrétegű diszperzív tükör, különösen rövid impulzusú lézerekhez, oszcillátorokhoz, lézererősítőkhöz vagy üreges szálú fénysűrítőkhöz, amely tükör egy hordozóra felvitt, a reflektálandó rövid sugárzási impulzusok különböző frekvenciakomponenseinek hatására különböző diszperziós értékeket létrehozó egyedi dielektromos rétegekből áll, azzal jellemezve, hogy a hordozón (1) egy, valamennyi frekvenciakomponenst visszaverő erősen reflektáló réteg van, és ezen vannak rezonáló bevonatrendszerként (3) a reflektált rövid impulzusokat moduláló dielektromos egyedi rétegek (4, 5) kialakítva oly módon, hogy az egész bevonatrendszerben (3) a különböző frekvenciakomponensekhez különböző tartózkodási idők tartoznak.
2. Az 1. igénypont szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az erősen reflektáló réteg fémréteg (2).
3. A 2. igénypont szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az erősen reflektáló réteg ezüst.
4. A 2. igénypont szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az erősen reflektáló réteg alumínium.
5. Az 1. igénypont szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az erősen reflektáló réteg önmagában ismert Bragg-reflektorként (2’) van kialakítva.
6. Az 1-5. igénypontok bármelyike szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy a rezonáló bevonatszerkezet (3) 20-30 dielektromos egyedi rétegből (4, 5) áll.
7. Az 1-6. igénypontok bármelyike szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az egyedi dielektromos rétegek (4, 5) váltakozva erősen, illetve gyengén törő rétegek.
8. Az 1-7. igénypontok bármelyike szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy a dielektromos egyedi rétegek (4, 5) váltakozva szilícium-dioxid-, illetve titán-dioxid-rétegek.
9. Az 1-8. igénypontok bármelyike szerinti diszperzív tükör, azzal jellemezve, hogy az erősen reflektáló réteg és a dielektromos rezonáló bevonatszerkezet (3) közbülső tapadásfokozó réteggel (6), például alumínium-oxid-réteggel van ellátva.
R(%)
HU 226 285 Β1 Int. Cl.: H01S 3/08
1. ábra
2. ábra λ (nm)
GDD(fe2)
R(%)
HU 226 285 Β1 Int. Cl.: H01S 3/08
3. ábra
4. ábra
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT0116099A AT410732B (de) | 1999-07-07 | 1999-07-07 | Dispersiver mehrschichtiger spiegel |
| PCT/AT2000/000182 WO2001005000A1 (de) | 1999-07-07 | 2000-07-05 | Dispersiver mehrschichtiger spiegel |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HU0201713D0 HU0201713D0 (en) | 2003-02-28 |
| HUP0201713A2 HUP0201713A2 (en) | 2003-06-28 |
| HU226285B1 true HU226285B1 (en) | 2008-07-28 |
Family
ID=3507905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU0201713A HU226285B1 (en) | 1999-07-07 | 2000-07-05 | Dispersive multi-layer mirror |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (2) | EP1192687B1 (hu) |
| JP (1) | JP4142294B2 (hu) |
| CN (1) | CN1243396C (hu) |
| AT (1) | AT410732B (hu) |
| AU (1) | AU769695B2 (hu) |
| BR (1) | BR0012226A (hu) |
| CA (1) | CA2378299C (hu) |
| CZ (1) | CZ301786B6 (hu) |
| DE (2) | DE50014869D1 (hu) |
| ES (1) | ES2239606T3 (hu) |
| HU (1) | HU226285B1 (hu) |
| IL (1) | IL147467A (hu) |
| MX (1) | MXPA02000141A (hu) |
| PT (1) | PT1192687E (hu) |
| WO (1) | WO2001005000A1 (hu) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT410721B (de) * | 2001-02-26 | 2003-07-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Dispersiver mehrschicht-spiegel |
| US7106516B2 (en) | 2002-02-04 | 2006-09-12 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Material with spectrally selective reflection |
| AT412829B (de) * | 2003-11-13 | 2005-07-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Kurzpuls-laservorrichtung |
| AT414285B (de) * | 2004-09-28 | 2006-11-15 | Femtolasers Produktions Gmbh | Mehrfachreflexions-verzögerungsstrecke für einen laserstrahl sowie resonator bzw. kurzpuls-laservorrichtung mit einer solchen verzögerungsstrecke |
| DE102006030094A1 (de) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Hochreflektierendes Schichtsystem und Verfahren zur Herstellung des Schichtsystems |
| FR2954524B1 (fr) * | 2009-12-17 | 2012-09-28 | Ecole Polytech | Reseau de diffraction reflechissant dielectrique optimise |
| DE102012022343B4 (de) | 2012-11-15 | 2019-09-19 | Laser Zentrum Hannover E.V. | Verfahren zum Überwachen eines Schichtwachstums und Vorrichtung zum Beschichten |
| US9362428B2 (en) | 2012-11-27 | 2016-06-07 | Artilux, Inc. | Photonic lock based high bandwidth photodetector |
| US10916669B2 (en) | 2012-12-10 | 2021-02-09 | Artilux, Inc. | Photonic lock based high bandwidth photodetector |
| US10388806B2 (en) | 2012-12-10 | 2019-08-20 | Artilux, Inc. | Photonic lock based high bandwidth photodetector |
| EP2889917A3 (en) * | 2013-12-28 | 2015-07-29 | Shu-Lu Chen | Photonic lock based high bandwidth photodetector |
| US10644187B2 (en) | 2015-07-24 | 2020-05-05 | Artilux, Inc. | Multi-wafer based light absorption apparatus and applications thereof |
| CN107065050A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-08-18 | 张岩 | 非金属镀层平面镜 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1529813A (en) * | 1974-10-16 | 1978-10-25 | Siemens Ag | Narrow-band interference filter |
| HU214659B (hu) * | 1993-08-23 | 1998-04-28 | Szilárdtestfizikai Kutatóintézet | Diszperzív dielektrikumtükör és eljárás annak tervezésére |
| JPH08236845A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Hitachi Ltd | 半導体光集積素子 |
| US5850309A (en) * | 1996-03-27 | 1998-12-15 | Nikon Corporation | Mirror for high-intensity ultraviolet light beam |
| GB9619781D0 (en) * | 1996-09-23 | 1996-11-06 | Secr Defence | Multi layer interference coatings |
| GB9701114D0 (en) * | 1997-01-20 | 1997-03-12 | Coherent Optics Europ Ltd | Three-dimensional masking method for control of optical coating thickness |
| US5912915A (en) * | 1997-05-19 | 1999-06-15 | Coherent, Inc. | Ultrafast laser with multiply-folded resonant cavity |
| US5912912A (en) * | 1997-09-05 | 1999-06-15 | Coherent, Inc. | Repetitively-pulsed solid-state laser having resonator including multiple different gain-media |
| FR2772141B1 (fr) * | 1997-12-08 | 2001-10-05 | Commissariat Energie Atomique | Revetement absorbeur de lumiere a haut pouvoir absorbant |
| US6222673B1 (en) * | 1998-08-18 | 2001-04-24 | Coherent, Inc. | Group-delay-dispersive multilayer-mirror structures and method for designing same |
-
1999
- 1999-07-07 AT AT0116099A patent/AT410732B/de not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-07-05 MX MXPA02000141A patent/MXPA02000141A/es active IP Right Grant
- 2000-07-05 BR BR0012226-2A patent/BR0012226A/pt not_active Application Discontinuation
- 2000-07-05 EP EP00948993A patent/EP1192687B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-05 CN CNB008099944A patent/CN1243396C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-05 IL IL14746700A patent/IL147467A/xx not_active IP Right Cessation
- 2000-07-05 CZ CZ20020024A patent/CZ301786B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2000-07-05 ES ES00948993T patent/ES2239606T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-05 EP EP05004390A patent/EP1536529B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-05 CA CA002378299A patent/CA2378299C/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-05 AU AU62531/00A patent/AU769695B2/en not_active Ceased
- 2000-07-05 HU HU0201713A patent/HU226285B1/hu not_active IP Right Cessation
- 2000-07-05 PT PT00948993T patent/PT1192687E/pt unknown
- 2000-07-05 DE DE50014869T patent/DE50014869D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-05 DE DE50009803T patent/DE50009803D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-05 JP JP2001509123A patent/JP4142294B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-05 WO PCT/AT2000/000182 patent/WO2001005000A1/de active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE50009803D1 (de) | 2005-04-21 |
| JP2003504677A (ja) | 2003-02-04 |
| AT410732B (de) | 2003-07-25 |
| CZ301786B6 (cs) | 2010-06-23 |
| HU0201713D0 (en) | 2003-02-28 |
| BR0012226A (pt) | 2002-03-26 |
| CN1360746A (zh) | 2002-07-24 |
| IL147467A (en) | 2005-06-19 |
| DE50014869D1 (de) | 2008-01-31 |
| AU6253100A (en) | 2001-01-30 |
| CZ200224A3 (cs) | 2002-06-12 |
| EP1536529A2 (de) | 2005-06-01 |
| ATA116099A (de) | 2002-11-15 |
| WO2001005000A1 (de) | 2001-01-18 |
| AU769695B2 (en) | 2004-01-29 |
| EP1192687B1 (de) | 2005-03-16 |
| PT1192687E (pt) | 2005-07-29 |
| ES2239606T3 (es) | 2005-10-01 |
| CA2378299A1 (en) | 2001-01-18 |
| IL147467A0 (en) | 2002-08-14 |
| EP1192687A1 (de) | 2002-04-03 |
| JP4142294B2 (ja) | 2008-09-03 |
| CA2378299C (en) | 2009-10-06 |
| HUP0201713A2 (en) | 2003-06-28 |
| EP1536529A3 (de) | 2005-10-05 |
| EP1536529B1 (de) | 2007-12-19 |
| CN1243396C (zh) | 2006-02-22 |
| MXPA02000141A (es) | 2003-07-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20080013587A1 (en) | Multiple-Reflection Delay Line For A Laser Beam And Resonator Or Short Pulse Laser Device Comprising A Delay Line Of This Type | |
| Tempea et al. | Dispersion control over 150 THz with chirped dielectric mirrors | |
| US4615034A (en) | Ultra-narrow bandwidth optical thin film interference coatings for single wavelength lasers | |
| HU226285B1 (en) | Dispersive multi-layer mirror | |
| US6256434B1 (en) | Method and dielectric and/or semiconductor device for influencing the dispersion of electromagnetic radiation | |
| JP2011154387A (ja) | 多層ミラー | |
| US3675154A (en) | Dispersion compensation in lasers | |
| EP2908159B1 (en) | Chirped dichroic mirror and a source for broadband light pulses | |
| EP3061164A1 (en) | Graphene-based optical sub-system | |
| JPH11168252A (ja) | 小型固体レーザー | |
| EP1615066B1 (en) | Optical frequency linear chirp variable unit | |
| CN101821913B (zh) | 包括两个具有不同光谱透射率的输出耦合器的相位稳定的锁模激光器 | |
| JP2002082220A (ja) | 誘電体多層膜分散補償反射鏡 | |
| US10361530B2 (en) | Laser apparatus with dispersion control | |
| Sun et al. | Third-order dispersion produced by a λ4 dielectric cavity mirror in a femtosecond pulse laser | |
| Haidar et al. | Design Bragg Reflectors Consisting of Quarter-Wave Stack and Impedance Matching Concept | |
| JPH0480980A (ja) | 光学素子及びレーザー共振器 | |
| Gallmann et al. | Smooth dispersion compensation over one octave: novel chirped mirrors with suppressed dispersion oscillations |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Lapse of definitive patent protection due to non-payment of fees |