FR2598520A1 - Pellicule protectrice minerale - Google Patents

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Abstract

PELLICULE PROTECTRICE MINERALE. LA PELLICULE PROTECTRICE MINERALE COMPREND UNE SUBSTANCE QUI, PAR REACTION OU PAR ADSORPTION SUR LA PELLICULE, LUI DONNE UN CARACTERE HYDROPHOBE. VERRES DE LUNETTES.

Description

Pellicule protectrice minérale.
La présente invention est relative aux pellicules protectrices minérales, et plus particulièrement, a un procédé pour améliorer la surface des pellicules protectrices minérale.
Les pellicules protectrices minérales qui sont préparées par divers procédés, tels que le dépôt sous vide en phase vapeur, le placage ionique, la pulvérisation cathodique, etc., ont été appliquées en tant que pellicules anti-reflet, couches dures et autres revêtements fonctionnels de matériaux optiques, tels que des vérres et des panneaux de dispositifs d'affichage. En particulier, l'application de la pellicule en SiO2 est très répandue en raison de son adhérence à la base, de sa dureté, et de sa facilité de manipulation.
Les pellicules protectrices minérales de l'art antérieur, telles qu'indiquées ci-dessus, ont des inconvénients graves. En effet, quand une goutte d'eau sèche à la surface du revêtement, la tache d'eau, qui est semblable à la tache du verre optique, apparat à la surface du revêtement, ce qui nuit à l'aspect et aux propriétés optiques du revêtement. (Dans le présent mémoire, on entend par l'expression "tache d'eau", une tache qui apparat sur le verre optique et par le mot tache", celui qui apparatt sur la pellicule de protection minérale").
En particulier, dans des verres ophtalmiques, des gouttes d'eau peuvent rester à la surface pendant le taillage et lors de l'utilisation en pratique. Et si on laisse les verres, alors que des gouttes d'eau s'y trouvent, même pendant une durée brève, les taches d'eau apparaissent.
On pense, en général, que la tache du verre optique apparait par les procédés suivants
Premièrement, les ions dans le verre tels que
Na+, r Pb2+, etc., sont dissous dans la goutte d'eau à la surface de celle-ci et la goutte d'eau devient une solution alcaline. Ensuite cette solution réagit sur le gaz acide de l'atmosphère, tel que sur
C02 et S02 et il se produit, en conséquence, les composés Na2CO3, NaHC03, Na2S04, BaCO3, PbC03, BAS04, BpSO4, etc. Ces composés restent a la surface et donnent la tache.
En revanche, la pellicule protectrice minErale, par exemple en SiO2 formée sur la base en résine synthétique, ne comprend pas d'ions positifs et c'est pourquoi on ne connaissait pas la raison pour laquelle il se forme une tache d'eau sur une telle pellicule jus qu'à ce que l'on ait maintenant trouvé par expérience et analyse que la cause en est que le résidu d'évaporation, principalement des composés de silicium produits par la goutte d'eau sur la surface du revêtement, adhère fortement a la surface.Ceci a été prouvé par les faits suivants
(1) Quand on applique de l'eau ultra-pure à la surface de la pellicule protectrice, il n'apparat pas de taches d'eau (dans le cas du verre optique, même da l'eau ultra-pure donne la tache),
(2) quand on observe la coupe de la partie de la surface du revEtementotil apparaIt une tache d'eau au microscope électronique par transmission (TEM), on voit un dépit sur la surface, et
(3) on a analysé les éléments du dépôt et on y a détecté principalement du Si.
L'invention vise à éliminer le problème de l'art antérieur tel qu'indiqué ci-dessus et à perfectionner la surface d'une pellicule protectrice minérale en donnant une certaine fonction à la surface, en vue d'éviter le problème de la tache d'eau.
Suivant l'invention, la pellicule protectrice minérale a une surface améliorée sur laquelle une substance présente, quand elle a réagi ou quand elle a été adsorbée à la surface de la couche, un caractère hydrophobe.
Comme on l'a expliqué ci-dessus, la raison de la tache d'eau à la surface de la pellicule protectrice minérale est que des éléments de la tache d'eau en surface restent en tant que résidus d'évaporation et en tant que dépôts sur la surface. Les éléments de résidus d'évaporation sont principalement des composés du silicium qui ont une forte affinité pour la pellicule protectrice minérale telle que Si02. On considère que ces résidus adhèrent fortement à la surface de la pellicule protectrice. C'est pourquoi, pour prévenir l'apparition de la tache d'eau, il est nécessaire d'améliorer la surface de la pellicule protectrice minérale afin de réduire l'adhérence entre la surface protectrice et le résidu d'évaporation.
Des etudes intensives ont montré qu'en donnant à la surface de la couche un caractère hydrophobe, on réduit la force de l'adhérence entre le résidu d'évaporation et la surface de la pellicule protectrice minérale et que, même si le résidu reste à la surface, il peut être essuyé ou enlevé d'une manière analogue.
En outre, il a également été prouvé qu'en donnant à la surface un caractère hydrophobe, la goutte d'eau elle-même a peu de chance de rester à la surface, ce qui diminue la probabilité de l'apparition de la goutte d'eau sur la pellicule On obtient un degré d'hydrophobicité satisfaisant quand l'angle de contact de l'eau pure et de la surface du revêtement est de préférence de 700 ou est supérieur à cette valeur.
Avant d'effectuer les traitements de la pellicule protectrice minérale, il faut prendre garde de ne pas porter atteinte aux propriétés telles que l'adhérence et la longévité du revêtement existant sur la base. En particulier, quand on doit traiter la pellicule protectrice minérale sur la base en résine synthétique, si l'on effectue un traitement à une température élevée, la pellicule protectrice minérale se fendille et l'aspect et la longévité du revêtement sont bien moins bons.C'est pourquoi il faut que la couche de traitement soit suffisamment mince pour ne pas porter atteinte aux propriétés du traitement prélable, telles que l'adhérence, la longévité et l'aspect extérieur, et aux propriétés spectrales de la pellicule anti-reflet, et il faut que le traitement soit effectué dans une gamme de température et dans des circonstances telles que ces propriétés ne soient pas amoindries.
La substance à faire réagir ou à faire adsorber ala la surface de la pellicule protectrice minérale suivant la présente invention a une gamme de température de traitement étendue allant de la température ambiante à une température élevée, et les exigences mentionnées ci-dessus sont satisfaites.
Des exemples des composés utilisés suivant l'invention sont énumérés ci-dessous (1) composés halogénosilaniques triméthylchlorosilane diméthyldichlorosilane méthyltrichlorosilane chlorométhyltrichlorosilane méthyldichlorosilane 1,2-dibromoéthyltrichlorosilane vinyltrichlorosilane 1,2-dichloroéthyltrichlorosilane 1-chloroéthyltrichlorosilane 2-chloroéthyltrichlorosilane chlorométhyméthyldichlorosilane éthyltrichlorosilane éthyldichlorosilane diméthylchlorosilane 3,3, 3-trifluoropropyltrichlorosilane 2-cyanoéthyltrichlorosilane allyltrichlorosilane 3-bromopropyltrichlorosilane méthylvinyldichlorosilane 3-chloropropyltrichlorosilane dichlorométhyldiméthylchlorosilane n-propyltrichlorosilane chlorométhyldiméthylchlorosilane éthylméthyldichlorosilane éthoxyméthyldichlorosilane diméthoxyméthylchlorosilane divinyldichlorosilane 3-cyanopropyltrichlorosilane méthyl-3, 3i 3-trifluoropropyldichlorosilane allylméthyldichlorosilane diméthylvinylchlorosilane n-butyltrichlorosilane 3-chloropropylméthyldichlorosilane isobutyltrichlorosilane méthylpropyldichlorosilane diéthoxychlorosilane
3-cyanopropylméthyldichlorosilane
allyldiméthylchlorosilane
pentyltrichlorosilane
3-chloropropyldiméthylchlorosilane butylméthyldichlorosilane diméthylpropylchlorosilane diméthylisopropylchlorosilane 3-3-4,4,5,5,6,6,6-- nonafluorohexyltrichlorosilane
4-chlorophényltrichlorosilane phényltrichlorosilane phénoxytrichlorosilane phényldichlorosilane diallyldichlorosilane
cyclohexyltrichlorosilane 3-cyanopropyldiméthyIchlorosilane hexyltrichlorosilane méthylpentyldichlorosi lane
tert-butyldiméthylchloros ilane
triéthylchlorosilane
3,3,4,4,5,5,6,6,6,-nonafluorohexylméthyldichloro
silane benzyltrichlorosilane p-tolyltrichlorosilane méthylphényldichlorosilane méthylphénylchlorosilane
6-trichlorosilyl-2-norbornane
2-trichlorosilylnorbornane
cyclohexylméthyldichlorosilane heptyltrichlorosilane hexylméthyldichlorosilane phénylvinyldichloros i lane
ss-phénéthyltrichlorosilane diméthylphénylchlorosilane 2-(4-cyclohexènyléthy1) trichlorosilane 2-méthyldichlorosilylnorbornane 3-méthacryloxypropylméthyldichlorosilane octyltrichlorosilane heptylméthyldichlorosilane dibutyldichlorosilane allylphényldichlorosilane chlorométhylphényléthyltrichlorosilane méthylphénylvinylchlorosilane 3-chloropropylphényldichlorosilane 2-phénylpropyltrichlorosilane méthyl-ss-phénéthyldichlorosilane benzyldiméthylchlorosilane nonyltrichlorosilane méthyloctyldichlorosilane tripropylchlorosilane tert-butylphényldichlorosilane décyl trichlorosi lane diméthyloctylchlorosilane décylméthyldichlorosilane diphényldichlorosilane diphényldifluorosilane diphénylchlorosilane dodécyltrichlorosilane dihexyldichlorosilane- tributylchlorosilane diphénylméthylchlorosilane dodécylméthyldichlorosilane diphénylvinylchlorosilane tétradécyltrichlorosilane triphénylchlorosilane trihexylchlorosilane méthyloctadécyldichlorosilane eicosyltrichlorosilane diméthyloctadécylchlorosilane tribenzylchlorosilane
docosyltrichlorosilane
docosylméthyldichlorosilane
1,2-bis(trichlorosilyl)éthane
1,2-bis(méthyldichlorosilyl)éthane
1,1,3, 3-tétraméthyl-1, 3-dichlorodisiloxane
1,2-bis(diméthylchlorosilyl)éthane
1,4-bis(diméthylchlorosilyl)benzène
1, 3-dichlorotétraisopropyldisiloxane
1,1,3,3,5,5-hexaméthyl-1,5-dichlorotrisiloxane
1,2-dichlorooctaméthyltétrasiloxane.
Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux composés mentionnés ci-dessus, mais tout composé ayant une structure incluant la liaison Si-X (X étant un halogène) peut être mis en oeuvre pour atteindre l'objectif. de l'invention.
(2) Composés silaniques ayant une structure comprenant au moins une liaison choisie parmi Si-H, Si-OH,
Si-OR, Si-SH et Si-SR (R est un groupe organique).
triméthylsilanol
diméthoxyméthylsilane
triméthoxysilane chlorométhylméthoxydiméthylsilane
chlorométhyltriméthoxysilane
diéthylsilane
diméthyléthoxysilane
méthoxytriméthylsilane
diméthoxydiméthylsilane diéthoxysi lane
méthyltriméthoxysilane
mercaptométhyltriméthoxysilane
tétraméthoxysilane
méthylthiotriméthylsilane
diméthyldiméthylaminosilane
trifluoroacétoxytriméthylsilane
diacétoxyméthylsilane allyldiméthylsilane 3-chloroéthoxychlorométhyldiméthylsilane bis(2-chloroéthoxy)méthylsilane triméthylvinyloxysilane méthoxydiméthylvinylsilane acétoxyméthylsilane 2-chloroéthoxyméthylsilane chlorométhyldiméthyléthoxysilane diéthylméthylsilane éthoxytriméthylsilane diéthoxyméthylsilane éthyltriméthoxysilane bis(diméthylamino)méthylsilane phénylsilane 2-propynyloxytriméthylsilane diméthyléthoxyéthynylsilane diacétoxydiméthylsilane allyloxychlorométhylsilane tris(2-chloroéthoxy)silane diméthoxyméthyl-3,3,3-trifluoropropylsilane 3, 3, 3-trifluoropropyltriméthoxysilane 2-cyanoéthyltriméthoxysilane allyltriméthylsilane l-chlorométhyl-2-chloroéthoxytriméthylsilane allyloxytriméthylsilane éthoxyméthylvinylsilane isopropénoxytriméthylsilane l-chlorométhyléthoxytriméthylsilane 3-chloropropoxytriméthylsilane 3-chloropropyldiméthoxyméthylsilane chlorométhyldiéthoxyméthylsilane 3-chloropropyltriméthoxysilane diméthylcétoxyimétriméthylsilane triéthylsilane butyldiméthylsilane triméthylisopropoxysilane triéthylsilanol diéthoxydiméthylsilane diméthoxy-3-mercaptopropylméthylsilane triéthoxysilane 3-mercaptopropyltriméthoxysilane diéthylaminodiméthylsilane 3-aminopropyltriméthoxysilane 2-aminoéthylaminométhyltriméthoxysilane tris(diméthylamino)silane méthylphénylsilane diacétoxyméthylvinylsilane méthyltriacétoxysilane allyloxydiméthylvinylsilane l-chlorométhyléthoxydiméthylvinylsilane diméthylcétoximediméthylvinylsilane méthylsilatrane diéthoxyméthylvinylsilane chlorométhyltriéthoxysilane éthylméthylcétoximotriméthylsiiane diméthoxyéthylméthylcétoximethylsilane tert-butoxytriméthylsilane l-méthylpropoxytrimXthylsilane butoxytriméthylsilane butyltriméthoxysilane méthyltriéthoxysilane diéthylaminoxytriméthylsilane 3-aminopropyldimé thyléthoxysi lane méthyltris(2-aminoéthoxy)silane diméthylphénylsilane triacétoxyvinylsilane tétraacétoxysilane furfuryloxytriméthylsilane éthyltriacétoxysilane 3-trifluoroacétoxypropyltriméthoxysilane éthynyldiméthyl-2-nitrobutoxysilane l,l-diméthylpropynyloxytriméthylsilane diéthoxydivinylsilane diméthyléthylméthylcétoxymevinylsilane diméthyl-2-nitrobutoxyvinylsilane diméthylisobutoxyvinylsilane acétoxytriéthylsilane tétrahydrofurfuryloxytriméthylsilane triéthoxyvinylsilane octylsilane allyloxy-2-aminoéthylaminométhyldiméthylsilane triméthylpentyloxysilane isopentyloxytriméthylsilane diéthoxydiéthylsilane diméthyldipropoxysilane éthyltriéthoxysilane tétraéthoxysilane 3-aminopropyldiéthoxymethylsilane 3-(2-aminoéthylaminopropyl)diméthoxymethylsilane 3- (2-aminoéthylaminopropyl) triméthoxysilane 2,4,5-trichlorophénoxytriméthylsilane méthylphénylvinylsilane chlorométhyldiméthyl-m-nitrophénylsilane chlorométhyldiméthyl-p-nitrophénylsilane 2,4-dichlorophénoxytriméthylsilane 4-bromophénoxytriméthylsilane chlorométhyldiméthylphénoxysilane 2-chlorophénoxytriméthylsilane 2-chlorophénoxytriméthoxysilane 4-chlorophényltriméthoxysilane 4-chlorophénoxytriméthylsilane phényloxytriméthylsilane 3 -hydroxyphénoxytriméthyl silane diméthoxyméthylphénylsilane diméthylfurfurylvinylsilane 2-hydroxyphénoxytriméthylsilane phényltriméthoxysilane 1-cyclohexènyloxytriméthoxysilane chlorométhylcyclohexyloxydiméthylsilane 2-cyanoéthyltriéthoxysilane cyclohexyloxytrimé thylsilane diméthylisopentyloxyvinylsilane allyltriéthoxysilane 3-allylthiopropyltriméthoxysilane 3-glycidoxypropyltriméthoxysilane 3-bromopropyltriéthoxysilane chlorométhyldiméthyl-2-[(2-éthoxyéthoxy)éthoxy]silane 3-chloropropyltriéthoxysilane 3-allylaminopropyltriméthoxysilane diéthoxyéthylméthylcétoximeméthylsilane tripropylsilane hexyloxytriméthylsilane 2-(2-éthoxyéthoxy)éthoxytriméthylsilane propyltriéthoxysilane hexyltriméthoxysilane 2-(2-aminométhylthioéthyl)diéthoxyméthylsilane 3-aainopropyltriéthoxysilane dithiophosphate de O,O'-diéthyl-S-(2triméthylsilyléthyl) 2,4-dichlorophénoxyéthynyldiméthylsilane benzoate de triméthylsilyle benzyloxychlorométhyldiméthylsilane 4-aminophénoxydiméthylvinylsilane diméthyléthoxyphénylsilane benzyloxytriméthylsilane métnyltrisisopropoxysilane 3-mé thacryloxypropyldiméthyloxyméthylsilane 3-méthacryloxypropyltriméthoxysilane 3-(3-cyanopropylthiopropyl)diméthoxyméthylsilane bis(éthylméthylcétoxyme)méthoxyméthylsilane diméthyléthoxy-3-glycydoxypropylsilane diméthy1-2-[(2-éthoxyéthoxy)éthoxy]vinylsilane diméthoxyméthyl-2-pipéridinoéthylsilane 3-morpholinopropyltriméthoxysilane diméthoxyméthyl-3-pipérazinopropylsilane
N-(3-triéthoxysilylpropyl)urée méthoxytripropylsilane dibutoxydiméthylsilane méthyltripropoxysilane méthyltriisopropoxysilane diméthoxy-3-(2-éthoxyéthylthiopropyl)méthylsilane méthyltris(2-méthoxyéthoxy)silane 3-diméthylaminopropyldiéthoxyméthylsilane 2-(2-aminoéthylthioéthyl)triéthoxysilane 3-[2-(2-aminoéthylaminoethylamino)propylltriméthOxy- silane diméthyléthynyl-2-nitro-4-méthylphénoxysilane diacétoxyméthylphénylsi lane diméthyl-3-méthyl-4-chlorophénoxyvinylsilane diméthyl-2-méthyl-4-chlorophénoxyvinylsilane chlorométhyldiméthyl-2-phényléthoxysilane benzyldiméthyléthoxysilane diéthoxyméthylbenzylsilane tris(l-méthylvinyloxy)vinylsilane 2-(3,4-époxycyclohexyléthyl)triméthoxysilane diméthyl-2-pipéridinoéthoxyvinylsilane bis (éthylméthylcétoxime) éthoxyméthylsilane trisisopropoxyvinylsilane diéthoxy-3-glycidoxypropylméthylsilane 3-(3-acétoxypropylthio)propyldiméthoxméthylsilane tris(2-méthoxyéthoxy)vinylsilane diméthoxyméthyl-3-pipéridinopropylsilane dipropoxyéthylméthylcétoximeéthylsilane diisopropoxyéthylméthylcétoximeméthylsilane 3-pipéridinopropyltriméthoxysilane 2-étn?lhexyloxyméthylsilane octyloxytriméthylsilane pentyltriéthoxysilane phosphite de diéthyl-2-(2-triméthylsilyléthylthioéthyle) diphénylsilanediol phénylsilatrane 4-chlorophényltriéthoxysilane phényltriéthoxysilane tétraallyloxysilane 3-phénylaminopropyltriméthoxysilane 2-aminoéthylaminométhylbenzyloxydiméthylsilane
N-(3-diéthoxyméthylsilylpropyl)succinimide bis(éthylméthylcétoxime)méthylpropoxysilane bis (éthylméthylcétoxime) méthylisopropoxysilane bis(éthylcétoxime)-2-méthoxyéthoxyméthylsilane diméthoxyméthyl-3-(4-méthylpipéridinopropyl)silane 3-(2-méthylpipéridinopropyl) triméthoxysilane 3-cyclohexylaminopropyltriméthoxysilane tétrapropoxysilane tétraidopropoxys i lane tétrabis(2-méthoxyéthoxy)silane dithiophospate de O,O'-diéthyl-S-(2-triéthoxy- silyléthyle) diphénylméthylsilane benzoate de triéthylsilyle benzyltriéthoxysilane 6-triethoxysilyl-2-norbornane diéthoxy-2-pipéridinoéthoxyvinylsilane 3-benzylaminopropyltriméthoxysilane .mthyltris(bthylcétoxime)silane bis (éthylméthylcétoxime) butoxyméthylsilane dibutoxyméthyléthylméthylcétoximesilane méthyltris(N,N-diéthylaminoxy)silane diméthoxydiphénylsilane benzylidène-3-éthoxydiméthylsilylpropylamine octyltriéthoxysilane diphényléthoxyméthylsilane diméthoxyphényl-2-pipéridinoéthoxysilane phényltris(2-méthoxyéthoxy)silane 3- (vinylbenzylaminopropyl) triméthoxysilane dodécyloxytriméthylsilane triphényloxysilane diacétoxydiphénylsilane diphényléthoxyvinylsilane diéthoxydiphénylsilane N- (3-triéthoxysilylpropyl) -p-nitrobenzamide tétrabutoxysilane bis(1,1-diméthy1-2-propynyloxy)méthylphénylsilane diéthoxydodécylméthylsilane triphénylsilane triphénylsilanol 3- (vinylbenzylaminopropyl) triéthoxysilane trihexylsilane dodécyltriéthoxysilane acétoxytriphénylsilane éthoxytriphenylsilane diphénylméthyl-2-pipéridinoéthoxysilane diphénylméthoxy-2-pipéridinoéthoxysilane diéthoxyméthyloctadécylsilane tétraphénoxysilane octadécyltriéthoxysilane tétrabis(2-éthylbutoxy)silane chlorure de ditnéthyloctadécyl-3-triméthoxysilyl- propylammonium t8trakis(2-éthylhexyloxy)silane 1,1,3,3-tétraméthyldisiloxane pentaméthyldisiloxane 1,3-diméthoxyméthyldisiloxane
N,O-bis(triméthylsilyl)trifluoroacétoamide N,O-bis(trimethylsilyl)acétoamine 1,3-diéthoxytétraméthyldisiloxane bis(triméthylsilyl)-6-azauracile 1,4-bis (diméthylsilyl) benzène 1,4-(hydroxydiméthylsilyl)benzène bis(triméthylsilyl)uracile bis (triméthylsilyl) cytosine
O,O'-bis(triméthylsilyl)diacétyldioxime
N,O-bis(triméthylsilyl)hypoxanthbne
O,O'-bis(triméthylsilyl)timine 4-triméthylsiloxyphényltriméthylsilane 1,2 ou 1,3 ou 1,4-bis(triméthylsiloxy)benzène bis (triméthylsilyl) adipate triméthylsilyl-2-triméthylsilylthiobenzoate 1,1,3,3,5,5-hexaméthyltrisiloxane 1, 1,1,3,5,5,5-heptaméthyltrisiloxane octaméthyltrisiloxane 3-éthoxyheptaméthyltrisiloxane octaméthyltrisiloxane 3-4thoxyheptaméthyltrisiloxane 1,3,5,7-tétraméthylcyclotétrasiloxane 1,1,1,3,5,7,7,7-octaméthyltétrasiloxane tris(triméthylsiloxy)silane 1,7-diacétoxyoctaméthyltétrasiloxane 1,3,5,7-tétraéthoxy-1,3,5,7-tétraméthylcyclotétrasiloxane 1,3,5,7-tétraméthy1-1,3,5,7-tétrapropoxy-cyclotétrasiloxane 1,3,5,7-tétraisopropoxy-1,3,5,7-tétaméthylcyclo té tras i loxane 2-pipéridinoéthoxytris (triméthylsiloxy) silane
1,3-bis(3-triméthylsiloxypropyl)-1,1,3,3-tétra-
méthyldisiloxane 1,3,5,7-tétrabutoxy-1,3,5,7-tétraméthylcyclo-
tétrasiloxane
tétrakis (diméthylvinylsiloxyméthyl) méthane
1,3,5,?,9-pentaméthylcyclopentasiloxane
1, 3,5, 7, 9-pentaméthoxy-1,3,5, 7, 9-pentaméthylcyclo-
pentasiloxane
1,3,5,7,9-pentaisobutoxy-1,3,5,7,9-pentaméthyl
cyclopentasiloxane.
Bien entendu, l'invention ntest pas limitée aux composés énumérés ci-dessus, mais tout composé ayant une structure comprenant au moins une liaison -SiH, -Si-OH, -Si-SH, Si-OR, et Si-SR peut entre mis en oeuvre pour parvenir aux fins de l'invention.
(3) Composés silaniques ayant une structure comprenant au moins un groupe
Figure img00170001
R2 et R3 sont l'hydrogène ou un groupe organique)
diméthylméthylaminosilane l-triméthylsilyl-1,2,4-triazole
2-triméthylsilyl-1,2,3-triazole
N-triméthylsilylacétoamide
diméthylaminotriméthylsilane
bis(diméthylamino)méthylsilane l-triméthylsilylimidazole
allylaminotriméthylsilane
N-méthyl-N-triméthylsilylacétoamide
diéthylaminodiméthylsilane
bis(éthylamino)diméthylsilane
bis(diméthylamino)diméthylsilane
tris(diméthylamino)silane
1-triméthylsilylpyrole
1-triméthylsilylpyrrolydiène
bis(diméthylamino)méthylvinylsilane diéthylaminotriméthylsilane
méthyltris (diméthylamino) silane
pipéridinotriméthylsilane
anilinotriméthylsilane
bis(diéthylamino)diméthylsilane
bis(butylamino)diméthylsilane phényltris (diméthylamino) silane
dipipéridinométhylvinylsilane N-N'-diphényl-N-triméthylsilylurée
bis(diméthylamino)diphénylsilane
méthyltripipéridinosilane tétrakis(di & hylamino)silane
dipipéridinométhyl-2-pipéridinoéthylsilane
méthyltris (cyclohexylamino) silane
dianilinodîphénylsi lane
1,1,3,3-tétraméthyldisilanaze 1,3-bis(chlorométhyl)-1,1,3,3-tétraméthyldi-
silazane
hexaméthyldisilazane
heptaméthyldisilazane
1,3-divinyl-1,1,3,3-tétraméthyldisilazane
tris(triméthylsilyl)amine 1,1,3,3,5,5,7, 7-octaméthylcyclotétrasilazane
des substances représentées par les formules cidessous
Figure img00180001
Figure img00190001
Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux composés énumérées ci-dessus, mais tout autre composé ayant la structure comprenant une liaison Si-N ou
Si-N-Si permet d'atteindre l'objectif de l'invention.
(4) Des composés oroaniques réactifs ayant un groupe de substitution fluoré ou un fluorure dhydro- gène ou un fluorure métallique.
composés organiques comprenant un groupe de substitu
tion fluoré3
Halogénures d'acyle de formule
Figure img00190002
dans laquelle Rf est le groupe organique par
tiellement substitué par du fluor et X est un
halogène ; des sels d'ammonium de formule
Figure img00190003
dans laquelle R est un groupe alcoyle ayant
de 1 a 3 atomes de carbone, et Y0 est un
anion tel qu'un ion halogène, un ion sulfate
et un ion acide carboxylique ; des isocyanates de formule Rf-N=C=O et des thioisocyanates de formule Rf-N=C=S
dans lesquelles Rf est un groupe organique
substitué partiellement par du fluor et les exemples typiques de Rf sont ceux représentés par les formules [I], [II] et [III]
Figure img00200001

dans laquelle A est un atome de fluor ou un atome d'hydrogène, n est un nombre entier allant de 1 à 18, a est 1 ou 2, b est O ou 1 et c est un nombre entier allant de O a 2
Figure img00200002

dans laquelle m est un nombre entier allant de O a 17, d est un nombre entier allant de
O à s et R' est un groupe alcoyle ayant de 1 à 5 atomes de carbone
Figure img00200003
dans laquelle 1 est un nombre entier allant
de O a 5.
Un fluorure métallique tel que NaF, NaHF2,
CaF2, AlF3, ZnF2, SbF3, SbF5, CrF2, CrF3, KF, CoF2,
CoF3, MgF2, TIF, FeF2, FeF3, NiF2 et BaF2.
Suivant 11 invention, les substances qui peuvent etre mises en oeuvre ne sont pas limitdes à celles énumérées aux paragraphes (1) a (4) ci-dessus, mais d'autres substances qui, lorsqu'elles ont réagi ou lorsqu'elles ont été adsorbées a la surface des objets, présentent le caractère hydrophobe, peuvent être utilises aux fins décrites ci-dessus.
On pense que les substances énumérées sous (1) à (4) ci-dessus réagissent ou sont adsorbées sous la surface de la pellicule protectrice minérale ayant une forte polarité de la manière suivante (i) Quand un composé silanique halogéné est en présence du groupe hydroxyle, une élimination d'acide chlorhydrique a lieu, comme indiqué ci-dessous, et en conséquence, un composé silanique halogéné est très efficace pour une surface sur laquelle il y a des groupes hydroxyle.
Figure img00210001
dans laquelle R est un substituant arbitraire.
(ii) Quand un composé du type décrit au paragraphe (2) est appliqué à la surface de la pellicule protectrice minérale ayant un groupe hydroxyle, une déshydratation, une désalcoolation, une déshydrogénation, etc. a lieu, et ainsi le composé silanique est efficace pour une surface sur laquelle il y a des groupes hydroxyle. C'est ainsi, par exemple, qu'au voisinage de la surface d'une pellicule de SiO2, on pense que les réactions suivantes ont lieu
Figure img00220001
R et R' étant des substituants arbitraires.
(iii) Pour ce qui concerne le composé silanique du type mentionné au paragraphe (3), on pense que la réaction suivante a lieu ou que le groupe contenant l'azote s'adsorbe fortement
Figure img00230001
dans laquelle R est un substituant arbitraire (iv) (a) halogénure d'acide carboxylique
Figure img00230002

(b) sel d'ammonium
Figure img00240001

(c) isocyanate et thioisocyanate
Figure img00240002
dans laquelle Z est O ou S (d) fluorure d'hydrogène et fluorure métallique.
(Plus efficace quand utilisé en association avec
de l'acide sulfurique concentré).
Figure img00240003
dans lesquelles M est un métal.
Suivant l'invention, les substances applicables ne sont pas limitées à celles énumérées ci-dessus, mais d'autres substances qui, quand elles ont réagi ou quand elles se sont adsorbées sur la surface de l'objet, présentent un caractère hydrophobe, peuvent être utilisées aux fins de l'invention. En outre, suivant l'invention, on peut utiliser non seulement une substance, mais également une association de certaines des substances convenables.
Pour faire réagir ou pour adsorber le composé silanique tel que décrit ci-dessus, sur la surface de la pellicule protectrice minérale, il y a en général deux procédés. L'un est d'appliquer le composé en revêtement par immersion, par centrifugation, par projection, etc., pour le faire réagir ou s'adsorber sur la surface. L'autre est de le faire réagir ou de s'adsorber directement sur la surface à l'état gazeux, sous vide ou dans une atmosphère.
Dans le cas du procédé mentionné en premier, en se rendant maître de l'état ambiant pendant le processus de revêtement, par exemple de l'humidité et de la température, on peut se rendre maître de la vitesse de réaction et, en ajustant la durée d'immersion, la température de la solution et la masse volumique du composé silanique, on peut obtenir la pellicule traitée souhaitée. En outre, il est efficace d'accélérer la réaction en chauffant ou en exposant à de la lumière sans porter atteinte aux propriétés de la pellicule protectrice.
Comme exemple du procédé mentionné en dernier, on peut citer celui dans lequel la pellicule protectrice minérale est formée dans une chambre sous vide et, ensuite, le composé silanique gazeux est introduit dans la chambre pour effectuer la réaction. En variante, il est également possible d'introduire, après avoir formé la pellicule protectrice minérale, le composé silanique gazeux dans l'atmosphère d'un plasma tel qu'un plasma à l'argon ou à l'oxygène, et d'effectuer le dépôt réactif en phase vapeur, un placage ionique réactif, etc.
Pour augmenter la réactivité de la surface de la pellicule protectrice minérale sur le composé silanique, il est parfois souhaitable d'effectuer un traitement préalable de la surface tel qu'un lavage, un traitement chimique et un traitement au plasma.
Le composé silanique destiné à réagir peut être utilisé soit seul, soit en combinaison. En outre, on peut également utiliser le composé silanique dilué dans un solvant convenable ou traité au préalable par un acide ou par une base.
La réaction achevée, le composé silanique, qui a réagi sur l'eau de l'atmosphère et qui n'a pas contribué à la réaction avec la surface de la pellicule protectrice, est éliminé par lavage, ce qui conserve les propriétés anti-reflet, l'aspect extérieur et autres propriétés que le revêtement avait avant le traitement.
Pour faire réagir le fluorure d'hydrogène sur la pellicule protectrice minérale, il y a plusieurs procédés, l'un d'entre eux consistant à faire réagir directement du fluorure d'hydrogène gazeux sur la surface, sous vide ou sous une atmosphère, tandis qu'un autre consiste à immerger la surface dans de l'acide fluorhydrique ou dans une solution mixte d'acide fluorhydrique et d'acide sulfurique concentré.
Pour faire réagir le fluorure métallique, on ajoute le fluorure métallique sous forme pulvérulente dans le sulfate acide épais et on immerge l'objet ayant la pellicule protectrice minérale dans la solution.
Comme le fluorure d'hydrogène et le fluore métallique sont très réactifs, la réaction peut provoquer le décapage de la pellicule de revêtement, et entrainer la détérioration de ses propriétés. C'est pourquoi, quand on utilise du fluorure d'hydrogène ou un fluorure métallique, la durée de réaction doit être brève.
La pellicule protectrice minérale, par exemple une pellicule de Si02, a, exposés en surface, des groupes
OH ayant des polarités relativement fortes et ces groupes OH adsorbent vraisemblablement les impuretés de la goutte d'eau. On peut dire que ceci est la cause de la tache d'eau sur la surface de revêtement. C'est pourquoi, afin d'empêcher l'apparition de la tache d'eau, il est efficace de revêtir la surface de la pellicule protectrice minérale d'un groupe ayant une faible polarité ou ayant un caractère hydrophobe.
Les exemples suivants illustrent l'invention.
Exemple 1
On lave un verre en résine synthétique en bis(allylcarbonate) de diéthylèneglycol par de l'acétone et ensuite on fait subir à sa surface un traitement anti-reflet à une température du substrat de 500C par le procédé de dépôt sous vide en phase vapeur. La pellicule comprend, à partir de la surface du verre, une couche de SiO2 d'une épaisseur de /4, une couche de ZrO et une couche de SiO2 d'une épaisseur totale de A/4, une couche de ZrO2 d'une épaisseur de A/4 et la couche supérieure en SiO2 d'une épaisseur de A/4 ( = 520 nm).
Puis on lave le verre à l'alcool isopropylique, on le sèche suffisamment et on l'immerge dans une solution à 98 % de diméthyldichlorosilane pendant une minute, la température de la solution étant de 150C. Après l'avoir immergé, on retire le verre à une vitesse de 1 cm à la seconde dans une atmosphère ayant une humidité de 60 % et une température de 250C. On maintient ensuite le verre dans cette atmosphère à 6O0C pendant 30 minutes et on le lave par du trichloroéthylène.
On n'observe aucun changement remarquable de l'aspect extérieur et des propriétés anti-reflet du verre après le lavage final.
On détermine la qualité de la pellicule protectrice obtenue par le procédé suivant
(1) Facilité d'apparition de la tache d'eau on verse goutte a goutte de l'eau du robinet sur la surface de la pellicule protectrice et on sèche et on essuie le résidu a l'aide d'un tissu. On classe les résultats en A : le résidu est essuyé complètement,
B : le résidu reste en partie, et C : le résidu reste.
(2) Angle de contact : on mesure l'angle de contact entre la goutte d'eau et la surface par un dispositif de mesure de l'angle de contact (du type CA-D fabriqué par Kyowa Kagaku Kabushiki Kaisha) en utilisant le procédé à la goutte (eau pure).
Exemple 2
A la surface d'un verre en crown, on dépose de l'oxyde d'aluminium ayant un indice de réfraction de 1,60 en une épaisseur de 1 micron en procédant dans un plasma à l'argon par le procédé de placage d'ions.
On lave le verre obtenu à l'eau pure et on le sèche bien. On l'immerge ensuite pendant une minute environ dans une solution de diéthyldichlorosilane qui a été diluée à 10 % par du chlorure de méthylène.
Puis on retire le verre a la vitesse de 10 cm à la seconde, alors que l'humidité est de 80 % et la température de 250C. On lave le verre par une solution de chlorure de méthylène a 99,9 %.
L'aspect extérieur du verre, après lavage, ne présente presque pas de différence avec celui avant traitement.
Exemple 3
En procédant comme a l'exemple 1, on forme la pellicule anti-reflet et on traite la surface de la couche de Si02 la plus élevée pendant une minute par un plasma a l'argon gazeux, puis on introduit dans la chambre a vide du méthyl-3,3,3-trifluoropropyldichlorosilane a raison de 5 cm3 à la minute et pendant 2 minutes. La température de la surface du verre est alors de 550C. Puis on met le verre a l'atmosphère et on le lave par du tétrahydrofuranne.
Il n'y a presque pas de changement de l'aspect extérieur du verre après le lavage.
Exemple 4
En procédant comme à l'exemple 1, on forme la pellicule anti-reflet sur la surface du verre en résine synthétique et on place ce verre dans la chambre à vide.
On introduit le mélange gazeux d'argon et d'eau en le rapport de 100:5 dans la chambre à vide jusqu'a ce que la pression de la chambre devienne égale a 0,1 torr et on transforme l'atmosphère en un plasma en utilisant un champ électrique haute fréquence de 13,56 MHz. On traite le verre dans cette atmosphère pendant 30 secondes avec une puissance du plasma de 300 W.
Puis on sort le verre de la chambre sous vide et on en revêt la surface d'une solution à 99,9 % de 1,7-dichlorooctaméthyltétrasiloxane. Après quoi, on lave le verre par du 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroéthane.
On ne voit aucun changement d'aspect extérieur du verre après le lavage.
Exemple 5
Le verre en bis(allylcarbonate) de diéthylèneglycol qui a été lavé par de l'alcool isopropylique, est traité par une solution aqueuse ou par de l'hydroxyde de sodium a 5 %, en procédant à la température ambiante et pendant 5 minutes. Puis on applique la solution de revêtement, telle que dderite ci-dessous, a la surface du verre par le procédé par immersion avec une température de la solution de 50C et une vitesse de sortie de 40 cm à la minute. Après quoi, on lave et on durcit le verre dans un séchoir à air chaud à 800C pendant 30 minutes et a 1300C pendant 2 heures.
On prépare la solution de revêtement de la manière suivante.
Dans un récipient de réaction ayant des moyens d'agitation et agité à la température ambiante pendant 3 heures, on place 206 g d'éthanol, 396 g de silice colloïdale dispersée dans de l'éthanol ("Oscal 1232" fabriqué par Shokubai Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha dont la teneur en matière solide est de 30 %), 312 g du composé partiellement hydrolysé de y-glycidoxy- propyltriméthoxysilane, 0,2 g d'agent de réglage de d'écoulement ("La7604" fabriqué par Nippon Unicar
Kabushiki Kaisha) et 8,6 g d'une solution aqueuse 0,05 N d'acide acétique pour obtenir la solution de revêtement.
On effectue le traitement anti-reflet, qui est le même que celui effectue a l'exemple 1, sur la surface du verre obtenu tel que ci-dessus, et ensuite on traite le verre de la même façon par du diméthyldichlorosilane.
Après le lavage, on n'observe aucun changement de l'aspect extérieur du verre.
Exemple 6
Le verre ayant la pellicule anti-reflet de l'exemple 1 est lavé par de l'alcool isopropylique et est séché suffisamment avant d'être traité par du diméthyldichlorosilane. Puis on trempe le verre dans la solution mixte constituée de 50 g de diméthyldiéthoxysilane, de 450 g d'alcool isopropylique et de 20 g d'acide chlorhydrique 0,05 N, la température de la solution étant de 100C et l'immersion s'effectuant pendant 3 minutes. Après l'immersion, on maintient le verre dans une atmosphère ayant une humidité de 75 % et une température de 500C pendant 15 minutes, puis on le lave par de l'acétone.
On n'observe pas de changement important de l'aspect extérieur et des propriétés anti-reflet du verre après le lavage.
Exemple 7
On prépare le verre par les mêmes processus qu'à l'exemple 1. Mais, au lieu d'utiliser un composé silanique, on traite le verre de la manière suivante
On immerge le verre dans la solution mixte constituée de 100 g de diphénylsilane et de 300 g de tétrahydrofuranne, la température de la solution étant de 20 g et la durée d'immersion étant de 30 secondes, on le maintient dans de la vapeur.de diéthylamine pendant 1 minute et on le lave à l'eau.
On teste les propriétés de la pellicule de revêtement obtenue de la même façon qu'à l'exemple 1.
Exemple 8
On prépare le verre par les mêmes procédés qu'à l'exemple 2, avant de la traiter par un composé silanique. On immerge le verre dans la solution mixte constituée de 10 g de 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrissilo- xane, de 5 g d'alcool éthylique et de 200 g de N,Ndiméthylformamide, la température de la solution étant de 10 % et la durée d'immersion étant de 10 minutes et on le maintient dans une atmosphère ayant une humidité de 80 % et une température de 600C pendant 5 minutes.
On lave ensuite le verre à l'acétone.
On teste les propriétés de la pellicule protec- trice obtenue de la même façon qu'à l'exemple 1.
Exemple 9
On prépare le verre de la même façon qu'à l'exemple 1 et, après avoir formé la couche la plus élevée en SiO2, on traite la surface de la couche en
SiO2 par un plasma à l'argon pendant 1 minute. Puis on introduit du triméthylsilanol dans la chambre sous vide a raison de 5 cm3 à la minute pendant 2 minutes.
La température de la surface à cet instant est de 600C On sort le verre de la chambre pour le mettre a l'atmosphère.
I1 n'y a presque pas de changement de l'aspect extérieur du verre après le traitement.
On teste les propriétés du verre obtenu de la même façon qu'à l'exemple 1.
Exemple 10
On revêt une plaque acrylique lavée à l'alcool isopropylique de la solution de revêtement suivante par le procédé par immersion, avec une température de la solution de 50C et une vitesse de sortie de 20 cm à la minute. Puis on chauffe et durcit la plaque dans un séchoir à air chaud à 700C pendant 5 minutes, puis on la soumet à un rayonnement lumineux d'une lampe germicide < "GL-10" fabriqué par Tokyo Shibaura Denki
Kabushiki Kaisha), la distance entre la lampe et la plaque acrylique étant de 10 cm et l'opération s'effectuant pendant 30 secondes.
On prépare la solution de revêtement de la manière suivante
Dans un récipient de réaction ayant un équipement d'agitation et agité à la température ambiante pendant 2 heures, on place, pour obtenir la solution de revêtement, 200 g d'éthanol, 180 g de silice colle dale dispersée dans l'éthanol ("Oscal 1232" fabriqué par Shokubai Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha), 45 g de y-methacryloxypropyltrimGthoxysilane, 30 g de y-glycidyloxypropyltriméthoxysilane, 0,5 g d'agent pour se rendre maitre de l'écoulement et 40 g d'acide nitrique 0,05 N.
On effectue le traitement anti-reflet de la plaque acrylique obtenue ci-dessus par les mêmes procédés qu'à l'exemple 1.
On immerge ensuite la plaque dans la solution mixte constituée de 15 g de diméthoxyméthyl-3,3,3trifluoropropylsilane, de 5 g de 3,3,3-trifluoropropyltriméthoxysilane, de 240 g de methylcellosolve et de 10 g d'acide chlorhydrique 0,05 N, la température de la solutionétant de 100C et la durée d'immersion étant de 2 minutes, puis on la maintient dans une atmosphère ayant une humidité de 70 % et une température de 400C pendant 10 minutes. On lave le verre à l'eau et à l'acétone.
On n'observe aucun changement remarquable de l'aspect extérieur du verre après le lavage.
Les propriétés du verre obtenues sont testées de la même façon qu'à L'exemple 1.
Exemple 11
On prépare le verre de la même façon qu'à l'exemple 1 avant de le traiter par un composé silanique. On lave le verre par de l'alcool isopropylique et on le sèche suffisamment. Puis on immerge le verre dans une solution de bis(diméthylamino)méthylsilane, la température de la solution,étant de 200C et l'immersion durant 5 minutes.
Après l'immersion, on maintient le verre dans une atmosphère ayant une humidité de 50 % et une température de 250C pendant 10 minutes et ensuite on le lave par de l'acétone.
On n'observe aucun changement remarquable de l'aspect extérieur et des propriétés anti-reflet du verre après le lavage.
Exemple 12
On traite le verre préparé de la même façon qu'à l'exemple 1, avant de le traiter par un composé silanique, de la manière suivante
On immerge le verre dans une solution hexaméthyl disilazanique pendant 10 minutes et on le maintient dans une atmosphère ayant une température de 500C pendant 30 minutes. On lave ensuite le verre a l'acétone.
On teste les propriétés de la pellicule protectrice obtenue de la même façon qui l'exemple 1.
Exemple 13
On lave a l'alcool isopropylique le verre en crown préparé par les mimes prodédés qu'à l'exemple 2, avant de le traiter par un composé silanique. Puis on immerge le verre pendant 10 minutes dans une solution de 1,1,3,3,515,7,7-octaméthylcyclotétrasilazane qui a été diluée à 30 % par du 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroéthane.
On maintient ensuite le verre dans une atmosphère ayant une humidité relative de 40 % et une température de 1500C pendant 1 heure et on le lave par du 1,1,2-tri chloro-1,2,2-trifluorodthane.
Il n'y a pas de changement de l'aspect extérieur du verre après le lavage.
Exemple 14
On prépare le verre par les mêmes procédés qu'a l'exemple 1, si ce n'est que l'on forme la couche la plus elevée en SiO2 de la manière suivante
Tout en faisant fondre SiO2 par un canon à électrons, on introduit le mélange gazeux d'alcool et de méthylaminotriméthylsilane en le rapport de 9 à 1 dans la chambre1 jusqu'a ce que la pression dans la chambre devienne le vide ou 0,01 torr. Puis on transforme l'atmosphère de la chambre en un plasma en appliquant un champ électrique haute fréquence de 15,56 MHz.
On applique une tension de 300 V a la plaque de base et on forme une couche de SiO2 par placage ionique réactif avec une puissance haute fréquence de 300 W.
Exemple 15
On immerge le verre préparé par les mémes procédés qu'à l'exemple l avant de le traiter par un composé silanique dans une solution de bis(diéthylamino)diméthylsilane, à la température ambiante pendant 30 minutes. Puis on maintient le verre à l'atmosphère a une température de 50 C et à une humidité relative de 40 % pendant l heure et on le lave par du tétrahydrofuranne.
Il n'y a presque pas de changement de l'aspect extérieur du verre après le lavage.
Exemple 16
Avant d'être traité par un composé silanique, le verre préparé par le même procédé qu'à l'exemple 1 est lavé a l'alcool isopropylique et est bien séché.
On immerge le verre dans a solution hexanique à 5 d'isocyanate d'heptafluoropentyle qui a éte déshydraté à lO % pendant 30 secondes. Après avoir maintenu le verre a l'air sec à 300C pendant l minute, on l'immerge dans l'alcool isopropylique et on enlève l'isocyanate inaltéré par lavage. Ensuite, on sèche le verre par séchage par évaporation de l'alcool isopropylique.
Il n'y a pas de changement notable de l'aspect extérieur et les propriétés anti-reflet du verre après lavage et séchage.
Exemple 17
Avant de traiter par un composé silanique, on lave le verre préparé par les mêmes procédés qu'a l'exemple 2 à l'alcool éthylique et on l'immerge dans une solution tétrahydrofurannique à 10 % d'iodure de 3,3,4,4,5,5,6,6-nonafluorohexyldiméthylammonium à 25QC pendant 1 minute. On retire le verre et on le maintient a l'air sec a 600C pendant 10 minutes. Puis on lave le verre suffisamment à l'eau pure et on le sèche.
Il n'y a presque pas de changement de l'aspect extérieur du verre après le traitement.
Exemple 18
On prépare le verre par les mêmes procédés qu'a l'exemple 1 et, après avoir formé la couche la plus elevée en SiO2, on en traite la surface par un plasma d'argon gazeux pendant 1 minute. On immerge immédiate- ment le verre dans une solution de tétrahydrofuranne comprenant du perfluoro (2-méthyl-3-oxohexanoylfluorure) à la concentration de 10 % à 500C pendant 2 minutes.
Après avoir retiré le verre, on le lave par du tétrahydrofuranne et par de l'eau pure et on le sèche.
Il n'y a pas de changement de l'aspect extérieur du verre.
Exemple 19
Avant de le traiter par un composé silanique, on immerge le verre à 35 C pendant 3 minutes dans de 1 'acide sulfurique concentré à 96 % contenant 20 % de CaF2 ayant une granulométrie comprise entre 0,06 et 0,05 mm.
Puis on lave le verre par de l'eau,par une solution aqueuse de NaHC03 saturée et par de l'eau pure, successivement, et on le sèche.
Il n'y a pratiquement pas de changement d'aspect extérieur du verre.
Exemple 20
On prépare le verre par les mêmes procédés qu'à l'exemple 1 et, après avoir forme la couche la plus élevée en SiO2, on immerge le verre dans de l'acide fluorhydrique à 15 % à 100C pendant 5 secondes. Puis on lave le verre par de l'eau, par une solution aqueuse de NaHC03 saturée et par de l'eau pure, successivement et on le sèche.
Il n'y a presque pas de changement de l'aspect extérieur du verre.
Exemple-témoin @
On désigne par exemple-témoin 1 le verre en résine synthétique ayant une pellicule anti-reflet préparé par les mêmes procédés qu'à l'exemple 1, avant d'être traité par un composé silanique.
Exemple-témoin 2
On désigne par exemple-témoin 2, le verre ayant une pellicule d'oxyde d'aluminium préparée par les mêmes procédés qu'à l'exemple 2, avant d'être traité par le composé silanique.
Exemple-témoin 3
On désigne par exemple-témoin 3, la plaque acrylique ayant une pellicule anti-reflet préparée par les mêmes procédés qu'à l'exemple 10, avant traitement par un composé silanique.
Les résultats des essais sur les propriétés des exemples 1 à 20 ci-dessus et des exemples-témoins 1 à 3 ci-dessus sont consignés au tableau 1.
TABLEAU 1
Figure img00380001
<SEP> Angle <SEP> de
<tb> <SEP> Tache <SEP> d'eau
<tb> <SEP> contact
<tb> <SEP> Exemple <SEP> 1 <SEP> A <SEP> 900
<tb> <SEP> 2 <SEP> B <SEP> 950
<tb> <SEP> 3 <SEP> A <SEP> 1200
<tb> <SEP> 4 <SEP> A <SEP> 1120
<tb> <SEP> 5 <SEP> A <SEP> 900
<tb> <SEP> 6 <SEP> A <SEP> 910
<tb> <SEP> 7 <SEP> A <SEP> 980
<tb> <SEP> 8 <SEP> A <SEP> 1020
<tb> <SEP> 9 <SEP> A <SEP> 899 <SEP>
<tb> <SEP> 10 <SEP> A <SEP> 1190
<tb> <SEP> 11 <SEP> A <SEP> 950
<tb> <SEP> 12 <SEP> A <SEP> 1000
<tb> <SEP> 13 <SEP> A <SEP> 920
<tb> <SEP> 14 <SEP> A <SEP> 940
<tb> <SEP> 15 <SEP> A <SEP> 1030
<tb> <SEP> 16 <SEP> A <SEP> 920
<tb> <SEP> 17 <SEP> A <SEP> 900
<tb> 18 <SEP> A <SEP> 1320
<tb> 19 <SEP> B <SEP> 890
<tb> 20 <SEP> B <SEP> 91
<tb> <SEP> Exemple-temoin <SEP> 1 <SEP> C <SEP> 170
<tb> <SEP> 2 <SEP> B <SEP> 190
<tb> <SEP> 3 <SEP> C <SEP> 230
<tb>
Suivant l'invention, en donnant à la surface de la pellicule protectrice minérale un caractère hydrophobe, on réduit l'énergie superficielle et l'affinité non seulement entre l'eau et la surface, mais également entre les impuretés de l'eau et de la surface, ce qui empêche l'apparition de taches d'eau. En outre, et allant de pair avec la diminution en énergie superficielle, toute salissure due à une substance organique telle que la sueur et une matière grasse de l'organisme et de l'huile comestible,est facile à nettoyer au papier de soie ou analogues.
Le procédé pour améliorer la surface de la pellicule protectrice minérale suivant l'invention s'applique d'une manière étendue aux objets ayant une couche minérale tels que des verres en résine synthétique et du verre, du verre optique pour des machines de précision, des panneaux d'affichage, des glaces de montre, des vitres, etc. et on doit s'attendre à ce que l'invention s'applique à bien d'autres domaines.

Claims (1)

  1. REVENDICATION
    Pellicule protectrice minérale, caractérisée en ce qu'elle comprend une substance qui, quand elle a réagi sur la pellicule, ou quand elle a été adsorbe à la surface de celle-ci, présente un caractère hydrophobe.
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US (1) US5622784A (fr)
DE (1) DE3701654A1 (fr)
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Families Citing this family (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
WO1990005315A1 (fr) * 1988-10-31 1990-05-17 Sumitomo Cement Co., Ltd. Articles antireflet, procede de production et preparation servant de revetement
US5218268A (en) * 1989-10-31 1993-06-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Optical filter for cathode ray tube
JP2815932B2 (ja) * 1989-10-31 1998-10-27 株式会社東芝 陰極線管
US4983459A (en) * 1990-04-03 1991-01-08 Ppg Industries, Inc. Chemically reacted glass surface
US5674967A (en) * 1990-04-03 1997-10-07 Ppg Industries, Inc. Water repellent surface treatment with integrated primer
US6025025A (en) * 1990-04-03 2000-02-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Water-repellent surface treatment
US5707740A (en) * 1990-04-03 1998-01-13 Ppg Industries, Inc. Water repellent surface treatment with acid activation
JPH04124047A (ja) * 1990-09-17 1992-04-24 Nissan Motor Co Ltd ガラス表面の撥水処理方法
EP1224983A3 (fr) * 1991-01-23 2002-12-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Substrats transparents et procédé de préparation de ceux-ci
DE4112632A1 (de) * 1991-04-18 1992-10-22 Kurasawa Optical Industry Co Eine schmutzabweisende substanz und das verfahren, sie herzustellen
JP2555797B2 (ja) * 1991-05-13 1996-11-20 トヨタ自動車株式会社 撥水ガラス及びその製造方法
US5424130A (en) * 1991-05-13 1995-06-13 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Water repellent glass and process for producing the same
EP0559119B1 (fr) * 1992-03-02 2000-10-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Film adsorbé chimiquement et procédé pour sa fabrication
DE19539789A1 (de) * 1995-10-26 1997-04-30 Merck Patent Gmbh Mittel und Verfahren zur Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten
US5851674A (en) * 1997-07-30 1998-12-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation
US5989462A (en) 1997-07-31 1999-11-23 Q2100, Inc. Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses
US6277485B1 (en) 1998-01-27 2001-08-21 3M Innovative Properties Company Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation
US6419873B1 (en) 1999-03-19 2002-07-16 Q2100, Inc. Plastic lens systems, compositions, and methods
US6582823B1 (en) * 1999-04-30 2003-06-24 North Carolina State University Wear-resistant polymeric articles and methods of making the same
US6372354B1 (en) * 1999-09-13 2002-04-16 Chemat Technology, Inc. Composition and method for a coating providing anti-reflective and anti-static properties
US6723260B1 (en) 2000-03-30 2004-04-20 Q2100, Inc. Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder
US6698708B1 (en) 2000-03-30 2004-03-02 Q2100, Inc. Gasket and mold assembly for producing plastic lenses
US6528955B1 (en) 2000-03-30 2003-03-04 Q2100, Inc. Ballast system for a fluorescent lamp
US6716375B1 (en) 2000-03-30 2004-04-06 Q2100, Inc. Apparatus and method for heating a polymerizable composition
US6632535B1 (en) 2000-06-08 2003-10-14 Q2100, Inc. Method of forming antireflective coatings
US7018057B2 (en) 2000-08-23 2006-03-28 Vtec Technologies, Llc Transparent plastic optical components and abrasion resistant polymer substrates and methods for making the same
US7051290B2 (en) * 2001-02-20 2006-05-23 Q2100, Inc. Graphical interface for receiving eyeglass prescription information
US6758663B2 (en) 2001-02-20 2004-07-06 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit
US7083404B2 (en) * 2001-02-20 2006-08-01 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using a mold holder
US6790024B2 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems
US6712331B2 (en) 2001-02-20 2004-03-30 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies with indicia
US6702564B2 (en) 2001-02-20 2004-03-09 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders
US6840752B2 (en) * 2001-02-20 2005-01-11 Q2100, Inc. Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses
US6655946B2 (en) 2001-02-20 2003-12-02 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units
US6676399B1 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies
US6709257B2 (en) 2001-02-20 2004-03-23 Q2100, Inc. Eyeglass lens forming apparatus with sensor
US6808381B2 (en) 2001-02-20 2004-10-26 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller
US6726463B2 (en) 2001-02-20 2004-04-27 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller
US6612828B2 (en) 2001-02-20 2003-09-02 Q2100, Inc. Fill system with controller for monitoring use
US7139636B2 (en) * 2001-02-20 2006-11-21 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with bar code reader
US6752613B2 (en) 2001-02-20 2004-06-22 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing
US7124995B2 (en) * 2001-02-20 2006-10-24 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies and molds
US6676398B2 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader
US6790022B1 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount
SE0101702D0 (sv) * 2001-05-15 2001-05-15 Ardenia Investments Ltd Novel potentiating compounds
US7211329B2 (en) 2001-05-18 2007-05-01 Schott Ag Process for making a product with a long-lasting easily cleaned surface and product thereof
CN1509258A (zh) * 2001-05-18 2004-06-30 肖特玻璃制造厂 易于清洁的涂层
US6737105B2 (en) * 2001-07-27 2004-05-18 Vtec Technologies, Inc. Multilayered hydrophobic coating and method of manufacturing the same
US6942924B2 (en) * 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system
US7044429B1 (en) * 2002-03-15 2006-05-16 Q2100, Inc. Methods and systems for coating eyeglass lens molds
US6464484B1 (en) 2002-03-30 2002-10-15 Q2100, Inc. Apparatus and system for the production of plastic lenses
FR2846753A1 (fr) * 2002-11-06 2004-05-07 Pentax Corp Verre antireflechissant de lunettes et procede pour sa production
JP2004166055A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Pentax Corp デジタルカメラ機能付き双眼鏡
DE102004056965A1 (de) * 2004-11-25 2006-06-08 Rodenstock Gmbh Verbesserung der Haftung von hydrophoben Beschichtungen auf Brillengläsern
US7875556B2 (en) 2005-05-16 2011-01-25 Air Products And Chemicals, Inc. Precursors for CVD silicon carbo-nitride and silicon nitride films
US8530361B2 (en) 2006-05-23 2013-09-10 Air Products And Chemicals, Inc. Process for producing silicon and oxide films from organoaminosilane precursors
US7875312B2 (en) * 2006-05-23 2011-01-25 Air Products And Chemicals, Inc. Process for producing silicon oxide films for organoaminosilane precursors
US7790634B2 (en) * 2006-05-30 2010-09-07 Applied Materials, Inc Method for depositing and curing low-k films for gapfill and conformal film applications
US20070277734A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Applied Materials, Inc. Process chamber for dielectric gapfill
US7825038B2 (en) * 2006-05-30 2010-11-02 Applied Materials, Inc. Chemical vapor deposition of high quality flow-like silicon dioxide using a silicon containing precursor and atomic oxygen
US7902080B2 (en) * 2006-05-30 2011-03-08 Applied Materials, Inc. Deposition-plasma cure cycle process to enhance film quality of silicon dioxide
US8232176B2 (en) * 2006-06-22 2012-07-31 Applied Materials, Inc. Dielectric deposition and etch back processes for bottom up gapfill
US7745352B2 (en) * 2007-08-27 2010-06-29 Applied Materials, Inc. Curing methods for silicon dioxide thin films deposited from alkoxysilane precursor with harp II process
US7943531B2 (en) * 2007-10-22 2011-05-17 Applied Materials, Inc. Methods for forming a silicon oxide layer over a substrate
US7803722B2 (en) * 2007-10-22 2010-09-28 Applied Materials, Inc Methods for forming a dielectric layer within trenches
US7867923B2 (en) 2007-10-22 2011-01-11 Applied Materials, Inc. High quality silicon oxide films by remote plasma CVD from disilane precursors
US8357435B2 (en) * 2008-05-09 2013-01-22 Applied Materials, Inc. Flowable dielectric equipment and processes
US20100081293A1 (en) * 2008-10-01 2010-04-01 Applied Materials, Inc. Methods for forming silicon nitride based film or silicon carbon based film
US8980382B2 (en) * 2009-12-02 2015-03-17 Applied Materials, Inc. Oxygen-doping for non-carbon radical-component CVD films
US7935643B2 (en) * 2009-08-06 2011-05-03 Applied Materials, Inc. Stress management for tensile films
US8741788B2 (en) * 2009-08-06 2014-06-03 Applied Materials, Inc. Formation of silicon oxide using non-carbon flowable CVD processes
US7989365B2 (en) * 2009-08-18 2011-08-02 Applied Materials, Inc. Remote plasma source seasoning
US20110136347A1 (en) * 2009-10-21 2011-06-09 Applied Materials, Inc. Point-of-use silylamine generation
US8449942B2 (en) 2009-11-12 2013-05-28 Applied Materials, Inc. Methods of curing non-carbon flowable CVD films
SG181670A1 (en) 2009-12-30 2012-07-30 Applied Materials Inc Dielectric film growth with radicals produced using flexible nitrogen/hydrogen ratio
US8329262B2 (en) * 2010-01-05 2012-12-11 Applied Materials, Inc. Dielectric film formation using inert gas excitation
KR101528832B1 (ko) 2010-01-06 2015-06-15 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 유동성 유전체 층의 형성 방법
US8304351B2 (en) 2010-01-07 2012-11-06 Applied Materials, Inc. In-situ ozone cure for radical-component CVD
JP2013521650A (ja) * 2010-03-05 2013-06-10 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ラジカル成分cvdによる共形層
US8236708B2 (en) 2010-03-09 2012-08-07 Applied Materials, Inc. Reduced pattern loading using bis(diethylamino)silane (C8H22N2Si) as silicon precursor
US7994019B1 (en) 2010-04-01 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Silicon-ozone CVD with reduced pattern loading using incubation period deposition
US8476142B2 (en) 2010-04-12 2013-07-02 Applied Materials, Inc. Preferential dielectric gapfill
US8912353B2 (en) 2010-06-02 2014-12-16 Air Products And Chemicals, Inc. Organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same
US8524004B2 (en) 2010-06-16 2013-09-03 Applied Materials, Inc. Loadlock batch ozone cure
US8318584B2 (en) 2010-07-30 2012-11-27 Applied Materials, Inc. Oxide-rich liner layer for flowable CVD gapfill
WO2012030945A2 (fr) * 2010-09-01 2012-03-08 Honeywell International Inc. Lentilles ophtalmologiques, compositions de revêtement de lentilles ophtalmologiques et procédés pour fabriquer des lentilles ophtalmologiques
US9285168B2 (en) 2010-10-05 2016-03-15 Applied Materials, Inc. Module for ozone cure and post-cure moisture treatment
US8664127B2 (en) 2010-10-15 2014-03-04 Applied Materials, Inc. Two silicon-containing precursors for gapfill enhancing dielectric liner
US10283321B2 (en) 2011-01-18 2019-05-07 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing system and methods using capacitively coupled plasma
US8450191B2 (en) 2011-01-24 2013-05-28 Applied Materials, Inc. Polysilicon films by HDP-CVD
US8716154B2 (en) 2011-03-04 2014-05-06 Applied Materials, Inc. Reduced pattern loading using silicon oxide multi-layers
US8445078B2 (en) 2011-04-20 2013-05-21 Applied Materials, Inc. Low temperature silicon oxide conversion
US8771807B2 (en) 2011-05-24 2014-07-08 Air Products And Chemicals, Inc. Organoaminosilane precursors and methods for making and using same
US8466073B2 (en) 2011-06-03 2013-06-18 Applied Materials, Inc. Capping layer for reduced outgassing
US9404178B2 (en) 2011-07-15 2016-08-02 Applied Materials, Inc. Surface treatment and deposition for reduced outgassing
US8617989B2 (en) 2011-09-26 2013-12-31 Applied Materials, Inc. Liner property improvement
US8551891B2 (en) 2011-10-04 2013-10-08 Applied Materials, Inc. Remote plasma burn-in
US8889566B2 (en) 2012-09-11 2014-11-18 Applied Materials, Inc. Low cost flowable dielectric films
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films
US10453675B2 (en) 2013-09-20 2019-10-22 Versum Materials Us, Llc Organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same
US9412581B2 (en) 2014-07-16 2016-08-09 Applied Materials, Inc. Low-K dielectric gapfill by flowable deposition
US20160225652A1 (en) 2015-02-03 2016-08-04 Applied Materials, Inc. Low temperature chuck for plasma processing systems
DE102015209794B4 (de) * 2015-05-28 2017-07-27 Carl Zeiss Vision International Gmbh Verfahren zur Herstellung eines optischen Glases mit Antifog-Beschichtung und optisches Glas mit Antifog-Beschichtung
EP3497068B1 (fr) * 2016-08-08 2022-01-19 Surfix B.V. Procédé de modification d'une surface solide

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2158119A1 (en) * 1971-11-03 1973-06-15 Massin Michel Treatment of surfaces - with dimethylpolysiloxane deriv to prevent sealing
US4267213A (en) * 1978-04-11 1981-05-12 Minnesota Mining & Manufacturing Company Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof
US4338377A (en) * 1979-10-10 1982-07-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof
JPS5830250A (ja) * 1981-08-17 1983-02-22 Oki Electric Ind Co Ltd 伝送方式
US4410563A (en) * 1982-02-22 1983-10-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Repellent coatings for optical surfaces
JPS62146962A (ja) * 1985-12-20 1987-06-30 Teikoku Kako Kk 酸化鉄被覆無機球状体

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2553314A (en) * 1944-07-01 1951-05-15 Gen Electric Method of rendering materials water repellent
US3012006A (en) * 1958-04-24 1961-12-05 Dow Corning Fluorinated alkyl silanes and their use
US3244541A (en) * 1961-02-03 1966-04-05 29 West Fifteenth Street Corp Water-repellent compositions and methods of making same
US3442664A (en) * 1966-04-26 1969-05-06 Minnesota Mining & Mfg Treating composition,method of treating and treated surfaces
US3579540A (en) * 1968-11-01 1971-05-18 Howard G Ohlhausen Method for protecting nonporous substrates and for rendering them water repellent
NL7202331A (fr) * 1972-01-24 1973-07-26
JPS5312952B2 (fr) * 1972-02-17 1978-05-06
US3900672A (en) * 1973-04-04 1975-08-19 Hoya Lens Co Ltd Process for coating an optical material and the resulting product
UST954010I4 (en) * 1973-08-24 1977-01-04 International Business Machines Corporation Method of coating oxidized inorganic substrates with polyimide
US3959563A (en) * 1973-11-02 1976-05-25 General Electric Company Method for rendering vitreous surfaces water repellant and dirt deposit resistant and articles produced thereby
JPS511387A (fr) * 1974-05-23 1976-01-08 Canon Kk
SE435297B (sv) * 1975-08-22 1984-09-17 Bosch Gmbh Robert Optiska reflektorer framstellda genom att reflektorytan belegges med ett skyddsskikt
CA1077787A (fr) * 1975-11-21 1980-05-20 National Aeronautics And Space Administration Revetements resistant a l'abrasion pour surfaces de plastique
US4196246A (en) * 1976-06-23 1980-04-01 Nippon Kogaku K.K. Anti-reflection film for synthetic resin base
JPS5423557A (en) * 1977-07-23 1979-02-22 Ito Kougaku Kougiyou Kk Optical parts of plastics and method of manufacturing same
JPS5747330A (en) * 1980-09-04 1982-03-18 Toray Ind Inc Production of transparent material with antireflexion properties
JPS5686980A (en) * 1979-12-18 1981-07-15 Taihoo Kogyo Kk Antifogging treatment and antifogging agent
US4478909A (en) * 1980-10-24 1984-10-23 Toray Industries, Inc. Anti-fogging coating film
US4609267A (en) * 1980-12-22 1986-09-02 Seiko Epson Corporation Synthetic resin lens and antireflection coating
JPS58172245A (ja) * 1982-04-02 1983-10-11 Asahi Glass Co Ltd ガラスの表面処理剤
JPS58211701A (ja) * 1982-06-04 1983-12-09 Asahi Glass Co Ltd 低反射率ガラス
JPS5913201A (ja) * 1982-07-15 1984-01-24 Hitachi Ltd 合成樹脂製レンズに反射防止膜を設ける方法
JPS5939714A (ja) * 1982-08-31 1984-03-05 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk 珪素酸化物被覆形成法
JPS59231501A (ja) * 1983-06-14 1984-12-26 Seiko Epson Corp 合成樹脂製レンズ
JPH0642003B2 (ja) * 1983-09-20 1994-06-01 オリンパス光学工業株式会社 光学部品の反射防止膜とその形成方法
DE3335575A1 (de) * 1983-09-30 1985-04-25 Hermann Hans 8750 Aschaffenburg Urlberger Vorrichtung zum arretieren eines gegenueber einer welle drehbaren teils sowie anwendung der vorrichtung
JPS60258190A (ja) * 1984-06-06 1985-12-20 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 新規なシクロトリシラザン
JPS61130902A (ja) * 1984-11-30 1986-06-18 Asahi Glass Co Ltd 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ
DE3688604T2 (de) * 1985-04-30 1993-10-28 Toray Industries Optisches Gerät und Verfahren zu dessen Herstellung.
CA1293655C (fr) * 1985-04-30 1991-12-31 Takashi Taniguchi Article optique antireflechissement, et sa preparation
JPS6280603A (ja) * 1985-10-04 1987-04-14 Toray Ind Inc 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法
JPS649222A (en) * 1986-09-18 1989-01-12 Agency Ind Science Techn Highly conductive poly-2,5-thienylenevinylene composition
JPH07113682B2 (ja) * 1987-03-03 1995-12-06 株式会社ニコン 汚れが付着しにくいレンズ
JPS63228101A (ja) * 1987-03-17 1988-09-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 防汚性を有する帯電防止無反射板
JPS6486101A (en) * 1987-06-18 1989-03-30 Toray Industries Production of antireflecting article
EP0303246A3 (fr) * 1987-08-12 1990-06-20 The B.F. Goodrich Company Polymères de cyclooléfine hydrogénés préparés par ouverture du cycle
JPH02671A (ja) * 1987-10-20 1990-01-05 Asahi Optical Co Ltd 反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法
JPH01110588A (ja) * 1987-10-24 1989-04-27 Ito Kogaku Kogyo Kk プラスチツクレンズの防汚性処理方法
JPH01149808A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Daikin Ind Ltd 含フツ素ポリマー及びその用途
JPH01200203A (ja) * 1988-02-04 1989-08-11 Nitto Denko Corp ゴーグル用フイルムレンズ
JP2678008B2 (ja) * 1988-03-22 1997-11-17 日東電工株式会社 反射防止板の製造方法
JPH01257801A (ja) * 1988-04-07 1989-10-13 Nitto Denko Corp 反射防止膜
JPH01309003A (ja) * 1988-06-07 1989-12-13 Toray Ind Inc 撥水性を有する帯電防止物品
JPH02197801A (ja) * 1988-08-18 1990-08-06 Nidek Co Ltd 水やけ防止コート膜付き光学素子
JPH0287101A (ja) * 1988-09-22 1990-03-28 Nitto Denko Corp 反射防止膜の製造法
JPH02130501A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Nitto Denko Corp 反射防止シート
JPH02181701A (ja) * 1989-01-07 1990-07-16 Nitto Denko Corp 反射防止膜の製造方法
JPH0781024B2 (ja) * 1989-03-22 1995-08-30 旭硝子株式会社 撥水性.防汚性を有する透明基材およびそれを装着した構造物
JPH03148603A (ja) * 1989-11-04 1991-06-25 Nitto Denko Corp 偏光板
JPH03195757A (ja) * 1989-12-26 1991-08-27 Asahi Glass Co Ltd コーティング用含フッ素重合体組成物及びその用途
JPH03266801A (ja) * 1990-03-16 1991-11-27 Nitto Denko Corp 反射防止フィルター
JP2858440B2 (ja) * 1990-07-09 1999-02-17 株式会社東京製品開発研究所 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法
US5061769A (en) * 1990-12-17 1991-10-29 Allied-Signal Inc. Fluoropolymers and fluoropolymer coatings
US5178955A (en) * 1990-12-17 1993-01-12 Allied-Signal Inc. Polymeric anti-reflection coatings and coated articles
US5225244A (en) * 1990-12-17 1993-07-06 Allied-Signal Inc. Polymeric anti-reflection coatings and coated articles

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2158119A1 (en) * 1971-11-03 1973-06-15 Massin Michel Treatment of surfaces - with dimethylpolysiloxane deriv to prevent sealing
US4267213A (en) * 1978-04-11 1981-05-12 Minnesota Mining & Manufacturing Company Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof
US4338377A (en) * 1979-10-10 1982-07-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sulfonato-organosilanol compounds and aqueous solutions thereof
JPS5830250A (ja) * 1981-08-17 1983-02-22 Oki Electric Ind Co Ltd 伝送方式
US4410563A (en) * 1982-02-22 1983-10-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Repellent coatings for optical surfaces
JPS62146962A (ja) * 1985-12-20 1987-06-30 Teikoku Kako Kk 酸化鉄被覆無機球状体

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMICAL ABSTRACTS, vol. 107, no. 18, 2 novembre 1987, page 121, résumé no. 156463s, Columbus, Ohio, US; & JP-A-62 146 962 (TEIKOKU KAKO CO., LTD) 30-06-1987 *
WORLD SURFACE COATINGS ABSTRACTS, vol. 57, no. 499, janvier 1984, page 4, résumé no. 84/00024, Old Woking, Surrey, GB; & JP-A-58 030 250 (KANEGAFUCHI CHEMICAL INDUSTRY) *

Also Published As

Publication number Publication date
DE3701654A1 (de) 1987-07-23
DE3701654C2 (fr) 1993-02-25
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